JPS59117116A - 描画装置 - Google Patents
描画装置Info
- Publication number
- JPS59117116A JPS59117116A JP22614182A JP22614182A JPS59117116A JP S59117116 A JPS59117116 A JP S59117116A JP 22614182 A JP22614182 A JP 22614182A JP 22614182 A JP22614182 A JP 22614182A JP S59117116 A JPS59117116 A JP S59117116A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
- H01J37/3023—Programme control
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、パターンジェネレータ（以下、ＰＧという。
）に係り、特に、電、子線描画装置に適用するのに好適
なものに関する。
なものに関する。
最近、半導体装置（以下、ＩＣという。）の製造分野に
おいては、電、子ビームの高速処堆能力に着目し、ホ）
ＰＧに代る高速ＰＧとして、電子線描画装置をブスクや
レチクルの作成に利用することが実用面でも定着してき
ている。
おいては、電、子ビームの高速処堆能力に着目し、ホ）
ＰＧに代る高速ＰＧとして、電子線描画装置をブスクや
レチクルの作成に利用することが実用面でも定着してき
ている。
従来のこの種の電子線描画装置として、例１えは第１図
に示すようなシステムでパターンデータを処理するよう
に構成でれたものがある。
に示すようなシステムでパターンデータを処理するよう
に構成でれたものがある。
第１図において、第１磁気テープ３１に記録てれた階層
構造を有するパターン設計データ（詳細は後記参照）２
０はデータ変換器３３に入力され、この変換器により展
開データ（後記参照）２７を作成享れ、この状態で磁槃
記録装置３４により磁気テープ３２に記録保存される。
構造を有するパターン設計データ（詳細は後記参照）２
０はデータ変換器３３に入力され、この変換器により展
開データ（後記参照）２７を作成享れ、この状態で磁槃
記録装置３４により磁気テープ３２に記録保存される。
電子線描画装置ＢＢにより所望のパターン’ｋＷ画しよ
うとする際、前記保存磁気テープ３２はこの装置ＥＢの
磁気記録再生装置３５にかけられて前記疑問データ２７
が再生これる。この展開データは描画制御信号変換器３
６により所望の回路パターンを描画するために鏡筒１を
動作ζせるのに心太な制御信号に変換づれる。この制御
信号は偏向系制御器１４に入力これ、これらの制御によ
り餅筒１はＭ定の描画動作を実行し、所望の回路パター
ン３０を描画する。
うとする際、前記保存磁気テープ３２はこの装置ＥＢの
磁気記録再生装置３５にかけられて前記疑問データ２７
が再生これる。この展開データは描画制御信号変換器３
６により所望の回路パターンを描画するために鏡筒１を
動作ζせるのに心太な制御信号に変換づれる。この制御
信号は偏向系制御器１４に入力これ、これらの制御によ
り餅筒１はＭ定の描画動作を実行し、所望の回路パター
ン３０を描画する。
しかしながら、このよう外電子線描画システムにあって
は、描画すべき設計情報が展開した形で計１録保存され
るため、パターンの微細化、高集積化に伴って描画情報
量が増大化すると、描画情報を格納するのに必要な磁気
記録手段が膨大な容量のものになるという欠点がある。
は、描画すべき設計情報が展開した形で計１録保存され
るため、パターンの微細化、高集積化に伴って描画情報
量が増大化すると、描画情報を格納するのに必要な磁気
記録手段が膨大な容量のものになるという欠点がある。
本発明の１的は、前記従来技術の欠点全解消し、措匝す
べき設計情報全圧赴白した形で記録づせておくことが可
能なパターンジェネレτりを提供するにある。
べき設計情報全圧赴白した形で記録づせておくことが可
能なパターンジェネレτりを提供するにある。
以下、本発明を図面に示す実施例にし女がって説明する
。
。
第２図は本発明を電子線描画装置に適用した場合の一実
施例を示す構成図であり、第３図はそれによる描画デー
タ処理ブロセヌを示すブロック囚である。
施例を示す構成図であり、第３図はそれによる描画デー
