JP4118573B2 - 光ディスク基板の製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスク基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、情報記録の分野においては、光記録媒体としての光ディスクに関する研究が進められている。この光ディスクは、非接触で記録／再生が行えること、高い記録密度が達成できること、再生専用型・追記型・書換可能型のそれぞれの記録形態に対応できること等の利点を有し、産業用から民生用まで幅広い用途で使用されている。その中でも、特に、再生専用型の光ディスクであるＤＶＤ−ＲＯＭ（Digital Versatile又はVideo Disc−Read Only Memory）や書換可能型の光ディスクであるＤＶＤ±ＲＷ（±ReWritable）等の高い記録密度を有する光ディスクが普及している。
【０００３】
これらの光ディスクは、表面にピットトラックやグルーブトラック等の凹凸パターンを有するスタンパを型にして光ディスク基板を射出成形し、この光ディスク基板の凹凸パターンが形成された表面の上に、アルミニウム等の金属で反射層を形成し、この反射層の上に紫外線硬化樹脂等で保護層を形成した層構成になっている。さらに、書換可能型の光ディスクは、光ディスク基板と反射層との間に相変化材料等で記録層を形成した層構成になっている。
【０００４】
ところで、光ディスクにおいては、高記録密度化が要求されており、これに対応するべく、２つの記録層（第１記録層及び第２記録層）を有する光ディスクが提案されている。この光ディスクは、表面に凹凸パターンを有する第１光ディスク基板上に第１記録層を形成し、表面に凹凸パターンを有する第２光ディスク基板上に反射層を形成し、この反射層の上に第２記録層を形成し、その後、これらの第１光ディスク基板と第２光ディスク基板とを、第１記録層及び第２記録層を内側にして、接着層を介して貼り合わせた層構成になっている。ここで、第１光ディスク基板は、可撓性を有する樹脂により形成されているシート（以下、フレキシブルシートとする）を使用して製造されており、第２光ディスク基板は、スタンパを型にして射出成形により製造されている。この光ディスクに対して情報の記録／再生を行う際には、レーザ光が第１光ディスク基板側から第１記録層及び第２記録層にレンズを介して照射される。
【０００５】
なお、第１光ディスク基板をフレキシブルシートで製造するのは、光ディスクの高記録密度化のためにトラックピッチを狭く形成するので、第１光ディスク基板を薄く形成する必要性が生じるためである。トラックピッチが狭くなると、それに対応させてレーザ光のスポット径を小さくする必要がある。このスポット径を小さくするためには、レーザ光の波長を短くするか、レンズ開口数ＮＡを大きくすれば良い。例えば、レーザ光に青紫色レーザを用いれば、ＮＡを０．８５程度にして、スポット径を非常に小さくすることができる。しかしながら、ＮＡが０．８５程度になると、焦点距離が短くなり、第１記録層及び第２記録層を第１光ディスク基板表面から０．１ｍｍ程度の位置に形成しなければならない。したがって、第１光ディスク基板を薄く形成するめに、フレキシブルシートが使用されている。
【０００６】
この第１光ディスク基板を製造する方法として、特許第２９４２４３０号では、フィルム状に巻かれ、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等で形成されたフレキシブルシートをロールトゥロール（Roll to Roll）方式で搬送しながら、このフレキシブルシートの表面に凹凸パターンを形成し、その後、光ディスク形状に打ち抜いて、第１光ディスク基板を製造している。ここで、フレキシブルシート表面に凹凸パターンを形成する方法としては、フレキシブルシート表面に熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂で転写層を形成し、表面に凹凸パターンを有するスタンパを転写層に押圧して凹凸パターンを転写し、熱硬化させる熱プレス法や、フレキシブルシート表面に紫外線硬化型樹脂で転写層を形成し、この転写層にスタンパを押圧して凹凸パターンを転写し、紫外線硬化させる２Ｐ（Photo Polymerization）法等が提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許第２９４２４３０号で提案されている方法は、フレキシブルシートをディスク形状に打ち抜くときに、位置決めマーク等をモニタリングして位置決めをその度に行うので、リードタイムが長くなる。また、光ディスクでは、回転中心とトラック中心との差である偏心量を６０μｍ以下（オレンジブック規格）に抑える必要があるが、位置決めマークによる位置決めでは、偏心量が６０μｍ以下に抑えられないことがあり、品質のばらつきも発生しやすい。特に、偏心量が大きい場合には、光ディスクに対する情報の記録／再生を行う光ディスクドライブによって、情報の記録／再生を行う時に、レーザ光をトラック上に正確に位置させるトラッキング制御ができなくなり問題である。
【０００８】
また、フレキシブルシートの表面に記録層等の層を形成する場合には、蒸着等による成膜応力によりフレキシブルシートが変形しやすいので、光ディスク基板を変形させず、平坦に形成することは困難である。
【０００９】
本発明の目的は、光ディスクの偏心量を抑えることができる光ディスク基板の製造方法を提供することである。
【００１０】
本発明の目的は、表面が平坦な光ディスク基板を製造することができる光ディスク基板の製造方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の光ディスク基板の製造方法は、フレキシブルシートに中心穴を形成する中心穴形成工程と、表面に凹凸パターンを有するスタンパから前記中心穴形成工程で中心穴が形成された前記フレキシブルシートの表面に中心穴を基準として前記凹凸パターンを転写する転写工程と、前記中心穴形成工程で中心穴が形成された前記フレキシブルシートを光ディスクの完成サイズに中心穴を基準として形成するサイズ形成工程と、を備える。
【００１２】
したがって、フレキシブルシートに中心穴を形成した後に、中心穴を基準として、フレキシブルシートの表面にピットトラックやグルーブトラック等の凹凸パターンをスタンパから転写して形成し、このフレキシブルシートを光ディスクの完成サイズに形成することによって、光ディスク基板の中心穴の中心（回転中心）がトラック中心及び重心と一致して、光ディスク基板の偏心量が少なくなる。
【００１３】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の光ディスク基板の製造方法において、前記サイズ形成工程を行う前に、前記転写工程を行うようにした。
【００１４】
したがって、サイズ形成工程を行う前に転写工程を行うことによって、転写工程でフレキシブルシートの外周部分に変形及び破損等が発生しても、サイズ形成工程でその外周部分が取り除かれる。
【００１５】
請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の光ディスク基板の製造方法において、前記中心穴形成工程を行う前に、前記フレキシブルシートを光ディスクの完成サイズよりも大きく、前記中心穴形成工程で前記フレキシブルシートの中心に中心穴を形成しやすいサイズに形成する大サイズ形成工程を備える。
【００１６】
したがって、中心穴形成工程でフレキシブルシートの中心に中心穴を形成するときの位置合わせが容易になる。
【００１７】
請求項４記載の発明は、請求項１、２又は３記載の光ディスク基板の製造方法において、前記中心穴形成工程では、前記フレキシブルシートが複数枚重ねられている。
【００１８】
したがって、多数枚重ねられたフレキシブルシートに中心穴を形成することによって、フレキシブルシート一枚毎に中心穴を形成する場合に比べ、光ディスク基板の中心穴のばらつきが無くなり、中心穴が短時間で多数枚のフレキシブルシートに形成される。
【００１９】
請求項５記載の発明は、請求項１、２、３又は４記載の光ディスク基板の製造方法において、前記スタンパは、前記凹凸パターンで形成されているトラックの中心に中心を一致させて形成された中心穴を有し、前記転写工程は、回転中心にセンターポールが設けられて回転駆動される回転台に、中心穴を有する前記スタンパを前記センターポールに中心穴を合わせて載置し、前記回転台に載置された前記スタンパの表面上に、加熱、冷却又は光照射により硬化する転写剤を介して、中心穴が形成された前記フレキシブルシートを前記センターポールに中心穴を合わせて載置し、前記回転台を回転駆動することで、前記転写剤により転写層を形成し、又は、形成しながら、加熱、冷却又は光照射により前記転写層を硬化させる。
【００２０】
したがって、スタンパの表面とフレキシブルシートの表面との間に形成された転写層を硬化させることによって、スタンパから転写層のスタンパ側の表面にピットトラックやグルーブトラック等の凹凸パターンが転写され、フレキシブルシートを剥がすと、フレキシブルシートの表面に凹凸パターンを有する転写層が形成される。さらに、回転台のセンターポールに中心穴を合わせてスタンパ及びフレキシブルシートを載置することによって、スタンパからフレキシブルシートの表面に中心穴を基準として凹凸パターンが転写される。
【００２１】
請求項６記載の発明は、請求項５記載の光ディスク基板の製造方法において、前記回転台に載置された前記スタンパの中心穴と前記センターポールとの隙間は、０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下であり、かつ、前記スタンパの表面上に載置された前記フレキシブルシートの中心穴と前記センターポールとの隙間も、０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下である。
【００２２】
