JPH09106980A - 塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法 - Google Patents
塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法Info
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- JPH09106980A JPH09106980A JP26303495A JP26303495A JPH09106980A JP H09106980 A JPH09106980 A JP H09106980A JP 26303495 A JP26303495 A JP 26303495A JP 26303495 A JP26303495 A JP 26303495A JP H09106980 A JPH09106980 A JP H09106980A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】パーティクルを発生させない塗布膜形成方法を
提供する。 【解決手段】ウエハ３６の表面に薄膜４８を形成した
後、ウエハ３６の回転速度を１０００ｒｐｍまで下げ
て、第１のエッジリンス用ノズル４０と第２のエッジリ
ンス用ノズル４２を用いて、ウエハ３６の外周縁から中
心方向に３ｍｍまでの周縁部３６ｂ，３６ｃに、例えば
ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、エタノール、メタ
ノール、シクロヘキサン等の有機溶剤４０ａ，４２ａを
５秒間吹き付けて、ウエハ３６の周縁部の洗浄を行う。
その後、ガス用ノズル４４からウエハ３６の周縁部３２
ｄにＮ2 ガス（又はエアー）４４ａを吹き付けて、薄膜
４８の周縁部を平坦化する。
提供する。 【解決手段】ウエハ３６の表面に薄膜４８を形成した
後、ウエハ３６の回転速度を１０００ｒｐｍまで下げ
て、第１のエッジリンス用ノズル４０と第２のエッジリ
ンス用ノズル４２を用いて、ウエハ３６の外周縁から中
心方向に３ｍｍまでの周縁部３６ｂ，３６ｃに、例えば
ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、エタノール、メタ
ノール、シクロヘキサン等の有機溶剤４０ａ，４２ａを
５秒間吹き付けて、ウエハ３６の周縁部の洗浄を行う。
その後、ガス用ノズル４４からウエハ３６の周縁部３２
ｄにＮ2 ガス（又はエアー）４４ａを吹き付けて、薄膜
４８の周縁部を平坦化する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハの表面に塗
布膜を形成する塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法に関
する。
布膜を形成する塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】ウエハ表面を平坦化するために、有機溶
剤に溶けたガラス溶液（ＳＯＧ液）をウエハ表面に回転
塗布（スピンコート）してＳＯＧ液の薄膜を形成し、こ
の薄膜が形成されたウエハを加熱処理してＳｉＯ2 膜
（ＳＯＧ膜）を形成する技術が広く用いられている。図
３を参照してＳＯＧ膜を形成する従来の技術を説明す
る。
剤に溶けたガラス溶液（ＳＯＧ液）をウエハ表面に回転
塗布（スピンコート）してＳＯＧ液の薄膜を形成し、こ
の薄膜が形成されたウエハを加熱処理してＳｉＯ2 膜
（ＳＯＧ膜）を形成する技術が広く用いられている。図
３を参照してＳＯＧ膜を形成する従来の技術を説明す
る。
【０００３】ウエハ保持台１０にウエハ１２を保持して
矢印Ａ方向にウエハ１２を回転させながら、滴下ノズル
１４からウエハ１２の表面中心部にＳＯＧ液を滴下す
