JPH11106635A - ポリカーボネート樹脂組成物およびその成形品 - Google Patents

ポリカーボネート樹脂組成物およびその成形品

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JPH11106635A
JPH11106635A JP9282683A JP28268397A JPH11106635A JP H11106635 A JPH11106635 A JP H11106635A JP 9282683 A JP9282683 A JP 9282683A JP 28268397 A JP28268397 A JP 28268397A JP H11106635 A JPH11106635 A JP H11106635A
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JP
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weight
resin composition
polycarbonate resin
phosphite
phosphonium sulfonate
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JP9282683A
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Akihiro Saito
明宏 斎藤
Shinichi Yamaguchi
真一 山口
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SABIC Innovative Plastics Japan KK
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GE Plastics Japan Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/0008Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/005Stabilisers against oxidation, heat, light, ozone
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/49Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/50Phosphorus bound to carbon only

Abstract

(57)【要約】 【課題】 成形品表面に無定型模様の汚れが形成されに
くく、しかも透明性、機械的強度、耐候性等に優れたポ
リカーボネート(PC)樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 (A)PC樹脂 100 重量部、(B)ス
ルホン酸ホスホニウム塩0.0001重量部以上0.1 重量部未
満を含むPC樹脂組成物。さらに(C)紫外線吸収剤
0.01〜10重量部を含むPC樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリカーボネート
(以下では、PCと称することがある)樹脂組成物およ
びその成形品に関する。
【0002】
【従来の技術】PC樹脂は、透明性、耐熱性、機械的強
度に優れることから、さまざまな分野で利用されてい
る。例えば自動車のヘッドランプレンズや各種照明器具
のカバーやレンズ、透明フィルムまたは透明シート、光
ディスクの基盤やそのカートリッジ、OA機器、事務機
器、家電機器の各種部品、保管や運搬用ケース材などの
用途において使用される。
【0003】ところが、PC樹脂の成形品は、使用して
いくうちに、外部からの微塵によって汚れてくるという
問題があった。その汚れ方は、均一に全体が汚れるので
はなく、汚れの付着しやすいところと汚れが付着しにく
いところが、不均一に無定型の模様(例えば図1に示す
ような、しだの葉のような模様あるいは樹木の枝のよう
な模様)を形成し、時間と共に汚れ部分が目立ってき
て、商品価値を損なうという問題であった。
【0004】ポリカーボネート樹脂の帯電防止性を改良
する方法として、例えば特公平7-39537 号公報は、PC
樹脂にスルホン酸ホスホニウム塩と亜リン酸エステルと
を配合した組成物を開示する。ここでは、スルホン酸ホ
スホニウム塩は、PC樹脂100重量部に対して0.1
〜20重量部配合されている。前記公報によれば、0.
1重量部以下の量では帯電防止効果が得られないとされ
ている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、成形品表面
に無定型模様の汚れが形成されにくく、しかも透明性、
耐候性、機械的強度に優れたポリカーボネート樹脂組成
物を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、PC樹脂
組成物の成形品の汚れの防止について鋭意検討を重ね
た。PC樹脂にスルホン酸ホスホニウム塩を添加する場
合、その量が多いと耐候性が損なわれてしまう。そこ
で、PC樹脂に従来帯電防止効果は得られないとされて
いたごく少量のスルホン酸ホスホニウム塩を添加する
と、透明性、耐候性および機械的強度を損なうことがな
いばかりでなく、驚くべきことに、無定型模様の汚れの
形成が抑制されることを見出し、本発明に到達した。
【0007】すなわち本発明の樹脂組成物は、(A)ポ
リカーボネート樹脂 100重量部および(B)スルホ
ン酸ホスホニウム塩 0.0001重量部以上0.1重
量部未満を含むことを特徴とする。このように、従来帯
電防止効果は得られないとされてきたごく少量のスルホ
ン酸ホスホニウム塩の添加でPC樹脂成形品の無定型模
様の汚れが改善されることは、予測できないことであ
る。よって、本発明におけるスルホン酸ホスホニウム塩
の無定型模様の汚れの形成を抑制する効果は、従来の帯
電防止性付与の効果とは異なる機構によるものと考えら
れる。
【0008】本発明はまた、上記の2成分にさらに
(C)紫外線吸収剤を含む樹脂組成物を開示する。従
来、(A)PCおよび(C)紫外線吸収剤を含む樹脂組
成物では、帯電防止のために(B)スルホン酸ホスホニ
ウム塩を添加すると耐候性が著しく損なわれるという問
題があったが、上記のようなごく少量のスルホン酸ホス
ホニウム塩の添加では、耐候性を損なうことなく、成形
品の無定型模様の汚れを改善できることがわかった。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明においては、(A)ポリカ
ーボネート樹脂として、公知のホスゲン法または溶融法
により作られた芳香族ポリカーボネート(たとえば特開
昭 63-215763号及び特開平2-124934号公報参照)を使用
することができる。ポリカーボネート系樹脂は、カーボ
ネート成分およびジフェノール成分よりなる。カーボネ
ート成分を導入するための前駆物質としては、例えばホ
スゲン、ジフェニルカーボネート等が挙げられる。ま
た、適したジフェノールとしては、例えば2,2-ビス(4-
ヒドロキシフェニル)プロパン(いわゆるビスフェノー
ルA);2,2-ビス(3,5-ジブロモ-4- ヒドロキシフェニ
ル)プロパン;2,2-ビス(3,5-ジメチル-4- ヒドロキシ
フェニル)プロパン;1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン;1,1-ビス(3,5-ジメチル-4- ヒド
ロキシフェニル)シクロヘキサン;1,1-ビス(4-ヒドロ
キシフェニル)デカン;1,4-ビス(4-ヒドロキシフェニ
ル)プロパン;1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シク
ロドデカン;1,1-ビス(3,5-ジメチル-4- ヒドロキシフ
ェニル)シクロドデカン;4,4-ジヒドロキシジフェニル
エーテル;4,4-チオジフェノール;4,4-ジヒドロキシ-
3,3- ジクロロジフェニルエーテル;および4,4-ジヒド
ロキシ-2,5- ジヒドロキシジフェニルエーテル等が挙げ
られる。これらを単独で、または組み合わせて使用でき
る。また、この他に、3以上のフェノール性水酸基を有
する化合物を使用することも可能である。
【0010】あるいは、成分(A)は、芳香族コポリエ
ステルカーボネートであってもよい。これは、公知の芳
香族ジオールに由来するカーボネート単位に加えて、芳
香族ジオールと炭素数6〜18の脂肪族ジカルボン酸とに
由来するエステル単位を有する。それの製造には、芳香
族ポリカーボネートの製造方法として公知のホスゲン
法、溶融法を用いることができる(米国特許第 4,238,5
96号、第 4,238,597号及び第 3,169,121号明細書参
照)。
【0011】本発明において使用する(B)スルホン酸
ホスホニウム塩は、例えば次式(I):
【0012】
【化2】 (上記式中、R1 は炭素数1〜40のアルキル基または炭
素数6〜40のアリール基であり、R2 、R3 、R4 およ
びR5 はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜10の
アルキル基および炭素数6〜10のアリール基から選ばれ
る)で示される。ここで、アルキル基は、直鎖状、分枝
状または環状のアルキル基を包含する。アリール基は、
アルキルアリール基およびアリールアルキル基を包含す
る。なお、アルキル基およびアリール基は、任意の置換
基で置換されていることができる。
【0013】R1 においては、アルキル基としては、例
えばドデシル基、デシル基、ブチル基、エチル基等が挙
げられる。アリール基としては、例えばドデシルフェニ
ル基、フェニル基、ベンジル基、ベンジル基、フェネチ
ル基、トリル基、キシリル基等が挙げられる。R1 は好
ましくはアリール基である。
【0014】R2 〜R5 においては、アルキル基として
は、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル等の基が
挙げられる。アリール基としては、例えばフェニル基、
ベンジル基、フェネチル基、トリル基、キシリル基等が
挙げられる。
【0015】好ましいスルホン酸ホスホニウム塩として
は、例えばドデシルスルホン酸のテトラアルキルホスホ
ニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸のテトラアルキ
ルホスホニウム塩等が挙げられる。
【0016】成分(B)は、成分(A)100重量部に
対して0.0001重量部以上、好ましくは0.000
5重量部以上、かつ0.1重量部未満、好ましくは0.
08重量部以下使用される。成分(B)の使用量が少な
すぎると本発明の効果を発揮できず、また多すぎると耐
候性が悪くなり、また変色したり、機械的特性が低下
し、成形品の外観不良を引き起こす。
【0017】上記した成分(A)および(B)を含む樹
脂組成物では、優れた透明性、耐候性および機械的強度
が保持されつつ、成形品の無定型模様の汚れが抑制され
る。本発明はまた、上記の成分(A)および(B)の他
にさらに、(C)紫外線吸収剤を含む樹脂組成物を開示
する。
【0018】(C)紫外線吸収剤としては、PC樹脂組
成物に慣用の紫外線吸収剤がいずれも使用できる。例え
ばベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン
系紫外線吸収剤、サリチレート系紫外線吸収剤などが挙
げられる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は、例えば2-(2'- ヒドロキシ-5'-メチルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2-(2'- ヒドロキシ-5'-t-ブチルフ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'- ヒドロキシ-5'-
t-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'- ヒ
ドロキシ-3',5'- ジ-t- ブチルフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2-(2'- ヒドロキシ-3',5'- ジ- アミルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2-(2'- ヒドロキシ-3'-ドデ
シル-5'-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'
- ヒドロキシ-3',5'- ジクミルフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2,2'- メチレンビス[4-(1,1,3,3-テトラメチ
ルブチル)-6- (2H- ベンゾトリアゾール-2- イル)フ
ェノール]などを挙げることができる。ベンゾトリアゾ
ール系紫外線吸収剤は、例えばアメリカンサイアナミッ
ド社からUV5411として市販されている。ベンゾフェノン
系紫外線吸収剤は、サイナミット社からUV531 として市
販されている。サリチレート系紫外線吸収剤としては、
例えばフェニルサリチレート、p-t-ブチルフェニルサリ
チレート、p-オクチルフェニルサリチレートなどが挙げ
られる。
【0019】成分(C)は、成分(A)100重量部に
対して0.01重量部以上、好ましくは0.05重量部
以上、かつ10重量部以下、好ましくは5重量部以下使
用される。成分(C)の使用量が少なすぎると耐光性が
悪くなり、また多すぎると樹脂組成物の耐熱性を低下さ
せる。
【0020】上記した3成分の組合せにより、優れた透
明性、耐候性および機械的強度を保持しつつ、成形品の
無定型模様の汚れが抑制された樹脂組成物を得ることが
できる。
【0021】本発明の樹脂組成物はいずれも、上記の成
分の他にさらに、任意成分としてリン系安定剤を含むこ
とができる。そのようなリン系安定剤として、例えば酸
化防止剤として各安定剤メーカーから市販されているも
のをいずれも使用できる。具体的には、トリフェニルホ
スファイト、ジフェニルノニルホスファイト、トリス
(2,4-ジ-t- ブチルフェニル)ホスファイト、トリスノ
ニルフェニルホスファイト、ジフェニルイソオクチルホ
スファイト、2,2'- メチレンビス(4,6-ジ-t- ブチルフ
ェニル)オクチルホスファイト、ジフェニルイソデシル
ホスファイト、ジフェニルモノ(トリデシル)ホスファ
イト、2,2'- エチリデンビス(4,6-ジ-t-ブチルフェノ
ール)フルオロホスファイト、フェニルジイソデシルホ
スファイト、フェニルジ(トリデシル)ホスファイト、
トリス(2-エチルヘキシル)ホスファイト、トリス(イ
ソデシル)ホスファイト、トリス(トリデシル)ホスフ
ァイト、ジブチルハイドロゲンホスファイト、トリラウ
リルトリチオホスファイト、テトラキス(2,4-ジ-t- ブ
チルフェニル)-4,4'-ビフェニレンジホスホナイト、4,
4'- イソプロピリデンジフェノールアルキル(C12〜C
15)ホスファイト、4,4'- ブチリデンビス(3-メチル-6
-t- ブチルフェニル)ジトリデシルホスファイト、ビス
(2,4-ジ-t- ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ビス(2,6-ジ-t- ブチル-4- メチルフェ
ニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(ノ
ニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、
ジステアリル- ペンタエリスリトールジホスファイト、
フェニル- ブスフェノールA ペンタエリスリトールジ
ホスファイト、テトラフェニルジプロピレングリコール
ジホスファイト、1,1,3-トリス(2-メチル-4- ジ- トリ
デシルホスファイト-5-t-ブチルフェニル)ブタン、3,
4,5,6-ジベンゾ-1,2- オキサホスファン-2- オキシド等
を使用することができる。
【0022】入手可能な商品例として、アデカスタブ
PEP−36、PEP−24、PEP−4C、PEP−
8(いずれも商標、旭電化工業(株)製)、Irgafos168
(商標、チバ・ガイギー社製)、Sandstab P-EPQ(商
標、サンドズ(Sandoz)社製)、Chelex L(商標、堺化
学工業(株)製)、3P2S(商標、イハラケミカル工業
(株)製)、Mark 329K 、Mark P(いずれも商標、旭電
化工業(株)製)、およびWeston 618(商標、三光化学
(株)製)等を挙げることができる。
【0023】リン系安定剤は、PC樹脂100重量部に
対して、好ましくは0.0001〜1重量部、より好ましくは
0.001 〜0.5 重量部配合される。
【0024】さらに、ヒンダードフェノール系酸化防止
剤、エポキシ系安定剤、イオウ系安定剤などを添加する
こともできる。ヒンダードフェノール系酸化防止剤とし
ては、例えばn-オクタデシル-3-(3',5'-ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,6-ジ-t- ブ
チル-4- ヒドロキシメチルフェノール、2,2'- メチレン
ビス(4-メチル-6-t- ブチルフェノール)、ペンタエリ
スリチル- テトラキス[3-(3,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロ
キシフェニル)プロピオネートなどが挙げられる。エポ
キシ系安定剤としては、例えばエポキシ化大豆油、エポ
キシ化アマニ油、フェニルグリシジルエーテル、アリル
グリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキシルメチ
ル -3',4'-エポキシシクロヘキサンカルボキシレートな
どが挙げられる。
【0025】また、離型性を改良する目的で、離型剤を
添加できる。好ましい離型剤は、メチルフェニルシリコ
ーンオイルなどのシリコン系離型剤、ペンタエリスリト
ールテトラステアレート、グリセリンモノステアレー
ト、モンタン酸ワックス、ポリアルファオレフィンなど
のエステル系離型剤やオレフィン系離型剤などである。
本発明の樹脂組成物はいずれも、その物性を損なわない
限りにおいて、その目的に応じて樹脂の混合時、成形時
に、慣用の他の添加剤、例えば着色剤(顔料、染料)、
補強剤(ガラス繊維、炭素繊維など)、充填剤(カ―ボ
ンブラック、シリカ、酸化チタンなど)、耐熱剤、酸化
劣化防止剤、耐候剤、滑剤、離型剤、可塑剤、難燃剤、
流動性改良剤等を添加することができる。また、黄味を
青味方向に改善する目的で、染料を添加できる。
【0026】本発明の樹脂組成物を製造するための方法
に特に制限はなく、通常の方法が満足に使用できる。し
かしながら一般に溶融混合法が望ましい。少量の溶剤の
使用も可能であるが、一般に必要ない。装置としては特
に押出機、バンバリ―ミキサ―、ロ―ラ―、ニ―ダ―等
を例として挙げることができ、これらを回分的または連
続的に運転する。成分の混合順は特に限定されない。
【0027】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0028】なお、実施例および比較例においては、以
下の物質を使用した。 成分(A) PC:ポリカーボネート、日本ジーイープラスチックス
社製、商標;レキサン(塩化メチレン中、25℃で測定し
た固有粘度0.50 dl/g ) 成分(B) スルホン酸ホスホニウム塩:ドデシルベンゼンスルホン
酸テトラブチルホスホニウム塩、竹本油脂(株)製、商
標EPA202 成分(C) 紫外線吸収剤:ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、2-
(2- ヒドロキシ-5-t-オクチルフェニル)ベンゾトリア
ゾール、アメリカンサイアナミッドカンパニー製、CyaS
ORB UV5411 任意成分 亜リン酸エステル:トリス-(2,4-ジ-t- ブチルフェニ
ル)ホスファイト、チバガイギー社製、Irgafos 168