したがって、センターポールに対するスタンパの中心穴の隙間とセンターポールに対するフレキシブルシートの中心穴の隙間とをそれぞれ０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下にすることによって、光ディスク基板の中心穴の中心（回転中心）とトラック中心とが一致して、光ディスク基板の偏心量が少なくなる。
【００２３】
請求項７記載の発明は、請求項１、２、３、４、５又は６記載の光ディスク基板の製造方法において、前記転写工程で前記凹凸パターンが転写された前記フレキシブルシートの表面上に記録層を形成する層形成工程を備える。
【００２４】
したがって、転写層の上に記録層を形成することによって、転写層と同じ凹凸パターンが表面に形成された記録層を有する光ディスク基板が形成される。
【００２５】
請求項８記載の発明は、請求項７記載の光ディスク基板の製造方法において、前記層形成工程では、前記転写工程で前記凹凸パターンが転写された前記フレキシブルシートに中心穴を覆う保護部が設けられている。
【００２６】
したがって、フレキシブルシートの中心穴を保護部により覆うことによって、フレキシブルシートの表面上に層を形成するときに、フレキシブルシートの裏面に層が形成されることは無い。
【００２７】
請求項９記載の発明は、請求項７又は８記載の光ディスク基板の製造方法において、前記層形成工程では、前記転写工程で前記凹凸パターンが転写された前記フレキシブルシートに緊張力が加えられている。
【００２８】
したがって、フレキシブルシートに緊張力を加えることによって、フレキシブルシートの表面上に層を形成するとき、蒸着等による成膜応力により発生する局所的な変形が防がれる。
【００２９】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の一形態である光ディスク基板の製造方法について図１ないし図３を参照して説明する。図１は、本実施の形態の光ディスク基板Ｆｂの製造工程を示す外観斜視図である。
【００３０】
図１に示すように、光ディスク基板Ｆｂの製造工程は、複数枚重ねられたフレキシブルシートＦを光ディスクＤの完成サイズより大きいサイズの円形に形成する大サイズ形成工程１と、完成サイズより大きいサイズに形成され、複数枚重ねられた円形フレキシブルシートＦａに中心穴Ｆｈを形成する中心穴形成工程２と、表面にピットトラックやグルーブトラック等の凹凸パターンを有するスタンパＳから中心穴Ｆｈが形成された円形フレキシブルシートＦａの表面に中心穴Ｆｈを基準として凹凸パターンを転写する転写工程３と、凹凸パターンが表面に転写された円形フレキシブルシートＦａの表面の上に各種の層を形成する層形成工程４と、各種の層が形成され、複数枚重ねられた円形フレキシブルシートＦａを光ディスクＤの完成サイズに中心穴Ｆｈを基準として形成するサイズ形成工程５と、から構成されている。
【００３１】
大サイズ形成工程１では、光ディスクＤの完成サイズより大きい直径で形成された同心円状の刃を有する打ち抜き機を使用する。この打ち抜き機により、複数枚重ねられたフレキシブルシートＦに同心円状の刃を圧接して、フレキシブルシートＦを光ディスクＤの完成サイズより大きく、中心穴形成工程２でフレキシブルシートＦの中心に中心穴を形成しやすいサイズの円形に打ち抜く。これにより、フレキシブルシートＦは、光ディスクＤの完成サイズより大きいサイズの円形に形成され、円形フレキシブルシートＦａとなる。したがって、中心穴形成工程２で円形フレキシブルシートＦａの中心に中心穴Ｆｈを形成するときの位置合わせが容易になるので、中心穴形成工程２を短時間で行うことができる。ここで、光ディスクＤの形状は、円形であるがこれに限るものではない。
【００３２】
なお、フレキシブルシートの材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート等のプラスチックが用いられる。
【００３３】
中心穴形成工程２では、形成しようとする中心穴Ｆｈと同一直径で形成された同心円状の刃を有する打ち抜き機を使用する。この打ち抜き機により、複数枚重ねられた円形フレキシブルシートＦａに同心円状の刃を圧接して、中心穴Ｆｈを円形に打ち抜く。このとき、同心円状の刃は、中心を円形フレキシブルシートＦａの中心に一致させる位置決めが行われている。これにより、円形フレキシブルシートＦａは、中心位置に中心穴Ｆｈが形成されている。
【００３４】
このように多数枚重ねられた円形フレキシブルシートＦａに中心穴Ｆｈを形成することによって、円形フレキシブルシートＦａ一枚毎に中心穴Ｆｈを形成する場合に比べ、光ディスク基板Ｆｂの中心穴Ｆｈのばらつきが無くなるので、光ディスクＤの品質が向上し、さらに、中心穴Ｆｈが短時間で多数枚の円形フレキシブルシートＦａに形成されるので、リードタイムを短縮することができる。
【００３５】
転写工程３では、スタンパＳから円形フレキシブルシートＦａの表面に凹凸パターンを転写する転写装置１０を使用する。図２は、スタンパＳから円形フレキシブルシートＦａの表面に凹凸パターンを転写する転写工程を示す縦断面図である。図２に示すように、転写装置１０には、中心にセンターポール１１が形成された回転台１２が設けられ、この回転台１２に載置固定されるスタンパＳ上に転写剤１３を塗布する塗布ノズル１４が設けられている。そして、回転台１２は、回転軸１５を回転中心として回転駆動される。なお、スタンパＳは、トラック中心に中心を一致させて形成された中心穴Ｓｈを有し、この中心穴Ｓｈをセンターポール１１に合わせて載置される。ここで、転写剤１３としては、例えば、紫外線硬化樹脂を使用している。
【００３６】
まず、回転台１２にスタンパＳを載置固定した後、塗布ノズル１４を所定の塗布位置へ移動させ、スタンパＳを回転台１２と共に回転させながら、塗布ノズル１４から転写剤１３を吐出させる。これにより、転写剤１３は、スタンパＳの表面上に円環状に塗布される（図２（ａ）参照）。
【００３７】
次に、塗布ノズル１４を退避位置に移動させ、円形フレキシブルシートＦａの中心穴Ｆｈをセンターポール１１に合わせて、スタンパＳの表面上に表面を下にして円形フレキシブルシートＦａを載置させ、回転台１２を回転させる（図２（ｂ）参照）。これにより、転写剤１３は、スタンパＳの外周まで浸透し、スタンパＳの表面と円形フレキシブルシートＦａとの間に転写層１３ａが形成される（図２（ｃ）参照）。
【００３８】
最後に、紫外線を照射して、転写層１３ａを硬化させた後、円形フレキシブルシートＦａをスタンパＳから剥がす。これにより、円形フレキシブルシートＦａの表面には、スタンパＳの凹凸パターンを表面に有する転写層１３ａが形成されている。このようにして、スタンパＳから円形フレキシブルシートＦａの表面に凹凸パターンを転写することができる。さらに、回転台１２のセンターポール１１に中心穴Ｓｈ，Ｆｈを合わせてスタンパＳ及び円形フレキシブルシートＦａを載置することによって、スタンパＳから円形フレキシブルシートＦａの表面に中心穴Ｓｈ，Ｆｈを基準として凹凸パターンが転写されるので、光ディスク基板Ｆｂの中心穴Ｆｈの中心（回転中心）とトラック中心との偏心量を抑えることができる。
【００３９】
なお、紫外線の照射は、回転台１２を回転して転写剤１３をスタンパＳの外周に浸透させるときに、同時に行っても良い。また、転写剤１３としては、例えば、熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂を使用しても良く、この場合には、冷却又は加熱により転写層１３ａを硬化させる。
【００４０】
ここで、転写装置１０によりスタンパＳの凹凸パターンを円形フレキシブルシートＦａの表面に転写するときには、回転台１２に載置されたスタンパＳの中心穴Ｓｈとセンターポール１１との隙間ＳＬ（以下、スタンパ隙間ＳＬとする）を０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下として、さらに、スタンパＳの表面上に載置された円形フレキシブルシートＦａの中心穴Ｆｈとセンターポール１１との隙間ＦＬ（以下、フレキシブルシート隙間ＦＬとする）を０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下にしている（図２（ｃ）参照）。これにより、光ディスク基板Ｆｂの中心穴Ｆｈの中心（回転中心）とトラック中心との偏心量が少なくなるので、光ディスクＤの偏心量を抑えることができる。これらの隙間ＳＬ，ＦＬは、スタンパＳの中心穴Ｓｈの直径及び円形フレキシブルシートＦａの中心穴Ｆｈの直径をセンターポール１１に基づいて変化させることで調整される。なお、これらの隙間ＳＬ，ＦＬは、センターポール１１の直径を変化させることでも調整することができる。この場合には、センターポール１１を回転台１２に着脱自在に設け、直径の異なるセンターポール１１を数種類用意しておくと良い。
【００４１】
層形成工程４では、円形フレキシブルシートＦａの表面に形成された転写層１３ａの上に層を形成する。図３は、円形フレキシブルシートＦａの表面に層を形成する層形成工程を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）及び（ｃ）は縦断面図である。図３（ａ）及び（ｂ）に示すように、まず、円形フレキシブルシートＦａに、転写層１３ａが形成された面の反対面から、中心穴Ｆｈを覆う保護部としての保護シート２０を貼り付ける。この保護シート２０は、例えば、密着力の弱いシール状のシートであるが、蒸着等により各種の層が形成されるときに剥がれることはない。これにより、円形フレキシブルシートＦａの転写層１３ａの上に層を形成するときに、円形フレキシブルシートＦａの裏面に層が形成されることは無いので、品質の良い光ディスク基板Ｆｂを製造することができる。
【００４２】
