JPH09146100A - 液晶配向剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板に対する密着性に優れ、種々の条件下に
施されるラビング処理によってもラビング傷がつきにく
い強靱な樹脂膜を形成することができ、当該樹脂膜の表
面にラビング処理を施すことにより、液晶分子の配向性
に優れ、当該液晶分子に所期の大きさのプレチルト角を
安定的に発現させることが可能な液晶配向膜を形成する
ことのできる液晶配向剤を提供すること。 【解決手段】 〔ａ〕ポリアミック酸およびポリイミド
から選ばれる少なくとも１種の重合体、および〔ｂ〕下
記式（１）で表される化合物および下記式（２）で表さ
れる化合物から選ばれる少なくとも１種のエポキシ基含
有化合物を含有してなる。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶配向剤に関す
る。さらに詳しくは、基板に対する密着性に優れ、ラビ
ング処理に伴う傷がなく、液晶分子において所期の大き
さのプレチルト角を安定的に発現させる液晶配向膜を形
成することのできる液晶配向剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、液晶表示素子としては、透明導電
膜が設けられている基板の当該表面に液晶配向膜を形成
して液晶表示素子用基板とし、その２枚を対向配置し
て、その間隙内に正の誘電異方性を有するネマチック型
液晶の層を形成してサンドイッチ構造のセルとし、当該
液晶分子の長軸が一方の基板から他方の基板に向かって
連続的に９０度捻れるようにした、いわゆるＴＮ（Ｔｗ
ｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶セルを有するＴＮ
型液晶表示素子が知られている。また、最近において
は、ＴＮ型液晶表示素子に比してコントラストが高く
て、その視角依存性の少ないＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗ
ｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶表示素子が開発さ
れている。このＳＴＮ型液晶表示素子は、ネマチック型
液晶に光学活性物質であるカイラル剤をブレンドしたも
のを液晶として用い、当該液晶分子の長軸が基板間で１
８０度以上にわたって連続的に捻れる状態となることに
より生じる複屈折効果を利用するものである。

【０００３】これらの液晶表示素子における液晶分子の
配向性は、通常、有機高分子よりなる被膜の表面にラビ
ング処理を施すことによって形成される液晶配向膜によ
り発現されるものである。ここに、前記被膜を構成する
有機高分子としては、ポリアミド、ポリアミック酸、ポ
リイミドなどが知られており、これらの有機高分子を溶
媒に溶解してなる液晶配向剤が一般的に使用されてい
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
液晶配向剤により形成される被膜は、 基板に対する
密着性および強靱性を有するものではないために、当該
被膜の表面にラビング処理を施すと、ラビング条件によ
っては、形成される液晶配向膜が基板から剥離したり、
当該液晶配向膜の表面にラビング処理に伴う傷（以下
「ラビング傷」ともいう）が生じたりする。また、
ラビング条件の変化に伴って液晶分子のプレチルト角が
大きく変化するために、液晶分子のプレチルト角を所期
の大きさに制御することがきわめて困難である。そし
て、上記のような液晶配向剤により形成される液晶配向
膜では、良好な配向性を液晶分子に付与することができ
ず、これを搭載してなる液晶表示素子において表示不良
を招くことになる。本発明はこのような問題を解決する
ためになされたものである。

【０００５】本発明の目的は、基板に対する密着性に優
れ、種々の条件下に施されるラビング処理によってもラ
ビング傷がつきにくい強靱な被膜を形成することがで
き、当該被膜の表面にラビング処理を施すことにより、
液晶分子の配向性に優れ、ラビング条件を変化させるこ
とによる液晶分子のプレチルト角の変化が小さくて、当
該液晶分子に所期の大きさのプレチルト角を安定的に発
現させることが可能な液晶配向膜を形成することのでき
る液晶配向剤を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶配向剤は、
〔ａ〕ポリアミック酸およびポリイミドから選ばれる少
なくとも１種の重合体、および〔ｂ〕下記式（１）で表
される化合物（以下「エポキシ化合物（ｉ）ともいう）
および下記式（２）で表される化合物（以下「エポキシ
化合物（ii）ともいう）から選ばれる少なくとも１種の
エポキシ基含有化合物を含有してなることを特徴とす
る。

【０００７】

【化２】

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の液晶配向剤は、〔ａ〕ポリアミック酸お
よびポリイミドから選ばれる少なくとも１種の重合体
と、〔ｂ〕エポキシ化合物（ｉ）および／またはエポキ
シ化合物（ii）とを必須の構成成分として含有してなる
ものである。

【０００９】＜（ａ）ポリアミック酸＞本発明の液晶配
向剤を構成するポリアミック酸は、テトラカルボン酸二
無水物とジアミン化合物とを反応させることにより調製
することができる。

