JP5139658B2 - 描画データ処理制御装置 - Google Patents

描画データ処理制御装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5139658B2
JP5139658B2 JP2006255282A JP2006255282A JP5139658B2 JP 5139658 B2 JP5139658 B2 JP 5139658B2 JP 2006255282 A JP2006255282 A JP 2006255282A JP 2006255282 A JP2006255282 A JP 2006255282A JP 5139658 B2 JP5139658 B2 JP 5139658B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
data
unit
drawing data
test data
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2006255282A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008078352A (ja
Inventor
佑輔 酒井
智之 堀内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nuflare Technology Inc
Original Assignee
Nuflare Technology Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nuflare Technology Inc filed Critical Nuflare Technology Inc
Priority to JP2006255282A priority Critical patent/JP5139658B2/ja
Priority to US11/858,381 priority patent/US7844857B2/en
Priority to EP07018516.0A priority patent/EP1903595B8/en
Publication of JP2008078352A publication Critical patent/JP2008078352A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5139658B2 publication Critical patent/JP5139658B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/302Controlling tubes by external information, e.g. programme control
    • H01J37/3023Programme control
    • H01J37/3026Patterning strategy
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317Processing objects on a microscale
    • H01J2237/3175Lithography
    • H01J2237/31761Patterning strategy
    • H01J2237/31762Computer and memory organisation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
  • Retry When Errors Occur (AREA)

