JPH08299918A - 回転式基板洗浄装置 - Google Patents
回転式基板洗浄装置Info
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- JPH08299918A JPH08299918A JP7138668A JP13866895A JPH08299918A JP H08299918 A JPH08299918 A JP H08299918A JP 7138668 A JP7138668 A JP 7138668A JP 13866895 A JP13866895 A JP 13866895A JP H08299918 A JPH08299918 A JP H08299918A
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Abstract
どに応じ、基板表面に対するノズルの傾斜角度を容易に
変更する。 【構成】 鉛直方向の第3の軸芯P3周りで回転する支
軸10に第1および第2の支持ブラケット11a,11
bを介してノズル12を設け、ノズル12から噴出され
る洗浄液の基板表面での到達点を基板Wの回転中心Cか
ら外周端縁に移動させ、回転可能に保持された基板Wの
表面に、ノズル12から洗浄液をピンポイント状態でか
つ高圧で噴出供給するように構成し、第1の支持ブラケ
ット11aに、ノズル12から基板の表面の回転中心C
に洗浄液を噴出する状態で、回転中心Cとノズル12の
先端とを含む面内で回転中心Cを中心とする仮想円の円
弧長穴13を介して第2の支持ブラケット11bを取り
付け、ノズル12の傾斜角度を変更しても、到達点が基
板Wの回転中心Cを必ず通るようにする。
Description
マスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、
光ディスク用の基板等の基板に、純水などの洗浄液を高
圧で噴出供給して洗浄処理するために、基板を鉛直方向
の軸芯周りで回転可能に保持する基板保持手段と、基板
表面に洗浄液をピンポイント状態でかつ高圧で噴出供給
するノズルと、ノズルから噴出される洗浄液の基板表面
での到達点が基板の回転中心と外周端縁との間を移動す
るようにノズルを移動するノズル移動手段とを備えた回
転式基板洗浄装置に関する。
えば、特公平6−95382号公報に開示されているも
のが知られている。この従来例によれば、基板(公報で
はディスクと記載されている)の表面に対して傾斜させ
て洗浄液を噴出する高圧ジェットノズルを設け、基板を
鉛直方向の軸芯周りで回転させながら、その基板表面に
洗浄液を高圧で噴出供給し、微細な汚れを除去するよう
に構成されている。
の場合、基板表面に対する高圧ジェットノズルの傾斜角
度は一定であり、基板表面の膜厚とか膜種とか、あるい
は、除去すべき汚染物の種類が異なったような場合で
も、それらに対応して傾斜角度を変更することができ
ず、基板表面の洗浄性を高める上で改善の余地があっ
た。
たものであって、請求項1に係る発明の回転式基板洗浄
装置は、基板表面の膜厚とか膜種とか汚染物の種類など
に応じ、基板表面に対するノズルの傾斜角度を容易に変
更できるようにすることを目的とし、また、請求項2に
係る発明の回転式基板洗浄装置は、合理的な配置構成に
より、待機位置においてノズルからの洗浄液を受ける待
機ポットに対する位置調整を不用にして、ノズルの傾斜
角度の変更を一層容易に行うことができるようにするこ
とを目的とする。
上述のような目的を達成するために、基板を鉛直方向の
軸芯周りで回転可能に保持する基板保持手段と、基板表
面に洗浄液をピンポイント状態でかつ高圧で噴出供給す
るノズルと、そのノズルから噴出される洗浄液の基板表
面での到達点が基板の回転中心と外周端縁との間を移動
するようにノズルを移動するノズル移動手段とを備えた
回転式基板洗浄装置において、ノズル移動手段に設けら
れて基板表面に対する傾斜角度を変更可能にノズルを保
持するノズル保持手段を設け、そのノズル保持手段に、
ノズルから基板の表面の回転中心に洗浄液を噴出する状
態で、基板表面の回転中心とノズルの先端とを含む面内
で回転中心を中心とする仮想円に沿ってノズルを移動す
る円弧ガイドを備えて構成する。
浄装置は、上述のような目的を達成するために、請求項
1に係る発明の回転式基板洗浄装置における基板保持手
段に保持された基板から平面視で外れた箇所に、基板表
面に洗浄液を供給しない待機位置にノズルを移動させた
状態でノズルから噴出される洗浄液を受け止める待機ポ
ットを設け、かつ、待機ポットの受け入れ開口面の少な
くとも一部が、ノズルから噴出される洗浄液の到達点の
移動経路上に位置するとともに基板の表面と同一レベル
になるように構成する。
成によれば、洗浄する基板の表面の膜厚とか膜種とか汚
染物の種類などに応じ、基板表面に対するノズルの傾斜
角度を変更することができる。しかも、このノズルの傾
斜角度の変更に際し、円弧ガイドによりノズルを移動さ
