JPH0762077A - ポリカーボネート樹脂の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 溶融安定性に優れたポリカーボネート樹脂を
製造することを目的とする。 【構成】 本発明は、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸
ジエステルとを触媒の存在下、溶融重合してポリカーボ
ネート樹脂を製造するに際し、実質的に重合が終了した
段階以降に特定構造のスルホン酸とスルホン酸もしくは
カルボン酸との酸無水物をポリカーボネート樹脂に添加
することを特徴とする安定化されたポリカーボネート樹
脂の製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はポリカーボネート樹脂の
製造方法に関するものであり、更に詳しくは溶融安定性
に優れたポリカーボネート樹脂の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリカーボネートは耐衝撃性等の機械的
物性や透明性に優れており種々の用途を有する。ポリカ
ーボネートの製造方法としてはジヒドロキシ化合物とホ
スゲンを直接反応させる界面法、あるいはジヒドロキシ
化合物と炭酸ジエステルとを加熱減圧下エステル交換反
応させる溶融法などが知られている。

【０００３】これらのうち、後者は、前者界面法と比較
して、安価にポリカーボネート樹脂を製造することがで
きる利点を有するとともに、メチレンクロリド等の溶媒
を用いないので環境上好ましい。

【０００４】従来の溶融法によるポリカーボネートの製
造方法では、通常、触媒としてアルカリ金属化合物、ア
ルカリ土類金属化合物などを、芳香族ジヒドロキシ化合
物１モルに対して、１０^-2〜１０^-8モルの量で用いてい
る。しかし、かかる触媒を用いて得るポリカーボネート
樹脂では、残存する触媒のため、溶融安定性に欠け、ポ
リカーボネートを溶融、成形する時、その一部が熱分解
することがあり、分子量が低下したり、着色したり、透
明性が低下する等の問題がある。

【０００５】特開昭６３―５１４２９号公報には、トル
エンスルホン酸フェニル等のスルホン酸エステルを用い
た高温安定性に優れたポリカーボネートを製造する方法
が提案されている。

【０００６】しかし、該方法では、触媒に起因するポリ
カーボネート樹脂の劣化はある程度防止されるが、該剤
のポリカーボネート中での反応の結果生じるフェノール
が、樹脂分子鎖の解重合を引き起こし、分子量低下問題
を引き起こすことがあり、未だ十分な解決とはなってい
ない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した問
題点を解決するためのものであり、高温安定性、溶融安
定性に優れたポリカーボネート樹脂の製造方法を提供す
ることを目的とするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、芳香
族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを触媒の存在
下、溶融重合してポリカーボネート樹脂を製造するに際
し、実質的に重合が終了した段階以降に下記式（ａ）で
表わされる化合物をポリカーボネート樹脂に添加するこ
とを特徴とする安定化されたポリカーボネート樹脂の製
造方法である。

【０００９】

【化２】

【００１０】［式中、―Ｘ―は、―ＳＯ₂ ―または―Ｃ
Ｏ―を表わす。Ｙ―は、Ｈ―Ｒ₃ ―Ｘ―Ｏ―ＳＯ₂ ―ま
たは水素原子を表わす。Ｚ―は、Ｈ―Ｒ₄ ―ＳＯ₂ ―Ｏ
―Ｘ―または水素原子を表わす。Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ
₄ はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０の線状もしくは分
岐状のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基、
炭素数６〜２０のアラルキレン基より選ばれる。］本発
明で用いられる芳香族ジヒドロキシ化合物は、下記式
（ｂ）で示される化合物である。

【００１１】

【化３】

【００１２】式中、Ｘは

【００１３】

【化４】

【００１４】Ｒ₇ 、Ｒ₈ は、同一または異なり、水素原
子、炭素数１〜５のアルキル基もしくは炭素数６〜１０
の置換されていてもよいアリール基を示す。アルキル基
としてメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ
る。アリール基としてフェニル基が挙げられる。Ｒ₉ は
炭素数３〜８のアルキレン基である。アルキレン基とし
て、ペンチレン基、ヘキシレン基等が挙げられる。
Ｒ₅ 、Ｒ₆ は同一または異なり、ハロゲン原子もしくは
炭素数１〜５のアルキル基を示す。ハロゲン原子として
は塩素、臭素等が挙げられる。アルキル基としてはメチ
ル基、ｔ―ブチル基等が挙げられる。ｍ、ｎは同一また
は異なり、０、１または２である。

