JPH09231621A - ディスクの製造方法 - Google Patents

ディスクの製造方法

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JPH09231621A
JPH09231621A JP6392296A JP6392296A JPH09231621A JP H09231621 A JPH09231621 A JP H09231621A JP 6392296 A JP6392296 A JP 6392296A JP 6392296 A JP6392296 A JP 6392296A JP H09231621 A JPH09231621 A JP H09231621A
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JP
Japan
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recording
resin
layer
substrate
disc
Prior art date
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Pending
Application number
JP6392296A
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English (en)
Inventor
Jiyuria Kumagami
ジュリア 熊耳
Seiya Kaneko
誠也 金子
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NIKKA ENG KK
Original Assignee
NIKKA ENG KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録面が2層に形成されたディスクの製造方
法において、UV樹脂の硬化収縮によるディスクの変形
を低減する。 【解決手段】 表面に第1記録面(2)を有する基盤
(1)を成形する工程と、第1記録面(2)を覆い表面
がほぼ平坦なUV樹脂の中間層(4)を形成する工程
と、中間層(4)を覆い表面に第2記録面(6)を有す
るUV樹脂の第2記録層(5)を形成する工程とを含む
ディスクの製造方法である。中間層を設けることで、第
2記録層の厚みを薄くすることで、第2記録層の硬化収
縮量を低減し、ディスクの変形を防ぐ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高密度記録ディスク、
特に記録面が2層に形成されたディスクの製造方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】記録面が2層に形成されたディスクの従
来の代表的な製造方法を図2に基づき説明する。図2
(A)は、第1記録面(2)を有する基盤(1)の製造
を示している。この基盤の製造は、いわゆるコンパクト
ディスクのような記録面が1層のディスクの製造過程と
全く同様で、本図では最も一般的なインジェクション成
形を示している。割型(14a)(14b)を合わせた
ときにできる空間にノズル(図示しない)からポリカー
ボネートのような樹脂を射出充填して基盤を成形する。
割型(14b)にはスタンパ(8)が取り付けられてお
り、スタンパ表面の記録(微小記録ピットの集合)が基
盤(1)に第1記録面(2)として転写される。この射
出成形の他に、いわゆる2P成形という方法で基盤を製
造することもできる。
【0003】図2(B)は基盤1の第1記録面(2)を
覆って、第2記録面(6)を有する第2記録層(5)を
形成する過程を示している。成形機13にはスタンパ8
が取り付けられており、スタンパ(8)上にUV樹脂、
すなわち紫外線硬化樹脂が塗布され、その上に基盤
(1)が載置される。UVランプ(9)により紫外線を
照射し、UV樹脂を硬化させると、スタンパ(8)の記
録面がUV樹脂により形成された第2記録層(5)の表
面に第2記録面(6)として転写される。
【0004】図2(C)は第2記録層を形成した基盤
(1)を成形機(13)から取り出した状態を示してい
る。第1記録面(2)と第2記録面(6)との間隔はす
なわち第2記録層(5)の厚さ(t2)であり、これは
記録の読み出しの都合から40〜50μm程度である。
【0005】図2(D)は第2記録層(5)を覆って保
護層(7)を設け、ディスク(10)を完成させた状態
を示している。近年は、より高密度に記録をするために
基盤1の厚みを薄くする傾向にあり、その結果、ディス
