JP2002323701A - 垂直配向型液晶配向剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 イオン性不純物を吸着し液晶中の浮遊イオン
を低減する配向膜を提供すること。 【解決手段】 アミック酸構造単位を有する重合体１０
０重量部および該アミック酸構造単位中のカルボン酸基
と反応可能な反応性基を分子内に少なくとも２個有する
架橋剤１〜５０重量部を含む垂直配向型液晶配向剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、垂直配向型液晶配
向剤に関する。さらに詳しくは、カルボン酸基と反応可
能な２価以上の架橋構造を有する架橋剤を特定量含有す
る、不純物イオンの吸着性、電気特性、垂直配向性、膜
強度に優れた垂直配向型液晶配向剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、液晶表示素子としては、透明導電
膜が設けられている基板表面にポリアミック酸、ポリイ
ミドなどからなる液晶配向膜を形成して液晶表示素子用
基板とし、その２枚を対向配置してその間隙内に正の誘
電異方性を有するネマチック型液晶の層を形成してサン
ドイッチ構造のセルとし、液晶分子の長軸が一方の基板
から他方の基板に向かって連続的に９０度捻れるように
した、いわゆるＴＮ型（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉ
ｃ）液晶セルを有するＴＮ型液晶表示素子が知られてい
る。また、ＴＮ型液晶表示素子に比してコントラストが
高くて、その視角依存性の少ないＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ
Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶表示素子や、
垂直配向型液晶表示素子が開発されている。このＳＴＮ
型液晶表示素子は、ネマチック型液晶に光学活性物質で
あるカイラル剤をブレンドしたものを液晶として用い、
液晶分子の長軸が基板間で１８０度以上にわたって連続
的に捻れる状態となることにより生じる複屈折効果を利
用するものである。

【０００３】これらに対し、垂直配向型液晶表示素子は
例えば液晶分子の誘電異方性が負の液晶（ネガ型液晶）
を垂直配向させ、電圧の印加により液晶分子を倒して水
平に動作させるものであり、視野角、コントラストおよ
びラビングレスなどの点で優れており、透明電極上に突
起やスリットなどの配向制御手段を設けるＭＶＡ方式、
ＥＶＡ方式など、近年さかんに研究開発が行われてい
る。しかし、ネガ型液晶は一般にイオン性不純物の溶解
性が高く、これが表示不良を引き起こす原因となってい
た。したがって、イオン性不純物を吸着し液晶中の浮遊
イオンを低減する配向膜の開発が望まれていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、不純
物イオン吸着性、電気特性、垂直配向性および膜強度が
良好な液晶配向剤を提供することにある。本発明のさら
に他の目的および利点は、以下の説明から明らかになろ
う。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的および利点は、アミック酸構造単位を有する
重合体１００重量部および該アミック酸構造単位中のカ
ルボン酸基と反応可能な反応性基を分子内に少なくとも
２個有する架橋剤１〜５０重量部を含むことを特徴とす
る垂直配向型液晶配向剤によって達成される。本発明の
垂直配向型液晶配向剤において、上記架橋剤における反
応性基はエポキシ基であることが好ましい。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。 重合体：本発明で使用される重合体は、アミック酸構造
単位を有する重合体であり、例えば、ポリアミック酸ま
たは当該ポリアミック酸を部分的に脱水閉環して得られ
る部分イミド化重合体である。ポリアミック酸は、テト
ラカルボン酸二無水物とジアミンとを開環重付加させて
得られる。また、部分イミド化重合体は、上記ポリアミ
ック酸を部分的に脱水閉環することにより得られる。

【０００７】＜テトラカルボン酸二無水物＞上記ポリア
ミック酸の合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物
としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸二無水物な
どの脂肪族テトラカルボン酸二無水物；１,２,３,４−
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１,２−ジメ
チル−１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二
無水物、１,３−ジメチル−１,２,３,４−シクロブタン
テトラカルボン酸二無水物、１,３−ジクロロ−１,２,
３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１,
２,３,４−テトラメチル−１,２,３,４−シクロブタン
テトラカルボン酸二無水物、１,２,３,４−シクロペン
タンテトラカルボン酸二無水物、１,２,４,５−シクロ
ヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,４’
−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、シス−
３,７−ジブチルシクロオクタ−１,５−ジエン−１,２,
５,６−テトラカルボン酸二無水物、２,３,５−トリカ
ルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、３,５,６−トリ
カルボニル−２−カルボキシノルボルナン−２：３,
５：６−ジ無水物、２,３,４,５−テトラヒドロフラン
テトラカルボン酸二無水物、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−
ヘキサヒドロ−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−
３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３
−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５
−メチル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−
フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジ
オン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５−エ
チル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラ
ニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオ
ン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−７−メチ
ル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニ
ル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、
１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−７−エチル−
５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）
−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、１,
３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５
（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−
ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、１,３,
３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−８−エチル−５（テ
トラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフ
ト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、１,３,３
ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５,８−ジメチル−５
（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−
ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、５−
（２,５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル
−３−シクロヘキセン−１,２−ジカルボン酸二無水
物、ビシクロ［２.２.２］−オクト−７−エン−２,３,
５,６−テトラカルボン酸二無水物、下記式（Ｉ）およ
び（II）で表される化合物などの脂環族テトラカルボン
酸二無水物；

