JPH0442915A

JPH0442915A - パターン描画方法

Info

Publication number: JPH0442915A
Application number: JP14836490A
Authority: JP
Inventors: Toshihiro Asari; 浅利　敏弘
Original assignee: Jeol Ltd
Current assignee: Jeol Ltd
Priority date: 1990-06-06
Filing date: 1990-06-06
Publication date: 1992-02-13

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、電子ビームやイオンビームによるパターン描
画に使用ｊ７て好適なパターン描画方法に関する。

（従来技術）従来、電子ビーム描画装置を用いてＩＣメモリなどを作
成する場合、メモリーの配線部となるベースパターンの
描画と、メモリーのソフトウェア情報となるパターンと
を別々に分けて描画を行っている。メモリーのソフトウ
ェア情報は、同形状のセルと呼ばれるパターンの繰り返
【２である。

このようなパターンの描画は、描画領域をマトリックス
状の区画に仮想的に分割し、区画に繰り返１７描画され
るべき基準パターン（以トセルバタンという）情報と、
各区画に対応したピッ！・情報（０あるいは１）とに基
づいて行っている。第５図（ａ）は、ＩＣメモリーのソ
フトウェア情報を示（〜でおり、矩形状のセルパターン
Ｐｓが繰り返し出現している。このような情報の描画に
当っては、まず、セルパターンの形状に関する情報を記
憶しておくと共に、更に、描画領域を仮想的に単位区画
に分割１２、全体のセルパターンに関する情報を第５図
（ｂ）に示すように各区画ごとに１が０のビット情報と
する。そして、描画に際しては、描画領域を第５図（ａ
）の点線で示すようにフィールド分割し、各フィールド
毎に電子ビームをセルの間隔だけ偏向移動させ、その都
度、ビット情報が１のときには電子ビームのブランキン
グを解除して電子ビームを材料に照射して所望形状の描
画を行い、ビット情報が０のときには電子ビームをブラ
ンキングして材料への電子ビームの照射をストップし、
描画を行わない。このようにしてセルパターンを描画す
ることにより、パターンを描画するためのデータ量を極
めて少なくすることができる。

（発明が解決しようとする課題）上記した描画方法では、例えば、第６図（ａ）に示すよ
うに、セルパターンＰｓが隣接するフィールドに跨がっ
て存在する場合、フィールドＦ。

での描画の際、フィールドＦ０から外れた斜線で示した
部分の描画処理が困難となる欠点を有している。また、
ベースパターンとセルパターンとの描画は、例えば、最
初にベースパターンを全て描画し、その後、セルパター
ンの描画を行うようにしているので、全描画領域の描画
のために、ステージを２回移動させねばならず、ステー
ジ移動に時間が掛かる。更に、セルパターンとベースパ
ターンの重ね合せ精度が悪くなる欠点を有する。

本発明は、上述した点に鑑みてなされたもので、その目
的は、セルパターンの描画処理を簡単に行うことができ
るパターン描画方法を実現するにある。

（課題を解決するための手段）本発明に基づくパターン描画方法は、描画領域をマトリ
ックス状の単位区画に仮想的に分割し、その区画に繰り
返し描画される基準パターンの形状に関する情報と、各
区画に対応した０と１とのビット情報とに基づいて、ビ
ット情報が１の区画に基準パターンを描画するようにし
たパターン描画方法において、描画領域のフィールド分
割をフィールドの端部が基準パターンの中心を通るよう
に行い、更に、パターンの形状情報を４分割して記憶す
ると共に、ビット情報をフィールド展開するに際して、
ビット情報を分割された４つの基準パターン情報に対応
した情報に変換することを特徴としている。

（作用）描画領域のフィールド分割をフィールドの端部が基準パ
ターンの中心を通るように行い、更に、パターンの形状
情報を４分割して記憶すると共に、ビット情報をフィー
ルド展開するに際して、ビット情報を分割された４つの
基準パターン情報に対応した情報に変換する。

（実施例）以下、第１図を参照して本発明の実施例を詳細に説明す
る。第１図は本発明に基づくパターン描画方法を実施す
る電子ビーム描画システムの一例を示しており、１は制
御コンピュータである。制御コンピュータ１は、描画デ
ータが記憶された磁気テープや磁気ディスクなどのメモ
リー２からのデータに基づき、ビットマツプデータの発
生や後述する描画装置本体の制御を行う。３は制御コン
ピュータ１からのビットマツプデータを記憶するメモリ
ーユニット、４はセルのライブラリーデータをＡ、　　
Ｂ、　　Ｃ，Ｄの４つのエリアに分割して記憶するメモ
リーユニットである。５はセル座標指定ユニットで、メ
モリーユニット３に記憶されたビットマツプデータに基
づき、セルの中心がフィールドのどの位置になるかを求
めている。６はライブラリーセレクトユニットで、フィ
ールド内でセルが指定された場合、その指定されたセル
がフィールドのどの位置にあるかでメモリーユニット４
から特定のパターンライブラリーをセレクトする。７は
描画パターン発生ユニットで、ライブラリーセレクトユ
ニット６からセルパターンが送られると共に、セル座標
指定ユニット５からそのセルのフィールド内の中心座標
データが送られ、それらのデータに基づいて描画パター
ンデータを発生する。描画パターン発生ユニット７で作
成された描画データに基づいて、描画装置本体８が制御
され、所望の描画が行われる。

