JPH10270341A - 電子ビーム描画方法 - Google Patents
電子ビーム描画方法Info
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- JPH10270341A JPH10270341A JP7704897A JP7704897A JPH10270341A JP H10270341 A JPH10270341 A JP H10270341A JP 7704897 A JP7704897 A JP 7704897A JP 7704897 A JP7704897 A JP 7704897A JP H10270341 A JPH10270341 A JP H10270341A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
- H01J37/3023—Programme control
- H01J37/3026—Patterning strategy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3175—Lithography
- H01J2237/31761—Patterning strategy
- H01J2237/31764—Dividing into sub-patterns
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 図形の分割処理をして描画を行っても、元の
多角形により忠実な図形の描画が可能な電子ビーム描画
方法を実現する。 【解決手段】 描画制御ユニット８では、まず、データ
メモリ６に記憶されたＸ方向に分割されたパターンデー
タに基づいて、被描画材料への電子ビームのショットを
行う。次に、描画制御ユニット８では、データメモリ７
に記憶されたＹ方向に分割されたパターンデータに基づ
いて、被描画材料への電子ビームのショットを行う。そ
れぞれの描画に際しては、被描画材料にショットされる
電子ビームのドーズ量は、材料に塗布された感光材料を
感光させるドーズ量の１／２とされている。
多角形により忠実な図形の描画が可能な電子ビーム描画
方法を実現する。 【解決手段】 描画制御ユニット８では、まず、データ
メモリ６に記憶されたＸ方向に分割されたパターンデー
タに基づいて、被描画材料への電子ビームのショットを
行う。次に、描画制御ユニット８では、データメモリ７
に記憶されたＹ方向に分割されたパターンデータに基づ
いて、被描画材料への電子ビームのショットを行う。そ
れぞれの描画に際しては、被描画材料にショットされる
電子ビームのドーズ量は、材料に塗布された感光材料を
感光させるドーズ量の１／２とされている。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、感光材料が塗布された
被描画材料に電子ビームを照射し、所望のパターンの描
画を行うようにした電子ビーム描画方法に関する。
被描画材料に電子ビームを照射し、所望のパターンの描
画を行うようにした電子ビーム描画方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子ビーム描画においては、感光材料が
塗布された被描画材料に電子ビームを照射し、所望のパ
ターンの描画を行うようにしている。この場合、多角形
のパターンの各頂点の座標、Ｘ，Ｙ方向の長さ等を有し
たパターンデータがＣＡＤによって作成される。
塗布された被描画材料に電子ビームを照射し、所望のパ
ターンの描画を行うようにしている。この場合、多角形
のパターンの各頂点の座標、Ｘ，Ｙ方向の長さ等を有し
たパターンデータがＣＡＤによって作成される。
【０００３】このＣＡＤによって作成されたデータは、
電子ビーム描画装置で描画をするための描画データに変
換される。この描画データに基づき、電子ビーム描画装
置で電子ビームは偏向し、あるいは、被描画材料を機械
的に移動させて所望のパターンの描画を行う。
電子ビーム描画装置で描画をするための描画データに変
換される。この描画データに基づき、電子ビーム描画装
置で電子ビームは偏向し、あるいは、被描画材料を機械
的に移動させて所望のパターンの描画を行う。
【０００４】このような電子ビーム描画において、被描
画材料をＸ，Ｙ方向にステップ状に移動させ、移動ごと
に所定領域（フィールドという）に含まれるパターン部