次に、光ディスクＤの完成サイズと同じ外径を有する内リング２１の上に、保護シート２０が貼り付けられた円形フレキシブルシートＦａを載せる。なお、内リング２１の外径は、例えば、光ディスクＤの完成サイズより大きくても構わない。そして、円形フレキシブルシートＦａの外周部を一定の力で引っ張ることで、円形フレキシブルシートＦａに緊張力を加えながら、円形フレキシブルシートＦａの上から、内リング２１の外径より少し内径が大きい外リング２２を載せる。この外リング２２と内リング２１との隙間は、フレキシブルシートＦａの厚さに基づいて決定されている。そして、円形フレキシブルシートＦａに加えられている緊張力は、円形フレキシブルシートＦａと内リング２１の外周面及び外リング２２の内周面との摩擦力により保持されている。これにより、円形フレキシブルシートＦａの表面上に層を形成するとき、蒸着等による成膜応力により発生する局所的な変形が防がれるので、表面が平坦な光ディスク基板Ｆｂを製造することができる。
【００４３】
この状態で、図３（ｃ）に示すように、円形フレキシブルシートＦａの転写層１３ａの上に、各種の層として、蒸着により、例えば、記録特性を調整又は向上させる誘電体層２３ａを形成し、この誘電体層２３ａの上に情報が記録される記録層２４を形成し、この記録層２４の上に誘電体層２３ｂを形成して、さらに、レーザ光等による熱を放散する放熱層２５を形成する。その後、外リング２２及び内リング２１を解体して、円形フレキシブルシートＦａから保護シート２０を剥がす。これにより、各種の層を有する円形フレキシブルシートＦａが形成される。
【００４４】
なお、誘電体層２３の材料としては、例えば、ＺｎＳ−ＳｉＯ２等が用いられ、記録層２４の材料としては、例えば、相変化材料が用いられる。この相変化材料としては、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系材料やＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系材料等を用いることができる。他の記録層２４の材料としては、例えば、有機色素材料等も用いられる。また、放熱層２５の材料としては、例えば、ＡｌＮ（窒化アルミ）やＩｎ−Ｓｎ−Ｏ系材料等が用いられる。
【００４５】
サイズ形成工程５では、転写装置１０のセンターポール１１と同じ直径であるセンターポールを有し、光ディスクＤの完成サイズと同じ直径で形成されている同心円状の刃を有する打ち抜き機を使用する。この打ち抜き機のセンターポールに中心穴Ｆｈを合わせて、層が形成された円形フレキシブルシートＦａを複数枚重ねて載置する。そして、複数枚重ねられた円形フレキシブルシートＦａに刃を圧接して、光ディスクＤの完成サイズの円形に打ち抜く。これにより、円形フレキシブルシートＦａは、光ディスクＤの完成サイズの円形に形成され、光ディスク基板Ｆｂとなる。
【００４６】
このように多数枚重ねられた円形フレキシブルシートＦａを光ディスクＤの完成サイズに形成することによって、一枚毎に円形フレキシブルシートＦａを光ディスクＤの完成サイズに形成する場合に比べ、中心穴Ｆｈが短時間で多数枚の円形フレキシブルシートＦａに形成されるので、リードタイムを短縮することができる。
【００４７】
本実施の形態によれば、円形フレキシブルシートＦａに中心穴Ｆｈを形成した後に、中心穴Ｆｈを基準として、円形フレキシブルシートＦａの表面に凹凸パターンをスタンパＳから転写して形成し、この円形フレキシブルシートＦａを完成サイズに形成することによって、光ディスク基板Ｆｂの中心穴Ｆｈの中心（回転中心）がトラック中心及び重心と一致して、光ディスク基板Ｆｂの偏心量が少なくなるので、光ディスクＤの偏心量を抑えることができる。さらに、サイズ形成工程５を行う前に転写工程３を行うことによって、転写工程３で円形フレキシブルシートＦａの外周部分に変形及び破損等が発生しても、サイズ形成工程５でその外周部分が取り除かれるので、表面が平坦な光ディスク基板Ｆｂを製造することができる。
【００４８】
なお、本実施の形態においては、転写工程３を行ってから、サイズ形成工程５を行っているが、これに限るものではなく、例えば、サイズ形成工程５を行ってから、転写工程３を行い、最後に層形成工程４を行っても良い。ただし、この場合、層形成工程４では、円形フレキシブルシートＦａが光ディスクＤの完成サイズになっているので、内リング２１及び外リング２２を使用せずに層を形成する必要がある。
【００４９】
また、本実施の形態においては、大サイズ形成工程１や層形成工程４を行っているが、これに限るものではなく、例えば、大サイズ形成工程１や層形成工程４を行わなくても良い。
【００５０】
また、本実施の形態においては、スタンパＳの表面と円形フレキシブルシートＦａの表面との間に転写層１３ａを形成し、この転写層１３ａを硬化させることによって、円形フレキシブルシートＦａの表面にスタンパＳの凹凸パターンを転写しているが、これに限るものではなく、例えば、円形フレキシブルシートＦａを熱可塑性樹脂で形成し、この円形フレキシブルシートＦａにスタンパＳを当接させながら加熱して、円形フレキシブルシートＦａの表面を溶融し、その後、冷却して硬化させることによって、円形フレキシブルシートＦａの表面にスタンパＳの凹凸パターンを転写しても良い。
【００５１】
また、本実施の形態においては、保護部として、粘着性のある保護シート２０を使用しているが、これに限るものではなく、例えば、粘着性のある軽い板等を使用しても良い。さらに、本実施の形態においては、保護部を円形フレキシブルシートＦａの裏面に設けているが、これに限るものではなく、例えば、表面に設けても良い。ただし、この場合には、円形フレキシブルシートＦａの表面に形成された凹凸パターンを覆わない大きさに保護部を形成する必要がある。
【００５２】
【実施例】
[実施例１]
図４に示すような層構成を有する光ディスクＤを製造する。まず、本発明の実施の一形態の光ディスク基板Ｆｂの製造方法によって、第１光ディスク基板３０として、第１スタンパＳの凹凸パターンであるグルーブトラックが表面に形成された転写層１３ａを有するフレキシブルシートＦを形成し、その上に半透明膜３１（誘電体層２３ａ、第１記録層２４、誘電体層２３ｂ、放熱層２５）を形成した。次に、第２光ディスク基板３２の上に反射膜３３（反射層３４、誘電体層３５ａ、第２記録層３６、誘電体層３５ｂ）を形成し、これらの第１光ディスク基板３０と第２光ディスク基板３２とを接着層３７を介して貼り合わせることによって、光ディスクＤを製造した。
【００５３】
なお、光ディスクＤに対する情報の記録／再生の時には、第１光ディスク基板３０側からレーザ光が照射される。したがって、半透明膜３１の透過率が高過ぎると、第１記録層２４で光吸収が全く起こらず、第１記録層２４に対する記録／再生ができなくなってしまい、反対に、半透明膜３１の透過率が低過ぎると、第２記録層３６に光が到達せずに、第２記録層３６に対する記録／再生ができなくなってしまうので、適切な透過率を有する半透明膜３１を形成する必要がある。
【００５４】
第２光ディスク基板３２は、グルーブトラックの凹凸パターンが表面に形成された第２スタンパを型として、射出成形により形成されている。そして、この第２光ディスク基板３２の凹凸パターンが形成された面上に、反射膜３３が形成されている。なお、第２光ディスク基板３２の材料としては、例えば、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチックが用いられる。そして、誘電体層３５の材料としては、例えば、ＺｎＳ−ＳｉＯ２等が用いられ、第２記録層３６の材料としては、例えば、相変化材料が用いられる。また、接着層３７の材料としては、例えば、感圧性接着剤、光硬化性接着剤、ホットメルト接着剤等が用いられる。
【００５５】
また、第１光ディスク基板３０の製造工程における転写工程３では、円形フレキシブルシートＦａとして、フレキシブルシート隙間ＦＬが０．０３ｍｍとなるシートを使用した。そして、第１スタンパＳとしては、スタンパ隙間ＳＬを変化させた数種類のスタンパを使用した。
【００５６】
このように製造した光ディスクＤに対し、偏心量（Radial Runout）を計測した。その結果を図５に示す。図５は、スタンパ隙間ＳＬと偏心量との関係を示すグラフである。この結果から、スタンパ隙間ＳＬが０．０３ｍｍより大きくなると、偏心量が６０μｍ（オレンジブック規格）より大きくなることが確認された（ＦＬ＝０．０３ｍｍのグラフ参照）。
【００５７】
[比較例１]
実施例１と同様に光ディスクＤを製造する。ただし、第１光ディスク基板３０の製造工程における転写工程３では、円形フレキシブルシートＦａとして、フレキシブルシート隙間ＦＬが０．０５ｍｍとなるシートを使用した。
【００５８】
このように製造した光ディスクＤに対し、偏心量を計測した。その結果を図５に示す。この結果から、スタンパ隙間ＳＬが０．０１ｍｍより大きい範囲では、偏心量が６０μｍより大きいことが確認された（ＦＬ＝０．０５ｍｍのグラフ参照）。
【００５９】
[比較例２]
実施例１と同様に光ディスクＤを製造する。ただし、第１光ディスク基板３０の製造工程における転写工程３では、円形フレキシブルシートＦａとして、フレキシブルシート隙間ＦＬが０．０１ｍｍより小さくなるシートを使用した。
【００６０】
第１光ディスク基板３０の製造途中で、円形フレキシブルシートＦａの中心穴Ｆｈが回転台１２のセンターポール１１の外周と摺動して、円形フレキシブルシートＦａに変形や破断等が発生することが確認された。
【００６１】
[実施例２]
実施例１と同様に光ディスクＤを製造する。ただし、第１光ディスク基板３０の製造工程における転写工程３では、第１スタンパＳとして、スタンパ隙間ＳＬが０．０３ｍｍとなるスタンパを使用した。そして、円形フレキシブルシートＦａとしては、フレキシブルシート隙間ＦＬを変化させた数種類のシートを使用した。
【００６２】
このように製造した光ディスクＤに対し、偏心量を計測した。その結果を図６に示す。図６は、フレキシブルシート隙間ＦＬと偏心量との関係を示すグラフである。この結果から、フレキシブルシート隙間ＦＬが０．０３ｍｍより大きくなると、偏心量が６０μｍ（オレンジブック規格）より大きくなることが確認された（ＳＬ＝０．０３ｍｍのグラフ参照）。
【００６３】
[比較例３]
