JP4863825B2 - 荷電粒子ビーム描画装置及びプログラム - Google Patents

Description

本発明は、荷電粒子ビーム描画装置及びかかる装置のプログラムに係り、例えば、電子ビームを可変成形させながら試料に電子ビームを照射する電子ビーム描画方法、その方法に使用する装置及びその装置を制御するプログラムに関する。

半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン（レチクル或いはマスクともいう。）が必要となる。ここで、電子線（電子ビーム）描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。

図１５は、従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
可変成形型電子線描画装置（ＥＢ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｂｅａｍ）描画装置）における第１のアパーチャ４１０には、電子線３３０を成形するための矩形例えば長方形の開口４１１が形成されている。また、第２のアパーチャ４２０には、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子線３３０を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口４２１が形成されている。荷電粒子ソース４３０から照射され、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子線３３０は、偏向器により偏向され、第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１の一部を通過して、所定の一方向（例えば、Ｘ方向とする）に連続的に移動するステージ上に搭載された試料３４０に照射される。すなわち、第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過できる矩形形状が、Ｘ方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料３４０の描画領域に描画される。第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という。

ここで、電子ビーム描画装置では、定期的に行なうメンテナンスや装置の制御プログラムのアップデートやデバック等により装置状態を変更した際には、変更した内容についての動作確認を行なう必要がある。その際、動作確認試験に必要のない機能についてはダミーにして動作試験を行なうと試験時間を短縮することができる。

ここで、描画機能について、実際には電子ビームを照射しないダミー描画をおこなってダミー描画によって展開された図形データと、事前にシミュレーションによって正確に展開された基準図形データとを比較して図形データを展開する演算処理機能のチェックを行なうとする技術が文献に開示されている（例えば、特許文献１参照）。
特開平１０−２４２０２７号公報

上述したように、変更した内容についての動作確認を行なう際、動作確認試験に必要のない機能についてはダミーにして動作試験を行なうと試験時間を短縮することができる。そのため、変更した内容についての動作確認を行なう際、動作確認試験に必要のない機能についてはダミーにして動作試験を行なう場合がある。そして、動作試験後に客先に装置をリリースする際には、正常に描画装置としての各機能を発揮させる必要があるため、ダミーになっている機能をすべて元に戻さなければならない。そして、描画装置には多数の機能が装備されているのか一般的である。

しかしながら、従来、描画装置では各機能がダミーであるかどうかの確認は手動で行なわなければならなかった。そのため、確認ミスも多く、描画装置の機能をダミーにしたまま客先にリリースしてしまう場合があるといった問題があった。これは、通常、描画装置には多数の機能が装備されているが、各機能はソフトウェアで実行される場合が多く、その状態が明示されないため確認しづらい点が挙げられる。また、多数の機能が装備されている場合に、確認する項目が多岐にわたることになるため確認漏れが生じやすい。特に、ダミーに変更したユーザとは別人がダミーかどうかを確認する場合に変更した箇所が分かりづらい。さらに、複数の計算機でそれぞれ別の機能が実行されていることが多いため、複数の計算機で確認が必要となってしまう。また、変更したユーザ本人がダミーから戻し忘れる場合もある。或いは、単純に動作確認後に、初期の装置立ち上げを忘れてしまう場合もあり得る。

そして、機能がダミーになっているままで実際の描画を行なってしまう結果、機能がダミーになっていることが原因となって描画エラーやパターンエラーを発生させてしまうといった問題があった。よって、実際に必要な描画が開始されるまでに時間がかかってしまうといった問題があった。そのため、これらの無駄を無くすことが望まれている。

そこで、本発明は、かかる問題点を克服し、描画装置の機能がダミーモードか実モードかを自動的に確認する手法を提供することを目的とする。

本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画装置は、
所定のコマンドを入力する入力部と、
かかる所定のコマンドに基づいて、荷電粒子ビームを用いた描画に使用する所定の機能の状態をチェックするチェック部と、
チェックされた所定の機能の状態を出力する出力部と、
を備えたことを特徴とする。

まず、所定のコマンドを入力することで、チェック部が、かかる所定のコマンドの入力に基づいて、荷電粒子ビームを用いた描画に使用する所定の機能の状態を自動的にチェックすることができる。そして、チェック後の状態が出力されることにより、ユーザは、機能の状態を確認することができる。

また、荷電粒子ビーム描画装置は、ダミー機能により動作確認可能に構成され、
上述したチェック部は、かかる所定の機能がダミー機能にセットされているか、或いは所定の機能にセットされているかのいずれの状態かをチェックすることを特徴とする。

かかる構成により、ユーザは、所定の機能がダミー機能にセットされているか、或いは実機能にセットされているかを確認することができる。

また、荷電粒子ビーム描画装置は、さらに、複数のユニット装置を備え、
かかる複数のユニット装置は、上述したチェック部にバスを介して接続され、
かかるチェック部は、上述した所定の機能として、複数のユニット装置の各ユニット装置が制御している機能の状態をチェックすることを特徴とする。

かかる構成により複数のユニット装置でそれぞれ確認しなくてもそれぞれのユニット装置が制御している機能の状態を確認することができる。

かかる動作をコンピュータに実行させるためのプログラムにより構成するには、
所定のコマンドを入力し、所定のコマンドを記憶装置に記憶する入力処理と、
かかる記憶装置から所定のコマンドを読み出し、かかる所定のコマンドに基づいて、荷電粒子ビームを用いた描画に使用する所定の機能の状態をチェックしてチェックされた所定の機能の状態を記憶装置に記憶するチェック処理と、
チェックされた所定の機能の状態をモニタに表示する表示処理と、
を備え、
ダミー機能により動作確認可能に構成され、
チェック処理において、所定の機能がダミー機能にセットされているか、或いは所定の機能にセットされているかのいずれの状態かをチェックすればよい。

また、所定の機能は、所定のユニット装置により第２のプログラムにより実行され、
上述したチェック処理において、第２のプログラムがユニット装置で実行されているかどうかをチェックすることを特徴とする。

