JP2001167472A - 光ディスク及びその製造方法 - Google Patents
光ディスク及びその製造方法Info
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- JP2001167472A JP2001167472A JP34790599A JP34790599A JP2001167472A JP 2001167472 A JP2001167472 A JP 2001167472A JP 34790599 A JP34790599 A JP 34790599A JP 34790599 A JP34790599 A JP 34790599A JP 2001167472 A JP2001167472 A JP 2001167472A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 膜厚が均一な塗膜が得られる光ディスクを提
供する。 【解決手段】 光ディスク基板１における記録領域の内
側に、スピンコートにより形成される光硬化性樹脂の膜
厚よりも高い突起部２を設けたことを特徴とする。
供する。 【解決手段】 光ディスク基板１における記録領域の内
側に、スピンコートにより形成される光硬化性樹脂の膜
厚よりも高い突起部２を設けたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク及びそ
の製造方法に係り、特に基板上にスピンコートにより保
護膜などの塗膜を形成する光ディスク及びその製造方法
に関する。
の製造方法に係り、特に基板上にスピンコートにより保
護膜などの塗膜を形成する光ディスク及びその製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンピュータの外部記憶装置や家
庭用ビデオテープレコーダを代替えする録画機器等に向
け、大容量の光学情報記録再生方式の研究が進められて
いる。この記録再生方式の情報記録媒体として、円盤状
の透明基板表面に情報に対応した微細な凹凸を設け、透
明基板上に記録膜や反射膜などの各種機能膜が積層さ
れ、さらにこの各種機能膜を大気中の水分、酸素、ゴミ
などから保護するための保護膜が形成された光ディスク
が知られている。
庭用ビデオテープレコーダを代替えする録画機器等に向
け、大容量の光学情報記録再生方式の研究が進められて
いる。この記録再生方式の情報記録媒体として、円盤状
の透明基板表面に情報に対応した微細な凹凸を設け、透
明基板上に記録膜や反射膜などの各種機能膜が積層さ
れ、さらにこの各種機能膜を大気中の水分、酸素、ゴミ
などから保護するための保護膜が形成された光ディスク
が知られている。
【０００３】この光ディスク基板上に光硬化性樹脂を塗
布する方法として、光ディスク基板をターンテーブルに
取り付け、光ディスク基板の内周部に液状の光硬化性樹
脂を環状になるように滴下、供給し、この光ディスク基
板を回転させ、光硬化性樹脂を遠心力により径方向外側
に流延させて保護膜を形成するスピンコート法が、生産
効率が良く、生産コストが安いことから常用されてい
る。
布する方法として、光ディスク基板をターンテーブルに
取り付け、光ディスク基板の内周部に液状の光硬化性樹
脂を環状になるように滴下、供給し、この光ディスク基
板を回転させ、光硬化性樹脂を遠心力により径方向外側
に流延させて保護膜を形成するスピンコート法が、生産
効率が良く、生産コストが安いことから常用されてい
る。
【０００４】図４は、スピンコート法により光ディスク
基板３１上に保護膜３３を形成した従来の光ディスクの
断面図である。図中の３１ａは基板３１の中央孔部、３
１ｂは基板３１の一主面、３２は内周スタンパ押さえの
爪の跡をそれぞれ示す。同図に示すように、基板３１の
一主面３１ｂの内周部側から外周部側にかけて保護膜３
３が形成されている。
基板３１上に保護膜３３を形成した従来の光ディスクの
断面図である。図中の３１ａは基板３１の中央孔部、３
１ｂは基板３１の一主面、３２は内周スタンパ押さえの
爪の跡をそれぞれ示す。同図に示すように、基板３１の
一主面３１ｂの内周部側から外周部側にかけて保護膜３
３が形成されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしこのスピンコー
ト法で保護膜３３を形成すると、図４のように光ディス
ク基板３１の内周部側が外周部側より薄くなり、保護膜
３３の厚さが径方向で不均一である。このように保護膜
３３の厚さが不均一になると、光ピックアップによる記
録再生の際に集光スポットが収差を生じ、記録再生信号
の劣化によりエラーが発生する問題があった。
ト法で保護膜３３を形成すると、図４のように光ディス
ク基板３１の内周部側が外周部側より薄くなり、保護膜
３３の厚さが径方向で不均一である。このように保護膜
３３の厚さが不均一になると、光ピックアップによる記
録再生の際に集光スポットが収差を生じ、記録再生信号
の劣化によりエラーが発生する問題があった。
【０００６】本発明は、このような従来技術の欠点を解
消し、膜厚の均一な塗膜形成が可能な光ディスク及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。
消し、膜厚の均一な塗膜形成が可能な光ディスク及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、第１の本発明は、光ディスク基板上にスピンコート
により例えば保護膜などの塗膜を形成する光ディスクに
おいて、前記塗膜の内周部に隣接する環状の突起部を前
記光ディスク基板に設けたことを特徴とするものであ
る。
め、第１の本発明は、光ディスク基板上にスピンコート
により例えば保護膜などの塗膜を形成する光ディスクに
おいて、前記塗膜の内周部に隣接する環状の突起部を前
記光ディスク基板に設けたことを特徴とするものであ
る。
【０００８】前記目的を達成するため、第２の本発明
は、光ディスク基板上にスピンコート法により硬化性樹
脂からなる例えば保護膜などの塗膜を形成する光ディス
クの製造方法において、前記光ディスク基板の内周部に
環状の突起部を設ける工程と、その光ディスク基板を低
速回転させながら、前記突起部の外周面に沿って流動性
を有する未硬化の例えば紫外線硬化性樹脂などからなる
硬化性樹脂を供給する工程と、前記光ディスク基板を高
速回転させて、硬化性樹脂をディスク基板上で径方向外
側に向けて膜状に延伸する工程と、延伸により形成され
た膜を例えば紫外線照射などにより硬化して硬化塗膜を
形成する工程とを含むことを特徴とするものである。
は、光ディスク基板上にスピンコート法により硬化性樹
脂からなる例えば保護膜などの塗膜を形成する光ディス
クの製造方法において、前記光ディスク基板の内周部に
環状の突起部を設ける工程と、その光ディスク基板を低
速回転させながら、前記突起部の外周面に沿って流動性
を有する未硬化の例えば紫外線硬化性樹脂などからなる
硬化性樹脂を供給する工程と、前記光ディスク基板を高
速回転させて、硬化性樹脂をディスク基板上で径方向外
側に向けて膜状に延伸する工程と、延伸により形成され
た膜を例えば紫外線照射などにより硬化して硬化塗膜を
形成する工程とを含むことを特徴とするものである。
【０００９】前記目的を達成するため、第３の本発明
は、光ディスク基板上にスピンコート法により硬化性樹
脂からなる例えば保護膜などの塗膜を形成する光ディス
クの製造方法において、前記光ディスク基板の内周部に
環状の突起部を設ける工程と、その光ディスク基板を低
速回転させながら、前記突起部の外周面に沿って流動性
を有する未硬化の例えば紫外線硬化性樹脂などからなる
硬化性樹脂を供給する工程と、前記光ディスク基板上に
供給された未硬化の硬化性樹脂を例えば紫外線照射など
により予備硬化する工程と、前記光ディスク基板を高速
回転させて、予備硬化の硬化性樹脂をディスク基板上で
径方向外側に向けて膜状に延伸する工程と、延伸により
形成された膜を例えば紫外線照射などにより本硬化する
ことにより硬化塗膜を形成する工程とを含むことを特徴
とするものである。
は、光ディスク基板上にスピンコート法により硬化性樹
脂からなる例えば保護膜などの塗膜を形成する光ディス
クの製造方法において、前記光ディスク基板の内周部に
環状の突起部を設ける工程と、その光ディスク基板を低
速回転させながら、前記突起部の外周面に沿って流動性
を有する未硬化の例えば紫外線硬化性樹脂などからなる
硬化性樹脂を供給する工程と、前記光ディスク基板上に
供給された未硬化の硬化性樹脂を例えば紫外線照射など
により予備硬化する工程と、前記光ディスク基板を高速
回転させて、予備硬化の硬化性樹脂をディスク基板上で
径方向外側に向けて膜状に延伸する工程と、延伸により
形成された膜を例えば紫外線照射などにより本硬化する
ことにより硬化塗膜を形成する工程とを含むことを特徴
とするものである。
【００１０】第１ならびに第２の本発明は前述のような
構成になっており、スピンコートにより塗膜を形成する
際、光ディスク基板に突起部を設けているため、塗膜構
成材料が光ディスク基板の外周側に偏らずほぼ均一に流
延して、全体的に厚みが均一な塗膜を形成することがで
きる。
構成になっており、スピンコートにより塗膜を形成する
際、光ディスク基板に突起部を設けているため、塗膜構
成材料が光ディスク基板の外周側に偏らずほぼ均一に流
延して、全体的に厚みが均一な塗膜を形成することがで
きる。
【００１１】第３の本発明は前述のような構成になって
おり、スピンコートにより塗膜を形成する際、光ディス
ク基板に突起部を設けていることと、塗膜構成材料（硬
化性樹脂）を流延する際にそれを予備硬化していること
の相乗的効果から、塗膜構成材料が光ディスク基板の外
周側に偏らずほぼ均一に流延して、全体的に厚みが均一
な塗膜を形成することができる。
おり、スピンコートにより塗膜を形成する際、光ディス
ク基板に突起部を設けていることと、塗膜構成材料（硬
化性樹脂）を流延する際にそれを予備硬化していること
の相乗的効果から、塗膜構成材料が光ディスク基板の外
周側に偏らずほぼ均一に流延して、全体的に厚みが均一
な塗膜を形成することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１は実施形態に係る光ディスク
の断面図であり、例えば相変化形光ディスクあるいは光
−磁気ディスクを対象としている。
に基づいて説明する。図１は実施形態に係る光ディスク
の断面図であり、例えば相変化形光ディスクあるいは光
−磁気ディスクを対象としている。
【００１３】本実施形態に係る光ディスク基板１は、中
央に回転軸となるモータのスピンドル部が挿入される円
形の孔部１ａを有する円盤状の透明基板で、基板１の一
主面１ｂ上に情報信号に対応した微細な凹凸部（図示せ
ず）が形成されている。基板１の材料としてはポリカー
ボネート樹脂やポリオレフィン樹脂等のプラスチック材
料が用いられる。基板１の一主面１ｂ上に記録膜や反射
膜などの各種機能膜（ともに図示せず）が積層され、さ
らにその上に各種機能膜を大気中の水分や酸素から保護
するための保護膜３が形成される。
央に回転軸となるモータのスピンドル部が挿入される円
形の孔部１ａを有する円盤状の透明基板で、基板１の一
主面１ｂ上に情報信号に対応した微細な凹凸部（図示せ
ず）が形成されている。基板１の材料としてはポリカー
ボネート樹脂やポリオレフィン樹脂等のプラスチック材
料が用いられる。基板１の一主面１ｂ上に記録膜や反射
膜などの各種機能膜（ともに図示せず）が積層され、さ
らにその上に各種機能膜を大気中の水分や酸素から保護
するための保護膜３が形成される。
【００１４】このとき基板１上の前記孔部１ａよりも若
干径方向外側でかつ基板１の記録領域（図示せず）より
も内側の位置に、予め環状の突起部２が基板１と一体に
形成され、突起部２は内周面と外周面が互いに傾斜した
断面形状が台形をしており、その外周面を起点に保護膜
３が形成される。そのため完成された光ディスクでは、
突起部２の外周面に保護膜３の内周部が隣接した状態に
なる。例えば基板１の外径を１２０ｍｍ、孔部１ａの内
径を１５ｍｍとし、保護膜３の厚さ３ａを０．１ｍｍと
する場合、突起部２の厚さ２ａは０．１ｍｍ以上、すな
わち突起部２の厚さ２ａは保護膜３の厚さ３ａ以上とす
ることが好ましい。本実施形態では図１に示すように、
突起部２の厚さ２ａは保護膜３の厚さ３ａよりも若干高
く設計されている（厚さ２ａ＞厚さ３ａ）。
干径方向外側でかつ基板１の記録領域（図示せず）より
も内側の位置に、予め環状の突起部２が基板１と一体に
形成され、突起部２は内周面と外周面が互いに傾斜した
断面形状が台形をしており、その外周面を起点に保護膜
３が形成される。そのため完成された光ディスクでは、
突起部２の外周面に保護膜３の内周部が隣接した状態に
なる。例えば基板１の外径を１２０ｍｍ、孔部１ａの内
径を１５ｍｍとし、保護膜３の厚さ３ａを０．１ｍｍと
