JP7422263B1 - 露光装置および露光方法 - Google Patents
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Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
30 DMD
60 ラスタ変換部
70 抽出部
80 露光部
Claims (8)
- 光変調素子アレイの露光エリアが相対移動する走査バンド領域に対し、ベクタデータ分割のため露光エリア相対移動方向に沿って連なるように定められた単位領域に合わせて、ベクタデータを分割し、分割ベクタデータを生成する分割ベクタデータ生成部と、
前記分割ベクタデータを、各々、ラスタデータに変換するラスタデータ変換部と、
分割ベクタデータごとに生成されるラスタデータを格納可能なラスタメモリと、
前記光変調素子アレイの露光エリアの相対位置に応じて、前記ラスタメモリに格納された前記ラスタデータの中から、各光変調素子に対応する画素データを抽出し、描画ラスタデータを生成するラスタデータ抽出部と、
生成した前記描画ラスタデータに基づいて、各光変調素子を駆動制御する露光部とを備え、
前記単位領域が、前記光変調素子アレイの露光エリアよりも小さい領域であって、
前記ラスタデータ変換部と、前記ラスタデータ抽出部とが、互いに独立して処理を実行し、
前記ラスタデータ変換部が、前記ラスタメモリの空き状態に応じて、前記ラスタデータに変換することを特徴とする露光装置。 - 前記ラスタメモリに格納されたラスタデータが、分割ベクタデータごとに変換されたラスタデータを統合させたイメージデータとして構成されることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記ラスタメモリのメモリ領域が、前記走査バンド領域における、前記光変調素子アレイの露光エリアよりも大きい領域に相当するメモリ領域であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記ラスタデータ変換部が、光変調素子の投影領域よりもサイズの小さいセル単位で構成される細分ラスタデータに、変換することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 光変調素子アレイの露光エリアが相対移動する走査バンド領域に対し、ベクタデータ分割のため露光エリア相対移動方向に沿って連なるように定められた単位領域に合わせて、ベクタデータを分割し、分割ベクタデータを生成する分割ベクタデータ生成部と、
前記分割ベクタデータを、各々、光変調素子の投影領域よりもサイズの小さいセル単位で構成される細分ラスタデータに変換するラスタデータ変換部と、
分割ベクタデータごとに生成される細分ラスタデータを格納可能なラスタメモリと、
前記光変調素子アレイの露光エリアの相対位置に応じて、前記ラスタメモリに格納された前記細分ラスタデータの中から、各光変調素子に対応する画素データを抽出し、描画ラスタデータを生成するラスタデータ抽出部と、
生成した前記描画ラスタデータに基づいて、各光変調素子を駆動制御する露光部とを備え、
前記単位領域が、前記光変調素子アレイの露光エリアよりも小さい領域であって、
前記ラスタデータ変換部と、前記ラスタデータ抽出部とが、互いに独立して処理を実行し、
前記ラスタデータ変換部が、前記ラスタメモリの空き状態に応じて、前記細分ラスタデータに変換し、
前記ラスタデータ抽出部が、多重露光動作の露光ピッチに応じて、前記描画ラスタデータを生成することを特徴とする露光装置。 - 露光装置に設けられた光変調素子アレイの露光エリアが相対移動する走査バンド領域に対し、ベクタデータ分割のため露光エリア相対移動方向に沿って連なるように定められた単位領域に合わせて、ベクタデータを分割し、
ベクタデータ分割によって生成された分割ベクタデータを、各々、ラスタデータに変換し、
分割ベクタデータごとに生成されるラスタデータを、ラスタメモリに格納し、
前記光変調素子アレイの露光エリアの相対位置に応じて、前記ラスタメモリに格納された前記ラスタデータの中から、各光変調素子に対応する画素データを抽出して、描画ラスタデータを生成し、
生成した前記描画ラスタデータに基づいて、各光変調素子を駆動制御する露光方法であって、
前記単位領域が、前記光変調素子アレイの露光エリアよりも小さい領域であって、
前記ラスタデータへの変換処理と、前記描画ラスタデータの生成処理とを、それぞれ独立して行い、
前記ラスタメモリの空き状態に応じて、前記ラスタデータに変換することを特徴とする露光方法。 - 前記分割ベクタデータを、各々、光変調素子の投影領域よりもサイズの小さいセル単位で構成される細分ラスタデータに変換することを特徴とすることを特徴とする請求項6に記載の露光方法。
- 多重露光動作の露光ピッチに応じて、前記描画ラスタデータを生成することを特徴とする請求項6に記載の露光方法。
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JP2005332987A (ja) | 2004-05-20 | 2005-12-02 | Pentax Corp | 描画システム |
JP2009157168A (ja) | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Orc Mfg Co Ltd | 描画装置および描画方法 |
JP2011164268A (ja) | 2010-02-08 | 2011-08-25 | Orc Manufacturing Co Ltd | 露光装置 |
JP2014056167A (ja) | 2012-09-13 | 2014-03-27 | Hitachi High-Technologies Corp | パターニング装置、パターニング方法及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP5881313B2 (ja) | 2011-05-30 | 2016-03-09 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
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- 2023-08-24 JP JP2023136209A patent/JP7422263B1/ja active Active
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