JPH07278060A - 光架橋性液晶 - Google Patents

光架橋性液晶

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JPH07278060A
JPH07278060A JP7069149A JP6914995A JPH07278060A JP H07278060 A JPH07278060 A JP H07278060A JP 7069149 A JP7069149 A JP 7069149A JP 6914995 A JP6914995 A JP 6914995A JP H07278060 A JPH07278060 A JP H07278060A
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式（Ｉ）： 【化２０】 （式中、Ａは、架橋性中間相形成残基を表し、Ｘは、単
結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＣＯＮＨ−又は−
Ｃ＝Ｎ−を表し、そしてＱは、ｎ−アルキレン、ｃ−ア
ルキレン、１，４−フェニレン、４，４′−ビフェニレ
ン又は２，６−ナフチレンを表す）で示される化合物、
及びこの化合物少なくとも１種を含む架橋性液晶混合
物。 【効果】 上記化合物は、光学構成要素のための液晶混
合物の成分として適切であり、またその良好な溶解性及
び混和性のために式（Ｉ）の化合物を１００重量％まで
の量とすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光架橋性液晶、そのよ
うな化合物を含有する液晶混合物及び光学的構成要素の
ための架橋状態でのそれらの用途に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】適切量
の光開始剤を供給された光架橋性液晶は、ガラス若しく
はシリコンなどの基質上の配向層により、又は電場若し
くは磁場によって配向されることができ、次いで、適切
な波長の光の照射によって架橋することができる。この
ように形成された配向は、高温においてさえも残存す
る。このことは、配向層が、偏光された紫外線による選
択的な照射によって液晶層上の高分解配向パターンを誘
導する光配向性高分子網状組織層（ＰＰＮ）からなる場
合にも当てはまる。このようなハイブリド層は、薄い高
分子層の光学的に記録された高分解配向構造を、ある厚
さの複屈折密集架橋高分子層に移動することを可能にす
る。光架橋性液晶又は光架橋性液晶及び低分子量の液晶
及び／又は光学活性（キラル）添加剤からなる混合物
が、用途に応じて用いられる。したがって、例えば、光
学的遅延材、導波管、光学的グリッド及びフィルター、
積層カラーフィルター、圧電光学的構成要素などの長期
間の安定性を有する光学的構成要素及び非線状光学（Ｎ
ＬＯ）性を有する光学構成要素を製造することができ
る。このような光学構成要素は、例えば映写システムに
使用することができる。
【０００３】例えば、複屈折性、屈折率、透明性などの
更なる性質は、応用分野に左右される異なる要求を満た
さなければならない。例えば、光学遅延材用の材料は、
積層光学的構成要素の層の厚さを最小に維持できるよう
にするために、高い複屈折性を有するべきである。
【０００４】光学的構成要素のための光架橋性液晶にお
ける一般的な重要性の他に、このような液晶材料は、光
学的データ伝達のための外装用ガラス繊維に適切であ
る。このような材料の使用によって、繊維の長手方向軸
の弾性率が増加し、熱膨張係数が減少し、微少歪み損失
が減少する。このことは、機械的安定性の増加をもたら
す。
【０００５】光架橋性液晶は、良好な化学的及び熱的安
定性、通常の溶媒への良好な溶解性及び電場及び電磁気
照射に対する良好な安定性を有さなければならない。更
に、それらは、約２５℃ないし約８０℃、可能であれば
約２５℃ないし約１００℃で、適切な中間相、例えば、
幅広いスメクチック又はネマチック中間相及び上述した
応用のために、それぞれキラルスメクチック及びコレス
テリック中間相を有するべきである。
【０００６】液晶は、通常数種の成分の混合物として使
用され、その成分は、互いに良好な混和性を有すること
が重要である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、単一成分又は
このような光学構成要素のための液晶混合物の成分とし
て著しく適切な化合物を今提供するものである。従っ
て、本発明の目的は、一般式（Ｉ）：
【０００８】
【化８】
【０００９】（式中、Ａは、架橋性中間相形成残基を表
し、Ｘは、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＣＯ
ＮＨ−又は−Ｃ＝Ｎ−を表し、そしてＱは、ｎ−アルキ
レン、ｃ−アルキレン、１，４−フェニレン、４，４′
−ビフェニレン又は２，６−ナフチレンを表す）で示さ
れる化合物からなる光架橋性液晶を提供することであ
る。
【００１０】一般式（Ｉ）で示される化合物は、その比
較的低い粘度によって際立っている。したがって、それ
らは、問題なく適切な表面に適用することができる。一
般的に、これは回転塗布によって行われる。更に、本発
明の化合物は、液晶相を有するので、それらは、架橋前
に電場の適用によって配向することができる。これは、
特に、中間相形成残基Ａが、一般式（II）：
【００１１】
【化９】
【００１２】（式中、環Ｃ及びＤは、各々独立して、
１，４−フェニレン（ここで、これは、場合によりハロ
ゲン、メチル及び／又はシアノで置換されていいてもよ
い）、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５
−ジイル、トランス−１，４−シクロヘキシレン又はト
ランス−１，３−ジオキサン−２，５−ジイルを表し；
Ｚ1 は、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＣＯＯ
−、−ＯＯＣ−、−（ＣＨ2）4 −又は−（ＣＨ）3 Ｏ
−を表し、Ｚ2 は、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ
2 Ｏ−、−ＯＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−
（ＣＨ2 ）4 −、−Ｏ（ＣＨ2 ）3 −又は−（ＣＨ2 ）
3 Ｏ−を表し；Ｚ3 は、−（ＣＨ2 ）m −、−（ＣＨ
2 ）m Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ2 ）m −、−（ＣＨ2 ）m ＣＯ
Ｏ−、−ＯＯＣ（ＣＨ2 ）m −、−（ＣＨ2 ）m ＯＯＣ
−又は−ＣＯＯ（ＣＨ2 ）m −を表し；ｎは、０又は１
であり；ｍは、１乃至１６の整数であり；そしてＲは、
アクリレート、メタクリレート、２−クロロアクリレー
ト、２−フェニルアクリレート、アクリロイルフェニレ
ン、アクリルアミド、メタクリルアミド、２−フェニル
アクリルアミド、エポキシ、イタコン酸エステル、ビニ
ルエーテル、ビニルエステル、スチレン誘導体、マレイ
ン酸誘導体、フマル酸誘導体又はケイ皮酸誘導体（ここ
で、これらは、メチル、メトキシ、シアノ及び／又はハ
ロゲンで置換されていてもよい）などの架橋性基であ
る）で示される残基を各々表わす本発明に従った式
（Ｉ）の化合物のための場合である。
【００１３】特に好ましい中間相形成残基は、環Ｃ及び
Ｄが、各々独立して、非置換若しくはフルオロ置換１，
４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジ
ン−２，５−ジイル又はトランス−１，４−シクロヘキ
シレンを表し；Ｚ1 が、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＣＯＯ−又は
−ＯＯＣ−を表わし；そしてＺ2 が、−ＣＨ2 ＣＨ
2−、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＯＣＨ2 −、−ＣＯＯ−又は−
ＯＯＣ−を表わす残基である。
【００１４】用語“ｎ−アルキレン”は、本発明の範囲
において、炭素数１乃至１６の直鎖アルキレンを表わ
す。特に好ましいアルキレンは、１，４−ブチレン、
１，５−ペンチレン、１，６−ヘキシレン、１，７−ヘ
プチレン、１，８−オクチレン、１，９−ノニレン、
１，１０−デシレン、１，１１−ウンデシレン及び１，
１２−ドデシレンである。用語“ｃ−アルキレン”は、
例えば、１，３−シクロブチレン、１，２−又は１，３
−シクロペンチレン、１，４−シクロヘキシレン、１，
４−ビシクロ（２．２．２）オクタンなどのような炭素
数４乃至８の環状アルキレンを表わす。
【００１５】“場合によりハロゲン、メチル及び／又は
シアノで任意に置換されていてもよい１，４−フェニレ
ン”は、本発明において、１，４−フェニレン、例え
ば、２−又は３−フルオロ−１，４−フェニレン、１，
３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−又は
３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２−又は３
−クロロ−１，４−フェニレン、２，３−ジクロロ−
１，４−フェニレン、２，６−又は３，５−ジクロロ−
１，４−フェニレン、２−又は３−ブロモ−１，４−フ
ェニレン、２−又は３−メチル−１，４−フェニレン、
２−又は３−シアノ−１，４−フェニレンなどの、フル
オロ−、ブロモ−、クロロ−、メチル−又はシアノ−置
換１，４−フェニレンを包含する。
【００１６】アクリレート、メタクリレート、２−クロ
ロアクリレート、２−フェニルアクリレート、アクリロ
イルフェニレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、
