JP5241226B2 - 描画装置および描画方法 - Google Patents
描画装置および描画方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5241226B2 JP5241226B2 JP2007336275A JP2007336275A JP5241226B2 JP 5241226 B2 JP5241226 B2 JP 5241226B2 JP 2007336275 A JP2007336275 A JP 2007336275A JP 2007336275 A JP2007336275 A JP 2007336275A JP 5241226 B2 JP5241226 B2 JP 5241226B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- area
- partial modulation
- data
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 65
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 70
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 28
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 3
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 42
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 22
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 3
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005686 electrostatic field Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
18 描画テーブル
201〜208 露光ヘッド
24 DMD(露光ユニット)
30 描画制御部
32 システムコントロール回路
34 DMD駆動回路
36 ラスタ変換回路
38A〜38F バッファメモリ
SW 基板(被描画体)
EA 露光エリア
D1〜D6 部分変調領域
DM マイクロミラー(空間光変調素子)
EA1〜EA6 部分露光エリア
MON 露光ON領域
MOFF 露光OFF領域
Claims (11)
- 複数の空間光変調素子をマトリクス状に配列した少なくとも1つの露光ユニットと、
前記露光ユニットの投影領域となる露光エリアを、被描画体に対して相対的に走査方向に沿って移動させる走査手段と、
入力されるパターンデータから描画データを生成する描画データ処理手段と、
描画データおよび露光エリアの相対的位置に基づいて前記複数の空間光変調素子を制御し、露光エリアをオーバラップさせながら露光動作を実行する露光制御手段とを備え、
前記露光制御手段が、前記露光ユニットに規定される複数の部分変調領域の一部を露光ON領域、それ以外を露光OFF領域として規定し、前記露光ON領域および前記露光OFF領域を構成する部分変調領域の組み合わせを変えながら、露光ON領域にある空間光変調素子によって露光動作を実行し、
前記露光制御手段が、前記露光ON領域を循環シフトさせることを特徴とする描画装置。 - 前記露光制御手段が、前記複数の部分変調領域のうち少なくとも2つを露光ON領域として規定することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記露光制御手段が、位相的に隣接する部分変調領域を露光ON領域として規定することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記露光制御手段が、前記露光ON領域を走査方向に沿って循環シフトさせることを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記描画データ制御手段が、露光動作に合わせて、各部分変調領域の描画データを更新することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記描画データ制御手段が、前記複数の部分変調領域のうち先頭の部分変調領域に応じた基準描画データを順次生成し、露光動作に合わせて生成される基準描画データを前記先頭の部分変調領域へ割り当てる一方、割り当てられた基準描画データを残りの部分変調領域へ露光動作に合わせて順番に割り当てることを特徴とする請求項5に記載の描画装置。
- 前記描画データ処理手段が、露光動作に合わせて、新たに露光ON領域へ切り替わる部分変調領域の描画データを更新することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記露光制御手段が、部分変調領域全体の中で、走査効率と同じ割合だけ露光OFF領域を規定することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記露光制御手段が、前記露光ユニットを等分することによって複数の部分変調領域を規定することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 1)感光材料を上面に形成した基板に対して描画処理を実行し、
2)描画処理された基板に対して現像処理をし、
3)現像処理された基板に対してエッチングまたはメッキ処理を施し、
4)エッチングまたはメッキ処理された基板に対して感光材料の剥離処理を行う基板の製造方法であって、
描画処理において、請求項1に記載された描画装置によって描画処理を行うことを特徴とする基板の製造方法。 - 複数の空間光変調素子をマトリクス状に配列した少なくとも1つの露光ユニットの投影領域となる露光エリアを、被描画体に対して相対的に走査方向に沿って移動させ、
入力されるパターンデータから描画データを生成し、
描画データおよび露光エリアの相対的位置に基づいて前記複数の空間光変調素子を制御し、露光エリアをオーバラップさせながら露光動作を実行する描画方法であって、
前記露光ユニットに規定される複数の部分変調領域の一部を露光ON領域、それ以外を露光OFF領域として規定し、前記露光ON領域および前記露光OFF領域を構成する部分変調領域の組み合わせを変えながら、露光ON領域にある空間光変調素子によって露光動作を実行し、
露光動作において、前記露光ON領域を循環シフトさせることを特徴とする描画方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007336275A JP5241226B2 (ja) | 2007-12-27 | 2007-12-27 | 描画装置および描画方法 |
TW97136864A TW200928604A (en) | 2007-12-27 | 2008-09-25 | Drawing device and method thereof |
CNA2008101850544A CN101470356A (zh) | 2007-12-27 | 2008-12-26 | 描绘装置及描绘方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007336275A JP5241226B2 (ja) | 2007-12-27 | 2007-12-27 | 描画装置および描画方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009157168A JP2009157168A (ja) | 2009-07-16 |
JP5241226B2 true JP5241226B2 (ja) | 2013-07-17 |
Family
ID=40827941
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007336275A Active JP5241226B2 (ja) | 2007-12-27 | 2007-12-27 | 描画装置および描画方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5241226B2 (ja) |
CN (1) | CN101470356A (ja) |
TW (1) | TW200928604A (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5503992B2 (ja) * | 2010-02-08 | 2014-05-28 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