【００１５】具体的には、ビス（４―ヒドロキシフェニ
ル）メタン、１，１―ビス（４―ヒドロキシフェニル）
エタン、２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）プロ
パン、２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）ブタ
ン、２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）オクタ
ン、ビス（４―ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、
２，２―ビス（４―ヒドロキシ―３―メチルフェニル）
プロパン、１，１―ビス（４―ヒドロキシ―ｔ―ブチル
フェニル）プロパン、２，２―ビス（４―ヒドロキシ―
３―ブロモフェニル）プロパンなどのビス（ヒドロキシ
アリール）アルカン類、１，１―ビス（４―ヒドロキシ
フェニル）シクロペンタン、１，１―ビス（４―ヒドロ
キシフェニル）シクロヘキサンなどのビス（ヒドロキシ
アリール）シクロアルカン類、４，４′―ジヒドロキシ
ジフェニルエーテル、４，４′―ジヒドロキシ―３，
３′―ジメチルフェニルエーテルなどのジヒドロキシア
リールエーテル類、４，４′―ジヒドロキシジフェニル
スルフィド、４，４′―ジヒドロキシ―３，３′―ジメ
チルジフェニルスルフィドなどのジヒドロキシジアリー
ルスルフィド類、４，４′―ジヒドロキシジフェニルス
ルホキシド、４，４′―ジヒドロキシ―３，３′―ジメ
チルジフェニルスルホキシドなどのジヒドロキシジアリ
ールスルホキシド類、４，４′―ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン、４，４′―ジヒドロキシ―３，３′―ジメ
チルジフェニルスルホンなどのジヒドロキシジアリール
スルホン類などが用いられる。これらのうちでは、特に
２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）プロパンが好
ましい。

【００１６】本発明で用いられる炭酸ジエステルとして
は、置換されていてもよい炭素数６〜１０のアリール、
アラアルキル、炭素数１〜５のアルキル、炭素数３〜８
のシクロアルキル等のエステルが挙げられる。

【００１７】具体的には、ジフェニルカーボネート、ジ
トリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボ
ネート、ｍ―クレジルカーボネート、ジナフチルカーボ
ネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジエチルカ
ーボネート、ジメチルカーボネート、ジブチルカーボネ
ート、ジシクロヘキシルカーボネートなどが用いられ
る。これらのうちでは、特にジフェニルカーボネートが
好ましい。

【００１８】またこれらの炭酸ジエステルは、ジカルボ
ン酸あるいはジカルボン酸エステルを含有していてもよ
い。このようなジカルボン酸あるいはジカルボン酸エス
テルとしては、特に炭素数の制限はなく、具体的には、
テレフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸ジフェニ
ル、イソフタル酸ジフェニルなどが例示できる。上記の
ようなジカルボン酸あるいはジカルボン酸エステルを炭
酸ジエステルと併用した場合には、ポリエステルポリカ
ーボネートが得られるが、本発明のポリカーボネートの
製造方法には、このポリエステルポリカーボネートの製
造方法も含まれる。炭酸ジエステルの使用量としては上
記芳香族ジヒドロキシ化合物（ｂ）に対し８０〜３００
モル％、好ましくは９０〜２８０モル％、特に好ましく
は９５〜２５０モル％の範囲で用いられることが望まし
い。

【００１９】本発明に使用する触媒としては、前述の炭
酸ジエステル及び芳香族ジヒドロキシ化合物を出発原料
として、副反応少なく、着色等少なく、品質の良好な樹
脂を与えるものが好ましく使用される。