分に電子ビームを偏向して描画する方式（ペクタースキ
ャン方式という）では、描画する複雑な多角形の図形を
有するチップパターンを単純な矩形や台形の形状に分割
して描画パターンデータとしている。
画材料をＸ，Ｙ方向にステップ状に移動させ、移動ごと
に所定領域（フィールドという）に含まれるパターン部
分に電子ビームを偏向して描画する方式（ペクタースキ
ャン方式という）では、描画する複雑な多角形の図形を
有するチップパターンを単純な矩形や台形の形状に分割
して描画パターンデータとしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記した多角形の形状
の図形を矩形や台形に分割することによって、もともと
の多角形が持っていた図形の滑らかさが失われる。例え
ば、図１に示すように、実線で示された分割前の多角形
図形Ｐを２つの台形図形Ｐ１ ，Ｐ２ に分割する場
合、点線で示す図形の分割線が多角形の斜辺と交わった
とき、その交点Ｃの位置は、必ずしも図形の表現されて
いる座標のグリッドＧに重なるとは限らない。
の図形を矩形や台形に分割することによって、もともと
の多角形が持っていた図形の滑らかさが失われる。例え
ば、図１に示すように、実線で示された分割前の多角形
図形Ｐを２つの台形図形Ｐ１ ，Ｐ２ に分割する場
合、点線で示す図形の分割線が多角形の斜辺と交わった
とき、その交点Ｃの位置は、必ずしも図形の表現されて
いる座標のグリッドＧに重なるとは限らない。
【０００６】座標のグリッドＧは、データ作成時におけ
る最小単位であり、図中×印で示されている。上記交点
Ｃは、近傍のグリッドに近似され、これが分割された矩
形または台形の頂点となる。すなわち、分割された矩形
または台形を再び接合しても、元の多角形には必ずしも
ならないことを意味する。なお、図１において、点線で
示した分割後の図形Ｐ１ ，Ｐ２ は、見やすいように
実線の分割前の図形Ｐから少しずらして表している。
る最小単位であり、図中×印で示されている。上記交点
Ｃは、近傍のグリッドに近似され、これが分割された矩
形または台形の頂点となる。すなわち、分割された矩形
または台形を再び接合しても、元の多角形には必ずしも
ならないことを意味する。なお、図１において、点線で
示した分割後の図形Ｐ１ ，Ｐ２ は、見やすいように
実線の分割前の図形Ｐから少しずらして表している。
【０００７】また、一旦分割されてしまった図形は、例
え隣接する図形がもともとは一つの図形であったとして
も、これらに跨がって描画することはできない。一つの
描画図形内部では、重ね描画を実施することにより、描
画ショットの接合部分をずらして、それぞれが各々を跨
ぐように描画することで、ショット繋ぎを滑らかにして
いる。しかし、描画図形同志の分割線上では、図形を滑
らかに接合することができない。
え隣接する図形がもともとは一つの図形であったとして
も、これらに跨がって描画することはできない。一つの
描画図形内部では、重ね描画を実施することにより、描
画ショットの接合部分をずらして、それぞれが各々を跨
ぐように描画することで、ショット繋ぎを滑らかにして
いる。しかし、描画図形同志の分割線上では、図形を滑
らかに接合することができない。
【０００８】一方、多角形の形状の図形を持つチップパ
ターンを矩形や台形の形状に分割する際には、チップパ
ターンの形状によっては、無数の分割方法が考えられ
る。最も単純な分割方法は、図２に示すように、多角形
の各頂点において、チップパターンの表現されている２
次元の平面上のＸ軸またはＹ軸のどちらか一方に平行な
線分で一様に分割する方法が考えられる。
ターンを矩形や台形の形状に分割する際には、チップパ
ターンの形状によっては、無数の分割方法が考えられ
る。最も単純な分割方法は、図２に示すように、多角形
の各頂点において、チップパターンの表現されている２
次元の平面上のＸ軸またはＹ軸のどちらか一方に平行な
線分で一様に分割する方法が考えられる。
【０００９】なお、図２（ａ）はＸ軸に平行に分割した
例、図２（ｂ）はＹ軸に平行に分割した例を示してい
る。この分割方法では、線分の方向によっては、高さま
たは幅の微小な図形が発生することがある。
例、図２（ｂ）はＹ軸に平行に分割した例を示してい
る。この分割方法では、線分の方向によっては、高さま
たは幅の微小な図形が発生することがある。