上述した構成での動作を次に説明する。まず、第４図（
ａ）に示したセルパターンを描画する場合、メモリー２
には、第５図（１））に示した０と１の情報を含むビッ
トマツプデータが記憶されている。このビットマツプデ
ータは、制御コンピュータ１によってフィールド分割さ
せられるか、このフィールド分割に当たっては、第２図
にセルパターンに重ねて示されている点線のように、セ
ルパターンＰｓの中心をフィールド境界が通るようにさ
れる。次に、単一のセルパターンＰＳのブタは、第３図
に示すように、均等に４つの小セルパターンＡ、　　Ｂ
、　　Ｃ，Ｄに分割させられ、各４つの小セルパターン
Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄの分割データは、メモリユニット４に記
憶される。また、これらの４つの小セルパターンＡ、Ｂ
、Ｃ，Ｄのデータは、夫々次の数に対応付けられる。

Ａ・・・１　（０００１）Ｂ・・・２（００１０）Ｃ・・・４（０１００）Ｄ・・・８　（１０００）一方、ビットマツプデータをフィールド分割するに際し
、フィールド内に含まれる各小セルの中心座標がビット
マツプデータから求められ、その中心座標はビットマツ
プセル座標指定ユニット５から発生させられる。また、
フィールドに含まれる小セルが、Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄのどの
小セルパターンか、あるいは、どの小セルパターンの組
み合わせかをライブラリー上１ノクトユニツ］・６が選
択する。例えば、第４図（ａ）に示すように、点線によ
って囲まれたフィールド内のセルパターンは、第４図（
ｂ）に示す数と１〜で表され、この数に基づいてメモリ
ーユニット４から小セルパターンのデータがコールされ
る。すなわち、このフィールド内の左上の小セルは、８
　（１０００）であるので、小セルパターンＤ　（１０
００）かセレクトされる。また、その隣の小セルは１２
（１１００）であるので、Ｃ（０１００）とＤ　（１０
００）がセレクトされ、データが組み合わされてセルパ
ターンデータとされる。また、中心部のセルは数が１５
（１１，１１）なので、Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ全ての小セルパ
ターンデータがセレクトされて組み合わされる。同様に
（−で、例えば、右下の数が１（０Ｏ０１）の小セルは
、Ａ　（０００１）かセレクトされる。

座標指定ユニット５からの小セル座標のデータと、ライ
ブラリーセレクトユニット６からの小セルパターンのデ
ータとは、描画パターン発生ユニノｈ７に供給される。

描画パターン発生ユニット７は、供給された各データに
基づいて、フィールド内の描画パターンデータを発生し
、このデータに基づいて描画装置本体の偏向系なとの制
御か行われ、所望のパターンの描画が行われろ。このよ
うな描画により、第６図（ａ）に示したセルパターン、
第６図（ｂ）に示すように、４つの小セルパターンとし
、て分割して描画されるため、描画フィールドから外れ
た部分（第６図Ｃａ）の斜線部分）が生じることがなく
なり、各フィールドの描画動作時に、パターンデータ分
割などの面倒な処理を行う必要がなくなる。なお、描画
パターン発生ユニット７には、制御コンビコータ１がら
ベスパターンの描画データも供給されており、フィール
ド内の全ての描画パターンがユニット７によって発生さ
れる。従って、各フィールド中位でセルパターンとベー
スパターンとの両者の描画が同時に行われ、材料ステー
ジの移動は１回行われるのみて全ての描画か終了するの
で、描画時間を著しく短縮することかできる。また、セ
ルバタンとベースパターンの描画を同一フィールド単位
で行うので、両パターンの重ね合せ精度を高めることが
できる。

以上本発明の一実施例を説明したが、本発明はこの実施
例に限定されない。例えば、本発明は、電子ビーノ、描
画のみならず、イオ〉ビームによる描画にも適用するこ
とができる。また、セルパターンのみをライブラリー化
して描画を行、ったが、ベースパターンもフィールド単
位でライグラ１ノ化］２、セルパターンの描画とベース
バター〉の描画の繰り返しをマツプユニット中位で行う
ことも可能である。また、描画データを描画パターン発
生ユニット７てハード的に展開しノーが、ソフトウェア
で展開させ丁も良い。

（発明の効果）以上、詳細に説明したように、本発明では、描画領域の
フィールド分割をフィールドの端部が基準パターンの中
心を通るように行い、更に、パターンの形状情報を４分
割して記憶すると共に、ビット情報をフィールド展開す
るに際して、ビット情報を分割された４つの基準パター
ン情報に対応した情報に変換するようにしたので、特定
のフィールド内の描画を行う際に、そのフィールドと他
のフィールドに跨がったパターンデータがなくなるため
、描画の途中で複数のフィールドに跨がったパターンデ
ータの分割処理などを行う必要がなくなり、スムーズに
パターンの描画を行うことかできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に基づく方法を実施するための電子ビ
ーム描画システムを示す図、第２図は、本発明に基づくフィールド分割を説明するた
めの図、第３図は、単位セルパターンの４分割を示す図、第４図
は、マツプデータから小セルパターンのライブラリーセ
レクトの様子を説明するための図、第５図は、セルパタ
ーンとビットマツプを示す図、第６図は、セルパターンとフィールドとの関係を示す図
である。１・・・コンピュータ　　　２・・・メモリー３．４・
・・メモリーユニット５・・・座標指定ユニット６・・・ライブラリーセレクトユニット７・・・描画パ
ターン発生ユニット８・・・描画装置本体

Claims

【特許請求の範囲】

　描画領域をマトリックス状の単位区画に仮想的に分割
し、その区画に繰り返し描画される基準パターンの形状
に関する情報と、各区画に対応した０と１とのビット情
報とに基づいて、ビット情報が１の区画に基準パターン
を描画するようにしたパターン描画方法において、描画
領域のフィールド分割をフィールドの端部が基準パター
ンの中心を通るように行い、更に、パターンの形状情報
を４分割して記憶すると共に、ビット情報をフィールド
展開するに際して、ビット情報を分割された４つの基準
パターン情報に対応した情報に変換することを特徴とす
るパターン描画方法。