【００２０】これらの中で好ましいものは、アルカリ金
属化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、
酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸
カリウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリ
ウム、水素化ホウ素リチウム、フェニル化ホウ素ナトリ
ウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香
酸リチウム、リン酸水素ジナトリウム、リン酸水素ジカ
リウム、リン酸水素ジリチウム、ビスフェノールＡのジ
ナトリウム塩、ジカリウム塩、ジリチウム塩、フェノー
ルのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩などが挙げ
られる。

【００２１】またアルカリ土類金属化合物としては、具
体的に、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マ
グネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウ
ム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水
素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭
酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウ
ム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチ
ウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウ
ム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロン
チウムなどが挙げられる。

【００２２】また含窒素塩基性化合物としては、テトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド（Ｍｅ₄ ＮＯＨ）、テ
トラエチルアンモニウムヒドロキシド（Ｅｔ₄ ＮＯ
Ｈ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド（Ｂｕ₄
ＮＯＨ）、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシ
ド（φ―ＣＨ₂ （Ｍｅ）₃ ＮＯＨ）などのアルキル、ア
リール、アルアリール基などを有するアンモニウムヒド
ロオキシド類、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミンなどの三
級アミン類、Ｒ₂ ＮＨ（式中Ｒはメチル、エチルなどの
アルキル、フェニル、トルイルなどのアリール基などで
ある）で示される二級アミン類、ＲＮＨ₂ （式中Ｒは上
記と同じである）で示される一級アミン類、２―メチル
イミダゾール、２―フェニルイミダゾールなどのイミダ
ゾール類、あるいはアンモニア、テトラメチルアンモニ
ウムボロハイドライド（Ｍｅ₄ ＮＢＨ₄ ）、テトラブチ
ルアンモニウムボロハイドライド（Ｂｕ₄ ＮＢＨ₄ ）、
テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート（Ｂ
ｕ₄ ＮＢＰｈ₄ ）、テトラメチルアンモニウムテトラフ
ェニルボレート（Ｍｅ₄ ＮＢＰｈ₄ ）などの塩基性塩な
どを挙げることができる。これらの触媒は１種または２
種以上を併用することもできる。

【００２３】上記触媒の使用量としては、上記芳香族ジ
ヒドロキシ化合物に対し１０^-6〜１０モル％、好ましく
は１０^-5〜１モル％、特に好ましくは１０^-4〜１０^-1モ
ル％の範囲で使用しうる。上記使用範囲を逸脱すると、
得られるポリカーボネートの諸物性に悪影響を及ぼした
り、また、重縮合反応が十分に進行せず高分子量のポリ
カーボネートが得られない等の問題があり好ましくな
い。

【００２４】本発明で用いられる化合物（ａ）は、スル
ホン酸とスルホン酸もしくはカルボン酸との酸無水化合
物である。式（ａ）中のＲ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ は、メ
チレン、エチレン等のアルキレン基、フェニレン等のア
リーレン基、ベンジレン基等のアラルキレン基等が選ば
れる。

【００２５】化合物（ａ）を構成するスルホン酸化合物
としては一価もしくは二価のスルホン酸化合物であり、
具体的には、メチルスルホン酸、エチルスルホン酸、プ
ロピルスルホン酸、ブチルスルホン酸、ヘキシルスルホ
ン酸、デシルスルホン酸、ヘキサデシルスルホン酸、フ
ェニルスルホン酸、ｐ―トルエンスルホン酸、ドデシル
ベンゼンスルホン酸、オクタデシルベンゼンスルホン
酸、ベンゼンジスルホン酸、トルエンジスルホン酸など
が用いられる。

【００２６】化合物（ａ）を構成するカルボン酸化合物
としては一価もしくは二価のカルボン酸化合物であり、
具体的には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ステ
アリン酸、ミリスチン酸、オレイン酸、安息香酸、フェ
ニル酢酸、トルイル酸、コハク酸、グルタル酸、アジピ
ン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸などが用
いられる。

【００２７】化合物（ａ）の具体的な構造としては、以
下のものが挙げられる。

【００２８】

【化５】

【００２９】

【化６】

【００３０】

【化７】

【００３１】などが挙げられる。

【００３２】上記化合物（ａ）の使用量としては使用す
る触媒量に対し５０〜５００モル％、好ましくは６０〜
４００モル％の範囲で使用しうる。上記範囲を逸脱する
と、得られるポリカーボネートの諸物性に悪影響を及ぼ
す等の問題があり好ましくない。

【００３３】上記化合物（ａ）は、反応生成物であるポ
リカーボネートの重合が実質的に収量した段階以降、具
体的には極限粘度が０．１以上に達した段階以降に所定
量が添加される。かかる化合物（ａ）によりポリカーボ
ネート中に残存するアルカリ性化合物が中和あるいは弱
められ、最終的に溶融安定性に優れたポリカーボネート
を得ることができる。

【００３４】化合物（ａ）を、反応生成物であるポリカ
ーボネートに添加する方法は特に限定されない。例え
ば、反応生成物であるポリカーボネートが溶融状態にあ
る間にこれらを添加してもよいし、一旦ポリカーボネー
トをペレタイズした後再溶融して添加してもよい。

【００３５】前者においては、実質的に重縮合反応が終
了し溶融状態にある反応器内または押出機内のポリカー
ボネートに、これらを添加した後、押出機を通してペレ
タイズしてもよいし、また、重縮合反応で得られたポリ
カーボネートが反応器から押出機を通ってペレタイズさ
れる間に、上記化合物（ａ）を添加して混練することに
よってポリカーボネートを得ることもできる。

【００３６】本発明の製造方法では、上記化合物（ａ）
とともにリン化合物を添加してもよい。このようなリン
化合物としては、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、ピロ
リン酸、ポリリン酸、リン酸エステルおよび亜リン酸エ
ステルを用いることができる。

【００３７】このようなリン酸エステルとしては、具体
的に、例えば、トリメチルホスフェート、トリエチルホ
スフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホ
スフェート、トリデシルホスフェート、トリオクタデシ
ルホスフェート、ジステアリルペンタエリスリチルジホ
スフェート、トリス（２―クロロエチル）ホスフェー
ト、トリス（２，３―ジクロロプロピル）ホスフェート
などのトリアルキルホスフェート、トリシクロヘキシル
ホスフェートなどのトリシクロアルキルホスフェート、
トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェー
ト、トリス（ノニルフェニル）ホスフェート、２―エチ
ルフェニルジフェニルホスフェートなどのトリアリール
ホスフェートなどを挙げることができる。

【００３８】また、亜リン酸エステルとしては、下記一
般式で表される化合物を挙げることができる。

【００３９】Ｐ（ＯＲ）₃ （式中、Ｒは脂環族炭化水素基、脂肪族炭化水素基また
は芳香族炭化水素基を表す。これらは同一であっても異
なっていてもよい。）

【００４０】このような式で表される化合物として、例
えば、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイ
ト、トリブチルホスファイト、トリオクチルホスファイ
ト、トリス（２―エチルヘキシル）ホスファイト、トリ
ノニルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオ
クタデシルホスファイト、トリステアリルホスファイ
ト、トリス（２―クロロエチル）ホスファイト、トリス
（２，３―ジクロロプロピル）ホスファイトなどのトリ
アルキルホスファイト、トリシクロヘキシルホスファイ
トなどのトリシクロアルキルホスファイト、トリフェニ
ルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス
（エチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４―ジ
―ｔ―ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニル
フェニル）ホスファイト、トリス（ヒドロキシフェニ
ル）ホスファイトなどのトリアリールホスファイト、フ
ェニルジデシルホスファイト、ジフェニルデシルホスフ
ァイト、ジフェニルイソオクチルホスファイト、フェニ
ルイソオクチルホスファイト、２―エチルヘキシルジフ
ェニルホスファイトなどのアリールアルキルホスファイ
トなどを挙げることができる。

【００４１】さらに亜リン酸エステルとして、ジステア
リルペンタエリスリチルジホスファイト、ビス（２，４
―ジ―ｔ―ブチルフェニル）ペンタエリスリチルジホス
ファイトなどを挙げることができる。

【００４２】これらの化合物は、単独で、あるいは組み
合わせて用いることができる。これらは、別々に添加し
てもよいし、あるいは同時に添加してもよい。本発明で
は、上記のようなリン化合物を、ポリカーボネート樹脂
に対して１０〜１０００ｐｐｍ、好ましくは５０〜５０
０ｐｐｍの量となるように添加する。

【００４３】本発明では、上記のようにして得られるポ
リカーボネートに、本発明の目的を損なわない範囲で、
いかに示すような通常の耐熱安定剤、紫外線吸収剤、離
型剤、着色剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチロッキ
ング剤、滑剤、防曇剤、天然油、合成油、ワックス、有
機系充填剤、無機系充填剤などを添加してもよい。この
ような添加剤は、上記化合物（ａ）と同時に添加しても
よいし、別々に添加してもよい。

【００４４】このような耐熱安定剤としては、具体的に
は、例えば、フェノール系安定剤、有機チオエーテル系
安定剤、ヒンダードアミン系安定剤などを挙げることが
できる。

【００４５】フェノール系安定剤としては、例えば、ｎ
―オクタデシル―３―（４―ヒドロキシ―３′，５′―
ジ―ｔ―ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス
［メチレン―３―（３′，５′―ジ―ｔ―ブチル―４―
ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、１，
１，３―トリス（２―メチル―４―ヒドロキシ―５―ｔ
―ブチルフェニル）ブタン、ジステアリル（４―ヒドロ
キシ―３―メチル―５―ｔ―ブチル）ベンジルマロネー
ト、４―ヒドロキシメチル―２，６―ジ―ｔ―ブチルフ
ェノール等が挙げられ、これらを単独で用いても２種以
上混合して用いてもよい。

【００４６】チオエーテル系安定剤としては、例えば、
ジラウリル・チオジプロピオネート、ジステアリル・チ
オジプロピオネート、ジミリスチル―３，３′―チオジ
プロピオネート、ジトリデシル―３，３′―チオジプロ
ピオネート、ペンタエリスリトール―テトラキス―（β
―ラウリル―チオプロピオネート）などを挙げることが
できる。

【００４７】これらは単独で用いても２種以上混合して
用いてもよい。またヒンダードアミン系安定剤として
は、例えば、ビス（２，２，６，６―テトラメチル―４
―ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６
―ペンタメチル―４―ピペリジル）セバケート、１―
［２―｛３―（３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―ヒドロキ
シフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］―４―｛３
―（３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシ｝―２，２，６，６―テトラメ
チルピペリジン、８―ベンジル―７，７，９，９―テト
ラメチル―３―オクチル―１，２，３―トリアザスピロ
［４，５］ウンデカン―２，４―ジオン、４―ベンゾイ
ルオキシ―２，２，６，６―テトラメチルピペリジン、
２―（３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―ヒドロキシベンジ
ル）―２―ｎ―ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，
６―ペンタメチル―４―ピペリジル）、テトラキス
（２，２，６，６―テトラメチル―４―ピペリジル）
１，２，３，４―ブタンテトラカルボキシレートなどを
挙げることができる。

【００４８】これらは単独で用いても２種以上混合して
用いてもよい。これらの耐熱安定剤は、ポリカーボネー
ト１００重量部に対して０．００１〜５重量部、好まし
くは０．００５〜０．５重量部、さらに好ましくは０．
０１〜０．３重量部の量で用いられることが望ましい。

【００４９】このような耐熱安定剤は、固体状で添加し
てもよく、液体状で添加してもよい。このような耐熱安
定剤は、得られるポリカーボネートが最終重合器から冷
却されてペレタイズされる間の溶融状態にある間に添加
することが好ましく、このようにするとポリカーボネー
トが受ける熱履歴回数が少ない。また、押出成形やペレ
タイズなど再び加熱処理する際には、ポリカーボネート
は耐熱安定剤を含有しているので、熱分解を抑制するこ
とができる。

【００５０】また紫外線吸収剤としては、一般的な紫外
線吸収剤でよく、特に限定されないが、例えば、サリチ
ル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレー
ト系紫外線吸収剤などを挙げることができる。

【００５１】サリチル酸系紫外線吸収剤としては、具体
的には、フェニルサリシレート、ｐ―ｔ―ブチルフェニ
ルサリシレートが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線
吸収剤としては、２，４―ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２―ヒドロキシ―４―メトキシベンゾフェノン、
２，２′―ジヒドロキシ―４―メトキシベンゾフェノ
ン、２，２′―ジヒドロキシ―４，４′―ジメトキシベ
ンゾフェノン、２―ヒドロキシ―４―メトキシ―２′―
カルボキシベンゾフェノン、２―ヒドロキシ―４―メト
キシ―５―スルホベンゾフェノントリヒドレート、２―
ヒドロキシ―４―ｎ―オクトキシベンゾフェノン、２，
２′，４，４′―テトラヒドロキシベンゾフェノン、４
―ドデシロキシ―２―ヒドロキシベンゾフェノン、ビス
（５―ベンゾイル―４―ヒドロキシ―２―メトキシフェ
ニル）メタン、２―ヒドロキシ―４―メトキシベンゾフ
ェノン―５―スルホン酸などが挙げられる。

【００５２】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は、２―（２′―ヒドロキシ―５′―メチルフェニル）
ベンゾトリアゾール、２―（２′―ヒドロキシ―３′，
５′―ジ―ｔ―ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２―（２′―ヒドロキシ―３′―ｔ―ブチル―５′―メ
チルフェニル）―５―クロロベンゾトリアゾール、２―
（２′―ヒドロキシ―３′，５′―ジ―ｔ―ブチルフェ
ニル）―５―クロロベンゾトリアゾール、２―（２′―
ヒドロキシ―５′―ｔ―オクチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２―（２′―ヒドロキシ―３′，５′―ジ―
ｔ―アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２―［２′
―ヒドロキシ―３′―（３″，４″，５″，６″―テト
ラヒドロフタルイミドメチル）―５′―メチルフェニ
ル］ベンゾトリアゾール、２，２′―メチレンビス［４
―（１，１，３，３―テトラメチルブチル）―６―（２
Ｈ―ベンゾトリアゾール―２―イル）フェノール］など
を挙げることができる。

【００５３】シアノアクリレート系紫外線吸収剤として
は、２―エチルヘキシル―２―シアノ―３，３―ジフェ
ニルアクリレート、エチル―２―シアノ―３，３―ジフ
ェニルアクリレートなどを挙げることができる。これら
を単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。

【００５４】これらの紫外線吸収剤は、ポリカーボネー
ト１００重量部に対して、通常０．００１〜５重量部、
好ましくは０．００５〜１．０重量部、さらに好ましく
は０．０１〜０．５重量部の量で用いることができる。

【００５５】さらに、離型剤としては、一般的な離型剤
でよく、特に限定されない。例えば、炭化水素系離型剤
としては、天然、合成パラフィン類、ポリエチレンワッ
クス類、フルオロカーボン類などを挙げることができ
る。これらの離型剤は、ポリカーボネート１００重量部
に対して、通常０．００１〜５重量部、好ましくは０．
００５〜１重量部、さらに好ましくは０．０１〜０．５
重量部の量で用いることができる。

【００５６】さらに、着色剤としては、顔料であっても
よく、染料であってもよい。着色剤には、無機系と有機
系の着色剤があるが、どちらを使用してもよく、また、
組み合わせて用いてもよい。これらの着色剤は、単独で
用いても組み合わせて用いてもよい。これらの着色剤
は、ポリカーボネート１００重量部に対して、通常１×
１０^-6〜５重量部、好ましくは１×１０^-5〜３重量部、
さらに好ましくは１×１０^-5〜１重量部の量で用いるこ
とができる。