かかる所定の機能が所定のユニット装置によりそのユニット装置用のプログラム（第２のプログラム）により実行される場合に、チェック処理において、第２のプログラムがユニット装置で実行されているかどうかをチェックすることで、かかる所定の機能が実際に稼動しているかどうかを確認することができる。

本発明によれば、ユーザが描画装置における機能の状態を確認することができる。その結果、定期的に行なうメンテナンスや装置の制御プログラムのアップデートやデバック等の作業時或いは作業後にダミーにした機能が元に戻っているかを客先リリース前に確認することができる。よって、機能がダミーになっていることが原因となって発生する描画エラーやパターンエラーを無くす或いは抑制することができる。

以下、実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の荷電粒子を用いたビームでも構わない。

実施の形態１．
図１は、実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。
図１において、荷電粒子ビーム描画装置の一例である描画装置１００は、描画部１５０を構成する電子鏡筒１０２、描画室１０３、ＸＹステージ１０５、電子銃２０１、照明レンズ２０２、第１のアパーチャ２０３、投影レンズ２０４、偏向器２０５、第２のアパーチャ２０６、対物レンズ２０７、偏向器２０８を備え、制御系として、描画制御ユニット（ＷＣＵ：Ｗｒｉｔｉｎｇ Ｃｏｎｔｒｏｌ ｕｎｉｔ）１１０（ユニット装置の一例）、ショットデータ生成ユニット（ＳＤＧ：Ｓｈｏｔ Ｄａｔａ Ｇｅｎｅｒａｔｉｎｇ ｕｎｉｔ）１３０（ユニット装置の一例）、偏向制御回路（ＤＥＦ）１４０（ユニット装置の一例）、デジタルアナログコンバータ（ＤＡＣ）１４２、ＤＡＣ１４４、データ管理計算ユニット（ＥＳＰ：Ｅａｒｌｙ Ｓｔａｇｅ Ｐｒｅ−ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ ｕｎｉｔ）１５４（ユニット装置の一例）、ログサーバユニット（Ｌｏｇ Ｓｅｒｖｅｒ ｕｎｉｔ）１６０（ユニット装置の一例）、高速メモリユニット（ＨＳＵ：Ｈｉｇｈ−ｓｐｅｅｄ Ｓｈａｒｅｄ Ｓｔｏｒａｇｅ ｕｎｉｔ）１７０（ユニット装置の一例）、ハードディスク装置（ＤＳＵ：Ｄａｔａ Ｓｔｏｒａｇｅ Ｕｎｉｔ）１８０（ユニット装置の一例）、並列演算ユニット（ＰＰＵ：Ｐａｒａｌｌｅｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ ｕｎｉｔ）１８２（ユニット装置の一例）、ＰＰＵ１８４（ユニット装置の一例）、ＰＰＵ１８６（ユニット装置の一例）、操作端末（Ｏｐｅｒａｔｉｏｎ ｔｅｒｍｉｎａｌ）１９０、キーボード（Ｋ／Ｂ）１９２、モニタ１９４、ステージ駆動回路２１０、オートローダ２２０、ドライバ２３２、温度センサ２４２、ドライバ２３４、圧力センサ２４４を備えている。

描画制御ユニット１１０は、ＣＰＵ１２０、メモリ１２２を有している。そして、コンピュータとなるＣＰＵ１２０内では、入力部１２４、チェック部１２６、出力部１２８といった各機能を有している。ＣＰＵ１２０で演算される入力データ或いは出力データ等はメモリ１２２に記憶される。ここで、入力部１２４、チェック部１２６、出力部１２８といった各機能は、その処理がコンピュータ（ＣＰＵ１２０）により実行されるソフトウェアで構成しているが、これに限るものではなく、電気的な回路によるハードウェアにより構成しても構わない。或いは、電気的な回路によるハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、かかるハードウェアとファームウェアとの組合せでも構わない。

また、ショットデータ生成ユニット１３０は、コンピュータとなるＣＰＵ１３２を有している。データ管理計算ユニット１５４は、コンピュータとなるＣＰＵ１５２を有している。ログサーバユニット１６０は、コンピュータとなるＣＰＵ１６２を有している。また、ＰＰＵ１８２、ＰＰＵ１８４、ＰＰＵ１８６も図示していないがコンピュータとなるＣＰＵを有している。

また、描画制御ユニット１１０、ショットデータ生成ユニット１３０、データ管理計算ユニット１５４、ログサーバユニット１６０、高速メモリユニット１７０、ハードディスク装置１８０、ＰＰＵ１８２、ＰＰＵ１８４、ＰＰＵ１８６は図示していないバスを介してお互いに接続されている。描画制御ユニット１１０は操作端末１９０、オートローダ２２０、ドライバ２３２、ドライバ２３４が図示していないバスを介して接続されている。ショットデータ生成ユニット１３０には、描画制御ユニット１１０の他に、偏向制御回路１４０、高速メモリユニット１７０が図示していないバスを介して接続されている。偏向制御回路１４０には、ＤＡＣ１４２、ＤＡＣ１４４、ステージ駆動回路２１０が図示していないバスを介して接続されている。そして、ＤＡＣ１４２は、偏向器２０５に接続され、ＤＡＣ１４４は、偏向器２０８に接続されている。操作端末１９０には、Ｋ／Ｂ１９２、モニタ１９４が図示していないバスを介して接続されている。ドライバ２３２は、温度センサ２４２に接続され、ドライバ２３４は、圧力センサ２４４に接続されている。また、ハードディスク装置１８０には、客先サーバ装置３００が図示していないバスを介して接続されている。

そして、電子鏡筒１０２内には、電子銃２０１、照明レンズ２０２、第１のアパーチャ２０３、投影レンズ２０４、偏向器２０５、第２のアパーチャ２０６、対物レンズ２０７、偏向器２０８が配置されている。描画室１０３内には、ＸＹステージ１０５が配置されている。図１では、本実施の形態１を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。描画装置１００にとって、通常、必要なその他の構成が含まれることは言うまでもない。