る。ＳＯＧ液は遠心力により均一に引き延ばされて薄膜
化し、この薄膜化したＳＯＧ液１６を４００℃前後の温
度で加熱処理して硬化させ、これにより、ウエハ１２の
表面にＳＯＧ膜を形成する。
矢印Ａ方向にウエハ１２を回転させながら、滴下ノズル
１４からウエハ１２の表面中心部にＳＯＧ液を滴下す
る。ＳＯＧ液は遠心力により均一に引き延ばされて薄膜
化し、この薄膜化したＳＯＧ液１６を４００℃前後の温
度で加熱処理して硬化させ、これにより、ウエハ１２の
表面にＳＯＧ膜を形成する。
【０００４】ところが、上記の技術では、図３に示すよ
うに、ＳＯＧ液１６がウエハ１２の周縁部や外周面にも
付着し、これらの部分にもＳＯＧ膜が形成される。この
周縁部や外周面に形成されたＳＯＧ膜は、半導体製造の
後工程で、例えばウエハをウエハキャリアカセットに出
し入れする際に剥がれることがある。このようにして剥
れたＳＯＧ膜はパーティクルの発生原因になるという問
題がある。
うに、ＳＯＧ液１６がウエハ１２の周縁部や外周面にも
付着し、これらの部分にもＳＯＧ膜が形成される。この
周縁部や外周面に形成されたＳＯＧ膜は、半導体製造の
後工程で、例えばウエハをウエハキャリアカセットに出
し入れする際に剥がれることがある。このようにして剥
れたＳＯＧ膜はパーティクルの発生原因になるという問
題がある。
【０００５】そこで、図４に示すように、ウエハ１２の
周縁部や外周面にＩＰＡ（イソプロピルアルコール）な
どの有機溶剤（エッジリンス液）１８をノズル２０から
吹き付け、周縁部や外周面に付着している薄膜化された
ＳＯＧ液１６を洗浄除去する技術が知られている（特開
平３−１２７８３４号公報参照）。
周縁部や外周面にＩＰＡ（イソプロピルアルコール）な
どの有機溶剤（エッジリンス液）１８をノズル２０から
吹き付け、周縁部や外周面に付着している薄膜化された
ＳＯＧ液１６を洗浄除去する技術が知られている（特開
平３−１２７８３４号公報参照）。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のエッジ
リンス液１８を吹き付ける技術では、エッジリンス後
に、図４に示すように、薄膜化されたＳＯＧ液１６の周
縁部に盛上り部分２２が形成される。この盛上り部分２
２が後工程で剥がれ、パーティクルの発生原因になると
いう問題が新たに生じる。
リンス液１８を吹き付ける技術では、エッジリンス後
に、図４に示すように、薄膜化されたＳＯＧ液１６の周
縁部に盛上り部分２２が形成される。この盛上り部分２
２が後工程で剥がれ、パーティクルの発生原因になると
いう問題が新たに生じる。
【０００７】本発明は、上記事情に鑑み、パーティクル
を発生させない塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法を提
供することを目的とする。
を発生させない塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法を提
供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の塗布膜形成装置は、ウエハ表面に塗布膜を形
成する塗布膜形成装置において、 （１）ウエハの表面を上に向けてこのウエハを保持し回
転させるウエハ保持台 （２）このウエハ保持台に保持されたウエハの表面中心
部に塗布液を滴下する滴下ノズル （３）上記ウエハ保持台の上方に設置され、このウエハ
保持台に保持されたウエハの表面の周縁部に洗浄液を吹
き付けることにより、この表面周縁部に付着している塗
布液を除去する第１のエッジリンス用ノズル （４）上記ウエハ保持台の下方に設置され、このウエハ
保持台に保持されたウエハの裏面の周縁部に洗浄液を吹
き付けることにより、この裏面周縁部に付着している塗
布液を除去する第２のエッジリンス用ノズル （５）上記ウエハ保持台の上方に設置され、このウエハ