実施例１と同様に光ディスクＤを製造する。ただし、第１光ディスク基板３０の製造工程における転写工程３では、第１スタンパＳとして、スタンパ隙間ＳＬが０．０５ｍｍとなるスタンパを使用した。
【００６４】
このように製造した光ディスクＤに対し、偏心量を計測した。その結果を図６に示す。この結果から、フレキシブルシート隙間ＦＬが０．０１ｍｍより大きい範囲では、偏心量が６０μｍより大きいことが確認された（ＳＬ＝０．０５ｍｍのグラフ参照）。
【００６５】
[比較例４]
実施例１と同様に光ディスクＤを製造する。ただし、第１光ディスク基板３０の製造工程における転写工程３では、第１スタンパＳとして、スタンパ隙間ＳＬが０．０１ｍｍより小さくなるスタンパを使用した。
【００６６】
第１光ディスク基板３０の製造工程等で、回転台１２のセンターポール１１に対して第１スタンパＳの着脱を繰り返すと、第１スタンパＳの中心穴Ｓｈの内周がセンターポール１１の外周と摺動して、第１スタンパＳの内周やセンターポール１１の外周は摩耗し、中心穴Ｓｈやセンターポール１１の直径が変化したり、第１スタンパＳが折れ曲がったりすることが確認された。
【００６７】
これらの結果から、スタンパ隙間ＳＬを０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下にして、かつ、フレキシブルシート隙間ＦＬを０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下にすることによって、光ディスクＤの偏心量が６０μｍ（オレンジブック規格）以下になり、偏心量を抑えることができることが確認された。
【００６８】
【発明の効果】
請求項１記載の光ディスク基板の製造方法によれば、フレキシブルシートに中心穴を形成する中心穴形成工程と、表面に凹凸パターンを有するスタンパから前記中心穴形成工程で中心穴が形成された前記フレキシブルシートの表面に中心穴を基準として前記凹凸パターンを転写する転写工程と、前記中心穴形成工程で中心穴が形成された前記フレキシブルシートを光ディスクの完成サイズに中心穴を基準として形成するサイズ形成工程と、を備えることから、フレキシブルシートに中心穴を形成した後に、中心穴を基準として、フレキシブルシートの表面にピットトラックやグルーブトラック等の凹凸パターンをスタンパから転写して形成し、このフレキシブルシートを光ディスクの完成サイズに形成することによって、光ディスク基板の中心穴の中心（回転中心）がトラック中心及び重心と一致して、光ディスク基板の偏心量が少なくなるので、光ディスクの偏心量を抑えることができる。
【００６９】
請求項２記載の発明によれば、請求項１記載の光ディスク基板の製造方法において、前記サイズ形成工程を行う前に、前記転写工程を行うようにしたことから、転写工程でフレキシブルシートの外周部分に変形及び破損等が発生しても、サイズ形成工程でその外周部分が取り除かれるので、表面が平坦な光ディスク基板を製造することができる。
【００７０】
請求項３記載の発明によれば、請求項１又は２記載の光ディスク基板の製造方法において、前記中心穴形成工程を行う前に、前記フレキシブルシートを光ディスクの完成サイズよりも大きく、前記中心穴形成工程で前記フレキシブルシートの中心に中心穴を形成しやすいサイズに形成する大サイズ形成工程を備えることから、中心穴形成工程でフレキシブルシートの中心に中心穴を形成するときの位置合わせが容易になるので、中心穴形成工程を短時間で行うことができる。
【００７１】
請求項４記載の発明によれば、請求項１、２又は３記載の光ディスク基板の製造方法において、前記中心穴形成工程では、前記フレキシブルシートが複数枚重ねられていることから、多数枚重ねられたフレキシブルシートに中心穴を形成することによって、フレキシブルシート一枚毎に中心穴を形成する場合に比べ、光ディスク基板の中心穴のばらつきが無くなり、中心穴が短時間で多数枚のフレキシブルシートに形成されるので、リードタイムを短縮することができる。
【００７２】
請求項５記載の発明によれば、請求項１、２、３又は４記載の光ディスク基板の製造方法において、前記スタンパは、前記凹凸パターンで形成されているトラックの中心に中心を一致させて形成された中心穴を有し、前記転写工程は、回転中心にセンターポールが設けられて回転駆動される回転台に、中心穴を有する前記スタンパを前記センターポールに中心穴を合わせて載置し、前記回転台に載置された前記スタンパの表面上に、加熱、冷却又は光照射により硬化する転写剤を介して、中心穴が形成された前記フレキシブルシートを前記センターポールに中心穴を合わせて載置し、前記回転台を回転駆動することで、前記転写剤により転写層を形成し、又は、形成しながら、加熱、冷却又は光照射により前記転写層を硬化させることから、スタンパの表面とフレキシブルシートの表面との間に形成された転写層が硬化して、スタンパから転写層のスタンパ側の表面に凹凸パターンが転写され、フレキシブルシートを剥がすと、フレキシブルシートの表面にピットトラックやグルーブトラック等の凹凸パターンを有する転写層が形成されるので、スタンパからフレキシブルシートの表面に凹凸パターンを転写することができ、さらに、回転台のセンターポールに中心穴を合わせてスタンパ及びフレキシブルシートを載置することによって、スタンパからフレキシブルシートの表面に中心穴を基準として凹凸パターンが転写されるので、光ディスク基板の中心穴の中心（回転中心）とトラック中心との偏心量を抑えることができる。
【００７３】
請求項６記載の発明によれば、請求項５記載の光ディスク基板の製造方法において、前記回転台に載置された前記スタンパの中心穴と前記センターポールとの隙間は、０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下であり、かつ、前記スタンパの表面上に載置された前記フレキシブルシートの中心穴と前記センターポールとの隙間も、０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下であることから、光ディスク基板の中心穴の中心（回転中心）とトラック中心とが一致して、光ディスク基板の偏心量が少なくなるので、光ディスクの偏心量を抑えることができる。
【００７４】
請求項７記載の発明によれば、請求項１、２、３、４、５又は６記載の光ディスク基板の製造方法において、前記転写工程で前記凹凸パターンが転写された前記フレキシブルシートの表面上に記録層を形成する層形成工程を備えることから、転写層の上に記録層を形成することによって、転写層と同じ凹凸パターンが表面に形成された記録層を有する光ディスク基板が形成されるので、書換可能型や追記型の光ディスクを製造することができる。
【００７５】
請求項８記載の発明によれば、請求項７記載の光ディスク基板の製造方法において、前記層形成工程では、前記転写工程で前記凹凸パターンが転写された前記フレキシブルシートに中心穴を覆う保護部が設けられていることから、フレキシブルシートの表面上に層を形成するときに、フレキシブルシートの裏面に層が形成されることは無いので、品質の良い光ディスク基板を製造することができる。
【００７６】
請求項９記載の発明によれば、請求項７又は８記載の光ディスク基板の製造方法において、前記層形成工程では、前記転写工程で前記凹凸パターンが転写された前記フレキシブルシートに緊張力が加えられていることから、フレキシブルシートの表面上に層を形成するとき、蒸着等による成膜応力により発生する局所的な変形が防がれるので、表面が平坦な光ディスク基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の一形態である光ディスク基板の製造工程を示す外観斜視図である。
【図２】スタンパから円形フレキシブルシートの表面に凹凸パターンを転写する転写工程を示す縦断面図である。
【図３】円形フレキシブルシートの表面に層を形成する層形成工程を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）及び（ｃ）は縦断面図である。
【図４】実施例で製造する光ディスクの層構成を示す縦断面図である。
【図５】回転台のセンターポールに対する第１スタンパの中心穴の隙間ＳＬと偏心量との関係を示すグラフである。
【図６】回転台のセンターポールに対する円形フレキシブルシートの中心穴の隙間ＦＬと偏心量との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
１ 大サイズ形成工程
２ 中心穴形成工程
３ 転写工程
４ 層形成工程
５ サイズ形成工程
１１ センターポール
１２ 回転台
１３ 転写剤
１３ａ 転写層
２４ 記録層
Ｆ フレキシブルシート
Ｆｂ 光ディスク基板
Ｆｈ 中心穴
Ｓ スタンパ
Ｓｈ 中心穴
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスク基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、情報記録の分野においては、光記録媒体としての光ディスクに関する研究が進められている。この光ディスクは、非接触で記録／再生が行えること、高い記録密度が達成できること、再生専用型・追記型・書換可能型のそれぞれの記録形態に対応できること等の利点を有し、産業用から民生用まで幅広い用途で使用されている。その中でも、特に、再生専用型の光ディスクであるＤＶＤ−ＲＯＭ（Digital Versatile又はVideo Disc−Read Only Memory）や書換可能型の光ディスクであるＤＶＤ±ＲＷ（±ReWritable）等の高い記録密度を有する光ディスクが普及している。
【０００３】
これらの光ディスクは、表面にピットトラックやグルーブトラック等の凹凸パターンを有するスタンパを型にして光ディスク基板を射出成形し、この光ディスク基板の凹凸パターンが形成された表面の上に、アルミニウム等の金属で反射層を形成し、この反射層の上に紫外線硬化樹脂等で保護層を形成した層構成になっている。さらに、書換可能型の光ディスクは、光ディスク基板と反射層との間に相変化材料等で記録層を形成した層構成になっている。