オートローダ２２０によりＸＹステージ１０５上に試料１０１が搬送される。そして、電子銃２０１から出た荷電粒子ビームの一例となる電子ビーム２００は、照明レンズ２０２により矩形例えば長方形の穴を持つ第１のアパーチャ２０３全体を照明する。ここで、電子ビーム２００をまず矩形例えば長方形に成形する。そして、第１のアパーチャ２０３を通過した第１のアパーチャ像の電子ビーム２００は、投影レンズ２０４により第２のアパーチャ２０６上に投影される。かかる第２のアパーチャ２０６上での第１のアパーチャ像の位置は、ＤＡＣ１４２を介して偏向制御回路１４０で制御された偏向器２０５によって偏向制御され、ビーム形状と寸法を変化させることができる。そして、第２のアパーチャ２０６を通過した第２のアパーチャ像の電子ビーム２００は、対物レンズ２０７により焦点を合わせ、ＤＡＣ１４４を介して偏向制御回路１４０で制御された偏向器２０８によって偏向され、ステージ駆動回路２１０により制御された移動可能に配置されたＸＹステージ１０５上の試料１０１の所望する位置に照射される。

また、電子鏡筒１０２、描画室１０３内は、図示していない真空ポンプにより真空引きされ、大気圧よりも低い圧力に制御されている。そして、描画室１０３内の雰囲気温度は、温度センサ２４２によって測定され、圧力は、圧力センサ２４４によって測定される。

ここで、描画装置１００の制御は、描画制御ユニット１１０が中心となって行なうが、多数ある各機能の制御は、他のユニット装置が分担して、それぞれが制御している。多数ある各機能の一例として、例えば、ステージ機能、診断機能、各種のデーモンプロセス機能、描画装置１００の制御ソフトウェアによる各種の制御機能等が挙げられる。

図２は、実施の形態１における描画装置の諸機能の一例を示す図である。
図２において、データ管理計算ユニット１５４内では、特に、ＣＰＵ１５２が、ＥＳＰ機能として、描画装置１００に入力されるデータ、例えば描画データの管理を行う。そして、ハードディスク装置１８０では、描画装置１００に入力されるデータを格納する。ここでは、ＥＳＰ機能によって管理されるデータを格納する。また、ＰＰＵ１８２、ＰＰＵ１８４、ＰＰＵ１８６内では、特に、これらのユニットが有しているＣＰＵが、描画装置１００で動作するソフトウェアとなるＲＴＣ（Ｒｅａｌ Ｔｉｍｅ Ｃｈｉｐｍｅｒｇｅ）機能として、複数のチップを一つのチップにマージする。そして、ＰＰＵ１８２、ＰＰＵ１８４、ＰＰＵ１８６が有するＣＰＵが、データ変換ソフトウェアとなるコンバータ（Ｃｏｎｖｅｒｔｅｒ）機能として、描画データを描画装置１００のショットデータ生成ユニット１３０に入力可能なフォーマットに変換する。そして、コンバータ機能により変換されたデータを高速メモリユニット１７０に格納する。そして、高速メモリユニット１７０からショットデータ生成ユニット１３０に変換されたデータが送信され、ショットデータ生成ユニット１３０内では、特に、ＣＰＵ１３２が、ＳＤＧ機能として、描画装置１００のハードウェアに入力するデータ、ここではショットデータを生成する。また、ＣＰＵ１３２が、タスクスケジューラ（Ｔａｓｋ ｓｃｈｅｄｕｌｅｒ）機能として、生成されたショットデータを描画するタイミングを制御する。そして、ショットデータは、偏向制御回路１４０に送られ、ＤＡＣ１４２及びＤＡＣ１４４を介して偏向器に電圧を印加する。また、描画制御ユニット１１０内では、特に、ＣＰＵ１２０が、Ｃｏｎｔｒｏｌ、Ｗｒｉｔｅ、ｄｒａｗ、ｄｊｏｂ、ｆｏｗ、ａｌｄといった描画装置１００上で動作する互いに関連しあう各プロセス機能（ソフトウェア）を実行する。また、操作端末１９０内では、描画装置１００を操作するためのインターフェイスとなるＧＵＩ（Ｇｒａｐｈｉｃ Ｕｓｅｒ Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）機能が実行される。その他に、例えば、ＥＯＳ（診断）、ＡＬＤ（マスクの搬送を行うソフトウェアおよびハードウェア。オートローダ２２０）、ＭＡＣ（ステージ制御を行うソフトウェアおよびハードウェア）、ＲＭＳ（Ｒｅｔｉｃｌｅ Ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ Ｓｙｓｔｅｍ）、
ＴＲＵ／ＣＨＬ（ＴＲＵ、チラー。温度を制御するため恒温水を供給するシステム）といった各機能が実行される。また、後述する「ｃｈｅｃｋ．ｓｈ」機能は、ＣＰＵ１２０によって実行される。

上述したように、定期的に行なうメンテナンスや装置の制御プログラムのアップデートやデバック等により装置状態を変更した際には、動作確認試験に必要のない機能についてはダミーにして変更した内容についての動作確認を行なう。そして、動作試験後に客先に装置をリリースする際には、正常に描画装置としての各機能を発揮させる必要があるため、ダミーになっている機能をすべて元に戻さなければならないが、従来、描画装置では各機能がダミーであるかどうかの確認は手動で行なわなければならなかった。そのため、確認ミスも多く、描画装置の機能をダミーにしたまま客先にリリースしてしまう場合がある。そこで、実施の形態１では、上述した諸機能の状態を自動的にチェックして、ダミーにしたまま客先にリリースしてしまうような事態を回避する。

図３は、実施の形態１における機能状態チェック方法の要部を示すフローチャート図である。
図３において、機能状態チェック方法は、コマンド入力工程（Ｓ１０２）、チェックプログラム実行工程（Ｓ１０４）、モニタ出力工程（Ｓ１０６）といった各工程を実施する。

Ｓ（ステップ）１０２において、入力工程として、入力部１２４は、ユーザがＫ／Ｂ１９２をたたいて入力した所定のコマンドを入力し、かかる所定のコマンドを記憶装置の一例となるメモリ１２２に記憶する。ここでは、所定のコマンドとして、「ｃｈｅｃｋ．ｓｈ」（チェックドットシェル）と入力する。