【００１０】特に、２枚の矩形スリットを光軸に沿って
配置し、２枚のスリットの間の偏向器を用いてスリット
の重ね合わせ具合を制御し、任意の大きさの断面の電子
ビームを成形し、この成形されたビームを材料上にショ
ットするようにした可変成形ビーム型電子ビーム描画装
置においては、微小図形の描画は、成形ビームサイズが
小さくなるためビーム電流密度の極端な低下を引き起こ
す。
配置し、２枚のスリットの間の偏向器を用いてスリット
の重ね合わせ具合を制御し、任意の大きさの断面の電子
ビームを成形し、この成形されたビームを材料上にショ
ットするようにした可変成形ビーム型電子ビーム描画装
置においては、微小図形の描画は、成形ビームサイズが
小さくなるためビーム電流密度の極端な低下を引き起こ
す。
【００１１】その結果として、材料上に塗布された感光
剤を十分に感光させることができない。すなわち、多角
形から分割された図形に微小図形が含まれていると、描
画した結果、図形同志が滑らかに接合しなくなり、高精
度のパターン形成が実現できなくなる。
剤を十分に感光させることができない。すなわち、多角
形から分割された図形に微小図形が含まれていると、描
画した結果、図形同志が滑らかに接合しなくなり、高精
度のパターン形成が実現できなくなる。
【００１２】実際には、高精度なパターン描画を実施す
る場合、図２（ａ）または図２（ｂ）に示すような単純
な図形分割処理は行われておらず、微小図形をできるだ
け減らす工夫をした図形分割処理が行われている。これ
は、いったん分割した図形を再び結合して、別の方向に
分割し直したり、それぞれを比較して微小図形の発生を
評価したりと、アルゴリズムが複雑である上、処理の時
間がかかり、おまけに完全に微小図形の発生をなくすこ
とはできない。
る場合、図２（ａ）または図２（ｂ）に示すような単純
な図形分割処理は行われておらず、微小図形をできるだ
け減らす工夫をした図形分割処理が行われている。これ
は、いったん分割した図形を再び結合して、別の方向に
分割し直したり、それぞれを比較して微小図形の発生を
評価したりと、アルゴリズムが複雑である上、処理の時
間がかかり、おまけに完全に微小図形の発生をなくすこ
とはできない。
【００１３】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、図形の分割処理をして描画を行っ
ても、元の多角形により忠実な図形の描画が可能な電子
ビーム描画方法を実現するにある。
もので、その目的は、図形の分割処理をして描画を行っ
ても、元の多角形により忠実な図形の描画が可能な電子
ビーム描画方法を実現するにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に基づく
電子ビーム描画方法は、電子ビーム感光材料が塗布され
た被描画材料に電子ビームを照射し、所望のパターンの
描画を行うようにした電子ビーム描画方法において、描
画パターンを第１の方向とこの第１の方向に直交する第
２の方向に沿って分割し、分割された各パターンを感光
材料を感光させるドーズ量の１／２のドーズ量で描画を
行い、所望のパターンの描画を行うようにしたことを特
徴としている。
電子ビーム描画方法は、電子ビーム感光材料が塗布され
た被描画材料に電子ビームを照射し、所望のパターンの
描画を行うようにした電子ビーム描画方法において、描
画パターンを第１の方向とこの第１の方向に直交する第
２の方向に沿って分割し、分割された各パターンを感光
材料を感光させるドーズ量の１／２のドーズ量で描画を
行い、所望のパターンの描画を行うようにしたことを特
徴としている。
【００１５】請求項１の発明では、描画パターンをそれ
ぞれが直交する第１と第２の方向で分割し、分割された
２種のパターンをそれぞれ感光材料を感光させるドーズ
量の１／２のドーズ量で描画を行う。
ぞれが直交する第１と第２の方向で分割し、分割された
２種のパターンをそれぞれ感光材料を感光させるドーズ
量の１／２のドーズ量で描画を行う。
【００１６】請求項２の発明では、請求項１の発明にお
いて、第１の方向に沿って分割された各パターンを描画
した後、第２の方向に沿って分割された各パターンを描
画する。
いて、第１の方向に沿って分割された各パターンを描画
した後、第２の方向に沿って分割された各パターンを描
画する。
【００１７】請求項３の発明では、請求項１の発明にお