【０００４】
ところで、光ディスクにおいては、高記録密度化が要求されており、これに対応するべく、２つの記録層（第１記録層及び第２記録層）を有する光ディスクが提案されている。この光ディスクは、表面に凹凸パターンを有する第１光ディスク基板上に第１記録層を形成し、表面に凹凸パターンを有する第２光ディスク基板上に反射層を形成し、この反射層の上に第２記録層を形成し、その後、これらの第１光ディスク基板と第２光ディスク基板とを、第１記録層及び第２記録層を内側にして、接着層を介して貼り合わせた層構成になっている。ここで、第１光ディスク基板は、可撓性を有する樹脂により形成されているシート（以下、フレキシブルシートとする）を使用して製造されており、第２光ディスク基板は、スタンパを型にして射出成形により製造されている。この光ディスクに対して情報の記録／再生を行う際には、レーザ光が第１光ディスク基板側から第１記録層及び第２記録層にレンズを介して照射される。
【０００５】
なお、第１光ディスク基板をフレキシブルシートで製造するのは、光ディスクの高記録密度化のためにトラックピッチを狭く形成するので、第１光ディスク基板を薄く形成する必要性が生じるためである。トラックピッチが狭くなると、それに対応させてレーザ光のスポット径を小さくする必要がある。このスポット径を小さくするためには、レーザ光の波長を短くするか、レンズ開口数ＮＡを大きくすれば良い。例えば、レーザ光に青紫色レーザを用いれば、ＮＡを０．８５程度にして、スポット径を非常に小さくすることができる。しかしながら、ＮＡが０．８５程度になると、焦点距離が短くなり、第１記録層及び第２記録層を第１光ディスク基板表面から０．１ｍｍ程度の位置に形成しなければならない。したがって、第１光ディスク基板を薄く形成するめに、フレキシブルシートが使用されている。
【０００６】
この第１光ディスク基板を製造する方法として、特許第２９４２４３０号では、フィルム状に巻かれ、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等で形成されたフレキシブルシートをロールトゥロール（Roll to Roll）方式で搬送しながら、このフレキシブルシートの表面に凹凸パターンを形成し、その後、光ディスク形状に打ち抜いて、第１光ディスク基板を製造している。ここで、フレキシブルシート表面に凹凸パターンを形成する方法としては、フレキシブルシート表面に熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂で転写層を形成し、表面に凹凸パターンを有するスタンパを転写層に押圧して凹凸パターンを転写し、熱硬化させる熱プレス法や、フレキシブルシート表面に紫外線硬化型樹脂で転写層を形成し、この転写層にスタンパを押圧して凹凸パターンを転写し、紫外線硬化させる２Ｐ（Photo Polymerization）法等が提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許第２９４２４３０号で提案されている方法は、フレキシブルシートをディスク形状に打ち抜くときに、位置決めマーク等をモニタリングして位置決めをその度に行うので、リードタイムが長くなる。また、光ディスクでは、回転中心とトラック中心との差である偏心量を６０μｍ以下（オレンジブック規格）に抑える必要があるが、位置決めマークによる位置決めでは、偏心量が６０μｍ以下に抑えられないことがあり、品質のばらつきも発生しやすい。特に、偏心量が大きい場合には、光ディスクに対する情報の記録／再生を行う光ディスクドライブによって、情報の記録／再生を行う時に、レーザ光をトラック上に正確に位置させるトラッキング制御ができなくなり問題である。
【０００８】
また、フレキシブルシートの表面に記録層等の層を形成する場合には、蒸着等による成膜応力によりフレキシブルシートが変形しやすいので、光ディスク基板を変形させず、平坦に形成することは困難である。
【０００９】
本発明の目的は、光ディスクの偏心量を抑えることができる光ディスク基板の製造方法を提供することである。
【００１０】
本発明の目的は、表面が平坦な光ディスク基板を製造することができる光ディスク基板の製造方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の光ディスク基板の製造方法は、フレキシブルシートに中心穴を形成する中心穴形成工程と、表面に凹凸パターンを有するスタンパから前記中心穴形成工程で中心穴が形成された前記フレキシブルシートの表面に中心穴を基準として前記凹凸パターンを転写する転写工程と、前記中心穴形成工程で中心穴が形成された前記フレキシブルシートを光ディスクの完成サイズに中心穴を基準として形成するサイズ形成工程と、を備える。
【００１２】
したがって、フレキシブルシートに中心穴を形成した後に、中心穴を基準として、フレキシブルシートの表面にピットトラックやグルーブトラック等の凹凸パターンをスタンパから転写して形成し、このフレキシブルシートを光ディスクの完成サイズに形成することによって、光ディスク基板の中心穴の中心（回転中心）がトラック中心及び重心と一致して、光ディスク基板の偏心量が少なくなる。
【００１３】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の光ディスク基板の製造方法において、前記サイズ形成工程を行う前に、前記転写工程を行うようにした。
【００１４】
したがって、サイズ形成工程を行う前に転写工程を行うことによって、転写工程でフレキシブルシートの外周部分に変形及び破損等が発生しても、サイズ形成工程でその外周部分が取り除かれる。
【００１５】
請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の光ディスク基板の製造方法において、前記中心穴形成工程を行う前に、前記フレキシブルシートを光ディスクの完成サイズよりも大きく、前記中心穴形成工程で前記フレキシブルシートの中心に中心穴を形成しやすいサイズに形成する大サイズ形成工程を備える。
【００１６】
したがって、中心穴形成工程でフレキシブルシートの中心に中心穴を形成するときの位置合わせが容易になる。
【００１７】
請求項４記載の発明は、請求項１、２又は３記載の光ディスク基板の製造方法において、前記中心穴形成工程では、前記フレキシブルシートが複数枚重ねられている。
【００１８】
したがって、多数枚重ねられたフレキシブルシートに中心穴を形成することによって、フレキシブルシート一枚毎に中心穴を形成する場合に比べ、光ディスク基板の中心穴のばらつきが無くなり、中心穴が短時間で多数枚のフレキシブルシートに形成される。
【００１９】
請求項５記載の発明は、請求項１、２、３又は４記載の光ディスク基板の製造方法において、前記スタンパは、前記凹凸パターンで形成されているトラックの中心に中心を一致させて形成された中心穴を有し、前記転写工程は、回転中心にセンターポールが設けられて回転駆動される回転台に、中心穴を有する前記スタンパを前記センターポールに中心穴を合わせて載置し、前記回転台に載置された前記スタンパの表面上に、加熱、冷却又は光照射により硬化する転写剤を介して、中心穴が形成された前記フレキシブルシートを前記センターポールに中心穴を合わせて載置し、前記回転台を回転駆動することで、前記転写剤により転写層を形成し、又は、形成しながら、加熱、冷却又は光照射により前記転写層を硬化させる。
【００２０】
したがって、スタンパの表面とフレキシブルシートの表面との間に形成された転写層を硬化させることによって、スタンパから転写層のスタンパ側の表面にピットトラックやグルーブトラック等の凹凸パターンが転写され、フレキシブルシートを剥がすと、フレキシブルシートの表面に凹凸パターンを有する転写層が形成される。さらに、回転台のセンターポールに中心穴を合わせてスタンパ及びフレキシブルシートを載置することによって、スタンパからフレキシブルシートの表面に中心穴を基準として凹凸パターンが転写される。
【００２１】
請求項６記載の発明は、請求項５記載の光ディスク基板の製造方法において、前記回転台に載置された前記スタンパの中心穴と前記センターポールとの隙間は、０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下であり、かつ、前記スタンパの表面上に載置された前記フレキシブルシートの中心穴と前記センターポールとの隙間も、０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下である。
【００２２】
したがって、センターポールに対するスタンパの中心穴の隙間とセンターポールに対するフレキシブルシートの中心穴の隙間とをそれぞれ０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下にすることによって、光ディスク基板の中心穴の中心（回転中心）とトラック中心とが一致して、光ディスク基板の偏心量が少なくなる。
【００２３】
請求項７記載の発明は、請求項１、２、３、４、５又は６記載の光ディスク基板の製造方法において、前記転写工程で前記凹凸パターンが転写された前記フレキシブルシートの表面上に記録層を形成する層形成工程を備える。
【００２４】
したがって、転写層の上に記録層を形成することによって、転写層と同じ凹凸パターンが表面に形成された記録層を有する光ディスク基板が形成される。
【００２５】
請求項８記載の発明は、請求項７記載の光ディスク基板の製造方法において、前記層形成工程では、前記転写工程で前記凹凸パターンが転写された前記フレキシブルシートに中心穴を覆う保護部が設けられている。
【００２６】
したがって、フレキシブルシートの中心穴を保護部により覆うことによって、フレキシブルシートの表面上に層を形成するときに、フレキシブルシートの裏面に層が形成されることは無い。
【００２７】