Description

本発明は、描画データ処理制御装置、描画方法及び描画装置に係り、例えば、電子ビームを可変成形させながら試料に電子ビームを照射する電子ビーム描画方法、その方法を使用する電子ビーム描画装置及びその装置を構成するデータ処理装置に関する。
半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、LSIの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン(レチクル或いはマスクともいう。)が必要となる。ここで、電子線(電子ビーム)描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。
図4は、従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
可変成形型電子線描画装置(EB(Electron beam)描画装置)における第1のアパーチャ410には、電子線330を成形するための矩形例えば長方形の開口411が形成されている。また、第2のアパーチャ420には、第1のアパーチャ410の開口411を通過した電子線330を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口421が形成されている。荷電粒子ソース430から照射され、第1のアパーチャ410の開口411を通過した電子線330は、偏向器により偏向され、第2のアパーチャ420の可変成形開口421の一部を通過して、所定の一方向(例えば、X方向とする)に連続的に移動するステージ上に搭載された試料340に照射される。すなわち、第1のアパーチャ410の開口411と第2のアパーチャ420の可変成形開口421との両方を通過できる矩形形状が、X方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料340の描画領域に描画される。第1のアパーチャ410の開口411と第2のアパーチャ420の可変成形開口421との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という。
ここで、電子ビーム描画装置では、描画データが入力されてから描画データで定義されるパターンを実際に試料にショットするまでには、描画装置の仕様に合わせて描画装置内部フォーマットにデータを変換させる。この際、処理時間の短縮のために複数の演算処理装置を使って並列処理を行なっている。
ここで、電子ビーム描画装置内の処理ではないが、電子ビーム描画に入力する描画データを作成する段階で、複数のCPUに各処理対象領域を割り当てて独立に並列処理を行なう電子ビーム描画装置用の描画データ作成方法が文献に開示されている(例えば、特許文献1参照)。
特開平6−97058号公報
上述したように、電子ビーム描画装置では、描画装置の仕様に合わせて入力された描画データを複数の演算処理装置を使って並列処理を行なって描画装置内部フォーマットにデータを変換させる。その際、複数の演算処理装置のうち、ある処理を割当てられた演算処理装置で変換エラーが生じてしまうと描画データが定義する所望するパターンを描画することができなくなってしまう。また、ユーザが故障した演算処理装置をシステムから切り離して改めて入力された描画データの変換処理を一からやり直すのでは時間の浪費となり描画時間が長くなってしまう。
そこで、本発明は、かかる問題点を克服し、並列処理する処理装置の一部で処理エラーが生じた場合でも効率よく描画データを処理する描画データ処理制御装置、描画方法或いは描画装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様の描画データ処理制御装置は、
記憶装置に記憶されている所定の描画領域毎に区切られた複数の描画データのデータ変換処理を、互いに並列処理する複数の処理装置のいずれかに順次割当てる割当て部と、
割当てられた第1の処理装置が記憶装置から読み出した描画データをデータ変換処理した結果処理エラーが生じた場合に、処理エラーが生じた第1の処理装置を次回以降の描画データ処理の割当て対象から切り離す切り離し部と、
を備え、
割当て部は、処理エラーが生じた描画データの処理を第1の処理装置とは別の第2の処理装置に割当て直すことを特徴とする。
かかる構成により、複数の並列処理装置のうちいずれかの並列処理装置で処理エラーが発生した場合でも、代替器で処理をし直すことができる。よって、描画データの処理に冗長性を持たせることができる。その結果、変換処理を滞らせることなく、効率よく描画データを処理することができる。
そして、描画データ処理制御装置は、さらに、
第1の処理装置が次回以降の描画データ処理の割当て対象から切り離された場合に、第1の処理装置にテストデータを出力し、テストデータの処理に異常が生じるかどうかを診断する診断部と、
診断された結果、テストデータの処理に異常が生じない場合に第1の処理装置を次回以降の描画データ処理の割当て対象に復旧させる復旧部と、
を備えたことを特徴とする。
かかる構成により、描画データの処理を他の並列処理装置で処理させている間に、不具合が生じた並列処理装置をリアルタイムで診断することができる。そして、復旧可能な場合には、復旧させることで、再度、描画データの処理に加わらせることができる。よって、さらに、描画データの処理のロバスト性を向上させることができる。
また、第1の処理装置は、複数の内部処理装置を有し、
テストデータの処理は、これら複数の内部処理装置のいずれかにて実行され、
上述した診断部は、診断の結果、第1の処理装置へ出力したテストデータの処理に異常が生じた場合に、再度テストデータを第1の処理装置に出力し、第1の処理装置内にてテストデータの処理を実行した内部処理装置とは異なる内部処理装置を用いて再度テストデータの処理を実行させて、テストデータの処理に異常が生じるかどうかを再度診断するように構成すると好適である。
かかる構成により、不具合が生じた並列処理装置について、その内部で実際に不具合を生じさせている内部処理装置以外の内部処理装置を使ってその後の描画データの処理に加わらせることができる。
また、本発明の一態様の描画方法は、
記憶装置に記憶されている所定の描画領域毎に区切られた複数の描画データのデータ変換処理を、互いに並列処理する複数の処理装置のいずれかに順次割当てる第1の割当て工程と、
割当てられた第1の処理装置が記憶装置から読み出した描画データをデータ変換処理した結果処理エラーが生じた場合に、処理エラーが生じた第1の処理装置を次回以降の描画データ処理の割当て対象から切り離す切り離し工程と、
処理エラーが生じた描画データの処理を第1の処理装置とは別の第2の処理装置に割当て直す第2の割当て工程と、
第2の処理装置にて処理された描画データに基づいて、描画データが定義するパターンを試料に描画する描画工程と、
を備えたことを特徴とする。
上述したように、複数の並列処理装置のうちいずれかの並列処理装置で処理エラーが発生した場合でも、代替器で処理をし直すことができる。よって、変換処理を滞らせることなく描画時間の増大を抑制することができる。
また、かかる方法を具現化する本発明の一態様の描画装置は、
所定の描画領域毎に区切られた複数の描画データを記憶する記憶部と、
記憶部に記憶された複数の描画データのデータ変換処理を並列処理する複数の並列処理部と、
複数の描画データにおける各描画データのデータ変換処理を複数の並列処理部のいずれかに割当て、割当てられた並列処理部で処理エラーが生じた場合に、他の並列処理部に割当て直す描画データ処理制御部と、