せることによって、その傾斜角度のいかんにかかわら
ず、ノズルから噴出される洗浄液の基板表面での到達点
が必ず基板の表面の回転中心を通る状態に維持すること
ができ、基板の回転中心を残すことなく洗浄できる。
浄装置の構成によれば、基板表面に対するノズルの傾斜
角度の変更のいかんにかかわらず、待機位置に位置させ
たノズルから噴出される洗浄液を待機ポットの受け入れ
開口面内に受け止めさせることができる。
説明する。図1は本発明の回転式基板洗浄装置の第1実
施例を示す全体概略縦断正面図、図2は全体平面図、図
3は要部の拡大側面図である。
1の軸芯P1周りで回転する回転軸2の上端に、基板W
を真空吸着保持する回転台3が一体回転可能に取り付け
られ、基板Wを鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持す
る基板保持手段4が構成されている。
空吸着式のものとして基板保持手段4を構成している
が、これに限られるものではなく、例えば、回転台3上
に基板Wの外周縁を支持する基板支持部材を複数設ける
とともに、この基板支持部材の上端に基板Wの水平方向
の位置を規制する位置決めピンを設けて基板保持手段を
構成し、基板Wを回転台3上面から離間した状態で回転
可能に保持させるようにしてもよい。
れた基板Wの周囲は、昇降駆動機構(図示せず)によっ
て昇降可能なカップ5で覆われている。カップ5の横外
側方に、基板Wの回転中心側に向けて純水などの洗浄液
を低圧で供給する低圧ノズル6…が設けられている。
状の支持アーム7が、電動モータ(図示せず)により鉛
直方向の第2の軸芯P2周りで回転可能に設けられ、そ
の支持アーム7の先端側アーム部分7aの下部に、基板
表面を洗浄する洗浄具8が設けられている。
段4を間にした支持アーム7とは反対側の位置におい
て、電動モータ9により鉛直方向の第3の軸芯P3周り
で駆動回転可能に支軸10が設けられ、その支軸10
に、第1および第2の支持ブラケット11a,11bか
ら成るノズル保持手段11が取り付けられるとともに、
第2の支持ブラケット11bに、基板表面に洗浄液をピ
ンポイント状態でかつ高圧(30kg/cm2以上) で噴出供給
するノズル12が取り付けられている。
2から基板Wの表面と第1の軸芯P1とが交差する基板
表面の回転中心Cに洗浄液を噴出する状態(図2参照)
で、その回転中心Cとノズル12の先端とを含む面内で
回転中心Cを中心とする所定径の円弧状の円弧長穴13
が形成されている。一方、第2の支持ブラケット11b
に、円弧長穴13に嵌入する一対のネジ軸14,14が
突設されるとともに、ネジ軸14,14それぞれにナッ
ト15が螺合されている。
述した回転中心Cに向かう直線状の直線長穴16が形成
されている。一方、ノズル12を備えたノズル本体17
に、直線長穴16に嵌入する一対のネジ軸18,18が
突設されるとともに、ネジ軸18,18それぞれにナッ
ト19が螺合されている。図示していないが、ノズル本
体17から支軸10側にわたって、ノズル12に接続さ
れる高圧ホースが延ばされている。
め、ネジ軸14,14を円弧長穴13内で移動させ、所
望の位置でナット15,15を締め付けて固定すること
によって、ノズル12の傾斜角度を、ノズル12から基
板表面の回転中心Cに洗浄液を噴出する状態で、その回
転中心Cを中心として変更でき、傾斜角度の変更のいか
んにかかわらず、ノズル12を水平方向に移動するとき
に、ノズル12から高圧で噴出される洗浄液を確実に基
板表面の回転中心Cに供給することができる。そして、
電動モータ9により支軸10を回転することにより、ノ
ズル12から噴出される洗浄液の基板表面での到達点を
回転中心Cから基板Wの外周端縁に移動させ、基板Wの
回転との協働作用により、洗浄する基板の表面の膜厚と
か膜種とか汚染物の種類などに応じて最適な傾斜角度に
調整し、基板表面全面を高圧の洗浄液で良好に洗浄する
ことができる。
8を直線長穴16内で移動させることによって、洗浄す
る基板Wの表面の膜厚とか膜種とか汚染物の種類などに
応じ、ノズル12の先端から基板表面までの距離を適宜
調整できる。
から平面視で外れた箇所に待機ポット20が設けられ、
基板表面に洗浄液を供給しない待機位置にノズル12を
移動させた状態でノズル12から常時噴出される洗浄液
を受け止め、基板表面を汚染するパーティクルの原因と
なるバクテリアなどが洗浄液供給源との配管中に発生す
ることを防止できるように構成されている。
ズル12から噴出される洗浄液の到達点の移動経路上に
位置するとともに基板Wの表面と同一レベルになるよう
に構成され、前述したノズル12の傾斜角度の変更のい
かんにかかわらず、待機位置に移動した状態において、
ノズル12から噴出される洗浄液を受け止めることがで
きるように構成されている。
図5は、図4のA−A線矢視断面図であり、第1実施例
と異なるところは次の通りである。すなわち、第1の支
持ブラケット11aに、ノズル12から基板Wの表面と
