CN1109997C - 掩模图形数据产生方法 - Google Patents

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Abstract

一种因对布局基元数据分级校正低于掩模图形数据而对布局基元数据所作改变作出自动反应的掩模图形数据产生方法，它无需进行手动删除或布局，防止了可能向布局数据中引入的人为误差。它按进入的布局基元数据的布局数据将布局基元数据分级置于伪基元数据以下而后将伪基元数据分级置于掩模图形数据以下，将布局基元数据上的布局数据加到伪基元数据上，并通过扩展伪基元数据以下的布局基元数据产生与布局数据中所规定角度对应的绘图数据。

Description

掩模图形数据产生方法
技术领域
本发明涉及一种半导体集成电路的掩模图形数据产生方法，更具体地涉及不受数据流的数据格式限制的一种掩模图形数据产生方法和系统。
背景技术
参阅图8，描绘了一种常规的掩模图形数据产生方法。在常规的系统中，由掩模图形数据产生系统801产生的掩模图形数据转换成如GDS(ECMA-96)之类的数据流的数据格式，并作为数据流的数据605输出在磁带之类的记录介质上。所产生的掩模图形数据在随后的步骤中使用。
掩模图形数据产生系统801有一阴极射线管(CRT)显示器之类的显示部件606并有一进行输入/输出(I/O)的键盘607(用户接口)。
图10和11绘示出掩模图形数据的分级结构。从早期的专利，例如日本专利公报昭61-45364中可以找到以带方框、次框的方框、以及最低等级方框的基元等等的分级数据结构公开的方框布局。
当如图10和11中所示产生分级结构的掩模图形数据1001时，若是置于较低分级等级中的布局基元数据的布局角度必须限于采用以90度为单位的数据流的数据格式，则掩模图形产生系统801的掩模图形数据产生功能802就必须限于总是产生采用以90度为单位的布局基元数据，以避免与数据流的数据格式限制相冲突。
然而，这种方法无法用于产生带有除90度之外如15度、30度等等之类任意布局角度的布局基元数据。
另一方面，日本专利公报平A-7-146945公开了一种数据处理系统，它在一个字处理器或一个桌面发行(DTP)系统上扩展以任何角度旋转的连续图形。图9示出了系统结构，其中由日本专利公报平A-7-146945公开的功能是在图8中所示的常规掩模图形数据产生功能部件802中实现的，尽管由上述专利公报公开的数据处理系统不是一个掩模图形产生系统，但在下面描述的系统中应用了具有以任何旋转角度扩展连续图形功能的上述数据处理系统，以产生掩模图形数据。这一系统的结构也是由日本发明人发明的。
如图9中所示，掩模图形数据产生的功能部件802具有特等基元产生装置903和扩展装置(补偿的装置)904，特等基元产生装置有一旋转角度存储模件902，它由键盘607(见图8)经一控制模件901向存储器中存入角度数据θ(见图13中的1301)，并且特等基元产生装置903产生具有从布局基元数据(图10和11中的1002)存入存储器中任意角度θ的特等基元。扩展装置(补偿的装置)904将特等基元在掩模图形数据上扩展成不带分级结构的绘图数据(图12和13中的1201)。这种功能可以在低于掩模图形数据(图12和13中的1001)的分级等级中产生带有任意θ伪角度的布局基元数据。实际上，布局基元数据是在掩模图形数据1001中扩展的绘图数据1201(见图12和13)。
在对本发明进行调研当中遇到以下的问题。即，对于上述有分级结构的掩模图形数据(见图10和11中的1001)，在布局基元数据上反映出改变成低等级的布局基元数据(见图10和11中的1002)。在另一方面，改变成有θ伪角度的布局基元数据(图12和13中的1201)，则是在布局基元数据上未作反映的实际扩展的绘图数据。
也就是说，分级的等级低于掩模图形数据的布局基元数据在扩展成绘图数据(即由分级的补偿的部局基元数据产生的绘图数据)之后经一任意角度θ的旋转。在此情况下，如图12中所示布局基元数据转换成没有分级结构的绘图数据，以致不可能由此掩模图形数据1001描绘布局基元数据。因而，当出现校正原始布局基元数据时，就必需予以校正而后展开、扩展或再作旋转。
更具体地说，在手动删除带伪旋转角度θ的布局基元数据(绘图数据)并展开校正的布局基元数据之后，就必需从布局基元数据再产生带角度θ的特等基元数据并将特等基元数据在掩模图形数据上扩展成没有分级结构的绘图数据。
此时，用户就有可能标定错误的布局坐标、旋转角度θ、以及布局基元数据的位置(存储位置或地址)。
发明内容
本发明寻求解决与上述现有技术有关的问题。本发明的目的是要提供一种产生具有分级结构的掩模图形数据的方法，它在校正分级等级低于掩模图形数据的布局基元数据时自动反映出对布局基元数据的改变，省略去需由用户进行的手工删除处理或布局处理，以避免要在掩模图形数据中展开的布局基元数据上可能会向布局数据中引入人工误差。
本发明的另一目的是要提供一种执行此方法的系统或程序。
本发明此外的其它目的将会在整个的公开内容中明白可见。