CN101799635A (zh) * | 2010-03-16 | 2010-08-11 | 芯硕半导体(中国)有限公司 | 一种无掩模光刻技术的曝光方法 |
JP5881314B2 (ja) * | 2011-05-30 | 2016-03-09 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
TWI564671B (zh) * | 2011-05-30 | 2017-01-01 | Orc Manufacturing Co Ltd | Exposure device |
JP5881313B2 (ja) * | 2011-05-30 | 2016-03-09 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
JP6537309B2 (ja) * | 2015-03-18 | 2019-07-03 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光方法 |
CN108351599B (zh) * | 2015-09-04 | 2021-01-12 | 应用材料公司 | 用于校正基板上的不均匀图像图案的方法、计算机系统和非暂时性计算机可读介质 |
JP7133379B2 (ja) * | 2018-07-20 | 2022-09-08 | 株式会社Screenホールディングス | 描画装置および描画方法 |
JP7431532B2 (ja) * | 2019-08-21 | 2024-02-15 | 株式会社Screenホールディングス | 描画方法、および、描画装置 |
TWI803339B (zh) * | 2022-06-07 | 2023-05-21 | 國立成功大學 | 光點陣列掃描系統及其方法 |
JP7422263B1 (ja) | 2023-08-24 | 2024-01-25 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光方法 |
JP7455265B1 (ja) | 2023-08-24 | 2024-03-25 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005055881A (ja) * | 2003-07-22 | 2005-03-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画方法および描画装置 |
US20050128559A1 (en) * | 2003-12-15 | 2005-06-16 | Nishimura Ken A. | Spatial light modulator and method for performing dynamic photolithography |
JP2005210112A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-08-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光方法および装置 |
JP2006113412A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画方法および描画装置 |
JP2006350022A (ja) * | 2005-06-16 | 2006-12-28 | Fujifilm Holdings Corp | 描画装置及び描画方法 |
JP2007304517A (ja) * | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 直描方式の露光方法及び装置 |
-
2007
- 2007-12-27 JP JP2007336275A patent/JP5241226B2/ja active Active
-
2008
- 2008-09-25 TW TW97136864A patent/TW200928604A/zh unknown
- 2008-12-26 CN CNA2008101850544A patent/CN101470356A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101470356A (zh) | 2009-07-01 |
TW200928604A (en) | 2009-07-01 |
JP2009157168A (ja) | 2009-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5241226B2 (ja) | 描画装置および描画方法 | |
JP5258226B2 (ja) | 描画装置および描画方法 | |
JP2004056100A (ja) | スムーズなデジタル成分をデジタルフォトリソグラフィーシステムで作成するためのシステムおよび方法 | |
US20050083511A1 (en) | Computer architecture for and method of high-resolution imaging using a low-resolution image transducer | |
JP2003332221A (ja) | 露光装置 | |
WO2002073288A1 (en) | Point array maskless lithography | |
KR20100030999A (ko) | 마스크리스 노광 장치 및 이를 이용한 정렬 오차의 보상 방법 | |
JP2012049433A (ja) | 露光装置 | |
KR101720595B1 (ko) | Dmd 기반의 노광 장치에서 이용가능한 래스터 이미지 생성 방법 및 장치, 및 래스터 이미지 생성 방법을 실행하기 위한 프로그램을 기록한 기록 매체 | |
JP2008003441A (ja) | 描画システム | |
TWI688830B (zh) | 曝光裝置及曝光方法 | |
JP2009523313A (ja) | 予め光の反射の変化を定めたマイクロミラー・アレイで構成される光投写システムを有する継ぎ目なし露光 | |
US8477288B2 (en) | Digital exposure method and digital exposure device for performing the method | |
JP5503992B2 (ja) | 露光装置 | |
JP7471175B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
JP4081606B2 (ja) | パターン描画装置およびパターン描画方法 | |
JP2005353927A (ja) | パターン描画装置 | |
JP5357617B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2005243870A (ja) | パターン描画装置 | |
JP7437212B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
JP2006251207A (ja) | 画像記録システム、画像記録方法、変換装置および変換方法 | |
US9535333B2 (en) | Maskless exposure device and maskless exposure method using the same | |
JP2005142235A (ja) | パターン描画装置 | |
JP2005300812A (ja) | 描画装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101013 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120622 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120717 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120918 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130312 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130402 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160412 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5241226 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |