JPH09185064A - イミド基含有ポリアミック酸およびその製造方法並びに液晶配向剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶配向剤の構成成分として特に有用なイミ
ド基含有ポリアミック酸の提供。当該イミド基含有ポリ
アミック酸を確実かつ容易に製造することのできる製造
方法の提供。ポリアミック酸系配向剤および可溶性ポリ
イミド系配向剤がそれぞれ有する利点を兼ね備えた液晶
配向剤の提供。 【解決手段】 本発明のイミド基含有ポリアミック酸
は、下記一般式（１）で表される（式中、Ｒ¹ ，Ｒ³ は
４価の有機基、Ｒ² ，Ｒ⁴ は２価の有機基を示し、ｎは
繰り返し単位数である）。本発明の製造方法は、テトラ
カルボン酸二無水物と、イミド基含有ジアミン化合物と
を反応させる。本発明の液晶配向剤は、上記イミド基含
有ポリアミック酸、および当該イミド基含有ポリアミッ
ク酸のアミック酸部位を脱水閉環して得られるポリイミ
ドから選ばれる少なくとも１種の重合体を含有する。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、イミド基含有ポリ
アミック酸およびその製造方法並びに液晶配向剤に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】現在、液晶表示素子としては、透明電極
が設けられている基板の表面に液晶配向膜を形成して液
晶表示素子用基板とし、その２枚を対向配置して、その
間隙内に正の誘電異方性を有するネマチック型液晶の層
を形成してサンドイッチ構造のセルとし、当該液晶分子
の長軸が一方の基板から他方の基板に向かって連続的に
９０度捻れるようにした、いわゆるＴＮ型（Ｔｗｉｓｔ
ｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）液晶セルを有するＴＮ型液晶表
示素子が知られている。また、最近においては、ＴＮ型
液晶表示素子に比してコントラストが高くて、その視野
角依存性の小さいＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ
Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶表示素子が開発されている。
このＳＴＮ型液晶表示素子は、ネマチック型液晶に光学
活性物質であるカイラル剤をブレンドしたものを液晶と
して用い、当該液晶分子の長軸が基板間で１８０度以上
にわたって連続的に捻れる状態となることにより生じる
複屈折効果を利用するものである。これらＴＮ型液晶表
示素子およびＳＴＮ型液晶表示素子において、液晶分子
の配向は、基板の表面に形成された液晶配向膜によって
発現される。この液晶配向膜は、通常、有機高分子材料
を適宜の溶媒に溶解して液晶配向剤を調製し、この液晶
配向剤を、液晶セルを構成する基板の表面に塗布して被
覆膜を形成し、この被覆膜の表面にラビングなどの配向
処理を施すことにより形成することができる。

【０００３】ここに、配向処理が施されて液晶配向膜と
なる被覆膜としては、配向の安定性などの観点から、下
記〔Ｉ〕および〔II〕に示すようにして形成されるポリ
イミドからなる被覆膜が一般的に採用されている。 〔Ｉ〕ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸を適宜
の溶媒に溶解してポリアミック酸タイプの液晶配向剤
（以下、「ポリアミック酸系配向剤」ともいう。）を調
製し、このポリアミック酸系配向剤を基板の表面に塗布
し、塗膜を加熱することによりポリアミック酸を脱水閉
環（イミド化反応）させて被覆膜を形成する。 〔II〕可溶性ポリイミドを適宜の溶媒に溶解して可溶性
ポリイミドタイプの液晶配向剤（以下、「可溶性ポリイ
ミド系配向剤」ともいう。）を調製し、この可溶性ポリ
イミド系配向剤を基板の表面に塗布し、塗膜から溶媒を
除去することにより被覆膜を形成する。

【０００４】ここで、ポリアミック酸系配向剤を使用し
て実行される上記〔Ｉ〕の方法は、下記（１）〜（３）
の点で有利である。 （１）ポリアミック酸系配向剤は良好な塗布特性を有す
るので、基板表面に均質な塗膜（被覆膜）を形成するこ
とができる。 （２）基板表面においてポリアミック酸を熱的に脱水閉
環させるので、形成される被覆膜は基板に対する密着性
に優れ、ラビング処理によって当該被覆膜が基板から剥
離することはない。 （３）ラビング条件を変化させても、液晶配向膜による
液晶分子のプレチルト角が変化しにくい。しかしなが
ら、上記〔Ｉ〕の方法においては、ポリアミック酸を脱
水閉環させるために、ポリアミック酸系配向剤よりなる
塗膜を高温で加熱する必要があり、この加熱条件が変化
することによって、形成される液晶配向膜による液晶分
子のプレチルト角が大きく変化するという問題がある。
また、このポリアミック酸系配向剤は保存安定性に劣る
という欠点を有する。

【０００５】一方、可溶性ポリイミド系配向剤を使用し
て実行される上記〔II〕の方法は、下記（４）〜（６）
の点で有利である。 （４）可溶性ポリイミド系配向剤よりなる塗膜から溶剤
を除去するだけで被覆膜を形成することができるので、
当該塗膜を高温で加熱する必要はない。 （５）基板表面に塗布形成された塗膜を加熱する場合に
おいて、加熱条件を変化させても、液晶配向膜による液
晶分子のプレチルト角が変化しにくい。 （６）可溶性ポリイミド系配向剤は保存安定性に優れて
いる。 しかしながら、上記〔II〕の方法においては、可溶性ポ
リイミド系配向剤の塗布特性がポリアミック酸系配向剤
に比べて劣ることから、塗膜（被覆膜）の均質性が損な
われることがある。また、形成される被覆膜は、基板に
対する密着力が比較的小さいため、ラビング処理によっ
て当該被覆膜が基板から剥離することがある。さらに、
ラビング条件が変化することにより、液晶配向膜による
液晶分子のプレチルト角が大きく変化するという問題が
ある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】以上のような事情か
ら、ポリイミドからなる液晶配向膜を形成するための液
晶配向剤として、ポリアミック酸系配向剤による利点
〔上記（１）〜（３）〕および可溶性ポリイミド系配向
剤による利点〔上記（４）〜（６）〕をバランスよく兼
ね備えた液晶配向剤の開発が望まれている。そこで、ポ
リアミック酸系配向剤および可溶性ポリイミド系配向剤
の両者の特性を発現させるために、液晶配向剤に含有さ
れる重合体として、アミック酸部位の一部がイミド化さ
れてなるイミド基含有ポリアミック酸を使用することが
考えられる。しかしながら、 ポリアミック酸系配向
剤に含有されるポリアミック酸のように、加熱すること
により容易にイミド化されるポリアミック酸は、イミド
化されることによって、溶媒に不溶なポリイミド（不溶
性ポリイミド）となること、 可溶性ポリイミドの前
駆体であるポリアミック酸は、加熱するだけではイミド
化されにくいことなどの理由から、液晶配向剤の構成成
分として好適に使用することのできるイミド基含有ポリ
アミック酸は提供されるに至っていない。

【０００７】本発明は、以上のような技術的状況に基づ
いてなされたものであって、本発明の第１の目的は、通
常の手段では同時に得ることができない所期の複数の特
性をバランスよく有し、液晶配向剤の構成成分として特
に有用なイミド基含有ポリアミック酸を提供することに
ある。本発明の第２の目的は、このようなイミド基含有
ポリアミック酸を、確実かつ容易に製造することのでき
る製造方法を提供することにある。本発明の第３の目的
は、ポリアミック酸系配向剤および可溶性ポリイミド系
配向剤がそれぞれ有する利点を兼ね備えた液晶配向剤を
提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明のイミド基含有ポ
リアミック酸（以下、「特定ポリアミック酸Ａ」ともい
う。）は、下記一般式（１）で表されることを特徴とす
る。

【０００９】

【化３】

【００１０】（式中、Ｒ¹ およびＲ³ はそれぞれ４価の
有機基を示し、Ｒ² およびＲ⁴ はそれぞれ２価の有機基
を示し、ｎは繰り返し単位数を示す。）

【００１１】本発明のイミド基含有ポリアミック酸の製
造方法は、下記一般式（２）で表されるテトラカルボン
酸二無水物と、下記一般式（３）で表されるイミド基含
有ジアミン化合物（以下、「特定ジアミン化合物」とい
う。）とを反応させることを特徴とする。