前記複数の並列処理部のいずれかにより処理された描画データに基づいて、描画データが定義するパターンを試料に描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、描画データの処理に冗長性を持たせることができるので、変換処理を滞らせることなく、効率よく描画データを処理することができる。よって、一部の処理装置の不具合による描画時間の増大を抑制することができる。
以下、実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の荷電粒子を用いたビームでも構わない。
実施の形態1.
図1は、実施の形態1における描画装置の構成を示す概念図である。
図1において、荷電粒子ビーム描画装置の一例である描画装置100は、描画部150と制御部160を備えている。描画部150は、電子鏡筒102、描画室103を有している。電子鏡筒102内には、電子銃201、照明レンズ202、第1のアパーチャ203、投影レンズ204、偏向器205、第2のアパーチャ206、対物レンズ207、偏向器208が配置されている。描画室103内には、XYステージ105が配置され、XYステージ105上に試料101が配置されている。
制御部160は、描画制御ユニット110、複数の並列演算処理ユニット130、ハードディスク装置(HDD)124、高速記憶装置ユニットとなる磁気ディスク装置(HDD)126、ショットデータ生成ユニット170、偏向制御回路180を有している。描画制御ユニット110は、バス128を介して、複数の並列演算処理ユニット130、ハードディスク装置(HDD)124、高速記憶装置ユニットとなる磁気ディスク装置(HDD)126、ショットデータ生成ユニット170に接続されている。そして、記憶部の一例となるHDD124には、描画装置100の入力フォーマットに合わせて外部の装置で設計データ(レイアウトデータ)から変換されて作成された描画データ群が格納されている。描画データ群は、試料101の描画領域を仮想分割した所定の描画領域毎に区切られた複数の描画データで定義されている。そして、それぞれの描画データには、描画するための図形パターンが定義されている。
また、描画データ処理制御部或いは描画データ処理制御装置の一例となる描画制御ユニット110は、CPU120、メモリ122を有している。そして、コンピュータとなるCPU120内では、診断部112、切り離し部114、割当て部116、復旧部118、描画制御部119といった各機能を有している。CPU120で演算される入力データ或いは出力データ等はメモリ122に記憶される。ここでは、診断部112、切り離し部114、割当て部116、復旧部118、描画制御部119といった各機能は、その処理がコンピュータ(CPU120)により実行されるソフトウェアとして構成しているが、これに限るものではなく、電気的な回路によるハードウェアにより構成しても構わない。或いは、電気的な回路によるハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、かかるハードウェアとファームウェアとの組合せでも構わない。
並列処理部或いは処理装置の一例となる並列演算処理ユニット130a、並列演算処理ユニット130b、・・・並列演算処理ユニット130nの各並列演算処理ユニット130は、CPU132、メモリ134、実際のデータ変換処理を行なう複数のCPUと複数のメモリを有している。図1では、並列演算処理ユニット130aが、CPU132a、メモリ134a、CPU152a〜152k(内部処理装置の一例)、複数のメモリ162a〜162mを有している。並列演算処理ユニット130bが、CPU132b、メモリ134b、CPU154a〜154k(内部処理装置の一例)、複数のメモリ164a〜164mを有している。並列演算処理ユニット130nが、CPU132n、メモリ134n、CPU156a〜156k(内部処理装置の一例)、複数のメモリ166a〜166mを有している。そして、コンピュータとなる各CPU132内では、診断部142、切り離し部144、割当て部146、復旧部148といった各機能を有している。各CPU132で演算される入力データ或いは出力データ等はそれぞれの並列演算処理ユニット130内の各メモリ134に記憶される。ここでは、診断部142、切り離し部144、割当て部146、復旧部148といった各機能は、その処理がコンピュータ(CPU132)により実行されるソフトウェアとして構成しているが、これに限るものではなく、電気的な回路によるハードウェアにより構成しても構わない。或いは、電気的な回路によるハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、かかるハードウェアとファームウェアとの組合せでも構わない。図1では、本実施の形態1を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。描画装置100にとって、通常、必要なその他の構成が含まれることは言うまでもない。
図2は、実施の形態1における描画データの変換処理の流れを示す図である。
描画装置100の制御部160では、HDD124に記憶された描画データ群(描画データ1、描画データ2、描画データZ)の各描画データについてそれぞれ処理1、処理2、処理3、・・・と順にデータ変換して、装置内部フォーマットのデータに変換していく。図2では、一例として、処理1、処理2、処理3までを示している。そして、描画データ1をデータ変換する指令をJob1、描画データ2をデータ変換する指令をJob2、・・・描画データZをデータ変換する指令をJobZで示している。また、データ変換された装置内部フォーマットのデータのうち、Job1の処理が完了し装置内部フォーマットデータ1が生成されたことをJob1完として、Job3の処理が完了し装置内部フォーマットデータ3が生成されたことをJob3完として示している。そして、変換された装置内部フォーマットデータ群は、バッファとなるHDD126に一時的に格納される。そして、装置内部フォーマットデータ群は、例えば、試料101の描画領域を例えばy方向に短冊状に仮想分割した1フレームといった描画単位分のデータが揃った時点で、高速メモリでもあるHDD126からショットデータ生成ユニット170にリアルタイムに読み出される。HDD126では、読み出された装置内部フォーマットデータは消去していく。これにより、メモリサイズを抑えながら随時新しい装置内部フォーマットデータを記憶することができる。そして、読み出された装置内部フォーマットデータは、ショットデータ生成ユニット170によりショットデータに変換され、ショットデータ生成ユニット170内の記憶装置172に記憶される。そして、ショットデータに基づいて偏向制御回路180が図示しないデジタルアナログコンバータ(DAC)アンプを介して偏向器に信号を出力し、試料101の描画領域の所望する位置に電子ビーム200を偏向してショットデータに定義されるパターンを試料101の描画領域に描画していくことになる。そして、描画データから装置内部フォーマットデータへ、そして、ショットデータへの変換と、変換後の描画の処理は連続的に実行されていく。すなわち、描画しながら次回以降の描画データの変換をリアルタイムで処理していく。