Ｓ１０４において、チェックプログラム実行工程として、チェック部１２６は、メモリ１２２から先般入力されたコマンド「ｃｈｅｃｋ．ｓｈ」を読み出し、コマンドに基づいて、チェックプログラム（チェックソフトウェア）となる「ｃｈｅｃｋ．ｓｈ」機能を実行する。かかる「ｃｈｅｃｋ．ｓｈ」機能により、電子ビーム２００を用いた描画に使用する所定の機能の状態をチェックする。そしてチェックされた所定の機能の状態をメモリ１２２に記憶する。チェック部１２６は、かかる所定の機能がダミー機能にセットされているか、或いは本来の実機能となる所定の機能にセットされているかのいずれの状態かをチェックする。ここで、「ｓｈ」（シェルスクリプト）を使用してチェックプログラムを作成することにより、今後の機能チェックの追加を容易にすることができる。シェルスクリプトを使用することで、Ｃ言語などのプログラム言語と異なり、記述したプログラムを計算機が解釈可能なマシン語へ変換作業（コンパイル）を行う必要がない。そのため、新たな機能を追加する際には、新しいコマンドをファイルに記述するだけでよいので、機能の追加を容易にすることができる。

Ｓ１０６において、モニタ出力工程として、出力部１２８は、チェックされた所定の機能の状態を操作端末１９０に接続された出力部の一例となるモニタ１９４に出力（表示）する。

図４は、実施の形態１における状態チェック結果のモニタ表示例を示す図である。
図４では、各機能の状態を表示している。例えば、ダミー描画の際には、ＸＹステージ１０５を駆動させる必要がないためステージ使用無しとして設定しておくことがある。よって、ステージ使用の有無の設定がどうなっているかをチェックする必要がある。図４では、設定されているＯＮ／ＯＦＦいずれかの設定値について、ステージ使用の有無の設定状態を「Ｓｔａｇｅ ｍｏｄｅ（ｗｒｉｔｅ＿ｃｏｎｆ．ｆｉｌ）」で表示している。状態が「Ｒｅａｌ」であれば、ステージ使用有り（ＯＮ設定）、すなわち、通常描画状態を示し、状態が「Ｄｕｍｍｙ」であれば、ステージ使用無し（ＯＦＦ設定）、すなわち、ダミー描画状態を示している。

また、例えば、ダミー描画の際には、偏向制御回路１４０へデータを出力する必要がないので偏向制御回路１４０へのデータ出力無しとして設定しておくことがある。よって、偏向制御回路１４０へのデータ出力の有無の設定がどうなっているかをチェックする必要がある。図４では、設定されているＯＮ／ＯＦＦいずれかの設定値について、偏向制御回路１４０へのデータ出力の有無の設定状態を「ＤＥＦ ｍｏｄｅ（ｗｒｉｔｅ＿ｃｏｎｆ．ｆｉｌ）」で表示している。状態が「Ｒｅａｌ」であれば、偏向制御回路１４０へのデータ出力有り（ＯＮ設定）、すなわち、通常描画状態を示し、状態が「Ｄｕｍｍｙ」であれば、偏向制御回路１４０へのデータ出力無し（ＯＦＦ設定）、すなわち、ダミー描画状態を示している。

また、例えば、描画制御ユニット１１０内の機能として、「Ｗｒｉｔｅ」機能では、ＸＹステージ１０５の使用の有無を設定している。図４では、ＸＹステージ１０５の使用の有無の設定状態を「Ｗｒｉｔｅ：Ｗｒｉｔｅ ｄｅｆ＿ｒｅａｌ・・・」で表示している。状態が「ｒｅａｌ」であれば、ステージ使用有り（ＯＮ設定）、すなわち、通常描画状態を示し、状態が「ｄｕｍｍｙ」であれば、ステージ使用無し（ＯＦＦ設定）、すなわち、ダミー描画状態を示している。

また、例えば、ショットデータ生成ユニット１３０内の機能として、「ＤＥＦ ｍｏｄｅ（ＳＤＧ）」機能では、偏向制御回路１４０へのデータ出力の有無を設定している。図４では、偏向制御回路１４０へのデータ出力の有無の設定状態を「ＤＥＦ ｍｏｄｅ（ＳＤＧ）」で表示している。状態が「Ｒｅａｌ」であれば、偏向制御回路１４０へのデータ出力有り（ＯＮ設定）、すなわち、通常描画状態を示し、状態が「Ｄｕｍｍｙ」であれば、偏向制御回路１４０へのデータ出力無し（ＯＦＦ設定）、すなわち、ダミー描画状態を示している。

また、例えば、ショットデータ生成ユニット１３０内の機能として、ショットデータの回収モード（デバックモード）機能がある。かかる機能の使用の有無を設定している。図４では、ショットデータの回収モードの設定状態を「ＦＩＬＥＯＵＴ ｍｏｄｅ（ＳＤＧ）」で表示している。状態が「ＯＮ」であれば、ショットデータの回収を行なう状態を示し、状態が「ＯＦＦ」であれば、ショットデータの回収を行なわない状態、すなわち、通常描画状態を示している。