ク(10)の厚さ(t1)は例えば0.6mm程度にお
さえられている。このように大変薄いディスクの場合に
は、さらに図3に示すように、補強盤(15)を貼り合
わせて全体の厚さ(t0)を1.2mm程度とする。こ
のディスクは、いわゆる片面記録ディスクで、読出光
(16)により第1記録面を、読出光(17)により第
2記録面を読み出す。また、図4に示すように、ディス
ク(10)を2枚貼り合わせて両面記録ディスクとする
こともできる。このディスクの厚さ(t0)も1.2m
m程度で、それぞれの面から読出光(16)により第1
記録面を、読出光(17)により第2記録面を読み出
す。なお、図3及び図4のように貼合わせを行う場合に
は、保護層7の形成を省略する場合もある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のディスクの
製造方法においては、第2記録層(5)の厚みを40〜
50μm程度に形成する。この層を形成するUV樹脂
は、図2(B)に示すように、スタンパ(8)に拘束さ
れた状態で硬化する。そして、硬化する際に10%近く
収縮変形するので、基盤(1)にUV樹脂の収縮に伴う
応力が蓄積される。そこで、図2(C)に示すように基
盤(1)を取り出すと、この応力により基盤(1)全体
が湾曲変形するのである。この変形によりディスク(1
0)が湾曲したものとなり、不良品となってしまう割合
が大きいという問題がある。特に、近年は記録密度を増
加するために基盤をきわめて薄くする(0.6mm程
度)ことが求められているから、なおさらディスクの湾
曲の程度が大きくなり、歩留まりが悪くなっている。
【0007】本発明は、上記のような問題を解決し、U
V樹脂の硬化の際の収縮によるディスクの変形を小さく
し、不良品の割合を小さくするディスクの製造方法を提
供するためになされたものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、表面に第1記
録面(2)を有する基盤(1)を成形する工程と、第1
記録面(2)を覆い表面がほぼ平坦なUV樹脂の中間層
(4)を形成する工程と、中間層(4)を覆い表面に第
2記録面(6)を有するUV樹脂の第2記録層(5)を
形成する工程とを含むことを特徴とするディスクの製造
方法である。
【0009】基盤(1)の第1記録面(2)を覆ってU
V樹脂の中間層(4)を形成するが、中間層の表面はほ
ぼ平坦に成形すればよいので、硬化させるに際してスタ
ンパで拘束する必要がない。したがって、UV樹脂が硬
化、収縮しても基盤(1)には応力が発生せず、変形は
中間層(4)の表面に生じ、その表面のみが僅かに湾曲
することとなる。中間層(4)の厚みは30〜40μm
程度が適当である。第2記録層(5)は中間層の上に形
成されるので、その厚みは10μm程度と、きわめて薄
くすることができる。第2記録層(5)は、スタンパで
拘束して硬化させるが、その厚さがたいへん薄いので収
縮量が小さく、基盤に発生する応力が小さい。したがっ
て、基盤を成形機から取り出したときの湾曲変形がほと
んど生じないのである。本発明方法で製造したディスク
は、第1記録面(2)と第2記録面(6)との間隔は中
間層(4)の厚さ(t3)と第2記録層(5)の厚さ
(t2)の合計で、これは40〜50μm程度となり、
記録の読み出しに支障は生じない。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明のディスクの製造方
法の実施例を説明する図1に基づいて本発明を詳細に説
明する。図1(A)(B)は第1記録面(2)を有する
基盤(1)に中間層(4)を形成する過程を示してい
る。基盤(1)は従来のディスクの製造方法と同様に、
インジェクション成形又は2P成形等により成形され、
第1記録面には既に反射膜が形成されている。基盤
(1)は台(12)の上に載置され、基盤(1)の第1
記録面(2)の上にUV樹脂(11)がドーナツ状に供
給される。すると、台(12)が高速で回転し、UV樹
脂(11)は遠心力で基盤(1)上に均一に広がる。そ
して、UVランプ(9)で紫外線を照射し硬化させる。
この際、UV樹脂は何ら拘束がないので、UV樹脂の硬
化収縮の影響は基盤(1)には生じないで、中間層
(4)の表面のみに生じ、その表面のみが僅かに湾曲す
る。中間層の厚さ(t3)は30〜40μm程度に形成
する。
【0011】図1(C)は基盤1の中間層(4)を覆っ
て、第2記録面(6)を有する第2記録層(5)を形成
する過程を示している。成形機13にはスタンパ(8)
が取り付けられており、スタンパ(8)上にUV樹脂、
すなわち紫外線硬化樹脂が塗布され、その上に基盤
