JP2009157168A - 描画装置および描画方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】DMDにおいて6つの部分変調領域D1〜D6を規定し、1つの部分変調領域の幅に応じた露光ピッチRSに従ってステップ&リピートによる多重露光動作を行う。各露光動作において、ラスタデータ(描画データ)に基づきマイクロミラーを制御する露光ON領域MON、部分変調領域のマイクロミラー全体をOFF状態に設定する露光OFF領域MOFFを規定し、露光ON領域MONにある部分変調領域のマイクロミラーによって基板SWに光を照射する。さらに、露光ON領域MON、露光OFF領域MOFFを構成する部分変調領域の組み合わせを露光動作の度に更新し、露光ON領域MONが循環シフトするように露光ON領域MON、露光OFF領域MOFFを変更する。
【選択図】図7
Description
18 描画テーブル
201〜208 露光ヘッド
24 DMD(露光ユニット)
30 描画制御部
32 システムコントロール回路
34 DMD駆動回路
36 ラスタ変換回路
38A〜38F バッファメモリ
SW 基板(被描画体)
EA 露光エリア
D1〜D6 部分変調領域
DM マイクロミラー(空間光変調素子)
EA1〜EA6 部分露光エリア
MON 露光ON領域
MOFF 露光OFF領域
Claims (11)
- 複数の空間光変調素子をマトリクス状に配列した少なくとも1つの露光ユニットと、
前記露光ユニットの投影領域となる露光エリアを、被描画体に対して相対的に走査方向に沿って移動させる走査手段と、
入力されるパターンデータから描画データを生成する描画データ処理手段と、
描画データおよび露光エリアの相対的位置に基づいて前記複数の空間光変調素子を制御し、露光エリアをオーバラップさせながら露光動作を実行する露光制御手段とを備え、
前記露光制御手段が、前記露光ユニットに規定される複数の部分変調領域の一部を露光ON領域、それ以外を露光OFF領域として規定し、前記露光ON領域および前記露光OFF領域を構成する部分変調領域の組み合わせを変えながら、露光ON領域にある空間光変調素子によって露光動作を実行することを特徴とする描画装置。 - 前記露光制御手段が、前記露光ON領域を循環シフトさせることを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記露光制御手段が、位相的に隣接する部分変調領域を露光ON領域として規定することを特徴とする請求項2に記載の描画装置。
- 前記露光制御手段が、前記露光ON領域を走査方向に沿って循環シフトさせることを特徴とする請求項2に記載の描画装置。
- 前記描画データ制御手段が、露光動作に合わせて、各部分変調領域の描画データを更新することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記描画データ制御手段が、前記複数の部分変調領域のうち先頭の部分変調領域に応じた基準描画データを順次生成し、露光動作に合わせて生成される基準描画データを前記先頭の部分変調領域へ割り当てる一方、割り当てられた基準描画データを残りの部分変調領域へ露光動作に合わせて順番に割り当てることを特徴とする請求項5に記載の描画装置。
- 前記描画データ処理手段が、露光動作に合わせて、新たに露光ON領域へ切り替わる部分変調領域の描画データを更新することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記露光制御手段が、部分変調領域全体の中で、走査効率と同じ割合だけ露光OFF領域を規定することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記露光制御手段が、前記露光ユニットを等分することによって複数の部分変調領域を規定することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 1)感光材料を上面に形成した基板に対して描画処理を実行し、
2)描画処理された基板に対して現像処理をし、
3)現像処理された基板に対してエッチングまたはメッキ処理を施し、
4)エッチングまたはメッキ処理された基板に対して感光材料の剥離処理を行う基板の製造方法であって、
描画処理において、請求項1に記載された描画装置によって描画処理を行うことを特徴とする基板の製造方法。 - 複数の空間光変調素子をマトリクス状に配列した少なくとも1つの露光ユニットの投影領域となる露光エリアを、被描画体に対して相対的に走査方向に沿って移動させ、
入力されるパターンデータから描画データを生成し、
描画データおよび露光エリアの相対的位置に基づいて前記複数の空間光変調素子を制御し、露光エリアをオーバラップさせながら露光動作を実行する描画方法であって、
前記露光ユニットに規定される複数の部分変調領域の一部を露光ON領域、それ以外を露光OFF領域として規定し、前記露光ON領域および前記露光OFF領域を構成する部分変調領域の組み合わせを変えながら、露光ON領域にある空間光変調素子によって露光動作を実行することを特徴とする描画方法。
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