【００５７】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとの重縮合反応は、従来知られている芳香族ジヒドロ
キシ化合物と炭酸ジエステルとの重縮合反応条件と同様
な条件下で行うことができるが、具体的には、第一段目
の反応を８０〜２５０℃、好ましくは１００〜２４０
℃、さらに好ましくは１２０〜２３０℃の温度で０〜５
時間、好ましくは０〜４時間、さらに好ましくは０．２
５〜３時間常圧で、両者を反応させる。次いで反応系を
減圧にしながら反応温度を高めて芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的には１ｍ
ｍＨｇ以下の減圧下で２００〜３２０℃の温度で芳香族
ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの重縮合反応を
行う。

【００５８】上記のような芳香族ジヒドロキシ化合物と
炭酸ジエステルとの反応は、連続式で行ってもよくまた
バッチ式で行ってもよい。また上記の反応を行うに際し
て用いられる反応装置は、槽型であっても管型であって
も塔型であってもよい。

【００５９】

【発明の効果】本発明によれば、芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとを触媒存在下溶融重縮合して得
られるポリカーボネートに上記化合物（ａ）を用いるこ
とにより溶融安定性に優れたポリカーボネートを製造す
ることができる。

【００６０】

【実施例】以下実施例を挙げて本発明を説明するが本発
明はこれら実施例に限定されるものではない。

【００６１】

【実施例１〜１０、比較例１〜３】２，２―ビス（４―
ヒドロキシフェニル）プロパン１３．７ｋｇ（０．６モ
ル）、ジフェニルカーボネート１３．５ｋｇ（６３モ
ル）、表１に示す触媒の所定量を１８０℃、Ｎ₂ 雰囲気
下３０分間攪拌し溶解した。

【００６２】次に同温度で１００ｍｍＨｇの減圧下とし
３０分間反応させ、更に３０ｍｍＨｇの減圧下３０分間
反応させた。これを２９０℃に昇温し、０．５ｍｍＨｇ
の減圧下６０分間反応させた。

【００６３】次に溶融状態のままで、このポリマーをギ
ヤポンプにて二軸押出機（Ｌ／Ｄ＝１７．５バレル温度
２９０℃）に送入し、表１に示す化合物（ａ）、リン化
合物、フェノール系化合物を表１に示す量添加して混練
し、目的物を得た。得られたポリカーボネート樹脂の物
性を表１〜３に示す。

【００６４】表１〜３中のＩＶ、ＭＦＲ、熱老化は下記
の要領で試験した。 ＩＶ ：塩化メチレン中、２０℃で測定した。 熱老化：３２０℃で１５分間熱老化させた。 ＭＦＲ：ＪＩＳ Ｋ―７２１０の方法に準拠した。

【００６５】比較として化合物（ａ）を用いないものを
行ったが（比較例１、２および３）、熱老化後のＭＦＲ
の上昇が見られ溶融安定性に劣っていることがわかる。

【００６６】

【表１】

【００６７】

【表２】

【００６８】

【表３】

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエス
   テルとを触媒の存在下、溶融重合してポリカーボネート
   樹脂を製造するに際し、実質的に重合が終了した段階以
   降に下記式（ａ）で表わされる化合物をポリカーボネー
   ト樹脂に添加することを特徴とする安定化されたポリカ
   ーボネート樹脂の製造方法。 【化１】 ［式中、―Ｘ―は、―ＳＯ₂ ―または―ＣＯ―を表わ
   す。Ｙ―は、Ｈ―Ｒ₃ ―Ｘ―Ｏ―ＳＯ₂ ―または水素原
   子を表わす。Ｚ―は、Ｈ―Ｒ₄ ―ＳＯ₂ ―Ｏ―Ｘ―また
   は水素原子を表わす。Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ はそれぞ
   れ独立に、炭素数１〜２０の線状もしくは分岐状のアル
   キレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基、炭素数６〜
   ２０のアラルキレン基より選ばれる。］