JP4174555B1 - 光ディスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光ディスク基板1の中央に孔部1aがあり、その孔部1aより径方向外側で且つ記録領域より内側の部分に、傾斜した外周面を備えた突起部2を設ける工程と、光ディスク基板1を低速回転させながら、突起部2の外周面に沿って流動性を有する硬化前の前記硬化性樹脂を供給する工程と、光ディスク基板1を高速回転させて、硬化前の前記硬化性樹脂をディスク基板1上で径方向外側に向けて膜状に延伸して塗膜を形成する工程と、延伸により形成された塗膜を硬化して硬化性樹脂からなる塗膜3を形成する工程を含むことを特徴とする。
【選択図】図2
Description
光ディスク基板の内周部に環状の突起部を設ける工程と、
その光ディスク基板を低速回転させながら、前記突起部の外周面に沿って流動性を有する硬化前の前記硬化性樹脂を供給する工程と、
前記光ディスク基板を高速回転させて、前記硬化前の前記硬化性樹脂をディスク基板上で径方向外側に向けて膜状に延伸して前記塗膜を形成する工程と、
延伸により形成された前記塗膜を硬化して前記硬化性樹脂からなる塗膜を形成する工程を含むことを特徴とするものである。
光ディスク基板の内周部に環状の突起部を設ける工程と、
その光ディスク基板を低速回転させながら、前記突起部の外周面に沿って流動性を有する硬化前の前記硬化性樹脂を供給する工程と、
前記光ディスク基板上に供給された前記硬化前の前記硬化性樹脂を予備硬化する工程と、
前記光ディスク基板を高速回転させて、前記予備硬化された前記硬化性樹脂をディスク基板上で径方向外側に向けて膜状に延伸して前記塗膜を形成する工程と、
延伸により形成された前記塗膜を本硬化して前記硬化性樹脂からなる塗膜を形成する工程を含むことを特徴とするものである。
光ディスク基板上にスピンコート法により硬化性樹脂からなる塗膜を形成する光ディスクの製造方法において、
前記光ディスク基板の中央に孔部があり、その孔部より径方向外側で且つ記録領域より内側の部分に、傾斜した外周面を備えた突起部を設ける工程と、
その光ディスク基板を低速回転させながら、前記突起部の外周面に沿って流動性を有する硬化前の前記硬化性樹脂を供給する工程と、
前記光ディスク基板を高速回転させて、前記硬化前の前記硬化性樹脂をディスク基板上で径方向外側に向けて膜状に延伸して前記塗膜を形成する工程と、
延伸により形成された前記塗膜を硬化して前記硬化性樹脂からなる塗膜を形成する工程を含むことを特徴とするものである。
光ディスク基板の中央部の記録領域より内側の部分に、傾斜した外周面を備えた突起部を設ける工程と、
前記突起部の外周面に沿って流動性を有する硬化前の前記硬化性樹脂を供給する工程と、
前記光ディスク基板を回転させて、前記硬化前の前記硬化性樹脂をディスク基板上で径方向外側に向けて膜状に延伸して前記塗膜を形成する工程と、
延伸により形成された前記塗膜を硬化して前記硬化性樹脂からなる塗膜を形成する工程を含むことを特徴とするものである。
傾斜した外周面を備えた突起部を前記光ディスク基板の中央部にその光ディスク基板から突出するように設ける工程と、
前記突起部の外周面に沿って流動性を有する硬化前の前記硬化性樹脂を供給する工程と、
前記光ディスク基板を回転させて、前記硬化前の前記硬化性樹脂をディスク基板上で径方向外側に向けて膜状に延伸して前記塗膜を形成する工程と、
延伸により形成された前記塗膜を硬化して前記硬化性樹脂からなる塗膜を形成する工程を含むことを特徴とするものである。
1a 円形の孔部
1b 基板1の一主面
2 突起部
2a 突起部の厚さ
2b 外周面
3 保護膜
3a 保護膜の厚さ
4 光硬化性樹脂
11 ノズル
12 ターンテーブル
20 射出成形金型
21 内周スタンパ押さえ
21a 内周スタンパ押さえ21の凹部
22 スタンパ
23 外周スタンパ押さえ
24 スタンパ内周吸引エアー回路
25 固定側鏡面部材
25a 固定側鏡面部材中央部
26 可動側鏡面部材
27 キャビリング
28 エジェクタ
301 キャビティ
Claims (15)
- 光ディスク基板上にスピンコート法により硬化性樹脂からなる塗膜を形成する光ディスクの製造方法において、
前記光ディスク基板の内周部に環状の突起部を設ける工程と、
その光ディスク基板を低速回転させながら、前記突起部の外周面に沿って流動性を有する硬化前の前記硬化性樹脂を供給する工程と、
前記光ディスク基板を高速回転させて、前記硬化前の前記硬化性樹脂をディスク基板上で径方向外側に向けて膜状に延伸して前記塗膜を形成する工程と、