また、例えば、ＥＯＳ（診断）機能として、描画装置１００の各種のビーム調整機能がある。例えば、前調整、後調整がある。また、調整レベルとして、例えば、調整周期の異なる２つの設定がある。図４では、前調整の設定状態を「ＥＯＳ ｔｕｎｉｎｇ Ｐｒｅ−ｄｒａｗ２」で表示している。状態が「Ｒｅａｌ」であれば、前調整有り（ＯＮ設定）、すなわち、通常描画状態を示し、状態が「Ｄｕｍｍｙ」であれば、前調整無し（ＯＦＦ設定）、すなわち、ダミー描画状態を示している。また、後調整の設定状態を「ＥＯＳ ｔｕｎｉｎｇ Ｐｏｓｔ−ｄｒａｗ」で表示している。状態が「Ｒｅａｌ」であれば、後調整有り（ＯＮ設定）、すなわち、通常描画状態を示し、状態が「Ｄｕｍｍｙ」であれば、後調整無し（ＯＦＦ設定）、すなわち、ダミー描画状態を示している。また、調整レベルの１つとして、週に１回チェックする「ビーム自動調整コマンド（ｗｅｅｋｌｙ）」の設定状態を「ＥＯＳ ｔｕｎｉｎｇ Ｗｅｅｋｌｙ」で表示している。状態が「Ｒｅａｌ」であれば、週に１回チェック有り（ＯＮ設定）、すなわち、通常描画状態を示し、状態が「Ｄｕｍｍｙ」であれば、１週間に１回チェック無し（ＯＦＦ設定）、すなわち、ダミー描画状態を示している。また、調整レベルの１つとして、１日に１回チェックする「ビーム自動調整コマンド（ｄａｉｌｙ）」の設定状態を「ＥＯＳ ｔｕｎｉｎｇ Ｄａｉｌｙ」で表示している。状態が「Ｒｅａｌ」であれば、１日に１回チェック有り（ＯＮ設定）、すなわち、通常描画状態を示し、状態が「Ｄｕｍｍｙ」であれば、１日に１回チェック無し（ＯＦＦ設定）、すなわち、ダミー描画状態を示している。

また、かかる調整の実行タイミングが表示される。図４では、週に１回チェックする「ビーム自動調整コマンド（ｗｅｅｋｌｙ）」の次回実行タイミングを「ビーム自動調整コマンド（ｗｅｅｋｌｙ）」の設定状態（ＯＮ／ＯＦＦ）と共に、「Ｗｅｅｋｌｙ：ＯＮ：Ｔｈｕ Ｊｕｌ ２１・・・」と表示している。同様に、１日に１回チェックする「ビーム自動調整コマンド（ｄａｉｌｙ）」の次回実行タイミングを「ビーム自動調整コマンド（ｄａｉｌｙ）」の設定状態（ＯＮ／ＯＦＦ）と共に、「Ｄａｉｌｙ：ＯＮ：Ｆｒｉ Ｊｕｌ １５・・・」と表示している。

また、各種デーモンプロセス機能の１つとして、例えば、描画制御ユニット１１０内で実行されるデーモンプロセスソフトウェア「Ｄｉａｇ５０００」の稼動状態を「Ｄｉａｇ５０００ ｏｎ ＷＣＵ」で表示している。状態が「Ｒｕｎｎｉｎｇ」であれば、「Ｄｉａｇ５０００」ソフトウェアが稼動している状態、すなわち、通常描画状態を示している。また、ログサーバユニット１６０内で実行されるデーモンプロセスソフトウェア「Ｄｉａｇ５０００」の稼動状態を「Ｄｉａｇ５０００ ｏｎ ＬＳＵ」で表示している。状態が「Ｒｕｎｎｉｎｇ」であれば、「Ｄｉａｇ５０００」ソフトウェアが稼動している状態、すなわち、通常描画状態を示している。

図５は、実施の形態１におけるデーモンプロセスソフトウェア「Ｄｉａｇ５０００」の概要を説明するための概念図である。
図５に示すように、デーモンプロセスソフトウェア「Ｄｉａｇ５０００」は、ログサーバユニット１６０内のＣＰＵ１６２と描画制御ユニット１１０内のＣＰＵ１２０との間でやり取りされる（制御される）プログラムとなる。描画制御ユニット１１０上で動作するＤｉａｇ５０００デーモンは、ログサーバユニット１６０上で動作するＤｉａｇ５０００の指示に従い診断プログラム（後述するデーモンプロセスソフトウェア「Ｇｐｉｂｄｒｖ」）を呼び出し、温度センサ２４２で温度データの測定を行い、圧力センサ２４４で圧力データの測定を行い、これら温度や圧力等の測定結果をログサーバユニット１６０上で動作するＤｉａｇ５０００プロセスに返す。そして、ログサーバユニット１６０上で動作するＤｉａｇ５０００は定期的に描画制御ユニット１１０上で動作するＤｉａｇ５０００へ測定命令を出し、測定結果を受け取り、データベースとなるハードディスク装置１８０へその値を格納する。

また、各種デーモンプロセス機能の１つとして、例えば、ログサーバユニット１６０内で実行されるデーモンプロセスソフトウェア「データベースサーバ」の稼動状態を「ＤＢｓｅｒｖｅｒ」で表示している。状態が「Ｒｕｎｎｉｎｇ」であれば、「データベースサーバ」ソフトウェアが稼動している状態、すなわち、通常描画状態を示している。

図６は、実施の形態１におけるデーモンプロセスソフトウェア「データベースサーバ」の概要を説明するための概念図である。
図６に示すように、デーモンプロセスソフトウェア「データベースサーバ」は、ログサーバユニット１６０内のＣＰＵ１６２と描画制御ユニット１１０内のＣＰＵ１２０との間でやり取りされる（制御される）プログラムとなる。そして、デーモンプロセスソフトウェア「データベースサーバ」は、上述したＤｉａｇ５０００デーモンにおけるデータベースとなるハードディスク装置１８０へのアクセスを担うデーモンとなる。

また、各種デーモンプロセス機能の１つとして、例えば、描画制御ユニット１１０内で実行されるデーモンプロセスソフトウェア「ＧＰＩＢ通信ドライバ」の稼動状態を「ＧＰＩＢ」で表示している。状態が「Ｒｕｎｎｉｎｇ」であれば、「ＧＰＩＢ通信ドライバ」ソフトウェアが稼動している状態、すなわち、通常描画状態を示している。

図７は、実施の形態１におけるデーモンプロセスソフトウェア「ＧＰＩＢ通信ドライバ」の概要を説明するための概念図である。
図７に示すように、デーモンプロセスソフトウェア「ＧＰＩＢ通信ドライバ」は、描画制御ユニット１１０内のＣＰＵ１２０とドライバ２３２或いはドライバ２３４との間でやり取りされる（制御される）プログラムとなる。そして、デーモンプロセスソフトウェア「ＧＰＩＢ通信ドライバ」は、温度センサ２４２や圧力センサ２４４といった外部センサとの通信を行い、センサからの値を読み込むためのデーモンとなる。