为了实现上述目的，按照本发明的第一种方式提供了一种掩模图形数据的产生方法。该方法包括的步骤有，按照布局基元数据的进入布局数据将布局基元数据分级置于伪基元数据以下，将伪基元数据分级置于掩模图形数据以下，并在另一方面将布局基元数据的布局数据作为补充数据加到伪基元数据上；并经由将分级置于伪基元数据以下的布局基元数据扩展的布局数据标定的角度旋转产生绘图数据。
按照第二种方式，提供了一种掩模图形数据产生系统。该系统包括读入布局基元数据的布局数据的布局数据输入装置；根据所述布局数据将布局基元数据分级置于伪基元以下并将所述伪基元数据分级置于掩模图形数据以下以及将所述布局基元数据的布局数据作为补充数据增加到所述伪基元数据上的伪基元布局装置。该系统还包括布局扩展装置，它与经由将分级置于所述的伪基元数据以下的布局基元数据扩展的布局数据所标定的角度相对应产生绘图数据。
掩模图形数据产生系统还可能包括当校正布局基元数据时从所述伪基元数据读取布局数据的布局数据获取装置；以及从所述伪基元数据中删除绘图数据的删除装置。
掩模图形数据产生系统最好可能包括布局数据获取装置，它取得不满足输出掩模图形数据的格式限制的布局基元数据的布局数据。
按照本发明的第三种方式，提供了一种在其中存有掩模图形产生程序的计算机可读取的介质，该程序利用一数据处理系统产生掩模图形数据。该程序可以包括以下的过程：
(a)读取布局基元数据中的布局数据的布局数据输入过程；
(b)伪基元布局过程，它根据所述的布局数据将布局基元数据分级置于伪基元以下并将所述伪基元数据分级置于掩模图形数据以下，而且它将所述布局基元数据的布局数据作为补充数据加到所述伪基元数据上；以及
(c)布局扩展过程，它产生的绘图数据与经由将分级置于所述伪基元数据以下的布局基元数据扩展的布局数据所标定的角度θ相对应。
该程序最好还包括：
(d)布局数据获取过程，它当校正布局基元数据时读取加到所述伪基元数据上的布局数据；以及
(e)删除过程，它从伪基元数据中删除绘图数据。
该程序还可以包括：
(f)布局数据获取过程，它获取不满足输出掩模图形数据格式限制的布局基元数据的布局数据。
附图说明
图1示出在本发明一项实施例中所用掩模图形数据产生功能的流程图。
图2为本发明一项实施例并说明掩模图形数据分级结构的示图。
图3为本发明一项实施例并说明掩模图形数据的示图。
图4为本发明一项实施例并说明在布局扩展过程之后掩模图形数据的分级结构的示图。
图5为本发明一项实施例并说明在布局扩展过程之后掩模图形数据的分级结构的示图。
图6为本发明第二实施例的掩模图形数据产生系统的方框图。
图7为本发明第二实施例相容性处理功能的流程图。
图8为一常规掩模图形数据产生系统结构的方框示图。
图9为一掩模图形数据产生功能部件的功能结构方框示图，已在其中实现了现有技术数据处理系统的功能。
图10为表示常规掩模图形数据分级结构的示意图。
图11为表示常规掩模图形数据的示意图。
图12为表示常规方法并示意说明绘图数据的分级结构的示图。
图13为表示常规方法并示意说明绘图数据的示图。
具体实施方式
下面描述本发明的一项实施例。本发明一项最佳形式的实施例包括读取布局基元数据上的布局数据的布局数据输入装置(图1中的102)；伪基元布局装置(图1中的105)，它根据布局数据将布局基元数据分级置于伪基元数据(虚拟的或短暂的基元数据称为“伪基元”)以下而后将伪基元数据分级置于掩模图形数据以下；数据增加装置(图1中的104)，它将布局数据作为补充数据加到布局基元数据上；以及布局扩展装置(图1中的106)，它通过在伪基元数据以下扩展布局基元数据，根据布局数据产生绘图数据；当校正布局基元数据时，该实施例还包括读取加到伪基元数据上的布局数据的布局数据获取装置(图1中的107)以及从伪基元数据中删除绘图数据的删除装置(图1中的108)。
具有上述结构的本发明的实施例构建起分级结构的掩模图形数据，以致当对置于低的分级等级的布局基元数据进行改变时，此改变就反映在掩模图形数据上。本实施例无需人工的删除处理和布局处理，防止了分级在掩模图形数据以下的布局基元数据上出现布局数的人为误差。
本发明的实施例中，上述装置的功能是通过在一数据处理系统上执行程序而实现的。
参照附图对本发明的实施例作详细描述。图1为表示本实施例部分掩模图形产生功能的流程示意图。图2为表示在布局扩展处理106之前的掩模图形数据分级结构的示意图。图3为—掩模图形数据的示图。列在下面的表1示出一例存在存储器中并加到伪基元数据上的布局数据。
如图1中所示，当产生带有角度θ的新布局基元数据时(作为校正判断程序101的结果为“是”)，首先在布局数据输入程序102中从譬如一个键盘103读取作为储存在存储器中的布局数据的布局基元数据203(见图2)名称(表1中的CellName)、表示数据位置(存储位置)的索引途径(表1中的DirPath)、布局基元数据203的布局坐标(表1中的诸如X-Y之类的坐标)、以及角度θ(表1中的角度)。
接着，执行数据增加程序104，作为伪基元数据202的补充数据增加存入存储器中的布局数据(见表1)。
