JP4953693B2 - 荷電ビーム描画装置の描画エラー診断方法および荷電ビーム描画装置 - Google Patents
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Description
可変成形型電子ビーム描画装置(EB(Electron Beam)描画装置)における第1のアパーチャ700には電子ビームを成形するための矩形、例えば長方形の開口702が形成されている。また、第2のアパーチャ704には、第1のアパーチャの開口702を通過した電子ビームを所望の矩形形状に成形するための、例えば、矢印状の可変成形開口706が形成されている。荷電粒子ソース708から照射され、第1のアパーチャの開口702を通過した電子ビーム710は、ビーム寸法可変用偏向器(図示せず)により偏向され、第2のアパーチャ704の可変成形開口706の一部を通過して、所定の一方向(例えば、X方向とする)に連続的に移動するステージ上に搭載された試料712に照射される。すなわち、第1のアパーチャ700の開口702と第2のアパーチャ704の可変成形開口706との両方を通過できる矩形形状がX方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料712の描画領域に描画される。第1のアパーチャ700の開口702と第2のアパーチャ704の可変成形開口706との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形ビーム方式という。
そして、スループットを増大させる技術として、ステージ連続移動方式も提案されている。この技術は、試料の載ったステージを停止させずに描画を進める方式である。この方式によれば、描画可能領域の描画中はステージを停止させる従前のステップ&リピート方式に比べ、ステージの移動に伴う露光を行わない時間が削減することが可能となる。
さらに、ベクタ走査方式という、描画する領域をサブフィールドとよばれる小領域に分割し、描画の必要な部分のみに可変成形ビームを偏向照射する方式も提案されている。この方式によれば、従前の1次元走査方式のように描画の不必要な部分にオフしたビームを走査する動作がなくなるため、やはり、スループットの増大を図ることができる(例えば、特許文献1参照)。
ユーザーが設計した通りのパターンが試料上に描画されない描画エラー(パターンエラー)を生じさせる主要な原因のひとつとして、描画回路における処理異常がある。すなわち、描画回路を構成する回路基板や素子の不具合・動作不良等により、描画回路から正常な出力(処理結果)が得られない場合である。もっとも、従来は描画エラーが生じたとしても、描画エラーの発生した時の装置状態、すなわち、描画データ、描画条件や描画パターンを容易に把握する有効な手段がなく、エラー原因の特定に多大な時間を要するという問題があった。
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その目的とするところは、描画エラーが発生した際に短時間でエラー原因(エラー発生状況)を特定することが可能な荷電ビーム描画装置の描画エラー診断方法および荷電ビーム描画装置を提供することにある。
試料上に荷電ビームを照射して所望パターンを描画する荷電ビーム描画装置の描画エラー診断方法であって、
所望パターンを有するレイアウトデータに基づき試料上に荷電ビームを照射して描画を行うステップと、
描画された試料のパターンエラーの有無を検査するステップと、
パターンエラーが発生した場合に、前記パターンエラーが発生した座標を含む領域を前記レイアウトデータから切り出し、パターンエラー解析用レイアウトデータを生成するステップと、
前記パターンエラー解析用レイアウトデータと前記パターンエラー発生時の描画条件に基づき描画回路による処理を行うステップと、
あらかじめ指定される位置で、前記描画回路による処理を停止するステップと、
前記パターンエラーが発生した箇所における前記描画回路の処理結果データの回収を行うステップと、
回収した前記処理結果データを正解データと比較し、前記パターンエラーの原因を診断するステップを有することを特徴とする。
試料上に荷電ビームを照射して所望パターンを描画する荷電ビーム描画装置であって、
パターンエラーが発生した場合に、前記パターンエラーが発生した座標を含む領域をレイアウトデータから切り出し、パターンエラー解析用レイアウトデータを生成する機能と、
前記パターンエラー解析用レイアウトデータと前記パターンエラー発生時の描画条件に基づき描画回路による処理を行う機能と、
あらかじめ指定される位置で、前記描画回路による処理を停止する機能と、
前記パターンエラーが発生した箇所における前記描画回路の処理結果データを回収する機能と、
回収された前記描画エラーが発生した箇所における描画回路の処理結果データを正解データと比較し、前記描画エラーの原因を診断する機能を有することを特徴とする。
(電子ビーム描画装置)
図2に本実施の形態に係る電子ビーム描画装置の概略構成図を示す。
電子ビーム描画装置200は、描画部202と、この描画部202の描画動作を制御する描画制御部204から構成されている。そして、電子ビーム描画装置200内には描画される半導体集積回路のレイアウトデータ206(設計データ)が入力され記憶されている。
レイアウトデータ206は制御計算機250内の処理により本電子ビーム描画装置固有の内部制御フォーマットデータへと変換される。この時サブフィールド306の領域が作成される。その後内部制御フォーマットデータは描画パラメータファイル114と共に描画回路252へと渡される。
内部制御フォーマットデータ112(図1)は、所定のパターンを含むレイアウトデータが、電子ビーム描画装置用のデータに変換されたものである。具体的には、例えば、所定のパターンを含むフレーム304(図3)およびサブフィールド306(図3)を特定する主偏向位置データ、サブフィールド(図3)内での各パターン図形の描画位置を特定する副偏向位置データである。
描画回路252を構成する図形データ演算回路部254にてパターン図形分割パラメータに従って内部制御フォーマットデータ中のユーザーが任意のサイズ/形状を指定することのできるパターン図形307から、一回の可変成形ビーム308の照射により試料表面上に照射可能なサイズ/形状へと分割される。照射量制御回路部256は図形データ演算回路部254にて分割されたパターン図形307一つ一つに対して試料により正確なパターンを描画するために行われる近接効果補正/かぶり効果補正等の結果から算出される照射時間を付加し、偏向制御演算回路部258は照射量制御回路部256の出力結果(処理結果)と主偏向歪み補正係数、副偏向歪み補正係数等の補正係数から描画部202を制御するための制御データを生成する。図形データ演算回路部254、照射量制御回路部256および偏向制御演算回路部258は、さらに機能に応じた複数の回路に分割されている。
これら描画回路はそれぞれの回路で行われた処理結果データを一時的に保存するメンテナンスメモリと呼ばれるメモリを持つ。しかしながら、通常、そのサイズは非常に小さく、数〜数十サブフィールド分の領域の処理結果データしか保存できない。
次に、本実施の形態に係る描画エラー診断方法について記述する。
図1は、本実施の形態の描画エラー診断方法を実現する描画エラー診断機能の動作図である。
描画エラー診断機能は、回路診断準備モジュール102、描画制御ソフトウェアモジュール104、回路診断モジュール106の3つのモジュールから構成される。このように、描画エラー診断機能を3つのモジュールに分けることによって、本実施の形態では各モジュールの役割を明確化し、描画エラー診断の簡易化を図っている。
これらの診断機能は、具体的には、図2に示す、描画制御部204内の制御計算機250に格納されたソフトウェアによって、あるいはソフトウェアと描画制御部204に設けられたハードウェアとの組み合わせによって実行される。