【００１２】

【化４】

【００１３】（式中、Ｒ¹ およびＲ³ はそれぞれ４価の
有機基を示し、Ｒ² およびＲ⁴ はそれぞれ２価の有機基
を示す。）

【００１４】本発明の液晶配向剤は、上記イミド基含有
ポリアミック酸（特定ポリアミック酸Ａ）、および特定
ポリアミック酸Ａのアミック酸部位の少なくとも一部を
脱水閉環して得られるポリイミド（以下、「特定ポリイ
ミドＢ」ともいう。）から選ばれる少なくとも１種の重
合体を含有することを特徴とする。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の特定ポリアミック酸Ａは、上記一般式
（２）で表されるテトラカルボン酸二無水物と、上記一
般式（３）で表される特定ジアミン化合物とを反応させ
ることによって合成することができる。

【００１６】＜テトラカルボン酸二無水物＞本発明の特
定ポリアミック酸Ａの合成反応に用いられる、上記一般
式（２）で表されるテトラカルボン酸二無水物として
は、例えばブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，
３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，
３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテ
トラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシ
シクロペンチル酢酸二無水物、３，５，６−トリカルボ
キシノルボルナン−２−酢酸二無水物、２，３，４，５
−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、５−
（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル
−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水
物、ビシクロ［２，２，２］−オクト−７−エン−２，
３，５，６−テトラカルボン酸二無水物などの脂肪族ま
たは脂環式テトラカルボン酸二無水物；ピロメリット酸
二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニル
スルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−
ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７
−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，
４，４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水
物、３，３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテ
トラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラ
フェニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，
３，４−フランテトラカルボン酸二無水物、４，４’−
ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルス
ルフィド二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボ
キシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，
４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェ
ニルプロパン二無水物、３，３’，４，４’−パーフル
オロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３，３’，
４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス
（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、
ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水
物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二
無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジ
フェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル
酸）−４，４’−ジフェニルメタン二無水物などの芳香
族テトラカルボン酸二無水物；１，３，３ａ，４，５，
９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジ
オキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン
−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキ
サヒドロ−５−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−
ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラ
ン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘ
キサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５
−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フ
ラン−１，３−ジオン、下記一般式（４）で表される化
合物、下記一般式（５）で表される化合物などの芳香環
を有する脂肪族テトラカルボン酸二無水物などを挙げる
ことができる。これらのテトラカルボン酸二無水物は、
単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができ
る。

【００１７】

【化５】

【００１８】（式中、Ｒ⁵ は芳香環を有する２価の有機
基を示し、Ｒ⁶ およびＲ⁷ はそれぞれ水素原子またはア
ルキル基を示す。）

【００１９】

【化６】

【００２０】（式中、Ｒ⁸ は芳香環を有する２価の有機
基を示し、Ｒ⁹ およびＲ¹⁰はそれぞれ水素原子またはア
ルキル基を示す。）

【００２１】これらのうち、１，２，３，４−シクロブ
タンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−
１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水
物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二
無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−
５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニ
ル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、
１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−メチ
ル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラ
ニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオ
ン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−
メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−
フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジ
オン、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，
４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、下記
化学式（１）のＡ０１〜Ａ０４で表される化合物が、液
晶配向膜としたときの液晶配向性の観点から好ましい。

【００２２】

【化７】

【００２３】本発明のイミド基含有ポリアミック酸は、
加熱されることにより、アミック酸部位が容易に脱水閉
環されるものであることが特に好ましい。このようなイ
ミド基含有ポリアミック酸を合成する観点から好適なテ
トラカルボン酸二無水物としては、上記一般式（２）に
おいて、有機基Ｒ¹ と無水カルボン酸基（−ＣＯ−Ｏ−
ＣＯ−）とから形成される環状部分（複素環）が５員環
である化合物を挙げることができる。このような構造を
有するテトラカルボン酸二無水物としては、１，２，
３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，
３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、３，
３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物などを挙げることができる。

【００２４】＜特定ジアミン化合物＞本発明のイミド基
含有ポリアミック酸は、その合成反応に供されるジアミ
ン化合物として、上記一般式（３）で表される特定ジア
ミン化合物を使用する点に特徴を有する。斯かる特定ジ
アミン化合物は、例えば、以下に示す合成法１〜３に従
って得ることができる。

【００２５】＜合成法１＞下記一般式（６）で表される
テトラカルボン酸二無水物１モルと、下記一般式（７）
で表されるニトロ基含有モノアミン化合物２モル以上と
を、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどの極性溶媒中にお
いて混合し、−１５〜１００℃で反応させることによ
り、下記一般式（８）で表されるジニトロ化合物を合成
する。次いで、得られたジニトロ化合物が溶解されてい
る極性溶媒中に、前記テトラカルボン酸二無水物１モル
に対し、２モル以上のピリジンと、２モル以上の無水酢
酸を添加し、４０℃〜１５０℃で脱水閉環させることに
より、下記一般式（９）で表されるイミド基含有ジニト
ロ化合物を得る。その後、得られたイミド基含有ジニト
ロ化合物をエチルアルコールなどの溶媒中に溶解させ、
水素ガスなどを用いてニトロ基を還元することにより、
目的とする特定ジアミン化合物を得ることができる。

【００２６】

【化８】

【００２７】（式中、Ｒ¹¹は４価の有機基を示し、Ｒ¹²
は２価の有機基を示す。）

【００２８】＜合成法２＞下記一般式（１０）で表され
るテトラカルボン酸二無水物１モルと、下記一般式（１
１）で表されるジアミン化合物３モル以上とを、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドンなどの極性溶媒中において混合
し、−１５〜１００℃で反応させることにより、下記一
般式（１２）で表されるジアミン化合物を合成する。次
いで、得られたジアミン化合物が溶解されている極性溶
媒中に、前記テトラカルボン酸二無水物１モルに対し、
４モル以上のピリジンと、４モル以上の無水酢酸を添加
し、４０℃〜１５０℃で脱水閉環させることにより、下
記一般式（１３）で表されるイミド基含有ジアセトアミ
ド化合物を得る。その後、得られたイミド基含有ジアセ
トアミド化合物を、塩酸またはｐ−トルエンスルホン酸
などの酸で処理することにより、目的とする特定ジアミ
ン化合物を得ることができる。

【００２９】

【化９】

【００３０】（式中、Ｒ¹³は４価の有機基を示し、Ｒ¹⁴
は２価の有機基を示す。）

【００３１】＜合成法３＞下記一般式（１４）で表され
るテトラカルボン酸二無水物１モルと、下記一般式（１
５）で表されるニトロ基含有モノイソシアネート化合物
２モル以上とを、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどの極
性溶媒中において混合し、６０〜１５０℃で反応させる
ことにより、下記一般式（１６）で表されるイミド基含
有ジニトロ化合物を合成する。次いで、得られたジニト
ロ化合物をエチルアルコールなどの溶媒中に溶解させ、
水素ガスなどを用いてニトロ基を還元することにより、
目的とする特定ジアミン化合物を得る。

【００３２】

【化１０】

【００３３】（式中、Ｒ¹⁵は４価の有機基を示し、Ｒ¹⁶
は２価の有機基を示す。）

【００３４】合成法１〜合成法３において用いられる上
記一般式（６）、上記一般式（１０）および上記一般式
（１４）で表されるテトラカルボン酸二無水物の具体例
としては、特定ポリアミック酸Ａの合成反応に用いられ
るテトラカルボン酸二無水物〔上記一般式（２）で表さ
れるテトラカルボン酸二無水物〕として例示した化合物
を挙げることができ、これらのうち、１，２，３，４−
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメ
チル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸
二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル
酢酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒ
ドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フ
ラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオ
ン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−
メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−
フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジ
オン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８
−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３
−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−
ジオン、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，
３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、上記化学式（１）のＡ０１〜Ａ０４で表される化合
物などが好ましい。さらに、これらのうち、２，３，５
−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１，
３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラ
ヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト
［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３
ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−メチル−５−
（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−
ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，
３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−
５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニ
ル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン
は、これらを用いて合成される特定ジアミン化合物から
最終的に得られる液晶配向剤において、優れた塗布特性
を示すため、特に好ましい。なお、上記利点を発揮させ
ることのできるテトラカルボン酸二無水物は、これによ
り誘導されるアミック酸が熱的に脱水閉環されにくいも
のとなるが、当該アミック酸（部位）は予め脱水閉環さ
れた状態、すなわち、特定ポリアミック酸Ａを構成する
イミド基として液晶配向剤中に含有されるので、熱的に
脱水閉環されにくいものであることは何ら不利となるも
のではない。