タ処理ブロセヌを示すブロック囚である。
この電子線描画装置ＥＢは描画動作部として使各１１會
備オており、この鏝部は、電子銃２と、照射レンズ３と
、円形状のビームスボッ１ｌｒ−作る第１アパーチヤ４
と、整形レンズ５と、長ζを変更可能な矩形状のビーム
スポット７（針線で塗りつぶし２穴部分）を作る第２７
パーチヤ６と、縮小レンズ８と、静電偏向器９と、投影
レンズ１０と、電磁偏向器１１と、電子銃の照射を受け
て感光するレジストが塗布されてなる被描画面を有する
被描画物としてのマスクブランク１３を載置保持し７た
ＸＹテーブル（試料台）１２とを備えている。
備オており、この鏝部は、電子銃２と、照射レンズ３と
、円形状のビームスボッ１ｌｒ−作る第１アパーチヤ４
と、整形レンズ５と、長ζを変更可能な矩形状のビーム
スポット７（針線で塗りつぶし２穴部分）を作る第２７
パーチヤ６と、縮小レンズ８と、静電偏向器９と、投影
レンズ１０と、電磁偏向器１１と、電子銃の照射を受け
て感光するレジストが塗布されてなる被描画面を有する
被描画物としてのマスクブランク１３を載置保持し７た
ＸＹテーブル（試料台）１２とを備えている。
また、この電子線描画装置ＦｉＢには前記錠筒１に所望
の描画動作を実行する女めに、化１向系制衝１器１４に
ｈ定の制御信号全入力ζせる図形データ処理装置１−５
が設備でれている。この曲に、この装置ＥＢは、各種の
電源部、制御部文・よひこれらを統轄する中央処理ユニ
ノ） （ＣＰ Ｕ ）等全備えている。
の描画動作を実行する女めに、化１向系制衝１器１４に
ｈ定の制御信号全入力ζせる図形データ処理装置１−５
が設備でれている。この曲に、この装置ＥＢは、各種の
電源部、制御部文・よひこれらを統轄する中央処理ユニ
ノ） （ＣＰ Ｕ ）等全備えている。
この電子線描画装置ＦｌｉＢに内蔵された前記図形デー
タ処理装置１５は、第３図に示すように、磁気記録再生
装置１６と、データ変換器１７と、描画制御イ）号変神
器１８とを備えており、七ｒしらは後述する作用を実行
するように構成さｊている。
タ処理装置１５は、第３図に示すように、磁気記録再生
装置１６と、データ変換器１７と、描画制御イ）号変神
器１８とを備えており、七ｒしらは後述する作用を実行
するように構成さｊている。
次に作用を説明する。
このＴｈ子線構画装ｐＥＢで使用される描画情報は、第
３図に示すような階層構造を有するパターン設計データ
２０の形で磁気テープ１９に記録されている。この階層
構造データ２０はあらかじめ多数用意さｆ′したセル２
１Ａ 、 ２１Ｂ・・・・・全基礎にしており、セルは
多数種類の基本パターン２２Ａ。
３図に示すような階層構造を有するパターン設計データ
２０の形で磁気テープ１９に記録されている。この階層
構造データ２０はあらかじめ多数用意さｆ′したセル２
１Ａ 、 ２１Ｂ・・・・・全基礎にしており、セルは
多数種類の基本パターン２２Ａ。
２２Ｂ・・・・・・をそれぞれ個別的に設定さｉて構成
さｊている。しＩＩえば基本パターン２２Ａけ前記鎖部
１に−おける第２アパーチヤ６で作らｎるビームスポッ
ト７の果合によシ形成されるように、このビームスポッ
ト７の大きさく例えば、縦横２０×４μｍの矩形）とセ
ル２１Ａの原点（ｘｏ 、７０ ）２３Ａに対する各ヌ
ボノトの原点２４のそれぞれの座標（ｘＩ 、ｙＩ ）
、（Ｘ２ ．７２ １・・・・・とにより表現さ扛て構
成されている。
さｊている。しＩＩえば基本パターン２２Ａけ前記鎖部
１に−おける第２アパーチヤ６で作らｎるビームスポッ
ト７の果合によシ形成されるように、このビームスポッ
ト７の大きさく例えば、縦横２０×４μｍの矩形）とセ
ル２１Ａの原点（ｘｏ 、７０ ）２３Ａに対する各ヌ
ボノトの原点２４のそれぞれの座標（ｘＩ 、ｙＩ ）
、（Ｘ２ ．７２ １・・・・・とにより表現さ扛て構
成されている。
階層構造データ２０は、多数用意されたセルのうち必要
な基本パターン（図示例では、２２Ａ。
な基本パターン（図示例では、２２Ａ。
２２Ｂの２９類。以下これに憔する。）會有するセル２
．ＬＡ 、２１Ｂｉ選定したことを内容とするセル選定
情報２５と、こｎら選定され女各セル２１Ａ。
．ＬＡ 、２１Ｂｉ選定したことを内容とするセル選定
情報２５と、こｎら選定され女各セル２１Ａ。
２１Ｂ’ｉ後述するチップ上のどの位置に配するかをそ
れぞれ指定することを内容とする指定情報２６とからな