マスク検査装置等の検査によって、マスクに描画エラー(パターンエラー)が発生したことが判明した場合、ユーザー100は、まず始めに、回路診断準備モジュール102に対し、描画エラー診断の実行命令を送る。ここで、回路診断準備モジュール102は、描画制御ソフトウェアモジュール104や回路診断モジュール106が描画エラー発生時の状況を再現できるように、描画エラー解析用レイアウトデータ107とエラー発生時の描画条件を与える描画パラメータファイル114を作成し、診断の準備をする。回路診断準備モジュール102が準備したファイルを参照し、描画制御ソフトウェアモジュール104は、描画回路111を起動して描画回路処理を行い、描画エラーが確認されたオリジナルのレイアウトデータから生成された描画エラー解析用レイアウトデータ107から内部制御フォーマットデータ112を作成する。回路診断準備モジュール102は、描画制御ソフトウェアモジュール104が作成した内部制御フォーマットデータ112を回収するよう回路診断モジュール106に指令を発する。回路診断モジュール106は、内部制御フォーマットデータ112を回収し、記憶することで、この内部制御フォーマットデータ112を描画エラー診断の際の描画回路シミュレーションへの入力として利用することが出来る。
また、描画回路111を起動して内部制御フォーマットデータ112と描画パラメータファイル114を流し、描画回路処理を行なう。そして、描画エラー(パターンエラー)発生箇所の座標で回路処理を停止することにより、描画エラー(パターンエラー)発生箇所の再現されたメンテナンスメモリデータ118の回収が可能となる。このようにして、得られたパターンエラー発生箇所のメンテナンスメモリデータ118と、正解データであるシミュレーション結果データ120のデータ比較を行うことにより、描画エラー(パターンエラー)発生原因の特定が可能となる。そして、この比較結果をレポートファイル122に編集し、記憶させるとともに、ユーザー100へ報告する。
なお、上記描画回路処理においては、必ずしも実際の試料に描画する必要はなく、描画回路のみを起動させるいわゆる空描画によっても構わない。
まず、ユーザー100は、マスクの描画エラー(パターンエラー)が判明した場合、回路診断準備モジュール102に描画エラー診断を行う実行命令を発する。回路診断準備モジュール102は、ユーザー100の実行命令を受けて、制御計算機250(図2)内の作業ディレクトリの空き容量チェックなどのシステム初期化を行う(S402)。
次に、回路診断準備モジュール102は、ユーザー100に描画エラーが生じたマスクの描画番号、エラー座標(X座標、Y座標)等の情報入力を要求する(S404)。
次に、入力された描画番号に基づき、制御計算機内の所定ディレクトリから対応するレイアウトデータを検索する(S406)。
次に、回路診断準備モジュール102は、選択された描画エラー座標を含む領域を切り出し、新しい描画エラー解析用レイアウトデータ作成を行う(S410)。切り出される対象となるレイアウトデータには、ユーザーが作成したCADの設計ソフト等の違いにより様々なフォーマットが存在する。しかしながら回路診断準備モジュール102の動作はレイアウトデータのフォーマットに依存しない。
次に、回路診断準備モジュール102は、描画制御ソフトウェアモジュール104を起動して、新規作成された描画エラー解析用レイアウトデータの内部制御フォーマットデータ変換実行確認を行うようユーザー100に確認を促す(S414)。描画制御ソフトウェアモジュール104により描画エラー解析用レイアウトデータは内部制御フォーマットデータへ変換される。
内部制御フォーマットデータ112(図1)は、所定のパターンを含むレイアウトデータが、電子ビーム描画装置用のデータに変換されたものである。本実施の形態では、この内部制御フォーマットデータ112が描画エラーの位置情報も与えることになる。具体的には、例えば、所定のパターンを含むフレーム304(図3)およびサブフィールド306(図3)を特定する主偏向位置データ、サブフィールド(図3)内での各パターン図形の描画位置を特定する副偏向位置データである。
ここで、エラー発生時の描画回路の処理結果を再現するために、これらのパラメータを描画エラー発生時と同じにすることが極めて重要となる。
次に、回路診断モジュール106に対して、起動指示を発する(S418)。
最後に、回路診断モジュール106の実行結果を読み取りディスプレイに表示して(S420)、動作を終了する(S422)。
まず、回路診断準備モジュール102の作成した描画パラメータファイルを取得し(S502)、描画制御ソフトウェアモジュール104により作成した内部制御フォーマットデータ550を描画制御ソフトウェアモジュール104より回収する(S504)。