【００１０】かかるポリアミック酸の合成反応に用いら
れるテトラカルボン酸二無水物としては、例えばブタン
テトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブ
タンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−
１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水
物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸
二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル
酢酸二無水物、３，５，６−トリカルボキシノルボルナ
ン−２−酢酸二無水物、２，３，４，５−テトラヒドロ
フランテトラカルボン酸二無水物、５−（２，５−ジオ
キソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロヘ
キセン−１，２−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ
［２，２，２］−オクト−７−エン−２，３，５，６−
テトラカルボン酸二無水物などの脂肪族または脂環式テ
トラカルボン酸二無水物；ピロメリット酸二無水物、
３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテ
トラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレン
テトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレ
ンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビ
フェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，
３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテトラカル
ボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェニル
シランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−フ
ランテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ビス（３，
４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二
無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノ
キシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４’−ビス
（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプロパ
ン二無水物、３，３’，４，４’−パーフルオロイソプ
ロピリデンジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル
酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、ｐ−フェ
ニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ｍ−
フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、
ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニル
エーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−
４，４’−ジフェニルメタン二無水物などの芳香族テト
ラカルボン酸二無水物；３，４−ジカルボキシ−１，
２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレンコハク酸無
水物、３，４−ジカルボキシ−１，２，３，４−テトラ
ヒドロ−６−メチル−１−ナフタレンコハク酸無水物、
下記式（３）で表される化合物、下記式（４）で表され
る化合物などの芳香環を有する脂肪族テトラカルボン酸
二無水物などを挙げることができる。これらのテトラカ
ルボン酸二無水物は、単独でまたは２種以上組み合わせ
て用いることができる。

【化３】

【００１１】（式中、Ｒ³ は芳香環を有する２価の有機
基を示し、Ｒ⁴ は水素原子またはアルキル基を示す。）

【００１２】

【化４】

【００１３】（式中、Ｒ⁵ は芳香環を有する２価の有機
基を示し、Ｒ⁶ は水素原子またはアルキル基を示す。）

【００１４】これらのうち、１，２，３，４−シクロブ
タンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−
１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水
物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸
二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル
酢酸二無水物、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフ
ラル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジ
カルボン酸二無水物、ビシクロ［２，２，２］−オクト
−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水
物、３，４−ジカルボキシ−１，２，３，４−テトラヒ
ドロ−１−ナフタレンコハク酸無水物、３，４−ジカル
ボキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−６−メチル−
１−ナフタレンコハク酸無水物、上記式（３）で表され
る化合物のうち下記式（５）のＡ０１〜Ａ０３で表され
る化合物および上記式（４）で表される化合物のうち下
記式（５）のＡ０４で表される化合物が好ましく、特に
好ましくは、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シク
ロブタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリ
カルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、３，４−ジカ
ルボキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−６−メチル
−１−ナフタレンコハク酸無水物および下記式（５）の
Ａ０１で表される化合物が挙げられる。

【００１５】

【化５】

【００１６】ポリアミック酸の合成に用いられるジアミ
ン化合物としては、例えばｐ−フェニレンジアミン、ｍ
−フェニレンジアミン、４’，４ージアミノジフェニル
メタン、３，５−ジアミノ安息香酸、４，４’−ジアミ
ノジフェニルエタン、４，４’−ジアミノジフェニルス
ルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，
４’−ジアミノジフェニルスルフィド、１，５−ジアミ
ノナフタレン、３，３−ジメチル−４，４’−ジアミノ
ビフェニル、５ーアミノー１ー（４’ーアミノフェニ
ル）ー１，３，３ートリメチルインダン、６ーアミノー
１ー（４’ーアミノフェニル）ー１，３，３ートリメチ
ルインダン、４，４’−ジアミノベンズアニリド、３，
４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミ
ノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェノ
ン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、２，７−ジア
ミノフルオレン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）
ヘキサフルオロプロパン、４，４’−メチレン−ビス
（２−クロロアニリン）、２，２’，５，５’−テトラ
クロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジ
クロロ−４，４’−ジアミノ−５，５’−ジメトキシビ
フェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノ
ビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（ト
リフルオロメチル）ビフェニル、２，２−ビス［４−
（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２
−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキ
サフルオロプロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノ
フェノキシ）フェニル］スルホン、１，４−ビス（４−
アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−ア
ミノフェノキシ）−ビフェニル、１，３−ビス（４−ア
ミノフェノキシ）ベンゼン、９，９−ビス（４−アミノ
フェニル）フルオレン、４．４’−（ｐ−フェニレンイ
ソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェ
ニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、２，２’−ビ
ス［４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノ
キシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、４，４’−
ビス［（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）フェノ
キシ］−オクタフルオロビフェニルなどの芳香族ジアミ
ン；ジアミノテトラフェニルチオフェンなどの芳香環に
結合された２個のアミノ基と当該アミノ基の窒素原子以
外のヘテロ原子を有する芳香族ジアミン；１，１−メタ
キシリレンジアミン、１，３−プロパンジアミン、テト
ラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサ
メチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメ
チレンジアミン、ノナメチレンジアミン、４，４−ジア
ミノヘプタメチレンジアミン、１，４−ジアミノシクロ
ヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロ
ペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−４，７−メ
タノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ
［６，２，１，０^2.7 ］−ウンデシレンジメチルジアミ
ン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）
などの脂肪族および脂環式ジアミン；下記式（６）で表
されるモノ置換フェニレンジアミン類；下記式（７）で
表されるジアミノオルガノシロキサン；下記式（８）の
Ｂ０１〜Ｂ０３で表される化合物などを挙げることがで
きる。これらのジアミン化合物は、単独でまたは２種以
上組み合わせて用いることができる。