また、データ管理計算ユニット１５４内で実行されるデーモンプロセスソフトウェア「描画データ管理用サーバプロセス」の稼動状態を「Ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ」で表示している。状態が「Ｒｕｎｎｉｎｇ」であれば、「描画データ管理用サーバプロセス」ソフトウェアが稼動している状態、すなわち、通常描画状態を示している。

図８は、実施の形態１におけるデーモンプロセスソフトウェア「描画データ管理用サーバプロセス」の概要を説明するための概念図である。
図８に示すように、デーモンプロセスソフトウェア「描画データ管理用サーバプロセス」は、データ管理計算ユニット１５４内のＣＰＵ１５２と描画制御ユニット１１０内のＣＰＵ１２０との間でやり取りされる（制御される）プログラムとなる。そして、デーモンプロセスソフトウェア「描画データ管理用サーバプロセス」は、描画装置１００に入力されるデータの登録、削除などデータにアクセスするために使用されるデーモンとなる。

図９は、実施の形態１におけるデーモンプロセスソフトウェア「ＧＵＩ＿Ｓｅｒｖｅｒ」の概要を説明するための概念図である。
図９に示すように、デーモンプロセスソフトウェア「ＧＵＩ＿Ｓｅｒｖｅｒ」は、描画制御ユニット１１０内のＣＰＵ１２０と操作端末１９０の間でやり取りされる（制御される）プログラムとなる。そして、デーモンプロセスソフトウェア「ＧＵＩ＿Ｓｅｒｖｅｒ」は、他の制御ソフトプロセスとデータをやり取りし、描画装置１００を操作する画面の更新を行うデーモンとなる。かかるデーモンプロセスソフトウェア「ＧＵＩ＿Ｓｅｒｖｅｒ」についても図４では図示されていないが、状態が「Ｒｕｎｎｉｎｇ」であれば、「ＧＵＩ＿Ｓｅｒｖｅｒ」ソフトウェアが稼動している状態、すなわち、通常描画状態を示すことになる。

図１０は、実施の形態１におけるデーモンプロセスソフトウェア「ＷＥＢアプリケーションサーバ」の概要を説明するための概念図である。
図１０に示すように、デーモンプロセスソフトウェア「ＷＥＢアプリケーションサーバ」は、ログサーバユニット１６０内のＣＰＵ１６２とインターネット等を介して接続される所定の計算機３１０との間でやり取りされる（制御される）プログラムとなる。デーモンプロセスソフトウェア「ＷＥＢアプリケーションサーバ」は、サーバ側でサーブレットやＪＳＰ等のＪａｖａ（登録商標）プログラムを実行させるＷｅｂアプリケーションサーバとしての機能となる。かかるデーモンプロセスソフトウェア「ＷＥＢアプリケーションサーバ」についても図４では図示されていないが、状態が「Ｒｕｎｎｉｎｇ」であれば、「ＷＥＢアプリケーションサーバ」ソフトウェアが稼動している状態、すなわち、通常描画状態を示すことになる。

図１１は、実施の形態１におけるデーモンプロセスソフトウェア「データ転送用デーモンプロセス」の概要を説明するための概念図である。
図１１に示すように、デーモンプロセスソフトウェア「データ転送用デーモンプロセス」は、描画制御ユニット１１０内のＣＰＵ１２０とコンピュータとなるＰＰＵ１８２やＰＰＵ１８４やＰＰＵ１８６との間でやり取りされる（制御される）プログラムとなる。デーモンプロセスソフトウェア「データ転送用デーモンプロセス」は、高速メモリユニット１７０への描画データ転送を担うプログラムとなる。かかるデーモンプロセスソフトウェア「データ転送用デーモンプロセス」についても図４では図示されていないが、状態が「Ｒｕｎｎｉｎｇ」であれば、「データ転送用デーモンプロセス」ソフトウェアが稼動している状態、すなわち、通常描画状態を示すことになる。

また、図４では、その他に、デーモンプロセスソフトウェア「計算機間通信用デーモンプロセス」の稼動状態を「Ｔｒａｎｓ」で表示している。状態が「Ｒｕｎｎｉｎｇ」であれば、「計算機間通信用デーモンプロセス」ソフトウェアが稼動している状態、すなわち、通常描画状態を示している。

図１２は、実施の形態１における装置制御ソフトウェアの概要を説明するための概念図である。
装置制御ソフトウェアの各種の実プロセス機能は、図２に示したように、描画制御ユニット１１０内で動作している。そして、装置制御ソフトウェアの機能として、描画制御ユニット１１０内のＣＰＵ１２０は、ユーザが操作する操作端末１９０から描画ＪＯＢの登録、ＪＯＢ開始、ＪＯＢ削除、描画中止といった指示信号が入力される。そして、描画制御ユニット１１０内のＣＰＵ１２０は、ユーザが操作する操作端末１９０へと現在の描画装置１００のステータス信号を出力し、モニタ１９４に表示させる。また、ＣＰＵ１２０は、データ管理計算ユニット１５４内のＣＰＵ１５２へとデータの転送や削除を指示する。また、ＣＰＵ１２０は、ハードウェアとなる描画部１５０へとマスク等の試料１０１の搬送、描画の開始、調整の実行等を指示する。また、ＣＰＵ１２０は、ログサーバユニット１６０内のＣＰＵ１６２から描画パラメータを取得し、ＣＰＵ１６２へと描画結果を出力し、ハードディスク装置１８０へ登録させる。

以上のように、上述した複数のユニット装置は、チェック部１２６にバスを介して接続され、チェック部１２６は、複数のユニット装置の各ユニット装置が制御している機能の状態をチェックする。特に、かかる各ユニット装置が制御している機能プログラム（第２のプログラム）の稼動状態をチェックする。