この指定座標との比較によるデータの抜き出し以外にも、特定のサブフィールド及びパターン図形数までのデータを抜き出す方法や、回路診断モジュール106にて指定座標または特定のサブフィールド及びパターン図形数で描画回路自身が停止するように特定の描画パラメータファイルをセットする方法、描画回路のメンテナンスメモリの内容を逐次監視し、指定の座標ないしは特定のサブフィールド及びパターン図形数まで処理が達したことを確認後、即座に描画回路の処理を強制的に停止する方法もある。
そして、描画パラメータファイルと内部制御フォーマットデータ550が描画回路111に流れ、描画回路の処理が終了すると、描画回路111のメンテナンスメモリデータ118を回収する(S512)。このメンテナンスメモリデータ118は、あらかじめ入力された停止座標付近で描画処理を止めているため、描画エラーが発生した箇所における描画回路の処理結果データである。ここで、メンテナンスメモリデータ118を保管するメンテナンスメモリは、描画回路111に包含される図形データ演算回路部254、照射量制御演算回路部256、偏向制御演算回路部258(図2)を構成する複数の回路毎に設けるのが通常であり、夫々の回路基板での処理結果データを一時的に保管する。
次に、回収されたメンテナンスメモリデータ118(メンテナンスメモリデータ)と正解データであるシミュレーション結果データを回路基板毎に比較(S516)する。そして、その比較結果をユーザーが容易に把握できるように、レポートファイルを作成し(S518)、動作を終了する(S522)。レポートファイルは、回路基板毎のメンテナンスメモリデータとシミュレーション結果データの比較結果が表示され、比較の結果両者ともに同一であった場合は、描画回路111に異常はないことを確認できる。万が一比較の結果に相違が見られた場合は、相違があった回路に異常があることを瞬時に認識できる。また、メンテナンスメモリデータ及びシミュレーション結果データは、それらのデータが実際に描画された場合どのように試料上で結像するかディスプレイに表示することが可能である。表示された結果と描画エラー部の観察結果を比較することで、視覚的にエラーの状態を把握することができる。
従来技術では、マスク欠陥検査装置の検査でマスクの描画エラー(パターンエラー)が判明したとしても、エラー原因の特定に多大な時間を要していた。
通常、描画エラー原因としては、1)レイアウトデータそのものでの異常、2)描画回路での異常・誤動作、3)DACアンプ等アナログ系の異常・動作不良に大別され、それらの分離を行い、上記の分離ができ、描画回路での異常であると特定できた場合、描画回路内でのどの箇所、基板での異常であるかを更に分離・特定をする方法をとる。しかし、特に描画回路での異常の分離・特定を行なう容易な手法がなくエラーを起こしている箇所の特定に長時間を要していた。
特に、描画回路異常・動作不良は、100%再現しない場合もあり、多数回のテストを要する場合もある。このような場合には、1回あたりの解析に時間がかかることが、さらに大きな問題となっていた。
本実施の形態によれば、パターンエラーに対応する描画回路での最終処理結果データの回収、及びその正解データ(シュミレーションデータ等)を容易に回収・作成することが可能となり、その比較により、描画回路での処理を終了した状態で異常があるか否かの判定を迅速に行なうことが可能となる。
そして、この段階で、異常が認められない場合は、描画回路全体として異常がないことになり、下流のアナログ系での異常の可能性が高いことが判明する。
そして、この回収された処理結果データとシミュレーション結果データの正解データを自動的に比較することにより、従来技術に比較して、効率的に描画エラー発生時の描画回路の実行結果を検証することが可能となる。
よって、以上のように描画回路データの検証を行うことで、描画エラー発生時に描画回路のどの回路基板に異常があったかを迅速に判定でき、短時間でエラー原因を特定することができる荷電ビーム描画装置の描画エラー診断方法および荷電ビーム描画装置を提供することが可能なる。
次に、本実施の形態2について説明する。回収した描画エラー発生時を再現したメンテナンスメモリデータを、シミュレーション結果データ120(図1)を正解データとしてではなく、あらかじめ実行された描画回路の処理結果データ(事前実行済描画回路処理結果データとも言う。)130(図1)を正解データとして比較する以外は、実施の形態1と同様であるので記述を省略する。
