JP5567802B2 - 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、および、荷電粒子ビーム描画用データの処理装置 - Google Patents
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Description
チップ領域に複数の図形パターンが定義されたレイアウトデータが入力され、前記レイアウトデータを記憶する記憶部と、
前記チップ領域を複数の処理領域に分割する分割部と、
前記処理領域のパターンデータを、複数の演算処理器を用いて分散処理し、荷電粒子ビームを試料にショットするためのショットデータに変換するショットデータ生成部と、
前記ショットデータを記憶するショットデータ記憶部と、
前記演算処理器の出力データ量をモニタし前記出力データ量を、前記ショットデータ記憶部の未使用領域のデータ量に基づく所定の閾値と比較し、前記出力データ量が前記閾値を超えた場合に、前記演算処理器に前記処理領域を分割して、処理の終了した領域のショットデータのみを前記ショットデータ記憶部に転送し処理を継続させるよう指示する判定指令部と、
前記ショットデータ記憶部に記憶される前記ショットデータを用いて、試料に描画を行う描画部と、
を備えることを特徴とする。
前記複数の図形パターンを、荷電粒子ビームを試料にショットする際のショット単位であるショットパターンに変換した際のショット密度を予測する予測部を更に備え、
前記分割部が、予測された前記ショット密度に基づき、前記チップ領域を複数の処理領域に分割することが望ましい。
処理領域は、さらに一定サイズのサブ処理領域に細分化されており、
判定指令部は、サブ処理領域を単位に、処理領域を分割して処理を継続させるよう指示することが望ましい。
チップ領域に複数の図形パターンが定義されたレイアウトデータが入力され、前記レイアウトデータを記憶する工程と、
前記チップ領域を複数の処理領域に分割する工程と、
前記処理領域のパターンデータを、複数の演算処理器を用いて分散処理し、荷電粒子ビームを試料にショットするためのショットデータに変換する工程と、
前記演算処理器の出力データ量をモニタし前記出力データ量を、前記ショットデータを記憶するショットデータ記憶部の未使用領域のデータ量に基づく所定の閾値と比較し、前記出力データ量が前記閾値を超えた場合に、前記演算処理器に前記処理領域を分割して、処理の終了した領域のショットデータのみを前記ショットデータ記憶部に転送し処理を継続させるよう指示する工程と、
前記ショットデータ記憶部に記憶される前記ショットデータを用いて、試料に描画を行う工程と、
を備えることを特徴とする。
チップ領域に複数の図形パターンが定義されたレイアウトデータが入力され、前記レイアウトデータを記憶する記憶部と、
前記チップ領域を複数の処理領域に分割する分割部と、
前記処理領域のパターンデータを、複数の演算処理器を用いて分散処理し、荷電粒子ビームを試料にショットするためのショットデータに変換するショットデータ生成部と、
前記ショットデータを記憶するショットデータ記憶部と、
前記演算処理器の出力データ量をモニタし前記出力データ量を、前記ショットデータ記憶部の未使用領域のデータ量に基づく所定の閾値と比較し、前記出力データ量が前記閾値を超えた場合に、前記演算処理器に前記処理領域を分割して、処理の終了した領域のショットデータのみを前記ショットデータ記憶部に転送し処理を継続させるよう指示する判定指令部と、
を備えることを特徴とする。
第1の実施の形態の荷電粒子ビーム描画装置は、チップ領域に複数の図形パターンが定義されたレイアウトデータが入力され、このレイアウトデータを記憶する記憶部を備える。そして、チップ領域を複数の処理領域に分割する分割部と、処理領域のパターンデータを、複数の演算処理器を用いて分散処理し、荷電粒子ビームを試料にショットするためのショットデータに変換するショットデータ生成部と、演算処理器の出力データ量を所定の閾値と比較し、出力データ量が閾値を超えた場合に、演算処理器に処理領域を分割して処理を継続させるよう指示する判定指令部と、ショットデータを用いて、試料に描画を行う描画部と、を備える。