【００３５】合成法１において、上記一般式（６）〜
（９）に示される４価の有機基〔Ｒ¹¹〕および２価の有
機基〔Ｒ¹²〕は、それぞれ、上記一般式（３）に示され
る４価の有機基〔Ｒ³ 〕および２価の有機基〔Ｒ² 〕，
〔Ｒ⁴ 〕に相当するものである。上記一般式（７）で表
されるニトロ基含有モノアミン化合物の具体例として
は、例えば１−アミノ−４−ニトロベンゼン、１−アミ
ノ−３−ニトロベンゼンなどを挙げることができる。

【００３６】合成法２において、上記一般式（１０）〜
（１３）に示される４価の有機基〔Ｒ¹³〕および２価の
有機基〔Ｒ¹⁴〕は、それぞれ、上記一般式（３）に示さ
れる４価の有機基〔Ｒ³ 〕および２価の有機基
〔Ｒ² 〕，〔Ｒ⁴ 〕に相当するものである。上記一般式
（１１）で表されるジアミン化合物の具体例としては、
例えばｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミ
ン、４’，４ージアミノジフェニルメタン、４，４’−
ジアミノジフェニルエタン、４，４’−ジアミノジフェ
ニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィ
ド、１，５−ジアミノナフタレン、３，３−ジメチル−
４，４’−ジアミノビフェニル、５ーアミノー１ー
（４’ーアミノフェニル）ー１，３，３ートリメチルイ
ンダン、６ーアミノー１ー（４’ーアミノフェニル）ー
１，３，３ートリメチルインダン、４，４’−ジアミノ
ベンズアニリド、３，５−ジアミノ−３’−トリフルオ
ロメチルベンズアニリド、３，５−ジアミノ−４’−ト
リフルオロメチルベンズアニリド、３，４’−ジアミノ
ジフェニルエーテル、２，７−ジアミノフルオレン、
２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン、４，４’−メチレン−ビス（２−クロロアニリ
ン）、２，２’，５，５’−テトラクロロ−４，４’−
ジアミノビフェニル、２，２’−ジクロロ−４，４’−
ジアミノ−５，５’−ジメトキシビフェニル、３，３’
−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、４，
４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチ
ル）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェ
ノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４
−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパ
ン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、
４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）−ビフェニ
ル、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、
９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、４．
４’−（ｐ−フェニレンイソプロピリデン）ビスアニリ
ン、４，４’−（ｍ−フェニレンイソプロピリデン）ビ
スアニリン、２，２’−ビス［４−（４−アミノ−２−
トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフル
オロプロパン、４，４’−ビス［（４−アミノ−２−ト
リフルオロメチル）フェノキシ］−オクタフルオロビフ
ェニルなどの芳香族ジアミン；ジアミノテトラフェニル
チオフェンなどの芳香環に結合された２個のアミノ基と
当該アミノ基の窒素原子以外のヘテロ原子を有する芳香
族ジアミン；１，１−メタキシリレンジアミン、１，３
−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタ
メチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメ
チレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレ
ンジアミン、４，４−ジアミノヘプタメチレンジアミ
ン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジア
ミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミ
ン、ヘキサヒドロ−４，７−メタノインダニレンジメチ
レンジアミン、トリシクロ［６，２，１，０^2.7 ］−ウ
ンデシレンジメチルジアミン、４，４’−メチレンビス
（シクロヘキシルアミン）などの脂肪族ジアミンおよび
脂環式ジアミン；下記一般式（１７）で表されるモノ置
換フェニレンジアミン類；下記化学式（２）のＢ０１〜
Ｂ０３で表される化合物などを挙げることができる。こ
れらのジアミン化合物は、単独でまたは２種以上組み合
わせて用いることができる。

【００３７】

【化１１】

【００３８】〔式中、Ｒ¹⁷は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−
ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−および、−ＣＯ
−から選ばれる２価の有機基を示し、Ｒ¹⁸はステロイド
骨格を有する１価の有機基を示す。〕

【００３９】

【化１２】

【００４０】これらのうち、ｐ−フェニレンジアミン、
４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，５−ジアミ
ノナフタレン、２，７−ジアミノフルオレン、４，４’
−ジアミノジフェニルエーテル、４．４’−（ｐ−フェ
ニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−
（ｍ−フェニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、
１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，
４’−ビス（４−アミノフェノキシ）−ビフェニル、
２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニ
ル］プロパン、上記化学式（２）のＢ０１〜Ｂ０２で表
される化合物、上記一般式（１７）で表されるモノ置換
フェニレンジアミン類のうち下記化学式（３）で表され
る化合物が好ましい。

【００４１】

【化１３】

【００４２】合成法３において、上記一般式（１４）〜
（１６）に示される４価の有機基〔Ｒ¹⁵〕および２価の
有機基〔Ｒ¹⁶〕は、それぞれ、上記一般式（３）に示さ
れる４価の有機基〔Ｒ³ 〕および２価の有機基
〔Ｒ² 〕，〔Ｒ⁴ 〕に相当するものである。上記一般式
（１５）で表されるニトロ基含有モノイソシアネート化
合物の具体例としては、例えばｐ−ニトロフェニルイソ
シアネートなどを挙げることができる。以上のようにし
て合成することのできる特定ジアミン化合物の具体例と
しては、下記化学式（４）のＣ０１〜Ｃ０４で表される
化合物〔以下、「特定ジアミン化合物（Ｃ０１）」〜
「特定ジアミン化合物（Ｃ０４）」という。〕などを挙
げることができ、これらの特定ジアミン化合物は、単独
でまたは２種以上組み合わせて、特定ポリアミック酸Ａ
の合成に用いることができる。

【００４３】

【化１４】

【００４４】本発明においては、特定ポリアミック酸Ａ
の合成に用いるジアミン化合物として、上記特定ジアミ
ン化合物以外のジアミン化合物を併用することもでき
る。ここで、併用可能なジアミン化合物としては、特定
ジアミン化合物を得るための合成法２において用いられ
るジアミン化合物〔上記一般式（１１）で表されるジア
ミン化合物〕として例示したジアミン化合物、４，４’
−ジアミノジフェニルスルホン、２，２−ビス［４−
（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、３，
３’−ジアミノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベ
ンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、
３，５−ジアミノ安息香酸、下記一般式（１８）で表さ
れるジアミノオルガノシロキサンなどを挙げることがで
きる。これらのジアミン化合物は、単独でまたは２種以
上組み合わせて、特定ポリアミック酸Ａの合成に用いる
ことができる。

【００４５】

【化１５】 （式中、Ｒ¹⁹は炭素数１〜１２の炭化水素基を示し、ｐ
は１〜３の整数であり、ｑは１〜２０の整数である。）

【００４６】これらのうち、ｐ−フェニレンジアミン、
４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，５−ジアミ
ノナフタレン、２，７−ジアミノフルオレン、４，４’
−ジアミノジフェニルエーテル、４．４’−（ｐ−フェ
ニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−
（ｍ−フェニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、
１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，
４’−ビス（４−アミノフェノキシ）−ビフェニル、
２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニ
ル］プロパン、上記化学式（２）のＢ０１〜Ｂ０２で表
される化合物が好ましい。

【００４７】＜特定ポリアミック酸Ａ＞本発明の特定ポ
リアミック酸Ａは、上記一般式（２）で表されるテトラ
カルボン酸二無水物と、上記一般式（３）で表される特
定ジアミン化合物とを反応させることにより得られる。
ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸
二無水物とジアミン化合物（特定ジアミン化合物および
併用されるジアミン化合物）の使用割合は、ジアミン化
合物に含まれるアミノ基１当量に対して、テトラカルボ
ン酸二無水物の酸無水物基が０．２〜２当量となる割合
が好ましく、さらに好ましくは０．３〜１．２当量とな
る割合である。特定ポリアミック酸Ａの合成反応は、有
機溶媒中において、通常０〜１５０℃、好ましくは０〜
１００℃の温度条件下で行われる。この合成反応に用い
られる有機溶媒としては、反応生成物である特定ポリア
ミック酸Ａを溶解し得るものであれば特に制限はなく、
例えばＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿
素、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどの非プロトン
系極性溶媒；ｍ−クレゾール、キシレノール、フェノー
ル、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒を挙
げることができる。有機溶媒の使用量は、通常、テトラ
カルボン酸二無水物およびジアミン化合物の総量が、反
応溶液の全量に対して０．１〜３０重量％になるような
量であることが好ましい。なお、この有機溶媒には、特
定ポリアミック酸Ａの貧溶媒であるアルコール類、ケト
ン類、エステル類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類
または炭化水素類を、生成する特定ポリアミック酸Ａが
析出しない程度の割合で併用することができる。かかる
貧溶媒としては、例えばメチルアルコール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノー
ル、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，
４−ブタンジオール、トリエチレングリコール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、シュウ酸ジ
エチル、マロン酸ジエチル、ジエチルエーテル、エチレ
ングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチ
ルエーテル、エチレングリコール−ｎ−プロピルエーテ
ル、エチレングリコール−ｉ−プロピルエーテル、エチ
レングリコール−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエー
テルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン、ジクロロ
メタン、１，２−ジクロロエタン、１，４−ジクロロブ
タン、トリクロロエタン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロ
ルベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどを挙げることができる。

【００４８】＜特定ポリイミドＢ＞特定ポリイミドＢ
は、下記方法（１）または方法（２）により、特定ポリ
アミック酸Ａのアミック酸部位を脱水閉環することによ
り得られる。 方法（１）：特定ポリアミック酸Ａを加熱する方法。こ
の方法における加熱温度は、通常６０〜３００℃とさ
れ、好ましくは１００〜２５０℃とされる。加熱温度が
６０℃未満ではアミック酸部位のイミド化反応が十分に
進行せず、加熱温度が３００℃を超えると得られる特定
ポリイミドＢの分子量が低下することがある。 方法（２）：特定ポリアミック酸Ａを有機溶媒に溶解
し、この溶液中に脱水剤およびイミド化触媒を添加し必
要に応じて加熱することにより、アミック酸部位を脱水
閉環（イミド化）させる方法。この方法において、脱水
剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水
トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができ
る。脱水剤の使用量は、特定ポリアミック酸Ａの繰り返
し単位１モルに対して１．６〜２０モルとするのが好ま
しい。また、イミド化触媒としては、例えばピリジン、
コリジン、ルチジン、トリエチルアミンなどの第３級ア
ミンを用いることができるが、これらに限定されるもの
ではない。イミド化触媒の使用量は、使用する脱水剤１
モルに対して０．５〜１０モルとするのが好ましい。な
お、脱水閉環に用いられる有機溶媒としては、特定ポリ
アミック酸Ａの合成に用いられるものとして例示した有
機溶媒を挙げることができる。脱水閉環の反応温度は、
通常０〜１８０℃、好ましくは４０〜１５０℃とされ
る。また、上記脱水閉環の反応条件をコントロールする
ことによって、イミド化率を任意に調整することができ
る。

【００４９】特定ポリアミック酸Ａおよび特定ポリイミ
ドＢは、末端修飾型のものであってもよい。この末端修
飾型の特定ポリアミック酸Ａおよび特定ポリイミドＢ
は、その分子量が好適な範囲に調節され、液晶配向剤に
含有させることにより、本発明の効果が損われることな
く液晶配向剤の塗布特性などを改善することができる。
このような末端修飾型のものは、特定ポリアミック酸Ａ
を合成する際に、酸一無水物、モノアミン化合物などを
反応系に添加することにより合成することができる。こ
こで、酸一無水物としては、例えば無水マレイン酸、無
水フタル酸、コハク酸などを挙げることができ、また、
モノアミン化合物としては、例えばアニリン、シクロヘ
キシルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミ
ン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オ
クチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、
ｎ−ウンデシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−トリ
デシルアミン、ｎ−テトラデシルアミン、ｎ−ペンタデ
シルアミン、ｎ−ヘキサデシルアミン、ｎ−ヘプタデシ
ルアミン、ｎ−オクタデシルアミン、ｎ−エイコシルア
ミンなどを挙げることができる。

【００５０】特定ポリアミック酸Ａおよび特定ポリイミ
ドＢは、その対数粘度（ηｌｎ）の値が通常０．０５〜
１０ｄｌ／ｇであることが好ましく、さらに好ましくは
０．０５〜５ｄｌ／ｇとされる。なお、この明細書にお
ける対数粘度（ηｌｎ）の値は、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドンを溶媒として用い、濃度が０．５ｇ／１００ミリ
リットルである溶液について３０℃で粘度の測定を行
い、下記数式によって求められるものである。

【００５１】

【数１】

【００５２】＜液晶配向剤＞本発明の液晶配向剤は、上
記特定ポリアミック酸Ａおよび上記特定ポリイミドＢか
ら選ばれる少なくとも１種の重合体が有機溶媒中に均一
に溶解されて構成される。ここに、当該有機溶媒として
は、これらの重合体を溶解できるものであれば特に制限
されるものではなく、例えば、特定ポリアミック酸Ａの
合成に用いられるものとして例示した溶媒を挙げること
ができる。本発明の液晶配向剤には、基板に対する密着
性をさらに向上させることを目的として官能性シラン含
有化合物が含有されていてもよい。かかる官能性シラン
含有化合物としては、例えば３−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチ
ル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−
（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメ
トキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラ
ン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エ
トキシカルボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルト
リエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルト
リエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピ
ルトリエチレントリアミン、１０−トリメトキシイシリ
ル−１，４，７−トリアザデカン、１０−トリエトキシ
シリル−１，４，７−トリアザデカン、９−トリメトキ
シシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、９−トリ
エトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、Ｎ
−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）
−３−アミノプロピルトリエトキシシランなどを挙げる
ことができる。本発明の液晶配向剤における固形分濃度
〔重合体および添加剤の合計濃度〕は、粘性、揮発性な
どを考慮して選択されるが、好ましくは０．１〜２０重
量％の範囲とされる。固形分濃度が０．１重量％未満で
ある場合には、塗膜（被覆膜）の膜厚が過小となって良
好な液晶配向膜を得ることができず、固形分濃度が２０
重量％を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良
好な液晶配向膜を得難く、また、液晶配向剤の粘性が増
大して塗布特性が劣るものとなる場合がある。

【００５３】＜液晶表示素子＞本発明の液晶配向剤を用
いて得られる液晶表示素子は、例えば次の方法によって
製造することができる。

【００５４】（１）パターニングされた透明導電膜が設
けられている基板の一面に、本発明の液晶配向剤を例え
ばロールコーター法、スピンナー法、印刷法などの方法
によって塗布し、次いで、塗布面を加熱することにより
被覆膜を形成する。ここに、基板としては、例えばフロ
ートガラス、ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエ
ーテルスルホン、ポリカーボネートなどのプラスチック
からなる透明基板を用いることができる。また、基板の
一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ（Ｓｎ
Ｏ₂ ）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、
酸化インジウム−酸化スズ（Ｉｎ₂ Ｏ₃ −ＳｎＯ₂ ）か
らなるＩＴＯ膜などを用いることができ、これらの透明
導電膜のパターニングには、フォト・エッチング法や予
めマスクを用いる方法が用いられる。液晶配向剤の塗布
に際しては、基板表面および透明導電膜と液晶配向剤の
被覆膜との接着性をさらに良好にするために、基板の該
表面に、官能性シラン含有化合物、官能性チタン含有化
合物などを予め塗布することもできる。また加熱温度は
８０〜３００℃とされ、好ましくは１００〜２５０℃と
される。形成される被覆膜の膜厚は、通常０．００１〜
１μｍであり、好ましくは０．００５〜０．５μｍであ
る。なお、ポリアミック酸を含有する本発明の液晶配向
剤は、塗布後に有機溶媒を除去することによって液晶配
向膜となる被覆膜を形成するが、さらに加熱することに
よって脱水閉環を進行させ、イミド化された被覆膜とす
ることもできる。

【００５５】（２）形成された被覆膜面に、例えばナイ
ロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き
付けたロールで一定方向に擦るラビングや、偏光紫外線
照射などによる配向処理を行うことにより、液晶分子の
配向能が被覆膜に付与されて液晶配向膜となる。なお、
ラビングにより配向処理を行った場合、ラビング時に発
生する微粉体（異物）を除去して表面を清浄な状態とす
るために、イソプロピルアルコールまたは水系の洗浄剤
などによって液晶配向膜を洗浄することが好ましい。液
晶配向膜は、上記の方法以外に、一軸延伸法、ラングミ
ュア・ブロジェット法などで樹脂膜を得ることにより、
形成することもできる。