ここで、HDD124に格納された描画データ群は、複数の並列演算処理ユニット130a〜130nにて並列にデータ変換されていく。そして、どのJobの処理をどの並列演算処理ユニットに割当てるかは、描画制御ユニット110で制御され、管理される。ここでは、描画データ群の各描画データの処理は、割当て部116によって複数の並列演算処理ユニット130a〜130nのいずれかに順次割当てられる。また、上述した処理1、処理2、処理3、・・・の各処理は、各並列演算処理ユニット内の複数のCPUのいずれかにより実行される。例えば、並列演算処理ユニット130a内のCPU152a〜152kのいずれかにより実行される。そして、実行するためのプロセスプログラムやキャッシュ情報やキュー情報は、メモリ162a〜162mのいずれかに記憶されている。同様に、並列演算処理ユニット130b内のCPU154a〜154kのいずれかにより実行される。そして、実行するためのプロセスプログラムやキャッシュ情報やキュー情報は、メモリ164a〜164mのいずれかに記憶されている。同様に、並列演算処理ユニット130n内のCPU156a〜156kのいずれかにより実行される。そして、実行するためのプロセスプログラムやキャッシュ情報やキュー情報は、メモリ166a〜166mのいずれかに記憶されている。
図2では、例えば、割当て部116が、Job1を並列演算処理ユニット130aに割当て、Job2を並列演算処理ユニット130bに割当て、Job3を並列演算処理ユニット130cに割当てた場合を示している。そして、並列演算処理ユニット130aでは、Job1に従って、描画データ1を第1のデータ変換工程(処理1)、第2のデータ変換工程(処理2)、第3のデータ変換工程(処理3)と変換処理を進める。そして、Job1の処理が完了したデータを装置内部フォーマットデータ1として、HDD126に格納する。同様に、並列演算処理ユニット130cでは、Job3に従って、描画データ3を第1のデータ変換工程(処理1)、第2のデータ変換工程(処理2)、第3のデータ変換工程(処理3)と変換処理を進める。そして、Job3の処理が完了したデータを装置内部フォーマットデータ3として、HDD126に格納する。一方、図2では、並列演算処理ユニット130bでは、Job2に従って、描画データ2を第1のデータ変換工程(処理1)、第2のデータ変換工程(処理2)と変換処理を進めたところ、CPU154kが処理する処理2で処理エラーが発生した場合を示している。そして、このままでは、描画データ2が変換処理された装置内部フォーマットデータ2が生成されないので、その部分のショットデータが生成できず、描画を行なうことができなくなる。
そこで、実施の形態1では、このようなデータ変換の処理にエラーが発生した場合には以下のように処理を進めるように構成する。
図3は、実施の形態1における描画方法における描画データの変換処理の各工程の要部を示すフローチャート図である。
S102において、割当て工程(第1の割当て工程)として、割当て部116は、記憶装置となるHDD124に記憶されている所定の描画領域毎に区切られた複数の描画データの処理(Job)を、互いに並列処理する複数の処理装置の一例である複数の並列演算処理ユニット130a〜130nのいずれかに順次割当てる。そして、各並列演算処理ユニット130は、割当てられた描画データをバス128を介してHDD124から読み出し、図2に示したように順次データ変換処理を進める。また、各並列演算処理ユニット130は互いに独立して並列処理を行なう。
S103において、エラー発生検出工程として、描画制御部119は、割当てた描画データの処理を割当てられた並列演算処理ユニット130で行なった結果、処理エラーが生じた場合に、そのエラー発生を検出する。検出方法としては、例えば、割当てられた並列演算処理ユニット130からエラー情報が送信され、その信号を受信することでエラー検出する。或いは、割当て部116がJobを割当て、その指令信号を割当てられた並列演算処理ユニット130に送信したが、所定の時間が経過しても返信信号(Ack信号)が送られて来ない場合にエラー発生と見做し、これによりエラー検出するようにしても好適である。
S104において、判定工程として、描画制御部119は、発生したエラーが描画に影響する程度のものかどうかを判定する。そして、描画に影響しない程度と判定した場合には、S106に進みそのまま描画データ変換処理を続行する。描画に影響する場合には、S108及びS114に進む。
S108において、切り離し工程として、切り離し部114は、処理エラーが生じた並列演算処理ユニット130(例えば、図2におけるJob2の実行中にエラーが発生した並列演算処理ユニット130b(第1の処理装置の一例))を次回以降の描画データ処理の割当て対象から切り離す。切り離すことで、次回以降の描画データの処理に伴うエラーの発生を防止することができる。切り離しは、ハードウェアとなる回線自体をユーザ等により切断するのではなく、Jobの割当て対象から外すことで切り離す。
S1108において、割当て工程(第2の割当て工程)として、割当て部116は、処理エラーが生じた描画データの処理(図2では、Job2で示す)を処理エラーが生じた並列演算処理ユニット130(図2における並列演算処理ユニット130b)とは別の並列演算処理ユニット130(図2では、並列演算処理ユニット130aで示す)(第2の処理装置)に割当て直す。そして、再割当てされた並列演算処理ユニット130、例えば、図2における並列演算処理ユニット130bは、前回に割当てられた描画データの処理(図2ではJob1で示す)に続いて再割当てされた描画データ2をバス128を介してHDD124から読み出し、図2に示したように順次データ変換処理を進める。そして、この時点では、エラー発生の対象となる並列演算処理ユニット130が切り離されている状態であるので、引き続きS112において描画データ変換処理を続行する。
一方、エラーが発生した並列演算処理ユニット130bについて、以下のようにその診断と復旧が試みられる。
S114において、診断工程の一部となるテストデータ割当て工程として、診断部112は、切り離された並列演算処理ユニット130bにメモリ122に格納しておいたテストデータの処理を割当てる。そして、切り離された並列演算処理ユニット130bにテストデータを出力する。そして、並列演算処理ユニット130bでは入力したテストデータの処理を行なう。
S116において、診断工程の一部となる判定工程として、診断部112は、並列演算処理ユニット130bでのテストデータの処理に異常が生じるかどうかを診断する。異常が生じたかどうかの判断、すなわちエラー検出の方法は、上述したエラー発生検出(S103)の方法と同様で構わない。そして、テストデータの処理に異常が生じない場合には、信号の送受信のタイミング等の一時的な失敗としてS118に進む。テストデータの処理に異常が生じた場合には、S122に進む。
S118において、リセット工程として、切り離された並列演算処理ユニット130bの復旧部148bは、並列演算処理ユニット130b内の各CPU154a〜154kの処理プロセスプログラムを再起動する。そして、メモリ164a〜164mに記憶されているキャッシュ情報、及びキュー情報をクリアする。
S120において、復旧工程として、復旧部118は、テストデータの処理に異常が生じない場合に切り離された並列演算処理ユニット130bを次回以降の描画データ処理の割当て対象に復旧させる。これにより、他の並列演算処理ユニット130で並列処理されている間に切り離された並列演算処理ユニット130bをユーザの手を煩わせることなく自動的に診断の上、復旧させることができる。
S122において、切り離し工程として、テストデータの処理に異常が生じた場合に、切り離された並列演算処理ユニット130bの切り離し部144bは、異常の原因がCPU側にある場合或いは異常の原因が不明の場合にはテストデータの処理を実行したCPU(例えば、CPU154k)を切り離す。また、異常の原因がメモリ側にある場合にはメモリ164a〜164mのうちのテストデータの処理に使用したメモリ(例えば、メモリ164m)を切り離す。