いて、被描画材料をステップ状に移動させ、移動後の被
描画材料の各停止状態において、所定の描画領域に含ま
れるパターンに関し、第１の方向に分割されたパターン
と第２の方向に分割されたパターンの描画を行う。
いて、被描画材料をステップ状に移動させ、移動後の被
描画材料の各停止状態において、所定の描画領域に含ま
れるパターンに関し、第１の方向に分割されたパターン
と第２の方向に分割されたパターンの描画を行う。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図３は本発明に基づく電子
ビーム描画方法を実施するための電子ビーム描画システ
ムの一例を示している。ＣＡＤ等で作成された描画デー
タＤは、データメモリ１に格納されている。
施の形態を詳細に説明する。図３は本発明に基づく電子
ビーム描画方法を実施するための電子ビーム描画システ
ムの一例を示している。ＣＡＤ等で作成された描画デー
タＤは、データメモリ１に格納されている。
【００１９】データメモリ１に格納された描画データＤ
は、データ変換処理ユニット２に供給され、この変換処
理ユニット２中の頂点処理ユニット３で頂点処理が施さ
れる。頂点処理されたデータは、図形Ｘ分割処理ユニッ
ト４、図形Ｙ分割処理ユニット５に送られ、Ｘ分割処理
とＹ分割処理が行われる。
は、データ変換処理ユニット２に供給され、この変換処
理ユニット２中の頂点処理ユニット３で頂点処理が施さ
れる。頂点処理されたデータは、図形Ｘ分割処理ユニッ
ト４、図形Ｙ分割処理ユニット５に送られ、Ｘ分割処理
とＹ分割処理が行われる。
【００２０】Ｘ分割処理ユニットによってＸ分割処理さ
れたデータＤｘは、データメモリ６に送られて記憶され
る。また、Ｙ分割処理ユニット５によってＹ分割処理さ
れたデータＤｙは、データメモリ７に送られて記憶され
る。
れたデータＤｘは、データメモリ６に送られて記憶され
る。また、Ｙ分割処理ユニット５によってＹ分割処理さ
れたデータＤｙは、データメモリ７に送られて記憶され
る。
【００２１】データメモリ６に記憶されたデータＤｘ
は、読み出されて描画制御ユニット８に送られ、また、
データメモリ７に記憶されたデータＤｙも読み出されて
描画制御ユニット８に送られる。描画制御ユニット８
は、良く知られた電子ビーム描画装置９を制御する。こ
のような構成の動作を次に説明する。
は、読み出されて描画制御ユニット８に送られ、また、
データメモリ７に記憶されたデータＤｙも読み出されて
描画制御ユニット８に送られる。描画制御ユニット８
は、良く知られた電子ビーム描画装置９を制御する。こ
のような構成の動作を次に説明する。
【００２２】データメモリ１に格納されたＣＡＤ等で作
成された描画データＤは、データ変換処理ユニット２に
供給され、まず、頂点処理ユニット３で頂点処理が施さ
れる。この描画データＤは、例えば、多角形の形状を有
するチップパターンである。この頂点処理では、パター
ンデータＤに含まれている多角形の各頂点の位置情報を
取得する。
成された描画データＤは、データ変換処理ユニット２に
供給され、まず、頂点処理ユニット３で頂点処理が施さ
れる。この描画データＤは、例えば、多角形の形状を有
するチップパターンである。この頂点処理では、パター
ンデータＤに含まれている多角形の各頂点の位置情報を
取得する。
【００２３】頂点処理されたデータは、Ｘ分割処理ユニ
ット４とＹ分割処理ユニット５に供給される。Ｘ分割処
理ユニット４では、取得した頂点情報から各々の頂点ご
とに、頂点を通りＸ軸に平行な線分で一様に、多角形を
矩形または台形に分割する。分割された各矩形または台
形の描画パターンデータＤｘは、データメモリ６に記憶
される。
ット４とＹ分割処理ユニット５に供給される。Ｘ分割処
理ユニット４では、取得した頂点情報から各々の頂点ご
とに、頂点を通りＸ軸に平行な線分で一様に、多角形を
矩形または台形に分割する。分割された各矩形または台
形の描画パターンデータＤｘは、データメモリ６に記憶
される。
【００２４】Ｙ分割処理ユニット５では、取得した頂点
情報から各々の頂点ごとに、頂点を通りＸ軸と直交する
Ｙ軸に平行な線分で一様に、多角形を矩形または台形に
分割する。分割された各矩形または台形の描画パターン
データＤｙは、データメモリ７に記憶される。
情報から各々の頂点ごとに、頂点を通りＸ軸と直交する
Ｙ軸に平行な線分で一様に、多角形を矩形または台形に
分割する。分割された各矩形または台形の描画パターン
データＤｙは、データメモリ７に記憶される。
【００２５】描画制御ユニット８では、まず、データメ
モリ６に記憶されたＸ方向に分割されたパターンデータ
Ｄｘに基づいて、被描画材料への電子ビームのショット
を行う。この場合、電子ビーム描画装置９内の偏向器に
よる電子ビームの偏向は、パターンデータに基づいて行
われ、また、各フィールドごとに、電子ビーム描画装置
９内の被描画材料（ステージ）は移動させられる。
モリ６に記憶されたＸ方向に分割されたパターンデータ
Ｄｘに基づいて、被描画材料への電子ビームのショット
を行う。この場合、電子ビーム描画装置９内の偏向器に
よる電子ビームの偏向は、パターンデータに基づいて行
われ、また、各フィールドごとに、電子ビーム描画装置
９内の被描画材料（ステージ）は移動させられる。
【００２６】この際、被描画材料にショットされる電子
ビームのドーズ量は、材料に塗布された感光材料を感光
させるドーズ量の１／２とされている。ドーズ量の制御
は、被描画材料に照射される電子ビームの電流密度を変
化させることによっても行うことができるが、望ましく
は、ショット時間を１／２とすることによって行う。な
お、ショット時間の制御は、電子ビームのブランキング
時間を変えることによって実行できる。
ビームのドーズ量は、材料に塗布された感光材料を感光
させるドーズ量の１／２とされている。ドーズ量の制御
は、被描画材料に照射される電子ビームの電流密度を変
化させることによっても行うことができるが、望ましく
は、ショット時間を１／２とすることによって行う。な
お、ショット時間の制御は、電子ビームのブランキング
時間を変えることによって実行できる。
【００２７】次に、描画制御ユニット８では、データメ
モリ７に記憶されたＹ方向に分割されたパターンデータ
Ｄｙに基づいて、被描画材料への電子ビームのショット
を行う。この場合、電子ビームの偏向は、パターンデー
タに基づいて行われ、また、各フィールドごとに被描画
材料は移動させられる。
モリ７に記憶されたＹ方向に分割されたパターンデータ
Ｄｙに基づいて、被描画材料への電子ビームのショット
を行う。この場合、電子ビームの偏向は、パターンデー
タに基づいて行われ、また、各フィールドごとに被描画
材料は移動させられる。
【００２８】この際、被描画材料にショットされる電子
ビームのドーズ量は、材料に塗布された感光材料を感光
させるドーズ量の１／２とされている。もちろん、ドー
ズ量の制御は、被描画材料に照射される電子ビームの電
流密度を変化させることによっても行うことができる
が、望ましくは、ショット時間を１／２とすることによ
って行う。この結果、被描画材料上の感光材料は、電子
ビームの２回のショットによって完全に感光され、被描
画材料には、データＤｘとデータＤｙとに基づく図形が
重なり合ったＰ（ｘ＋ｙ） で示す、所望の多角形の図
形が描画される。
ビームのドーズ量は、材料に塗布された感光材料を感光
させるドーズ量の１／２とされている。もちろん、ドー
ズ量の制御は、被描画材料に照射される電子ビームの電
流密度を変化させることによっても行うことができる
が、望ましくは、ショット時間を１／２とすることによ
って行う。この結果、被描画材料上の感光材料は、電子
ビームの２回のショットによって完全に感光され、被描
画材料には、データＤｘとデータＤｙとに基づく図形が
重なり合ったＰ（ｘ＋ｙ） で示す、所望の多角形の図
形が描画される。
【００２９】ところで、多角形の形状の図形を持つチッ
プパターンをＸ軸に平行な線分で矩形あるいは台形に分
割した描画パターンデータと、Ｙ軸に平行な線分で矩形
あるいは台形に分割した描画パターンデータとでは、多
角形の分割形状が異なる。例えば、一方では分割されて
しまう斜辺も、他方では分割されないとか、あるいは、
分割の位置が異なることが期待できる。
プパターンをＸ軸に平行な線分で矩形あるいは台形に分
割した描画パターンデータと、Ｙ軸に平行な線分で矩形
あるいは台形に分割した描画パターンデータとでは、多
角形の分割形状が異なる。例えば、一方では分割されて
しまう斜辺も、他方では分割されないとか、あるいは、
分割の位置が異なることが期待できる。
【００３０】この結果、Ｘ軸に平行な線分で分割した描
画パターンデータとＹ軸に平行な線分で分割した描画パ
ターンデータとに基づいて重ね合わせ描画を行うことに