【００５６】（３）上記のようにして液晶配向膜が形成
された基板を２枚作製し、それぞれの液晶配向膜におけ
る配向処理方向が直交または逆平行となるように、２枚
の基板を、間隙（セルギャップ）を介して対向配置し、
２枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基
板表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内
に液晶を注入充填し、注入孔を封止して液晶セルを構成
する。そして、液晶セルの外表面、すなわち、液晶セル
を構成するそれぞれの基板の他面側に、偏光板を、その
偏光方向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜の配
向処理方向と一致または直交するように貼り合わせるこ
とにより、液晶表示素子が得られる。

【００５７】ここに、シール剤としては、例えば硬化剤
およびスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有す
るエポキシ樹脂などを用いることができる。液晶として
は、ネマティック型液晶およびスメクティック型液晶を
挙げることができ、その中でもネマティック型液晶が好
ましく、例えばシッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、
ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エ
ステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロ
ヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液
晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶などを用
いることができる。また、これらの液晶に、例えばコレ
スチルクロライド、コレステリルノナエート、コレステ
リルカーボネートなどのコレステリック型液晶や商品名
「Ｃ−１５」「ＣＢ−１５」（メルク社製）として販売
されているようなカイラル剤などを添加して使用するこ
ともできる。さらに、ｐ−デシロキシベンジリデン−ｐ
−アミノ−２−メチルブチルシンナメートなどの強誘電
性液晶も使用することができる。また、液晶セルの外表
面に貼り合わされる偏光板としては、ポリビニルアルコ
ールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させたＨ膜と
称される偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板
またはＨ膜そのものからなる偏光板を挙げることができ
る。

【００５８】

【実施例】以下、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるも
のではない。なお、以下の実施例および比較例により調
製された液晶配向剤の評価項目および評価方法を下記に
示す。 〔液晶配向膜の密着性および強靱性〕被覆膜にラビング
処理を施すことにより形成された液晶配向膜の表面状態
を観察して、密着性（液晶配向膜の剥離の有無）および
強靱性（顕微鏡観察によるラビング傷の有無）を評価し
た。 〔液晶の配向性〕液晶表示素子に電圧を印加し解除した
ときの液晶セル中における配向不良（異常ドメイン）の
有無を偏光顕微鏡で観察し、異常ドメインのない場合を
「良好」と判定した。 〔液晶分子のプレチルト角〕「Ｔ．Ｊ．Ｓｃｈｆｆｅ
ｒ，ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，ｖｏ
ｌ．１９，２０１３（１９８０）」に記載の方法に準拠
し、Ｈｅ−Ｎｅレーザー光を用いる結晶回転法により行
った。

【００５９】＜特定ジアミン化合物の合成＞ 〔合成例１〕２，３，５−トリカルボキシシクロペンチ
ル酢酸二無水物３０．００ｇ（０．１３５ｍｏｌ）と１
−アミノ−４−ニトロベンゼン３９．００ｇ（０．２７
ｍｏｌ）とをＮ−メチル−２−ピロリドン９００ｇに溶
解させ、この溶液を８０℃で４８時間反応させた。続い
て、得られた反応溶液に、ピリジン５４．００ｇ（０．
６９ｍｏｌ）と無水酢酸４２．００ｇ（０．４２ｍｏ
ｌ）とを添加して１１０℃で４時間脱水閉環させた。そ
の後、得られた反応溶液を多量のメチルアルコールに注
いで反応生成物を沈澱させた。この反応生成物をエチル
アルコールで２回再結晶を行ってイミド基含有ジニトロ
化合物５５．３６ｇを得た。その後、得られたイミド基
含有ジニトロ化合物５０．００ｇをエチルアルコール５
０００ｇに溶解させ、この溶液中に、パラジウムのカー
ボン担持触媒（エヌ・イー・ケムキャット社製：パラジ
ウム濃度５重量％）１７．５ｇを添加し、水素ガスを吹
き込みながら６時間にわたり加熱還流を行った。その
後、熱時濾過により触媒を除去し濾液を室温まで冷却し
た。析出物を濾別し、エチルアルコールで再結晶を行う
ことにより、特定ジアミン化合物（Ｃ０１）２１．４８
ｇを得た。

【００６０】〔合成例２〕１，３，３ａ，４，５，９ｂ
−ヘキサヒドロ−５−メチル−５−（テトラヒドロ−
２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−
ｃ］フラン−１，３−ジオン６５．００ｇ（０．２０８
ｍｏｌ）と１−アミノ−４−ニトロベンゼン６５．００
ｇ（０．４５５ｍｏｌ）とをＮ−メチル−２−ピロリド
ン２０００ｇに溶解させ、８０℃で４８時間反応させ
た。続いて、得られた反応溶液に、ピリジン８４．５０
ｇ（１．０４ｍｏｌ）と無水酢酸６５．００ｇ（０．６
５ｍｏｌ）とを添加して１１０℃で４時間脱水閉環させ
た。その後、得られた反応溶液を多量のメチルアルコー
ルに注いで反応生成物を沈澱させた。この反応生成物を
エチルアルコールで２回再結晶を行ってイミド基含有ジ
ニトロ化合物９０．８５ｇを得た。その後、得られたイ
ミド基含有ジニトロ化合物８０．００ｇをエチルアルコ
ール８０００ｇに溶解させ、この溶液中に、パラジウム
のカーボン担持触媒（エヌ・イー・ケムキャット社製：
パラジウム濃度５重量％）２８．０ｇを添加し、水素ガ
スを吹き込みながら６時間にわたり加熱還流を行った。
その後、熱時濾過により触媒を除去し濾液を室温まで冷
却した。析出物を濾別し、エチルアルコールで再結晶を
行うことにより、特定ジアミン化合物（Ｃ０２）２６．
３４ｇを得た。

【００６１】〔合成例３〕ピロメリット酸二無水物１
０．００ｇ（０．０４６ｍｏｌ）と１−アミノ−４−ニ
トロベンゼン１３．００ｇ（０．０９ｍｏｌ）とをＮ−
メチル−２−ピロリドン３００ｇに溶解させ、８０℃で
４８時間反応させた。続いて、得られた反応溶液に、ピ
リジン１８．００ｇ（０．２３ｍｏｌ）と無水酢酸１
４．００ｇ（０．１４ｍｏｌ）とを添加して１１０℃で
４時間脱水閉環させた。その後、得られた反応溶液を多
量のメチルアルコールに注いで反応生成物を沈澱させ
た。この反応生成物をジメチルホルムアミドで３回再結
晶を行ってイミド基含有ジニトロ化合物１７．５５ｇを
得た。その後、得られたイミド基含有ジニトロ化合物１
０．００ｇをエチルアルコール１０００ｇに溶解させ、
この溶液中に、パラジウムのカーボン担持触媒（エヌ・
イー・ケムキャット社製：パラジウム濃度５重量％）
３．５ｇを添加し、水素ガスを吹き込みながら６時間に
わたり加熱還流を行った。その後、熱時濾過により触媒
を除去し濾液を室温まで冷却した。析出物を濾別し、ジ
メチルホルムアミドで再結晶を行うことにより、特定ジ
アミン化合物（Ｃ０３）５．３８ｇを得た。

【００６２】〔合成例４〕１，３−ジメル−１，２，
３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物２０．
００ｇ（０．０９０ｍｏｌ）と１−アミノ−４−ニトロ
ベンゼン２６．００ｇ（０．１８ｍｏｌ）とをＮ−メチ
ル−２−ピロリドン３００ｇに溶解させ、８０℃で４８
時間反応させた。続いて、得られた反応溶液に、ピリジ
ン３６．００ｇ（０．４６ｍｏｌ）と無水酢酸２８．０
０ｇ（０．２８ｍｏｌ）とを添加して１１０℃で４時間
脱水閉環させた。その後、得られた反応溶液を多量のメ
チルアルコールに注いで反応生成物を沈澱させた。この
反応生成物をジメチルホルムアミドで３回再結晶を行っ
てイミド基含有ジニトロ化合物２７．１１ｇを得た。そ
の後、得られたイミド基含有ジニトロ化合物２０．００
ｇをエチルアルコール２０００ｇに溶解させ、この溶液
中に、パラジウムのカーボン担持触媒（エヌ・イー・ケ
ムキャット社製：パラジウム濃度５重量％）７．０ｇを
添加し、水素ガスを吹き込みながら６時間にわたり加熱
還流を行った。その後、熱時濾過により触媒を除去し濾
液を室温まで冷却した。析出物を濾別し、ジメチルホル
ムアミドで再結晶を行うことにより、特定ジアミン化合
物（Ｃ０４）８．９２ｇを得た。

【００６３】＜ポリマーの合成＞ 〔ポリマー合成例１〕１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘ
キサヒドロ−５−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５
−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フ
ラン−１，３−ジオン１１．７６ｇ（３７．４２ｍｍｏ
ｌ）と４，４’−ジアミノジフェニルメタン３．７１ｇ
（１８．７１ｍｍｏｌ）と上記化学式（２）のＢ０１で
表されるジアミン化合物１．２０ｇ（１．８７ｍｍｏ
ｌ）と合成例２で得られた特定ジアミン（Ｃ０２）８．
３３ｇ（１６．８４ｍｍｏｌ）とをＮ−メチル−２−ピ
ロリドン１００ｇに溶解させ、この溶液を２５℃で４時
間反応させた。次いで、得られた反応溶液を大過剰のメ
チルアルコールに注いで、反応生成物を沈澱させた。そ
の後、固形物を分離してメチルアルコールで洗浄し、減
圧下４０℃で１５時間乾燥させることにより、対数粘度
（ηｌｎ）が０．４３ｄｌ／ｇである特定ポリアミック
酸Ａ〔これを「特定ポリアミック酸（Ａ１）」とす
る。〕１６．４０ｇを得た。

【００６４】〔ポリマー合成例２〕ピロメリット酸二無
水物８．４０ｇ（３８．４９ｍｍｏｌ）と２，２−ビス
［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン
７．９０ｇ（１９．２５ｍｍｏｌ）と上記化学式（２）
のＢ０１で表されるジアミン化合物２．４７ｇ（３．８
５ｍｏｌ）と合成例１で得られた特定ジアミン（Ｃ０
１）６．２３ｇ（１５．４０ｍｍｏｌ）とをＮ−メチル
−２−ピロリドン１００ｇに溶解させ、この溶液を２５
℃で４時間反応させた。次いで、ポリマー合成例１と同
様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行う
ことにより、対数粘度（ηｌｎ）が０．７６ｄｌ／ｇで
ある特定ポリアミック酸Ａ〔これを「特定ポリアミック
酸（Ａ２）」とする。〕１９．３１ｇを得た。

【００６５】〔ポリマー合成例３〕ピロメリット酸二無
水物を７．９５ｇ（３６．４７ｍｍｏｌ）と２，２−ビ
ス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン
７．４９ｇ（１８．２４ｍｍｏｌ）と上記化学式（２）
のＢ０１で表されるジアミン化合物２．３４ｇ（３．６
５ｍｏｌ）と合成例２で得られた特定ジアミン（Ｃ０
２）７．２１ｇ（１４．５９ｍｍｏｌ）とをＮ−メチル
−２−ピロリドン１００ｇに溶解させ、この溶液を２５
℃で４時間反応させた。次いで、ポリマー合成例１と同
様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行う
ことにより、対数粘度（ηｌｎ）が０．７２ｄｌ／ｇで
ある特定ポリアミック酸Ａ〔これを「特定ポリアミック
酸（Ａ３）」とする。〕１８．０３ｇを得た。

【００６６】〔ポリマー合成例４〕１，３−ジメチル−
１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水
物１０．４３ｇ（４６．５２ｍｍｏｌ）と４，４’−ジ
アミノジフェニルメタン４．６１ｇ（２３．２６ｍｍｏ
ｌ）と上記化学式（２）のＢ０１で表されるジアミン化
合物１．５０ｇ（２．３３ｍｍｏｌ）と合成例１で得ら
れた特定ジアミン（Ｃ０１）８．４７ｇ（２０．９３ｍ
ｍｏｌ）とをＮ−メチル−２−ピロリドン１００ｇに溶
解させ、この溶液を２５℃で４時間反応させた。次い
で、ポリマー合成例１と同様にして、反応生成物の沈殿
・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、対数粘度（ηｌ
ｎ）が０．６９ｄｌ／ｇである特定ポリアミック酸Ａ
〔これを「特定ポリアミック酸（Ａ４）」とする。〕１
５．４５ｇを得た。

【００６７】〔ポリマー合成例５〕１，３−ジメチル−
１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水
物９．６９ｇ（４３．２６ｍｍｏｌ）と４，４’−ジア
ミノジフェニルメタン４．２９ｇ（２１．６３ｍｍｏ
ｌ）と上記化学式（２）のＢ０１で表されるジアミン化
合物１．３９ｇ（２．１６ｍｍｏｌ）と合成例２で得ら
れた特定ジアミン（Ｃ０２）９．６３ｇ（１９．４７ｍ
ｍｏｌ）とをＮ−メチル−２−ピロリドン１００ｇに溶
解させ、この溶液を２５℃で４時間反応させた。次い
で、ポリマー合成例１と同様にして、反応生成物の沈殿
・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、対数粘度（ηｌ
ｎ）が０．７２ｄｌ／ｇである特定ポリアミック酸Ａ
〔これを「特定ポリアミック酸（Ａ５）」とする。〕１
６．５５ｇを得た。

【００６８】〔ポリマー合成例６〕ピロメリット酸二無
水物８．５６ｇ（３９．２３ｍｍｏｌ）と２，２−ビス
［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン１
１．２７ｇ（２７．４６ｍｍｏｌ）と上記化学式（２）
のＢ０１で表されるジアミン化合物１．２６ｇ（１．９
６ｍｏｌ）と合成例３で得られた特定ジアミン（Ｃ０
３）３．９１ｇ（９．８１ｍｍｏｌ）とをＮ−メチル−
２−ピロリドン１００ｇに溶解させ、この溶液を２５℃
で４時間反応させた。次いで、ポリマー合成例１と同様
にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うこ
とにより、対数粘度（ηｌｎ）が０．８５ｄｌ／ｇであ
る特定ポリアミック酸Ａ〔これを「特定ポリアミック酸
（Ａ６）」とする。〕１８．６０ｇを得た。

【００６９】〔ポリマー合成例７〕１，３−ジメチル−
１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水
物１１．２９ｇ（５０．３９ｍｍｏｌ）と４，４’−ジ
アミノジフェニルメタン６．９９ｇ（３５．２７ｍｍｏ
ｌ）と上記化学式（２）のＢ０１で表されるジアミン化
合物１．６２ｇ（２．５２ｍｍｏｌ）と合成例４で得ら
れた特定ジアミン（Ｃ０４）５．０９ｇ（１２．６０ｍ
ｍｏｌ）とをＮ−メチル−２−ピロリドン１００ｇに溶
解させ、この溶液を２５℃で４時間反応させた。次い
で、ポリマー合成例１と同様にして、反応生成物の沈殿
・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、対数粘度（ηｌ
ｎ）が０．７７ｄｌ／ｇである特定ポリアミック酸Ａ
〔これを「特定ポリアミック酸（Ａ７）」とする。〕１
６．５５ｇを得た。

【００７０】〔比較ポリマー合成例１〕ピロメリット酸
二無水物５．１１ｇ（２３．４１ｍｍｏｌ）と２，３，
５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物５．２
５ｇ（２３．４１ｍｍｏｌ）と２，２−ビス［４−（４
−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン９．６１ｇ
（２３．４１ｍｍｏｌ）と上記化学式（２）のＢ０１で
表されるジアミン化合物３．０１ｇ（４．６８ｍｍｏ
ｌ）とｐ−フェニレンジアミン２．０３ｇ（１８．７３
ｍｍｏｌ）とをＮ−メチル−２−ピロリドン２００ｇに
溶解させ、この溶液を２５℃で２４時間反応させた。次
いで、ポリマー合成例１と同様にして、反応生成物の沈
殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、対数粘度（η
ｌｎ）が０．７１ｄｌ／ｇであるポリアミック酸〔これ
を「ポリアミック酸（ａ８）」とする。〕１５．４０ｇ
を得た。

【００７１】〔比較ポリマー合成例２〕ピロメリット酸
二無水物４．７１ｇ（２１．５９ｍｍｏｌ）と１，３，
３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−メチル−５−
（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−
ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン６．７８
ｇ（２１．５９ｍｍｏｌ）と２，２−ビス［４−（４−
アミノフェノキシ）フェニル］プロパン８．８６ｇ（２
１．５９ｍｍｏｌ）と上記化学式（２）のＢ０１で表さ
れるジアミン化合物２．７８ｇ（４．３２ｍｍｏｌ）と
ｐ−フェニレンジアミン１．８７ｇ（１７．２７ｍｍｏ
ｌ）とをＮ−メチル−２−ピロリドン２００ｇに溶解さ
せ、この溶液を２５℃で２４時間反応させた。次いで、
ポリマー合成例１と同様にして、反応生成物の沈殿・分
離・洗浄・乾燥を行うことにより、対数粘度（ηｌｎ）
が０．６９ｄｌ／ｇであるポリアミック酸〔これを「ポ
リアミック酸（ａ９）」とする。〕１５．５５ｇを得
た。