S124において、テストデータ割当て工程として、診断部112は、切り離された並列演算処理ユニット130bにメモリ122に格納しておいたテストデータの処理を再度割当てる。そして、切り離された並列演算処理ユニット130bにテストデータを出力する。切り離された並列演算処理ユニット130b内では割当て部146bが、先にテストデータの処理を実行した内部処理装置(例えば、CPU154k)とは異なる内部処理装置(例えば、CPU154a)を用いて再度テストデータの処理を実行させる。
S126において、診断工程として、診断部112は、再度のテストデータの処理に異常が生じるかどうかを再度診断する。具体的には、切り離された並列演算処理ユニット130b内の診断部142bが、再度のテストデータの処理に異常が生じるかどうかを診断する。診断の手法としては、例えば、割当てられたCPU154aからエラー情報が送信され、その信号を受信することでエラー検出する。或いは、CPU154aから所定の時間が経過しても返信信号(Ack信号)が送られて来ない場合にエラー発生と見做し、これによりエラー検出するようにしても好適である。或いは、CPU154aが所定の時間が経過しても処理が完了しない場合にエラー発生と見做し、これによりエラー検出するようにしても好適である。そして、その結果を上流側の診断部112に送信する。そして、ここでもテストデータの処理に異常が生じた場合には、ソフトウェアそのものが異常であるとして、描画処理を終了する。また、テストデータの処理に異常が生じない場合には、切り離したCPU等のハードウェアの異常だったとして、切り離されたCPUをそのまま切り離した状態にしてS114に戻る。このように並列演算処理ユニット130内でも切り離し、割当て直し、診断及び復旧を行なうことでユーザの手を煩わせることなく自動的に診断の上、復旧させることができる。
ここで、S116において、エラー発生の検出が並列演算処理ユニット130bからの返信信号(Ack信号)が送られて来ないことに基づく場合には、並列演算処理ユニット130b自体との通信ができない場合もあり、その場合には並列演算処理ユニット130b内での処理が必要なS118〜S126の処理ができないので描画処理を終了するようにしても好適である。
S130において、判定工程として、描画制御部119は、全ての変換処理が完了したかどうかを判定する。そして、まだ終了していない場合にはS102に戻り、終了している場合には、データ変換ステップを終了する。
そして、描画工程として、描画部150は、再割当てされた並列演算処理ユニット130(例えば、図2では、Job2について並列演算処理ユニット130a)にて処理された描画データに基づいて、描画データが定義するパターンを試料101に描画する。データ変換された描画データは、上述したように、装置内部フォーマットデータとしてHDD126に一時的に格納され、その後、ショットデータへと変換され、偏向制御回路180へと出力される。そして、以下のようにして所望するパターンを描画する。
電子銃201から出た荷電粒子ビームの一例となる電子ビーム200は、照明レンズ202により矩形例えば長方形の穴を持つ第1のアパーチャ203全体を照明する。ここで、電子ビーム200をまず矩形例えば長方形に成形する。そして、第1のアパーチャ203を通過した第1のアパーチャ像の電子ビーム200は、投影レンズ204により第2のアパーチャ206上に投影される。かかる第2のアパーチャ206上での第1のアパーチャ像の位置は、偏向制御回路180で制御された偏向器205によって偏向制御され、ビーム形状と寸法を変化させることができる。そして、第2のアパーチャ206を通過した第2のアパーチャ像の電子ビーム200は、対物レンズ207により焦点を合わせ、偏向制御回路180で制御された偏向器208によって偏向され、移動可能に配置されたXYステージ105上の試料101の所望する位置に照射される。このようにして、所望するパターンを描画する。
また、電子鏡筒102、描画室103内は、図示していない真空ポンプにより真空引きされ、大気圧よりも低い圧力に制御されている。そして、描画室103内の雰囲気温度は、温度センサ242によって測定され、圧力は、圧力センサ244によって測定される。
以上のように、本実施の形態によれば、描画データの処理に冗長性を持たせることができるので、変換処理を滞らせることなく、効率よく描画データを処理することができる。よって、一部の処理装置(ユニット)の不具合による描画時間の増大を抑制することができる。
以上の説明において、「〜部」或いは「〜工程」と記載したものの処理内容或いは動作内容は、コンピュータで動作可能なプログラムにより構成することができる。或いは、ソフトウェアとなるプログラムだけではなく、ハードウェアとソフトウェアとの組み合わせにより実施させても構わない。或いは、ファームウェアとの組み合わせでも構わない。また、プログラムにより構成される場合、プログラムは、図示していない磁気ディスク装置、磁気テープ装置、FD、或いはROM(リードオンリメモリ)等の記録媒体に記録される。例えば、メモリ122に記録される。
また、図1において、コンピュータとなる各CPUは、さらに、図示していないバスを介して、記憶装置の一例となるRAM(ランダムアクセスメモリ)、ROM、磁気ディスク(HD)装置、入力手段の一例となるキーボード(K/B)、マウス、出力手段の一例となるモニタ、プリンタ、或いは、入力出力手段の一例となる外部インターフェイス(I/F)、FD、DVD、CD等に接続されていても構わない。
以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。
また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、描画装置100を制御する制御部構成については、記載を省略したが、必要とされる制御部構成を適宜選択して用いることは言うまでもない。
その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全ての描画データ処理制御装置、描画方法及び描画装置は、本発明の範囲に包含される。
実施の形態1における描画装置の構成を示す概念図である。 実施の形態1における描画データの変換処理の流れを示す図である。 実施の形態1における描画方法における描画データの変換処理の各工程の要部を示すフローチャート図である。 従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
符号の説明
100 描画装置
101,340 試料
102 電子鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
110 描画制御ユニット
112,142 診断部
114,144 切り離し部
116,146 割当て部
118,148 復旧部
119 描画制御部
120,132,152,154,156 CPU
122,134,162,164,166 メモリ
124,126 HDD
128 バス
130 並列演算処理ユニット
170 ショットデータ生成ユニット
172 記憶装置
180 偏向制御回路
150 描画部
160 制御部
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203,410 第1のアパーチャ
204 投影レンズ
205,208 偏向器
206,420 第2のアパーチャ
207 対物レンズ
244 圧力センサ
330 電子線
411 開口
421 可変成形開口
430 荷電粒子ソース