より、分割後の図形の頂点位置のずれが平均化され、元
の多角形に、より忠実な図形の描画が可能となる。
画パターンデータとＹ軸に平行な線分で分割した描画パ
ターンデータとに基づいて重ね合わせ描画を行うことに
より、分割後の図形の頂点位置のずれが平均化され、元
の多角形に、より忠実な図形の描画が可能となる。
【００３１】また、多角形の形状の図形を持つチップパ
ターンをＸ軸に平行な線分で矩形あるいは台形に分割し
た描画パターンデータと、Ｙ軸に平行な線分で矩形ある
いは台形に分割した描画パターンデータとに基づいて重
ね合わせ描画を行うことにより、一方では分割されてし
まった図形の分割線を他方では一つの図形が跨いで描画
することができるため、多角形を構成する図形同士の接
合の滑らかさが向上することになる。
ターンをＸ軸に平行な線分で矩形あるいは台形に分割し
た描画パターンデータと、Ｙ軸に平行な線分で矩形ある
いは台形に分割した描画パターンデータとに基づいて重
ね合わせ描画を行うことにより、一方では分割されてし
まった図形の分割線を他方では一つの図形が跨いで描画
することができるため、多角形を構成する図形同士の接
合の滑らかさが向上することになる。
【００３２】更に、上記した理由により、微小図形の存
在に起因する図形同士の接合の滑らかさに影響を与える
度合いが低下するため、データ変換処理では、特別な微
小図形の対策を施す必要がなくなる。すなわち、多角形
の形状の図形を持つチップパターンをその各頂点でＸ軸
あるいはＹ軸のどちらか一方に平行な線分で一様に分割
することでこの問題は解決できる。
在に起因する図形同士の接合の滑らかさに影響を与える
度合いが低下するため、データ変換処理では、特別な微
小図形の対策を施す必要がなくなる。すなわち、多角形
の形状の図形を持つチップパターンをその各頂点でＸ軸
あるいはＹ軸のどちらか一方に平行な線分で一様に分割
することでこの問題は解決できる。
【００３３】上記した実施の形態では、Ｘ軸に平行な線
分で矩形あるいは台形に分割した描画パターンデータ
と、Ｙ軸に平行な線分で矩形あるいは台形に分割した描
画パターンデータとを、それぞれデータメモリ６，７に
記憶させ、被描画材料にはＸ分割されたパターンの描画
を行った後、Ｙ分割されたパターンの描画を行うように
した。
分で矩形あるいは台形に分割した描画パターンデータ
と、Ｙ軸に平行な線分で矩形あるいは台形に分割した描
画パターンデータとを、それぞれデータメモリ６，７に
記憶させ、被描画材料にはＸ分割されたパターンの描画
を行った後、Ｙ分割されたパターンの描画を行うように
した。
【００３４】この場合、それぞれのパターンデータは常
に一緒に取り扱わねばならず、パターンデータファイル
の取り扱いが繁雑になる。また、Ｘ分割されたパターン
データとＹ分割されたパターンデータのそれぞれが、複
数の描画フィールドに跨がったパターンデータである場
合、最初にＸ分割パターンの描画を全てのフィールドに
対して行い、その後、Ｙ分割パターンの描画を全てのフ
ィールドに対して行わねばならない。このため、全フィ
ールドの描画を２回行うことになり、それに伴って、被
描画材料（ステージ）の移動のための時間が多く必要と
なる。
に一緒に取り扱わねばならず、パターンデータファイル
の取り扱いが繁雑になる。また、Ｘ分割されたパターン
データとＹ分割されたパターンデータのそれぞれが、複
数の描画フィールドに跨がったパターンデータである場
合、最初にＸ分割パターンの描画を全てのフィールドに
対して行い、その後、Ｙ分割パターンの描画を全てのフ
ィールドに対して行わねばならない。このため、全フィ
ールドの描画を２回行うことになり、それに伴って、被
描画材料（ステージ）の移動のための時間が多く必要と
なる。
【００３５】このようなことから、Ｘ分割されたパター
ンデータとＹ分割されたパターンデータを、単一の描画
パターンデータファイルとすることは望ましい。この場
合、描画フィールドごとに２種のパターンデータを混在
させて単一のパターンデータとする。この単一のパター
ンデータに基づいて描画を行えば、被描画材料の移動の
ための時間は、前記した実施の形態のＸ分割パターンあ
るいはＹ分割パターンを１回描画する場合と同じ時間と
なり、描画のスループットを向上させることができる。
ンデータとＹ分割されたパターンデータを、単一の描画
パターンデータファイルとすることは望ましい。この場