【０００８】

【化１】

【０００９】（式中、Ｒ¹およびＲ⁴は、芳香環を有する
２価の有機基を示し、Ｒ²およびＲ³は、水素原子または
アルキル基を示し、複数存在するＲ²およびＲ³は、それ
ぞれ同一でも異なっていてもよい。）

【００１０】ピロメリット酸二無水物、３,３’,４,
４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３,
３’,４,４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二
無水物、１,４,５,８−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、２,３,６,７−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、３,３’,４,４’−ビフェニルエーテルテトラ
カルボン酸二無水物、３,３’,４,４’−ジメチルジフ
ェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,
４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水
物、１,２,３,４−フランテトラカルボン酸二無水物、
４,４’−ビス（３,４−ジカルボキシフェノキシ）ジフ
ェニルスルフィド二無水物、４,４’−ビス（３,４−ジ
カルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、
４,４’−ビス（３,４−ジカルボキシフェノキシ）ジフ
ェニルプロパン二無水物、３,３’,４,４’−パーフル
オロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３,３’,
４,４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス
（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、
ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水
物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二
無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４,４’−ジ
フェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル
酸）−４,４’−ジフェニルメタン二無水物、エチレン
グリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、プロ
ピレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテー
ト）、１,４−ブタンジオール−ビス（アンヒドロトリ
メリテート）、１,６−ヘキサンジオール−ビス（アン
ヒドロトリメリテート）、１,８−オクタンジオール−
ビス（アンヒドロトリメリテート）、２,２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン−ビス（アンヒドロト
リメリテート）、下記式（１）〜（４）で表される化合
物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げること
ができる。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わ
せて用いられる。

【００１１】

【化２】

【００１２】これらのうち、５０モル％以上が脂環族テ
トラカルボン酸二無水物であることが電圧保持率の点で
好ましく、好ましい脂環族テトラカルボン酸二無水物と
しては、１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸
二無水物、１,３−ジメチル−１,２,３,４−シクロブタ
ンテトラカルボン酸二無水物、１,２,３,４−シクロペ
ンタンテトラカルボン酸二無水物、２,３,５−トリカル
ボキシシクロペンチル酢酸二無水物、５−（２,５−ジ
オキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロ
ヘキセン−１,２−ジカルボン酸二無水物、シス−３,７
−ジブチルシクロオクタ−１,５−ジエン−１,２,５,６
−テトラカルボン酸二無水物、３,５,６−トリカルボニ
ル−２−カルボキシノルボルナン−２：３,５：６−ジ
無水物、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５−
（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−
ナフト［１,２−ｃ］フラン−１,３−ジオン、１,３,３
ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テ
トラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフ
ト［１,２−ｃ］フラン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,
４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５,８−ジメチル−５−
（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−
ナフト［１,２−ｃ］フラン−１,３−ジオン、ビシクロ
［２.２.２］−オクト−７−エン−２,３,５,６−テト
ラカルボン酸二無水物、上記式（Ｉ）で表される化合物
のうち下記式（５）〜（７）で表される化合物および上
記式（II）で表される化合物のうち下記式（８）で表さ
れる化合物が挙げられる。特に好ましいものとして、
１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水
物、１,３−ジメチル−１,２,３,４−シクロブタンテト
ラカルボン酸二無水物、２,３,５−トリカルボキシシク
ロペンチル酢酸二無水物、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘ
キサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−
３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］フラン−１,３−
ジオン、シス−３,７−ジブチルシクロオクタ−１,５−
ジエン−１,２,５,６−テトラカルボン酸二無水物、３,
５,６−トリカルボニル−２−カルボキシノルボルナン
−２：３,５：６−ジ無水物、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−
ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２,
５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］
フラン−１,３−ジオン、ピロメリット酸二無水物およ
び下記式（５）で表される化合物を挙げることができ
る。

【００１３】

【化３】

【００１４】また、脂環族以外の好ましいテトラカルボ
ン酸二無水物としては、ブタンテトラカルボン酸二無水
物、ピロメリット酸二無水物、３,３’,４,４’−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,
４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、
１,４,５,８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物
が、良好な液晶配向性を発現させることができる観点か
ら好ましい。

【００１５】＜ジアミン＞本発明で用いられるジアミン
としては、炭素数１２以上の炭化水素基を有する有機
基、炭素数６以上のフッ素含有炭化水素基を有する有機
基などのプレチルト角発現成分を有するジアミンを用い
ることが好ましい。炭素数１２以上の炭化水素基を有す
る有機基としては、例えばｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタ
デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−オクタデシル基、
ｎ−エイコシル基などの直鎖状アルキル基；ビシクロヘ
キシル基、シクロドデシル基などの脂環式炭化水素基；
ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基などの芳香族
炭化水素基；コレステリル基、コレスタリル基などのス
テロイド骨格などを有する有機基が挙げられる。

【００１６】また、炭素数６以上のフッ素含有炭化水素
基を有する有機基としては、例えば上記と同じ有機基お
よびｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基な
どの炭素数６〜１１の直鎖状アルキル基；シクロヘキシ
ル基、シクロペンチル基、シクロオクチル基などの炭素
数６〜１１の脂環式炭化水素基；フェニル基などの炭素
数６〜１１の芳香族炭化水素基などの有機基を、フッ素
原子またはフルオロアルキル基で置換した基が挙げられ
る。上記プレチルト角発現成分を有するジアミンのう
ち、特に好ましいものとしては、下記式（III）で表さ
れるジアミンが挙げられる。

【００１７】

【化４】

【００１８】（式中、Ｘは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ
−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−および−
Ｓ−よりなる群から選ばれる２価の基であり、Ｒ⁵は炭
素数１２〜３０の炭化水素基または炭素数６以上のフッ
素含有炭化水素基を有する１価の有機基である。）

【００１９】上記式（III）で表されるジアミンの具体
例としては、例えば、ドデカノキシ−２,４−ジアミノ
ベンゼン、ペンタデカノキシ−２,４−ジアミノベンゼ
ン、ヘキサデカノキシ−２,４−ジアミノベンゼン、オ
クタデカノキシ−２,４−ジアミノベンゼン、下記式
（９）〜（１６）で表される化合物などを挙げることが
できる。これらのジアミン化合物は、単独でまたは２種
以上組み合わせて用いることができる。

【００２０】

【化５】

【００２１】上記式（III）で表されるジアミン以外
の、プレチルト角発現成分を有するジアミンとしては、
例えば、下記式（１７）〜（１９）で表されるジアミン
などを挙げることができる。

【００２２】

【化６】

【００２３】本発明で用いられる重合体には、本発明の
効果を損なわない範囲で、他のジアミンが併用されてい
てもよい。他のジアミンとしては、例えば、ｐ−フェニ
レンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、１,１−メタ
キシリレンジアミン、４,４’−ジアミノジフェニルメ
タン、４,４’−ジアミノジフェニルエタン、４,４’−
ジアミノジフェニルスルフィド、４,４’−ジアミノジ
フェニルスルホン、３,３’−ジメチル−４,４’−ジア
ミノビフェニル、４,４’−ジアミノベンズアニリド、
４,４’−ジアミノジフェニルエーテル、１,５−ジアミ
ノナフタレン、３,３−ジメチル−４,４’−ジアミノビ
フェニル、５−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）
−１,３,３−トリメチルインダン、６−アミノ−１−
（４’−アミノフェニル）−１,３,３−トリメチルイン
ダン、３,４’−ジアミノジフェニルエーテル、３,３’
−ジアミノベンゾフェノン、３,４’−ジアミノベンゾ
フェノン、４,４’−ジアミノベンゾフェノン、２,２−
ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパ
ン、２,２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェ
ニル］ヘキサフルオロプロパン、２,２−ビス（４−ア
ミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２,２−ビス
［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、
１,４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１,３
−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１,３−ビ
ス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、９,９−ビス
（４−アミノフェニル）−１０−ヒドロアントラセン、
２,７−ジアミノフルオレン、９,９−ビス（４−アミノ
フェニル）フルオレン、４,４’−メチレン−ビス（２
−クロロアニリン）、２,２’,５,５’−テトラクロロ
−４,４’−ジアミノビフェニル、２,２’−ジクロロ−
４,４’−ジアミノ−５,５’−ジメトキシビフェニル、
３,３’−ジメトキシ−４,４’−ジアミノビフェニル、
１,４,４’−（ｐ−フェニレンイソプロピリデン）ビス
アニリン、４,４’−（ｍ−フェニレンイソプロピリデ
ン）ビスアニリン、２,２’−ビス［４−（４−アミノ
−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキ
サフルオロプロパン、４,４’−ジアミノ−２,２’−ビ
ス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４,４’−ビス
［（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）フェノキ
シ］−オクタフルオロビフェニルなどの芳香族ジアミ
ン；１,３−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミ
ン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミ
ン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミ
ン、ノナメチレンジアミン、４,４−ジアミノヘプタメ
チレンジアミンなどの脂肪族ジアミン；１,４−ジアミ
ノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロ
ジシクロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−
４,７−メタノインダニレンジメチレンジアミン、トリ
シクロ［６.２.１.０^2,7］−ウンデシレンジメチルジア
ミン、４,４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミ
ン）などの脂環式ジアミン；２,３−ジアミノピリジ
ン、２,６−ジアミノピリジン、３,４−ジアミノピリジ
ン、２,４−ジアミノピリミジン、５,６−ジアミノ−
２,３−ジシアノピラジン、５,６−ジアミノ−２,４−
ジヒドロキシピリミジン、２,４−ジアミノ−６−ジメ
チルアミノ−１,３,５−トリアジン、１,４−ビス（３
−アミノプロピル）ピペラジン、２,４−ジアミノ−６
−イソプロポキシ−１,３,５−トリアジン、２,４−ジ
アミノ−６−メトキシ−１,３,５−トリアジン、２,４
−ジアミノ−６−フェニル−１,３,５−トリアジン、
２,４−ジアミノ−６−メチル−ｓ−トリアジン、２,４
−ジアミノ−１,３,５−トリアジン、４,６−ジアミノ
−２−ビニル−ｓ−トリアジン、２,４−ジアミノ−５
−フェニルチアゾール、２,６−ジアミノプリン、５,６
−ジアミノ−１,３−ジメチルウラシル、３,５−ジアミ
ノ−１,２,４−トリアゾール、６,９−ジアミノ−２−
エトキシアクリジンラクテート、３,８−ジアミノ−６
−フェニルフェナントリジン、１,４−ジアミノピペラ
ジン、３,６−ジアミノアクリジン、ビス（４−アミノ
フェニル）フェニルアミンおよび下記式（IV）および
（Ｖ）で表される化合物などの、分子内に２つの１級ア
ミノ基および該１級アミノ基以外の窒素原子を有するジ
アミン；

【００２４】

【化７】

【００２５】（式中、Ｒ⁶は、ピリジン、ピリミジン、
トリアジン、ピペリジンおよびピペラジンから選ばれる
窒素原子を含む環構造を有する１価の有機基を示し、Ｙ
は２価の有機基を示す。）

【００２６】

【化８】

【００２７】（式中、Ｒ⁷は、ピリジン、ピリミジン、
トリアジン、ピペリジンおよびピペラジンから選ばれる
窒素原子を含む環構造を有する２価の有機基を示し、Ｙ
は２価の有機基を示し、複数存在するＹは、同一でも異
なっていてもよい。） 下記式（ＶＩ）で表されるジアミノオルガノシロキサ
ン；

【００２８】

【化９】

【００２９】（式中、Ｒ⁸は炭素数１〜１２の炭化水素
基を示し、複数存在するＲ⁸は、それぞれ同一でも異な
っていてもよく、ｐは１〜３の整数であり、ｑは１〜２
０の整数である。） 下記式（２０）〜（２１）で表される化合物などを挙げ
ることができる。これらのジアミン化合物は、単独でま
たは２種以上組み合わせて用いることができる。

【００３０】

【化１０】

【００３１】（式中、ｙは２〜１２の整数であり、ｚは
１〜５の整数である。） これらのうち、ｐ−フェニレンジアミン、４,４’−ジ
アミノジフェニルメタン、４,４’−ジアミノジフェニ
ルスルフィド、１,５−ジアミノナフタレン、２,７−ジ
アミノフルオレン、４,４’−ジアミノジフェニルエー
テル、２,２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フ
ェニル］プロパン、９,９−ビス（４−アミノフェニ
ル）フルオレン、２,２−ビス［４−（４−アミノフェ
ノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２,２−
ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、
４,４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビス
アニリン、４,４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリ
デン）ビスアニリン、１,４−シクロヘキサンジアミ
ン、４,４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミ
ン）、１,４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼ
ン、４,４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニ
ル、上記式（１７）〜（２１）で表される化合物、２,
６−ジアミノピリジン、３,４−ジアミノピリジン、２,
４−ジアミノピリミジン、３,６−ジアミノアクリジ
ン、上記式（IV）で表される化合物のうち下記式（２
２）で表される化合物および上記式（Ｖ）で表される化
合物のうち下記式（２３）で表される化合物が好まし
い。

【００３２】

【化１１】

【００３３】プレチルト角発現成分を有するジアミンの
使用量は、全ジアミンのうち２.５〜５０モル％である
ことが好ましい。

【００３４】＜ポリアミック酸の合成＞ポリアミック酸
の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジア
ミンの使用割合は、ジアミンのアミノ基１当量に対し
て、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０.２〜
２当量となる割合が好ましく、さらに好ましくは０.３
〜１.２当量となる割合である。

【００３５】ポリアミック酸の合成反応は、有機溶媒中
において、好ましくは−２０℃〜１５０℃、より好まし
くは０〜１００℃の温度条件下で行われる。ここで、有
機溶媒としては、合成されるポリアミック酸を溶解でき
るものであれば特に制限はなく、例えば１−メチル−２
−ピロリドン、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブ
チロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホ
ルトリアミドなどの非プロトン系極性溶媒；ｍ−クレゾ
ール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノー
ルなどのフェノール系溶媒を例示することができる。ま
た、有機溶媒の使用量（α）は、テトラカルボン酸二無
水物およびジアミン化合物の総量（β）が、反応溶液の
全量（α＋β）に対して０.１〜３０重量％になるよう
な量であることが好ましい。

【００３６】なお、上記有機溶媒には、ポリアミック酸
の貧溶媒であるアルコール類、ケトン類、エステル類、
エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類など
を、生成するポリアミック酸が析出しない範囲で併用す
ることができる。かかる貧溶媒の具体例としては、例え
ばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピル
アルコール、シクロヘキサノール、４−ヒドロキシ−４
−メチル−２−ペンタノン、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、１,４−ブタンジオール、トリエチ
レングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、乳酸エチル、乳酸ブチル、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルメトキシ
プロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、シュ
ウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、ジエチルエーテル、
エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコー
ルエチルエーテル、エチレングリコール−ｎ−プロピル
エーテル、エチレングリコール−ｉ−プロピルエーテ
ル、エチレングリコール−ｎ−ブチルエーテル、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエ
チルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン、
ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタン、１,４−ジク
ロロブタン、トリクロロエタン、クロルベンゼン、ｏ−
ジクロルベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどを挙げることができ
る。

【００３７】以上のようにして、ポリアミック酸を溶解
してなる反応溶液が得られる。そして、この反応溶液を
大量の貧溶媒中に注いで析出物を得、この析出物を減圧
下乾燥することによりポリアミック酸を得ることができ
る。また、このポリアミック酸を再び有機溶媒に溶解さ
せ、次いで貧溶媒で析出させる工程を１回または数回行
うことにより、ポリアミック酸を精製することができ
る。

【００３８】＜部分イミド化重合体の合成＞本発明の液
晶配向剤を構成する部分イミド化重合体は、上記ポリア
ミック酸を部分的に脱水閉環することにより合成するこ
とができる。ポリアミック酸の脱水閉環は、（ｉ）ポリ
アミック酸を加熱する方法によるか、または（ii）ポリ
アミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤お
よび脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法に
より行われる。上記（ｉ）のポリアミック酸を加熱する
方法における反応温度は、好ましくは５０〜２００℃で
あり、より好ましくは６０〜１７０℃である。反応温度
が５０℃未満では脱水閉環反応が十分に進行せず、反応
温度が２００℃を超えると得られるポリイミド（Ｂ）の
分子量が低下することがある。

【００３９】一方、上記（ii）のポリアミック酸の溶液
中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加する方法におい
て、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン
酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いること
ができる。脱水剤の使用量は、所望するイミド化率によ
るが、ポリアミック酸の繰り返し単位１モルに対して
０.０１〜２０モルとするのが好ましい。また、脱水閉
環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジ
ン、トリエチルアミンなどの３級アミンを用いることが
できる。しかし、これらに限定されるものではない。脱
水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤１モルに対して
０.０１〜１０モルとするのが好ましい。イミド化率は
上記の脱水剤、脱水閉環剤が多いほど高くすることがで
きる。イミド化率はイオン吸着性、印刷性の観点から７
０％以下が好ましい。なお、脱水閉環反応に用いられる
有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられる
ものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。そ
して、脱水閉環反応の反応温度は、好ましくは０〜１８
０℃、より好ましくは１０〜１５０℃である。また、こ
のようにして得られる反応溶液に対し、ポリアミック酸
の精製方法と同様の操作を行うことにより、部分イミド
化重合体を精製することができる。なお、本発明で用い
られる部分イミド化重合体のイミド化率（全繰返し単位
におけるイミド環を有する繰り返し単位の含有率）は、
７０％以下であることが好ましい。

【００４０】＜末端修飾型の重合体＞本発明で用いられ
るポリアミック酸および部分イミド化重合体は、分子量
が調節された末端修飾型のものであってもよい。この末
端修飾型の重合体を用いることにより、本発明の効果が
損われることなく液晶配向剤の塗布特性などを改善する
ことができる。このような末端修飾型の重合体は、ポリ
アミック酸を合成する際に、例えば酸一無水物、モノア
ミン化合物、モノイソシアネート化合物などを反応系に
添加することにより合成することができる。ここで、酸
一無水物としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル
酸、無水イタコン酸、ｎ−デシルサクシニック酸無水
物、ｎ−ドデシルサクシニック酸無水物、ｎ−テトラデ
シルサクシニック酸無水物、ｎ−ヘキサデシルサクシニ
ック酸無水物などを挙げることができる。また、モノア
ミン化合物としては、例えばアニリン、シクロヘキシル
アミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−
ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルア
ミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウン
デシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−トリデシルア
ミン、ｎ−テトラデシルアミン、ｎ−ペンタデシルアミ
ン、ｎ−ヘキサデシルアミン、ｎ−ヘプタデシルアミ
ン、ｎ−オクタデシルアミン、ｎ−エイコシルアミンな
どを挙げることができる。また、モノイソシアネート化
合物としては、例えばフェニルイソシアネート、ナフチ
ルイソシアネートなどを挙げることができる。

【００４１】＜重合体の対数粘度＞以上のようにして得
られる重合体は、その対数粘度（η_ln）の値が好ましく
は０.０５〜１０ｄｌ／ｇ、より好ましくは０.０５〜５
ｄｌ／ｇである。本発明における重合体の対数粘度（η
_ln）の値は、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを溶媒として
用い、濃度が０.５ｇ／１００ミリリットルである溶液
について３０℃で粘度の測定を行い、下記式（ｉ）によ
って求められるものである。

【００４２】

【数１】

【００４３】架橋剤：本発明の液晶配向剤は、アミック
酸構造単位を有する重合体の全体量１００重量部に対し
て、アミック酸構造単位中のカルボン酸基と反応可能な
反応性基を分子内に少なくとも２個有する架橋剤を１〜
５０重量部含有する。架橋剤の含有量が１重量部以下で
は、得られる膜の強度が小さすぎ、５０重量部以上では
イオン性不純物の吸着性が低くなり表示不良の原因とな
る。架橋剤としては、分子内に２個以上のエポキシ構造
を有する架橋剤が好ましく、例えば、エチレングリコー
ルジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグ
リシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジル
エーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエー
テル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、
１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリ
セリンジグリシジルエーテル、２,２−ジブロモネオペ
ンチルグリコールジグリシジルエーテル、３−（Ｎ,Ｎ
−ジグリシジル）アミノプロピルトリメトキシシランな
どの分子内に２個のエポキシ構造を有する架橋剤；１,
３,５,６−テトラグリシジル−２,４−ヘキサンジオー
ル、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−テトラグリシジル−ｍ−キシレ
ンジアミン、１,３−ビス（Ｎ,Ｎ−ジグリシジルアミノ
メチル）シクロヘキサン、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−テトラグ
リシジル−４,４’−ジアミノジフェニルメタン、３−
（Ｎ−アリル−Ｎ−グリシジル）アミノプロピルトリメ
トキシシランなどの分子内に４個のエポキシ構造を有す
る架橋剤などを挙げることができる。これらの中でも分
子内に４個のエポキシ構造を有する架橋剤が好ましく、
特に、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−テトラグリシジル−ｍ−キシ
レンジアミン、１,３−ビス（Ｎ,Ｎ−ジグリシジルアミ
ノメチル）シクロヘキサン、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−テトラ
グリシジル−４,４’−ジアミノジフェニルメタンが好
ましい。

【００４４】垂直配向型液晶配向剤：本発明の垂直配向
型液晶配向剤は、上記重合体および架橋剤が、好ましく
は、有機溶媒中に溶解含有されて構成される。本発明の
液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは０℃〜２
００℃であり、より好ましくは２０℃〜６０℃である。

【００４５】本発明の液晶配向剤を構成する有機溶媒と
しては、例えば、１−メチル−２−ピロリドン、γ−ブ
チロラクトン、γ−ブチロラクタム、Ｎ,Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、４−ヒ
ドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、
メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピ
オネ−ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレ
ングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−ｎ
−プロピルエーテル、エチレングリコール−ｉ−プロピ
ルエーテル、エチレングリコール−ｎ−ブチルエーテル
（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルア
セテートなどを挙げることができる。

【００４６】本発明の液晶配向剤における固形分濃度
は、粘性、揮発性などを考慮して選択されるが、好まし
くは１〜１０重量％の範囲にある。すなわち、本発明の
液晶配向剤は、基板表面に塗布され、液晶配向膜となる
塗膜が形成されるが、固形分濃度が１重量％未満である
場合には、この塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配
向膜を得ることができず、固形分濃度が１０重量％を超
える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配
向膜を得ることができず、また、液晶配向剤の粘性が増
大して塗布特性が劣るものとなる。

【００４７】本発明の液晶配向剤には、目的の物性を損
なわない範囲内で、基板表面に対する接着性を向上させ
る観点から、官能性シラン含有化合物が含有されていて
もよい。かかる官能性シラン含有化合物としては、例え
ば３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプ
ロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリ
エトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル
−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエ
トキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−ト
リメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１
０−トリメトキシシリル−１,４,７−トリアザデカン、
１０−トリエトキシシリル−１,４,７−トリアザデカ
ン、９−トリメトキシシリル−３,６−ジアザノニルア
セテート、９−トリエトキシシリル−３,６−ジアザノ
ニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピル
トリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）
−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス
（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリエトキシ
シランなどを挙げることができる。上記官能性シラン化
合物の含有量は、１０重量部以下が好ましい。

【００４８】液晶表示素子：本発明の液晶配向剤を用い
て得られる垂直配向型液晶表示素子は、例えば次の方法
によって製造することができる。 （１）パターニングされた透明導電膜が設けられている
基板の一面に、本発明の液晶配向剤を例えばロールコー
ター法、スピンナー法、印刷法などの方法によって塗布
し、次いで、塗布面を加熱することにより塗膜を形成す
る。ここに、基板としては、例えばフロートガラス、ソ
ーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホ
ン、ポリカーボネートなどのプラスチックからなる透明
基板を用いることができる。基板の一面に設けられる透
明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ₂）からなるＮＥ
ＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化インジウム−酸
化スズ（Ｉｎ₂Ｏ₃−ＳｎＯ₂）からなるＩＴＯ膜などを
用いることができ、これらの透明導電膜のパターニング
には、フォト・エッチング法や予めマスクを用いる方法
が用いられる。液晶配向剤の塗布に際しては、基板表面
および透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にする
ために、基板の該表面に、官能性シラン含有化合物、官
能性チタン含有化合物などを予め塗布することもでき
る。液晶配向剤塗布後の加熱温度は好ましくは８０〜３
００℃であり、より好ましくは１２０〜２５０℃であ
る。なお、アミック酸構造を有する本発明の液晶配向剤
は、塗布後に有機溶媒を除去することによって液晶配向
膜となる塗膜を形成するが、さらに加熱することによっ
て脱水閉環を進行させ、よりイミド化された塗膜とする
こともできる。形成される塗膜の膜厚は、好ましくは
０.００１〜１μｍであり、より好ましくは０.００５〜
０.５μｍである。