ここで、チェック部１２６は、設定状態、すなわち、ＯＮ／ＯＦＦといった設定値については、格納されたハードディスク装置１８０や図示していない各ユニット内のハードディスク装置等からその設定値を読み出すことでチェックすることができる。また、各ユニット装置のＣＰＵで実行されるプログラムの稼動状態については、図示していない各ユニットの内部メモリにプログラムの起動有無を確認しにいくことでチェックすることができる。

以上のように、各種機能の状態を「Ｒｅａｌ」或いは「Ｄｕｍｍｙ」、「ＯＮ」或いは「ＯＦＦ」、「Ｒｕｎｎｉｎｇ」といった状態表示を行なうことで、多数ある各種機能の状態をユーザは目視で確認することができる。そして、ユーザは実描画が可能か否かを判断することができる。また、ダミーモードになっている機能については、手直しすることができる。また、デーモンプロセスや装置制御ソフトウェアは、上述したように複数の計算機（ＣＰＵ）上で動作する場合も多い。かかる複数のユニットに跨って動作するプログラムの稼動状態は特に確認することが困難となるが、実施の形態１におけるチェックプログラムにより自動的にチェックしてその結果をユーザは得ることができる。その結果、定期的に行なうメンテナンスや装置の制御プログラムのアップデートやデバック等の作業時或いは作業後にダミーにした機能が元に戻っているかを客先リリース前に確認することができる。よって、機能がダミーになっていることが原因となって発生する描画エラーやパターンエラーを無くす或いは抑制することができる。

実施の形態２．
実施の形態２における描画装置１００の構成は、図１と同様で構わないため説明を省略する。以下、チェックプログラムの動作において実施の形態１と異なる部分について説明する。説明しない部分については、実施の形態１と同様である。

図１３は、実施の形態２における機能状態チェック方法の要部を示すフローチャート図である。
図１３において、機能状態チェック方法は、コマンド入力工程（Ｓ１０２）、チェックプログラム実行工程（Ｓ１０４）、ＲＥＡＬモード判定工程（Ｓ２０２）、モニタ出力工程（Ｓ２０６）といった各工程を実施する。

Ｓ（ステップ）１０２において、入力工程として、入力部１２４は、実施の形態１と同様、所定のコマンドを入力し、かかる所定のコマンドを記憶装置の一例となるメモリ１２２に記憶する。ここでは、所定のコマンドとして、「ｃｈｅｃｋ．ｓｈ」（チェックドットシェル）と入力する。

Ｓ１０４において、チェックプログラム実行工程として、チェック部１２６は、実施の形態１と同様、メモリ１２２から先般入力されたコマンド「ｃｈｅｃｋ．ｓｈ」を読み出し、コマンドに基づいて、チェックプログラム（チェックソフトウェア）となる「ｃｈｅｃｋ．ｓｈ」機能を実行する。

Ｓ２０２において、実施の形態２では、ここで、ＲＥＡＬモード判定工程として、チェック部１２６は、チェックした全ての機能が「Ｒｅａｌ」状態、すなわち、通常描画状態になっているかどうかを判定する。全ての機能が「Ｒｅａｌ」状態である場合には正常終了する。

Ｓ２０６において、モニタ出力工程として、出力部１２８は、チェックされた結果、チェックした全ての機能が「Ｒｅａｌ」状態になっていない場合に、かかる「Ｒｅａｌ」状態になっていない機能について操作端末１９０に接続された出力部の一例となるモニタ１９４にエラー出力（表示）する。

以上のように、エラー状態の機能がある場合だけ、モニタに出力することで、ユーザは、全ての機能の状態を目視する手間を省くことができる。そして、ユーザは実描画が可能か否かを判断することができる。また、ダミーモードになっている機能については、手直しすればよい。

実施の形態３．
実施の形態３における描画装置１００の構成は、図１と同様で構わないため説明を省略する。以下、チェックプログラムの動作において実施の形態１と異なる部分について説明する。説明しない部分については、実施の形態１と同様である。

図１４は、実施の形態２における機能状態チェック方法の要部を示すフローチャート図である。
図１４において、機能状態チェック方法は、コマンド入力工程（Ｓ１０２）、チェックプログラム実行工程（Ｓ１０４）、ＲＥＡＬモード判定工程（Ｓ２０２）、機能修復工程（Ｓ２０４）、モニタ出力工程（Ｓ２０５）といった各工程を実施する。

Ｓ（ステップ）１０２において、入力工程として、入力部１２４は、実施の形態１と同様、所定のコマンドを入力し、かかる所定のコマンドを記憶装置の一例となるメモリ１２２に記憶する。ここでは、所定のコマンドとして、「ｃｈｅｃｋ．ｓｈ」（チェックドットシェル）と入力する。

Ｓ１０４において、チェックプログラム実行工程として、チェック部１２６は、実施の形態１と同様、メモリ１２２から先般入力されたコマンド「ｃｈｅｃｋ．ｓｈ」を読み出し、コマンドに基づいて、チェックプログラム（チェックソフトウェア）となる「ｃｈｅｃｋ．ｓｈ」機能を実行する。

Ｓ２０２において、実施の形態２では、ここで、ＲＥＡＬモード判定工程として、チェック部１２６は、チェックした全ての機能が「Ｒｅａｌ」状態、すなわち、通常描画状態になっているかどうかを判定する。全ての機能が「Ｒｅａｌ」状態である場合には正常終了する。

Ｓ２０４において、機能修復工程として、ＣＰＵ１２０は、チェックされた結果、チェックした全ての機能が「Ｒｅａｌ」状態になっていない場合に、かかる「Ｒｅａｌ」状態になっていない機能について「Ｒｅａｌ」状態に自動修復する。

Ｓ２０５において、モニタ出力工程として、出力部１２８は、チェックされた結果、チェックした全ての機能が「Ｒｅａｌ」状態になっていない場合に、かかる「Ｒｅａｌ」状態になっていない機能について自動修復した結果を操作端末１９０に接続された出力部の一例となるモニタ１９４に出力（表示）する。

以上のように、エラー状態の機能がある場合、さらに、自動修復機能を持たせ、自動修復し、その結果をモニタに出力することで、ユーザは、ダミーモードになっている機能についての手直しの手間も省くことができる。