【００１７】

【化６】

【００１８】（式中、Ｒ⁷ は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−
ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−および−ＣＯ−
から選ばれる２価の有機基を示し、Ｒ⁸ はステロイド骨
格またはトリフルオロメチル基を有する１価の有機基を
示す。）

【００１９】

【化７】

【００２０】（式中、Ｒ⁹ は炭素数１〜１２の炭化水素
基を示し、ｐは１〜３の整数であり、ｑは１〜２０の整
数である。）

【００２１】

【化８】

【００２２】これらのうち、ｐ−フェニレンジアミン、
４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジア
ミノジフェニルスルフィド、１，５−ジアミノナフタレ
ン、２，７−ジアミノフルオレン、４，４’−ジアミノ
ジフェニルエーテル、４．４’−（ｐ−フェニレンイソ
プロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニ
レンイソプロピリデン）ビスアニリン、２，２−ビス
［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、
１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，
４’−ビス（４−アミノフェノキシ）−ビフェニル、上
記式（８）のＢ０１〜Ｂ０２で表される化合物および上
記式（６）で表される化合物のうち下記式（９）で表さ
れる化合物が好ましい。

【００２３】

【化９】

【００２４】ポリアミック酸の合成反応に供されるテト
ラカルボン酸二無水物とジアミン化合物の使用割合は、
ジアミン化合物に含まれるアミノ基１当量に対して、テ
トラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０．２〜２当量
となる割合が好ましく、さらに好ましくは０．３〜１．
２当量となる割合である。

【００２５】ポリアミック酸の合成反応は、有機溶媒中
において、通常０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃
の温度条件下で行われる。この合成反応に用いられる有
機溶媒としては、反応生成物であるポリアミック酸を溶
解し得るものであれば特に制限はなく、例えばＮ−メチ
ル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメ
チルホスホルトリアミドなどの非プロトン系極性溶媒；
ｍ−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン
化フェノールなどのフェノール系溶媒を挙げることがで
きる。また、有機溶媒の使用量は、通常、テトラカルボ
ン酸二無水物およびジアミン化合物の総量が、反応溶液
の全量に対して０．１〜３０重量％になるような量であ
ることが好ましい。

【００２６】なお、この有機溶媒には、ポリアミック酸
の貧溶媒であるアルコール類、ケトン類、エステル類、
エーテル類、ハロゲン化炭化水素類または炭化水素類
を、生成するポリアミック酸が析出しない程度の割合で
併用することができる。かかる貧溶媒としては、例えば
メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルア
ルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、
プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、トリ
エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチ
ル、ジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエー
テル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレング
リコール−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコール
−ｉ−プロピルエーテル、エチレングリコール−ｎ−ブ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、
テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、１，２−ジクロ
ロエタン、１，４−ジクロロブタン、トリクロロエタ
ン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどを挙げることができる。

【００２７】＜（ａ）ポリイミド＞本発明の液晶配向剤
を構成するポリイミドは、下記方法（１）〜（３）によ
り調製することができる。

【００２８】方法（１）：上記のポリアミック酸を加熱
する方法。この方法における加熱温度は、通常６０〜２
５０℃とされ、好ましくは１００〜１７０℃とされる。
加熱温度が６０℃未満ではイミド化反応が十分に進行せ
ず、加熱温度が２５０℃を超えると得られるポリイミド
の分子量が低下することがある。

【００２９】方法（２）：上記のポリアミック酸を有機
溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤およびイミド化触媒
を添加し必要に応じて加熱することにより、脱水閉環
（イミド化反応）させる方法。この方法において、脱水
剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水
トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができ
る。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸の繰り返し単位
１モルに対して１．６〜２０モルとするのが好ましい。
また、イミド化触媒としては、例えばピリジン、コリジ
ン、ルチジン、トリエチルアミンなどの第３級アミンを
用いることができるが、これらに限定されるものではな
い。イミド化触媒の使用量は、使用する脱水剤１モルに
対して０．５〜１０モルとするのが好ましい。なお、脱
水閉環に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸
の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げ
ることができる。脱水閉環の反応温度は、通常０〜１８
０℃、好ましくは６０〜１５０℃とされる。上記脱水閉
環の反応条件をコントロールすることによって、イミド
化率を任意に調整することができる。

【００３０】方法（３）：テトラカルボン酸二無水物と
ジイソシアネート化合物とを混合し、必要に応じて加熱
することによって縮合させる方法。この方法に使用され
るジイソシアネート化合物の具体例としては、ヘキサメ
チレンジイソシアネートなどの脂肪族ジイソシアネート
化合物；シクロヘキサンジイソシアネートなどの環状脂
肪族ジイソシアネート化合物；ジフェニルメタン−４，
４' −ジイソシアネート、ジフェニルエーテル−４，
４' −ジイソシアネート、ジフェニルスルホン−４，
４' −ジイソシアネート、ジフェニルスルフィド−４，
４' −ジイソシアネート、１，２−ジフェニルエタン−
ｐ，ｐ' −ジイソシアネート、２，２−ジフェニルプロ
パン−ｐ，ｐ' −ジイソシアネート、２，２−ジフェニ
ル−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン
−ｐ，ｐ' −ジイソシアネート、２，２−ジフェニルブ
タン−ｐ，ｐ' −ジイソシアネート、ジフェニルジクロ
ロメタン−４，４'−ジイソシアネート、ジフェニルフ
ルオロメタン−４，４' −ジイソシアネート、ベンゾフ
ェノン−４，４' ジイソシアネート、Ｎ−フェニル安息
香酸アミド−４，４' −ジイソシアネートなどの芳香族
ジイソシアネート化合物を挙げることができ、これら
は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いることがで
きる。なお、この方法には特に触媒は必要とされず、反
応温度は、通常５０〜２００℃、好ましくは１００〜１
６０℃である。