接着，执行伪基元数据布局程序105，将布局基元数据203分级置于伪基元数据202以下。
表1
------------------------------------
补充的—数据名称            数值
------------------------------------
CellName(基元名称)          XXXX
------------------------------------
DirPath(索引途径)           /dir1/dir2/dir3
------------------------------------
Coordinate(坐标1)           X1，Y1，X2，Y2
------------------------------------
Angle(角度)                 θ
------------------------------------
图4示出在布局扩展程序106之后掩模图形数据的分级结构，而图5则示出掩模图形数据。
执行布局扩展程序106将布局基元数据203扩展到带有角度θ(表1中的角度，501)的绘图数据中，它在常规技术中是作为布局数据401存入存储器中的。然后，将伪基元数据202分级置于掩模图形数据201以下。其结果是，从掩模图形数据201中可以观看到低等级的伪基元数据202，而包括原始布局基元数据的名称和位置、布局数据、旋转数据等等在内的补充数据(特征数据)则加到伪基元数据202上，在其中通过扩展和旋转所置放的布局基元数据产生绘图数据。
接着，当伪基元数据202已经被校正时(作为校正判断程序101的结果为“否”)，执行布局数据获取程序107，以取得已作为补充数据加到伪基元数据202上的布局数据，存入存储器中(见表1)。
接着，执行删除程序108，从掩模图形数据201中删除伪基元数据202。然后，从布局基元数据203的名称(表1中的CellName)以及从与作为布局数据存储的布局基元数据的位置对应的索引通道(表1中的DirPath)取得新的(也就是校正的)布局基元数据203，以此执行布局扩展程序106。这就使得能够不受数据流的数据格式限制而产生掩模图形数据。
本发明的第一实施例扩展了所有带角度θ的布局基元数据，产生了大量的掩模图形数据。但下面所说明的本发明第二实施例却要防止掩模图形数据量增加。
图6示出本发明第二实施例中所用掩模图形数据产生系统的结构方框图。图7示出说明本发明第二实施例中所用相容性处理功能的流程图。示于下面的表2列出存于存储器中的格式限制的一例。
除了扩展装置904(见图9)由本发明第一实施例中说明的数据增加程序104取代之外，图6中所示本发明第二实施例中所用掩模图形产生功能部件602与图8和9中所示掩模图形数据产生功能部件802(见图8)类似。
下面对本发明第二实施例中所用相容性处理功能603进行说明。如图7中所示，执行格式数据输入程序701，从格式说明文件702中读取规定包括有数据流的数据605必需按90度增长在内的布局基元数据的布局角度的格式限制，而后将限制数据存入存储器中(表2中的角度)。
    表2
            -------------------------------
                格式            数值
            -------------------------------
                角度             90
            -------------------------------
接着，对分级置于掩模图形数据以下的所有布局基元数据进行检索(程序703至程序705)，并对所检索的布局基元数据进行核查看是否满足了限制(见表2)。若此限制未能满足(判断程序704的结果为“否”)，则执行第一实施例中说明的布局数据获取程序107、伪基元数据布局程序105、以及布局扩展程序106，来产生不受数据流的数据格式限制的掩模图形数据。
在上述实施例中，只述及数据的数据格式角度限制。应该注意到本发明并不限于有关角度的限制，它还可以适用于为实现相同效果的其它限制。因此，若是应用于半导体集成电路布局、固态图象传感器件、液晶系统、电子电路等等的掩模图形数据产生，则用实施例进行以上说明的本发明就大大提高了工作效率和可靠性。
如上所述，当将布局基元数据分级校正成在具有分级结构的掩模图形数据方面低于掩模图形数据时，本发明就自动反映出引入布局基元数据中的改变并无需用户手动删除或展开布局基元数据以避免要在掩模图形数据中展开的布局基元数据上可能向布局数据中引入的人为误差。因而，本发明确保提高工作效率、可靠性和生产率。
下面对图进行说明
101    校正判断程序
606    显示器
704    检索结果的判断程序
705    终结的判断程序
有关标号的说明还可从图中直接获得。
应该注意到专业人员所能作出的显而易见的改变并不脱离这里所公开的所提权利要求范围内的要点和思想。