(商品名) ヒンダードフェノール系酸化防止剤:n-オクタデシル-3
(3',5'- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル)プロピ
オネート、旭電化工業(株)製、アデカスタブAO−5
0 エポキシ安定剤:3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-
3',4'- エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ダ
イセル化学工業(株)製、セロキサイド2021P また、実施例および比較例で行った各種試験および評価
は、以下のようにした。 (1) 全光線透過率 50mm×50mm×3 mmの平板の射出成形品について、AST
M D1003に従い、全光線透過率を測定した。 (2) アイゾット衝撃強度 ASTM D256にしたがって、1/8 インチノッチ付
アイゾット衝撃強度を測定した。 (3) 表面抵抗 50mm×50mm×3 mmの平板の射出成形品について、AST
M D257に従い、表面抵抗を測定した。 (4) 耐候試験 50mm×50mm×3 mmの平板の射出成形品について、耐候性
試験器フェード・オ−メータ−(アトラス社製)を用い
て、1000時間後の変色(黄色指数)を調べた。ΔYI
は、1000時間後のYIと初期のYIとの差を示す。 (5) 滞留変色 成形温度280 ℃、金型温度80℃の条件において10分間滞
留させた後、50mm×50mm×3 mmの平板を射出成形し、黄
色指数の変化を調べた。 (6) 成形品表面汚れ 成形温度280 ℃(設定)、金型温度80℃(設定)の条件
において射出成形を行った、箱型(縦85mm×横200mm ×
深さ15mm、肉厚3mm)の成形品を1か月(30日)間室
内に放置後、目視にて表面の汚れを観察した。成形品表
面が無定型の模様(図1に示すような、しだの葉のよう
な模様あるいは樹木の枝のような模様)に汚れて見える
ものを、汚れ有りとした。
【0029】実施例1〜4および比較例1〜4 各成分を表1に示す割合(重量比)で混合し、280 ℃、
100 rpm 、60kg/ 時間(押出速度)に設定した1軸押出
機(65mm)で押出し、ペレットを作成した。得られたペ
レットを用いて次に、設定温度280 ℃、金型温度80℃の
条件で、射出成形を行った。得られた成形品について、
各種試験を行った。その結果を表1に示す。
【0030】
【表1】
【0031】
【発明の効果】本発明のポリカーボネート樹脂組成物
は、成形品表面に無定型模様の汚れが形成されにくいと
共に、透明性、機械的強度、耐候性等に優れている。よ
って、自動車のヘッドランプレンズや各種照明器具のカ
バーやレンズ、透明フィルムまたは透明シート、光ディ
スクの基盤やそのカートリッジ、OA機器、事務機器、
家電機器等の各種部品、保管や運搬用ケース材などの用
途において特に有用である。
【図面の簡単な説明】
【図1】成形品に形成された無定型模様の汚れの形を例
示したものである。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)ポリカーボネート樹脂 100重
    量部および(B)スルホン酸ホスホニウム塩 0.00
    01重量部以上0.1重量部未満を含むことを特徴とす
    るポリカーボネート樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 (B)スルホン酸ホスホニウム塩が、
    0.0005〜0.08重量部含まれる請求項1記載の
    組成物。
  3. 【請求項3】 (B)スルホン酸ホスホニウム塩が、次
    式(I): 【化1】 (上記式中、R1 は炭素数1〜40のアルキル基または炭
    素数6〜40のアリール基であり、R2 、R3 、R4 およ
    びR5 はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜10の
    アルキル基および炭素数6〜10のアリール基から選ばれ
    る)で示される請求項1または2記載のポリカーボネー
    ト樹脂組成物。
  4. 【請求項4】 さらに、(C)紫外線吸収剤 0.01
    〜10重量部を含む請求項1〜3のいずれか1項記載の
    ポリカーボネート樹脂組成物。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項記載の樹脂
    組成物の成形品。
  6. 【請求項6】 自動車のヘッドランプレンズである請求
    項5記載の成形品。
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