２−フェニルアクリルアミド、ビニルエーテル、ビニル
エステル、スチレン誘導体、マレイン酸誘導体、フマル
酸誘導体などは、好ましい残基Ｒである。これらの残基
は、適切な担体を式（Ｉ）で示される化合物で塗布した
後、光化学的に架橋することができる。
【００１７】アクリレート、メタクリレート、アクリロ
イルオキシ、メタクリロイルオキシ、ビニルオキシ及び
エポキシは、特に好ましい残基Ｒである。
【００１８】好ましくは、式（Ｉ）で示される化合物中
のＸは、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−又は−ＣＨ2 Ｏ−基
を表わす。これらの基は、対応するアルデヒドから容易
に入手でき、次いで、好ましくは、−（ＣＨ2 ）p −
（式中、ｐは、２乃至１２の整数である）及び１，２又
は１，４−フェニレンを表わす基Ｑの適切な誘導体と容
易に反応することができる。
【００１９】本発明の中間相化合物は、中間相形成側鎖
Ａ中の環の変化により影響させることができる。このよ
うに、複素環は、スメクチック相を生成する傾向を有
し、一方、シクロヘキシレン環は、ネマチックの傾向を
促進する。好ましくは、これらの中間相形成残基Ａは、
ｎが０である式（II）で示される残基、例えば、式（II
−ａ）：
【００２０】
【化１０】
【００２１】（式中、Ｒ1 は、アクリレート、メタクリ
レート、２−クロロアクリレート、２−フェニルアクリ
レート、ビニルオキシ又はエポキシを表わし；Ｚ33は、
−（ＣＨ2 ）m'−、−（ＣＨ2 ）m'Ｏ−、−（ＣＨ2 ）
m'ＣＯＯ−又は−（ＣＨ2 ）m'ＯＯＣ−を表わし；ｍ′
は、４乃至１２の整数であり；環Ｃ1 は、１，４−フェ
ニレン（ここで、これは、場合によりハロゲンで置換さ
れていてもよい）又はトランス−１，４−シクロヘキシ
レンを表わし；そしてＺ1 は、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−Ｃ
Ｈ2 Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−（ＣＨ2 ）4 −
又は−（ＣＨ2 ）3 Ｏ−を表わす）で示される残基であ
る。
【００２２】式（Ｉ）で示される特に好ましい化合物
は、式（Ｉ−ａ）〜（Ｉ−ｆ）：
【００２３】
【化１１】
【００２４】
【化１２】
【００２５】（式中、ｍ′は、４乃至１２の整数を表わ
し、そしてｐは、２乃至１２の整数を表わす）で示され
る化合物である。
【００２６】本発明の化合物を得る方法は、非常に単純
である。その化合物は、スキーム１〜６に図示されてい
るようなそれ自体公知の方法で調製することができる。
【００２７】
【化１３】
【００２８】
【化１４】
【００２９】
【化１５】
【００３０】
【化１６】
【００３１】
【化１７】
【００３２】
【化１８】
【００３３】スキーム１〜６において、ｍは、１乃至１
６の整数を表わし、そしてｐは、２乃至１２の整数を表
わす。
【００３４】少量のＢＨＴ（２，６−ジ−tert−ブチル
−４−メチルフェノール／“ブチルヒドロキシトルエ
ン”）を、望ましくない熱架橋を停止するために各工程
中に混合させる。
【００３５】式（Ｉ）で示される化合物を、単独の化合
物として、又は互いの及び／又は他の液晶成分との混合
物の形で用いることができる。
【００３６】本発明の液晶混合物は、少なくとも１成分
が式（Ｉ）で示される化合物である少なくとも２成分を
含有する。第２の成分及び他の成分は、式（Ｉ）で示さ
れる付加的な化合物又は架橋性基を有するか若しくは有
しない他の公知の液晶化合物であり得る。また、１種以
上のキラル成分が、混合物中に存在することができる。
【００３７】式（Ｉ）で示される化合物の良好な溶解性
及びお互いの良好な混和性のために、本発明の混合物中
の式（Ｉ）で示される異なる化合物の含有量を高くする
ことができ、１００重量％までの量とすることができ
る。
【００３８】好ましくは、本発明の混合物は、式（Ｉ）
で示される１種以上の化合物に加えて、一般式（III ）
〜（VII ）：
【００３９】
【化１９】
【００４０】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は、各々独立して、
炭素数２乃至１２のアルキル又はアルケニルを表わし；
Ｘは、水素、低級アルキル、フルオロ、ブロモ、クロロ
又はシアノを表わし；そして、ｍは、１乃至１６の整数
を表わす）で示される化合物の群からの１種以上の化合
物を含有する。
【００４１】本発明を、以下の実施例によってより詳細
に説明する。実施例において、Ｃは結晶相を表わし、Ｎ
はネマチック相を表わし、Ｓはスメクチック相を表わ
し、そしてＩは等方性相を表わす。
【００４２】
【実施例】
実施例１ ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデ
カ−１−エン（１，５−５）０．１５ｇを、トルエン２
０ml中の２，５−ビス（４−〔６−アクリロイルオキシ
ヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）安息香酸
０．７ｇ及び１，４−ジブロモブタン０．１１ｇの溶液
に、撹拌下、室温で添加した。反応混合物を、一晩８０
℃で加熱し、水１００mlに注ぎ、次いで、酢酸エチル５
０mlずつで３回抽出した。合わせた有機相を水１００ml
ずつで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過
し、続いて濃縮した。残渣をヘキサン／酢酸エチル（容
量比２：１）を用いたシリカゲルクロマトグラフィーに
より精製を行い、薄層クロマトグラフィーに従って精製
された画分をアセトンから２回再結晶して、１，４−ブ
チレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−アクリロイルオ
キシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）安息
香酸エステル〕０．３ｇを得た。融点（Ｃ−Ｎ）５９
℃、透明点（Ｎ−Ｉ）１０５℃
【００４３】出発物質として用いた２，５−ビス（４−
〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）〕フェニル
カルボニルオキシ）安息香酸を以下のごとく調製した。 （ａ）．Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド
（ＤＣＣ）２９．７ｇを、ジクロロメタン６００ml中の
２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド８．３ｇ、４−
〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕安息香酸３
５．１ｇ及び４−（ジメチルアミノ）ピリジン（ＤＭＡ
Ｐ）０．１ｇの溶液に、撹拌下、０℃で１５分以内で添
加した。反応混合物を、室温で一晩撹拌し、次いでろ過
し、続いて濃縮した。残渣をヘキサン／酢酸エチル（容
量比１：１）を用いたシリカゲルクロマトグラフィーに
よる精製を行い、薄層クロマトグラフィーにより純粋で
あった画分をエチルアルコールから２回再結晶すること
によって、２，５−ビス（４−〔６−アクリロイルオキ
シヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）ベンズ
アルデヒド７．８ｇを得た。
【００４４】（ｂ）．アセトン５０ml中の２，５−ビス
（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェ
ニルカルボニルオキシ）ベンズアルデヒド３．９ｇの溶
液を、ジョ−ンズ試薬１８mlで滴下処理した。混合物を
室温で１時間撹拌し、水１００mlに注ぎ、次いで酢酸エ
チル５０mlずつで３回抽出した。合わせた有機相を水１
００mlで２回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、
ろ過し、続いて濃縮した。残渣を−７８℃でtert−ブチ
ルメチルエーテルから再結晶した。これによって、２，
５−ビス（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキ
シ）〕フェニルカルボニルオキシ）安息香酸２．３ｇを
得た。融点（Ｃ−Ｉ）１２６℃、透明点（Ｎ−Ｉ）１２
２℃
【００４５】以下の化合物を類似の方法で調製すること
ができた。
【００４６】１，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス
（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェ
ニルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕；融点（Ｃ
−Ｎ）６２℃、透明点（Ｎ−Ｉ）９６℃ １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ）〕フェニルカルボニ
ルオキシ）安息香酸エステル〕；融点（Ｃ−Ｎ）９４
℃、透明点（Ｎ−Ｉ）１１３℃ １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕；融点（Ｃ−Ｎ）４５℃、
透明点（Ｎ−Ｉ）８５℃ １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル；融点（Ｃ−Ｎ）６５℃、透
明点（Ｎ−Ｉ）９７℃ １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−アク
リロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）安息香酸エステル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕
【００４７】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔７−アクリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニル
カルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−アク
リロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）安息香酸エステル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕
【００４８】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔８−アクリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニル
カルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−アク
リロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）安息香酸エステル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕
【００４９】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔９−アクリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカ
ルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）安息香酸エステル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）安息香酸エステル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）安息香酸エステル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）安息香酸エステル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−アク
リロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）安息香酸エステル〕
【００５０】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔１０−アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニル
カルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−ア
クリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）安息香酸エステル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕
【００５１】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔１１−アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェ
ニルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−ア
クリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）安息香酸エステル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）安息香酸エステル〕
【００５２】１，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス
（２−フルオロ−４−〔６−アクリロイルオキシヘキシ
ルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステ
ル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（２−クロロ−
４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニ
ルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（２−ブロモ−
４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニ
ルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（２−シアノ−
４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニ
ルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（２，３−ジフ
ルオロ−４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキ
シ〕フェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（２，３−ジク
ロロ−４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕
フェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−メ
タクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）安息香酸エステル〕
【００５３】１，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス
（４−〔６−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フ
ェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−メ
タクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）安息香酸エステル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−メ
タクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）安息香酸エステル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−メタ
クリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−メ
タクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）安息香酸エステル〕
【００５４】１，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス
（２，３−ジクロロ−４−〔６−ビニルルオキシヘキシ
ルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステ
ル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビ
ニルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビ
ニルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビ
ニルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビ
ニルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビニ
ルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
安息香酸エステル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビ
ニルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕
【００５５】１，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス
（２，３−ジクロロ−４−〔５，６−エポキシヘキシル
オキシ〕フェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステ
ル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔５，６
−エポキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔５，６
−エポキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔５，６
−エポキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔５，６
−エポキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔５，６−
エポキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
安息香酸エステル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔５，６
−エポキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕
【００５６】実施例２ （ａ）．Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド２
９．７８８ｇを、ジクロロメタン６００ml中のハイドロ
キノン４．０ｇ、２，５−ビス（４−〔６−アクリロイ
ルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
安息香酸３５．１ｇ及び４−（ジメチルアミノ）ピリジ
ン０．１ｇの溶液に、撹拌下、０℃で、１５分以内で添
加した。反応混合物を、室温で一晩撹拌し、次いでろ過
し、続いて濃縮した。残渣を、ヘキサン／酢酸エチル
（容量比１：１）を用いたシリカゲルクロマトグラフィ
ーによって精製し、薄層クロマトグラフィーにより純粋
であった画分をエチルアルコールから２回再結晶するこ
とによって、１，４−フェニレンビス〔２，５−ビス
（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェ
ニルカルボニルオキシ）安息香酸７．８ｇを得た。
【００５７】以下の化合物を類似の方法で調製すること
ができた。
【００５８】１，４−フェニレンビス〔２，５−ビス
（４−〔７−アクリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェ
ニルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）安息香酸エステル〕
【００５９】トランス−１，４−シクロヘキシレンビス
〔２，５−ビス（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシ
ルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステ
ル〕 トランス−１，４−シクロヘキシレンビス〔２，５−ビ
ス（４−〔７−アクリロイルオキシヘプチルオキシ〕フ
ェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 トランス−１，４−シクロヘキシレンビス〔２，５−ビ
ス（４−〔８−アクリロイルオキシオクチルオキシ〕フ
ェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 トランス−１，４−シクロヘキシレンビス〔２，５−ビ
ス（４−〔９−アクリロイルオキシノニルオキシ〕フェ
ニルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 トランス−１，４−シクロヘキシレンビス〔２，５−ビ
ス（４−〔１０−アクリロイルオキシデシルオキシ〕フ
ェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 トランス−１，４−シクロヘキシレンビス〔２，５−ビ
ス（４−〔１１−アクリロイルオキシウンデシルオキ
シ〕フェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕
【００６０】４，４′−ビフェニレンビス〔２，５−ビ
ス（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フ
ェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 ４，４′−ビフェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔７
−アクリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）安息香酸エステル〕 ４，４′−ビフェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔８
−アクリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）安息香酸エステル〕 ４，４′−ビフェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔９
−アクリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）安息香酸エステル〕 ４，４′−ビフェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１
０−アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）安息香酸エステル〕 ４，４′−ビフェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１
１−アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカ
ルボニルオキシ）安息香酸エステル〕
【００６１】１，４−フェニレンビス〔２，５−ビス
（４−〔６−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フ
ェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−メ
タクリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−メ
タクリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−メ
タクリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
メタクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
メタクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカル
ボニルオキシ）安息香酸エステル〕
【００６２】１，４−フェニレンビス〔２，５−ビス
（２，３−ジクロロ−４−〔６−ビニルオキシヘキシル
オキシ〕フェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステ
ル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビ
ニルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ビ
ニルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ビ
ニルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ビ
ニルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
ビニルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
ビニルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）安息香酸エステル〕
【００６３】１，４−フェニレンビス〔２，５−ビス
（２，３−ジクロロ−４−〔５，６−エポキシヘキシル
オキシ〕フェニルカルボニルオキシ）安息香酸エステ
ル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔５，６
−エポキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔６，７
−エポキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔７，８
−エポキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔８，９
−エポキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔９，１
０−エポキシデシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸エステル〕 １，４−フェニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０，
１１−エポキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕
【００６４】実施例３ ナトリウムtert- ブトキシド０．１５ｇを、ジメチルス
ルホキシド２０ml中の２，５−ビス（４−〔６−アクリ
ロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）ベンジルアルコール０．７ｇ及び１，４−ジブロモ
ブタン０．１１ｇの溶液に、撹拌下、室温で添加した。
反応混合物を室温で一晩撹拌し、水１００mlに注ぎ、次
いで、酢酸エチル５０mlずつで３回抽出した。合わせた
有機相を、水１００mlで２回ずつ洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、ろ過し、続いて濃縮した。残渣を、ヘキ
サン／酢酸エチル（容量比２：１）を用いたシリカゲル
クロマトグラフィーによって精製し、薄層クロマトグラ
フィーにより純粋であった画分をアセトンから２回再結
晶して１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６
−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）ベンジルエーテル０．３ｇを得た。
【００６５】出発物質として用いた２，５−ビス（４−
〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカ
ルボニルオキシ）ベンジルアルコールを以下のように調
製した。
【００６６】（ａ）．ナトリウムボロヒドライド３２ｇ
及びエタノール１８０mlの混合物を、水１６５mlで０℃
で処理し、さらに１０分間撹拌し、次いで、エタノール
１００ml中の２，５−ビス（４−〔６−アクリロイルオ
キシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）ベン
ズアルデヒド５０ｇ及びジクロロメタン１０mlの溶液で
０ないし５℃で滴下処理した。反応混合物を、さらに０
℃で３０分間撹拌し、次いでジクロロメタン１００ml中
に注ぎ、ジクロロメタン５０mlずつで２回抽出した。次
いで、有機相を水１００mlで２回ずつ洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、ろ過し、濾液を濃縮した。残渣をte
rt- ブチルメチルエーテルから再結晶した。これによっ
て、２，５−ビス（４−〔６−アクリロイルオキシヘキ
シルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）ベンジルアル
コール３５ｇを得た。
【００６７】以下の化合物を類似の方法で調製すること
ができた。
【００６８】１，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス
（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェ
ニルカルボニルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−アク
リロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンジルエーテル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕
【００６９】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔７−アクリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニル
カルボニルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−アク
リロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンジルエーテル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕
【００７０】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔８−アクリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニル
カルボニルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−アク
リロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンジルエーテル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕
【００７１】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔９−アクリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカ
ルボニルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンジルエーテル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンジルエーテル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンジルエーテル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンジルエーテル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−アク
リロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）ベンジルエーテル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンジルエーテル〕
【００７２】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔１０−アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニル
カルボニルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−ア
クリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンジルエーテル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕
【００７３】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔１１−アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェ
ニルカルボニルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−ア
クリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）ベンジルエーテル〕
【００７４】１，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス
（４−〔６−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フ
ェニルカルボニルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−メ
タクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−メ
タクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−メ
タクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−メタ
クリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンジルエーテル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−メ
タクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）ベンジルエーテル〕
【００７５】１，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス
（４−〔６−ビニルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカ
ルボニルオキシ）ベンジルエーテル〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビ
ニルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）ベンジルエーテル〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビ
ニルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）ベンジルエーテル〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビ
ニルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）ベンジルエーテル〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビニ
ルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
ベンジルエーテル〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビ
ニルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）ベンジルエーテル〕
【００７６】実施例４ ２，５−ビス（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシル
オキシ）〕フェニルカルボニルオキシ）ベンゾイルクロ
リド０．７ｇ及びジクロロメタン２０mlの溶液を、ジク
ロロメタン２０ml中の１，４−ジアミノブタン０．１１
ｇの溶液に、撹拌下、室温で滴下した。反応混合物を、
室温で一晩撹拌し、水１００ml中に注ぎ、次いで、酢酸
エチル５０mlで３回ずつ抽出した。合わせた有機相を、
水１００mlで２回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、ろ過し、続いて濃縮した。残渣をヘキサン／酢酸エ
チル（容量比２：１）を用いたシリカゲルクロマトグラ
フィーによって精製し、薄層クロマトグラフィーにより
純粋であった画分をアセトンから２回再結晶を行い、
１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−アク
リロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンズアミド〕を得た。
【００７７】出発物質として用いた２，５−ビス（４−
〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）〕フェニル
カルボニルオキシ）ベンゾイルクロリドを、以下のよう
に調製した。
【００７８】（ａ）．２，５−ビス（４−〔６−アクリ
ロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）安息香酸１．５ｇをトルエン１００ml中のチオニル
クロリド２５mlと共に８０℃で２時間加熱した。得られ
た溶液を、減圧下、蒸発させ、残渣を無水トルエン２０
mlで処理し、その溶液を再び減圧下に蒸発させた。残渣
をさらに精製することなく次の工程に用いた。
【００７９】以下の化合物を類似の方法で調製すること
ができた。
【００８０】１，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス
（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェ
ニルカルボニルオキシ）ベンズアミド〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−アク
リロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンズアミド〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕
【００８１】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔７−アクリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニル
カルボニルオキシ）ベンズアミド〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−アク
リロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンズアミド〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔７−ア
クリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕
【００８２】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔８−アクリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニル
カルボニルオキシ）ベンズアミド〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−アク
リロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンズアミド〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔８−ア
クリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕
【００８３】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔９−アクリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカ
ルボニルオキシ）ベンズアミド〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンズアミド〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンズアミド〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンズアミド〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンズアミド〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−アク
リロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）ベンズアミド〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔９−ア
クリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンズアミド〕
【００８４】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔１０−アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニル
カルボニルオキシ）ベンズアミド〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−ア
クリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニルオ
キシ）ベンズアミド〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔１０−
アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）ベンズアミド〕
【００８５】１，４−ブチレンビス〔２，５−ビス（４
−〔１１−アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェ
ニルカルボニルオキシ）ベンズアミド〕 １，５−ペンチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）ベンズアミド〕 １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）ベンズアミド〕 １，７−ヘプチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）ベンズアミド〕 １，８−オクチレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）ベンズアミド〕 １，９−ノニレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−ア
クリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）ベンズアミド〕 １，１０−デシレンビス〔２，５−ビス（４−〔１１−
アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）ベンズアミド〕
【００８６】実施例５ Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド２９．７ｇ
を、ジクロロメタン６００ml中の１，５−ビス（ヒドロ
キノリル）ペンタン４．０ｇ、４−〔６−アクリロイル
オキシヘキシルオキシ〕安息香酸及び４−（ジメチルア
ミノ）ピリジン０．１ｇの溶液に、撹拌下、０℃で１５
分以内で添加した。反応混合物を、室温で一晩撹拌し、
次いで、ろ過し、続いて濃縮した。残渣をヘキサン／酢
酸エチル（容量比１：１）を用いたシリカゲルクロマト
グラフィーによって精製し、薄層クロマトグラフィーに
より純粋であった画分を２回再結晶することによって、
１，５−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−アクリロイル
オキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フ
ェニル〕ペンタン７．８ｇを得た。
【００８７】以下の化合物を類似の方法で調製すること
ができた。
【００８８】１，６−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−
アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）フェニル〕ヘキサン １，７−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−アクリロイル
オキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フ
ェニル〕ヘプタン １，８−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−アクリロイル
オキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フ
ェニル〕オクタン １，９−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−アクリロイル
オキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フ
ェニル〕ノナン １，１０−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−アクリロイ
ルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
フェニル〕デカン
【００８９】１，６−ビス〔２，５−ビス（４−〔７−
アクリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）フェニル〕ヘキサン １，７−ビス〔２，５−ビス（４−〔７−アクリロイル
オキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フ