Claims (7)

1、一种掩模图形数据产生方法，其特征在于，它包括有步骤：
根据输入的布局基元数据的布局数据将布局基元数据分级置于伪基元数据以下，
将所述伪基元数据分级置于掩模图形数据以下，而另一方面将所述布局基元数据的布局数据作为补充数据加到所述伪基元数据上，以及
通过扩展分级置于所述伪基元数据以下的所述布局基元数据经布局数据中所规定角度的旋转产生绘图数据。
2、一种掩模图形数据产生系统，其特征在于，它包括：
布局数据输入装置，用于读出布局基元数据的布局数据；
伪基元布局装置，它用于根据布局数据将所述布局基元数据分级置于伪基元以下，并将所述伪基元数据分级置于掩模图形数据以下，并且用于将所述布局基元数据的布局数据作为补充数据加到所述伪基元数据上；以及
布局扩展装置，它通过扩展分级置于所述伪基元数据以下的布局基元数据产生与布局数据中所规定的角度相对应的绘图数据。
3、按照权利要求2所确定的掩模图形数据产生系统，其特征在于，它还包括：
布局数据获取装置，当布局基元数据经过校正时用以从所述伪基元数据中读出布局数据；以及
删除装置，用于从所述伪基元数据中删除所述绘图数据。
4、按照权利要求2所确定的掩模图形数据产生系统，其特征在于，它还包括：
布局数据获取装置，用于取得不满足输出掩模图形数据的格式限制的布局基元数据的布局数据。
5、一种使用数据处理系统产生掩模图形数据的掩模图形产生方法，所述方法包括：
(a)布局数据输入过程，读出布局基元数据的布局数据；
(b)伪基元布局过程，根据布局数据将所述布局基元数据分级置于伪基元以下并将所述伪基元数据分级置于掩模图形数据以下以及将所述布局基元数据上的布局数据作为补充数据加到所述伪基元数据上；以及
(c)布局扩展过程，通过扩展分级置于所述伪基元数据以下的布局基元数据产生与布局数据中所规定的角度θ相对应的绘图数据。
6、按照权利要求5所确定的方法，所述方法中存有掩模图形数据产生过程，其特征在于，它还包括：
(d)布局数据获取过程，当布局基元数据经过校正时读出加到所述伪基元数据上的布局数据；以及
(e)删除过程，从所述伪基元数据中删除绘图数据。
7、按照权利要求5所确定的方法，所述方法中存有用数据处理系统产生掩模图形数据的掩模图形数据产生过程，其特征在于，它还包括：
(f)一次布局数据获取过程，取得不满足输出掩模图形数据的格式限制的布局基元数据的布局数据。
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Owner name: NEC COMPUND SEMICONDUCTOR DEVICES CO LTD

Free format text: FORMER OWNER: NIPPON ELECTRIC CO., LTD.

Effective date: 20021219

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20021219

Address after: Kanagawa, Japan

Applicant after: NEC Compund semiconductor Devices Co., Ltd.

Address before: Tokyo, Japan

Applicant before: NEC Corp.

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C19 Lapse of patent right due to non-payment of the annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee