JPH0859975A - 安定化されたポリカーボネートの製造法 - Google Patents
安定化されたポリカーボネートの製造法Info
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 溶融安定性、耐加水分解性等に優れたポリカ
ーボネートの製造法を提供する。 【構成】 芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステル
とを重縮合触媒の存在下溶融重縮合せしめ次いで固有粘
度が少なくとも０．１に達した後、下記式（Ｉ）等で表
わされる安定剤を生成するポリカーボネートに所定量添
加する。 ［ここで、Ａ1 は置換基を有していてもよいｍ価の炭化
水素基であり、Ｙ1 は単結合または酸素原子であり、Ｘ
1 は２級または３級の１価の炭化水素基、１当量の金属
カチオン、アンモニウムカチオンまたはホスホニウムカ
チオンであり、ｍは１〜４の整数である、但しＹ1 が単
結合であるときｍ個のＸ1 の全てが１当量の金属カチオ
ンであることはない。］
ーボネートの製造法を提供する。 【構成】 芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステル
とを重縮合触媒の存在下溶融重縮合せしめ次いで固有粘
度が少なくとも０．１に達した後、下記式（Ｉ）等で表
わされる安定剤を生成するポリカーボネートに所定量添
加する。 ［ここで、Ａ1 は置換基を有していてもよいｍ価の炭化
水素基であり、Ｙ1 は単結合または酸素原子であり、Ｘ
1 は２級または３級の１価の炭化水素基、１当量の金属
カチオン、アンモニウムカチオンまたはホスホニウムカ
チオンであり、ｍは１〜４の整数である、但しＹ1 が単
結合であるときｍ個のＸ1 の全てが１当量の金属カチオ
ンであることはない。］
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は安定化されたポリカーボ
ネートの製造法に関する。さらに詳しくは、溶融安定
性、溶融成形性、耐加水分解性および色相に優れた安定
化されたポリカーボネートの製造法に関する。
ネートの製造法に関する。さらに詳しくは、溶融安定
性、溶融成形性、耐加水分解性および色相に優れた安定
化されたポリカーボネートの製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリカーボネートは耐衝撃性等の機械的
物性や透明性に優れており種々の用途を有する。ポリカ
ーボネートの製造方法としてはジヒドロキシ化合物とホ
スゲンを直接反応させる界面法、あるいはジヒドロキシ
化合物と炭酸ジエステルとを加熱減圧下エステル交換反
応させる溶融法などが知られている。
物性や透明性に優れており種々の用途を有する。ポリカ
ーボネートの製造方法としてはジヒドロキシ化合物とホ
スゲンを直接反応させる界面法、あるいはジヒドロキシ
化合物と炭酸ジエステルとを加熱減圧下エステル交換反
応させる溶融法などが知られている。
【０００３】これらのうち後者の溶融法は前者の界面法
と比較して、安価にポリカーボネート樹脂を製造できる
利点を有するとともに、メチレンクロリド等の溶媒を用
いないので環境上好ましい。
と比較して、安価にポリカーボネート樹脂を製造できる
利点を有するとともに、メチレンクロリド等の溶媒を用
いないので環境上好ましい。
【０００４】従来の溶融法によるポリカーボネートの製
造方法では、通常、触媒成分としてアルカリ金属化合
物、アルカリ土類金属化合物などが用いられる。しか
し、かかる触媒を用いて得られるポリカーボネート樹脂
では、残存する触媒のため溶融安定性に欠け、溶融、成
形するとき、その一部が熱分解することがあり、分子量
が低下したり、透明性が低下したり、また着色したりす
る等の問題がある。
造方法では、通常、触媒成分としてアルカリ金属化合
物、アルカリ土類金属化合物などが用いられる。しか
し、かかる触媒を用いて得られるポリカーボネート樹脂
では、残存する触媒のため溶融安定性に欠け、溶融、成
形するとき、その一部が熱分解することがあり、分子量
が低下したり、透明性が低下したり、また着色したりす
る等の問題がある。
【０００５】特公昭５４―４４３０３号公報には、ポリ
カーボネート樹脂に、ベンゼンスルホン酸メチルまたは
下記式
カーボネート樹脂に、ベンゼンスルホン酸メチルまたは
下記式
【０００６】
【化９】
【０００７】［ここで、Ｒ1 はＣ1 〜Ｃ12のアルキル基
であり、Ｒ2 はＣ1 〜Ｃ6 のアルキル基である。］で表
わされる化合物を添加することによってポリカーボネー
ト樹脂を安定化する方法が開示されている。しかしなが
ら、この方法で得られたポリカーボネート樹脂は溶融成
形時に黄変しやすく、また耐加水分解性はなお不十分で
あった。そのため、かかる問題を解決する重合触媒や添
加剤、あるいは重合技術の開発が望まれている。
であり、Ｒ2 はＣ1 〜Ｃ6 のアルキル基である。］で表
わされる化合物を添加することによってポリカーボネー
ト樹脂を安定化する方法が開示されている。しかしなが
ら、この方法で得られたポリカーボネート樹脂は溶融成
形時に黄変しやすく、また耐加水分解性はなお不十分で
あった。そのため、かかる問題を解決する重合触媒や添
加剤、あるいは重合技術の開発が望まれている。
【０００８】特開平５―１７１０２４号公報には、ポリ
カーボネート樹脂１００重量部に対し、下記式
カーボネート樹脂１００重量部に対し、下記式
【０００９】
【化１０】
【００１０】［ここで、Ｒ1 はＣ1 〜Ｃ40のアルキル基
またはアリール基であり、Ｒ2 〜Ｒ5は水素原子、Ｃ1
〜Ｃ10のアルキル基またはアリール基である。］で表わ
されるスルホン酸ホスホニウム塩０．１〜２０重量部お
よび硫黄含有エステル化合物０．０１〜３．０重量部を
配合してなるポリカーボネート樹脂組成物を開示してい
る。
またはアリール基であり、Ｒ2 〜Ｒ5は水素原子、Ｃ1
〜Ｃ10のアルキル基またはアリール基である。］で表わ
されるスルホン酸ホスホニウム塩０．１〜２０重量部お
よび硫黄含有エステル化合物０．０１〜３．０重量部を
配合してなるポリカーボネート樹脂組成物を開示してい
る。
【００１１】また特開昭６４―１４２６７号公報には、
上記組成物において、硫黄含有エステル化合物に代えて
亜リン酸エステルを用いたものに相当するポリカーボネ
ート樹脂組成物が開示されている。
上記組成物において、硫黄含有エステル化合物に代えて
亜リン酸エステルを用いたものに相当するポリカーボネ
ート樹脂組成物が開示されている。
【００１２】上記スルホン酸ホスホニウム塩を含有する
２種のポリカーボネート樹脂組成物は、いずれも帯電防
止性を付与することを目的とするものであり、そのため
上記の如くスルホン酸ホスホニウム塩をポリカーボネー
ト樹脂１００重量部当り０．１〜２０重量部と大量に用
いる必要がある。このポリカーボネート樹脂はこのため
色相あるいは耐加水分解性といったポリカーボネート樹
脂の重要基本物性には必ずしも好ましくはない結果を生
じるという問題があった。
２種のポリカーボネート樹脂組成物は、いずれも帯電防
止性を付与することを目的とするものであり、そのため
上記の如くスルホン酸ホスホニウム塩をポリカーボネー
ト樹脂１００重量部当り０．１〜２０重量部と大量に用
いる必要がある。このポリカーボネート樹脂はこのため
色相あるいは耐加水分解性といったポリカーボネート樹
脂の重要基本物性には必ずしも好ましくはない結果を生
じるという問題があった。
【００１３】特開平５―９２８５号公報には、芳香族ジ
ヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを溶融重縮合して
得られたポリカーボネートに、下記式
ヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを溶融重縮合して
得られたポリカーボネートに、下記式
【００１４】
【化１１】
【００１５】［ここで、Ｒ7 はハロゲンで置換されてい
てもよいＣ1 〜Ｃ6 の炭化水素基であり、Ｒ8 は水素原
子またはハロゲンで置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ8 の
炭化水素基であり、ｎは０〜３の整数である。］で表わ
されるスルホン酸化合物を０．０５〜１０ｐｐｍの量で
添加してポリカーボネートを製造する方法が開示されて
いる。同公報には、Ｃ1 〜Ｃ8 の炭化水素基がアルキル
基である化合物として、１級アルキル基の化合物が開示
されているにすぎない。
てもよいＣ1 〜Ｃ6 の炭化水素基であり、Ｒ8 は水素原
子またはハロゲンで置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ8 の
炭化水素基であり、ｎは０〜３の整数である。］で表わ
されるスルホン酸化合物を０．０５〜１０ｐｐｍの量で
添加してポリカーボネートを製造する方法が開示されて
いる。同公報には、Ｃ1 〜Ｃ8 の炭化水素基がアルキル
基である化合物として、１級アルキル基の化合物が開示
されているにすぎない。
【００１６】同様に、英国特許８０８，４８８あるいは
８０８，４８９には、触媒中和剤としてジメチルサルフ
ェート、ジブチルサルフェート等が開示されている。
８０８，４８９には、触媒中和剤としてジメチルサルフ
ェート、ジブチルサルフェート等が開示されている。
【００１７】特開平５―１７５６４号公報には、芳香族
ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを含窒素塩基性
化合物からなる触媒の存在下に溶融重縮合させ（第１
段）、次いで第２段以降の重縮合工程において含窒素塩
基性化合物を少くとも１回添加しさらに下記式
ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを含窒素塩基性
化合物からなる触媒の存在下に溶融重縮合させ（第１
段）、次いで第２段以降の重縮合工程において含窒素塩
基性化合物を少くとも１回添加しさらに下記式
【００１８】
【化１２】
【００１９】［ここで、Ｒ31はハロゲンで置換されてい
てもよいＣ1 〜Ｃ6 の炭化水素基であり、Ｒ32は水素原
子またはハロゲンで置換されていてもよい炭化水素基で
あり、ｎは０〜３の整数である。］で表わされるスルホ
ン酸化合物を、得られるポリカーボネートに対して、
０．０５〜１０ｐｐｍの量で添加するポリカーボネート
の製造法が開示されている。
てもよいＣ1 〜Ｃ6 の炭化水素基であり、Ｒ32は水素原
子またはハロゲンで置換されていてもよい炭化水素基で
あり、ｎは０〜３の整数である。］で表わされるスルホ
ン酸化合物を、得られるポリカーボネートに対して、
０．０５〜１０ｐｐｍの量で添加するポリカーボネート
の製造法が開示されている。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、安定
化されたポリカーボネートの製造法を提供することにあ
る。本発明の他の目的は、溶融安定性、耐加水分解性、
溶融成形性および色相に優れたポリカーボネートの製造
法を提供することにある。本発明のさらに他の目的およ
び利点は以下の説明から明らかになろう。
化されたポリカーボネートの製造法を提供することにあ
る。本発明の他の目的は、溶融安定性、耐加水分解性、
溶融成形性および色相に優れたポリカーボネートの製造
法を提供することにある。本発明のさらに他の目的およ
び利点は以下の説明から明らかになろう。
【００２１】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的および利点は、芳香族ジヒドロキシ化合物と
炭酸ジエステルとを重縮合触媒の存在下溶融重縮合せし
め次いで固有粘度が少くとも０．１に達した後、下記式
（Ｉ）
の上記目的および利点は、芳香族ジヒドロキシ化合物と
炭酸ジエステルとを重縮合触媒の存在下溶融重縮合せし
め次いで固有粘度が少くとも０．１に達した後、下記式
（Ｉ）
【００２２】
【化１３】
【００２３】［ここで、Ａ1 はｍ価の置換基を有してい
てもよい炭化水素基であり、Ｙ1 は単結合または酸素原
子であり、Ｘ1 は２級または３級の１価の炭化水素基、
１当量の金属カチオン、１〜４級のアンモニウムカチオ
ンまたは１〜４級のホスホニウムカチオンであり、ｍは
１〜４の整数である。但しＹ1 が単結合であるときｍ個
のＸ1 の全てが１当量の金属カチオンであることはな
い。］で表わされる化合物、下記式（II）
てもよい炭化水素基であり、Ｙ1 は単結合または酸素原
子であり、Ｘ1 は２級または３級の１価の炭化水素基、
１当量の金属カチオン、１〜４級のアンモニウムカチオ
ンまたは１〜４級のホスホニウムカチオンであり、ｍは
１〜４の整数である。但しＹ1 が単結合であるときｍ個
のＸ1 の全てが１当量の金属カチオンであることはな
い。］で表わされる化合物、下記式（II）
【００２４】
【化１４】
【００２５】［ここで、Ａ2 は２価の炭化水素基であ
り、 +Ｘ2 は２〜４級のアンモニウムカチオンまたは２
〜４級のホスホニウムカチオンであり、Ｙ1 の定義は上
記に同じである。］で表わされる化合物、下記式（III
）
り、 +Ｘ2 は２〜４級のアンモニウムカチオンまたは２
〜４級のホスホニウムカチオンであり、Ｙ1 の定義は上
記に同じである。］で表わされる化合物、下記式（III
）
【００２６】
【化１５】
【００２７】［ここで、Ａ3 はｎ価の炭化水素基であ
り、 +Ｘ3 は２〜４級のアンモニウムカチオンまたは２
〜４級のホスホニウムカチオンであり、Ｒは１価の炭化
水素基であり、ｎは２〜４の整数であり、Ｙ1 の定義は
上記に同じである。］で表わされる化合物、および下記
式（IV）
り、 +Ｘ3 は２〜４級のアンモニウムカチオンまたは２
〜４級のホスホニウムカチオンであり、Ｒは１価の炭化
水素基であり、ｎは２〜４の整数であり、Ｙ1 の定義は
上記に同じである。］で表わされる化合物、および下記
式（IV）
【００２８】
【化１６】
【００２９】［ここで、Ａ5 は１または２価の炭化水素
基であり、Ａ4 は２価の炭化水素基であり、Ａｄ1 およ
びＡｄ2 は、同一もしくは異なり―ＳＯ2 ―Ｏ―ＳＯ2
―、―ＳＯ2 ―Ｏ―ＣＯ―または―ＣＯ―Ｏ―ＳＯ2 ―
から選ばれる酸無水物基であり、ｋは０または１であ
る。但しｋが０のとき、―（Ａｄ2 ―Ａ5 ）k は水素原
子を表わすかあるいはＡ4 とＡ5 とを結合する結合手を
表わす（この場合、Ａ5 は２価の炭化水素基又は単結合
である）。］で表わされる化合物よりなる群から選ばれ
る少くとも１種の安定剤を、生成するポリカーボネート
に対し０．０１〜５００ｐｐｍの割合で添加して所望の
固有粘度のポリカーボネートを生成せしめることを特徴
とする安定化されたポリカーボネートの製造法によって
達成される。
基であり、Ａ4 は２価の炭化水素基であり、Ａｄ1 およ
びＡｄ2 は、同一もしくは異なり―ＳＯ2 ―Ｏ―ＳＯ2
―、―ＳＯ2 ―Ｏ―ＣＯ―または―ＣＯ―Ｏ―ＳＯ2 ―
から選ばれる酸無水物基であり、ｋは０または１であ
る。但しｋが０のとき、―（Ａｄ2 ―Ａ5 ）k は水素原
子を表わすかあるいはＡ4 とＡ5 とを結合する結合手を
表わす（この場合、Ａ5 は２価の炭化水素基又は単結合
である）。］で表わされる化合物よりなる群から選ばれ
る少くとも１種の安定剤を、生成するポリカーボネート
に対し０．０１〜５００ｐｐｍの割合で添加して所望の
固有粘度のポリカーボネートを生成せしめることを特徴
とする安定化されたポリカーボネートの製造法によって
達成される。
【００３０】本発明方法は、上記のとおり、芳香族ジヒ
ドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを重縮合触媒の存在
下に溶融重縮合せしめ、次いで固有粘度が少くとも０．
１に達した後、上記式（Ｉ）〜（IV）で表わされる化合
物の安定剤を、生成するポリカーボネートに０．０１〜
５００ｐｐｍで添加して所望の固有粘度のポリカーボネ
ートを生成せしめるものである。
ドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを重縮合触媒の存在
下に溶融重縮合せしめ、次いで固有粘度が少くとも０．
１に達した後、上記式（Ｉ）〜（IV）で表わされる化合
物の安定剤を、生成するポリカーボネートに０．０１〜
５００ｐｐｍで添加して所望の固有粘度のポリカーボネ
ートを生成せしめるものである。
【００３１】本発明で用いられる芳香族ジヒドロキシ化
合物は、下記式（Ａ）で示される化合物が好ましい。
合物は、下記式（Ａ）で示される化合物が好ましい。
【００３２】
【化１７】
【００３３】ここで、Ｒ22、Ｒ23は、同一または異な
り、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基もしくは炭素
数６〜１０の置換されていてもよいアリール基を示す。
アルキル基としてメチル基、エチル基、プロピル基等が
挙げられる。アリール基としてフェニル基が挙げられ
る。Ｒ24は炭素数３〜８のアルキレン基である。アルキ
レン基として、ペンチレン基、ヘキシレン基等が挙げら
れる。Ｒ20、Ｒ21は同一または異なり、ハロゲン原子も
しくは炭素数１〜５のアルキル基を示す。ハロゲン原子
としては塩素、臭素等が挙げられる。アルキル基として
はメチル基、ｔ―ブチル基等が挙げられる。ｐ、ｑは同
一または異なり、０、１または２である。
り、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基もしくは炭素
数６〜１０の置換されていてもよいアリール基を示す。
アルキル基としてメチル基、エチル基、プロピル基等が
挙げられる。アリール基としてフェニル基が挙げられ
る。Ｒ24は炭素数３〜８のアルキレン基である。アルキ
レン基として、ペンチレン基、ヘキシレン基等が挙げら
れる。Ｒ20、Ｒ21は同一または異なり、ハロゲン原子も
しくは炭素数１〜５のアルキル基を示す。ハロゲン原子
としては塩素、臭素等が挙げられる。アルキル基として
はメチル基、ｔ―ブチル基等が挙げられる。ｐ、ｑは同
一または異なり、０、１または２である。
【００３４】芳香族ジヒドロキシ化合物の具体例として
は、ビス（４―ヒドロキシフェニル）メタン、１，１―
ビス（４―ヒドロキシフェニル）エタン、２，２―ビス
（４―ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２―ビス
（４―ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２―ビス（４
―ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４―ヒドロキ
シフェニル）フェニルメタン、２，２―ビス（４―ヒド
ロキシ―３―メチルフェニル）プロパン、１，１―ビス
（４―ヒドロキシ―ｔ―ブチルフェニル）プロパン、
２，２―ビス（４―ヒドロキシ―３―ブロモフェニル）
プロパンなどのビス（ヒドロキシアリール）アルカン
類；１，１―ビス（４―ヒドロキシフェニル）シクロペ
ンタン、１，１―ビス（４―ヒドロキシフェニル）シク
ロヘキサンなどのビス（ヒドロキシアリール）シクロア
ルカン類；４，４′―ジヒドロキシジフェニルエーテ
ル、４，４′―ジヒドロキシ―３，３′―ジメチルジフ
ェニルエーテルなどのジヒドロキシジアリールエーテル
類；４，４′―ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
４，４′―ジヒドロキシ―３，３′―ジメチルジフェニ
ルスルフィドなどのジヒドロキシジアリールスルフィド
類；４，４′―ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、
４，４′―ジヒドロキシ―３，３′―ジメチルジフェニ
ルスルホキシドなどのジヒドロキシジアリールスルホキ
シド類；４，４′―ジヒドロキシジフェニルスルホン、
４，４′―ジヒドロキシ―３，３′―ジメチルジフェニ
ルスルホンなどのジヒドロキシジアリールスルホン類な
どが用いられる。これらのうちでは、特に２，２―ビス
（４―ヒドロキシフェニル）プロパンが好ましい。これ
らの芳香族ジヒドロキシ化合物は２種以上併用して使用
することもできる。
は、ビス（４―ヒドロキシフェニル）メタン、１，１―
ビス（４―ヒドロキシフェニル）エタン、２，２―ビス
（４―ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２―ビス
（４―ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２―ビス（４
―ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４―ヒドロキ
シフェニル）フェニルメタン、２，２―ビス（４―ヒド
ロキシ―３―メチルフェニル）プロパン、１，１―ビス
（４―ヒドロキシ―ｔ―ブチルフェニル）プロパン、
２，２―ビス（４―ヒドロキシ―３―ブロモフェニル）
プロパンなどのビス（ヒドロキシアリール）アルカン
類；１，１―ビス（４―ヒドロキシフェニル）シクロペ
ンタン、１，１―ビス（４―ヒドロキシフェニル）シク
ロヘキサンなどのビス（ヒドロキシアリール）シクロア
ルカン類；４，４′―ジヒドロキシジフェニルエーテ
ル、４，４′―ジヒドロキシ―３，３′―ジメチルジフ
ェニルエーテルなどのジヒドロキシジアリールエーテル
類；４，４′―ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
４，４′―ジヒドロキシ―３，３′―ジメチルジフェニ
ルスルフィドなどのジヒドロキシジアリールスルフィド
類；４，４′―ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、
４，４′―ジヒドロキシ―３，３′―ジメチルジフェニ
ルスルホキシドなどのジヒドロキシジアリールスルホキ
シド類；４，４′―ジヒドロキシジフェニルスルホン、
４，４′―ジヒドロキシ―３，３′―ジメチルジフェニ
ルスルホンなどのジヒドロキシジアリールスルホン類な
どが用いられる。これらのうちでは、特に２，２―ビス
（４―ヒドロキシフェニル）プロパンが好ましい。これ
らの芳香族ジヒドロキシ化合物は２種以上併用して使用
することもできる。
【００３５】本発明で用いられる炭酸ジエステルとして
は、置換されていてもよい炭素数６〜１０のアリール、
アラルキル、炭素数１〜５のアルキル、炭素数３〜８の
シクロアルキル等のエステルが好ましい。
は、置換されていてもよい炭素数６〜１０のアリール、
アラルキル、炭素数１〜５のアルキル、炭素数３〜８の
シクロアルキル等のエステルが好ましい。
【００３６】炭酸ジエステルの具体例としては、ジフェ
ニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（ク
ロロフェニル）カーボネート、ｍ―クレジルカーボネー
ト、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カー
ボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネー
ト、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネ
ートなどが用いられる。これらのうちでは、特にジフェ
ニルカーボネートが好ましい。
ニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（ク
ロロフェニル）カーボネート、ｍ―クレジルカーボネー
ト、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カー
ボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネー
ト、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネ
ートなどが用いられる。これらのうちでは、特にジフェ
ニルカーボネートが好ましい。
【００３７】炭酸ジエステルの使用量としては上記芳香
族ジヒドロキシ化合物に対し８０〜３００モル％、好ま
しくは９０〜２８０モル％、特に好ましくは９５〜２５
０モル％の範囲が望ましい。
族ジヒドロキシ化合物に対し８０〜３００モル％、好ま
しくは９０〜２８０モル％、特に好ましくは９５〜２５
０モル％の範囲が望ましい。
【００３８】本発明で使用される重縮合触媒としては、
前述の炭酸ジエステルおよび芳香族ジヒドロキシ化合物
を出発原料として、副反応少なく、着色等少なく、品質
良好なポリカーボネートポリマーを与えるものが好まし
く使用される。例えばアルカリ金属化合物、アルカリ土
類金属化合物および含窒素塩基性化合物からなる群より
選ばれる少なくとも一種の触媒が好ましく使用される。
これらの重縮合触媒と共に他の触媒を併用することも有
利である。
前述の炭酸ジエステルおよび芳香族ジヒドロキシ化合物
を出発原料として、副反応少なく、着色等少なく、品質
良好なポリカーボネートポリマーを与えるものが好まし
く使用される。例えばアルカリ金属化合物、アルカリ土
類金属化合物および含窒素塩基性化合物からなる群より
選ばれる少なくとも一種の触媒が好ましく使用される。
これらの重縮合触媒と共に他の触媒を併用することも有
利である。
【００３９】重縮合触媒のアルカリ金属化合物として
は、例えばアルカリ金属の水酸化物、炭酸水素塩、炭酸
塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、亜硫酸塩、シアン酸
塩、チオシアン酸塩、ステアリン酸塩、水素化ホウ素
塩、安息香酸塩、リン酸水素化物、ビスフェノール、フ
ェノールの塩等が挙げられる。具体例としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、酢酸ナ
トリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、硝酸ナトリウ
ム、硝酸カリウム、硝酸リチウム、亜硝酸ナトリウム、
亜硝酸カリウム、亜硝酸リチウム、亜硫酸ナトリウム、
亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、シアン酸ナトリウ
ム、シアン酸カリウム、シアン酸リチウム、チオシアン
酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸リ
チウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウ
ム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、
水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、フェニ
ル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸
カリウム、安息香酸リチウム、リン酸水素ジナトリウ
ム、リン酸水素ジカリウム、リン酸水素ジリチウム、ビ
スフェノールＡのジナトリウム塩、ジカリウム塩、ジリ
チウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、リ
チウム塩などが挙げられる。
は、例えばアルカリ金属の水酸化物、炭酸水素塩、炭酸
塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、亜硫酸塩、シアン酸
塩、チオシアン酸塩、ステアリン酸塩、水素化ホウ素
塩、安息香酸塩、リン酸水素化物、ビスフェノール、フ
ェノールの塩等が挙げられる。具体例としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、酢酸ナ
トリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、硝酸ナトリウ
ム、硝酸カリウム、硝酸リチウム、亜硝酸ナトリウム、
亜硝酸カリウム、亜硝酸リチウム、亜硫酸ナトリウム、
亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、シアン酸ナトリウ
ム、シアン酸カリウム、シアン酸リチウム、チオシアン
酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸リ
チウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウ
ム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、
水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、フェニ
ル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸
カリウム、安息香酸リチウム、リン酸水素ジナトリウ
ム、リン酸水素ジカリウム、リン酸水素ジリチウム、ビ
スフェノールＡのジナトリウム塩、ジカリウム塩、ジリ
チウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、リ
チウム塩などが挙げられる。
【００４０】また、重縮合触媒のアルカリ土類金属化合
物としては、例えばアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸
水素塩、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、亜硫酸
塩、シアン酸塩、チオシアン酸塩、ステアリン酸塩、水
素化ホウ素塩、安息香酸塩、リン酸水素化物、ビスフェ
ノール、フェノールの塩等が挙げられる。具体的には、
水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウ
ム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウム、炭酸
水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素ストロ
ンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸マグネ
シウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウム、酢酸バ
リウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチウム、硝酸
カルシウム、硝酸バリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ス
トロンチウム、亜硝酸カルシウム、亜硝酸バリウム、亜
硝酸マグネシウム、亜硝酸ストロンチウム、亜硫酸カル
シウム、亜硫酸バリウム、亜硫酸マグネシウム、亜硫酸
ストロンチウム、シアン酸カルシウム、シアン酸バリウ
ム、シアン酸マグネシウム、シアン酸ストロンチウム、
チオシアン酸カルシウム、チオシアン酸バリウム、チオ
シアン酸マグネシウム、チオシアン酸ストロンチウム、
ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステ
アリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロンチウムな
どが挙げられる。
物としては、例えばアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸
水素塩、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、亜硫酸
塩、シアン酸塩、チオシアン酸塩、ステアリン酸塩、水
素化ホウ素塩、安息香酸塩、リン酸水素化物、ビスフェ
ノール、フェノールの塩等が挙げられる。具体的には、
水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウ
ム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウム、炭酸
水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素ストロ
ンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸マグネ
シウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウム、酢酸バ
リウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチウム、硝酸
カルシウム、硝酸バリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ス
トロンチウム、亜硝酸カルシウム、亜硝酸バリウム、亜
硝酸マグネシウム、亜硝酸ストロンチウム、亜硫酸カル
シウム、亜硫酸バリウム、亜硫酸マグネシウム、亜硫酸
ストロンチウム、シアン酸カルシウム、シアン酸バリウ
ム、シアン酸マグネシウム、シアン酸ストロンチウム、
チオシアン酸カルシウム、チオシアン酸バリウム、チオ
シアン酸マグネシウム、チオシアン酸ストロンチウム、
ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステ
アリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロンチウムな
どが挙げられる。
【００４１】重縮合触媒の含窒素塩基性化合物として
は、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｍ
ｅ4 ＮＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド
（Ｅｔ 4 ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキ
シド（Ｂｕ4 ＮＯＨ）、トリメチルベンジルアンモニウ
ムヒドロキシド（φ―ＣＨ2 （Ｍｅ）3 ＮＯＨ）などの
アルキル、アリール、アルアリール基などを有するアン
モニウムヒドロオキシド類、トリエチルアミン、トリブ
チルアミン、ジメチルベンジルアミン、ヘキサデシルジ
メチルアミンなどの三級アミン類、Ｒ0 2 ＮＨ（式中Ｒ
0 はメチル、エチルなどのアルキル、フェニル、トルイ
ルなどのアリール基などである）で示される二級アミン
類、Ｒ0 ＮＨ2 （式中Ｒ0 は上記と同じである）で示さ
れる一級アミン類、２―メチルイミダゾール、２―フェ
ニルイミダゾールなどのイミダゾール類、あるいはテト
ラメチルアンモニウムボロハイドライド（Ｍｅ4 ＮＢＨ
4 ）、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド（Ｂ
ｕ4 ＮＢＨ4 ）、テトラブチルアンモニウムテトラフェ
ニルボレート（Ｂｕ4 ＮＢＰｈ4 ）、テトラメチルアン
モニウムテトラフェニルボレート（Ｍｅ4 ＮＢＰｈ4 ）
などの塩基性塩などを挙げることができる。
は、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｍ
ｅ4 ＮＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド
（Ｅｔ 4 ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキ
シド（Ｂｕ4 ＮＯＨ）、トリメチルベンジルアンモニウ
ムヒドロキシド（φ―ＣＨ2 （Ｍｅ）3 ＮＯＨ）などの
アルキル、アリール、アルアリール基などを有するアン
モニウムヒドロオキシド類、トリエチルアミン、トリブ
チルアミン、ジメチルベンジルアミン、ヘキサデシルジ
メチルアミンなどの三級アミン類、Ｒ0 2 ＮＨ（式中Ｒ
0 はメチル、エチルなどのアルキル、フェニル、トルイ
ルなどのアリール基などである）で示される二級アミン
類、Ｒ0 ＮＨ2 （式中Ｒ0 は上記と同じである）で示さ
れる一級アミン類、２―メチルイミダゾール、２―フェ
ニルイミダゾールなどのイミダゾール類、あるいはテト
ラメチルアンモニウムボロハイドライド（Ｍｅ4 ＮＢＨ
4 ）、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド（Ｂ
ｕ4 ＮＢＨ4 ）、テトラブチルアンモニウムテトラフェ
ニルボレート（Ｂｕ4 ＮＢＰｈ4 ）、テトラメチルアン
モニウムテトラフェニルボレート（Ｍｅ4 ＮＢＰｈ4 ）
などの塩基性塩などを挙げることができる。
【００４２】また所望により、上記の如き重縮合触媒と
共にその他の金属触媒も併用使用することもできる。か
かる金属触媒としては例えば周期律表のIIＢ、III Ｂ、
IVＡおよびIVＢ族に属する金属元素およびその化合物は
好ましく使用しうる。
共にその他の金属触媒も併用使用することもできる。か
かる金属触媒としては例えば周期律表のIIＢ、III Ｂ、
IVＡおよびIVＢ族に属する金属元素およびその化合物は
好ましく使用しうる。
【００４３】触媒として用いられる金属化合物として
は、例えばＺｎ（ＯＡｃ）2 、Ｚｎ（ＯＢｚ）2 などの
亜鉛のカルボン酸塩、ＺｎＯ、ＺｎＳなどの亜鉛の酸化
物または硫化物、Ｚｎ（ＯＨ）2 などの亜鉛の水酸化
物、（Ｃ2 Ｈ5 ）2 Ｚｎ、Ｐｈ2Ｚｎ、Ｃ2 Ｈ5 ＺｎＯ
Ｃ2 Ｈ5 、ＰｈＺｎＯＡｃ、Ｃ4 Ｈ9 ＺｎＯＡｃなどの
有機亜鉛化合物、Ｚｎ（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 、Ｚｎ（ＯＰ
ｈ）2 などの亜鉛のアルコキシドまたはアリールオキシ
ド、Ｚｎ（ａｃａｃ）2 、Ｚｎ（ｏｘｉｎ）2 などの亜
鉛の化合物類が挙げられる。
は、例えばＺｎ（ＯＡｃ）2 、Ｚｎ（ＯＢｚ）2 などの
亜鉛のカルボン酸塩、ＺｎＯ、ＺｎＳなどの亜鉛の酸化
物または硫化物、Ｚｎ（ＯＨ）2 などの亜鉛の水酸化
物、（Ｃ2 Ｈ5 ）2 Ｚｎ、Ｐｈ2Ｚｎ、Ｃ2 Ｈ5 ＺｎＯ
Ｃ2 Ｈ5 、ＰｈＺｎＯＡｃ、Ｃ4 Ｈ9 ＺｎＯＡｃなどの
有機亜鉛化合物、Ｚｎ（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 、Ｚｎ（ＯＰ
ｈ）2 などの亜鉛のアルコキシドまたはアリールオキシ
ド、Ｚｎ（ａｃａｃ）2 、Ｚｎ（ｏｘｉｎ）2 などの亜
鉛の化合物類が挙げられる。
【００４４】またＡｌ（ＯＡｃ）3 、Ａｌ（ＯＢｚ）3
などのアルミニウムのカルボン酸塩、Ａｌ2 Ｏ3 などの
アルミニウムの酸化物、Ａｌ（ＯＨ）3 などのアルミニ
ウムの水酸化物、Ｐｈ3 Ａｌなどの有機アルミニウム化
合物、Ａｌ（ＯＣＨ3 ）3 、Ａｌ（ＯＣ3 Ｈ7 ―
ｉ）3 、Ａｌ（ＯＰｈ）3 などのアルミニウムのアルコ
キシドまたはアリールオキシド、Ａｌ（ａｃａｃ）3 、
Ａｌ（ｏｘｉｎ）3 などのアルミニウムのキレート化合
物などのアルミニウムの化合物類が挙げられる。
などのアルミニウムのカルボン酸塩、Ａｌ2 Ｏ3 などの
アルミニウムの酸化物、Ａｌ（ＯＨ）3 などのアルミニ
ウムの水酸化物、Ｐｈ3 Ａｌなどの有機アルミニウム化
合物、Ａｌ（ＯＣＨ3 ）3 、Ａｌ（ＯＣ3 Ｈ7 ―
ｉ）3 、Ａｌ（ＯＰｈ）3 などのアルミニウムのアルコ
キシドまたはアリールオキシド、Ａｌ（ａｃａｃ）3 、
Ａｌ（ｏｘｉｎ）3 などのアルミニウムのキレート化合
物などのアルミニウムの化合物類が挙げられる。
【００４５】また、（Ｇａ（ＯＡｃ）3 、Ｇａ（ＯＢ
ｚ）3 、ＧａＯ（ＯＡｃ）などのガリウムのカルボン酸
塩、Ｇａ2 Ｏ3 などのガリウムの酸化物、Ｇａ（ＯＨ）
3 などのガリウムの水酸化物、（ＣＨ3 ）3 Ｇａ、Ｐｈ
3 Ｇａなどの有機ガリウム化合物、Ｇａ（ＯＣ
Ｈ3 ）3 、Ｇａ（ＯＰｈ）3 などのガリウムのアルコキ
シドまたはアリールオキシド、Ｇａ（ａｃａｃ）3 など
のガリウムのキレート化合物などのガリウムの化合物類
が挙げられる。
ｚ）3 、ＧａＯ（ＯＡｃ）などのガリウムのカルボン酸
塩、Ｇａ2 Ｏ3 などのガリウムの酸化物、Ｇａ（ＯＨ）
3 などのガリウムの水酸化物、（ＣＨ3 ）3 Ｇａ、Ｐｈ
3 Ｇａなどの有機ガリウム化合物、Ｇａ（ＯＣ
Ｈ3 ）3 、Ｇａ（ＯＰｈ）3 などのガリウムのアルコキ
シドまたはアリールオキシド、Ｇａ（ａｃａｃ）3 など
のガリウムのキレート化合物などのガリウムの化合物類
が挙げられる。
【００４６】また、Ｉｎ（ＯＡｃ）3 などのインジウム
のカルボン酸塩、Ｉｎ2 Ｏ3 などのインジウムの酸化
物、（Ｃ2 Ｈ5 ）3 Ｉｎ、Ｐｈ3 Ｉｎなどの有機インジ
ウム化合物、Ｉｎ（ａｃａｃ）3 などのインジウムのキ
レート化合物などのインジウムの化合物類が挙げられ
る。
のカルボン酸塩、Ｉｎ2 Ｏ3 などのインジウムの酸化
物、（Ｃ2 Ｈ5 ）3 Ｉｎ、Ｐｈ3 Ｉｎなどの有機インジ
ウム化合物、Ｉｎ（ａｃａｃ）3 などのインジウムのキ
レート化合物などのインジウムの化合物類が挙げられ
る。
【００４７】また、Ｇｅ（ＯＡｃ）4 、Ｇｅ（ＯＢｚ）
4 などのゲルマニウムのカルボン酸塩、ＧｅＯ2 などの
ゲルマニウムの酸化物、Ｇｅ（ＯＨ）4 などのゲルマニ
ウムの水酸化物、（Ｃ2 Ｈ5 ）4 Ｇｅ、Ｐｈ4 Ｇｅ、
［（Ｃ4 Ｈ9 ）2 ＧｅＯ］n 、［Ｐｈ2 ＧｅＯ］n など
の有機ゲルマニウム化合物、Ｇｅ（ＯＣＨ3 ）4 、Ｇｅ
（ＯＰｈ）4 などのゲルマニウムのアルコキシドまたは
アリールオキシドなどのゲルマニウムの化合物類が挙げ
られる。
4 などのゲルマニウムのカルボン酸塩、ＧｅＯ2 などの
ゲルマニウムの酸化物、Ｇｅ（ＯＨ）4 などのゲルマニ
ウムの水酸化物、（Ｃ2 Ｈ5 ）4 Ｇｅ、Ｐｈ4 Ｇｅ、
［（Ｃ4 Ｈ9 ）2 ＧｅＯ］n 、［Ｐｈ2 ＧｅＯ］n など
の有機ゲルマニウム化合物、Ｇｅ（ＯＣＨ3 ）4 、Ｇｅ
（ＯＰｈ）4 などのゲルマニウムのアルコキシドまたは
アリールオキシドなどのゲルマニウムの化合物類が挙げ
られる。
【００４８】また、Ｓｎ（ＯＡｃ）2 、Ｓｎ（ＯＡｃ）
4 、Ｓｎ（ＯＢｚ）4 などのスズのカルボン酸塩、（Ｃ
2 Ｈ5 ）4 Ｓｎ、Ｐｈ4 Ｓｎなどの有機スズ化合物、
（Ｃ4Ｈ9 ）2 ＳｎＯ、［（Ｃ4 Ｈ9 ）2 ＳｎＯ］n 、
［（Ｃ8 Ｈ17）2 ＳｎＯ］n 、［（Ｃ4 Ｈ9 ）ＰｈＳｎ
Ｏ］n などの有機スズオキシド、（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ
（ＯＡｃ）2 、ジブチルスズラウレートなどの有機スズ
のカルボン酸塩、ＳｎＯ、ＳｎＯ2 などのスズの酸化
物、Ｓｎ（ＯＨ）2 、Ｓｎ（ＯＨ）4 などのスズの水酸
化物、Ｓｎ（ＯＣＨ3 ）2 、Ｓｎ（ＯＣＨ3 ）3 、Ｓｎ
（ＯＣ4 Ｈ9 ）4 、Ｓｎ（ＯＰｈ）2 、Ｓｎ（ＯＰｈ）
4 、（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ（ＯＣＨ3 ）2 などのスズおよ
び有機スズのアルコキシドまたはアリールオキシドなど
のスズの無機酸塩が挙げられる。
4 、Ｓｎ（ＯＢｚ）4 などのスズのカルボン酸塩、（Ｃ
2 Ｈ5 ）4 Ｓｎ、Ｐｈ4 Ｓｎなどの有機スズ化合物、
（Ｃ4Ｈ9 ）2 ＳｎＯ、［（Ｃ4 Ｈ9 ）2 ＳｎＯ］n 、
［（Ｃ8 Ｈ17）2 ＳｎＯ］n 、［（Ｃ4 Ｈ9 ）ＰｈＳｎ
Ｏ］n などの有機スズオキシド、（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ
（ＯＡｃ）2 、ジブチルスズラウレートなどの有機スズ
のカルボン酸塩、ＳｎＯ、ＳｎＯ2 などのスズの酸化
物、Ｓｎ（ＯＨ）2 、Ｓｎ（ＯＨ）4 などのスズの水酸
化物、Ｓｎ（ＯＣＨ3 ）2 、Ｓｎ（ＯＣＨ3 ）3 、Ｓｎ
（ＯＣ4 Ｈ9 ）4 、Ｓｎ（ＯＰｈ）2 、Ｓｎ（ＯＰｈ）
4 、（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ（ＯＣＨ3 ）2 などのスズおよ
び有機スズのアルコキシドまたはアリールオキシドなど
のスズの無機酸塩が挙げられる。
【００４９】また、Ｐｂ（ＯＡｃ）2 、Ｐｂ（ＯＡｃ）
4 、Ｐｂ（ＯＢｚ）2 などの鉛のカルボン酸塩、ＰｂＣ
Ｏ3 、２ＰｂＣＯ3 ・Ｐｂ（ＯＨ）2 などの鉛の無機酸
塩、Ｎａ2 ［Ｐｂ（ＯＨ）6 ］などの鉛の錯化合物、Ｐ
ｂＯ、ＰｂＯ2 、Ｐｂ3 Ｏ4などの鉛の酸化物、Ｐｂ
（ＯＨ）2 などの鉛の水酸化物、（Ｃ4 Ｈ9 ）4 Ｐｂ、
Ｐｈ4 Ｐｂ、（Ｃ2 Ｈ5 ）3 Ｐｂ（ＯＡｃ）などの有機
鉛化合物、Ｐｂ（ＯＣＨ 3 ）4 、Ｐｂ（ＯＰｈ）4 、
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｐｂ（ＯＰｈ）2 などの鉛および有機鉛
のアルコキシドまたはアリールオキシドなどの鉛の化合
物類が挙げられる。
4 、Ｐｂ（ＯＢｚ）2 などの鉛のカルボン酸塩、ＰｂＣ
Ｏ3 、２ＰｂＣＯ3 ・Ｐｂ（ＯＨ）2 などの鉛の無機酸
塩、Ｎａ2 ［Ｐｂ（ＯＨ）6 ］などの鉛の錯化合物、Ｐ
ｂＯ、ＰｂＯ2 、Ｐｂ3 Ｏ4などの鉛の酸化物、Ｐｂ
（ＯＨ）2 などの鉛の水酸化物、（Ｃ4 Ｈ9 ）4 Ｐｂ、
Ｐｈ4 Ｐｂ、（Ｃ2 Ｈ5 ）3 Ｐｂ（ＯＡｃ）などの有機
鉛化合物、Ｐｂ（ＯＣＨ 3 ）4 、Ｐｂ（ＯＰｈ）4 、
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｐｂ（ＯＰｈ）2 などの鉛および有機鉛
のアルコキシドまたはアリールオキシドなどの鉛の化合
物類が挙げられる。
【００５０】また、Ｚｒ（ＯＡｃ）4 、Ｚｒ（ＯＢｚ）
4 などのジルコニウムのカルボン酸塩、ＺｒＯ2 などの
ジルコニウムの酸化物、Ｚｒ（ＯＣ4 Ｈ9 ）4 、Ｚｒ
（ＯＰｈ）4 などのジルコニウムのアルコキシドまたは
アリールオキシド、Ｚｒ（ＯＡｃ）3 （π―Ｃ
2 Ｈ5 ）、ＺｒＨ2 （π―Ｃ2 Ｈ5 ）2 などの有機ジル
コニウム化合物、Ｚｒ（ａｃａｃ）4 などのジルコニウ
ムのキレート化合物などのジルコニウムの化合物類など
が挙げられる。これらの触媒は、１種または２種以上を
併用することもできる。
4 などのジルコニウムのカルボン酸塩、ＺｒＯ2 などの
ジルコニウムの酸化物、Ｚｒ（ＯＣ4 Ｈ9 ）4 、Ｚｒ
（ＯＰｈ）4 などのジルコニウムのアルコキシドまたは
アリールオキシド、Ｚｒ（ＯＡｃ）3 （π―Ｃ
2 Ｈ5 ）、ＺｒＨ2 （π―Ｃ2 Ｈ5 ）2 などの有機ジル
コニウム化合物、Ｚｒ（ａｃａｃ）4 などのジルコニウ
ムのキレート化合物などのジルコニウムの化合物類など
が挙げられる。これらの触媒は、１種または２種以上を
併用することもできる。
【００５１】重縮合触媒は、生成するポリカーボネート
に対し０．０１〜５０ｐｐｍとなる量で使用しうる。上
記使用範囲を逸脱すると、得られるポリカーボネートの
諸物性に悪影響を及ぼしたり、また、重合反応が充分に
進行せず高分子量のポリカーボネートが得られない等の
問題を生ずることがあり好ましくない。
に対し０．０１〜５０ｐｐｍとなる量で使用しうる。上
記使用範囲を逸脱すると、得られるポリカーボネートの
諸物性に悪影響を及ぼしたり、また、重合反応が充分に
進行せず高分子量のポリカーボネートが得られない等の
問題を生ずることがあり好ましくない。
【００５２】なお、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジ
エステルを上記の如き重縮合触媒の存在下で重縮合せし
める場合には、さらに、ジカルボン酸あるいはジカルボ
ン酸エステルを含有してもよい。このようなジカルボン
酸あるいはジカルボン酸エステルとしては、例えばテレ
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸ジフェニル、イ
ソフタル酸ジフェニルなどが例示できる。上記のような
ジカルボン酸あるいはジカルボン酸エステルを炭酸ジエ
ステルと併用した場合には、ポリエステルポリカーボネ
ートが得られるが、本発明のポリカーボネートの製造方
法は、このポリエステルポリカーボネートの製造方法も
含まれると理解されるべきである。
エステルを上記の如き重縮合触媒の存在下で重縮合せし
める場合には、さらに、ジカルボン酸あるいはジカルボ
ン酸エステルを含有してもよい。このようなジカルボン
酸あるいはジカルボン酸エステルとしては、例えばテレ
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸ジフェニル、イ
ソフタル酸ジフェニルなどが例示できる。上記のような
ジカルボン酸あるいはジカルボン酸エステルを炭酸ジエ
ステルと併用した場合には、ポリエステルポリカーボネ
ートが得られるが、本発明のポリカーボネートの製造方
法は、このポリエステルポリカーボネートの製造方法も
含まれると理解されるべきである。
【００５３】ジカルボン酸あるいはジカルボン酸エステ
ルは芳香族ジヒドロキシ化合物に対し９０モル％以下、
特に８０モル％以下で用いることができる。
ルは芳香族ジヒドロキシ化合物に対し９０モル％以下、
特に８０モル％以下で用いることができる。
【００５４】本発明の重縮合反応において用いられる安
定剤は、下記式（Ｉ）、（II）、（III ）または（IV）
で表わされる。安定剤は重縮合生成物の固有粘度が少く
とも０．１に達した後に添加される。以下各安定剤につ
いて説明する。
定剤は、下記式（Ｉ）、（II）、（III ）または（IV）
で表わされる。安定剤は重縮合生成物の固有粘度が少く
とも０．１に達した後に添加される。以下各安定剤につ
いて説明する。
【００５５】式（Ｉ）の安定剤
【００５６】
【化１８】
【００５７】ここで、Ａ1 は置換基を有していてもよい
ｍ価の炭化水素基であり、Ｙ1 は単結合または酸素原子
であり、Ｘ1 は２級または３級の１価の炭化水素基、１
当量の金属カチオン、アンモニウムカチオンまたはホス
ホニウムカチオンであり、ｍは１〜４の整数である、但
しＹ1 が単結合であるときｍ個のＸ1 の全てが１当量の
金属カチオンであることはない。
ｍ価の炭化水素基であり、Ｙ1 は単結合または酸素原子
であり、Ｘ1 は２級または３級の１価の炭化水素基、１
当量の金属カチオン、アンモニウムカチオンまたはホス
ホニウムカチオンであり、ｍは１〜４の整数である、但
しＹ1 が単結合であるときｍ個のＸ1 の全てが１当量の
金属カチオンであることはない。
【００５８】ｍ価の炭化水素基としては、例えばｍ価の
飽和脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または飽和脂
肪族―芳香族炭化水素基等を好ましいものとして挙げる
ことができる。
飽和脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または飽和脂
肪族―芳香族炭化水素基等を好ましいものとして挙げる
ことができる。
【００５９】Ｙ1 は単結合または酸素原子であるまた、
Ｘ1 は２級または３級の一価の炭化水素基、一当量の金
属カチオン、アンモニウムカチオンまたはホスホニウム
カチオンである。
Ｘ1 は２級または３級の一価の炭化水素基、一当量の金
属カチオン、アンモニウムカチオンまたはホスホニウム
カチオンである。
【００６０】２級または３級の一価の炭化水素基として
は、例えば下記式（Ｉ）−ｄ
は、例えば下記式（Ｉ）−ｄ
【００６１】
【化１９】
【００６２】［ここで、Ｒ15は水素原子もしくは炭素数
１〜５のアルキル基であり、Ｒ16は水素原子、フェニル
基もしくは炭素数１〜５のアルキル基であり、そしてＲ
17はＲ 15と同一もしくは異なりＲ15の定義と同じであ
る、但し、Ｒ15、Ｒ16およびＲ17の２つが水素原子であ
ることはない。］で表わされる２級または３級のアルキ
ル基が好ましい。これらのうち、特にＲ15およびＲ17が
同一もしくは異なり、水素原子、メチル基、エチル基ま
たはプロピル基でありそしてＲ16がメチル基またはフェ
ニル基であるのがより好ましい。
１〜５のアルキル基であり、Ｒ16は水素原子、フェニル
基もしくは炭素数１〜５のアルキル基であり、そしてＲ
17はＲ 15と同一もしくは異なりＲ15の定義と同じであ
る、但し、Ｒ15、Ｒ16およびＲ17の２つが水素原子であ
ることはない。］で表わされる２級または３級のアルキ
ル基が好ましい。これらのうち、特にＲ15およびＲ17が
同一もしくは異なり、水素原子、メチル基、エチル基ま
たはプロピル基でありそしてＲ16がメチル基またはフェ
ニル基であるのがより好ましい。
【００６３】一当量の金属カチオンとしては、例えばリ
チウム、ナトリウム、カリウムの如きアルカリ金属カチ
オン；カルシウム、バリウムの如きアルカリ土類金属カ
チオンの１／２あるいはアルミニウムの如き３価の金属
カチオンの１／３等を挙げることができる。
チウム、ナトリウム、カリウムの如きアルカリ金属カチ
オン；カルシウム、バリウムの如きアルカリ土類金属カ
チオンの１／２あるいはアルミニウムの如き３価の金属
カチオンの１／３等を挙げることができる。
【００６４】アンモニウムカチオンとしては、例えば下
記式（Ｉ）−ａ
記式（Ｉ）−ａ
【００６５】
【化２０】
【００６６】［ここで、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ
4 は、互いに独立して水素原子または１価の炭化水素基
である。］で表わされるカチオンを挙げることができ
る。
4 は、互いに独立して水素原子または１価の炭化水素基
である。］で表わされるカチオンを挙げることができ
る。
【００６７】式（Ｉ）−ａにおいて、Ｒ1 等が表わす１
価の炭化水素基としては、例えば炭素数１〜２０のアル
キル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０
のアラルキル基等が好ましい。
価の炭化水素基としては、例えば炭素数１〜２０のアル
キル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０
のアラルキル基等が好ましい。
【００６８】また、ホスホニウムカチオンとしては、例
えば下記式（Ｉ）−ｂ
えば下記式（Ｉ）−ｂ
【００６９】
【化２１】
【００７０】［ここで、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ
8 は、互いに独立に水素原子または１価の炭化水素基で
ある。］で表わされるカチオンを挙げることができる。
8 は、互いに独立に水素原子または１価の炭化水素基で
ある。］で表わされるカチオンを挙げることができる。
【００７１】式（Ｉ）−ｂにおいて、Ｒ5 等が表わす１
価の炭化水素基としては、式（Ｉ）−ａについて例示し
た１価の炭素数基と同じものを挙げることができる。
価の炭化水素基としては、式（Ｉ）−ａについて例示し
た１価の炭素数基と同じものを挙げることができる。
【００７２】これらのうち、Ｘ1 としては２級または３
級のアルキル基、アルカリ金属カチオン、上記式（Ｉ）
−ａで表わされるカチオンおよび上記式（Ｉ）−ｂで表
わされるカチオンが好ましい。
級のアルキル基、アルカリ金属カチオン、上記式（Ｉ）
−ａで表わされるカチオンおよび上記式（Ｉ）−ｂで表
わされるカチオンが好ましい。
【００７３】また上記式（Ｉ）において、ｍは１〜４の
整数であり、好ましくは１又は２である。
整数であり、好ましくは１又は２である。
【００７４】上記式（Ｉ）で表わされる化合物は、Ｙ1
の定義に従って便宜的に２群に分けられる。すなわち、
Ｙ1 が単結合である化合物群とＹ1 が酸素原子である化
合物群である。Ｙ1 が単結合である化合物群は、例えば
ｍが１である場合、下記式（Ｉ）−１
の定義に従って便宜的に２群に分けられる。すなわち、
Ｙ1 が単結合である化合物群とＹ1 が酸素原子である化
合物群である。Ｙ1 が単結合である化合物群は、例えば
ｍが１である場合、下記式（Ｉ）−１
【００７５】
【化２２】Ａ1 ―ＳＯ3 Ｘ1 ……（Ｉ）−１ ［ここで、Ａ1 およびＸ1 の定義は上記式（Ｉ）に同じ
である。］で表わされる。
である。］で表わされる。
【００７６】上記式（Ｉ）−１で表わされる化合物のう
ち、Ａ1 が一価の飽和脂肪族炭化水素基または飽和脂肪
族―芳香族炭化水素基であるのが好ましく、とりわけ下
記式 （Ｉ）−ｃ
ち、Ａ1 が一価の飽和脂肪族炭化水素基または飽和脂肪
族―芳香族炭化水素基であるのが好ましく、とりわけ下
記式 （Ｉ）−ｃ
【００７７】
【化２３】
【００７８】［ここで、Ａ11は炭素数１〜１８のアルキ
ル基であり、ｊは０または１の整数である。］で表わさ
れる基であるのが特に好ましい。
ル基であり、ｊは０または１の整数である。］で表わさ
れる基であるのが特に好ましい。
【００７９】また、Ｙ1 が酸素原子である化合物群は、
例えばｍが１である場合、下記式（Ｉ）−２
例えばｍが１である場合、下記式（Ｉ）−２
【００８０】
【化２４】 Ａ1 ―Ｏ―ＳＯ3 Ｘ1 ……（Ｉ）−２ ［ここで、Ａ1 およびＸ1 の定義は上記式（Ｉ）に同じ
である。］で表わされる。
である。］で表わされる。
【００８１】上記式（Ｉ）−２で表わされる化合物のう
ち、Ａ1 が一価の飽和脂肪族炭化水素基であるのが好ま
しく、とりわけ炭素数１〜１８のアルキル基であるのが
特に好ましい。
ち、Ａ1 が一価の飽和脂肪族炭化水素基であるのが好ま
しく、とりわけ炭素数１〜１８のアルキル基であるのが
特に好ましい。
【００８２】上記式（Ｉ）で表わされる化合物の具体例
としては、例えば下記の化合物を挙げることができる。
としては、例えば下記の化合物を挙げることができる。
【００８３】Ｙ1 が単結合であり、Ｘ1 が２級または３
級の１価の炭化水素基でありそしてｍが１である場合の
化合物として、ベンゼンスルホン酸ベンジル、ベンゼン
スルホン酸２―フェニル―２―プロピル、ベンゼンスル
ホン酸２―フェニル―２―ブチル、トルエンスルホン酸
ベンジル、トルエンスルホン酸２―フェニル―２―プロ
ピル、トルエンスルホン酸２―プロピル―２―ブチル、
オクチルベンゼンスルホン酸ベンジル、オクチルベンゼ
ンスルホン酸２―フェニル―２―プロピル、オクチルベ
ンゼンスルホン酸２―フェニル―２―ブチル、ドデシル
ベンゼンスルホン酸ベンジル、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸２―フェニル―２―プロピル、ドデシルベンゼンス
ルホン酸２―フェニル―２―ブチルなどをあげることが
できる。
級の１価の炭化水素基でありそしてｍが１である場合の
化合物として、ベンゼンスルホン酸ベンジル、ベンゼン
スルホン酸２―フェニル―２―プロピル、ベンゼンスル
ホン酸２―フェニル―２―ブチル、トルエンスルホン酸
ベンジル、トルエンスルホン酸２―フェニル―２―プロ
ピル、トルエンスルホン酸２―プロピル―２―ブチル、
オクチルベンゼンスルホン酸ベンジル、オクチルベンゼ
ンスルホン酸２―フェニル―２―プロピル、オクチルベ
ンゼンスルホン酸２―フェニル―２―ブチル、ドデシル
ベンゼンスルホン酸ベンジル、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸２―フェニル―２―プロピル、ドデシルベンゼンス
ルホン酸２―フェニル―２―ブチルなどをあげることが
できる。
【００８４】Ｙ1 が単結合であり、Ｘ1 が上記式（Ｉ）
−ｂで表わされるホスホニウムカチオンでありそしてｍ
が１である場合の化合物として、ヘキシルスルホン酸テ
トラメチルホスホニウム塩、ヘキシルスルホン酸テトラ
エチルホスホニウム塩、ヘキシルスルホン酸テトラブチ
ルホスホニウム塩、ヘキシルスルホン酸テトラヘキシル
ホスホニウム塩、ヘキシルスルホン酸テトラオクチルホ
スホニウム塩、オクチルスルホン酸テトラメチルホスホ
ニウム塩、オクチルスルホン酸テトラエチルホスホニウ
ム塩、オクチルスルホン酸テトラブチルホスホニウム
塩、オクチルスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム
塩、オクチルスルホン酸テトラオクチルホスホニウム
塩、デシルスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、デ
シルスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、デシルス
ルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、デシルスルホン
酸テトラヘキシルホスホニウム塩、デシルスルホン酸テ
トラオクチルホスホニウム塩、ドデシルスルホン酸テト
ラメチルホスホニウム塩、ドデシルスルホン酸テトラエ
チルホスホニウム塩、ドデシルスルホン酸テトラブチル
ホスホニウム塩、ドデシルスルホン酸テトラヘキシルホ
スホニウム塩、ドデシルスルホン酸テトラオクチルホス
ホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラメチルホス
ホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラエチルホス
ホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラブチルホス
ホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラヘキシルホ
スホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラオクチル
ホスホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラメチルホス
ホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラエチルホスホニ
ウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム
塩、ベンゼンスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム
塩、ベンゼンスルホン酸テトラオクチルホスホニウム
塩、トルエンスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、
トルエンスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、トル
エンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、トルエン
スルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、トルエンス
ルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩、ドデシルベン
ゼンスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、ドデシル
ベンゼンスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、ドデ
シルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、
ドデシルベンゼンスルホン酸テトラヘキシルホスホニウ
ム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラオクチルホス
ホニウム塩等が挙げられる。
−ｂで表わされるホスホニウムカチオンでありそしてｍ
が１である場合の化合物として、ヘキシルスルホン酸テ
トラメチルホスホニウム塩、ヘキシルスルホン酸テトラ
エチルホスホニウム塩、ヘキシルスルホン酸テトラブチ
ルホスホニウム塩、ヘキシルスルホン酸テトラヘキシル
ホスホニウム塩、ヘキシルスルホン酸テトラオクチルホ
スホニウム塩、オクチルスルホン酸テトラメチルホスホ
ニウム塩、オクチルスルホン酸テトラエチルホスホニウ
ム塩、オクチルスルホン酸テトラブチルホスホニウム
塩、オクチルスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム
塩、オクチルスルホン酸テトラオクチルホスホニウム
塩、デシルスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、デ
シルスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、デシルス
ルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、デシルスルホン
酸テトラヘキシルホスホニウム塩、デシルスルホン酸テ
トラオクチルホスホニウム塩、ドデシルスルホン酸テト
ラメチルホスホニウム塩、ドデシルスルホン酸テトラエ
チルホスホニウム塩、ドデシルスルホン酸テトラブチル
ホスホニウム塩、ドデシルスルホン酸テトラヘキシルホ
スホニウム塩、ドデシルスルホン酸テトラオクチルホス
ホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラメチルホス
ホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラエチルホス
ホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラブチルホス
ホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラヘキシルホ
スホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラオクチル
ホスホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラメチルホス
ホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラエチルホスホニ
ウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム
塩、ベンゼンスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム
塩、ベンゼンスルホン酸テトラオクチルホスホニウム
塩、トルエンスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、
トルエンスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、トル
エンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、トルエン
スルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、トルエンス
ルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩、ドデシルベン
ゼンスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、ドデシル
ベンゼンスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、ドデ
シルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、
ドデシルベンゼンスルホン酸テトラヘキシルホスホニウ
ム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラオクチルホス
ホニウム塩等が挙げられる。
【００８５】Ｙ1 が酸素原子であり、Ｘ1 が２級もしく
は３級の１価の炭化水素基でありそしてｍが１である場
合の化合物としては、Ａ1 とＸ1 の炭素数の合計が８〜
４０であるのが好ましい。かかる具体例として、ジブチ
ルサルフェート、ジペンチルサルフェート、ジヘキシル
サルフェート、ジオクチルサルフェート、ジノニルサル
フェート、ジデシルサルフェート、ジトリデシルサルフ
ェート、ジテトラデシルサルフェート、ジヘキサデシル
サルフェート、ジシクロヘキシルサルフェート、ジベン
ジルサルフェート等が挙げられる。これらの具体例のア
ルキル基はいずれも２級もしくは３級であると理解され
るべきである。
は３級の１価の炭化水素基でありそしてｍが１である場
合の化合物としては、Ａ1 とＸ1 の炭素数の合計が８〜
４０であるのが好ましい。かかる具体例として、ジブチ
ルサルフェート、ジペンチルサルフェート、ジヘキシル
サルフェート、ジオクチルサルフェート、ジノニルサル
フェート、ジデシルサルフェート、ジトリデシルサルフ
ェート、ジテトラデシルサルフェート、ジヘキサデシル
サルフェート、ジシクロヘキシルサルフェート、ジベン
ジルサルフェート等が挙げられる。これらの具体例のア
ルキル基はいずれも２級もしくは３級であると理解され
るべきである。
【００８６】Ｙ1 が酸素原子であり、Ｘ1 が一当量の金
属カチオンでありそしてｍが１である場合の化合物とし
て、ナトリウムオクチルサルフェート、カリウムオクチ
ルサルフェート、セシウムオクチルサルフェート、リチ
ウムデシルサルフェート、ナトリウムデシルサルフェー
ト、ナトリウムドデシルサルフェート、カリウムドデシ
ルサルフェート、リチウムテトラデシルサルフェート、
ナトリウムテトラデシルサルフェート、カリウムデシル
サルフェート、リチウムヘキサデシルサルフェート、ナ
トリウムオレイルサルフェート、カリウムヘキサデシル
サルフェートが挙げられる。
属カチオンでありそしてｍが１である場合の化合物とし
て、ナトリウムオクチルサルフェート、カリウムオクチ
ルサルフェート、セシウムオクチルサルフェート、リチ
ウムデシルサルフェート、ナトリウムデシルサルフェー
ト、ナトリウムドデシルサルフェート、カリウムドデシ
ルサルフェート、リチウムテトラデシルサルフェート、
ナトリウムテトラデシルサルフェート、カリウムデシル
サルフェート、リチウムヘキサデシルサルフェート、ナ
トリウムオレイルサルフェート、カリウムヘキサデシル
サルフェートが挙げられる。
【００８７】Ｙ1 が酸素原子であり、Ｘ1 が上記式
（Ｉ）−ａで表わされるアンモニウムカチオンである場
合の化合物として、アンモニウムオクチルサルフェー
ト、アンモニウムデシルサルフェート、アンモニウムド
デシルサルフェート、アンモニウムヘキサデシルサルフ
ェートの如きアンモニウム塩があげられる。
（Ｉ）−ａで表わされるアンモニウムカチオンである場
合の化合物として、アンモニウムオクチルサルフェー
ト、アンモニウムデシルサルフェート、アンモニウムド
デシルサルフェート、アンモニウムヘキサデシルサルフ
ェートの如きアンモニウム塩があげられる。
【００８８】また、メチルアンモニウムヘキシルサルフ
ェート、メチルアンモニウムオクチルサルフェート、メ
チルアンモニウムヘキサデシルサルフェート、エチルア
ンモニウムヘキシルサルフェート、ブチルアンモニウム
ノナデシルサルフェート、ヘキシルアンモニウムオクタ
デシルサルフェート、デシルアンモニウムエチルサルフ
ェート、デシルアンモニウムブチルサルフェート、デシ
ルアンモニウムデシルサルフェート、ドデシルアンモニ
ウムメチルサルフェート、ドデシルアンモニウムエチル
サルフェート、ドデシルアンモニウムオクチルサルフェ
ート、テトラデシルアンモニウムブチルサルフェート、
ペンタデシルアンモニウムメチルサルフェート、ヘキサ
デシルアンモニウムブチルサルフェート、ヘキサデシル
アンモニウムオクチルサルフェート、ヘキサデシルアン
モニウムデシルサルフェート、ヘキサデシルアンモニウ
ムドデシルサルフェートの如き１級アンモニウム塩があ
げられる。
ェート、メチルアンモニウムオクチルサルフェート、メ
チルアンモニウムヘキサデシルサルフェート、エチルア
ンモニウムヘキシルサルフェート、ブチルアンモニウム
ノナデシルサルフェート、ヘキシルアンモニウムオクタ
デシルサルフェート、デシルアンモニウムエチルサルフ
ェート、デシルアンモニウムブチルサルフェート、デシ
ルアンモニウムデシルサルフェート、ドデシルアンモニ
ウムメチルサルフェート、ドデシルアンモニウムエチル
サルフェート、ドデシルアンモニウムオクチルサルフェ
ート、テトラデシルアンモニウムブチルサルフェート、
ペンタデシルアンモニウムメチルサルフェート、ヘキサ
デシルアンモニウムブチルサルフェート、ヘキサデシル
アンモニウムオクチルサルフェート、ヘキサデシルアン
モニウムデシルサルフェート、ヘキサデシルアンモニウ
ムドデシルサルフェートの如き１級アンモニウム塩があ
げられる。
【００８９】またジメチルアンモニウムヘキシルサルフ
ェート、ジメチルアンモニウムオクチルサルフェート、
ジメチルアンモニウムテトラデシルサルフェート、ジエ
チルアンモニウムオクタデシルサルフェート、ブチルメ
チルアンモニウムテトラデシルサルフェート、ヘキシル
メチルアンモニウムテトラデシルサルフェート、デシル
メチルアンモニウムメチルサルフェート、デシルエチル
アンモニウムエチルサルフェート、デシルメチルアンモ
ニウムオクチルサルフェート、ドデシルメチルアンモニ
ウムメチルサルフェート、テトラデシルメチルアンモニ
ウムメチルサルフェート、テトラデシルエチルアンモニ
ウムサルフェート、ペンタデシルメチルアンモニウムメ
チルサルフェート、ペンタデシルエチルアンモニウムエ
チルサルフェート、ヘキサデシルメチルアンモニウムメ
チルサルフェート、ヘキサデシルエチルアンモニウムエ
チルサルフェートの如き２級アンモニウム塩があげられ
る。
ェート、ジメチルアンモニウムオクチルサルフェート、
ジメチルアンモニウムテトラデシルサルフェート、ジエ
チルアンモニウムオクタデシルサルフェート、ブチルメ
チルアンモニウムテトラデシルサルフェート、ヘキシル
メチルアンモニウムテトラデシルサルフェート、デシル
メチルアンモニウムメチルサルフェート、デシルエチル
アンモニウムエチルサルフェート、デシルメチルアンモ
ニウムオクチルサルフェート、ドデシルメチルアンモニ
ウムメチルサルフェート、テトラデシルメチルアンモニ
ウムメチルサルフェート、テトラデシルエチルアンモニ
ウムサルフェート、ペンタデシルメチルアンモニウムメ
チルサルフェート、ペンタデシルエチルアンモニウムエ
チルサルフェート、ヘキサデシルメチルアンモニウムメ
チルサルフェート、ヘキサデシルエチルアンモニウムエ
チルサルフェートの如き２級アンモニウム塩があげられ
る。
【００９０】また、トリメチルアンモニウムオクチルサ
ルフェート、トリメチルアンモニウムデシルサルフェー
ト、ブチルジメチルアンモニウムデシルサルフェート、
ヘキシルジメチルアンモニウムドデシルサルフェート、
デシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、デシ
ルジメチルアンモニウムトリデシルサルフェート、ドデ
シルジエチルアンモニウムエチルサルフェート、ドデシ
ルジブチルアンモニウムブチルサルフェート、ドデシル
ジメチルアンモニウムテトラデシルサルフェート、テト
ラデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、テ
トラデシルメチルエチルアンモニウムメチルサルフェー
ト、ペンタデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェ
ート、ヘキサデシルジメチルアンモニウムメチルサルフ
ェート、ヘキサデシルメチルエチルアンモニウムエチル
サルフェートの如き３級アンモニウム塩があげられる。
ルフェート、トリメチルアンモニウムデシルサルフェー
ト、ブチルジメチルアンモニウムデシルサルフェート、
ヘキシルジメチルアンモニウムドデシルサルフェート、
デシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、デシ
ルジメチルアンモニウムトリデシルサルフェート、ドデ
シルジエチルアンモニウムエチルサルフェート、ドデシ
ルジブチルアンモニウムブチルサルフェート、ドデシル
ジメチルアンモニウムテトラデシルサルフェート、テト
ラデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、テ
トラデシルメチルエチルアンモニウムメチルサルフェー
ト、ペンタデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェ
ート、ヘキサデシルジメチルアンモニウムメチルサルフ
ェート、ヘキサデシルメチルエチルアンモニウムエチル
サルフェートの如き３級アンモニウム塩があげられる。
【００９１】また、テトラメチルアンモニウムヘキシル
サルフェート、テトラエチルアンモニウムトリデシルサ
ルフェート、ブチルトリメチルアンモニウムオクチルサ
ルフェート、デシルトリメチルアンモニウムメチルサル
フェート、デシルトリエチルアンモニウムエチルサルフ
ェート、デシルトリメチルアンモニウムヘキサデシルサ
ルフェート、ペンタデシルトリメチルアンモニウムメチ
ルサルフェート、ペンタデシルジメチルエチルアンモニ
ウムエチルサルフェートの如き４級アンモニウム塩が挙
げられる。
サルフェート、テトラエチルアンモニウムトリデシルサ
ルフェート、ブチルトリメチルアンモニウムオクチルサ
ルフェート、デシルトリメチルアンモニウムメチルサル
フェート、デシルトリエチルアンモニウムエチルサルフ
ェート、デシルトリメチルアンモニウムヘキサデシルサ
ルフェート、ペンタデシルトリメチルアンモニウムメチ
ルサルフェート、ペンタデシルジメチルエチルアンモニ
ウムエチルサルフェートの如き４級アンモニウム塩が挙
げられる。
【００９２】この中で、リチウムデシルサルフェート、
ナトリウムデシルサルフェート、ナトリウムドデシルサ
ルフェート、カリウムドデシルサルフェート、リチウム
テトラデシルサルフェート、ナトリウムテトラデシルサ
ルフェート、リチウムヘキサデシルサルフェート、ナト
リウムオレイルサルフェート、ドデシルアンモニウムエ
チルサルフェート、ドデシルメチルアンモニウムメチル
サルフェート、デシルメチルアンモニウムメチルサルフ
ェート、デシルエチルアンモニウムエチルサルフェー
ト、テトラデシルエチルアンモニウムエチルサルフェー
ト、テトラデシルメチルエチルアンモニウムメチルサル
フェート、ペンタデシルエチルアンモニウムエチルサル
フェート、ヘキサデシルメチルアンモニウムメチルサル
フェート、ヘキサデシルエチルアンモニウムエチルサル
フェート、デシルジメチルアンモニウムメチルサルフェ
ート、ヘキサデシルジメチルアンモニウムメチルサルフ
ェート、ペンタデシルジメチルアンモニウムメチルサル
フェート、ヘキサデシルメチルエチルアンモニウムエチ
ルサルフェート、ペンタデシルジメチルエチルアンモニ
ウムエチルサルフェート、デシルジメチルアンモニウム
トリデシルサルフェート、テトラデシルジメチルアンモ
ニウムメチルサルフェート、ドデシルジエチルアンモニ
ウムエチルサルフェート、テトラデシルジエチルアンモ
ニウムエチルサルフェート、デシルトリメチルアンモニ
ウムメチルサルフェート、ペンタデシルトリメチルアン
モニウムメチルサルフェート、デシルトリエチルアンモ
ニウムエチルサルフェートがより好ましく用いられる。
ナトリウムデシルサルフェート、ナトリウムドデシルサ
ルフェート、カリウムドデシルサルフェート、リチウム
テトラデシルサルフェート、ナトリウムテトラデシルサ
ルフェート、リチウムヘキサデシルサルフェート、ナト
リウムオレイルサルフェート、ドデシルアンモニウムエ
チルサルフェート、ドデシルメチルアンモニウムメチル
サルフェート、デシルメチルアンモニウムメチルサルフ
ェート、デシルエチルアンモニウムエチルサルフェー
ト、テトラデシルエチルアンモニウムエチルサルフェー
ト、テトラデシルメチルエチルアンモニウムメチルサル
フェート、ペンタデシルエチルアンモニウムエチルサル
フェート、ヘキサデシルメチルアンモニウムメチルサル
フェート、ヘキサデシルエチルアンモニウムエチルサル
フェート、デシルジメチルアンモニウムメチルサルフェ
ート、ヘキサデシルジメチルアンモニウムメチルサルフ
ェート、ペンタデシルジメチルアンモニウムメチルサル
フェート、ヘキサデシルメチルエチルアンモニウムエチ
ルサルフェート、ペンタデシルジメチルエチルアンモニ
ウムエチルサルフェート、デシルジメチルアンモニウム
トリデシルサルフェート、テトラデシルジメチルアンモ
ニウムメチルサルフェート、ドデシルジエチルアンモニ
ウムエチルサルフェート、テトラデシルジエチルアンモ
ニウムエチルサルフェート、デシルトリメチルアンモニ
ウムメチルサルフェート、ペンタデシルトリメチルアン
モニウムメチルサルフェート、デシルトリエチルアンモ
ニウムエチルサルフェートがより好ましく用いられる。
【００９３】式（II）の安定剤
【００９４】
【化２５】
【００９５】ここで、Ａ2 は２価の炭化水素基であり、
+Ｘ2 は２〜４級のアンモニウムカチオンまたはホスホ
ニウムカチオンであり、そしてＹ1 の定義は上記に同じ
である。上記式（II）中、Ａ2 の２価の炭化水素基とし
ては２価の飽和脂肪族炭化水素基が好ましい。この飽和
脂肪族炭化水素基としては炭素数１〜２０のものがより
好ましい。
+Ｘ2 は２〜４級のアンモニウムカチオンまたはホスホ
ニウムカチオンであり、そしてＹ1 の定義は上記に同じ
である。上記式（II）中、Ａ2 の２価の炭化水素基とし
ては２価の飽和脂肪族炭化水素基が好ましい。この飽和
脂肪族炭化水素基としては炭素数１〜２０のものがより
好ましい。
【００９６】+Ｘ2 はアンモニウムカチオンもしくはホ
スホニウムカチオンである。アンモニウムカチオンとし
ては、下記式（II）−ａ
スホニウムカチオンである。アンモニウムカチオンとし
ては、下記式（II）−ａ
【００９７】
【化２６】
【００９８】［ここで、Ｒ9 、Ｒ10、およびＲ11は、互
いに独立に水素原子または１価の炭化水素基である。］
で表わされるカチオンが好ましい。
いに独立に水素原子または１価の炭化水素基である。］
で表わされるカチオンが好ましい。
【００９９】Ｒ9 等の１価の炭化水素基としては上記式
（Ｉ）−ａについて例示したものと同じものをここでも
例示できる。
（Ｉ）−ａについて例示したものと同じものをここでも
例示できる。
【０１００】ホスホニウムカチオンとしては、下記式
（II）−ｂ
（II）−ｂ
【０１０１】
【化２７】
【０１０２】［ここで、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14は、互い
に独立に水素原子または１価の炭化水素基である。］で
表わされるカチオンが好ましい。Ｒ12等が表わす１価の
炭化水素基としては、上記式（Ｉ）−ｂについて例示し
たものと同じものを例示できる。
に独立に水素原子または１価の炭化水素基である。］で
表わされるカチオンが好ましい。Ｒ12等が表わす１価の
炭化水素基としては、上記式（Ｉ）−ｂについて例示し
たものと同じものを例示できる。
【０１０３】上記式（II）で表わされる化合物の具体例
としては下記の化合物を例示することができる。
としては下記の化合物を例示することができる。
【０１０４】
【化２８】
【０１０５】式（III ）の安定剤
【０１０６】
【化２９】
【０１０７】ここで、Ａ3 はｎ価の炭化水素基であり、
+Ｘ3 はアンモニウムカチオンもしくはホスホニウムカ
チオンであり、Ｒは１価の炭化水素基でありｎは２〜４
の整数でありそしてＹ1 の定義は上記に同じである。
+Ｘ3 はアンモニウムカチオンもしくはホスホニウムカ
チオンであり、Ｒは１価の炭化水素基でありｎは２〜４
の整数でありそしてＹ1 の定義は上記に同じである。
【０１０８】Ａ3 のｎ価の炭化水素基としては、例えば
ｎ価の飽和脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または
飽和脂肪族―芳香族炭化水素基が好ましい。
ｎ価の飽和脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または
飽和脂肪族―芳香族炭化水素基が好ましい。
【０１０９】また、 +Ｘ3 はアンモニウムカチオンおよ
びホスホニウムカチオンとしてはそれぞれ例えば前記式
（II）−ａおよび（II）−ｂで表わされるものを挙げる
ことができる。
びホスホニウムカチオンとしてはそれぞれ例えば前記式
（II）−ａおよび（II）−ｂで表わされるものを挙げる
ことができる。
【０１１０】Ｒは１価の炭化水素基であり、その例とし
てはアルキル基、アリール基およびアラルキル基が好ま
しい。アルキル基としては炭素数１〜２０のものが好ま
しく、アリール基としては炭素数６〜２０のものが好ま
しく、アラルキル基とは炭素数７〜２０のものが好まし
い。
てはアルキル基、アリール基およびアラルキル基が好ま
しい。アルキル基としては炭素数１〜２０のものが好ま
しく、アリール基としては炭素数６〜２０のものが好ま
しく、アラルキル基とは炭素数７〜２０のものが好まし
い。
【０１１１】ｎは２、３または４であり、Ｙ1 の定義は
前記と同じく、単結合もしくは酸素原子である。
前記と同じく、単結合もしくは酸素原子である。
【０１１２】上記式（III ）で表わされる化合物の具体
例としては下記の化合物を例示することができる。Ｙ1
が単結合であり、 +Ｘ3 が前記式（II）−ａで表わされ
るアンモニウムカチオンであり、そしてｎが２である場
合の化合物として、
例としては下記の化合物を例示することができる。Ｙ1
が単結合であり、 +Ｘ3 が前記式（II）−ａで表わされ
るアンモニウムカチオンであり、そしてｎが２である場
合の化合物として、
【０１１３】
【化３０】
【０１１４】
【化３１】
【０１１５】Ｙ1 が酸素原子であり +Ｘ3 が前記式（I
I）−ａで表わされるアンモニウムカチオンであり、そ
してｎが２である場合の化合物として、
I）−ａで表わされるアンモニウムカチオンであり、そ
してｎが２である場合の化合物として、
【０１１６】
【化３２】
【０１１７】Ｙ1 が単結合であり +Ｘ3 が前記式（II）
−ｂで表わされるホスホニウムカチオンであり、そして
ｎが２である場合の化合物として、
−ｂで表わされるホスホニウムカチオンであり、そして
ｎが２である場合の化合物として、
【０１１８】
【化３３】
【０１１９】Ｙ1 が酸素原子であり +Ｘ3 が前記式（I
I）−ｂで表わされるホスホニウムカチオンであり、そ
してｎが２である場合の化合物として、
I）−ｂで表わされるホスホニウムカチオンであり、そ
してｎが２である場合の化合物として、
【０１２０】
【化３４】
【０１２１】式（IV）の安定剤
【０１２２】
【化３５】
【０１２３】ここで、Ａ5 は１または２価の炭化水素基
であり、Ａ4 は２価の炭化水素基であり、Ａｄ1 および
Ａｄ2 は、同一もしくは異なり―ＳＯ2 ―Ｏ―ＳＯ
2 ―、―ＳＯ2 ―Ｏ―ＣＯ―または―ＣＯ―Ｏ―ＳＯ2
―から選ばれる酸無水物基であり、ｋは０または１であ
る。但し、ｋが０のとき、―（Ａｄ2 ―Ａ5 ）k は水素
原子を表わすかあるいはＡ4 とＡ5 とを結合する結合手
を表わす（この場合、Ａ5は２価の炭化水素基又は単結
合である）。
であり、Ａ4 は２価の炭化水素基であり、Ａｄ1 および
Ａｄ2 は、同一もしくは異なり―ＳＯ2 ―Ｏ―ＳＯ
2 ―、―ＳＯ2 ―Ｏ―ＣＯ―または―ＣＯ―Ｏ―ＳＯ2
―から選ばれる酸無水物基であり、ｋは０または１であ
る。但し、ｋが０のとき、―（Ａｄ2 ―Ａ5 ）k は水素
原子を表わすかあるいはＡ4 とＡ5 とを結合する結合手
を表わす（この場合、Ａ5は２価の炭化水素基又は単結
合である）。
【０１２４】上記式（IV）で表わされる化合物は、ｋの
定義に従って、便宜的に、下記式（IV）−１
定義に従って、便宜的に、下記式（IV）−１
【０１２５】
【化３６】 Ａ5 ―Ａｄ1 ―Ａ4 ―Ａｄ2 ―Ａ5 …（IV）−１ ［ここで、Ａ4 、Ａｄ1 およびＡｄ2 の定義は上記式
（IV）に同じであり、そしてＡ5 は１価の炭化水素基で
ある。］で表わされる化合物、下記式（IV）−２
（IV）に同じであり、そしてＡ5 は１価の炭化水素基で
ある。］で表わされる化合物、下記式（IV）−２
【０１２６】
【化３７】Ａ5 ―Ａｄ1 ―Ａ4 ―Ｈ …（IV）−２ ［ここで、Ａｄ1 、Ａ4 の定義は上記式（IV）に同じで
あり、そしてＡ5 は１価の炭化水素基である。］で表わ
される化合物および下記式（IV）−３
あり、そしてＡ5 は１価の炭化水素基である。］で表わ
される化合物および下記式（IV）−３
【０１２７】
【化３８】
【０１２８】［ここでＡｄ1 、Ａ4 の定義は上記式（I
V）に同じでありそしてＡ5 は２価の炭化水素基又は単
結合である。］で表わされる化合物に分けて表示でき
る。
V）に同じでありそしてＡ5 は２価の炭化水素基又は単
結合である。］で表わされる化合物に分けて表示でき
る。
【０１２９】上記式（IV）、（IV）−１および（IV）−
２において、Ａ5 が表わす１価の炭化水素基としては、
例えばアルキル基、アリール基またはアラルキル基を好
ましいものとして挙げることができる。アルキル基とし
ては炭素数１〜２０のものが好ましく、アリール基とし
ては炭素数６〜２０のものが好ましく、またアラルキル
基としては炭素数７〜２０のものが好ましい。
２において、Ａ5 が表わす１価の炭化水素基としては、
例えばアルキル基、アリール基またはアラルキル基を好
ましいものとして挙げることができる。アルキル基とし
ては炭素数１〜２０のものが好ましく、アリール基とし
ては炭素数６〜２０のものが好ましく、またアラルキル
基としては炭素数７〜２０のものが好ましい。
【０１３０】また、上記式（IV）および（IV）−３にお
いて、Ａ5 が表わす２価の炭化水素基としては、例えば
アルキレン基、アリーレン基およびアラルキレン基を挙
げることができる。アルキレン基は炭素数１〜２０のも
のが好ましく、アリーレン基は炭素数６〜２０のものが
好ましく、またアラルキル基としては炭素数７〜２０の
ものが好ましい。
いて、Ａ5 が表わす２価の炭化水素基としては、例えば
アルキレン基、アリーレン基およびアラルキレン基を挙
げることができる。アルキレン基は炭素数１〜２０のも
のが好ましく、アリーレン基は炭素数６〜２０のものが
好ましく、またアラルキル基としては炭素数７〜２０の
ものが好ましい。
【０１３１】Ａ4 は２価の炭化水素基であり、その例と
してはＡ5 の２価の炭化水素基と同じものを挙げること
ができる。
してはＡ5 の２価の炭化水素基と同じものを挙げること
ができる。
【０１３２】Ａｄ1 およびＡｄ2 は、同一もしくは異な
り、―ＳＯ2 ―Ｏ―ＳＯ2 ―、―ＳＯ2 ―Ｏ―ＣＯ―も
しくは―ＣＯ―Ｏ―ＳＯ2 ―のいずれかの酸無水物基で
ある。これらの酸無水物基は、スルホン酸とスルホン酸
の間の無水物基（―ＳＯ2 ―Ｏ―ＳＯ2 ―）であるかあ
るいはスルホン酸とカルボン酸の間の無水物基（―ＳＯ
2 ―Ｏ―ＣＯ―又は―ＣＯ―Ｏ―ＳＯ2 ―）である。
り、―ＳＯ2 ―Ｏ―ＳＯ2 ―、―ＳＯ2 ―Ｏ―ＣＯ―も
しくは―ＣＯ―Ｏ―ＳＯ2 ―のいずれかの酸無水物基で
ある。これらの酸無水物基は、スルホン酸とスルホン酸
の間の無水物基（―ＳＯ2 ―Ｏ―ＳＯ2 ―）であるかあ
るいはスルホン酸とカルボン酸の間の無水物基（―ＳＯ
2 ―Ｏ―ＣＯ―又は―ＣＯ―Ｏ―ＳＯ2 ―）である。
【０１３３】かかるスルホン酸化合物は、一価もしくは
二価のスルホン酸化合物であり、具体的には、メチルス
ルホン酸、エチルスルホン酸、プロピルスルホン酸、ブ
チルスルホン酸、ヘキシルスルホン酸、デシルスルホン
酸、ヘキサデシルスルホン酸、フェニルスルホン酸、ｐ
―トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
オクタデシルベンゼンスルホン酸、ベンゼンジスルホン
酸、トルエンジスルホン酸などが用いられる。
二価のスルホン酸化合物であり、具体的には、メチルス
ルホン酸、エチルスルホン酸、プロピルスルホン酸、ブ
チルスルホン酸、ヘキシルスルホン酸、デシルスルホン
酸、ヘキサデシルスルホン酸、フェニルスルホン酸、ｐ
―トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
オクタデシルベンゼンスルホン酸、ベンゼンジスルホン
酸、トルエンジスルホン酸などが用いられる。
【０１３４】同様に、カルボン酸化合物は一価もしくは
二価のカルボン酸化合物であり、具体的には、酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸、吉草酸、ステアリン酸、ミリスチン
酸、オレイン酸、安息香酸、フェニル酢酸、トルイル
酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、フタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸などが用いられる。
二価のカルボン酸化合物であり、具体的には、酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸、吉草酸、ステアリン酸、ミリスチン
酸、オレイン酸、安息香酸、フェニル酢酸、トルイル
酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、フタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸などが用いられる。
【０１３５】上記式（IV）で表わされる化合物の具体例
としては下記の化合物を挙げることができる。
としては下記の化合物を挙げることができる。
【０１３６】式（IV）−１で表わされる化合物として
【０１３７】
【化３９】
【０１３８】
【化４０】
【０１３９】式（IV）−２で表わされる化合物として
【０１４０】
【化４１】
【０１４１】
【化４２】
【０１４２】
【化４３】
【０１４３】式（IV）−３で表わされる化合物として
【０１４４】
【化４４】
【０１４５】上記式（Ｉ）〜（IV）の安定剤の中でホス
ホニウムもしくはアンモニウム塩型の安定剤はそれ自身
２００℃以上でも特に安定である。そしてその安定剤を
ポリマーに添加した場合すみやかに触媒を無毒化し、目
的とするポリマーを得ることができる。
ホニウムもしくはアンモニウム塩型の安定剤はそれ自身
２００℃以上でも特に安定である。そしてその安定剤を
ポリマーに添加した場合すみやかに触媒を無毒化し、目
的とするポリマーを得ることができる。
【０１４６】本発明方法では、上記式（Ｉ）〜（IV）で
表わされる化合物よりなる群から選ばれる少くとも１種
の安定剤を、生成するポリカーボネートに対し０．０１
〜５００ｐｐｍの割合で、好ましくは０．０１〜３００
ｐｐｍより好ましくは０．０１〜１００ｐｐｍの割合で
使用する。
表わされる化合物よりなる群から選ばれる少くとも１種
の安定剤を、生成するポリカーボネートに対し０．０１
〜５００ｐｐｍの割合で、好ましくは０．０１〜３００
ｐｐｍより好ましくは０．０１〜１００ｐｐｍの割合で
使用する。
【０１４７】また、かかる安定剤は、重合触媒に対する
割合では、重縮合触媒１モル当り０．５〜５０モルの割
合で用いるのが好ましい。
割合では、重縮合触媒１モル当り０．５〜５０モルの割
合で用いるのが好ましい。
【０１４８】安定剤は重縮合生成物の固有粘度が少くと
も０．１に達した後、例えば少くとも０．２に達したの
ちに添加される。安定剤の添加により、重縮合触媒が無
毒化され、所望の固有粘度を持つポリカーボネートが得
られる。生成するポリカーボネートの所望の固有粘度が
０．３〜１．０の範囲にある場合には、例えば重縮合生
成物の固有粘度が少くとも０．３に達した後に添加する
のが望ましい。
も０．１に達した後、例えば少くとも０．２に達したの
ちに添加される。安定剤の添加により、重縮合触媒が無
毒化され、所望の固有粘度を持つポリカーボネートが得
られる。生成するポリカーボネートの所望の固有粘度が
０．３〜１．０の範囲にある場合には、例えば重縮合生
成物の固有粘度が少くとも０．３に達した後に添加する
のが望ましい。
【０１４９】安定剤を重縮合生成物に添加する方法には
特に限定されない。例えば、反応生成物であるポリカー
ボネートが溶融状態にある間にこれらを添加してもよい
し、一旦ポリカーボネートをペレタイズした後再溶融し
て添加してもよい。前者においては、重縮合反応が終了
して得られる溶融状態にある反応器内または押出機内の
反応生成物であるポリカーボネートが溶融状態にある間
に、これらを添加してポリカーボネートを形成した後、
押出機を通してペレタイズしてもよいし、また、重縮合
反応で得られたポリカーボネートが反応器から押出機を
通ってペレタイズされる間に、安定剤を添加して混練す
ることによってポリカーボネートを得るとができる。
特に限定されない。例えば、反応生成物であるポリカー
ボネートが溶融状態にある間にこれらを添加してもよい
し、一旦ポリカーボネートをペレタイズした後再溶融し
て添加してもよい。前者においては、重縮合反応が終了
して得られる溶融状態にある反応器内または押出機内の
反応生成物であるポリカーボネートが溶融状態にある間
に、これらを添加してポリカーボネートを形成した後、
押出機を通してペレタイズしてもよいし、また、重縮合
反応で得られたポリカーボネートが反応器から押出機を
通ってペレタイズされる間に、安定剤を添加して混練す
ることによってポリカーボネートを得るとができる。
【０１５０】本発明に係るポリカーボネートの製造方法
では、上記安定剤とともにエポキシ化合物を添加するこ
とも好ましく実施しうる。このようなエポキシ化合物と
して、１分子中にエポキシ基を１個以上有する化合物が
用いられる。
では、上記安定剤とともにエポキシ化合物を添加するこ
とも好ましく実施しうる。このようなエポキシ化合物と
して、１分子中にエポキシ基を１個以上有する化合物が
用いられる。
【０１５１】具体的には、エポキシ化大豆油、エポキシ
化アマニ油、フェニルグリシジルエーテル、アクルグリ
シジルエーテル、ｔ―ブチルフェニルグリシジルエーテ
ル、３，４―エポキシシクロヘキシルメチル―３，４′
―エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、３，４―
エポキシ―６―メチルシクロヘキシルメチル―３′，
４′―エポキシ―６′―メチルシクロヘキシルカルボキ
シレート、２，３―エポキシシクロヘキシルメチル―
３′，４′―エポキシシクロヘキシルカルボキシレー
ト、４―（３，４―エポキシ―５―メチルシクロヘキシ
ル）ブチル―３′，４′―エポキシシクロヘキシルカル
ボキシレート、３，４―エポキシシクロヘキシルエチレ
ンオキシド、シクロヘキシルメチル―３，４―エポキシ
シクロヘキシルカルボキシレート、３，４―エポキシ―
６―メチルシクロヘキシルメチル―６′―メチルシクロ
ヘキシルカルボキシレート、ビスフェノールＡジグリシ
ジルエーテル、テトラブロモビスフェノールＡグリシジ
ルエーテル、フタル酸のジグリシジルエステル、ヘキサ
ヒドロフタル酸のジグリシジルエステル、ビス―エポキ
シジシクロペンタジエニルエーテル、ビス―エポキシエ
チレングリコール、ビス―エポキシシクロヘキシルアジ
ペート、ブタジエンジエポキシド、テトラフェニルエチ
レネポキシド、オクチルエポキシタレート、エポキシ化
ポリブタジエン、３，４―ジメチル―１，２―エポキシ
シクロヘキサン、３，５―ジメチル―１，２―エポキシ
シクロヘキサン、３―メチル―５―ｔ―ブチル―１，２
―エポキシシクロヘキサン、オクタデシル―２，２―ジ
メチル―３，４―エポキシシクロヘキシルカルボキシレ
ート、Ｎ―ブチル―２，２―ジメチル―３，４―エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレート、シクロヘキシル―
２―メチル―３，４―エポキシシクロヘキシルカルボキ
シレート、Ｎ―ブチル―２―イソプロピル―３，４―エ
ポキシ―５―メチルシクロヘキシルカルボキシレート、
オクタデシル―３，４―エポキシシクロヘキシルカルボ
キシレート、２―エチルヘキシル―３′，４′―エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレート、４，６―ジメチル
―２，３―エポキシシクロヘキシル―３′，４′―エポ
キシシクロヘキシルカルボキシレート、４，５―エポキ
シ無水テトラヒドロフタル酸、３―ｔ―ブチル―４，５
―エポキシ無水テトラヒドロフタル酸、ジエチル―４，
５―エポキシ―シス―１，２―シクロヘキシルジカルボ
キシレート、ジ―ｎ―ブチル―３―ｔ―ブチル―４，５
―エポキシ―シス―１，２―シクロヘキシルジカルボキ
シレートなどを挙げることができる。
化アマニ油、フェニルグリシジルエーテル、アクルグリ
シジルエーテル、ｔ―ブチルフェニルグリシジルエーテ
ル、３，４―エポキシシクロヘキシルメチル―３，４′
―エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、３，４―
エポキシ―６―メチルシクロヘキシルメチル―３′，
４′―エポキシ―６′―メチルシクロヘキシルカルボキ
シレート、２，３―エポキシシクロヘキシルメチル―
３′，４′―エポキシシクロヘキシルカルボキシレー
ト、４―（３，４―エポキシ―５―メチルシクロヘキシ
ル）ブチル―３′，４′―エポキシシクロヘキシルカル
ボキシレート、３，４―エポキシシクロヘキシルエチレ
ンオキシド、シクロヘキシルメチル―３，４―エポキシ
シクロヘキシルカルボキシレート、３，４―エポキシ―
６―メチルシクロヘキシルメチル―６′―メチルシクロ
ヘキシルカルボキシレート、ビスフェノールＡジグリシ
ジルエーテル、テトラブロモビスフェノールＡグリシジ
ルエーテル、フタル酸のジグリシジルエステル、ヘキサ
ヒドロフタル酸のジグリシジルエステル、ビス―エポキ
シジシクロペンタジエニルエーテル、ビス―エポキシエ
チレングリコール、ビス―エポキシシクロヘキシルアジ
ペート、ブタジエンジエポキシド、テトラフェニルエチ
レネポキシド、オクチルエポキシタレート、エポキシ化
ポリブタジエン、３，４―ジメチル―１，２―エポキシ
シクロヘキサン、３，５―ジメチル―１，２―エポキシ
シクロヘキサン、３―メチル―５―ｔ―ブチル―１，２
―エポキシシクロヘキサン、オクタデシル―２，２―ジ
メチル―３，４―エポキシシクロヘキシルカルボキシレ
ート、Ｎ―ブチル―２，２―ジメチル―３，４―エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレート、シクロヘキシル―
２―メチル―３，４―エポキシシクロヘキシルカルボキ
シレート、Ｎ―ブチル―２―イソプロピル―３，４―エ
ポキシ―５―メチルシクロヘキシルカルボキシレート、
オクタデシル―３，４―エポキシシクロヘキシルカルボ
キシレート、２―エチルヘキシル―３′，４′―エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレート、４，６―ジメチル
―２，３―エポキシシクロヘキシル―３′，４′―エポ
キシシクロヘキシルカルボキシレート、４，５―エポキ
シ無水テトラヒドロフタル酸、３―ｔ―ブチル―４，５
―エポキシ無水テトラヒドロフタル酸、ジエチル―４，
５―エポキシ―シス―１，２―シクロヘキシルジカルボ
キシレート、ジ―ｎ―ブチル―３―ｔ―ブチル―４，５
―エポキシ―シス―１，２―シクロヘキシルジカルボキ
シレートなどを挙げることができる。
【０１５２】これらは単独で用いても２種以上混合して
用いてもよい。これらのうち、脂環族エポキシ化合物が
好ましく用いられ、特に３，４―エポキシシクロヘキシ
ルメチル―３′，４′―エポキシシクロヘキシルカルボ
キシレートが好ましく用いられる。
用いてもよい。これらのうち、脂環族エポキシ化合物が
好ましく用いられ、特に３，４―エポキシシクロヘキシ
ルメチル―３′，４′―エポキシシクロヘキシルカルボ
キシレートが好ましく用いられる。
【０１５３】本発明では、このようなエポキシ化合物
を、ポリカーボネートに対して、１〜２０００ｐｐｍの
量で、好ましくは１〜１０００ｐｐｍの量で添加するこ
とが好ましい。
を、ポリカーボネートに対して、１〜２０００ｐｐｍの
量で、好ましくは１〜１０００ｐｐｍの量で添加するこ
とが好ましい。
【０１５４】このようにエポキシ化合物を上記量で添加
すると、ポリカーボネート中に上記安定剤が過剰に残存
しても、これがエポキシ化合物と反応して無毒化され、
最終的に色相安定性に優れ、耐熱特性に優れるととも
に、特に耐水性が向上されたポリカーボネートが得られ
るようになる。
すると、ポリカーボネート中に上記安定剤が過剰に残存
しても、これがエポキシ化合物と反応して無毒化され、
最終的に色相安定性に優れ、耐熱特性に優れるととも
に、特に耐水性が向上されたポリカーボネートが得られ
るようになる。
【０１５５】本発明に係るポリカーボネートの製造方法
では、上記安定剤とともにリン化合物を添加してもよ
い。このようなリン化合物としては、リン酸、亜リン
酸、次亜リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸、リン酸エス
テルおよび亜リン酸エステルを用いることができる。
では、上記安定剤とともにリン化合物を添加してもよ
い。このようなリン化合物としては、リン酸、亜リン
酸、次亜リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸、リン酸エス
テルおよび亜リン酸エステルを用いることができる。
【０１５６】このようなリン酸エステルとしては、具体
的に、例えば、トリメチルホスフェート、トリエチルホ
スフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホ
スフェート、トリデシルホスフェート、トリオクタデシ
ルホスフェート、ジステアリルペンタエリスリチルジホ
スフェート、トシル（２―クロロエチル）ホスフェー
ト、トリス（２，３―ジクロロプロピル）ホスフェート
などのトリアルキルホスフェート、トリシクロヘキシル
ホスフェートなどのトリシクロアルキルホスフェート、
トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェー
ト、トリス（ノニルフェニル）ホスフェート、２―エチ
ルフェニルジフェニルホスフェートなどのトリアリール
ホスフェートなどを挙げることができる。
的に、例えば、トリメチルホスフェート、トリエチルホ
スフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホ
スフェート、トリデシルホスフェート、トリオクタデシ
ルホスフェート、ジステアリルペンタエリスリチルジホ
スフェート、トシル（２―クロロエチル）ホスフェー
ト、トリス（２，３―ジクロロプロピル）ホスフェート
などのトリアルキルホスフェート、トリシクロヘキシル
ホスフェートなどのトリシクロアルキルホスフェート、
トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェー
ト、トリス（ノニルフェニル）ホスフェート、２―エチ
ルフェニルジフェニルホスフェートなどのトリアリール
ホスフェートなどを挙げることができる。
【０１５７】また、亜リン酸エステルとしては、下記一
般式で表わされる化合物を挙げることができる。
般式で表わされる化合物を挙げることができる。
【０１５８】
【化４５】Ｐ（ＯＲ）3 （式中、Ｒは脂環族炭化水素基、脂肪族炭化水素基また
は芳香族炭化水素基を表わす。これらは同一であっても
異なっていてもよい。） このような式で表わされる化合物として、例えば、トリ
メチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリブ
チルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリス
（２―エチルヘキシル）ホスファイト、トリノニルホス
ファイト、トリデシルホスファイト、トリオクタデシル
ホスファイト、トリステアリルホスファイト、トリス
（２―クロロエチル）ホスファイト、トリス（２，３―
ジクロロプロピル）ホスファイトなどのトリアルキルホ
スファイト、トリシクロヘキシルホスファイトなどのト
リシクロアルキルホスファイト、トリフェニルホスファ
イト、トリクレジルホスファイト、トリス（エチルフェ
ニル）ホスファイト、トリス（２，４―ジ―ｔ―ブチル
フェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホ
スファイト、トリス（ヒドロキシフェニル）ホスファイ
トなどのトリアリールホスファイト、フェニルジデシル
ホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、ジフェ
ニルイソオクチルホスファイト、フェニルイソオクチル
ホスファイト、２―エチルヘキシルジフェニルホスファ
イトなどのアリールアルキルホスファイトなどを挙げる
ことができる。
は芳香族炭化水素基を表わす。これらは同一であっても
異なっていてもよい。） このような式で表わされる化合物として、例えば、トリ
メチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリブ
チルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリス
（２―エチルヘキシル）ホスファイト、トリノニルホス
ファイト、トリデシルホスファイト、トリオクタデシル
ホスファイト、トリステアリルホスファイト、トリス
（２―クロロエチル）ホスファイト、トリス（２，３―
ジクロロプロピル）ホスファイトなどのトリアルキルホ
スファイト、トリシクロヘキシルホスファイトなどのト
リシクロアルキルホスファイト、トリフェニルホスファ
イト、トリクレジルホスファイト、トリス（エチルフェ
ニル）ホスファイト、トリス（２，４―ジ―ｔ―ブチル
フェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホ
スファイト、トリス（ヒドロキシフェニル）ホスファイ
トなどのトリアリールホスファイト、フェニルジデシル
ホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、ジフェ
ニルイソオクチルホスファイト、フェニルイソオクチル
ホスファイト、２―エチルヘキシルジフェニルホスファ
イトなどのアリールアルキルホスファイトなどを挙げる
ことができる。
【０１５９】さらに亜リン酸エステルとして、ジステア
リルペンタエリスリチルジホスファイト、ビス（２，４
―ジ―ｔ―ブチルフェニル）ペンタエリスリチルジホス
ファイトなどである。この中で、特にトリス（２，４―
ジ―ｔ―ブチルフェニル）ホスファイトが好ましく用い
られる。
リルペンタエリスリチルジホスファイト、ビス（２，４
―ジ―ｔ―ブチルフェニル）ペンタエリスリチルジホス
ファイトなどである。この中で、特にトリス（２，４―
ジ―ｔ―ブチルフェニル）ホスファイトが好ましく用い
られる。
【０１６０】これらの化合物は、単独で、あるいは組合
せて用いることができる。これらは別々に添加してもよ
いし、あるいは同時に添加してもよい。本発明では、上
記の如きリン化合物を、ポリカーボネート樹脂に対して
１０〜１０００ｐｐｍ、好ましくは５０〜５００ｐｐｍ
の量で添加することができる。
せて用いることができる。これらは別々に添加してもよ
いし、あるいは同時に添加してもよい。本発明では、上
記の如きリン化合物を、ポリカーボネート樹脂に対して
１０〜１０００ｐｐｍ、好ましくは５０〜５００ｐｐｍ
の量で添加することができる。
【０１６１】本発明では、上記のようなエポキシ化合物
およびリン化合物を、反応生成物であるポリカーボネー
トに添加する方法は特に限定されない。例えば、反応生
成物であるポリカーボネートが溶融状態にある間にこれ
らを添加してもよいし、一旦ポリカーボネートをペレタ
イズした後再溶融して添加してもよい。前者において
は、重合反応が終了して得られる溶融状態にある反応器
内に、または押出機内の反応生成物であるポリカーボネ
ートが溶融状態にある間に、これらを添加してポリカー
ボネートを形成した後、押出機を通してペレタイズして
もよいし、また、重合反応で得られたポリカーボネート
が反応器から押出機を通ってペレタイズされる間に、こ
れらの化合物を添加して、混練することによってポリカ
ーボネートを得ることができる。
およびリン化合物を、反応生成物であるポリカーボネー
トに添加する方法は特に限定されない。例えば、反応生
成物であるポリカーボネートが溶融状態にある間にこれ
らを添加してもよいし、一旦ポリカーボネートをペレタ
イズした後再溶融して添加してもよい。前者において
は、重合反応が終了して得られる溶融状態にある反応器
内に、または押出機内の反応生成物であるポリカーボネ
ートが溶融状態にある間に、これらを添加してポリカー
ボネートを形成した後、押出機を通してペレタイズして
もよいし、また、重合反応で得られたポリカーボネート
が反応器から押出機を通ってペレタイズされる間に、こ
れらの化合物を添加して、混練することによってポリカ
ーボネートを得ることができる。
【０１６２】この際、これらの各化合物は同時に添加し
てもよいし、別々に添加してもよい。また、これらの各
化合物を組み合わせて添加する場合、これらの添加順序
は問わない。
てもよいし、別々に添加してもよい。また、これらの各
化合物を組み合わせて添加する場合、これらの添加順序
は問わない。
【０１６３】本発明では、上記のようにして得られるポ
リカーボネートに、本発明の目的を損なわない範囲で、
耐熱安定剤、紫外線吸収剤、離型剤、着色剤、帯電防止
剤、スリップ剤、アンチロッキング剤、滑剤、防曇剤、
天然油、合成油、ワックス、有機系充填剤、無機系充填
剤などを添加してもよい。このような添加剤は、芳香族
ジヒドロキシ化合物と同時に添加してもよいし、別々に
添加してもよい。
リカーボネートに、本発明の目的を損なわない範囲で、
耐熱安定剤、紫外線吸収剤、離型剤、着色剤、帯電防止
剤、スリップ剤、アンチロッキング剤、滑剤、防曇剤、
天然油、合成油、ワックス、有機系充填剤、無機系充填
剤などを添加してもよい。このような添加剤は、芳香族
ジヒドロキシ化合物と同時に添加してもよいし、別々に
添加してもよい。
【０１６４】このような耐熱安定剤としては、具体的に
は、例えば、フェノール系安定剤、有機チオエーテル系
安定剤、ヒンダードアミン系安定剤などを挙げることが
できる。
は、例えば、フェノール系安定剤、有機チオエーテル系
安定剤、ヒンダードアミン系安定剤などを挙げることが
できる。
【０１６５】フェノール系安定剤としては、例えば、ｎ
―オクタデシル―３―（４―ヒドロキシ―３′，５′―
ジ―ｔ―ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス
［メチレン―３―（３′，５′―ジ―ｔ―ブチル―４―
ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、１，
１，３―トリス（２―メチル―４―ヒドロキシ―５―ｔ
―ブチルフェニル）ブタン、ジステアリル（４―ヒドロ
キシ―３―メチル―５―ｔ―ブチル）ベンジルマロネー
ト、４―ヒドロキシメチル―２，６―ジ―ｔ―ブチルフ
ェノール等が挙げられ、これらを単独で用いても２種以
上混合して用いてもよい。
―オクタデシル―３―（４―ヒドロキシ―３′，５′―
ジ―ｔ―ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス
［メチレン―３―（３′，５′―ジ―ｔ―ブチル―４―
ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、１，
１，３―トリス（２―メチル―４―ヒドロキシ―５―ｔ
―ブチルフェニル）ブタン、ジステアリル（４―ヒドロ
キシ―３―メチル―５―ｔ―ブチル）ベンジルマロネー
ト、４―ヒドロキシメチル―２，６―ジ―ｔ―ブチルフ
ェノール等が挙げられ、これらを単独で用いても２種以
上混合して用いてもよい。
【０１６６】チオエーテル系安定剤としては、例えば、
ジラウリル・チオジプロピオネート、ジステアリル・チ
オジプロピオネート、ジミリスチル―３，３′―チオジ
プロピオネート、ジトリデシル―３，３′―チオジプロ
ピオネート、ペンタエリスリトール―テトラキス―（β
―ラウリル―チオプロピオネート）などを挙げることが
できる。
ジラウリル・チオジプロピオネート、ジステアリル・チ
オジプロピオネート、ジミリスチル―３，３′―チオジ
プロピオネート、ジトリデシル―３，３′―チオジプロ
ピオネート、ペンタエリスリトール―テトラキス―（β
―ラウリル―チオプロピオネート）などを挙げることが
できる。
【０１６７】これらは単独で用いても２種以上混合して
用いてもよい。またヒンダードアミン系安定剤として
は、例えば、ビス（２，２，６，６―テトラメチル―４
―ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６
―ペンタメチル―４―ピペリジル）セバケート、１―
［２―｛３―（３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―ヒドロキ
シフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］―４―｛３
―（３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシ｝―２，２，６，６―テトラメ
チルピペリジン、８―ベンジル―７，７，９，９―テト
ラメチル―３―オクチル―１，２，３―トリアザスピロ
［４，５］ウンデカン―２，４―ジオン、４―ベンゾイ
ルオキシ―２，２，６，６―テトラメチルピペリジン、
２―（３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―ヒドロキシベンジ
ル）―２―ｎ―ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，
６―ペンタメチル―４―ピペリジル）、テトラキス
（２，２，６，６―テトラメチル―４―ピペリジル）
１，２，３，４―ブタンテトラカルボキシレートなどを
挙げることができる。
用いてもよい。またヒンダードアミン系安定剤として
は、例えば、ビス（２，２，６，６―テトラメチル―４
―ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６
―ペンタメチル―４―ピペリジル）セバケート、１―
［２―｛３―（３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―ヒドロキ
シフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］―４―｛３
―（３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシ｝―２，２，６，６―テトラメ
チルピペリジン、８―ベンジル―７，７，９，９―テト
ラメチル―３―オクチル―１，２，３―トリアザスピロ
［４，５］ウンデカン―２，４―ジオン、４―ベンゾイ
ルオキシ―２，２，６，６―テトラメチルピペリジン、
２―（３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―ヒドロキシベンジ
ル）―２―ｎ―ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，
６―ペンタメチル―４―ピペリジル）、テトラキス
（２，２，６，６―テトラメチル―４―ピペリジル）
１，２，３，４―ブタンテトラカルボキシレートなどを
挙げることができる。
【０１６８】これらは単独で用いても２種以上混合して
用いてもよい。これらの耐熱安定剤は、ポリカーボネー
ト１００重量部に対して０．００１〜５重量部、好まし
くは０．００５〜０．５重量部、さらに好ましくは０．
０１〜０．３重量部の量で用いられることが望ましい。
用いてもよい。これらの耐熱安定剤は、ポリカーボネー
ト１００重量部に対して０．００１〜５重量部、好まし
くは０．００５〜０．５重量部、さらに好ましくは０．
０１〜０．３重量部の量で用いられることが望ましい。
【０１６９】このような耐熱安定剤は、固体状で添加し
てもよく、液体状で添加してもよい。このような耐熱安
定剤は、ポリカーボネートが最終重合器から冷却されて
ペレタイズされる間の溶融状態にある間に添加すること
が好ましく、このようにするとポリカーボネートが受け
る熱履歴回数が少ない。また、押出成形やペレタイズな
ど再び加熱処理する際には、ポリカーボネートは耐熱安
定剤を含有しているので、熱分解を抑制することができ
る。
てもよく、液体状で添加してもよい。このような耐熱安
定剤は、ポリカーボネートが最終重合器から冷却されて
ペレタイズされる間の溶融状態にある間に添加すること
が好ましく、このようにするとポリカーボネートが受け
る熱履歴回数が少ない。また、押出成形やペレタイズな
ど再び加熱処理する際には、ポリカーボネートは耐熱安
定剤を含有しているので、熱分解を抑制することができ
る。
【０１７０】また紫外線吸収剤としては、一般的な紫外
線吸収剤でよく、特に限定されないが、例えば、サリチ
ル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレー
ト系紫外線吸収剤などを挙げることができる。
線吸収剤でよく、特に限定されないが、例えば、サリチ
ル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレー
ト系紫外線吸収剤などを挙げることができる。
【０１７１】サリチル酸系紫外線吸収剤としては、具体
的には、フェニルサリシレート、ｐ―ｔ―ブチルフェニ
ルサリシレートが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線
吸収剤としては、２，４―ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２―ヒドロキシ―４―メトキシベンゾフェノン、
２，２′―ジヒドロキシ―４―メトキシベンゾフェノ
ン、２，２′―ジヒドロキシ―４，４′―ジメトキシベ
ンゾフェノン、２―ヒドロキシ―４―メトキシ―２′―
カルボキシベンゾフェノン、２―ヒドロキシ―４―メト
キシ―５―スルホベンゾフェノントリヒドレート、２―
ヒドロキシ―４―ｎ―オクトキシベンゾフェノン、２，
２′，４，４′―テトラヒドロキシベンゾフェノン、４
―ドデシロキシ―２―ヒドロキシベンゾフェノン、ビス
（５―ベンゾイル―４―ヒドロキシ―２―メトキシフェ
ニル）メタン、２―ヒドロキシ―４―メトキシベンゾフ
ェノン―５―スルホン酸などが挙げられる。
的には、フェニルサリシレート、ｐ―ｔ―ブチルフェニ
ルサリシレートが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線
吸収剤としては、２，４―ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２―ヒドロキシ―４―メトキシベンゾフェノン、
２，２′―ジヒドロキシ―４―メトキシベンゾフェノ
ン、２，２′―ジヒドロキシ―４，４′―ジメトキシベ
ンゾフェノン、２―ヒドロキシ―４―メトキシ―２′―
カルボキシベンゾフェノン、２―ヒドロキシ―４―メト
キシ―５―スルホベンゾフェノントリヒドレート、２―
ヒドロキシ―４―ｎ―オクトキシベンゾフェノン、２，
２′，４，４′―テトラヒドロキシベンゾフェノン、４
―ドデシロキシ―２―ヒドロキシベンゾフェノン、ビス
（５―ベンゾイル―４―ヒドロキシ―２―メトキシフェ
ニル）メタン、２―ヒドロキシ―４―メトキシベンゾフ
ェノン―５―スルホン酸などが挙げられる。
【０１７２】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は、２―（２′―ヒドロキシ―５′―メチルフェニル）
ベンゾトリアゾール、２―（２′―ヒドロキシ―３′，
５′―ジ―ｔ―ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２―（２′―ヒドロキシ―３′―ｔ―ブチル―５′―メ
チルフェニル）―５―クロロベンゾトリアゾール、２―
（２′―ヒドロキシ―３′，５′―ジ―ｔ―ブチルフェ
ニル）―５―クロロベンゾトリアゾール、２―（２′―
ヒドロキシ―５′―ｔ―オクチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２―（２′―ヒドロキシ―３′，５′―ジ―
ｔ―アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２―［２′
―ヒドロキシ―３′―（３″，４″，５″，６″―テト
ラヒドロフタルイミドメチル）―５′―メチルフェニ
ル］ベンゾトリアゾール、２，２′―メチレンビス［４
―（１，１，３，３―テトラメチルブチル）―６―（２
Ｈ―ベンゾトリアゾール―２―イル）フェノール］など
を挙げることができる。
は、２―（２′―ヒドロキシ―５′―メチルフェニル）
ベンゾトリアゾール、２―（２′―ヒドロキシ―３′，
５′―ジ―ｔ―ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２―（２′―ヒドロキシ―３′―ｔ―ブチル―５′―メ
チルフェニル）―５―クロロベンゾトリアゾール、２―
（２′―ヒドロキシ―３′，５′―ジ―ｔ―ブチルフェ
ニル）―５―クロロベンゾトリアゾール、２―（２′―
ヒドロキシ―５′―ｔ―オクチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２―（２′―ヒドロキシ―３′，５′―ジ―
ｔ―アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２―［２′
―ヒドロキシ―３′―（３″，４″，５″，６″―テト
ラヒドロフタルイミドメチル）―５′―メチルフェニ
ル］ベンゾトリアゾール、２，２′―メチレンビス［４
―（１，１，３，３―テトラメチルブチル）―６―（２
Ｈ―ベンゾトリアゾール―２―イル）フェノール］など
を挙げることができる。
【０１７３】シアノアクリレート系紫外線吸収剤として
は、２―エチルヘキシル―２―シアノ―３，３―ジフェ
ニルアクリレート、エチル―２―シアノ―３，３―ジフ
ェニルアクリレートなどを挙げることができる。これら
を単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。
は、２―エチルヘキシル―２―シアノ―３，３―ジフェ
ニルアクリレート、エチル―２―シアノ―３，３―ジフ
ェニルアクリレートなどを挙げることができる。これら
を単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。
【０１７４】これらの紫外線吸収剤は、ポリカーボネー
ト１００重量部に対して、通常０．００１〜５重量部、
好ましくは０．００５〜１．０重量部、さらに好ましく
は０．０１〜０．５重量部の量で用いることができる。
ト１００重量部に対して、通常０．００１〜５重量部、
好ましくは０．００５〜１．０重量部、さらに好ましく
は０．０１〜０．５重量部の量で用いることができる。
【０１７５】さらに、離型剤としては、一般的な離型剤
でよく、特に限定されない。例えば、炭化水素系離型剤
としては、天然、合成パラフィン類、ポリエチレンワッ
クス類、フルオロカーボン類などを挙げることができ
る。
でよく、特に限定されない。例えば、炭化水素系離型剤
としては、天然、合成パラフィン類、ポリエチレンワッ
クス類、フルオロカーボン類などを挙げることができ
る。
【０１７６】脂肪酸系離形剤としては、ステアリン酸、
ヒドロキシステアリン酸などの高級脂肪酸、オキシ脂肪
酸類などを挙げることができる。脂肪酸アミド系離型剤
としては、ステアリン酸アミド、エチレンビスステアロ
アミドなどの脂肪酸アミド、アルキレンビス脂肪酸アミ
ド類などを挙げることができる。
ヒドロキシステアリン酸などの高級脂肪酸、オキシ脂肪
酸類などを挙げることができる。脂肪酸アミド系離型剤
としては、ステアリン酸アミド、エチレンビスステアロ
アミドなどの脂肪酸アミド、アルキレンビス脂肪酸アミ
ド類などを挙げることができる。
【０１７７】アルコール系離型剤としては、ステアリル
アルコール、セチルアルコールなどの脂肪族アルコー
ル、多価アルコール、ポリグリコール、ポリグリセロー
ル類などを挙げることができる。
アルコール、セチルアルコールなどの脂肪族アルコー
ル、多価アルコール、ポリグリコール、ポリグリセロー
ル類などを挙げることができる。
【０１７８】脂肪酸エステル系離型剤としては、ブチル
ステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレー
トなどの脂肪族酸低級アルコールエステル、脂肪酸多価
アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステル類
などを挙げることができる。
ステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレー
トなどの脂肪族酸低級アルコールエステル、脂肪酸多価
アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステル類
などを挙げることができる。
【０１７９】シリコーン系離型剤としては、シリコーン
オイル類などを挙げることができる。これらは単独で用
いても、２種以上混合して用いてもよい。
オイル類などを挙げることができる。これらは単独で用
いても、２種以上混合して用いてもよい。
【０１８０】これらの離型剤は、ポリカーボネート１０
０重量部に対して、通常、０．００１〜５重量部、好ま
しくは０．００５〜１重量部、さらに好ましくは０．０
１〜０．５重量部の量で用いることができる。
０重量部に対して、通常、０．００１〜５重量部、好ま
しくは０．００５〜１重量部、さらに好ましくは０．０
１〜０．５重量部の量で用いることができる。
【０１８１】さらに、着色剤としては、顔料であっても
よく、染料であってもよい。着色剤には、無機系と有機
系の着色剤があるが、どちらを使用してもよく、また、
組み合わせて用いてもよい。
よく、染料であってもよい。着色剤には、無機系と有機
系の着色剤があるが、どちらを使用してもよく、また、
組み合わせて用いてもよい。
【０１８２】無機系着色剤として、具体的には、二酸化