る。前記指定情報２６は、選定された各セル２１Ａ 、
２１Ｂの原点２３Ａ 、２３Ｂのチップの原点（ＸＯ
，ＹＯ）に対する座標（Ｘ＋ 、Ｙｉ）、（Ｘ２ 、
Ｙ２ ）、（Ｘ３ 、Ｙｓ ）、（ｘ、、ｙ、）で
それぞれ表現されることにより構成されている。
れぞれ指定することを内容とする指定情報２６とからな
る。前記指定情報２６は、選定された各セル２１Ａ 、
２１Ｂの原点２３Ａ 、２３Ｂのチップの原点（ＸＯ
，ＹＯ）に対する座標（Ｘ＋ 、Ｙｉ）、（Ｘ２ 、
Ｙ２ ）、（Ｘ３ 、Ｙｓ ）、（ｘ、、ｙ、）で
それぞれ表現されることにより構成されている。
このように構成さ扛て磁気テープ１９に記録保存さｆ′
Ｌ食パターン設計データ２０は、電子線描画１装ｆｌＦ
Ｂにより描画を実施する際、この装置１ｉＥＢに内蔵さ
れた磁気記録再生装置１６にかけられて読み出され、デ
ータ変換器１７に入力される。
Ｌ食パターン設計データ２０は、電子線描画１装ｆｌＦ
Ｂにより描画を実施する際、この装置１ｉＥＢに内蔵さ
れた磁気記録再生装置１６にかけられて読み出され、デ
ータ変換器１７に入力される。
データ変換器１７はパターン設計データ２０を第３図に
示すような展開データ２７に展開して出力する。すなわ
ち、前記階層構造データ２０は、まず前述のように選定
されたセル２１Ａ 、 ２１Ｂ ’ｉ指定情報２６の指
定にし女がって、チップ２８の十にそれぞれ具体的に配
されｆｃ展開構造の情報に変換される。具体的な分配は
チップ２８の原点（Ｘｏ 、Ｙｏ ）２９に対する各選
定セル２１Ａ。
示すような展開データ２７に展開して出力する。すなわ
ち、前記階層構造データ２０は、まず前述のように選定
されたセル２１Ａ 、 ２１Ｂ ’ｉ指定情報２６の指
定にし女がって、チップ２８の十にそれぞれ具体的に配
されｆｃ展開構造の情報に変換される。具体的な分配は
チップ２８の原点（Ｘｏ 、Ｙｏ ）２９に対する各選
定セル２１Ａ。
２１、 Ｂ ’ｉその原点２３Ａ 、、２３Ｂ（７）座
標（ｘ、、Ｙｌ）（Ｘ２ 、ｙ２ ）、（Ｘ：ｌ ＋
Ｙ３ ）、（Ｘ４．Ｙ４）にそれぞ１当てはめること
よって実行される。かつ１女、前記階層構造データ２０
はチップ２８の各セル２１．Ａ 、 ２１Ｂの指定位置
にシける各ノくターン２２Ａ 、２２Ｂをも具体的に展
開した情報に変換さｎる。１例えば１、チップ２８上に
最初に描画すべきパターン２２Ａの胃頭の情報は、縦１
２０Ｘ４μｍの矩形のスポット７全チツプ２８の座標Ｃ
ｘｌ十Ｘ、 、 Ｙｌ ＋３’２ ）に照射するこ
とを表現することによって構成され、第２番目は同形の
スポット７を座標（Ｘ ｌ＋ Ｘｌ−１−△ｘ、、Ｙ
１ ＋ｙ２ ＋△ｙ ）に照射すること全表現すること
によって構成される。したがって、この展開データ２７
の出力は膨大な情報量になる。
標（ｘ、、Ｙｌ）（Ｘ２ 、ｙ２ ）、（Ｘ：ｌ ＋
Ｙ３ ）、（Ｘ４．Ｙ４）にそれぞ１当てはめること
よって実行される。かつ１女、前記階層構造データ２０
はチップ２８の各セル２１．Ａ 、 ２１Ｂの指定位置
にシける各ノくターン２２Ａ 、２２Ｂをも具体的に展
開した情報に変換さｎる。１例えば１、チップ２８上に
最初に描画すべきパターン２２Ａの胃頭の情報は、縦１
２０Ｘ４μｍの矩形のスポット７全チツプ２８の座標Ｃ
ｘｌ十Ｘ、 、 Ｙｌ ＋３’２ ）に照射するこ
とを表現することによって構成され、第２番目は同形の
スポット７を座標（Ｘ ｌ＋ Ｘｌ−１−△ｘ、、Ｙ
１ ＋ｙ２ ＋△ｙ ）に照射すること全表現すること
によって構成される。したがって、この展開データ２７
の出力は膨大な情報量になる。
このように展開されたデータ２７は描画制御信号変換器
１８に入力される。この変換器１８は展開チーク２フ全
偏向系全制御に適する形の指令信号に変換し、偏向系制
御器１４に入力する。偏向系制御器１４は指令信号に基
いてφ筒１を制御して描画動作させる。
１８に入力される。この変換器１８は展開チーク２フ全
偏向系全制御に適する形の指令信号に変換し、偏向系制
御器１４に入力する。偏向系制御器１４は指令信号に基
いてφ筒１を制御して描画動作させる。
炉筒Ｉにおいて、電子銃２から電子線が発射され、電子
線は第１．第２アパーチャ４．６およびレンズ群で整形
かつ絞り込まれ、偏向ｉ９．ｉｌで前記偏向系制御系１
４の制御によシ偏向走査さ九、もって第３図に示すよう
な序望のチップパターン３０が描画される。
線は第１．第２アパーチャ４．６およびレンズ群で整形