延伸により形成された前記塗膜を硬化して前記硬化性樹脂からなる塗膜を形成する工程を含むことを特徴とする光ディスクの製造方法。 - 光ディスク基板上にスピンコート法により硬化性樹脂からなる塗膜を形成する光ディスクの製造方法において、
前記光ディスク基板の内周部に環状の突起部を設ける工程と、
その光ディスク基板を低速回転させながら、前記突起部の外周面に沿って流動性を有する硬化前の前記硬化性樹脂を供給する工程と、
前記光ディスク基板上に供給された前記硬化前の前記硬化性樹脂を予備硬化する工程と、
前記光ディスク基板を高速回転させて、前記予備硬化された前記硬化性樹脂をディスク基板上で径方向外側に向けて膜状に延伸して前記塗膜を形成する工程と、
延伸により形成された前記塗膜を本硬化して前記硬化性樹脂からなる塗膜を形成する工程を含むことを特徴とする光ディスクの製造方法。 - 請求項1または2記載の光ディスクの製造方法において、前記突起部の高さが前記塗膜の膜厚以上であることを特徴とする光ディスクの製造方法。
- 請求項1または2記載の光ディスクの製造方法において、前記突起部が前記光ディスク基板に一体成形されていることを特徴とする光ディスクの製造方法。
- 請求項1または2記載の光ディスクの製造方法において、前記塗膜が保護膜であることを特徴とする光ディスクの製造方法。
- 光ディスク基板上にスピンコート法により硬化性樹脂からなる塗膜を形成する光ディスクの製造方法において、
前記光ディスク基板の中央に孔部があり、その孔部より径方向外側で且つ記録領域より内側の部分に、傾斜した外周面を備えた突起部を設ける工程と、
その光ディスク基板を低速回転させながら、前記突起部の外周面に沿って流動性を有する硬化前の前記硬化性樹脂を供給する工程と、
前記光ディスク基板を高速回転させて、前記硬化前の前記硬化性樹脂をディスク基板上で径方向外側に向けて膜状に延伸して前記塗膜を形成する工程と、
延伸により形成された前記塗膜を硬化して前記硬化性樹脂からなる塗膜を形成する工程を含むことを特徴とする光ディスクの製造方法。 - 請求項6記載の光ディスクの製造方法において、前記突起部が環状の突起部であることを特徴とする光ディスクの製造方法。
- 光ディスク基板上にスピンコート法により硬化性樹脂からなる塗膜を形成する光ディスクの製造方法において、
前記光ディスク基板の中央部の記録領域より内側の部分に、傾斜した外周面を備えた突起部を設ける工程と、
前記突起部の外周面に沿って流動性を有する硬化前の前記硬化性樹脂を供給する工程と、
前記光ディスク基板を回転させて、前記硬化前の前記硬化性樹脂をディスク基板上で径方向外側に向けて膜状に延伸して前記塗膜を形成する工程と、
延伸により形成された前記塗膜を硬化して前記硬化性樹脂からなる塗膜を形成する工程を含むことを特徴とする光ディスクの製造方法。 - 光ディスク基板上にスピンコート法により硬化性樹脂からなる塗膜を形成する光ディスクの製造方法において、
傾斜した外周面を備えた突起部を前記光ディスク基板の中央部にその光ディスク基板から突出するように設ける工程と、
前記突起部の外周面に沿って流動性を有する硬化前の前記硬化性樹脂を供給する工程と、
前記光ディスク基板を回転させて、前記硬化前の前記硬化性樹脂をディスク基板上で径方向外側に向けて膜状に延伸して前記塗膜を形成する工程と、
延伸により形成された前記塗膜を硬化して前記硬化性樹脂からなる塗膜を形成する工程を含むことを特徴とする光ディスクの製造方法。 - 請求項6ないし9のいずれか1項記載の光ディスクの製造方法において、前記突起部が前記光ディスク基板に一体成形されていることを特徴とする光ディスクの製造方法。
- 請求項6ないし9のいずれか1項記載の光ディスクの製造方法において、前記突起部が前記光ディスク基板にインサートモールドされていることを特徴とする光ディスクの製造方法。
- 請求項11記載の光ディスクの製造方法において、前記突起部が環状体あるいは筒状体であることを特徴とする光ディスクの製造方法。
- 請求項6ないし9、11、12のいずれか1項記載の光ディスクの製造方法において、前記突起部が金属製であることを特徴とする光ディスクの製造方法。
- 請求項6ないし13のいずれか1項記載の光ディスクの製造方法において、前記塗膜が保護膜であり、その保護膜が光入射面上に形成されていることを特徴とする光ディスクの製造方法。
- 請求項6ないし14のいずれか1項記載の光ディスクの製造方法において、前記塗膜の厚さが0.1mmであることを特徴とする光ディスクの製造方法。
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