する場合、突起部２の厚さ２ａは０．１ｍｍ以上、すな
わち突起部２の厚さ２ａは保護膜３の厚さ３ａ以上とす
ることが好ましい。本実施形態では図１に示すように、
突起部２の厚さ２ａは保護膜３の厚さ３ａよりも若干高
く設計されている（厚さ２ａ＞厚さ３ａ）。
【００１５】図２（ａ），（ｂ）は、保護膜３を形成す
る方法を示す説明図である。ターンテーブル１２はモー
タなどの回転機構（図示せず）により回転可能で、回転
数及び回転時間が制御される。基板１は、脱着ロボット
によりターンテーブル１２に搭載され、エアー吸引機構
（ともに図示せず）により固定される。最初、基板１は
ターンテーブル１２により低速回転され、同図（ａ）に
示すようにノズル１１から流動性を有する光硬化性樹脂
４が突起部２の外周面２ａに接しながら約一周にわたり
滴下される。光硬化性樹脂４として、例えばアクリル系
紫外線硬化性樹脂などが用いられる。
る方法を示す説明図である。ターンテーブル１２はモー
タなどの回転機構（図示せず）により回転可能で、回転
数及び回転時間が制御される。基板１は、脱着ロボット
によりターンテーブル１２に搭載され、エアー吸引機構
（ともに図示せず）により固定される。最初、基板１は
ターンテーブル１２により低速回転され、同図（ａ）に
示すようにノズル１１から流動性を有する光硬化性樹脂
４が突起部２の外周面２ａに接しながら約一周にわたり
滴下される。光硬化性樹脂４として、例えばアクリル系
紫外線硬化性樹脂などが用いられる。
【００１６】次に外周面２ａの外側にある光硬化性樹脂
４のみが露光されるようにそれ以外の所をマスクし、光
硬化性樹脂４を露光して予備硬化する。その後に基板１
を高速回転することにより、光硬化性樹脂４は遠心力に
より基板１の外周側に向けて薄く流延される〔同図
（ｂ）参照〕。
４のみが露光されるようにそれ以外の所をマスクし、光
硬化性樹脂４を露光して予備硬化する。その後に基板１
を高速回転することにより、光硬化性樹脂４は遠心力に
より基板１の外周側に向けて薄く流延される〔同図
（ｂ）参照〕。
【００１７】この高速回転時に光硬化性樹脂４は、突起
部２の存在と、予備硬化及び光硬化性樹脂４自体の表面
張力により吸着しながら回転延伸するため、最内周部か
ら外周部にかけて均一な膜厚となる。次に塗布面全面に
露光用の光を一様に照射して硬化させ、保護膜３を形成
する。
部２の存在と、予備硬化及び光硬化性樹脂４自体の表面
張力により吸着しながら回転延伸するため、最内周部か
ら外周部にかけて均一な膜厚となる。次に塗布面全面に
露光用の光を一様に照射して硬化させ、保護膜３を形成
する。
【００１８】図３は基板１を射出成形する金型２０の要
部断面図で、それの構成と基板１の製造方法について説
明する。基板１は、金型２０のキャビティー３０１内に
例えばポリカーボネート樹脂などの溶融樹脂を射出充填
することにより形成される。スタンパ２２は、内周スタ
ンパ押さえ２１とスタンパ内周吸引エアー回路２４と外
周スタンパ押さえ２３により固定側鏡面部材２５に固定
されている。スタンパ２２の表面に情報として形成され
ている凹凸が、基板１の射出成形により基板１の一主面
１ｂに転写される。
部断面図で、それの構成と基板１の製造方法について説
明する。基板１は、金型２０のキャビティー３０１内に
例えばポリカーボネート樹脂などの溶融樹脂を射出充填
することにより形成される。スタンパ２２は、内周スタ
ンパ押さえ２１とスタンパ内周吸引エアー回路２４と外
周スタンパ押さえ２３により固定側鏡面部材２５に固定
されている。スタンパ２２の表面に情報として形成され
ている凹凸が、基板１の射出成形により基板１の一主面
１ｂに転写される。
【００１９】キャビリング２７は可動側鏡面部材２６に
移動自在に組み込まれて、基板１の外周部を形成する。
可動側鏡面部材２６の中央部に、基板１の孔部１ａを打
ち抜くためのカットパンチ２９と、基板取出用のエジェ
クタ２８が設けられている。
移動自在に組み込まれて、基板１の外周部を形成する。
可動側鏡面部材２６の中央部に、基板１の孔部１ａを打
ち抜くためのカットパンチ２９と、基板取出用のエジェ
クタ２８が設けられている。
【００２０】この金型２０は基板１の突起部２を一体成
形するため、内周スタンパ押さえ２１に環状の凹部２１
ａが形成されている。符号２５ａは固定側鏡面部材２５
