JP4851253B2 - 描画装置、及び描画装置におけるエラー検出方法 - Google Patents
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- ビームを偏向させて試料上に所望のパターンを描画する描画装置において、
前記ビームを偏向させる偏向器を含むビーム光学系と、
前記偏向器を駆動する駆動部と、
描画したいパターンを示す描画データに基づいて前記駆動部を制御するための制御データを発生させるデータ発生回路と、
前記制御データを処理して前記駆動部に出力するデータ処理回路と
を備え、
前記データ処理回路は、
入力された制御データを格納するためのメモリと、
前記試料に実際に描画されたパターンの欠陥を欠陥検査機で検査した結果としての欠陥データに基づき欠陥の生じている位置を特定しその位置を含む周囲領域に関する前記制御データを選択的に前記メモリに格納させる制御部と
を備え、
前記データ発生回路は、前記制御データとして、前記描画データを複数に分割してなる分割領域の1つに前記ビームを偏向させるための主偏向データと、前記複数の分割領域の中で、更に前記ビームを偏向させ照射するための副偏向データとを発生させ、
前記制御部は、前記主偏向データが示す位置と、前記周囲領域とを比較して、前記周囲領域に含まれる主偏向データと、これに対応する副偏向データとを前記制御データとして前記メモリに格納させる
ことを特徴とする描画装置。 - 前記制御部は、前記周囲領域に含まれない主偏向データと、これに対応する前記副偏向データの前記メモリへの格納を禁止することを特徴とする請求項1記載の描画装置。
- 前記周囲領域は、複数行複数列の前記分割領域を含む大きさを有する請求項1記載の描画装置。
- 描画装置のエラーを検出するエラー検出方法において、
前記描画装置を用いて描画された試料の欠陥を欠陥検査機により検査した結果としての欠陥データを入力するステップと、
前記欠陥データから、前記欠陥の位置を特定するステップと、
前記描画装置において、前記試料の描画に用いた描画データに基づいて前記描画装置を制御するための制御データを発生させるステップと、
発生された前記制御データのうち、特定された前記欠陥の位置を含む周囲領域に関するものを選択的にメモリに記憶させるステップと
を備え、
前記制御データを発生させるステップで発生される制御データは、前記描画データを複数に分割してなる分割領域の1つに前記ビームを偏向させるための主偏向データと、前記複数の分割領域の中で、更に前記ビームを偏向させ照射するための副偏向データとを含み、
前記記憶させるステップは、前記主偏向データが示す位置と、前記周囲領域とを比較して、前記周囲領域に含まれる主偏向データと、これに対応する前記副偏向データとを前記制御データとして前記メモリに格納させる
ことを特徴とする描画装置のエラー検出方法。 - 前記記憶させるステップでは、前記周囲領域に含まれない主偏向データと、これに対応する副偏向データの前記メモリへの格納が禁止されることを特徴とする請求項4記載の描画装置のエラー検出方法。
- 前記周囲領域は、複数行複数列の前記分割領域を含む大きさを有する請求項4記載の描画装置のエラー検出方法。
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