【００３１】本発明の液晶配向剤を構成するポリアミッ
ク酸およびポリイミドは、末端修飾型のものであっても
よい。この末端修飾型のポリアミック酸およびポリイミ
ドは、その分子量が好適な範囲に調節され、液晶配向剤
に含有させることにより、本発明の効果が損われること
なく液晶配向剤の塗布特性などを改善することができ
る。このような末端修飾型のものは、ポリアミック酸ま
たはポリイミドを合成する際に、酸一無水物、モノアミ
ン化合物などを反応系に添加することにより合成するこ
とができる。ここで、酸一無水物としては、例えば無水
マレイン酸、無水フタル酸、コハク酸などを挙げること
ができ、また、モノアミン化合物としては、例えばアニ
リン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−
ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルア
ミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デ
シルアミン、ｎ−ウンデシルアミン、ｎ−ドデシルアミ
ン、ｎ−トリデシルアミン、ｎ−テトラデシルアミン、
ｎ−ペンタデシルアミン、ｎ−ヘキサデシルアミン、ｎ
−ヘプタデシルアミン、ｎ−オクタデシルアミン、ｎ−
エイコシルアミンなどを挙げることができる。

【００３２】本発明の液晶配向剤を構成するポリアミッ
ク酸およびポリイミドは、その対数粘度（ηｌｎ）の値
が通常０．０５〜１０ｄｌ／ｇであることが好ましく、
さらに好ましくは０．０５〜５ｄｌ／ｇとされる。な
お、この明細書における対数粘度（ηｌｎ）の値は、Ｎ
−メチル−２−ピロリドンを溶媒として用い、濃度が
０．５ｇ／１００ミリリットルである溶液について３０
℃で粘度の測定を行い、下記数式によって求められるも
のである。

【００３３】

【数１】

【００３４】＜（ｂ）エポキシ基含有化合物＞本発明の
液晶配向剤は、上記式（１）で表されるエポキシ化合物
（ｉ）および／または上記式（２）で表されるエポキシ
化合物（ii）が含有されている点に特徴を有するもので
ある。

【００３５】エポキシ化合物（ｉ）の具体例としては、
例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレン
グリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリ
コールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコー
ルジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグ
リシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシ
ジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２，
２−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエー
テル、１，３，５，６−テトラグリシジル−２，４−ヘ
キサンジオールなどを挙げることができる。これらの化
合物は、エポライト４０Ｅ、同２００Ｅ、同４００Ｅ、
同７０Ｐ、同２００Ｐ、同２００Ｐ、同４００Ｐ、同１
５００ＮＰ、同１６００、同８０ＭＦ、同ＦＲ−１５０
０〔以上、共栄社化学（株）製〕、デナコールＥＸ−６
１２、同８４１、同８６１〔以上、ナガセ化成工業
（株）製〕などとして市販されている。

【００３６】また、エポキシ化合物（ii）の具体例とし
ては、例えばＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−
ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリ
シジルアミノメチル）シクロヘキサンなどを挙げること
ができる。これらの化合物は、ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ、ＴＥ
ＴＲＡＤ−Ｘ〔以上、三菱瓦斯化学（株）製〕などとし
て市販されている。

【００３７】＜液晶配向剤＞本発明の液晶配向剤は、ポ
リアミック酸およびポリイミドから選ばれる少なくとも
１種の重合体からなる（ａ）成分と、エポキシ化合物
（ｉ）およびエポキシ化合物（ii）から選ばれる少なく
とも１種のエポキシ基含有化合物からなる（ｂ）成分と
が有機溶媒中に溶解含有されて構成される。

【００３８】ここで、（ａ）成分および（ｂ）成分の含
有割合としては、（ａ）成分１００重量部に対する
（ｂ）成分の割合が、通常、０．０１〜４０重量部とさ
れ、好ましくは０．１〜３０重量部、更に好ましくは１
〜２０重量部とされる。（ｂ）成分の割合が０．０１重
量部未満であると、基板に対する密着性および強靱性に
優れた液晶配向膜を形成することができない場合があ
り、また当該液晶配向膜では、所期の大きさのプレチル
ト角を安定的に発現させることができない場合がある。
一方、（ｂ）成分の割合が４０重量部を超えると、得ら
れる液晶配向剤は保存安定性に劣るものとなる場合があ
り、また、当該液晶配向剤により形成される液晶配向膜
では、良好な液晶配向性を液晶分子に付与することがで
きない場合がある。