保持台に保持されたウエハの表面の周縁部にガスを吹き
付けることにより、ウエハ表面上の塗布液の周縁部を平
坦化するガス用ノズル を備えたことを特徴とするものである。
の本発明の塗布膜形成装置は、ウエハ表面に塗布膜を形
成する塗布膜形成装置において、 （１）ウエハの表面を上に向けてこのウエハを保持し回
転させるウエハ保持台 （２）このウエハ保持台に保持されたウエハの表面中心
部に塗布液を滴下する滴下ノズル （３）上記ウエハ保持台の上方に設置され、このウエハ
保持台に保持されたウエハの表面の周縁部に洗浄液を吹
き付けることにより、この表面周縁部に付着している塗
布液を除去する第１のエッジリンス用ノズル （４）上記ウエハ保持台の下方に設置され、このウエハ
保持台に保持されたウエハの裏面の周縁部に洗浄液を吹
き付けることにより、この裏面周縁部に付着している塗
布液を除去する第２のエッジリンス用ノズル （５）上記ウエハ保持台の上方に設置され、このウエハ
保持台に保持されたウエハの表面の周縁部にガスを吹き
付けることにより、ウエハ表面上の塗布液の周縁部を平
坦化するガス用ノズル を備えたことを特徴とするものである。
【０００９】上記目的を達成するための本発明の塗布膜
形成方法は、ウエハ表面に塗布膜を形成する塗布膜形成
方法において、 （６）表面を上に向けて回転しているウエハのこの表面
の中心部に塗布液を滴下することにより、この塗布液の
薄膜を上記ウエハの表面に形成する薄膜形成工程 （７）上記塗布液の薄膜が形成されたウエハの表面の周
縁部及び裏面の周縁部に洗浄液を吹き付けることによ
り、ウエハの周縁部及び外周面に付着している塗布液を
除去する塗布液除去工程 （８）上記周縁部及び外周面に付着している塗布液が除
去されたウエハの表面の周縁部にガスを吹き付けること
により、薄膜の周縁部を平坦化する平坦化工程 を含むことを特徴とするものである。
形成方法は、ウエハ表面に塗布膜を形成する塗布膜形成
方法において、 （６）表面を上に向けて回転しているウエハのこの表面
の中心部に塗布液を滴下することにより、この塗布液の
薄膜を上記ウエハの表面に形成する薄膜形成工程 （７）上記塗布液の薄膜が形成されたウエハの表面の周
縁部及び裏面の周縁部に洗浄液を吹き付けることによ
り、ウエハの周縁部及び外周面に付着している塗布液を
除去する塗布液除去工程 （８）上記周縁部及び外周面に付着している塗布液が除
去されたウエハの表面の周縁部にガスを吹き付けること
により、薄膜の周縁部を平坦化する平坦化工程 を含むことを特徴とするものである。
【００１０】ここで、上記塗布液除去工程及び上記平坦
化工程に代えて、上記ウエハの表面及び裏面双方の周縁
部に洗浄液を吹き付けると共に上記表面の周縁部にガス
を吹き付けることにより、表面及び裏面双方の周縁部に
付着している塗布液を除去しながら薄膜表面の周縁部を
平坦化する除去平坦化工程を含むことが好ましい。
化工程に代えて、上記ウエハの表面及び裏面双方の周縁
部に洗浄液を吹き付けると共に上記表面の周縁部にガス
を吹き付けることにより、表面及び裏面双方の周縁部に
付着している塗布液を除去しながら薄膜表面の周縁部を
平坦化する除去平坦化工程を含むことが好ましい。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の塗
布膜形成装置の一実施形態を説明する。図１は、本発明
の塗布膜形成装置の一実施形態を示す模式図である。塗
布膜形成装置３０は、図示しないモータ等により矢印Ａ
方向に高速回転される回転軸３２と、回転軸３２の先端
部に固定され、ウエハ３６をその表面を上に向けて保持
するウエハ保持台３４を備えている。また、ウエハ保持
台３４に保持されたウエハ３６の表面中心部３６ａの上
方には、この表面中心部３６ａに塗布液を滴下する滴下
ノズル３８が設置されている。また、ウエハ保持台３４
の上方には、ウエハ３６の表面の周縁部３２ｂに洗浄液
を吹き付けることにより、表面周縁部３６ｂに付着して
いる塗布液を除去する第１のエッジリンス用ノズル４０
が設置されており、一方、ウエハ保持台３４の下方に
は、ウエハ３６の裏面の周縁部３６ｃに洗浄液を吹き付
けることにより、裏面周縁部３６ｃに付着している塗布
液を除去する第２のエッジリンス用ノズル４２が設置さ
れている。第１のエッジリンス用ノズル４０は、その先
端がウエハ３６の表面周縁部３６ｂに向いており、一
方、第２のエッジリンス用ノズル４２は、その先端がウ
エハ３６の裏面周縁部３６ｃに向いている。また、ウエ
ハ保持台３４の上方には、先端がウエハ３６の表面周縁
部３６ｄに向き、この表面周縁部３６ｄにガスを吹き付
けることにより、ウエハ表面上の塗布液の周縁部を平坦
化するガス用ノズル４４が設置されている。さらに、ウ
エハ保持台３４の側部及び下部を覆うように塗布液受け
用カップ４６が設置されており、この塗布液受け用カッ
プ４６によって、高速回転によりウエハ３６の表面から
飛散する塗布液や溶剤が受け止められ、周囲の汚れが防
止される。
布膜形成装置の一実施形態を説明する。図１は、本発明
の塗布膜形成装置の一実施形態を示す模式図である。塗
布膜形成装置３０は、図示しないモータ等により矢印Ａ
方向に高速回転される回転軸３２と、回転軸３２の先端
部に固定され、ウエハ３６をその表面を上に向けて保持
するウエハ保持台３４を備えている。また、ウエハ保持
台３４に保持されたウエハ３６の表面中心部３６ａの上
方には、この表面中心部３６ａに塗布液を滴下する滴下
ノズル３８が設置されている。また、ウエハ保持台３４
の上方には、ウエハ３６の表面の周縁部３２ｂに洗浄液
を吹き付けることにより、表面周縁部３６ｂに付着して
いる塗布液を除去する第１のエッジリンス用ノズル４０
が設置されており、一方、ウエハ保持台３４の下方に
は、ウエハ３６の裏面の周縁部３６ｃに洗浄液を吹き付
けることにより、裏面周縁部３６ｃに付着している塗布
液を除去する第２のエッジリンス用ノズル４２が設置さ
れている。第１のエッジリンス用ノズル４０は、その先
端がウエハ３６の表面周縁部３６ｂに向いており、一
方、第２のエッジリンス用ノズル４２は、その先端がウ
エハ３６の裏面周縁部３６ｃに向いている。また、ウエ
ハ保持台３４の上方には、先端がウエハ３６の表面周縁
部３６ｄに向き、この表面周縁部３６ｄにガスを吹き付
けることにより、ウエハ表面上の塗布液の周縁部を平坦
化するガス用ノズル４４が設置されている。さらに、ウ
エハ保持台３４の側部及び下部を覆うように塗布液受け
用カップ４６が設置されており、この塗布液受け用カッ
プ４６によって、高速回転によりウエハ３６の表面から
飛散する塗布液や溶剤が受け止められ、周囲の汚れが防
止される。
【００１２】図２を参照して、塗布膜形成装置３０を使
用してウエハ表面に塗布膜を形成する本発明の塗布膜形
成方法の一実施形態を説明する。ウエハ保持台３４の上
にウエハ３６を、例えば真空吸着により表面を上に向け
て固定する。図示しないモータ等によって回転軸３２を
矢印Ａ方向に回転させてウエハ保持台３４に固定された
ウエハ３６を、例えば４０００ｒｐｍで高速回転させ
る。ウエハ３６を回転させながら、滴下ノズル３８から
ウエハ３６の表面中心部３６ａに、例えばシリコン化合
物を主成分とする有機ＳＯＧ溶液や無機ＳＯＧ溶液など
の塗布液を滴下する。滴下された塗布液は、約１０秒間
で遠心力により均一に引き延ばされ薄膜化して薄膜４８
が形成される。
用してウエハ表面に塗布膜を形成する本発明の塗布膜形
成方法の一実施形態を説明する。ウエハ保持台３４の上
にウエハ３６を、例えば真空吸着により表面を上に向け
て固定する。図示しないモータ等によって回転軸３２を
矢印Ａ方向に回転させてウエハ保持台３４に固定された
ウエハ３６を、例えば４０００ｒｐｍで高速回転させ
る。ウエハ３６を回転させながら、滴下ノズル３８から