(1)が載置される。又は、基盤(1)を所定間隔を隔
ててスタンパ(8)上に固定し、その後UV樹脂を基盤
とスタンパの間に充填するなどしてもよい。UVランプ
(9)により紫外線を照射し、UV樹脂を硬化させる
と、スタンパ(8)の記録面がUV樹脂により形成され
た第2記録層(5)の表面に第2記録面(6)として転
写される。第2記録層(5)の厚み(t2)は10μm
程度でたいへん薄いから、硬化の際の収縮は僅かで、基
盤(1)にはほとんど影響しない。
【0012】図1(D)は中間層(4)及び第2記録層
(5)を形成した基盤(1)を成形機(13)から取り
出した状態を示している。基盤(1)はほとんど湾曲し
ておらず、第2記録層の表面の湾曲もほとんどない状態
となっている。図示されていないが、第2記録面(6)
にも反射膜が形成される。
【0013】図1(E)は、第2記録層(5)を覆って
保護層(7)を設け、ディスク(10)を完成させた状
態を示している。本発明方法で製造したディスク(1
0)は、やはり図3、4に示すように貼合わせを行うこ
とができる。その場合には、保護層(7)の形成を省略
する場合がある。
【0014】上記実施例において、中間層の形成方法と
して、いわゆるスピンコート法を説明したが、この方法
に限るものではなく、例えばシルク印刷の手法でUV樹
脂を塗布するなどしてもよい。
【0015】本願に添付した図面は、いずれも理解を容
易にするための該略図で、記録ピットの大きさ及び深
さ、基盤及び各層の厚みを実際よりも非常に強調して表
しているので、実際のプロポーションとは著しくかけ離
れているものである。また、第1記録面及び第2記録面
には読出光を反射させるためのスパッタと呼ばれる反射
膜が形成されるが、この反射膜も非常に薄いために図面
では省略している。
【0016】
【発明の効果】本発明ディスクの製造方法は、第2記録
層の下に中間層を設けたので、第2記録層を著しく薄く
することができ、従ってUV樹脂の硬化収縮によるディ
スクの湾曲変形を生じることがほとんどなく、不良ディ
スクの発生が減少し、製品歩留まりが向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例のディスクの製造方法の説明図
である。
【図2】従来のディスクの製造方法の説明図である。
【図3】片面記録ディスクの略断面図である。
【図4】両面記録ディスクの略断面図である。
【符号の説明】
1 基盤 2 第1記録面 3 記録ピット 4 中間層 5 第2記録層 6 第2記録面 7 保護層 8 スタンパ 9 UVランプ 10 ディスク 11 UV樹脂 12 台 13 成形機 14a 割型 14b 割型 15 補強盤 16 読出光 17 読出光

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面に第1記録面(2)を有する基盤
    (1)を成形する工程と、第1記録面(2)を覆い表面
    がほぼ平坦なUV樹脂の中間層(4)を形成する工程
    と、中間層(4)を覆い表面に第2記録面(6)を有す
    るUV樹脂の第2記録層(5)を形成する工程とを含む
    ことを特徴とするディスクの製造方法
JP6392296A 1996-02-27 1996-02-27 ディスクの製造方法 Pending JPH09231621A (ja)

Priority Applications (1)

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JP6392296A JPH09231621A (ja) 1996-02-27 1996-02-27 ディスクの製造方法

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JP6392296A JPH09231621A (ja) 1996-02-27 1996-02-27 ディスクの製造方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007538348A (ja) * 2004-05-18 2007-12-27 オー・ツェー・エリコン・バルザース・アクチェンゲゼルシャフト 多層記憶媒体を製造するための方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08306085A (ja) * 1995-04-28 1996-11-22 Sony Corp 多層構造光学記録媒体の製造方法

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