チタン、ベンガラなどの酸化物、アルミナホワイトなど
の水酸化物、硫化亜鉛などの硫化物、セレン化物、紺青
などのフェロシアン化物、ジンククロメート、モリブデ
ンレッドなどのクロム酸塩、硫酸バリウムなどの硫酸
塩、炭酸カルシウムなどの炭酸塩、群青などの硅酸塩、
マンガンバイオレットなどのリン酸塩、カーボンブラッ
クなどの炭素、ブロンズ粉やアルミニウム粉などの金属
粉着色剤などが挙げられる。
チタン、ベンガラなどの酸化物、アルミナホワイトなど
の水酸化物、硫化亜鉛などの硫化物、セレン化物、紺青
などのフェロシアン化物、ジンククロメート、モリブデ
ンレッドなどのクロム酸塩、硫酸バリウムなどの硫酸
塩、炭酸カルシウムなどの炭酸塩、群青などの硅酸塩、
マンガンバイオレットなどのリン酸塩、カーボンブラッ
クなどの炭素、ブロンズ粉やアルミニウム粉などの金属
粉着色剤などが挙げられる。
【０１８３】有機系着色剤としては、具体的には、ナフ
トールグリーンＢなどのニトロソ系、ナフトールイエロ
ーＳなどのニトロ系、リソールレッドやボルドー１０
Ｂ、ナフトールレッド、クロモフタールイエローなどの
アゾ系、フタロシアニンブルーやファストスカイブルー
などのフタロシアニン系、インダントロンブルーやキナ
クリドンバイオレット、ジオクサジンバイオレットなど
の縮合多環系着色剤などが挙げられる。
トールグリーンＢなどのニトロソ系、ナフトールイエロ
ーＳなどのニトロ系、リソールレッドやボルドー１０
Ｂ、ナフトールレッド、クロモフタールイエローなどの
アゾ系、フタロシアニンブルーやファストスカイブルー
などのフタロシアニン系、インダントロンブルーやキナ
クリドンバイオレット、ジオクサジンバイオレットなど
の縮合多環系着色剤などが挙げられる。
【０１８４】これらの着色剤は、単独で用いても組み合
わせて用いてもよい。これらの着色剤は、ポリカーボネ
ート１００重量部に対して、通常１×１０-6〜５重量
部、好ましくは１×１０-5〜３重量部、さらに好ましく
は１×１０-5〜１重量部の量で用いることができる。
わせて用いてもよい。これらの着色剤は、ポリカーボネ
ート１００重量部に対して、通常１×１０-6〜５重量
部、好ましくは１×１０-5〜３重量部、さらに好ましく
は１×１０-5〜１重量部の量で用いることができる。
【０１８５】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとの重縮合反応は、従来知られている芳香族ジヒドロ
キシ化合物と炭酸ジエステルとの重縮合反応条件と同様
な条件下で行うことができるが、具体的には、第一段目
の反応を８０〜２５０℃、好ましくは１００〜２４０
℃、さらに好ましくは１２０〜２３０℃の温度で０〜５
時間、好ましくは０〜４時間、さらに好ましくは０．２
５〜３時間常圧で、両者を反応させる。次いで反応系を
減圧しながら反応温度を高めて芳香族ジヒドロキシ化合
物と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的には１ｍｍ
Ｈｇ以下の減圧下で２００〜３２０℃の温度で芳香族ジ
ヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの重縮合反応を行
う。
ルとの重縮合反応は、従来知られている芳香族ジヒドロ
キシ化合物と炭酸ジエステルとの重縮合反応条件と同様
な条件下で行うことができるが、具体的には、第一段目
の反応を８０〜２５０℃、好ましくは１００〜２４０
℃、さらに好ましくは１２０〜２３０℃の温度で０〜５
時間、好ましくは０〜４時間、さらに好ましくは０．２
５〜３時間常圧で、両者を反応させる。次いで反応系を
減圧しながら反応温度を高めて芳香族ジヒドロキシ化合
物と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的には１ｍｍ
Ｈｇ以下の減圧下で２００〜３２０℃の温度で芳香族ジ
ヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの重縮合反応を行
う。
【０１８６】上記のような芳香族ジヒドロキシ化合物と
炭酸ジエステルとの反応は、連続式で行ってもよくまた
バッチ式で行ってもよい。また上記の反応を行うに際し
て用いられる反応装置は、槽型であっても管型であって
も塔型であってもよい。
炭酸ジエステルとの反応は、連続式で行ってもよくまた
バッチ式で行ってもよい。また上記の反応を行うに際し
て用いられる反応装置は、槽型であっても管型であって
も塔型であってもよい。
【０１８７】
【発明の効果】本発明によれば、芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとを触媒存在下溶融重合してポリ
カーボネートを製造するに際して、上記式（Ｉ）〜（I
V）の安定剤を用いることにより高温安定性、溶融成形
性、耐加水分解性かつ色相に優れたポリカーボネートを
製造することができる。
合物と炭酸ジエステルとを触媒存在下溶融重合してポリ
カーボネートを製造するに際して、上記式（Ｉ）〜（I
V）の安定剤を用いることにより高温安定性、溶融成形
性、耐加水分解性かつ色相に優れたポリカーボネートを
製造することができる。
【０１８８】
【実施例】以下実施例を挙げて本発明を説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０１８９】なお、以下の実施例において、ポリカーボ
ネートの固有粘度［ＩＶ］、溶融粘度変化率、熱老化、
耐加水分解試験は以下のようにして測定した。
ネートの固有粘度［ＩＶ］、溶融粘度変化率、熱老化、
耐加水分解試験は以下のようにして測定した。
【０１９０】固有粘度［ＩＶ］：塩化メチレン中２０℃
で測定した（ｄｌ／ｇ）。
で測定した（ｄｌ／ｇ）。
【０１９１】溶融粘度変化率：レオメトリックス社 Ｒ
ＡＡ型流動解析装置を用い、２７０℃で３０分間の粘度
変化を測定し、１分当りの変化率を求めた。この大小が
触媒無毒化のパラメーターとなる。
ＡＡ型流動解析装置を用い、２７０℃で３０分間の粘度
変化を測定し、１分当りの変化率を求めた。この大小が
触媒無毒化のパラメーターとなる。
【０１９２】熱老化後の物性：３４０℃で１５分間熱老
化せしめＩＶ低下率（％）および色相変化によって評価
した。
化せしめＩＶ低下率（％）および色相変化によって評価
した。
【０１９３】耐加水分解性：ポリマーを１２５℃の水封
オートクレーブ中で２０時間反応せしめ、主鎖切断割合
（％）を求めた。
オートクレーブ中で２０時間反応せしめ、主鎖切断割合
（％）を求めた。
【０１９４】［実施例１〜３３］２，２′―ビス（４―
ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）２
２８重量部、ジフェニルカーボネート２１４重量部およ
び表１〜１１に示す触媒の所定量を、攪拌装置、減圧装
置および蒸留塔等を具備した反応装置に仕込み、１８０
℃、Ｎ2 雰囲気下、３０分間攪拌し溶解した。
ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）２
２８重量部、ジフェニルカーボネート２１４重量部およ
び表１〜１１に示す触媒の所定量を、攪拌装置、減圧装
置および蒸留塔等を具備した反応装置に仕込み、１８０
℃、Ｎ2 雰囲気下、３０分間攪拌し溶解した。
【０１９５】次いで同温度で１００ｍｍＨｇの減圧下、
１時間フェノールを溜去しつつ反応させた。さらに２０
０℃に昇温しつつ、３０ｍｍＨｇに減圧し、同温度、同
圧力で１時間反応せしめた。さらに反応系を２８０℃に
昇温し、０．５ｍｍＨｇに減圧し、同温度、同圧力で１
時間反応せしめ得られた樹脂の固有粘度（ＩＶ）を測定
した。その結果を添加前の固有粘度（ＩＶ）として表１
〜１１に示す。
１時間フェノールを溜去しつつ反応させた。さらに２０
０℃に昇温しつつ、３０ｍｍＨｇに減圧し、同温度、同
圧力で１時間反応せしめた。さらに反応系を２８０℃に
昇温し、０．５ｍｍＨｇに減圧し、同温度、同圧力で１
時間反応せしめ得られた樹脂の固有粘度（ＩＶ）を測定
した。その結果を添加前の固有粘度（ＩＶ）として表１
〜１１に示す。
【０１９６】次いで溶融状態にある該樹脂に表１〜１１
に記載の種類及び量の安定剤を添加し、減圧のまま所定
時間混合した。
に記載の種類及び量の安定剤を添加し、減圧のまま所定
時間混合した。
【０１９７】次に溶融状態のままで、このポリマーをギ
アポンプで二軸押出機（Ｌ／Ｄ＝２０、バレル温度２８
０℃）に送入した。この時必要に応じ、リン化合物、フ
ェノール系化合物を該ポリマーに所定量添加した。
アポンプで二軸押出機（Ｌ／Ｄ＝２０、バレル温度２８
０℃）に送入した。この時必要に応じ、リン化合物、フ
ェノール系化合物を該ポリマーに所定量添加した。
【０１９８】生成ポリカーボネート樹脂の固有粘度（Ｉ
Ｖ）、色相、溶融粘度変化率、熱老化後の物性、耐加水
分解性を測定した結果を表１〜１１に示す。
Ｖ）、色相、溶融粘度変化率、熱老化後の物性、耐加水
分解性を測定した結果を表１〜１１に示す。
【０１９９】［実施例３４］２８０℃、０．５ｍｍＨｇ
での反応時間を１時間から２０分にして反応せしめる以
外は実施例１と同様の方法でポリカーボネートを製造し
た。得られたポリカーボネート樹脂の物性を表１２に示
す。
での反応時間を１時間から２０分にして反応せしめる以
外は実施例１と同様の方法でポリカーボネートを製造し
た。得られたポリカーボネート樹脂の物性を表１２に示
す。
【０２００】［実施例３５］２，２′―ビス（４―ヒド
ロキシフェニル）プロパン２２８重量部のかわりに１，
１′―ビス（４―ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン
２６８重量部を使用した以外は実施例８と同様の方法で
ポリカーボネート樹脂を製造した。
ロキシフェニル）プロパン２２８重量部のかわりに１，
１′―ビス（４―ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン
２６８重量部を使用した以外は実施例８と同様の方法で
ポリカーボネート樹脂を製造した。
【０２０１】得られたポリカーボネート樹脂の物性を表
１２に示す。
１２に示す。
【０２０２】
【表１】
【０２０３】
【表２】
【０２０４】
【表３】
【０２０５】
【表４】
【０２０６】
【表５】
【０２０７】
【表６】
【０２０８】
【表７】
【０２０９】
【表８】
【０２１０】
【表９】
【０２１１】
【表１０】
【０２１２】
【表１１】
【０２１３】
【表１２】
Claims (16)
- 【請求項１】 芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエス
テルとを重縮合触媒の存在下溶融重縮合せしめ次いで固
有粘度が少なくとも０．１に達した後、下記式（Ｉ） 【化１】 ［ここで、Ａ1 は置換基を有していてもよいｍ価の炭化
水素基であり、Ｙ1 は単結合または酸素原子であり、Ｘ
1 は２級または３級の１価の炭化水素基、１当量の金属
カチオン、アンモニウムカチオンまたはホスホニウムカ
チオンであり、ｍは１〜４の整数である、但しＹ1 が単
結合であるときｍ個のＸ1 の全てが１当量の金属カチオ
ンであることはない。］で表わされる化合物、下記式
（II） 【化２】 ［ここで、Ａ2 は２価の炭化水素基であり、 +Ｘ2 は２
〜４級のアンモニウムカチオンまたは２〜４級のホスホ
ニウムカチオンであり、Ｙ1 の定義は上記に同じであ
る。］で表わされる化合物、下記式（III ） 【化３】 ［ここで、Ａ3 はｎ価の炭化水素基であり、 +Ｘ3 は２
〜４級のアンモニウムカチオンまたは２〜４級のホスホ
ニウムカチオンであり、Ｒは１価の炭化水素基であり、
ｎは２〜４の整数であり、Ｙ1 の定義は上記に同じであ
る。］で表わされる化合物、および下記式（IV） 【化４】 ［ここで、Ａ5 は１または２価の炭化水素基であり、Ａ
4 は２価の炭化水素基であり、Ａｄ1 およびＡｄ2 は、
同一もしくは異なり―ＳＯ2 ―Ｏ―ＳＯ2 ―、―ＳＯ2
―Ｏ―ＣＯ―または―ＣＯ―Ｏ―ＳＯ2 ―から選ばれる
酸無水物基であり、ｋは０または１である。但し、ｋが
０のとき、―（Ａｄ2 ―Ａ5 ）k は水素原子を表わすか
あるいはＡ4 とＡ5 とを結合する結合手を表わす（この
場合、Ａ5は２価の炭化水素基又は単結合である）。］
で表わされる化合物よりなる群から選ばれる少くとも１
種の安定剤を、生成するポリカーボネートに対し０．０
１〜５００ｐｐｍの割合で添加して所望の固有粘度のポ
リカーボネートを生成せしめることを特徴とする安定化
されたポリカーボネートの製造法。 - 【請求項２】 安定剤が上記式（Ｉ）で表わされる化合
物である請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 上記式（Ｉ）において、Ａ1 がｍ価の飽
和脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または飽和脂肪
族―芳香族炭化水素基である請求項２に記載の方法。 - 【請求項４】 上記式（Ｉ）において、Ｘ1 が２級また
は３級のアルキル基、アルカリ金属カチオン、下記式
（Ｉ）−ａ 【化５】 ［ここで、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は、互いに独立
に水素原子または１価の炭化水素基である。］で表わさ
れるアンモニウムカチオンまたは下記式（Ｉ）−ｂ 【化６】 ［ここで、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は、互いに独立
に水素原子または１価の炭化水素基である。］で表わさ
れるホスホニウムカチオンである請求項２に記載の方
法。 - 【請求項５】 安定剤が上記式（II）で表わされる化合
物である請求項１に記載の方法。 - 【請求項６】 上記式（II）において、Ａ2 が２価の飽
和脂肪族炭化水素基である請求項５に記載の方法。 - 【請求項７】 上記式（II）において、 +Ｘ2 が下記式
（II）−ａ 【化７】 ［ここで、Ｒ9 、Ｒ10およびＲ11は、互いに独立に、水
素原子または１価の炭化水素基である。］で表わされる
２〜４級のアンモニウムカチオンまたは下記式（II）−
ｂ 【化８】 ［ここで、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14は、互いに独立に、水
素原子または１価の炭化水素基である。］で表わされる
２〜４級のホスホニウムカチオンである請求項５に記載
の方法。 - 【請求項８】 安定剤が上記式（III ）で表わされる化
合物である請求項１に記載の方法。 - 【請求項９】 上記式（III ）において、Ａ3 がｎ価の
飽和脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または飽和脂
肪族―芳香族炭化水素基である請求項８に記載の方法。 - 【請求項１０】 安定剤が上記式（IV）で表わされる化
合物である請求項１に記載の方法。 - 【請求項１１】 上記式（IV）において、Ａ5 がアルキ
ル基、アリール基はアラルキル基である請求項１０に記
載の方法。 - 【請求項１２】 上記式（IV）において、Ａ4 がアルキ
レン基、アリーレン基はアラルキレン基である請求項１
０に記載の方法。 - 【請求項１３】 重縮合触媒がアルカリ金属化合物、ア
ルカリ土類金属化合物および含窒素塩基性化合物よりな
る群から選ばれる請求項１に記載の方法。 - 【請求項１４】 安定剤を重縮合触媒１モル当り０．５
〜５０モルの割合で用いる請求項１記載の方法。 - 【請求項１５】 上記安定剤を、ポリカーボネートの固
有粘度が少くとも０．２に到達した後添加する請求項１
に記載の方法。 - 【請求項１６】 生成するポリカーボネートの所望の固
有粘度が０．３〜１．０の範囲にある請求項１に記載の
方法。
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21136793A JPH0762077A (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | ポリカーボネート樹脂の製造方法 |
| JP27226393A JPH07126374A (ja) | 1993-10-29 | 1993-10-29 | ポリカーボネート樹脂の製造方法 |
| JP5-272263 | 1993-12-16 | ||
| JP5-316646 | 1993-12-16 | ||
| JP5-211367 | 1993-12-16 | ||
| JP31664693A JPH07165905A (ja) | 1993-12-16 | 1993-12-16 | ポリカーボネート樹脂の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36065298A Division JP3165123B2 (ja) | 1994-08-25 | 1998-12-18 | 安定化されたポリカーボネートの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0859975A true JPH0859975A (ja) | 1996-03-05 |
| JP3071641B2 JP3071641B2 (ja) | 2000-07-31 |
Family
ID=27329235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06200706A Expired - Fee Related JP3071641B2 (ja) | 1993-08-26 | 1994-08-25 | 安定化されたポリカーボネートの製造法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US5486555A (ja) |
| EP (2) | EP0640646B1 (ja) |
| JP (1) | JP3071641B2 (ja) |
| DE (1) | DE69431642T2 (ja) |
| ES (1) | ES2185644T3 (ja) |
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| JP2010229597A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Daiwabo Holdings Co Ltd | ポリカーボネート繊維およびその製造方法、ならびに繊維集合物 |
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