Claims (2)

  1. 記憶装置に記憶されている所定の描画領域毎に区切られた複数の描画データのデータ変換処理を、互いに並列処理する複数の処理装置のいずれかに順次割当てる割当て部と、
    割当てられた第1の処理装置が前記記憶装置から読み出した描画データをデータ変換処理した結果処理エラーが生じた場合に、処理エラーが生じた前記第1の処理装置を次回以降の描画データ処理の割当て対象から切り離す切り離し部と、
    を備え、
    前記割当て部は、処理エラーが生じた描画データの処理を前記第1の処理装置とは別の第2の処理装置に割当て直し、
    前記描画データ処理制御装置は、さらに、
    前記第1の処理装置が次回以降の描画データ処理の割当て対象から切り離された場合に、前記第1の処理装置にテストデータを出力し、前記テストデータの処理に異常が生じるかどうかを診断する診断部と、
    診断された結果、前記テストデータの処理に異常が生じない場合に前記第1の処理装置を次回以降の描画データ処理の割当て対象に復旧させる復旧部と、
    を備えたことを特徴とすることを特徴とする描画データ処理制御装置。
  2. 前記第1の処理装置は、複数の内部処理装置を有し、
    前記テストデータの処理は、前記複数の内部処理装置のいずれかにて実行され、
    前記診断部は、診断の結果、前記第1の処理装置へ出力した前記テストデータの処理に異常が生じた場合に、再度前記テストデータを前記第1の処理装置に出力し、前記第1の処理装置内にて前記テストデータの処理を実行した内部処理装置とは異なる内部処理装置を用いて再度前記テストデータの処理を実行させて、前記テストデータの処理に異常が生じるかどうかを再度診断することを特徴とする請求項記載の描画データ処理制御装置。
JP2006255282A 2006-09-21 2006-09-21 描画データ処理制御装置 Active JP5139658B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006255282A JP5139658B2 (ja) 2006-09-21 2006-09-21 描画データ処理制御装置
US11/858,381 US7844857B2 (en) 2006-09-21 2007-09-20 Writing data processing control apparatus, writing method, and writing apparatus
EP07018516.0A EP1903595B8 (en) 2006-09-21 2007-09-20 Writing data processing control apparatus, writing method, and writing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006255282A JP5139658B2 (ja) 2006-09-21 2006-09-21 描画データ処理制御装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012126366A Division JP5330571B2 (ja) 2012-06-01 2012-06-01 描画方法及び描画装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008078352A JP2008078352A (ja) 2008-04-03
JP5139658B2 true JP5139658B2 (ja) 2013-02-06

