KR100542299B1 - 포토레지스트의 에지부 제거 장치 - Google Patents
포토레지스트의 에지부 제거 장치 Download PDFInfo
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/42—Stripping or agents therefor
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
Claims (1)
- 포토레지스트가 도포된 유리기판이 진입되는 홈부가 일측면에 형성되고, 상기 홈부의 후면벽으로부터 배출 통로가 형성된 본체 블럭과; 상기 본체 블럭의 홈부 상부에 설치되어 상기 포토레지스트의 에지부를 제거하는 희석제를 분사하는 제 1 분사통로와, 이 희석제가 유리기판과 충돌한 후 중앙부로 비산되지 않도록 에어 커튼 작용을 하는 기체를 분사하는 제 2 분사통로로 이루어진 노즐과; 및 상기 제 1 분사통로부터 분사된 희석제에 의해 상기 에지부에서 희석되어 제거되는 포토레지스트를 상기 희석제 및 기체와 함께 상기 배출 통로를 통해 강제 흡입하기 위한 흡입력을 제공하는 흡입 수단을 포함하는 포토레지스트의 에지부 제거 장치에 있어서,상기 노즐은 상기 기체를 분사하는 제 2 분사통로를 상기 유리기판의 중앙부 내측 방향에 위치되고 상기 희석제를 분사하는 제 1 분사통로를 외측 방향에 위치되게 배치하고, 상기 제 1 및 제 2 분사통로는 상기 유리기판에 대해 소정의 예각을 갖도록 경사져 분사구가 형성된 하단이 상기 배출통로를 향하도록 설치된 것을특징으로 하는 포토레지스트의 에지부 제거 장치.
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