【００３９】なお、（ａ）成分および（ｂ）成分を溶解
させる有機溶媒としては、これらを溶解できるものであ
れば特に制限されるものではなく、例えば、ポリアミッ
ク酸の合成や脱水閉環に用いられるものとして例示した
溶媒を挙げることができる。

【００４０】本発明の液晶配向剤には、エポキシ基含有
化合物の活性を高めて（ｂ）成分が含有されていること
による効果を顕著に発現させるために、助触媒が添加さ
れていてもよい。かかる助触媒としては、例えばピロー
ル、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、
ピリミジン、インドール、インダゾール、ベンズイミダ
ゾール、イソシアヌル酸などの塩基性助触媒を挙げるこ
とができ、これらは単独でまたは２種以上組み合わせて
用いることができる。これらのうち、イミダゾール、ベ
ンズイミダゾールなどのイミダゾール誘導体が好まし
い。これらの助触媒の添加量は、エポキシ基含有化合物
１００重量部に対して０．０１〜１０重量部とするのが
好ましい。

【００４１】また、本発明の液晶配向剤には、基板に対
する密着性をさらに向上させることを目的として官能性
シラン含有化合物が含有されていてもよい。かかる官能
性シラン含有化合物としては、例えば３−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキ
シシラン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、２
−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミ
ノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチル
ジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシ
シラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピ
ルトリエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプ
ロピルトリエチレントリアミン、１０−トリメトキシイ
シリル−１，４，７−トリアザデカン、１０−トリエト
キシシリル−１，４，７−トリアザデカン、９−トリメ
トキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、９−
トリエトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテー
ト、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエト
キシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレ
ン）−３−アミノプロピルトリエトキシシランなどを挙
げることができる。

【００４２】本発明の液晶配向剤における固形分濃度
〔（ａ）成分、（ｂ）成分および添加剤の合計濃度〕
は、粘性、揮発性などを考慮して選択されるが、好まし
くは０．１〜２０重量％の範囲とされる。固形分濃度が
０．１重量％未満である場合には、塗膜（被膜）の膜厚
が過小となって良好な液晶配向膜を得ることができず、
固形分濃度が２０重量％を超える場合には、塗膜の膜厚
が過大となって良好な液晶配向膜を得難く、また、液晶
配向剤の粘性が増大して塗布特性が劣るものとなる場合
がある。

【００４３】＜液晶表示素子＞本発明の液晶配向剤を用
いて得られる液晶表示素子は、例えば次の方法によって
製造することができる。

【００４４】（１）パターニングされた透明導電膜が設
けられている基板の一面に、本発明の液晶配向剤を例え
ばロールコーター法、スピンナー法、印刷法などの方法
によって塗布し、次いで、塗布面を加熱することにより
被膜を形成する。ここに、基板としては、例えばフロー
トガラス、ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエー
テルスルホン、ポリカーボネートなどのプラスチックか
らなる透明基板を用いることができる。また、基板の一
面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ
₂ ）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸
化インジウム−酸化スズ（Ｉｎ₂ Ｏ₃ −ＳｎＯ₂ ）から
なるＩＴＯ膜などを用いることができ、これらの透明導
電膜のパターニングには、フォト・エッチング法や予め
マスクを用いる方法が用いられる。液晶配向剤の塗布に
際しては、基板表面および透明導電膜と液晶配向剤の被
膜との接着性をさらに良好にするために、基板の該表面
に、官能性シラン含有化合物、官能性チタン含有化合物
などを予め塗布することもできる。また加熱温度は８０
〜２５０℃とされ、好ましくは１２０〜２００℃とされ
る。形成される被膜の膜厚は、通常０．００１〜１μｍ
であり、好ましくは０．００５〜０．５μｍである。な
お、ポリアミック酸を含有する本発明の液晶配向剤は、
塗布後に有機溶媒を除去することによって液晶配向膜と
なる被膜を形成するが、さらに加熱することによって脱
水閉環を進行させ、イミド化された被膜とすることもで
きる。

【００４５】（２）液晶配向剤によって形成された被膜
面を、例えばナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維
からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦るラビン
グ処理を行う。これにより、液晶分子の配向能が被膜に
付与されて液晶配向膜となる。なお、ラビング処理時に
発生する微粉体（異物）を除去して表面を清浄な状態と
するために、形成された液晶配向膜をイソプロピルアル
コールなどによって洗浄することが好ましい。

【００４６】（３）上記のようにして液晶配向膜が形成
された基板を２枚作製し、それぞれの液晶配向膜におけ
るラビング方向が直交または逆平行となるように、２枚
の基板を、間隙（セルギャップ）を介して対向配置し、
２枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基
板表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内
に液晶を注入充填し、注入孔を封止して液晶セルを構成
する。そして、液晶セルの外表面、すなわち、液晶セル
を構成するそれぞれの基板の他面側に、偏光板を、その
偏光方向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜のラ
ビング方向と一致または直交するように貼り合わせるこ
とにより、液晶表示素子が得られる。