Family

ID=39047663

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006255282A Active JP5139658B2 (ja) 2006-09-21 2006-09-21 描画データ処理制御装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7844857B2 (ja)
EP (1) EP1903595B8 (ja)
JP (1) JP5139658B2 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4863825B2 (ja) * 2006-09-14 2012-01-25 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置及びプログラム
JP2008166062A (ja) * 2006-12-27 2008-07-17 Hitachi High-Technologies Corp 真空容器を持つ装置
JP4994129B2 (ja) * 2007-07-02 2012-08-08 日本電子株式会社 荷電粒子ビーム描画装置における近接効果補正演算方法及び装置
JP5414103B2 (ja) * 2009-05-18 2014-02-12 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置およびその描画データ処理方法
JP5414102B2 (ja) * 2009-05-18 2014-02-12 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置およびその描画データ処理方法
JP5663277B2 (ja) * 2010-11-19 2015-02-04 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
JP5662863B2 (ja) * 2011-03-31 2015-02-04 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
JP5873275B2 (ja) * 2011-09-12 2016-03-01 キヤノン株式会社 描画装置及び物品の製造方法
CN102736935A (zh) * 2012-05-31 2012-10-17 合肥芯硕半导体有限公司 无掩膜光刻机曝光中实时添加字符串的方法
JP6340822B2 (ja) * 2014-02-24 2018-06-13 株式会社リコー 画像形成システム、画像形成方法、及びサーバ装置
CN106776394B (zh) * 2017-01-11 2019-05-14 深圳大普微电子科技有限公司 一种数据转换的硬件系统和存储器
JP6819475B2 (ja) * 2017-06-14 2021-01-27 株式会社ニューフレアテクノロジー データ処理方法、荷電粒子ビーム描画装置、及び荷電粒子ビーム描画システム
JP6791051B2 (ja) * 2017-07-28 2020-11-25 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
WO2023042400A1 (ja) * 2021-09-17 2023-03-23 株式会社日立ハイテク 荷電粒子線顕微鏡画像処理システム及びその制御方法