請求項９記載の発明は、請求項７又は８記載の光ディスク基板の製造方法において、前記層形成工程では、前記転写工程で前記凹凸パターンが転写された前記フレキシブルシートに緊張力が加えられている。
【００２８】
したがって、フレキシブルシートに緊張力を加えることによって、フレキシブルシートの表面上に層を形成するとき、蒸着等による成膜応力により発生する局所的な変形が防がれる。
【００２９】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の一形態である光ディスク基板の製造方法について図１ないし図３を参照して説明する。図１は、本実施の形態の光ディスク基板Ｆｂの製造工程を示す外観斜視図である。
【００３０】
図１に示すように、光ディスク基板Ｆｂの製造工程は、複数枚重ねられたフレキシブルシートＦを光ディスクＤの完成サイズより大きいサイズの円形に形成する大サイズ形成工程１と、完成サイズより大きいサイズに形成され、複数枚重ねられた円形フレキシブルシートＦａに中心穴Ｆｈを形成する中心穴形成工程２と、表面にピットトラックやグルーブトラック等の凹凸パターンを有するスタンパＳから中心穴Ｆｈが形成された円形フレキシブルシートＦａの表面に中心穴Ｆｈを基準として凹凸パターンを転写する転写工程３と、凹凸パターンが表面に転写された円形フレキシブルシートＦａの表面の上に各種の層を形成する層形成工程４と、各種の層が形成され、複数枚重ねられた円形フレキシブルシートＦａを光ディスクＤの完成サイズに中心穴Ｆｈを基準として形成するサイズ形成工程５と、から構成されている。
【００３１】
大サイズ形成工程１では、光ディスクＤの完成サイズより大きい直径で形成された同心円状の刃を有する打ち抜き機を使用する。この打ち抜き機により、複数枚重ねられたフレキシブルシートＦに同心円状の刃を圧接して、フレキシブルシートＦを光ディスクＤの完成サイズより大きく、中心穴形成工程２でフレキシブルシートＦの中心に中心穴を形成しやすいサイズの円形に打ち抜く。これにより、フレキシブルシートＦは、光ディスクＤの完成サイズより大きいサイズの円形に形成され、円形フレキシブルシートＦａとなる。したがって、中心穴形成工程２で円形フレキシブルシートＦａの中心に中心穴Ｆｈを形成するときの位置合わせが容易になるので、中心穴形成工程２を短時間で行うことができる。ここで、光ディスクＤの形状は、円形であるがこれに限るものではない。
【００３２】
なお、フレキシブルシートの材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート等のプラスチックが用いられる。
【００３３】
中心穴形成工程２では、形成しようとする中心穴Ｆｈと同一直径で形成された同心円状の刃を有する打ち抜き機を使用する。この打ち抜き機により、複数枚重ねられた円形フレキシブルシートＦａに同心円状の刃を圧接して、中心穴Ｆｈを円形に打ち抜く。このとき、同心円状の刃は、中心を円形フレキシブルシートＦａの中心に一致させる位置決めが行われている。これにより、円形フレキシブルシートＦａは、中心位置に中心穴Ｆｈが形成されている。
【００３４】
このように多数枚重ねられた円形フレキシブルシートＦａに中心穴Ｆｈを形成することによって、円形フレキシブルシートＦａ一枚毎に中心穴Ｆｈを形成する場合に比べ、光ディスク基板Ｆｂの中心穴Ｆｈのばらつきが無くなるので、光ディスクＤの品質が向上し、さらに、中心穴Ｆｈが短時間で多数枚の円形フレキシブルシートＦａに形成されるので、リードタイムを短縮することができる。
【００３５】
転写工程３では、スタンパＳから円形フレキシブルシートＦａの表面に凹凸パターンを転写する転写装置１０を使用する。図２は、スタンパＳから円形フレキシブルシートＦａの表面に凹凸パターンを転写する転写工程を示す縦断面図である。図２に示すように、転写装置１０には、中心にセンターポール１１が形成された回転台１２が設けられ、この回転台１２に載置固定されるスタンパＳ上に転写剤１３を塗布する塗布ノズル１４が設けられている。そして、回転台１２は、回転軸１５を回転中心として回転駆動される。なお、スタンパＳは、トラック中心に中心を一致させて形成された中心穴Ｓｈを有し、この中心穴Ｓｈをセンターポール１１に合わせて載置される。ここで、転写剤１３としては、例えば、紫外線硬化樹脂を使用している。
【００３６】
まず、回転台１２にスタンパＳを載置固定した後、塗布ノズル１４を所定の塗布位置へ移動させ、スタンパＳを回転台１２と共に回転させながら、塗布ノズル１４から転写剤１３を吐出させる。これにより、転写剤１３は、スタンパＳの表面上に円環状に塗布される（図２（ａ）参照）。
【００３７】
次に、塗布ノズル１４を退避位置に移動させ、円形フレキシブルシートＦａの中心穴Ｆｈをセンターポール１１に合わせて、スタンパＳの表面上に表面を下にして円形フレキシブルシートＦａを載置させ、回転台１２を回転させる（図２（ｂ）参照）。これにより、転写剤１３は、スタンパＳの外周まで浸透し、スタンパＳの表面と円形フレキシブルシートＦａとの間に転写層１３ａが形成される（図２（ｃ）参照）。
【００３８】
最後に、紫外線を照射して、転写層１３ａを硬化させた後、円形フレキシブルシートＦａをスタンパＳから剥がす。これにより、円形フレキシブルシートＦａの表面には、スタンパＳの凹凸パターンを表面に有する転写層１３ａが形成されている。このようにして、スタンパＳから円形フレキシブルシートＦａの表面に凹凸パターンを転写することができる。さらに、回転台１２のセンターポール１１に中心穴Ｓｈ，Ｆｈを合わせてスタンパＳ及び円形フレキシブルシートＦａを載置することによって、スタンパＳから円形フレキシブルシートＦａの表面に中心穴Ｓｈ，Ｆｈを基準として凹凸パターンが転写されるので、光ディスク基板Ｆｂの中心穴Ｆｈの中心（回転中心）とトラック中心との偏心量を抑えることができる。
【００３９】
なお、紫外線の照射は、回転台１２を回転して転写剤１３をスタンパＳの外周に浸透させるときに、同時に行っても良い。また、転写剤１３としては、例えば、熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂を使用しても良く、この場合には、冷却又は加熱により転写層１３ａを硬化させる。
【００４０】
ここで、転写装置１０によりスタンパＳの凹凸パターンを円形フレキシブルシートＦａの表面に転写するときには、回転台１２に載置されたスタンパＳの中心穴Ｓｈとセンターポール１１との隙間ＳＬ（以下、スタンパ隙間ＳＬとする）を０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下として、さらに、スタンパＳの表面上に載置された円形フレキシブルシートＦａの中心穴Ｆｈとセンターポール１１との隙間ＦＬ（以下、フレキシブルシート隙間ＦＬとする）を０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下にしている（図２（ｃ）参照）。これにより、光ディスク基板Ｆｂの中心穴Ｆｈの中心（回転中心）とトラック中心との偏心量が少なくなるので、光ディスクＤの偏心量を抑えることができる。これらの隙間ＳＬ，ＦＬは、スタンパＳの中心穴Ｓｈの直径及び円形フレキシブルシートＦａの中心穴Ｆｈの直径をセンターポール１１に基づいて変化させることで調整される。なお、これらの隙間ＳＬ，ＦＬは、センターポール１１の直径を変化させることでも調整することができる。この場合には、センターポール１１を回転台１２に着脱自在に設け、直径の異なるセンターポール１１を数種類用意しておくと良い。
【００４１】
層形成工程４では、円形フレキシブルシートＦａの表面に形成された転写層１３ａの上に層を形成する。図３は、円形フレキシブルシートＦａの表面に層を形成する層形成工程を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）及び（ｃ）は縦断面図である。図３（ａ）及び（ｂ）に示すように、まず、円形フレキシブルシートＦａに、転写層１３ａが形成された面の反対面から、中心穴Ｆｈを覆う保護部としての保護シート２０を貼り付ける。この保護シート２０は、例えば、密着力の弱いシール状のシートであるが、蒸着等により各種の層が形成されるときに剥がれることはない。これにより、円形フレキシブルシートＦａの転写層１３ａの上に層を形成するときに、円形フレキシブルシートＦａの裏面に層が形成されることは無いので、品質の良い光ディスク基板Ｆｂを製造することができる。
【００４２】
次に、光ディスクＤの完成サイズと同じ外径を有する内リング２１の上に、保護シート２０が貼り付けられた円形フレキシブルシートＦａを載せる。なお、内リング２１の外径は、例えば、光ディスクＤの完成サイズより大きくても構わない。そして、円形フレキシブルシートＦａの外周部を一定の力で引っ張ることで、円形フレキシブルシートＦａに緊張力を加えながら、円形フレキシブルシートＦａの上から、内リング２１の外径より少し内径が大きい外リング２２を載せる。この外リング２２と内リング２１との隙間は、フレキシブルシートＦａの厚さに基づいて決定されている。そして、円形フレキシブルシートＦａに加えられている緊張力は、円形フレキシブルシートＦａと内リング２１の外周面及び外リング２２の内周面との摩擦力により保持されている。これにより、円形フレキシブルシートＦａの表面上に層を形成するとき、蒸着等による成膜応力により発生する局所的な変形が防がれるので、表面が平坦な光ディスク基板Ｆｂを製造することができる。
【００４３】
この状態で、図３（ｃ）に示すように、円形フレキシブルシートＦａの転写層１３ａの上に、各種の層として、蒸着により、例えば、記録特性を調整又は向上させる誘電体層２３ａを形成し、この誘電体層２３ａの上に情報が記録される記録層２４を形成し、この記録層２４の上に誘電体層２３ｂを形成して、さらに、レーザ光等による熱を放散する放熱層２５を形成する。その後、外リング２２及び内リング２１を解体して、円形フレキシブルシートＦａから保護シート２０を剥がす。これにより、各種の層を有する円形フレキシブルシートＦａが形成される。