ウエハ３６の表面中心部３６ａに、例えばシリコン化合
物を主成分とする有機ＳＯＧ溶液や無機ＳＯＧ溶液など
の塗布液を滴下する。滴下された塗布液は、約１０秒間
で遠心力により均一に引き延ばされ薄膜化して薄膜４８
が形成される。
【００１３】次に、ウエハ３６の回転速度を１０００ｒ
ｐｍまで下げて、第１のエッジリンス用ノズル４０と第
２のエッジリンス用ノズル４２を用いて、ウエハ３６の
外周縁から中心方向に３ｍｍまでの周縁部３６ｂ，３６
ｃに、例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、エタ
ノール、メタノール、シクロヘキサン等の有機溶剤４０
ａ，４２ａを５秒間吹き付けて、ウエハ３６と外周面の
周縁部の洗浄を行う。このようにして、第１のエッジリ
ンス用ノズル４０と第２のエッジリンス用ノズル４２か
ら有機溶剤をウエハ３６の周縁部３６ｂ，３６ｃに吹き
付けると、図４に示すように薄膜の周縁部に盛上り部分
２２が形成される。そこで、ここでは、ウエハ３６の周
縁部の洗浄を行った後、ガス用ノズル４４からウエハ３
６の周縁部３６ｄにＮ2 ガス（又はエアー）４４ａを吹
き付けて、盛上り部分２２（図４参照）を平らにして薄
膜４８の周縁部を平坦化する。このとき、Ｎ2 ガスの吹
き付ける圧力は３〜６ｋｇ／ｃｍ2 、ノズル角度３０〜
４５°、ノズルとウエハ間の距離を２〜５ｍｍとするの
が適切である。
ｐｍまで下げて、第１のエッジリンス用ノズル４０と第
２のエッジリンス用ノズル４２を用いて、ウエハ３６の
外周縁から中心方向に３ｍｍまでの周縁部３６ｂ，３６
ｃに、例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、エタ
ノール、メタノール、シクロヘキサン等の有機溶剤４０
ａ，４２ａを５秒間吹き付けて、ウエハ３６と外周面の
周縁部の洗浄を行う。このようにして、第１のエッジリ
ンス用ノズル４０と第２のエッジリンス用ノズル４２か
ら有機溶剤をウエハ３６の周縁部３６ｂ，３６ｃに吹き
付けると、図４に示すように薄膜の周縁部に盛上り部分
２２が形成される。そこで、ここでは、ウエハ３６の周
縁部の洗浄を行った後、ガス用ノズル４４からウエハ３
６の周縁部３６ｄにＮ2 ガス（又はエアー）４４ａを吹
き付けて、盛上り部分２２（図４参照）を平らにして薄
膜４８の周縁部を平坦化する。このとき、Ｎ2 ガスの吹
き付ける圧力は３〜６ｋｇ／ｃｍ2 、ノズル角度３０〜
４５°、ノズルとウエハ間の距離を２〜５ｍｍとするの
が適切である。
【００１４】またノズルの先端の位置はウエハ周縁から
内側に５ｍｍ付近、すなわちエッジリンスによるＳＯＧ
の盛り上り部分２２よりもやや内側に位置するのが本発
明の目的を達成するのに好ましい。ウエハ間の距離を２
〜５ｍｍとするのは、これ以上ノズルをウエハから離せ
ば、Ｎ2 ガスが発散し、盛り上り部分２２が除去できな
くなるからであり、圧力を３〜６ｋｇ／ｃｍ2 とするの
は３ｋｇ／ｃｍ2 以下では除去する風圧がなくなるから
であり、６ｋｇ／ｃｍ2 以上では風圧が強過ぎ、ＳＯＧ
膜を基準厚さよりも、寧ろ薄くしてしまうからである。
また、ノズル角度３０〜４５°とするのは盛り上り部分
２２の除去に最も効率的だからである。尚、有機溶剤４
０ａ，４２ａの吹き付けと、Ｎ2 ガスの４４ａの吹き付
けとを同時に行ってもよく、この場合は、盛上り部分２
２がほとんど形成されることなく薄膜４８の周縁部を平
坦化できる。
内側に５ｍｍ付近、すなわちエッジリンスによるＳＯＧ
の盛り上り部分２２よりもやや内側に位置するのが本発
明の目的を達成するのに好ましい。ウエハ間の距離を２
〜５ｍｍとするのは、これ以上ノズルをウエハから離せ
ば、Ｎ2 ガスが発散し、盛り上り部分２２が除去できな
くなるからであり、圧力を３〜６ｋｇ／ｃｍ2 とするの
は３ｋｇ／ｃｍ2 以下では除去する風圧がなくなるから