かつ絞り込まれ、偏向ｉ９．ｉｌで前記偏向系制御系１
４の制御によシ偏向走査さ九、もって第３図に示すよう
な序望のチップパターン３０が描画される。
本実Ｍ５例によれば、展開データの情報量は膨大になる
が、直接、描画信号変換器に入力されるので、これを記
録保存する磁気テープは不用になる。
が、直接、描画信号変換器に入力されるので、これを記
録保存する磁気テープは不用になる。
すなわち、描画データは前述したような階層構造のパタ
ーン設計データの形で磁気テープに記録保存されるので
、これに使用されるテープの長さは短くて済む。また、
展開データは描画信号変換器に直接入力さｊるので、従
来のように磁気テープに記録さｆ′ＬｆＣテータ全デー
出してから描画信号変換器で処理する場合に比べ、処理
時間を大幅に短縮することができる。
ーン設計データの形で磁気テープに記録保存されるので
、これに使用されるテープの長さは短くて済む。また、
展開データは描画信号変換器に直接入力さｊるので、従
来のように磁気テープに記録さｆ′ＬｆＣテータ全デー
出してから描画信号変換器で処理する場合に比べ、処理
時間を大幅に短縮することができる。
なお、前記実施例１では、電子線描画装部につき説明し
たが、本発明は、ホトＰＧやイオンビーム全相いたＰＧ
等にも適用することができるし、づスフやレチクルにバ
クーン會形成する場合に限らす、ウェハに直接パターン
を形成することもできる。
たが、本発明は、ホトＰＧやイオンビーム全相いたＰＧ
等にも適用することができるし、づスフやレチクルにバ
クーン會形成する場合に限らす、ウェハに直接パターン
を形成することもできる。
また、パターン設割データの記録媒体、記録再生手段０
名データの変換手段の具体的構成等に限定はない。
名データの変換手段の具体的構成等に限定はない。
以上説明し女ように、本発明によ′ｉＮは、描画すべき
設計情報全圧縮した形で記録させておくことができる。
設計情報全圧縮した形で記録させておくことができる。
汁、１図は従来しくｌを示すブロック図、第２図は本発
明の一実施例１を示す構成図、第３図は同じくブロック
図である。 １・・鎖部、９・・・静電偏向器、１１・・・電磁偏向
部、１３・・・マスクブランク、１４・・・偏向系制御
器、１５・・・図形データ処理装置、１６・・・磁気記
録再生装置、１７・・・データ変換器、１８・・・描画
制御信号変換器、１９・・・磁気テープ、２０・・・パ
ターン設計データ、２ＬＡ 、２１Ｂ・・・セル、２２
Ａ 、２２Ｂ・・パルーン、２３Ａ 、２３Ｂ・・・原
点、２５・・・セル選定情報、２６・・指定情報、２７
・・展開データ、２８・・・チップ、２９・・・原点、
３０・・・チップパターン。 代理人 弁理士 薄 １）利 辛″− ′、ｌ
明の一実施例１を示す構成図、第３図は同じくブロック
図である。 １・・鎖部、９・・・静電偏向器、１１・・・電磁偏向
部、１３・・・マスクブランク、１４・・・偏向系制御
器、１５・・・図形データ処理装置、１６・・・磁気記
録再生装置、１７・・・データ変換器、１８・・・描画
制御信号変換器、１９・・・磁気テープ、２０・・・パ
ターン設計データ、２ＬＡ 、２１Ｂ・・・セル、２２
Ａ 、２２Ｂ・・パルーン、２３Ａ 、２３Ｂ・・・原
点、２５・・・セル選定情報、２６・・指定情報、２７
・・展開データ、２８・・・チップ、２９・・・原点、
３０・・・チップパターン。 代理人 弁理士 薄 １）利 辛″− ′、ｌ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 多数ηｉ顛の基本パターンをそれぞれ個別的に設定
された多数のセルのうち必要な基本パターンを有するセ
ルを選定したセル選定情報と、選定し。 た各セルのチップ上における配置をそれぞれ指定する指
定情報とから彦る階層構造のパターン設計データを入力
これ、このデータから、前記選定さｆ’Ｌ ＊各セルの
基本パターンを前記各指定情報に基きチップ上の指定位
置にそれぞれ具体的に配するようＩ／ＣＮ’−開してな
る展開データを作り、ζらに、この（２）開データから
鏡筒に所望の回路パターンを描ｎす１動作でせる制御信
号を作り出すように構成これた図形データ処理装置を内
威してなるパターンジェネレータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57226141A JPH0680627B2 (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | 描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57226141A JPH0680627B2 (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | 描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59117116A true JPS59117116A (ja) | 1984-07-06 |
| JPH0680627B2 JPH0680627B2 (ja) | 1994-10-12 |
Family
ID=16840492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57226141A Expired - Lifetime JPH0680627B2 (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | 描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0680627B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6180410A (ja) * | 1984-09-28 | 1986-04-24 | Yutaka Kanayama | 移動ロボツトの走行指令方式 |
| JP2004361507A (ja) * | 2003-06-02 | 2004-12-24 | Renesas Technology Corp | フォトマスクの製造方法およびフォトマスク描画システム |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5358772A (en) * | 1976-11-08 | 1978-05-26 | Fujitsu Ltd | Electron beam exposure apparatus |
| JPS57122529A (en) * | 1981-01-23 | 1982-07-30 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Drawing data processing system for electron beam exposure apparatus |
-
1982
- 1982-12-24 JP JP57226141A patent/JPH0680627B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5358772A (en) * | 1976-11-08 | 1978-05-26 | Fujitsu Ltd | Electron beam exposure apparatus |
| JPS57122529A (en) * | 1981-01-23 | 1982-07-30 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Drawing data processing system for electron beam exposure apparatus |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6180410A (ja) * | 1984-09-28 | 1986-04-24 | Yutaka Kanayama | 移動ロボツトの走行指令方式 |
| JPH0529924B2 (ja) * | 1984-09-28 | 1993-05-06 | Yutaka Kanayama | |
| JP2004361507A (ja) * | 2003-06-02 | 2004-12-24 | Renesas Technology Corp | フォトマスクの製造方法およびフォトマスク描画システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0680627B2 (ja) | 1994-10-12 |
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