【００４９】（２）形成された塗膜面を、例えばナイロ
ン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付
けたロールで一定方向に擦るラビング処理を行う。これ
により、液晶分子の配向能が塗膜に付与されて液晶配向
膜となる。また、本発明の液晶配向剤により形成された
液晶配向膜に、例えば特開平６−２２２３６６号公報や
特開平６−２８１９３７号公報に示されているような、
紫外線を部分的に照射することによってプレチルト角を
変化させるような処理、あるいは“ＩＤＷ’‘９７ Ｐ
１７５”に記載されているように同一面内に電極を形成
させる方法（ＩＰＳ法）、あるいは特開平５−１０７５
４４号公報に示されているような、ラビング処理を施し
た液晶配向膜表面にレジスト膜を部分的に形成し、先の
ラビング処理と異なる方向にラビング処理を行った後に
レジスト膜を除去して、液晶配向膜の液晶配向能を変化
させるような処理を行うことによって、液晶表示素子の
視界特性を改善することが可能である。

【００５０】（３）上記のようにして液晶配向膜が形成
された基板を２枚作製し、それぞれの液晶配向膜におけ
るラビング方向が直交または逆平行となるように、２枚
の基板を、間隙（セルギャップ）を介して対向配置し、
２枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基
板表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内
に液晶を注入充填し、注入孔を封止して液晶セルを構成
する。そして、液晶セルの外表面、すなわち、液晶セル
を構成するそれぞれの基板の他面側に、偏光板を、その
偏光方向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜のラ
ビング方向と一致または直交するように貼り合わせるこ
とにより、液晶表示素子が得られる。ここに、シール剤
としては、例えば硬化剤およびスペーサーとしての酸化
アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂などを用いるこ
とができる。

【００５１】液晶としては、ネマティック型液晶および
スメクティック型液晶を挙げることができ、その中でも
ネマティック型液晶が好ましく、例えばシッフベース系
液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシ
クロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系
液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系
液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キ
ュバン系液晶などを用いることができる。また、これら
の液晶に、例えばコレスチルクロライド、コレステリル
ノナエート、コレステリルカーボネートなどのコレステ
リック型液晶や商品名「Ｃ−１５」「ＣＢ−１５」（メ
ルク社製）として販売されているようなカイラル剤など
を添加して使用することもできる。さらに、ｐ−デシロ
キシベンジリデン−ｐ−アミノ−２−メチルブチルシン
ナメートなどの強誘電性液晶も使用することができる。

【００５２】また、液晶セルの外表面に貼り合わされる
偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させ
ながら、ヨウ素を吸収させたＨ膜と称される偏光膜を酢
酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板またはＨ膜そのもの
からなる偏光板を挙げることができる。

【００５３】

【実施例】以下、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるも
のではない。

【００５４】液晶表示素子の作製：厚さ１ｍｍのガラス
基板の一面に設けられたＩＴＯ膜からなる透明導電膜上
に、液晶配向剤をスピンナーを用いて塗布し、８０℃で
１分間、その後１８０℃で１時間乾燥することにより乾
燥膜厚６００オングストロームの塗膜を形成した。次
に、レーヨン製の布を巻き付けたロールを有するラビン
グマシーンを用いてラビング処理を行うことにより、液
晶分子の配向能を当該薄膜に付与して液晶配向膜を形成
した。ここに、ラビング処理条件は、ロールの回転数４
００ｒｐｍ、ステージ移動速度３０ｍｍ／秒、毛足押し
込み長さ０.４ｍｍとした。

【００５５】上記のようにして液晶配向膜が形成された
基板を２枚作製し、それぞれの基板の外縁部に、酸化ア
ルミニウム球を含有するエポキシ樹脂系接着剤をスクリ
ーン印刷法により塗布した後、２枚の基板を間隙を介し
てラビング方向が逆になるように対向配置し、外縁部同
士を当接させて圧着して接着剤を硬化させた。基板の表
面および外縁部の接着剤により区画されたセルギャップ
内に、ネガ型ネマティック型液晶を注入充填し、次い
で、注入孔をエポキシ系接着剤で封止して垂直配向型液
晶表示素子を作製した。

【００５６】膜強度：厚さ１ｍｍのガラス基板の一面に
設けられたＩＴＯ膜からなる透明導電膜上に、液晶配向
剤をスピンナーを用いて塗布し、８０℃で１分間、その
後１８０℃で１時間乾燥することにより乾燥膜厚６００
オングストロームの塗膜を形成した。この塗膜をＪＩＳ
Ｋ ５４００に準じて鉛筆硬度試験を行った。 垂直配向性：液晶表示素子をクロスニコル下で観察し
た。 電圧保持率：液晶表示素子に５Ｖの電圧を６０マイクロ
秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、印
加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率を測定した。測
定装置は（株）東陽テクニカ製ＶＨＲ−１を使用した。

【００５７】残留ＤＣ電圧：液晶表示素子に直流３.０
Ｖを重畳した３０Ｈｚ、３.０Ｖの矩形波を７０℃の環
境温度で１時間印加し、直流電圧を切った直後の液晶セ
ル内に残留した電圧をフリッカ−消去法により測定し、
残留ＤＣ電圧を求めた。 表示不良：液晶表示素子にＡＣ＝５Ｖ,ＤＣ＝５Ｖ,６０
℃のストレスを５００時間印可した後、クロスニコル下
で目視により観察した。