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2627500B2 (ja) * 1987-02-16 1997-07-09 旭光学工業株式会社 レーザプリンタ用光学ユニットの異常伝達装置及びレーザプリンタ
JP2710162B2 (ja) * 1988-12-13 1998-02-10 株式会社東芝 荷電ビーム描画用データの作成方法及び作成装置
US5144692A (en) * 1989-05-17 1992-09-01 International Business Machines Corporation System for controlling access by first system to portion of main memory dedicated exclusively to second system to facilitate input/output processing via first system
US5295258A (en) * 1989-12-22 1994-03-15 Tandem Computers Incorporated Fault-tolerant computer system with online recovery and reintegration of redundant components
US5255010A (en) * 1991-08-23 1993-10-19 Eastman Kodak Company Electronic circuit for supplying selected image signals to a thermal printer
JPH05217868A (ja) * 1992-02-04 1993-08-27 Hitachi Ltd 図形データ格納メモリ
US5493634A (en) * 1992-06-12 1996-02-20 Xerox Corporation Apparatus and method for multi-stage/multi-process decomposing
JPH0697058A (ja) 1992-09-16 1994-04-08 Fujitsu Ltd 電子ビーム描画装置用の描画データ作成方法
JPH06309421A (ja) * 1993-04-21 1994-11-04 Hitachi Ltd 画像処理装置
US5625757A (en) * 1993-12-24 1997-04-29 Hitachi, Ltd. Printing system
US6124974A (en) * 1996-01-26 2000-09-26 Proxemics Lenslet array systems and methods
JPH10242027A (ja) * 1997-02-27 1998-09-11 Jeol Ltd 電子ビーム描画における演算処理機能のチェック方法
JPH10270341A (ja) * 1997-03-28 1998-10-09 Jeol Ltd 電子ビーム描画方法
JPH10335202A (ja) * 1997-05-28 1998-12-18 Mitsubishi Electric Corp 電子ビームデータ生成装置
JP3169068B2 (ja) * 1997-12-04 2001-05-21 日本電気株式会社 電子線露光方法及び半導体ウエハ
US6381072B1 (en) * 1998-01-23 2002-04-30 Proxemics Lenslet array systems and methods
JP2000132365A (ja) * 1998-10-28 2000-05-12 Fujitsu Ltd 周辺装置管理装置及びそれに接続される周辺装置並びに周辺装置管理方法
US6455863B1 (en) * 1999-06-09 2002-09-24 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for forming a charged particle beam of arbitrary shape
JP3728217B2 (ja) * 2000-04-27 2005-12-21 キヤノン株式会社 荷電粒子線露光装置およびデバイス製造方法
US6552340B1 (en) * 2000-10-12 2003-04-22 Nion Co. Autoadjusting charged-particle probe-forming apparatus
US7042588B2 (en) * 2000-11-29 2006-05-09 Canon Kabushiki Kaisha Information processing apparatus, information processing methods and print systems
JPWO2002056332A1 (ja) * 2001-01-10 2004-05-20 株式会社荏原製作所 電子線による検査装置、検査方法、及びその検査装置を用いたデバイス製造方法
JP2002246294A (ja) * 2001-02-20 2002-08-30 Nikon Corp Lsi設計用スクリーンエディタ
US20020186407A1 (en) * 2001-06-12 2002-12-12 Laughlin John David Printer-embedded service to allow for fail-over operation through automatic rerouting of print jobs to comparable printers
JP2003005958A (ja) * 2001-06-25 2003-01-10 Pacific Design Kk データ処理装置およびその制御方法
JP4078150B2 (ja) * 2002-08-22 2008-04-23 株式会社日立ハイテクノロジーズ 半導体製造装置
US20050157349A1 (en) * 2004-01-16 2005-07-21 Xerox Corporation Print ready document management for distributed printing
JP2005209850A (ja) * 2004-01-22 2005-08-04 Toshiba Corp 半導体装置の設計システムと製造システム
JP2006216396A (ja) * 2005-02-04 2006-08-17 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置
JP4875886B2 (ja) * 2005-11-22 2012-02-15 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置
JP4953693B2 (ja) * 2006-05-30 2012-06-13 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電ビーム描画装置の描画エラー診断方法および荷電ビーム描画装置
JP4751353B2 (ja) * 2007-03-06 2011-08-17 株式会社ニューフレアテクノロジー データ検証方法及び荷電粒子ビーム描画装置
JP5386109B2 (ja) * 2008-05-16 2014-01-15 株式会社ニューフレアテクノロジー データの検証方法および荷電粒子ビーム描画装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008078352A (ja) 2008-04-03
US7844857B2 (en) 2010-11-30
US20080235535A1 (en) 2008-09-25
EP1903595B1 (en) 2017-05-31
EP1903595A2 (en) 2008-03-26
EP1903595A3 (en) 2010-12-15
EP1903595B8 (en) 2017-08-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5139658B2 (ja) 描画データ処理制御装置
JP5001563B2 (ja) 荷電粒子線描画データの作成方法
JP4814716B2 (ja) 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
JP5567802B2 (ja) 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、および、荷電粒子ビーム描画用データの処理装置
US7698682B2 (en) Writing error verification method of pattern writing apparatus and generation apparatus of writing error verification data for pattern writing apparatus
JP4751353B2 (ja) データ検証方法及び荷電粒子ビーム描画装置
US20090216450A1 (en) Apparatus and method for inspecting overlapping figure, and charged particle beam writing apparatus
JP5848135B2 (ja) 荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画プログラムおよび荷電粒子ビーム描画装置
JP4863825B2 (ja) 荷電粒子ビーム描画装置及びプログラム
JP4778777B2 (ja) 荷電粒子線描画データの作成方法
JP5063320B2 (ja) 描画装置及び描画データの変換方法
JP5305601B2 (ja) 描画装置内の演算処理装置の割当て方法
JP5330571B2 (ja) 描画方法及び描画装置
JP5148233B2 (ja) 描画装置及び描画方法
JP4828460B2 (ja) 描画データ作成方法及び描画データファイルを格納した記憶媒体
JP5232429B2 (ja) 描画装置及び描画方法
JP5314937B2 (ja) 描画装置及び描画用データの処理方法
JP5357530B2 (ja) 描画用データの処理方法、描画方法、及び描画装置
JP2008130862A (ja) 描画データの作成方法、描画データの変換方法及び荷電粒子線描画方法
JP4388045B2 (ja) パターン検査方法
JP2010067808A (ja) 描画装置、描画データの変換方法及び描画方法
JP5010410B2 (ja) 描画装置及び描画データのデータ処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090416

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110829

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110906

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111104

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120403

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120601

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121113

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121116

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5139658

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151122

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250