であり、６ｋｇ／ｃｍ2 以上では風圧が強過ぎ、ＳＯＧ
膜を基準厚さよりも、寧ろ薄くしてしまうからである。
また、ノズル角度３０〜４５°とするのは盛り上り部分
２２の除去に最も効率的だからである。尚、有機溶剤４
０ａ，４２ａの吹き付けと、Ｎ2 ガスの４４ａの吹き付
けとを同時に行ってもよく、この場合は、盛上り部分２
２がほとんど形成されることなく薄膜４８の周縁部を平
坦化できる。
【００１５】このようにして、平坦な薄膜が表面に形成
されたウエハ３６を４００℃の温度で加熱処理すること
によりウエハ３６の表面に平坦なＳＯＧ膜を形成でき、
後工程において、塗布膜に起因するパーティクルの発生
が防止される。尚、ここではＳＯＧ膜を例にとり説明し
たが、本発明の塗布膜形成方法はポリイミド系の樹脂膜
の形成にも適用される。
されたウエハ３６を４００℃の温度で加熱処理すること
によりウエハ３６の表面に平坦なＳＯＧ膜を形成でき、
後工程において、塗布膜に起因するパーティクルの発生
が防止される。尚、ここではＳＯＧ膜を例にとり説明し
たが、本発明の塗布膜形成方法はポリイミド系の樹脂膜
の形成にも適用される。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように本発明の塗布膜形成
装置によれば、第１のエッジリンス用ノズルと第２のエ
ッジリンス用ノズルを用いて、ウエハの周縁部や外周面
に付着している塗布液を除去できるだけでなく、ガス用
ノズルを用いてウエハ表面上の塗布液の周縁部を平坦化
できるので、後工程において、塗布膜に起因するパーテ
ィクルの発生が防止される。この結果、製品の歩留りや
信頼性を向上させることができる。
装置によれば、第１のエッジリンス用ノズルと第２のエ
ッジリンス用ノズルを用いて、ウエハの周縁部や外周面
に付着している塗布液を除去できるだけでなく、ガス用
ノズルを用いてウエハ表面上の塗布液の周縁部を平坦化
できるので、後工程において、塗布膜に起因するパーテ
ィクルの発生が防止される。この結果、製品の歩留りや
信頼性を向上させることができる。
【００１７】また、本発明の塗布膜形成方法によれば、
ウエハ表面の周縁部とウエハ裏面の周縁部に洗浄液を吹
き付けて周縁部や外周面に付着している塗布液を除去
し、さらに、ウエハ表面の周縁部にガスを吹き付けて薄
膜の周縁部を平坦化するので、後工程において、塗布膜
に起因するパーティクルの発生が防止される。この結
果、製品の歩留りや信頼性を向上させることができる。
ウエハ表面の周縁部とウエハ裏面の周縁部に洗浄液を吹
き付けて周縁部や外周面に付着している塗布液を除去
し、さらに、ウエハ表面の周縁部にガスを吹き付けて薄
膜の周縁部を平坦化するので、後工程において、塗布膜
に起因するパーティクルの発生が防止される。この結
果、製品の歩留りや信頼性を向上させることができる。
【００１８】ここで、塗布液除去工程及び平坦化工程に
代えて、ウエハの表面及び裏面双方の周縁部に洗浄液を
吹き付けると共に表面周縁部にガスを吹き付けることに
より、表面及び裏面双方の周縁部に付着している塗布液
を除去しながら薄膜表面の周縁部を平坦化する場合は、
塗布液除去工程及び平坦化工程を採用する場合に比べ短
い時間で塗布膜を形成できる。
代えて、ウエハの表面及び裏面双方の周縁部に洗浄液を
吹き付けると共に表面周縁部にガスを吹き付けることに
より、表面及び裏面双方の周縁部に付着している塗布液
を除去しながら薄膜表面の周縁部を平坦化する場合は、
塗布液除去工程及び平坦化工程を採用する場合に比べ短
い時間で塗布膜を形成できる。
【図１】本発明の塗布膜形成装置の一実施形態を示す模
式図である。
式図である。
【図２】本発明の塗布膜形成方法の一実施形態を示す模
式図である。
式図である。
【図３】従来の塗布膜形成方法を示す模式図である。
【図４】従来の他の塗布膜形成方法を示す模式図であ
る。