【００４４】
なお、誘電体層２３の材料としては、例えば、ＺｎＳ−ＳｉＯ２等が用いられ、記録層２４の材料としては、例えば、相変化材料が用いられる。この相変化材料としては、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系材料やＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系材料等を用いることができる。他の記録層２４の材料としては、例えば、有機色素材料等も用いられる。また、放熱層２５の材料としては、例えば、ＡｌＮ（窒化アルミ）やＩｎ−Ｓｎ−Ｏ系材料等が用いられる。
【００４５】
サイズ形成工程５では、転写装置１０のセンターポール１１と同じ直径であるセンターポールを有し、光ディスクＤの完成サイズと同じ直径で形成されている同心円状の刃を有する打ち抜き機を使用する。この打ち抜き機のセンターポールに中心穴Ｆｈを合わせて、層が形成された円形フレキシブルシートＦａを複数枚重ねて載置する。そして、複数枚重ねられた円形フレキシブルシートＦａに刃を圧接して、光ディスクＤの完成サイズの円形に打ち抜く。これにより、円形フレキシブルシートＦａは、光ディスクＤの完成サイズの円形に形成され、光ディスク基板Ｆｂとなる。
【００４６】
このように多数枚重ねられた円形フレキシブルシートＦａを光ディスクＤの完成サイズに形成することによって、一枚毎に円形フレキシブルシートＦａを光ディスクＤの完成サイズに形成する場合に比べ、中心穴Ｆｈが短時間で多数枚の円形フレキシブルシートＦａに形成されるので、リードタイムを短縮することができる。
【００４７】
本実施の形態によれば、円形フレキシブルシートＦａに中心穴Ｆｈを形成した後に、中心穴Ｆｈを基準として、円形フレキシブルシートＦａの表面に凹凸パターンをスタンパＳから転写して形成し、この円形フレキシブルシートＦａを完成サイズに形成することによって、光ディスク基板Ｆｂの中心穴Ｆｈの中心（回転中心）がトラック中心及び重心と一致して、光ディスク基板Ｆｂの偏心量が少なくなるので、光ディスクＤの偏心量を抑えることができる。さらに、サイズ形成工程５を行う前に転写工程３を行うことによって、転写工程３で円形フレキシブルシートＦａの外周部分に変形及び破損等が発生しても、サイズ形成工程５でその外周部分が取り除かれるので、表面が平坦な光ディスク基板Ｆｂを製造することができる。
【００４８】
なお、本実施の形態においては、転写工程３を行ってから、サイズ形成工程５を行っているが、これに限るものではなく、例えば、サイズ形成工程５を行ってから、転写工程３を行い、最後に層形成工程４を行っても良い。ただし、この場合、層形成工程４では、円形フレキシブルシートＦａが光ディスクＤの完成サイズになっているので、内リング２１及び外リング２２を使用せずに層を形成する必要がある。
【００４９】
また、本実施の形態においては、大サイズ形成工程１や層形成工程４を行っているが、これに限るものではなく、例えば、大サイズ形成工程１や層形成工程４を行わなくても良い。
【００５０】
また、本実施の形態においては、スタンパＳの表面と円形フレキシブルシートＦａの表面との間に転写層１３ａを形成し、この転写層１３ａを硬化させることによって、円形フレキシブルシートＦａの表面にスタンパＳの凹凸パターンを転写しているが、これに限るものではなく、例えば、円形フレキシブルシートＦａを熱可塑性樹脂で形成し、この円形フレキシブルシートＦａにスタンパＳを当接させながら加熱して、円形フレキシブルシートＦａの表面を溶融し、その後、冷却して硬化させることによって、円形フレキシブルシートＦａの表面にスタンパＳの凹凸パターンを転写しても良い。
【００５１】
また、本実施の形態においては、保護部として、粘着性のある保護シート２０を使用しているが、これに限るものではなく、例えば、粘着性のある軽い板等を使用しても良い。さらに、本実施の形態においては、保護部を円形フレキシブルシートＦａの裏面に設けているが、これに限るものではなく、例えば、表面に設けても良い。ただし、この場合には、円形フレキシブルシートＦａの表面に形成された凹凸パターンを覆わない大きさに保護部を形成する必要がある。
【００５２】
【実施例】
[実施例１]
図４に示すような層構成を有する光ディスクＤを製造する。まず、本発明の実施の一形態の光ディスク基板Ｆｂの製造方法によって、第１光ディスク基板３０として、第１スタンパＳの凹凸パターンであるグルーブトラックが表面に形成された転写層１３ａを有するフレキシブルシートＦを形成し、その上に半透明膜３１（誘電体層２３ａ、第１記録層２４、誘電体層２３ｂ、放熱層２５）を形成した。次に、第２光ディスク基板３２の上に反射膜３３（反射層３４、誘電体層３５ａ、第２記録層３６、誘電体層３５ｂ）を形成し、これらの第１光ディスク基板３０と第２光ディスク基板３２とを接着層３７を介して貼り合わせることによって、光ディスクＤを製造した。
【００５３】
なお、光ディスクＤに対する情報の記録／再生の時には、第１光ディスク基板３０側からレーザ光が照射される。したがって、半透明膜３１の透過率が高過ぎると、第１記録層２４で光吸収が全く起こらず、第１記録層２４に対する記録／再生ができなくなってしまい、反対に、半透明膜３１の透過率が低過ぎると、第２記録層３６に光が到達せずに、第２記録層３６に対する記録／再生ができなくなってしまうので、適切な透過率を有する半透明膜３１を形成する必要がある。
【００５４】
第２光ディスク基板３２は、グルーブトラックの凹凸パターンが表面に形成された第２スタンパを型として、射出成形により形成されている。そして、この第２光ディスク基板３２の凹凸パターンが形成された面上に、反射膜３３が形成されている。なお、第２光ディスク基板３２の材料としては、例えば、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチックが用いられる。そして、誘電体層３５の材料としては、例えば、ＺｎＳ−ＳｉＯ２等が用いられ、第２記録層３６の材料としては、例えば、相変化材料が用いられる。また、接着層３７の材料としては、例えば、感圧性接着剤、光硬化性接着剤、ホットメルト接着剤等が用いられる。
【００５５】
また、第１光ディスク基板３０の製造工程における転写工程３では、円形フレキシブルシートＦａとして、フレキシブルシート隙間ＦＬが０．０３ｍｍとなるシートを使用した。そして、第１スタンパＳとしては、スタンパ隙間ＳＬを変化させた数種類のスタンパを使用した。
【００５６】
このように製造した光ディスクＤに対し、偏心量（Radial Runout）を計測した。その結果を図５に示す。図５は、スタンパ隙間ＳＬと偏心量との関係を示すグラフである。この結果から、スタンパ隙間ＳＬが０．０３ｍｍより大きくなると、偏心量が６０μｍ（オレンジブック規格）より大きくなることが確認された（ＦＬ＝０．０３ｍｍのグラフ参照）。
【００５７】
[比較例１]
実施例１と同様に光ディスクＤを製造する。ただし、第１光ディスク基板３０の製造工程における転写工程３では、円形フレキシブルシートＦａとして、フレキシブルシート隙間ＦＬが０．０５ｍｍとなるシートを使用した。
【００５８】
このように製造した光ディスクＤに対し、偏心量を計測した。その結果を図５に示す。この結果から、スタンパ隙間ＳＬが０．０１ｍｍより大きい範囲では、偏心量が６０μｍより大きいことが確認された（ＦＬ＝０．０５ｍｍのグラフ参照）。
【００５９】
[比較例２]
実施例１と同様に光ディスクＤを製造する。ただし、第１光ディスク基板３０の製造工程における転写工程３では、円形フレキシブルシートＦａとして、フレキシブルシート隙間ＦＬが０．０１ｍｍより小さくなるシートを使用した。
【００６０】
第１光ディスク基板３０の製造途中で、円形フレキシブルシートＦａの中心穴Ｆｈが回転台１２のセンターポール１１の外周と摺動して、円形フレキシブルシートＦａに変形や破断等が発生することが確認された。
【００６１】
[実施例２]
実施例１と同様に光ディスクＤを製造する。ただし、第１光ディスク基板３０の製造工程における転写工程３では、第１スタンパＳとして、スタンパ隙間ＳＬが０．０３ｍｍとなるスタンパを使用した。そして、円形フレキシブルシートＦａとしては、フレキシブルシート隙間ＦＬを変化させた数種類のシートを使用した。
【００６２】
このように製造した光ディスクＤに対し、偏心量を計測した。その結果を図６に示す。図６は、フレキシブルシート隙間ＦＬと偏心量との関係を示すグラフである。この結果から、フレキシブルシート隙間ＦＬが０．０３ｍｍより大きくなると、偏心量が６０μｍ（オレンジブック規格）より大きくなることが確認された（ＳＬ＝０．０３ｍｍのグラフ参照）。
【００６３】
[比較例３]
実施例１と同様に光ディスクＤを製造する。ただし、第１光ディスク基板３０の製造工程における転写工程３では、第１スタンパＳとして、スタンパ隙間ＳＬが０．０５ｍｍとなるスタンパを使用した。
【００６４】
このように製造した光ディスクＤに対し、偏心量を計測した。その結果を図６に示す。この結果から、フレキシブルシート隙間ＦＬが０．０１ｍｍより大きい範囲では、偏心量が６０μｍより大きいことが確認された（ＳＬ＝０．０５ｍｍのグラフ参照）。
【００６５】
[比較例４]
実施例１と同様に光ディスクＤを製造する。ただし、第１光ディスク基板３０の製造工程における転写工程３では、第１スタンパＳとして、スタンパ隙間ＳＬが０．０１ｍｍより小さくなるスタンパを使用した。
【００６６】
第１光ディスク基板３０の製造工程等で、回転台１２のセンターポール１１に対して第１スタンパＳの着脱を繰り返すと、第１スタンパＳの中心穴Ｓｈの内周がセンターポール１１の外周と摺動して、第１スタンパＳの内周やセンターポール１１の外周は摩耗し、中心穴Ｓｈやセンターポール１１の直径が変化したり、第１スタンパＳが折れ曲がったりすることが確認された。
【００６７】