【００７２】〔比較ポリマー合成例３〕１，３−ジメチ
ル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二
無水物６．５０ｇ（２９．０１ｍｍｏｌ）と２，３，５
−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物６．５０
ｇ（２９．０１ｍｍｏｌ）と４，４’−ジアミノジフェ
ニルメタン５．７５ｇ（２９．０１ｍｍｏｌ）と上記化
学式（２）のＢ０１で表されるジアミン化合物３．７３
ｇ（５．８０ｍｍｏｌ）とｐ−フェニレンジアミン２．
５１ｇ（２３．２１ｍｍｏｌ）とをＮ−メチル−２−ピ
ロリドン２００ｇに溶解させ、この溶液を２５℃で２４
時間反応させた。次いで、ポリマー合成例１と同様にし
て、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことに
より、対数粘度（ηｌｎ）が０．６５ｄｌ／ｇであるポ
リアミック酸〔これを「ポリアミック酸（ａ１０）」と
する。〕１８．１９ｇを得た。

【００７３】〔比較ポリマー合成例４〕１，３−ジメチ
ル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二
無水物１３．０１ｇ（５８．０１ｍｍｏｌ）と４，４’
−ジアミノジフェニルメタン５．７５ｇ（２９．０２ｍ
ｍｏｌ）と上記化学式（２）のＢ０１で表されるジアミ
ン化合物３．７３ｇ（５．８０ｍｍｏｌ）とｐ−フェニ
レンジアミン２．５１ｇ（２３．２１ｍｍｏｌ）とをＮ
−メチル−２−ピロリドン１００ｇに溶解させ、この溶
液を２５℃で２４時間反応させた。次いで、ポリマー合
成例１と同様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・
乾燥を行うことにより、対数粘度（ηｌｎ）が０．８４
ｄｌ／ｇであるポリアミック酸〔これを「ポリアミック
酸（ａ１１）」とする。〕１８．９９ｇを得た。続い
て、このポリアミック酸（ａ１１）１５．００ｇをＮ−
メチル−２−ピロリドン３００ｇに溶解させ、ピリジン
３．００ｇと無水酢酸３．００ｇとを添加してイミド化
反応を試みたが、反応の途中で重合体が析出して重合体
溶液（ワニス）を得ることができなかった。

【００７４】〔比較ポリマー合成例５〕２，３，５−ト
リカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物１３．０１ｇ
（５８．０２ｍｍｏｌ）と４，４’−ジアミノジフェニ
ルメタン５．７５ｇ（２９．０１ｍｍｏｌ）と上記化学
式（２）のＢ０１で表されるジアミン化合物３．７３ｇ
（５．８０ｍｍｏｌ）とｐ−フェニレンジアミン２．５
１ｇ（２３．２１ｍｍｏｌ）とをＮ−メチル−２−ピロ
リドン１００ｇに溶解させ、この溶液を２５℃で２４時
間反応させた。次いで、ポリマー合成例１と同様にし
て、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことに
より、対数粘度（ηｌｎ）が０．６４ｄｌ／ｇであるポ
リアミック酸〔これを「ポリアミック酸（ａ１２）」と
する。〕１９．９９ｇを得た。続いて、ポリアミック酸
（ａ１２）１５．００ｇをＮ−メチル−２−ピロリドン
３００ｇに溶解させ、ピリジン１２．００ｇと無水酢酸
１０．００ｇとを添加して１１０℃で４時間イミド化反
応させた。次いで、ポリマー合成例１と同様にして、反
応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、
対数粘度（ηｌｎ）が０．６７ｄｌ／ｇであるポリイミ
ド〔これを「可溶性ポリイミド（ｂ１２）」とする。〕
１０．７８ｇを得た。

【００７５】〔比較ポリマー合成例６〕１，３，３ａ，
４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−メチル−５−（テト
ラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト
［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン１５．０８ｇ
（４７．９９ｍｍｏｌ）と４，４’−ジアミノジフェニ
ルメタン４．７６ｇ（２３．９９ｍｍｏｌ）と上記化学
式（２）のＢ０１で表されるジアミン化合物３．０９ｇ
（４．８０ｍｍｏｌ）とｐ−フェニレンジアミン２．０
８ｇ（１９．２０ｍｍｏｌ）とをＮ−メチル−２−ピロ
リドン１００ｇに溶解させ、この溶液を２５℃で２４時
間反応させた。次いで、ポリマー合成例１と同様にし
て、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことに
より、対数粘度（ηｌｎ）が０．５７ｄｌ／ｇであるポ
リアミック酸〔これを「ポリアミック酸（ａ１３）」と
する。〕１６．７０ｇを得た。続いて、ポリアミック酸
（ａ１３）１５．００ｇをＮ−メチル−２−ピロリドン
３００ｇに溶解させ、ピリジン１２．００ｇと無水酢酸
１０．００ｇとを添加して１１０℃で４時間イミド化反
応させた。次いで、ポリマー合成例１と同様にして、反
応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、
対数粘度（ηｌｎ）が０．５３ｄｌ／ｇであるポリイミ
ド〔これを「可溶性ポリイミド（ｂ１３）」とする。〕
９．６５ｇを得た。

【００７６】＜実施例１＞ （１）液晶配向剤の調製：ポリマー合成例１で得られた
ポリアミック酸（Ａ１）６．０ｇをγ−ブチロラクトン
１２０ｇに溶解させて、固形分濃度が５．０重量％の溶
液を得、この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過する
ことにより、本発明の液晶配向剤を調製した。

【００７７】（２）液晶表示素子の作製： 厚さ１ｍｍのガラス基板の一面に設けられたＩＴＯ
膜からなる透明導電膜上に、上記のようにして調製され
た液晶配向剤をスピンナーを用いて塗布（回転数：２０
００ｒｐｍ，塗布時間：１分間）し、１８０℃で１時間
にわたって塗膜を乾燥することにより、乾燥膜厚０．０
８μｍの被覆膜が形成された基板を得た。また、乾燥温
度を２１０℃および２４０℃に変更したこと以外は上記
と同様にして、乾燥膜厚０．０８μｍの被覆膜がそれぞ
れ形成された基板を得た。

【００７８】 上記のようにして得られた３種類の
基板の各々について、形成された被覆膜の表面を、レー
ヨン製の布を巻き付けたロールを備えてなるラビングマ
シーンを用いてラビング処理を施すことにより、当該被
覆膜に配向能を付与して液晶配向膜を形成した。ここ
で、被覆膜表面へのラビング処理は、毛足押し込み長
０．４ｍｍ、ロール回転数４００ｒｐｍ、ラビング回数
２回の条件〔これを「ラビング条件（ｂ）」とする。〕
で行った。さらに、２１０℃で塗膜を乾燥して形成され
た被覆膜については、毛足押し込み長０．２ｍｍ、ロー
ル回転数４００ｒｐｍ、ラビング回数２回の条件〔これ
を「ラビング条件（ａ）」とする。〕、および毛足押し
込み長０．６ｍｍ、ロール回転数４００ｒｐｍ、ラビン
グ回数２回の条件〔これを「ラビング条件（ｃ）」とす
る。〕によってもラビング処理を施した。なお、ラビン
グ処理を施した後、形成された液晶配向膜をイソプロピ
ルアルコールによって洗浄した。次いで、「塗膜の乾燥
条件（温度）」および「被覆膜表面のラビング条件」を
異にして形成された液晶配向膜〔乾燥温度１８０℃−ラ
ビング条件（ｂ），乾燥温度２１０℃−ラビング条件
（ｂ），乾燥温度２４０℃−ラビング条件（ｂ），乾燥
温度２１０℃−ラビング条件（ａ）および乾燥温度２１
０℃−ラビング条件（ｃ）による５種類の液晶配向膜〕
の各々について、表面状態を観察したところ、何れの乾
燥条件および何れのラビング条件で形成された液晶配向
膜においても、基板からの剥離およびラビング傷の発生
は認められず、この実施例により形成された液晶配向膜
は、塗膜の乾燥条件およびラビング条件に関わらず、基
板に対する密着性および強靱性に優れていることが確認
された。