以上の説明において、「〜部」或いは「〜工程」と記載したものの処理内容或いは動作内容は、コンピュータで動作可能なプログラムにより構成することができる。或いは、ソフトウェアとなるプログラムだけではなく、ハードウェアとソフトウェアとの組み合わせにより実施させても構わない。或いは、ファームウェアとの組み合わせでも構わない。また、プログラムにより構成される場合、プログラムは、図示していない磁気ディスク装置、磁気テープ装置、ＦＤ、或いはＲＯＭ（リードオンリメモリ）等の記録媒体に記録される。例えば、メモリ１２２に記録される。

また、図１において、コンピュータとなる各ＣＰＵは、さらに、図示していないバスを介して、記憶装置の一例となるＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）、ＲＯＭ、磁気ディスク（ＨＤ）装置、入力手段の一例となるキーボード（Ｋ／Ｂ）、マウス、出力手段の一例となるモニタ、プリンタ、或いは、入力出力手段の一例となる外部インターフェイス（Ｉ／Ｆ）、ＦＤ、ＤＶＤ、ＣＤ等に接続されていても構わない。

以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。各実施の形態では、チェック結果をモニタ１９４に表示しているがこれに限るものではなく、紙等の媒体への出力でも構わない。

また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、描画装置１００を制御する制御部構成については、記載を省略したが、必要とされる制御部構成を適宜選択して用いることは言うまでもない。

その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全ての荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法及びプログラムは、本発明の範囲に包含される。

実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。 実施の形態１における描画装置の諸機能の一例を示す図である。 実施の形態１における機能状態チェック方法の要部を示すフローチャート図である。 実施の形態１における状態チェック結果のモニタ表示例を示す図である。 実施の形態１におけるデーモンプロセスソフトウェア「Ｄｉａｇ５０００」の概要を説明するための概念図である。 実施の形態１におけるデーモンプロセスソフトウェア「ＰｏｓｔｇｒｅＳＱＬ」の概要を説明するための概念図である。 実施の形態１におけるデーモンプロセスソフトウェア「Ｇｐｉｂｄｒｖ」の概要を説明するための概念図である。 実施の形態１におけるデーモンプロセスソフトウェア「Ｅｓｐ＿Ｓｅｒｖｅｒ」の概要を説明するための概念図である。 実施の形態１におけるデーモンプロセスソフトウェア「ＧＵＩ＿Ｓｅｒｖｅｒ」の概要を説明するための概念図である。 実施の形態１におけるデーモンプロセスソフトウェア「ＧＵＩ＿Ｓｅｒｖｅｒ」の概要を説明するための概念図である。 実施の形態１におけるデーモンプロセスソフトウェア「ＧＳＡ」の概要を説明するための概念図である。 実施の形態１における装置制御ソフトウェアの概要を説明するための概念図である。 実施の形態２における機能状態チェック方法の要部を示すフローチャート図である。 実施の形態２における機能状態チェック方法の要部を示すフローチャート図である。 従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。

符号の説明

１００ 描画装置
１０１，３４０ 試料
１０２ 電子鏡筒
１０３ 描画室
１０５ ＸＹステージ
１１０ 描画制御ユニット
１２０，１３２，１５２，１６２ ＣＰＵ
１２２ メモリ
１３０ ショットデータ生成ユニット
１４０ 偏向制御回路
１４２，１４４ ＤＡＣ
１５０ 描画部
１５４ データ管理計算ユニット
１６０ ログサーバユニット
１７０ 高速メモリユニット
１８０ ハードディスク装置
１８２，１８４，１８６ ＰＰＵ
１９０ 操作端末
１９２ Ｋ／Ｂ
１９４ モニタ
２００ 電子ビーム
２０１ 電子銃
２０２ 照明レンズ
２０３，４１０ 第１のアパーチャ
２０４ 投影レンズ
２０５，２０８ 偏向器
２０６，４２０ 第２のアパーチャ
２０７ 対物レンズ
２１０ ステージ駆動回路
２２０ オートローダ
２３２，２３４ ドライバ
２４２ 温度センサ
２４４ 圧力センサ
３００ 客先サーバ装置
３３０ 電子線
４１１ 開口
４２１ 可変成形開口
４３０ 荷電粒子ソース

Claims (4)

1. 所定のコマンドを入力する入力部と、
   前記所定のコマンドに基づいて、荷電粒子ビームを用いた描画に使用する所定の機能の状態をチェックするチェック部と、
   チェックされた前記所定の機能の状態を出力する出力部と、
   を備えた荷電粒子ビーム描画装置であって、
   荷電粒子ビーム描画装置は、ダミー機能により動作確認可能に構成され、
   前記チェック部は、前記所定の機能が前記ダミー機能にセットされているか、或いは前記所定の機能にセットされているかのいずれの状態かをチェックすることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
2. 前記荷電粒子ビーム描画装置は、さらに、複数のユニット装置を備え、
   前記複数のユニット装置は、前記チェック部にバスを介して接続され、
   前記チェック部は、前記所定の機能として、前記複数のユニット装置の各ユニット装置が制御している機能の状態をチェックすることを特徴とする請求項１記載の荷電粒子ビーム描画装置。
3. 所定のコマンドを入力し、前記所定のコマンドを記憶装置に記憶する入力処理と、
   前記記憶装置から前記所定のコマンドを読み出し、前記所定のコマンドに基づいて、荷電粒子ビームを用いた描画に使用する所定の機能の状態をチェックしてチェックされた前記所定の機能の状態を記憶装置に記憶するチェック処理と、
   チェックされた前記所定の機能の状態をモニタに表示する表示処理と、
   をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
   ダミー機能により動作確認可能に構成され、
   前記チェック処理において、前記所定の機能が前記ダミー機能にセットされているか、或いは前記所定の機能にセットされているかのいずれの状態かをチェックすることを特徴とするプログラム。
4. 前記所定の機能は、所定のユニット装置により第２のプログラムにより実行され、
   前記チェック処理において、前記第２のプログラムが前記所定のユニット装置で実行されているかどうかをチェックすることを特徴とする請求項３記載のプログラム。