の中央部を示す。
形するため、内周スタンパ押さえ２１に環状の凹部２１
ａが形成されている。符号２５ａは固定側鏡面部材２５
の中央部を示す。
【００２１】前記実施形態では保護膜を形成する場合に
ついて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、例えばシアニン系色素などの有機色素を含有する
記録層など他の塗膜を形成する場合にも適用可能であ
る。
ついて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、例えばシアニン系色素などの有機色素を含有する
記録層など他の塗膜を形成する場合にも適用可能であ
る。
【００２２】前記実施形態では突起部を基板と一体成形
したが、例えば金属製などの環状体あるいは筒状体を基
体にインサートモールドして、基板から突出した突起部
を形成することも可能である。但し突起部を形成する材
料は、スピンコートする保護膜あるいは記録層を形成す
る材料に対して濡れ性の良い材料を選択することが望ま
しい。
したが、例えば金属製などの環状体あるいは筒状体を基
体にインサートモールドして、基板から突出した突起部
を形成することも可能である。但し突起部を形成する材
料は、スピンコートする保護膜あるいは記録層を形成す
る材料に対して濡れ性の良い材料を選択することが望ま
しい。
【００２３】前記実施形態では塗膜を一層形成する場合
について説明したが、塗膜を重ねて二層以上形成する場
合もあり、その場合の突起部の高さは積層する塗膜のト
ータル厚さ以上な設計するとよい。
について説明したが、塗膜を重ねて二層以上形成する場
合もあり、その場合の突起部の高さは積層する塗膜のト
ータル厚さ以上な設計するとよい。
【００２４】
【発明の効果】第１ならびに第２の本発明は前述のよう
な構成になっており、スピンコートにより塗膜を形成す
る際、光ディスク基板に突起部を設けているため、塗膜
構成材料が光ディスク基板の外周側に偏らずほぼ均一に
流延して、全体的に厚みが均一な塗膜を形成することが
できる。
な構成になっており、スピンコートにより塗膜を形成す
る際、光ディスク基板に突起部を設けているため、塗膜
構成材料が光ディスク基板の外周側に偏らずほぼ均一に
流延して、全体的に厚みが均一な塗膜を形成することが
できる。
【００２５】第３の本発明は前述のような構成になって
おり、スピンコートにより塗膜を形成する際、光ディス
ク基板に突起部を設けていることと、塗膜構成材料（硬
化性樹脂）を流延する際にそれを予備硬化していること
の相乗的効果から、塗膜構成材料が光ディスク基板の外
周側に偏らずほぼ均一に流延して、全体的に厚みが均一
な塗膜を形成することができる。
おり、スピンコートにより塗膜を形成する際、光ディス
ク基板に突起部を設けていることと、塗膜構成材料（硬
化性樹脂）を流延する際にそれを予備硬化していること
の相乗的効果から、塗膜構成材料が光ディスク基板の外
周側に偏らずほぼ均一に流延して、全体的に厚みが均一
な塗膜を形成することができる。
【００２６】以上のことから本発明は、全体的に厚さが
均一な塗膜が形成され、品質の安定した光ディスク及び
その製造方法を提供することができる。
均一な塗膜が形成され、品質の安定した光ディスク及び
その製造方法を提供することができる。
【図１】本発明の実施の形態に係る光ディスクの断面図
である。
である。
【図２】本発明の実施の形態に係る保護膜形成方法の説
明図である。
明図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る基板の射出成形金型
の要部断面図である。
の要部断面図である。
【図４】従来例の光ディスクの断面図である。
１ 光ディスク基板 １ａ 円形の孔部 １ｂ 基板１の一主面 ２ 突起部 ２ａ 突起部の厚さ ３ 保護膜 ３ａ 保護膜の厚さ ４ 光硬化性樹脂 １１ ノズル １２ ターンテーブル ２０ 射出成形金型 ２１ 内周スタンパ押さえ ２１ａ 内周スタンパ押さえ２１の凹部 ２２ スタンパ ２３ 外周スタンパ押さえ ２４ スタンパ内周吸引エアー回路 ２５ 固定側鏡面部材 ２５ａ 固定側鏡面部材中央部 ２６ 可動側鏡面部材 ２７ キャビリング ２８ エジェクタ ３０１ キャビティ
Claims (9)
- 【請求項１】 光ディスク基板上にスピンコートにより