【００７９】 同一の乾燥条件および同一のラビング
条件の下で液晶配向膜を形成して作製された２枚の基板
（液晶表示素子用基板）のそれぞれの外縁部に、直径６
μｍの酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂系接
着剤をスクリーン印刷法により塗布した後、それぞれの
液晶配向膜における配向処理方向、すなわちラビング方
向が逆平行となるように２枚の基板を間隙を介して対向
配置し、外縁部同士を圧着して接着剤を硬化させた。そ
の後、当該２枚の基板の表面および外縁部の接着剤によ
り区画されたセルギャップ内に、ネマティック型液晶
「ＭＬＣ−２００１」（メルク社製）を注入充填し、次
いで、注入孔をエポキシ系接着剤で封止して液晶セルを
構成した。その後、液晶セルの外表面に、偏光方向が当
該基板の一面に形成された液晶配向膜のラビング方向と
一致するように偏光板を貼り合わせることにより、５種
類の液晶表示素子を作製した。これらの液晶表示素子に
ついて、液晶の配向性を評価し、液晶分子のプレチルト
角の測定を行った。結果を下記表１および表２に示す。

【００８０】＜実施例２〜７＞下記表１および表２に示
す処方に従って、ポリマー合成例２〜７で得られた特定
ポリアミック酸（Ａ２）〜（Ａ７）の各々６．０ｇをγ
−ブチロラクトン１２０ｇに溶解させて、固形分濃度が
５．０重量％の溶液を得、この溶液を孔径１μｍのフィ
ルターで濾過することにより、本発明の液晶配向剤を調
製した。このようにして調製された液晶配向剤の各々を
用い、実施例１と同様にして、塗膜の乾燥条件を変えて
乾燥膜厚０．０８μｍの被覆膜を基板の一面に形成し、
形成された被覆膜の各々について、ラビング条件（ｂ）
〔２１０℃の乾燥加熱により形成された被覆膜について
は、さらにラビング条件（ａ）およびラビング条件
（ｃ）〕によりラビング処理を施して液晶配向膜を形成
し、当該液晶配向膜が形成された２枚の基板を用いて液
晶表示素子を作製した。そして、各工程において、液晶
配向膜の密着性および強靱性の評価、液晶の配向性の評
価、液晶分子のプレチルト角の測定を行った。これらの
結果を下記表１および表２に示す。

【００８１】

【表１】

【００８２】

【表２】

【００８３】＜比較例１〜４＞下記表３および表４に示
す処方に従って、比較ポリマー合成例１〜４で得られた
ポリアミック酸（ａ８）〜（ａ１１）の各々６．０ｇを
γ−ブチロラクトン１２０ｇに溶解させて、固形分濃度
が５．０重量％の溶液を得、この溶液を孔径１μｍのフ
ィルターで濾過することにより、比較用の液晶配向剤を
調製した。このようにして調製された液晶配向剤の各々
を用い、実施例１と同様にして、塗膜の乾燥条件を変え
て乾燥膜厚０．０８μｍの被覆膜を基板の一面に形成
し、形成された被覆膜の各々について、ラビング条件
（ｂ）〔２１０℃の乾燥加熱により形成された被覆膜に
ついては、さらにラビング条件（ａ）およびラビング条
件（ｃ）〕によりラビング処理を施して液晶配向膜を形
成し、当該液晶配向膜が形成された２枚の基板を用いて
液晶表示素子を作製した。そして、各工程において、液
晶配向膜の密着性および強靱性の評価、液晶の配向性の
評価、液晶分子のプレチルト角の測定を行った。結果を
下記表３および表４に示す。

【００８４】＜比較例５〜６＞下記表３および表４に示
す処方に従って、比較ポリマー合成例５〜６で得られた
可溶性ポリイミド（ｂ１２）〜（ｂ１３）の各々６．０
ｇをγ−ブチロラクトン１２０ｇに溶解させて、固形分
濃度が５．０重量％の溶液を得、この溶液を孔径１μｍ
のフィルターで濾過することにより、比較用の液晶配向
剤を調製した。このようにして調製された液晶配向剤の
各々を用い、実施例１と同様にして、塗膜の乾燥条件を
変えて乾燥膜厚０．０８μｍの被覆膜を基板の一面に形
成し、形成された被覆膜の各々について、ラビング条件
（ｂ）〔２１０℃の乾燥加熱により形成された被覆膜に
ついては、さらにラビング条件（ａ）およびラビング条
件（ｃ）〕によりラビング処理を施して液晶配向膜を形
成し、当該液晶配向膜が形成された２枚の基板を用いて
液晶表示素子を作製した。そして、各工程において、液
晶配向膜の密着性および強靱性の評価、液晶の配向性の
評価、液晶分子のプレチルト角の測定を行った。結果を
下記表３および表４に示す。

【００８５】

【表３】

【００８６】

【表４】

【００８７】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、通常の手
段では同時に得ることができない所期の複数の特性をバ
ランスよく有し、液晶配向剤の構成成分として特に有用
なイミド基含有ポリアミック酸を提供することができ
る。請求項２記載の発明によれば、このようなイミド基
含有ポリアミック酸を、確実かつ容易に製造することの
できる製造方法を提供することができる。請求項３記載
の発明によれば、ポリアミック酸系配向剤および可溶性
ポリイミド系配向剤がそれぞれ有する利点を兼ね備えた
液晶配向剤を提供することができる。すなわち、請求項
３に係る液晶配向剤によれば、塗膜の乾燥条件およびラ
ビング条件に関わらず、基板に対する密着性に優れた強
靱な被覆膜を形成することができ、当該被覆膜の表面に
ラビング処理を施すことにより、液晶分子の配向性に優
れ、塗膜の乾燥条件およびラビング条件を変化させるこ
とによる液晶分子のプレチルト角の変化が小さくて、当
該液晶分子に所期の大きさのプレチルト角を安定的に発
現させることが可能な液晶配向膜を形成することができ
る。また、請求項３の液晶配向剤により形成された液晶
配向膜に、例えば特開平６−２２２３６６号公報や特開
平６−２８１９３７号公報に示されているような、紫外
線を照射することによってプレチルト角を変化させるよ
うな処理、あるいは特開平５−１０７５４４号公報に示
されているような、ラビング処理を施した液晶配向膜表
面にレジスト膜を部分的に形成して、先のラビング処理
と異なる方向にラビング処理を行った後にレジスト膜を
除去し、液晶配向膜の配向能を変化させるような処理を
行うことによって、液晶表示素子の視界特性を改善する
ことが可能である。請求項３に係る液晶配向剤により形
成される液晶配向膜は、ＴＮ型液晶表示素子およびＳＴ
Ｎ型液晶表示素子のみならずＳＨ（Ｓｕｐｅｒ Ｈｏｍ
ｅｏｔｒｏｐｉｃ）型液晶表示素子や強誘電性液晶表示
素子など種々の液晶表示素子を構成するために好適に使
用することができる。また、当該液晶配向膜を備えた液
晶表示素子は、液晶の配向性および信頼性にも優れ、種
々の装置に有効に使用することができ、例えば卓上計算
機、腕時計、置時計、計数表示板、ワードプロセッサ、
パーソナルコンピュータ、液晶テレビなどの表示装置と
して好適に用いることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松木 安生 東京都中央区築地２丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（１）で表されることを特徴
   とするイミド基含有ポリアミック酸。 【化１】 （式中、Ｒ¹ およびＲ³ はそれぞれ４価の有機基を示
   し、Ｒ² およびＲ⁴ はそれぞれ２価の有機基を示し、ｎ
   は繰り返し単位数を示す。）
2. 【請求項２】 下記一般式（２）で表されるテトラカル
   ボン酸二無水物と、下記一般式（３）で表されるイミド
   基含有ジアミン化合物とを反応させることを特徴とする
   イミド基含有ポリアミック酸の製造方法。 【化２】 （式中、Ｒ¹ およびＲ³ はそれぞれ４価の有機基を示
   し、Ｒ² およびＲ⁴ はそれぞれ２価の有機基を示す。）
3. 【請求項３】 請求項１記載のイミド基含有ポリアミッ
   ク酸およびこのイミド基含有ポリアミック酸のアミック
   酸部位の少なくとも一部を脱水閉環して得られるポリイ
   ミドから選ばれる少なくとも１種の重合体を含有するこ
   とを特徴とする液晶配向剤。