第1の軸芯P1とが交差する基板表面の回転中心Cに洗
浄液を噴出する状態で、その回転中心Cとノズル12の
先端とを含む面内で回転中心Cを中心とする所定径の円
弧状の円弧ガイド面F1を有するガイド部材21が連接
されている。一方、第2の支持ブラケット11bに円弧
ガイド面F1に摺接して回転する一対のガイドローラ2
2,22が取り付けられるとともに、ガイド部材21の
円弧ガイド面F1と反対側の面に圧接して固定する締め
付けボルト23が設けられている。他の構成は第1実施
例と同じであり、同一図番を付すことによりその説明は
省略する。
23を緩め、ガイドローラ22,22を円弧ガイド面F
1に摺接して回転させることによって、ノズル12の傾
斜角度を、ノズル12から基板表面の回転中心Cに洗浄
液を噴出する状態で、その回転中心Cを中心として変更
できる。
第2に実施例における、円弧ガイド面1を有するガイド
部材21をして円弧ガイドと総称する。
出される洗浄液の基板表面での到達点を回転中心Cから
基板Wの外周端縁に移動させるのに、電動モータ9によ
り支軸10を鉛直方向の第3の軸芯P3周りで回転させ
るように構成しているが、エアシリンダなどにより支軸
10を直線方向に移動させるように構成しても良く、そ
れらの構成をしてノズル移動手段と総称する。
の到達点が、基板Wの回転中心Cから外周端縁への片方
向への移動となるように、ノズル12からの洗浄液の噴
出を、支持アーム7の軸芯P2周りの正逆回転の動きに
対して間欠的な噴出としているが、洗浄液の基板表面で
の到達点が、基板Wの外周端縁から回転中心Cへも移動
するように、ノズル12からの洗浄液の噴出を、支持ア
ーム7の軸芯P2周りの正逆回転の動きに対して連続的
に噴出するようにしても良い。
受け入れ開口面Fの全面を基板表面と同一レベルになる
水平面に構成しているが、受け入れ開口面Fを傾斜させ
ても良く、要するに、受け入れ開口面Fの少なくとも一
部、好ましくは受け入れ開口面Fの中心相当箇所が、ノ
ズル12から噴出される洗浄液の到達点の移動経路上に
位置するとともに基板Wの表面と同一レベルになるよう
に構成するものであれば良い。
基板に限らず、角型基板に対する回転式基板洗浄装置に
も適用できる。
明の回転式基板洗浄装置によれば、基板表面に対するノ
ズルの傾斜角度を変更できるから、洗浄する基板の表面
の膜厚とか膜種とか汚染物の種類などに応じ、基板表面
に対してそれぞれに最適な傾斜角度で洗浄液を噴出でき
て洗浄効果を高くできる。しかも、ノズルの傾斜角度の
変更に際し、円弧ガイドによって、自ずとノズルから噴
出される洗浄液の基板表面での到達点が必ず基板の表面
の回転中心を通る状態に維持できるから、傾斜角度を変
更するたびに、洗浄液の噴出方向が基板表面の基板の回
転中心から外れないように調整し直すといった面倒な操
作が不用で、基板表面に対するノズルの傾斜角度を容易
に変更できるようになった。
浄装置によれば、待機ポットの受け入れ開口面の少なく
とも一部を、ノズルから噴出される洗浄液の到達点の移
動経路上に位置させるとともに基板の表面と同一レベル
になるようにするという合理的な配置構成により、基板
表面に対するノズルの傾斜角度の変更のいかんにかかわ
らず、待機位置に位置させたノズルから噴出される洗浄
液を待機ポットの受け入れ開口面内に受け止めさせるこ
とができるから、傾斜角度の変更に伴って待機ポットの
位置を調整することが不用であり、ノズルの傾斜角度の
変更を一層容易に行えるようになった。
す全体概略縦断正面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に
保持する基板保持手段と、 基板表面に洗浄液をピンポイント状態でかつ高圧で噴出
供給するノズルと、 前記ノズルから噴出される洗浄液の基板表面での到達点
が前記基板の回転中心と外周端縁との間を移動するよう
に前記ノズルを移動するノズル移動手段とを備えた回転
式基板洗浄装置において、 前記ノズル移動手段に設けられて基板表面に対する傾斜
角度を変更可能に前記ノズルを保持するノズル保持手段
を設け、前記ノズル保持手段に、前記ノズルから前記基
板の表面の回転中心に洗浄液を噴出する状態で、基板表
面の回転中心と前記ノズルの先端とを含む面内で前記回
転中心を中心とする仮想円に沿って前記ノズルを移動す
る円弧ガイドを備えたことを特徴とする回転式基板洗浄
装置。 - 【請求項2】 請求項1に記載の基板保持手段に保持さ
れた基板から平面視で外れた箇所に、基板表面に洗浄液
を供給しない待機位置にノズルを移動させた状態で前記
ノズルから噴出される洗浄液を受け止める待機ポットを
設け、かつ、前記待機ポットの受け入れ開口面の少なく
とも一部が、前記ノズルから噴出される洗浄液の到達点
の移動経路上に位置するとともに前記基板の表面と同一
レベルになるように構成してある回転式基板洗浄装置。
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