塗膜を形成する光ディスクにおいて、前記塗膜の内周部
に隣接する環状の突起部を前記光ディスク基板に設けた
ことを特徴とする光ディスク。 - 【請求項２】 請求項１記載の光ディスクにおいて、前
記突起部の高さが前記塗膜の膜厚以上であることを特徴
とする光ディスク。 - 【請求項３】 請求項１記載の光ディスクにおいて、前
記突起部が前記光ディスク基板に一体成形されているこ
とを特徴とする光ディスク。 - 【請求項４】 請求項１記載の光ディスクにおいて、前
記塗膜が保護膜であることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項５】 光ディスク基板上にスピンコート法によ
り硬化性樹脂からなる塗膜を形成する光ディスクの製造
方法において、 前記光ディスク基板の内周部に環状の突起部を設ける工
程と、 その光ディスク基板を低速回転させながら、前記突起部
の外周面に沿って流動性を有する未硬化の硬化性樹脂を
供給する工程と、 前記光ディスク基板を高速回転させて、硬化性樹脂をデ
ィスク基板上で径方向外側に向けて膜状に延伸する工程
と、 延伸により形成された膜を硬化して硬化塗膜を形成する
工程とを含むことを特徴とする光ディスクの製造方法。 - 【請求項６】 光ディスク基板上にスピンコート法によ
り硬化性樹脂からなる塗膜を形成する光ディスクの製造
方法において、 前記光ディスク基板の内周部に環状の突起部を設ける工
程と、 その光ディスク基板を低速回転させながら、前記突起部
の外周面に沿って流動性を有する未硬化の硬化性樹脂を
供給する工程と、 前記光ディスク基板上に供給された未硬化の硬化性樹脂
を予備硬化する工程と、 前記光ディスク基板を高速回転させて、予備硬化の硬化
性樹脂をディスク基板上で径方向外側に向けて膜状に延
伸する工程と、 延伸により形成された膜を本硬化することにより硬化塗
膜を形成する工程とを含むことを特徴とする光ディスク
の製造方法。 - 【請求項７】 請求項５または６記載の光ディスクの製
造方法において、前記突起部の高さが前記塗膜の膜厚以
上であることを特徴とする光ディスクの製造方法。 - 【請求項８】 請求項５または６記載の光ディスクの製
造方法において、前記突起部が前記光ディスク基板に一
体成形されていることを特徴とする光ディスクの製造方
法。 - 【請求項９】 請求項５または６記載の光ディスクの製
造方法において、前記塗膜が保護膜であることを特徴と
する光ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34790599A JP4174151B2 (ja) | 1999-12-07 | 1999-12-07 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34790599A JP4174151B2 (ja) | 1999-12-07 | 1999-12-07 | 光ディスク |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008172235A Division JP4174555B1 (ja) | 2008-07-01 | 2008-07-01 | 光ディスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001167472A true JP2001167472A (ja) | 2001-06-22 |
| JP4174151B2 JP4174151B2 (ja) | 2008-10-29 |
Family
ID=18393410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34790599A Expired - Fee Related JP4174151B2 (ja) | 1999-12-07 | 1999-12-07 | 光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4174151B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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