これらの結果から、スタンパ隙間ＳＬを０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下にして、かつ、フレキシブルシート隙間ＦＬを０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下にすることによって、光ディスクＤの偏心量が６０μｍ（オレンジブック規格）以下になり、偏心量を抑えることができることが確認された。
【００６８】
【発明の効果】
請求項１記載の光ディスク基板の製造方法によれば、フレキシブルシートに中心穴を形成する中心穴形成工程と、表面に凹凸パターンを有するスタンパから前記中心穴形成工程で中心穴が形成された前記フレキシブルシートの表面に中心穴を基準として前記凹凸パターンを転写する転写工程と、前記中心穴形成工程で中心穴が形成された前記フレキシブルシートを光ディスクの完成サイズに中心穴を基準として形成するサイズ形成工程と、を備えることから、フレキシブルシートに中心穴を形成した後に、中心穴を基準として、フレキシブルシートの表面にピットトラックやグルーブトラック等の凹凸パターンをスタンパから転写して形成し、このフレキシブルシートを光ディスクの完成サイズに形成することによって、光ディスク基板の中心穴の中心（回転中心）がトラック中心及び重心と一致して、光ディスク基板の偏心量が少なくなるので、光ディスクの偏心量を抑えることができる。
【００６９】
請求項２記載の発明によれば、請求項１記載の光ディスク基板の製造方法において、前記サイズ形成工程を行う前に、前記転写工程を行うようにしたことから、転写工程でフレキシブルシートの外周部分に変形及び破損等が発生しても、サイズ形成工程でその外周部分が取り除かれるので、表面が平坦な光ディスク基板を製造することができる。
【００７０】
請求項３記載の発明によれば、請求項１又は２記載の光ディスク基板の製造方法において、前記中心穴形成工程を行う前に、前記フレキシブルシートを光ディスクの完成サイズよりも大きく、前記中心穴形成工程で前記フレキシブルシートの中心に中心穴を形成しやすいサイズに形成する大サイズ形成工程を備えることから、中心穴形成工程でフレキシブルシートの中心に中心穴を形成するときの位置合わせが容易になるので、中心穴形成工程を短時間で行うことができる。
【００７１】
請求項４記載の発明によれば、請求項１、２又は３記載の光ディスク基板の製造方法において、前記中心穴形成工程では、前記フレキシブルシートが複数枚重ねられていることから、多数枚重ねられたフレキシブルシートに中心穴を形成することによって、フレキシブルシート一枚毎に中心穴を形成する場合に比べ、光ディスク基板の中心穴のばらつきが無くなり、中心穴が短時間で多数枚のフレキシブルシートに形成されるので、リードタイムを短縮することができる。
【００７２】
請求項５記載の発明によれば、請求項１、２、３又は４記載の光ディスク基板の製造方法において、前記スタンパは、前記凹凸パターンで形成されているトラックの中心に中心を一致させて形成された中心穴を有し、前記転写工程は、回転中心にセンターポールが設けられて回転駆動される回転台に、中心穴を有する前記スタンパを前記センターポールに中心穴を合わせて載置し、前記回転台に載置された前記スタンパの表面上に、加熱、冷却又は光照射により硬化する転写剤を介して、中心穴が形成された前記フレキシブルシートを前記センターポールに中心穴を合わせて載置し、前記回転台を回転駆動することで、前記転写剤により転写層を形成し、又は、形成しながら、加熱、冷却又は光照射により前記転写層を硬化させることから、スタンパの表面とフレキシブルシートの表面との間に形成された転写層が硬化して、スタンパから転写層のスタンパ側の表面に凹凸パターンが転写され、フレキシブルシートを剥がすと、フレキシブルシートの表面にピットトラックやグルーブトラック等の凹凸パターンを有する転写層が形成されるので、スタンパからフレキシブルシートの表面に凹凸パターンを転写することができ、さらに、回転台のセンターポールに中心穴を合わせてスタンパ及びフレキシブルシートを載置することによって、スタンパからフレキシブルシートの表面に中心穴を基準として凹凸パターンが転写されるので、光ディスク基板の中心穴の中心（回転中心）とトラック中心との偏心量を抑えることができる。
【００７３】
請求項６記載の発明によれば、請求項５記載の光ディスク基板の製造方法において、前記回転台に載置された前記スタンパの中心穴と前記センターポールとの隙間は、０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下であり、かつ、前記スタンパの表面上に載置された前記フレキシブルシートの中心穴と前記センターポールとの隙間も、０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下であることから、光ディスク基板の中心穴の中心（回転中心）とトラック中心とが一致して、光ディスク基板の偏心量が少なくなるので、光ディスクの偏心量を抑えることができる。
【００７４】
請求項７記載の発明によれば、請求項１、２、３、４、５又は６記載の光ディスク基板の製造方法において、前記転写工程で前記凹凸パターンが転写された前記フレキシブルシートの表面上に記録層を形成する層形成工程を備えることから、転写層の上に記録層を形成することによって、転写層と同じ凹凸パターンが表面に形成された記録層を有する光ディスク基板が形成されるので、書換可能型や追記型の光ディスクを製造することができる。
【００７５】
請求項８記載の発明によれば、請求項７記載の光ディスク基板の製造方法において、前記層形成工程では、前記転写工程で前記凹凸パターンが転写された前記フレキシブルシートに中心穴を覆う保護部が設けられていることから、フレキシブルシートの表面上に層を形成するときに、フレキシブルシートの裏面に層が形成されることは無いので、品質の良い光ディスク基板を製造することができる。
【００７６】
請求項９記載の発明によれば、請求項７又は８記載の光ディスク基板の製造方法において、前記層形成工程では、前記転写工程で前記凹凸パターンが転写された前記フレキシブルシートに緊張力が加えられていることから、フレキシブルシートの表面上に層を形成するとき、蒸着等による成膜応力により発生する局所的な変形が防がれるので、表面が平坦な光ディスク基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の一形態である光ディスク基板の製造工程を示す外観斜視図である。
【図２】スタンパから円形フレキシブルシートの表面に凹凸パターンを転写する転写工程を示す縦断面図である。
【図３】円形フレキシブルシートの表面に層を形成する層形成工程を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）及び（ｃ）は縦断面図である。
【図４】実施例で製造する光ディスクの層構成を示す縦断面図である。
【図５】回転台のセンターポールに対する第１スタンパの中心穴の隙間ＳＬと偏心量との関係を示すグラフである。
【図６】回転台のセンターポールに対する円形フレキシブルシートの中心穴の隙間ＦＬと偏心量との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
１ 大サイズ形成工程
２ 中心穴形成工程
３ 転写工程
４ 層形成工程
５ サイズ形成工程
１１ センターポール
１２ 回転台
１３ 転写剤
１３ａ 転写層
２４ 記録層
Ｆ フレキシブルシート
Ｆｂ 光ディスク基板
Ｆｈ 中心穴
Ｓ スタンパ
Ｓｈ 中心穴
Claims (7)
- 完成サイズよりも大きいサイズに形成された大サイズフレキシブルシートを複数枚重ねて中心穴を形成する中心穴形成工程と、
表面に凹凸パターンを有するスタンパから前記中心穴形成工程で中心穴が形成された前記フレキシブルシートの表面に中心穴を基準として前記凹凸パターンを転写する転写工程と、
前記中心穴形成工程で中心穴が形成された前記フレキシブルシートを光ディスクの完成サイズに中心穴を基準として形成するサイズ形成工程と、を備える光ディスク基板の製造方法。 - 前記サイズ形成工程を行う前に、前記転写工程を行うようにした請求項１記載の光ディスク基板の製造方法。
- 前記中心穴形成工程を行う前に、前記フレキシブルシートを光ディスクの完成サイズよりも大きく、前記中心穴形成工程で前記フレキシブルシートの中心に中心穴を形成しやすいサイズに形成する大サイズ形成工程を備える請求項１又は２記載の光ディスク基板の製造方法。
- 前記スタンパは、前記凹凸パターンで形成されているトラックの中心に中心を一致させて形成された中心穴を有し、
前記転写工程は、回転中心にセンターポールが設けられて回転駆動される回転台に、中心穴を有する前記スタンパを前記センターポールに中心穴を合わせて載置し、前記回転台に載置された前記スタンパの表面上に、加熱、冷却又は光照射により硬化する転写剤を介して、中心穴が形成された前記フレキシブルシートを前記センターポールに中心穴を合わせて載置し、前記回転台を回転駆動することで、前記転写剤により転写層を形成し、又は、形成しながら、加熱、冷却又は光照射により前記転写層を硬化させる請求項１、２又は３記載の光ディスク基板の製造方法。 - 前記回転台に載置された前記スタンパの中心穴と前記センターポールとの隙間は、０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下であり、かつ、前記スタンパの表面上に載置された前記フレキシブルシートの中心穴と前記センターポールとの隙間も、０．０１ｍｍ以上０．０３ｍｍ以下である請求項４記載の光ディスク基板の製造方法。
- 前記転写工程で前記凹凸パターンが転写された前記フレキシブルシートの表面上に記録層を形成する層形成工程を備える請求項１、２、３、４又は５記載の光ディスク基板の製造方法。
- 前記層形成工程では、前記転写工程で前記凹凸パターンが転写された前記フレキシブルシートに中心穴を覆う保護部が設けられている請求項６記載の光ディスク基板の製造方法。
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