図6は本実施の形態における回路診断モジュール106の動作ステップの説明図である。メンテナンスメモリデータ118を回収するステップ(S512)までは、実施の形態1と同様であるので省略する。メンテナンスメモリデータ回収(S512)後、回路診断モジュール106は、回収されたメンテナンスメモリデータ118と比較する事前実行済描画回路処理結果データを選択するよう促す(S602)。ここで、事前実行済描画回路処理結果データ130(図1)とは、回路診断モジュール106に記憶されているメンテナンスメモリデータである。これは事前に同一の内部制御フォーマットデータ及び描画パラメータを用いて、回路診断モジュール106を実行し描画回路より回収したメンテナンスメモリデータ118である。再度回路診断モジュール106により回収されたメンテナンスメモリデータ118と、事前実行済描画回路処理結果データ130(図1)として記憶されているメンテナンスメモリデータを正解データとして比較する(S516)。
その後、比較結果をユーザーが容易に把握できるように、レポートファイルを作成し(S518)、動作を終了する(S520)点については実施の形態1と同様である。
102 回路診断準備モジュール
104 描画制御ソフトウェアモジュール
106 回路診断モジュール
107 描画エラー解析用レイアウトデータ
111 描画回路
112 内部制御フォーマットデータ
114 描画パラメータファイル
118 メンテナンスメモリデータ
120 シミュレーション結果データ
130 事前実行済描画回路処理結果データ
200 電子ビーム描画装置
202 描画部
204 描画制御部
206 レイアウトデータ
208 試料室
212 ステージ
214 電子ビーム光学系
216 電子銃
232 主偏向器
234 副偏向器
236 第1のアパーチャ
238 第2のアパーチャ
250 制御計算機
300 試料
304 フレーム
306 サブフィールド
308 可変成形ビーム
Claims (4)
- 試料上に荷電ビームを照射して所望パターンを描画する荷電ビーム描画装置の描画エラー診断方法であって、
所望パターンを有するレイアウトデータに基づき試料上に荷電ビームを照射して描画を行うステップと、
描画された試料のパターンエラーの有無を検査するステップと、
パターンエラーが発生した場合に、前記パターンエラーが発生した座標を含む領域を前記レイアウトデータから切り出し、パターンエラー解析用レイアウトデータを生成するステップと、
前記パターンエラー解析用レイアウトデータと前記パターンエラー発生時の描画条件に基づき描画回路による処理を行うステップと、
あらかじめ指定される位置で、前記描画回路による処理を停止するステップと、
前記パターンエラーが発生した箇所における前記描画回路の処理結果データの回収を行うステップと、
回収した前記処理結果データを正解データと比較し、前記パターンエラーの原因を診断するステップを有することを特徴とする荷電ビーム描画装置の描画エラー診断方法。 - 前記正解データは、荷電ビーム描画装置内で処理されたシミュレーション結果データであることを特徴とする請求項1記載の荷電ビーム描画装置の描画エラー診断方法。
- 前記正解データは、あらかじめ実行された描画回路の処理結果データであることを特徴とする請求項1記載の荷電ビーム描画装置の描画エラー診断方法。
- 試料上に荷電ビームを照射して所望パターンを描画する荷電ビーム描画装置であって、
パターンエラーが発生した場合に、前記パターンエラーが発生した座標を含む領域をレイアウトデータから切り出し、パターンエラー解析用レイアウトデータを生成する機能と、
前記パターンエラー解析用レイアウトデータと前記パターンエラー発生時の描画条件に基づき描画回路による処理を行う機能と、
あらかじめ指定される位置で、前記描画回路による処理を停止する機能と、
前記パターンエラーが発生した箇所における前記描画回路の処理結果データを回収する機能と、
回収された前記描画エラーが発生した箇所における描画回路の処理結果データを正解データと比較し、前記描画エラーの原因を診断する機能を有することを特徴とする荷電ビーム描画装置。
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