る。
３０ 塗布膜形成装置 ３４ ウエハ保持台 ３６ ウエハ ３６ａ 表面中心部 ３６ｂ，３６ｄ 表面周縁部 ３６ｃ 裏面周縁部 ３８ 滴下ノズル ４０ 第１のエッジリンス用ノズル ４２ 第２のエッジリンス用ノズル ４４ ガス用ノズル
Claims (3)
- 【請求項１】 ウエハ表面に塗布膜を形成する塗布膜形
成装置において、 ウエハの表面を上に向けて該ウエハを保持し回転させる
ウエハ保持台と、 該ウエハ保持台に保持されたウエハの表面中心部に塗布
液を滴下する滴下ノズルと、 前記ウエハ保持台の上方に設置され、該ウエハ保持台に
保持されたウエハの表面の周縁部に洗浄液を吹き付ける
ことにより、該表面周縁部に付着している塗布液を除去
する第１のエッジリンス用ノズルと、 前記ウエハ保持台の下方に設置され、該ウエハ保持台に
保持されたウエハの裏面の周縁部に洗浄液を吹き付ける
ことにより、該裏面周縁部に付着している塗布液を除去
する第２のエッジリンス用ノズルと、 前記ウエハ保持台の上方に設置され、該ウエハ保持台に
保持されたウエハの表面の周縁部にガスを吹き付けるこ
とにより、ウエハ表面上の塗布液の周縁部を平坦化する
ガス用ノズルとを備えたことを特徴とする塗布膜形成装
置。 - 【請求項２】 ウエハ表面に塗布膜を形成する塗布膜形
成方法において、 表面を上に向けて回転しているウエハの該表面の中心部
に塗布液を滴下することにより、該塗布液の薄膜を前記
ウエハの表面に形成する薄膜形成工程と、 前記塗布液の薄膜が形成されたウエハの表面の周縁部及
び裏面の周縁部に洗浄液を吹き付けることにより、ウエ
ハの周縁部及び外周面に付着している塗布液を除去する
塗布液除去工程と、 前記周縁部及び前記外周面に付着している塗布液が除去
されたウエハの表面の周縁部にガスを吹き付けることに
より、薄膜の周縁部を平坦化する平坦化工程とを含むこ
とを特徴とする塗布膜形成方法。 - 【請求項３】 前記塗布液除去工程及び前記平坦化工程
に代えて、 前記ウエハの表面及び裏面双方の周縁部に洗浄液を吹き
付けると共に前記表面の周縁部にガスを吹き付けること
により、表面及び裏面双方の周縁部に付着している塗布
液を除去しながら薄膜表面の周縁部を平坦化する除去平
坦化工程を含むことを特徴とする請求項２記載の塗布膜
形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26303495A JPH09106980A (ja) | 1995-10-11 | 1995-10-11 | 塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26303495A JPH09106980A (ja) | 1995-10-11 | 1995-10-11 | 塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09106980A true JPH09106980A (ja) | 1997-04-22 |
Family
ID=17383962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26303495A Withdrawn JPH09106980A (ja) | 1995-10-11 | 1995-10-11 | 塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09106980A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1995
- 1995-10-11 JP JP26303495A patent/JPH09106980A/ja not_active Withdrawn
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