合、描画フィールドごとに２種のパターンデータを混在
させて単一のパターンデータとする。この単一のパター
ンデータに基づいて描画を行えば、被描画材料の移動の
ための時間は、前記した実施の形態のＸ分割パターンあ
るいはＹ分割パターンを１回描画する場合と同じ時間と
なり、描画のスループットを向上させることができる。
【００３６】また、既に実施されているフィールドずら
し重ね描画においても、２重描画のうちの１重分の一方
を、Ｘ分割描画パターンデータとし、他方をＹ分割描画
パターンデータとすることで、チップパターンデータの
フィールド繋ぎ精度と共に、描画図形の滑らかさの向上
も実現できる。
し重ね描画においても、２重描画のうちの１重分の一方
を、Ｘ分割描画パターンデータとし、他方をＹ分割描画
パターンデータとすることで、チップパターンデータの
フィールド繋ぎ精度と共に、描画図形の滑らかさの向上
も実現できる。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、描画
パターンをそれぞれが直交する第１と第２の方向で分割
し、分割された２種のパターンをそれぞれ感光材料を感
光させるドーズ量の１／２のドーズ量で描画を行うよう
にした。その結果、分割後の図形の頂点位置のずれが平
均化され、元の多角形に、より忠実な図形の描画が可能
となる。
パターンをそれぞれが直交する第１と第２の方向で分割
し、分割された２種のパターンをそれぞれ感光材料を感
光させるドーズ量の１／２のドーズ量で描画を行うよう
にした。その結果、分割後の図形の頂点位置のずれが平
均化され、元の多角形に、より忠実な図形の描画が可能
となる。
【００３８】また、多角形の形状の図形を持つチップパ
ターンをＸ軸に平行な線分で矩形あるいは台形に分割し
た描画パターンデータと、Ｙ軸に平行な線分で矩形ある
いは台形に分割した描画パターンデータとに基づいて重
ね合わせ描画を行うことにより、一方では分割されてし
まった図形の分割線を他方では一つの図形が跨いで描画
することができるため、多角形を構成する図形同士の接
合の滑らかさが向上することになる。
ターンをＸ軸に平行な線分で矩形あるいは台形に分割し
た描画パターンデータと、Ｙ軸に平行な線分で矩形ある
いは台形に分割した描画パターンデータとに基づいて重
ね合わせ描画を行うことにより、一方では分割されてし
まった図形の分割線を他方では一つの図形が跨いで描画
することができるため、多角形を構成する図形同士の接
合の滑らかさが向上することになる。
【００３９】更に、上記した理由により、微小図形の存
在に起因する図形同士の接合の滑らかさに影響を与える
度合いが低下するため、データ変換処理では、特別な微
小図形の対策を施すこと必要がなくなる。すなわち、多
角形の形状の図形を持つチップパターンをその各頂点で
Ｘ軸あるいはＹ軸のどちらか一方に平行な線分で一様に
分割することでこの問題は解決できる。
在に起因する図形同士の接合の滑らかさに影響を与える
度合いが低下するため、データ変換処理では、特別な微
小図形の対策を施すこと必要がなくなる。すなわち、多
角形の形状の図形を持つチップパターンをその各頂点で
Ｘ軸あるいはＹ軸のどちらか一方に平行な線分で一様に
分割することでこの問題は解決できる。
【図１】多角形を分割して描画する場合の問題点を説明
するための図である。
するための図である。
【図２】多角形をＸ方向とＹ方向に分割した例を示す図
である。
である。
【図３】本発明の方法を実施するための電子ビーム描画
システムの一例を示す図である。
システムの一例を示す図である。
１，６，７ データメモリ ２ データ変換処理ユニット ３ 頂点処理ユニット ４ Ｘ分割処理ユニット ５ Ｙ分割処理ユニット ８ 描画制御ユニット ９ 電子ビーム描画装置
Claims (3)
- 【請求項１】 電子ビーム感光材料が塗布された被描画
材料に電子ビームを照射し、所望のパターンの描画を行
うようにした電子ビーム描画方法において、描画パター
ンを第１の方向とこの第１の方向に直交する第２の方向
に沿って分割し、分割された各パターンを感光材料を感
光させるドーズ量の１／２のドーズ量で描画を行い、所
望のパターンの描画を行うようにした電子ビーム描画方
法。 - 【請求項２】 第１の方向に沿って分割された各パター
ンを描画した後、第２の方向に沿って分割された各パタ
ーンを描画するようにした請求項１記載の電子ビーム描