第2の実施の形態の荷電粒子ビーム描画装置は、複数の図形パターンを、荷電粒子ビームを試料にショットする際のショット単位であるショットパターンに変換した際のショット密度を予測する予測部を更に備え、分割部が、予測されたショット密度に基づき、チップ領域を複数の処理領域に分割すること以外は第1の実施の形態と同様である。したがって、第1の実施の形態と重複する内容については記載を省略する。
102 描画部
104 制御部
106 記憶部
110 試料
140 ショットデータ生成部
142 判定指令部
144 制御回路
150(1)〜(n) 演算処理器
170 予測部
180 分割部
200 電子ビーム描画装置
Claims (5)
- チップ領域に複数の図形パターンが定義されたレイアウトデータが入力され、前記レイアウトデータを記憶する記憶部と、
前記チップ領域を複数の処理領域に分割する分割部と、
前記処理領域のパターンデータを、複数の演算処理器を用いて分散処理し、荷電粒子ビームを試料にショットするためのショットデータに変換するショットデータ生成部と、
前記ショットデータを記憶するショットデータ記憶部と、
前記演算処理器の出力データ量をモニタし前記出力データ量を、前記ショットデータ記憶部の未使用領域のデータ量に基づく所定の閾値と比較し、前記出力データ量が前記閾値を超えた場合に、前記演算処理器に前記処理領域を分割して、処理の終了した領域のショットデータのみを前記ショットデータ記憶部に転送し処理を継続させるよう指示する判定指令部と、
前記ショットデータ記憶部に記憶される前記ショットデータを用いて、試料に描画を行う描画部と、
を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記複数の図形パターンを、荷電粒子ビームを試料にショットする際のショット単位であるショットパターンに変換した際のショット密度を予測する予測部を更に備え、
前記分割部が、予測された前記ショット密度に基づき、前記チップ領域を複数の処理領域に分割することを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記処理領域は、さらに一定サイズのサブ処理領域に細分化されており、
前記判定指令部は、前記サブ処理領域を単位に、前記処理領域を分割して処理を継続させるよう指示することを特徴とする請求項1または請求項2記載の荷電粒子ビーム描画装置。 - チップ領域に複数の図形パターンが定義されたレイアウトデータが入力され、前記レイアウトデータを記憶する工程と、
前記チップ領域を複数の処理領域に分割する工程と、
前記処理領域のパターンデータを、複数の演算処理器を用いて分散処理し、荷電粒子ビームを試料にショットするためのショットデータに変換する工程と、
前記演算処理器の出力データ量をモニタし前記出力データ量を、前記ショットデータを記憶するショットデータ記憶部の未使用領域のデータ量に基づく所定の閾値と比較し、前記出力データ量が前記閾値を超えた場合に、前記演算処理器に前記処理領域を分割して、処理の終了した領域のショットデータのみを前記ショットデータ記憶部に転送し処理を継続させるよう指示する工程と、
前記ショットデータ記憶部に記憶される前記ショットデータを用いて、試料に描画を行う工程と、
を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。 - チップ領域に複数の図形パターンが定義されたレイアウトデータが入力され、前記レイアウトデータを記憶する記憶部と、
前記チップ領域を複数の処理領域に分割する分割部と、
前記処理領域のパターンデータを、複数の演算処理器を用いて分散処理し、荷電粒子ビームを試料にショットするためのショットデータに変換するショットデータ生成部と、
前記ショットデータを記憶するショットデータ記憶部と、
前記演算処理器の出力データ量をモニタし前記出力データ量を、前記ショットデータ記憶部の未使用領域のデータ量に基づく所定の閾値と比較し、前記出力データ量が前記閾値を超えた場合に、前記演算処理器に前記処理領域を分割して、処理の終了した領域のショットデータのみを前記ショットデータ記憶部に転送し処理を継続させるよう指示する判定指令部と、
を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画用データの処理装置。
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