【００４７】ここに、シール剤としては、例えば硬化剤
およびスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有す
るエポキシ樹脂などを用いることができる。液晶として
は、ネマティック型液晶およびスメクティック型液晶を
挙げることができ、その中でもネマティック型液晶が好
ましく、例えばシッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、
ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エ
ステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロ
ヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液
晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶などを用
いることができる。また、これらの液晶に、例えばコレ
スチルクロライド、コレステリルノナエート、コレステ
リルカーボネートなどのコレステリック型液晶や商品名
「Ｃ−１５」「ＣＢ−１５」（メルク社製）として販売
されているようなカイラル剤などを添加して使用するこ
ともできる。さらに、ｐ−デシロキシベンジリデン−ｐ
−アミノ−２−メチルブチルシンナメートなどの強誘電
性液晶も使用することができる。

【００４８】また、液晶セルの外表面に貼り合わされる
偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させ
ながら、ヨウ素を吸収させたＨ膜と称される偏光膜を酢
酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板またはＨ膜そのもの
からなる偏光板を挙げることができる。

【００４９】

【実施例】以下、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるも
のではない。なお、以下の実施例および比較例において
調製された液晶配向剤の評価項目および評価方法を下記
に示す。

【００５０】〔被膜の鉛筆硬度〕ガラス基板上に設けら
れたＩＴＯ膜上に液晶配向剤をスピンナーを用いて塗布
し、２００℃で１時間乾燥することにより乾燥膜厚０．
０８μｍの被膜を形成した。この被膜について、ＪＩＳ
Ｋ５４００の評価法に準拠して鉛筆硬度を測定した。

【００５１】〔液晶配向膜の密着性および強靱性〕前記
被膜にラビング処理を施すことにより形成された液晶配
向膜の表面状態を観察して、密着性（液晶配向膜の剥離
の有無）および強靱性（ラビング傷の有無）を評価し
た。

【００５２】〔液晶の配向性〕液晶表示素子に電圧を印
加し解除したときの液晶セル中における配向不良（異常
ドメイン）の有無を偏光顕微鏡で観察し、異常ドメイン
のない場合を「良好」と判定した。

【００５３】〔液晶分子のプレチルト角〕「Ｔ．Ｊ．Ｓ
ｃｈｆｆｅｒ，ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙ
ｓ．，ｖｏｌ．１９，２０１３（１９８０）」に記載の
方法に準拠し、Ｈｅ−Ｎｅレーザー光を用いる結晶回転
法により行った。

【００５４】〔合成例１〕２，３，５−トリカルボキシ
シクロペンチル酢酸二無水物２９．８０ｇ（０．１３２
９ｍｏｌ）とｐ−フェニレンジアミン１４．１６ｇ
（０．１３０９ｍｏｌ）と上記式（９）で表される化合
物１．０４ｇ（０．００２０ｍｏｌ）とをＮ−メチル−
２−ピロリドン４０５ｇに溶解させ、この溶液を６０℃
で６時間反応させた。次いで、得られた反応溶液を大過
剰のメチルアルコールに注いで、反応生成物を沈澱させ
た。その後、固形物を分離してメチルアルコールで洗浄
し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させることにより、対
数粘度（ηｌｎ）が０．８７ｄｌ／ｇであるポリアミッ
ク酸〔これを「ポリアミック酸（Ｉａ）」とする。〕４
０．２５ｇを得た。

【００５５】〔合成例２〕合成例１で得られたポリアミ
ック酸（Ｉａ）４０．００ｇをＮ−メチル−２−ピロリ
ドン８００ｇのに溶解させ、ピリジン５２．５８ｇと無
水酢酸４０．７２ｇとを添加して１１０℃で４時間脱水
閉環させた。次いで、合成例１と同様にして、反応生成
物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、対数粘
度（ηｌｎ）が０．８４ｄｌ／ｇ、イミド化率が９０モ
ル％であるポリイミド〔これを「ポリイミド（IIａ）」
とする。〕３５．７０ｇを得た。

【００５６】〔合成例３〕２，３，５−トリカルボキシ
シクロペンチル酢酸二無水物２８．５８ｇ（０．１２７
５ｍｏｌ）とｐ−フェニレンジアミン１３．１０ｇ
（０．１２１１ｍｏｌ）と上記式（９）で表される化合
物３．３２ｇ（０．０６４ｍｏｌ）とをＮ−メチル−２
−ピロリドン４０５ｇに溶解させ、この溶液を６０℃で
６時間反応させた。次いで、合成例１と同様にして、反
応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、
対数粘度（ηｌｎ）が０．８２ｄｌ／ｇであるポリアミ
ック酸〔これを「ポリアミック酸（Ｉｂ）」とする。〕
４０．７０ｇを得た。

【００５７】その後、ポリアミック酸（Ｉａ）に代えて
ポリアミック酸（Ｉｂ）４０．００ｇを用いたこと以外
は合成例２と同様にして、対数粘度（ηｌｎ）が０．９
１ｄｌ／ｇ、イミド化率が８０モル％であるポリイミド
〔これを「ポリイミド（IIｂ）」とする。〕３３．５５
ｇを得た。

【００５８】〔合成例４〕２，３，５−トリカルボキシ
シクロペンチル酢酸二無水物２４．４７ｇ（０．１０９
２ｍｏｌ）とｐ−フェニレンジアミン２．６０ｇ（０．
２４０ｍｏｌ）と上記式（９）で表される化合物１．７
１ｇ（０．０３３ｍｏｌ）と４，４’−ジアミノジフェ
ニルメタン１６．２３ｇ（０．０８１９ｍｏｌ）とをＮ
−メチル−２−ピロリドン４０５ｇに溶解させ、この溶
液を６０℃で６時間反応させた。次いで、合成例１と同
様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行う
ことにより、対数粘度（ηｌｎ）が０．７５ｄｌ／ｇで
あるポリアミック酸〔これを「ポリアミック酸（Ｉ
ｃ）」とする。〕４２．１１ｇを得た。

【００５９】その後、ポリアミック酸（Ｉａ）に代えて
ポリアミック酸（Ｉｃ）４０．００ｇを用いたこと以外
は合成例２と同様にして、対数粘度（ηｌｎ）が０．７
５ｄｌ／ｇ、イミド化率が８５モル％であるポリイミド
〔これを「ポリイミド（IIｃ）」とする。〕３５．７０
ｇを得た。

【００６０】〔合成例５〕３，４−ジカルボキシ−１，
２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレンコハク酸無
水物２７．５０ｇ（０．０９１６ｍｏｌ）とｐ−フェニ
レンジアミン２．４７ｇ（０．０２２８ｍｏｌ）と上記
式（９）で表される化合物２．３８ｇ（０．００４６ｍ
ｏｌ）と４，４’−ジアミノジフェニルメタン１２．６
６ｇ（０．０６３９ｍｏｌ）とをＮ−メチル−２−ピロ
リドン４０５ｇに溶解させ、この溶液を６０℃で６時間
反応させた。次いで、合成例１と同様にして、反応生成
物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、対数粘
度（ηｌｎ）が０．７０ｄｌ／ｇであるポリアミック酸
〔これを「ポリアミック酸（Ｉｄ）」とする。〕４１．
０６ｇを得た。

【００６１】その後、ポリアミック酸（Ｉａ）に代えて
ポリアミック酸（Ｉｄ）４０．００ｇを用いたこと以外
は合成例２と同様にして、対数粘度（ηｌｎ）が０．６
３ｄｌ／ｇ、イミド化率が１００モル％であるポリイミ
ド〔これを「ポリイミド（IIｄ）」とする。〕３８．７
０ｇを得た。

【００６２】＜実施例１＞ （１）液晶配向剤の調製：合成例１で得られたポリアミ
ック酸（Ｉａ）６．０ｇとポリエチレングリコールジグ
リシジルエーテル（分子量 約４００）０．３ｇとをγ
−ブチロラクトン１２０ｇに溶解させて固形分濃度が
５．０重量％の溶液を得、この溶液を孔径１μｍのフィ
ルターで濾過することにより、本発明の液晶配向剤を調
製した。

【００６３】（２）液晶表示素子の作製： 厚さ１ｍｍのガラス基板の一面に設けられたＩＴＯ
膜からなる透明導電膜上に、上記のようにして調製され
た液晶配向剤をスピンナーを用いて塗布（回転数：２０
００ｒｐｍ，塗布時間：１分間）し、２００℃で１時間
乾燥することにより乾燥膜厚０．０８μｍの被膜を形成
した。この被膜の鉛筆硬度は２Ｈと高い値を示した。

【００６４】 形成された被膜の表面を、レーヨン製
の布を巻き付けたロールを備えたラビングマシーンを用
いてラビング処理を施すことにより液晶配向膜を形成し
た。ここに、ラビング処理は、下記表１に示す３通りの
条件〔条件（Ａ）〜（Ｃ）〕でそれぞれ行い、ラビング
処理を施した後、形成された液晶配向膜をイソプロピル
アルコールによって洗浄した。

【００６５】

【表１】

【００６６】次いで、異なるラビング条件の下で形成さ
れた液晶配向膜の各々について、表面状態を観察したと
ころ、何れのラビング条件下で形成された液晶配向膜に
おいても、基板からの剥離およびラビング傷の発生は認
められず、本実施例により形成された液晶配向膜は、基
板に対する密着性および強靱性に優れていることが確認
された。

【００６７】 ラビング条件（Ａ）により形成された
液晶配向膜を有する基板を２枚作製し、それぞれの基板
の外縁部に、直径６μｍの酸化アルミニウム球を含有す
るエポキシ樹脂系接着剤をスクリーン印刷法により塗布
した後、それぞれの液晶配向膜におけるラビング方向が
逆平行となるように２枚の基板を間隙を介して対向配置
し、外縁部同士を圧着して接着剤を硬化させた。その
後、当該２枚の基板の表面および外縁部の接着剤により
区画されたセルギャップ内に、ネマティック型液晶「Ｍ
ＬＣ−２００１」（メルク社製）を注入充填し、次い
で、注入孔をエポキシ系接着剤で封止して液晶セルを構
成した。その後、液晶セルの外表面に、偏光方向が当該
基板の一面に形成された液晶配向膜のラビング方向と一
致するように偏光板を貼り合わせることにより液晶表示
素子を作製した。さらに、ラビング条件（Ｂ）により形
成された液晶配向膜を有する一対の基板、ラビング条件
（Ｃ）により形成された液晶配向膜を有する一対の基板
を用いて同様の操作を行うことにより液晶表示素子を作
製した。