画方法。 - 【請求項３】 被描画材料をステップ状に移動させ、移
動後の被描画材料の各停止状態において、所定の描画領
域に含まれるパターンに関し、第１の方向に分割された
パターンと第２の方向に分割されたパターンの描画を行
うようにした請求項１記載の電子ビーム描画方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7704897A JPH10270341A (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | 電子ビーム描画方法 |
| US09/047,749 US6060716A (en) | 1997-03-28 | 1998-03-25 | Electron beam lithography method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7704897A JPH10270341A (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | 電子ビーム描画方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10270341A true JPH10270341A (ja) | 1998-10-09 |
Family
ID=13622905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7704897A Pending JPH10270341A (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | 電子ビーム描画方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6060716A (ja) |
| JP (1) | JPH10270341A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012129479A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置および描画データ生成方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005276869A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム描画装置。 |
| JP5139658B2 (ja) * | 2006-09-21 | 2013-02-06 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データ処理制御装置 |
| JP2008227453A (ja) * | 2007-02-13 | 2008-09-25 | Jeol Ltd | パターン描画方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57204125A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-14 | Hitachi Ltd | Electron-ray drawing device |
| JPS5979526A (ja) * | 1982-10-29 | 1984-05-08 | Fujitsu Ltd | 電子ビ−ム露光方法 |
-
1997
- 1997-03-28 JP JP7704897A patent/JPH10270341A/ja active Pending
-
1998
- 1998-03-25 US US09/047,749 patent/US6060716A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012129479A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置および描画データ生成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6060716A (en) | 2000-05-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020212 |