ェニル〕ヘプタン １，８−ビス〔２，５−ビス（４−〔７−アクリロイル
オキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フ
ェニル〕オクタン １，９−ビス〔２，５−ビス（４−〔７−アクリロイル
オキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フ
ェニル〕ノナン １，１０−ビス〔２，５−ビス（４−〔７−アクリロイ
ルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
フェニル〕デカン
【００９０】１，６−ビス〔２，５−ビス（４−〔８−
アクリロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）フェニル〕ヘキサン １，７−ビス〔２，５−ビス（４−〔８−アクリロイル
オキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フ
ェニル〕ヘプタン １，８−ビス〔２，５−ビス（４−〔８−アクリロイル
オキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フ
ェニル〕オクタン １，９−ビス〔２，５−ビス（４−〔８−アクリロイル
オキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フ
ェニル〕ノナン １，１０−ビス〔２，５−ビス（４−〔８−アクリロイ
ルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
フェニル〕デカン
【００９１】１，６−ビス〔２，５−ビス（４−〔９−
アクリロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）フェニル〕ヘキサン １，７−ビス〔２，５−ビス（４−〔９−アクリロイル
オキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フェ
ニル〕ヘプタン １，８−ビス〔２，５−ビス（４−〔９−アクリロイル
オキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フェ
ニル〕オクタン １，９−ビス〔２，５−ビス（４−〔９−アクリロイル
オキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フェ
ニル〕ノナン １，１０−ビス〔２，５−ビス（４−〔９−アクリロイ
ルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フ
ェニル〕デカン
【００９２】１，６−ビス〔２，５−ビス（４−〔１０
−アクリロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）フェニル〕ヘキサン １，７−ビス〔２，５−ビス（４−〔１０−アクリロイ
ルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フ
ェニル〕ヘプタン １，８−ビス〔２，５−ビス（４−〔１０−アクリロイ
ルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フ
ェニル〕オクタン １，９−ビス〔２，５−ビス（４−〔１０−アクリロイ
ルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フ
ェニル〕ノナン １，１０−ビス〔２，５−ビス（４−〔１０−アクリロ
イルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
フェニル〕デカン
【００９３】１，６−ビス〔２，５−ビス（４−〔１１
−アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカル
ボニルオキシ）フェニル〕ヘキサン １，７−ビス〔２，５−ビス（４−〔１１−アクリロイ
ルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）フェニル〕ヘプタン １，８−ビス〔２，５−ビス（４−〔１１−アクリロイ
ルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）フェニル〕オクタン １，９−ビス〔２，５−ビス（４−〔１１−アクリロイ
ルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）フェニル〕ノナン １，１０−ビス〔２，５−ビス（４−〔１１−アクリロ
イルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）フェニル〕デカン
【００９４】１，６−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−
メタクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボ
ニルオキシ）フェニル〕ヘキサン １，７−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−メタクリロイ
ルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
フェニル〕ヘプタン １，８−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−メタクリロイ
ルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
フェニル〕オクタン １，９−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−メタクリロイ
ルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
フェニル〕ノナン １，１０−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−メタクリロ
イルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキ
シ）フェニル〕デカン
【００９５】１，６−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−
アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）フェニル〕ヘキサン １，７−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビニルオキシ
ヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フェニ
ル〕ヘプタン １，８−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビニルオキシ
ヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フェニ
ル〕オクタン １，９−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビニルオキシ
ヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フェニ
ル〕ノナン １，１０−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−ビニルオキ
シヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フェニ
ル〕デカン
【００９６】１，６−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−
エポキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
フェニル〕ヘキサン １，７−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−エポキシヘキ
シルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フェニル〕ヘ
プタン １，８−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−エポキシヘキ
シルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フェニル〕オ
クタン １，９−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−エポキシヘキ
シルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フェニル〕ノ
ナン １，１０−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−エポキシヘ
キシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）フェニル〕
デカン
【００９７】実施例６ 氷酢酸５滴を、エチルアルコール２０ml中の２，５−ビ
ス（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フ
ェニルカルボニルオキシ）ベンズアルデヒド０．７ｇ及
び１，５−ジアミノペンタン０．１５ｇの溶液に、撹拌
下、若干の還流下に、添加した。１０分後、反応混合物
を濃縮した。残渣をヘキサン／酢酸エチル（容量比２：
１）を用いたシリカゲルクロマトグラフィーによって精
製し、薄層クロマトグラフィーにより純粋であった画分
をアセトンから２回再結晶を行って、１，５−ビス
〔２，５−ビス（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシ
ルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）ベンジリデン〕
ペンチルジアミン０．３ｇを得た。
【００９８】以下の化合物を類似の方法で調製すること
ができた。
【００９９】１，６−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−
アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニ
ルオキシ）ベンジリデン〕ヘキシルジアミン １，７−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−アクリロイル
オキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）ベ
ンジリデン〕ヘプチルジアミン １，８−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−アクリロイル
オキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）ベ
ンジリデン〕オクチルジアミン １，９−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−アクリロイル
オキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）ベ
ンジリデン〕ノニルジアミン １，１０−ビス〔２，５−ビス（４−〔６−アクリロイ
ルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニルオキシ）
ベンジリデン〕デシルジアミン
【０１００】実施例７ １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボニル
オキシ）安息香酸エステル〕を、１重量％の光開始剤
（IRGACURE,Ciba Geigy ）及び１重量％のＢＨＴと共に
処理し、アニソール（２重量％）に溶解し、次いで、
３，５００回転／分で回転させて、ガラス板上にＰＶＡ
（ポリビニルアルコール）を塗布し、こすりつけた。そ
の相を加熱台上で９０℃で乾燥し、次いで、真空オーブ
ン中で真空下に、９０℃でキセノン光（例えば３分間）
照射した。２００μm の厚さを有し、０．１５の複屈折
（Δｎ）を有する平行に配向したネマチック層を得た。
その層は光学的遅延材として機能する。
【０１０１】実施例８ １，６−ヘキシレンビス〔２，５−ビス（４−〔６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ）〕フェニルカルボニ
ルオキシ）安息香酸エステルを、１重量％のIRGACURE
（商標）及び１重量％のＢＨＴで処理し、アニソール
（２重量％）に溶解させ、次いで、ガラス板上で３，５
００回転／分で回転させた。ガラス板を、メタクリロイ
ルオキシエチル３−（Ｅ）−〔４−シアノ−４′−ビフ
ェニル〕アクリレートで予め塗布し、次いで、直線偏光
を照射した。これによって、所定の構造を（ＰＰＮ）層
のマスクによって写真平版的に刻んだ。新しい層（ＰＰ
Ｎ層上の）を加熱台上で９０℃で乾燥し、次いで、真空
オーブン中で真空下９０℃でキセノン光を照射した。刻
まれた元の構造が残り、新たな網状組織構造から忠実に
コピーされた。明瞭な複屈折（Δｎ）を認識することが
できた。この層は、構造的な光学的遅延材として機能す
る。
フロントページの続き (72)発明者 マルチン・シャット スイス国、ツェーハー−4411 ゼルティス ベルク、リースターレルシュトラーセ 77 (72)発明者 クラウス・シュミット ドイツ連邦共和国、デー−79541 レール ラハ、ガルテンシュトラーセ 16ベー

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、Ａは、架橋性中間相形成残基を表し、Ｘは、単
    結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＣＯＮＨ−又は−
    Ｃ＝Ｎ−を表し、そしてＱは、ｎ−アルキレン、ｃ−ア
    ルキレン、１，４−フェニレン、４，４′−ビフェニレ
    ン又は２，６−ナフチレンを表す）で示される化合物。
  2. 【請求項２】 中間相形成残基Ａが、一般式（II）： 【化２】 （式中、環Ｃ及びＤは、各々独立して、１，４−フェニ
    レン（ここで、これは、場合によりハロゲン、メチル及
    び／又はシアノで置換されていてもよい）、ピリジン−
    ２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、トラン
    ス−１，４−シクロヘキシレン又はトランス−１，３−
    ジオキサン−２，５−ジイルを表し；Ｚ1は、−ＣＨ2
    ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−
    （ＣＨ2 ）4 −又は−（ＣＨ）3 Ｏ−を表し、Ｚ2 は、
    単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＯＣＨ2
    −、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−（ＣＨ2 ）4 −、−Ｏ
    （ＣＨ2 ）3 −又は−（ＣＨ2 ）3 Ｏ−を表し；Ｚ3
    は、−（ＣＨ2 ）m −、−（ＣＨ2 ）m Ｏ−、−Ｏ（Ｃ
    Ｈ2 ）m −、−（ＣＨ2 ）m ＣＯＯ−、−ＯＯＣ（ＣＨ
    2 ）m −、−（ＣＨ2 ）m ＯＯＣ−又は−ＣＯＯ（ＣＨ
    2 ）m −を表し；ｎは、０又は１であり；ｍは、１乃至
    １６の整数であり；そしてＲは、アクリレート、メタク
    リレート、２−クロロアクリレート、２−フェニルアク
    リレート、アクリロイルフェニレン、アクリルアミド、
    メタクリルアミド、２−フェニルアクリルアミド、エポ
    キシ、イタコン酸エステル、ビニルエーテル、ビニルエ
    ステル、スチレン誘導体、マレイン酸誘導体、フマル酸
    誘導体、又はケイ皮酸誘導体（ここで、これらは、場合
    により、メチル、メトキシ、シアノ及び／若しくはハロ
    ゲンでに置換されていてもよい）の架橋性基である）で
    示される残基である請求項１記載の化合物。
  3. 【請求項３】 中間相形成残基Ａが、式（II）： 【化３】 （式中、環Ｃ及びＤは、各々独立して、非置換若しくは
    フルオロ置換フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、
    ピリミジン−２，５−ジイル又はトランス−１，４−シ
    クロヘキシレンを表し；Ｚ1 は、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＣＯ
    Ｏ−又は−ＯＯＣ−を表し；Ｚ2 は、単結合、−ＣＨ2
    ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＯＣＨ2 −、−ＣＯＯ−又
    は−ＯＯＣ−を表し；そしてＺ3 、ｎ及びＲは、請求項
    ２で定義された意味を有する）で示される残基である請
    求項２記載の化合物。
  4. 【請求項４】 中間相形成残基Ａが、式（II−ａ）： 【化４】 （式中、Ｒ1 は、アクリレート、メタクリレート、２−
    クロロアクリレート、２−フェニルアクリレート、ビニ
    ルオキシ又はエポキシを表し；Ｚ33は、−（ＣＨ2 ）m'
    −、−（ＣＨ2 ）m'Ｏ−、−（ＣＨ2 ）m'ＣＯＯ−又は
    −（ＣＨ2 ）m'ＯＯＣ−を表し；ｍ′は、４乃至１２の
    整数であり；環Ｃは、場合によりハロゲンで置換されて
    いてもよい１，４−フェニレン、又はトランス−１，４
    −シクロヘキシレンを表し；そしてＺ1 は、−ＣＨ2 Ｃ
    Ｈ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−
    （ＣＨ2 ）4 −又は−（ＣＨ）3 Ｏ−を表す）で示され
    る残基である請求項１乃至３のいずれか１項記載の化合
    物。
  5. 【請求項５】 式（Ｉ−ａ）〜（Ｉ−ｆ）： 【化５】 【化６】 （式中、ｍ′は、４乃至１２の整数を表し、そしてｐ
    は、２乃至１２の整数を表す）で示される化合物。
  6. 【請求項６】 少なくとも２種の成分からなり、そのう
    ちの少なくとも１種の成分が、請求項１で定義された式
    （Ｉ）の化合物である架橋性液晶混合物。
  7. 【請求項７】 式（Ｉ）で示される化合物１種以上に加
    えて、式（III ）〜（VII ）： 【化７】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は、各々独立して、２乃至１２の
    炭素原子を有するアルキル又はアルケニルを表し、Ｘ
    は、水素、低級アルキル、フルオロ、ブロモ、クロロ又
    はシアノを表し；そしてｍは、１乃至１６の整数を表
    す）で示される基からの化合物１種以上を含有する請求
    項６記載の架橋性液晶混合物。
  8. 【請求項８】 光学的構成要素のための架橋状態での、
    請求項１乃至５のいずれか１項記載の化合物の用途。
  9. 【請求項９】 光学的構成要素のための架橋状態での、
    請求項６又は７記載の架橋性液晶混合物の用途。
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