【００６８】上記のようにして作製された液晶表示素子
は、何れのラビング条件下で形成された液晶配向膜を有
するものであっても液晶の配向性は良好であった。ま
た、液晶分子のプレチルト角は、ラビング条件（Ａ）に
より形成された液晶配向膜を有する液晶表示素子におい
て６．５゜、ラビング条件（Ｂ）により形成された液晶
配向膜を有する液晶表示素子において６．１゜、ラビン
グ条件（Ｃ）により形成された液晶配向膜を有する液晶
表示素子において５．３゜であり、ラビング条件の変化
に伴うプレチルト角の変化は小さく、従って、本実施例
により作製された液晶表示素子によれば、液晶分子に所
期の大きさのプレチルト角を安定的に発現させることが
できることが確認された。

【００６９】＜実施例２〜８＞下記表２に示す処方に従
って、合成例３〜５で得られたポリイミド（IIｂ）〜
（IIｄ）の各々と、エポキシ基含有化合物とをγ−ブチ
ロラクトンに溶解させて固形分濃度５．０重量％の溶液
を得、この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過するこ
とにより、本発明の液晶配向剤を調製した。

【００７０】このようにして調製された液晶配向剤の各
々を用い、実施例１と同様にして、基板表面上に被膜を
形成し、条件（Ａ）〜（Ｃ）の下でラビング処理を施し
て液晶配向膜を形成し、当該液晶配向膜が形成された基
板を用いて液晶表示素子を作製した。そして、各工程に
おいて、被膜の鉛筆硬度の測定、液晶配向膜の密着性お
よび強靱性の評価、液晶の配向性の評価、液晶分子のプ
レチルト角の測定を行った。結果を下記表３に示す。

【００７１】＜比較例１〜４＞下記表２に示す処方に従
って、合成例２〜５で得られたポリイミド（IIａ）〜
（IIｄ）をγ−ブチロラクトンに溶解させて固形分濃度
５．０重量％の溶液を得、この溶液を孔径１μｍのフィ
ルターで濾過することにより、比較用の液晶配向剤を調
製した。このようにして調製された液晶配向剤の各々を
用い、実施例１と同様にして、基板表面上に被膜を形成
し、条件（Ａ）〜（Ｃ）の下でラビング処理を施して液
晶配向膜を形成し、当該液晶配向膜が形成された基板を
用いて液晶表示素子を作製した。そして、各工程におい
て、被膜の鉛筆硬度の測定、液晶配向膜の密着性および
強靱性の評価、液晶の配向性の評価、液晶分子のプレチ
ルト角の測定を行った。結果を下記表３に示す。

【００７２】＜比較例５＞下記表２に示す処方に従っ
て、合成例３で得られたポリイミド（IIｂ）と、フェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂「エピコート１５２」
〔油化シェルエポキシ（株）製〕とをγ−ブチロラクト
ンに溶解させて固形分濃度５．０重量％の溶液を得、こ
の溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過することによ
り、比較用の液晶配向剤を調製した。このようにして調
製された液晶配向剤を用い、実施例１と同様にして、基
板表面上に被膜を形成し、条件（Ａ）〜（Ｃ）の下でラ
ビング処理を施して液晶配向膜を形成し、当該液晶配向
膜が形成された基板を用いて液晶表示素子を作製した。
そして、各工程において、被膜の鉛筆硬度の測定、液晶
配向膜の密着性および強靱性の評価、液晶の配向性の評
価、液晶分子のプレチルト角の測定を行った。結果を下
記表３に示す。

【００７３】

【表２】

【００７４】

【表３】

【００７５】

【発明の効果】本発明の液晶配向剤によれば、基板に対
する密着性に優れ、種々の条件下に施されるラビング処
理によってもラビング傷が生じない強靱な樹脂膜を形成
することができ、当該樹脂膜の表面にラビング処理を施
すことにより、液晶分子の配向性に優れ、ラビング条件
を変化させることによる液晶分子のプレチルト角の変化
が小さくて、当該液晶分子に所期の大きさのプレチルト
角を安定的に発現させることが可能な液晶配向膜を形成
することができる。

【００７６】本発明の液晶配向剤により形成される液晶
配向膜は、ＴＮ型液晶表示素子およびＳＴＮ型液晶表示
素子のみならずＳＨ（Ｓｕｐｅｒ Ｈｏｍｅｏｔｒｏｐ
ｉｃ）型液晶表示素子や強誘電性液晶表示素子など種々
の液晶表示素子を構成するために好適に使用することが
できる。また、当該液晶配向膜を備えた液晶表示素子
は、液晶の配向性および信頼性にも優れ、種々の装置に
有効に使用することができ、例えば卓上計算機、腕時
計、置時計、計数表示板、ワードプロセッサ、パーソナ
ルコンピュータ、液晶テレビなどの表示装置として好適
に用いることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松木 安生 東京都中央区築地２丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 〔ａ〕ポリアミック酸およびポリイミド
   から選ばれる少なくとも１種の重合体、および〔ｂ〕下
   記式（１）で表される化合物および下記式（２）で表さ
   れる化合物から選ばれる少なくとも１種のエポキシ基含
   有化合物を含有してなることを特徴とする液晶配向剤。 【化１】