【００５８】合成例１〜６ １−メチル−２−ピロリドンに、表１に示す組成で、ジ
アミン、テトラカルボン酸二無水物の順で加え、固形分
濃度２０％、６０℃で６時間反応させて、表１に示す対
数粘度を有するポリアミック酸を得た。

【００５９】合成例７ １−メチル−２−ピロリドンに、表１に示す組成で、ジ
アミン、テトラカルボン酸二無水物の順で加え、固形分
濃度２０％、室温で６時間反応させて、表１に示す対数
粘度を有するポリアミック酸を得た。

【００６０】合成例８ 合成例１で得たポリアミック酸を１−メチル−２−ピロ
リドンにより固形分濃度５％に希釈した後、ピリジンを
合成例１のモノマーに対して１.５ｍｏｌ％、無水酢酸
を１.５ｍｏｌ％加えた後、１１０℃に加熱して４時間
イミド化反応を行った。得られた溶液をジエチルエーテ
ルで再沈殿させた後、回収、乾燥して部分イミド化重合
体を得た。この重合体を¹Ｈ−ＮＭＲにより求めたイミ
ド化率は５０％であった。

【００６１】合成例９ 合成例２で得られたポリアミック酸を用いて合成例８と
同様に部分イミド化を行った。得られた部分イミド化重
合体のイミド化率は５０％であった。

【００６２】比較合成例 表１に示したモノマー組成を用い、それ以外は合成例１
と同様の方法で重合した。

【００６３】

【表１】

【００６４】実施例１ （１）垂直配向型液晶配向剤の調製 合成例１で得られたポリアミック酸５.０ｇおよびＮ,
Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−テトラグリシジル−４,４’−ジアミノ
ジフェニルメタン（以下、「ＴＧＤＤＭ」ともいう）
１.０ｇをＮ−メチル−２−ピロリドンに溶解させて固
形分濃度３重量％の溶液とし、この溶液を孔径１μｍの
フィルターで濾過し、本発明の垂直配向型液晶配向剤を
調製した。

【００６５】（２）液晶表示素子の作製 厚さ１.１ｍｍのガラス基板の一面に設けられたＩＴ
Ｏ膜からなる透明導電膜上に、液晶配向膜塗布用の印刷
機を用いて本発明の垂直配向型液晶配向剤を塗布し、１
８０℃で１時間乾燥することにより薄膜を形成した。 形成された薄膜にレーヨン製の布を巻き付けたロール
を有するラビングマシーンにより、ロールの回転数４０
０ｒｐｍ、ステージの移動速度３ｃｍ／秒、毛足押し込
み長さ０.４ｍｍでラビング処理を行った。上記配向膜
塗布基板を、イソプロピルアルコール中に１分間浸漬し
た後、双方の基板を１００℃のホットプレート上で５分
間乾燥した。 上記のようにしてラビング処理が施された液晶配向膜
形成基板を２枚作製し、それぞれの基板の外縁部に、直
径１７μｍの酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹
脂をスクリーン印刷塗布した後、それぞれの液晶配向膜
におけるラビング方向が逆並行となるように２枚の基板
を間隙を介して対向配置し、外縁部同士を当接させて圧
着して接着剤を硬化させた。 基板の表面および外縁部の接着剤により区画されたセ
ルギャップ内に、ネマティック型液晶「ＭＬＣ−２００
１」（メルク・ジャパン社製）を注入充填し、次いで、
注入孔をエポキシ系接着剤で封止して液晶セルを構成し
た。その後、液晶セルの外表面に、偏光方向が当該基板
の一面に形成された液晶配向膜におけるラビング方向と
一致するように偏光板を貼り合わせることにより、液晶
表示素子を作製した。得られた液晶配向膜および液晶表
示素子の評価結果を表２に示す。

【００６６】実施例２〜１０および比較例１〜３ 表２のような組成で液晶配向剤を調製した以外は実施例
１と同様にして、液晶配向膜および液晶表示素子を得、
評価を行った。評価結果を表２に併せて示す。

【００６７】

【表２】

【００６８】

【発明の効果】本発明によれば、不純物イオン吸着性、
電気特性、垂直配向性および膜強度が良好な液晶配向剤
を提供することができる。本発明の液晶配向剤は、ＳＨ
型、ＭＶＡ方式、ＥＶＡ方式等各種の垂直配向型液晶表
示素子に好適に用いることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H090 HB11Y HB13Y KA04 LA09 MA01 MB02 MB03 4J036 AA01 AB01 AB02 AB05 AB09 AB10 AB12 AB20 FB14 JA15 KA01

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アミック酸構造単位を有する重合体１０
   ０重量部および該アミック酸構造単位中のカルボン酸基
   と反応可能な反応性基を分子内に少なくとも２個有する
   架橋剤１〜５０重量部を含むことを特徴とする垂直配向
   型液晶配向剤。
2. 【請求項２】 架橋剤における反応性基がエポキシ基で
   ある請求項１記載の垂直配向型液晶配向剤。