JPH0873409A - 光学活性スメクチック光架橋性液晶 - Google Patents

光学活性スメクチック光架橋性液晶

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JPH0873409A
JPH0873409A JP7211578A JP21157895A JPH0873409A JP H0873409 A JPH0873409 A JP H0873409A JP 7211578 A JP7211578 A JP 7211578A JP 21157895 A JP21157895 A JP 21157895A JP H0873409 A JPH0873409 A JP H0873409A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 良好な化学的安定性及び熱的安定性、通常の
溶媒における良好な溶解性、並びに電界及び電磁放射線
に対する良好な安定性を有する光学活性で強誘導性のス
メクチック光架橋性液晶を提供すること。 【解決手段】 一般式（Ｉ）： 【化２１】 （式中、Ａ1 及びＡ2 は、それぞれ架橋性の中間相形成
性残基を表し、Ａ3 は、光学活性の中間相形成性残基を
表す）で示される化合物。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明は、光学活性で強誘導性のスメクチ
ック光架橋性液晶、そのような化合物を含む液晶混合
物、及び光学成分において架橋状態でのそれらの使用に
関するものである。
【０００２】適量の光重合開始剤で得られた光架橋性液
晶は、基質上又は適度に配向している層による電解槽内
又は磁界中で、配向させることができ、次いでこの状態
で、適度な波長の光の照射によって架橋させることがで
きる。こうして形成された構造は、高温下でさえ保持さ
れる。このような層は、例えばスイス特許出願ＣＨ２０
１６／９４及びＣＨ２０１７／９４に記載されているよ
うな、ハイブリッド層の部品に使用され得る。そのた
め、光学部品、例えば導波管、濾光器、圧電特性を有す
る部品、及び非線型光学（ＮＬＯ）特性等を持つ部品
を、製造することができる。このような光学部品は、例
えば周波数二倍器（ＳＨＧ）に使用される。
【０００３】更なる特性、例えば複屈折、屈折率、透過
性等は、使用分野によって異なる要件を満たさねばなら
ない。例えば、周波数二倍器（ＳＨＧ）用の材料は、信
号倍増の効率の程度が高くなるように、最大過分極能力
の方向と、極軸との間に強い結合を有することが必要で
ある。
【０００４】更に、光架橋性液晶は、良好な化学的安定
性及び熱的安定性、通常の溶媒における良好な溶解性、
並びに電界及び電磁放射線に対する良好な安定性を有す
ることが必要とされる。また、これらは約２５℃〜約１
００℃、特に約２５℃〜約８０℃の適切な中間相を有す
るべきであり、例えば広いキラル・スメクチック中間相
を、上述の適用においては有さなくてはならない。
【０００５】通常、液晶は複数の成分の混合物として使
用されるので、成分が互いに良好な混和性を有すること
が重要である。周波数二倍器や、光学活性をもたらす混
合物中の成分は、通常それら自体は液晶性ではない。そ
れ故、それらは、通常、相転移温度を大きく減少させる
ので、低濃度でしか用いることができない。これが周波
数二倍器（ＳＨＧ）の効率が悪い原因である。光架橋性
液晶及び光不架橋性液晶及び／又は光学活性（キラル）
添加剤から成る混合物は、非架橋性成分の緩和を可能に
し、それにより周波数二倍器（ＳＨＧ）信号が消失す
る。他方、活性成分が混入されている網目状組織では、
これらの添加剤の濃度を高くすることができる。同時
に、網目状組織内での固定によって配向緩和が妨げられ
る。レーザ・ダイオードによって生成される周波数二倍
器（ＳＨＧ）の光の波長で吸収する着色物質を、このよ
うな網目状組織内で使用して、青や緑の光を生成させる
ことができる。このような網目状組織には、通常長期間
に亘る十分な耐性を持たないという欠点がある。
【０００６】したがって、前述の要求を満たし、構築す
ることができて優れた熱安定性、長期安定性、及び高い
ＳＨＧ効率を有する光架橋性含有物を製造する必要があ
る。
【０００７】本発明は、そのような液晶混合物の１つの
成分として、又は複数の成分としてきわめて好適な化合
物を提供する。これらは、一般式（Ｉ）：
【０００８】
【化１０】
【０００９】（式中、Ａ1 及びＡ2 は、それぞれ独立し
て、架橋性の中間相形成性残基を表し；そしてＡ3 は、
光学活性の中間相形成性残基を表す）で示される化合物
である。
【００１０】架橋性の中間相形成性残基であるＡ1 及び
Ａ2 は、異なっても同一でもあり得る。中間相形成性残
基は、当業者には公知であり、例えばFleussigkristall
e inTabellen, Deutscher Verlag feur Grundstoffindu
strie Leipzig, 1984, volume II にも記述されてい
る。公知の中間相形成性残基を上記の目的に好適なもの
とするため、末端に重合可能な残基を与える。
【００１１】本発明による化合物又はそれらの混合物
は、傾斜スメクチック相を有しているので、架橋結合の
前に、電界を付与することによって、配向させることが
できる。それによってピッチは巻かれず、均一した強誘
導性層が生成する。
【００１２】式（Ｉ）の好ましい化合物は、架橋性で、
中間相形成性残基Ａ1 及びＡ2 が同一であり、式（I
I）：
【００１３】
【化１１】
【００１４】（式中、環Ｃ及びＤは、それぞれ独立し
て、１，４−フェニレン（これは、場合によりハロゲ
ン、メチル及び／又はシアノで置換されている）、ピリ
ジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、
トランス−１，４−シクロヘキシレン又はトランス−
１，３−ジオキサン−２，５ジイルを表し；Ｚ1 は、単
結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、ＣＨ2 Ｏ−、−ＣＯＯ−、−
ＯＯＣ−、−（ＣＨ2 ）4 −又は−（ＣＨ2 ）3 Ｏ−を
表し；Ｚ2 は、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、ＣＨ2 Ｏ
−、−ＯＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−（ＣＨ
2 ）4 −、−Ｏ（ＣＨ2 ）3 −又は−（ＣＨ2 ）3 Ｏ−
を表し；Ｚ3 は、−（ＣＨ2 ）m −、−（ＣＨ2 ）m Ｏ
−、−（ＣＨ2 ）m ＣＯＯ−、又は−（ＣＨ2 ）m ＯＯ
Ｃ−を表し；ｎは、０又は１を表し；ｍは、１〜１６の
整数を表し；Ｒ1 は、架橋可能基、例えばアクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステル、２−クロロアクリル酸
エステル、２−フェニルアクリル酸エステル、アクリロ
イルフェニレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、
２−フェニルアクリルアミド、エポキシ、イタコン酸エ
ステル、ビニルエーテル、ビニルエステル、スチレン誘
導体、マレイン酸誘導体、フマル酸誘導体又はケイ皮酸
誘導体（これらは、場合によりメチル、メトキシ、シア
ノ、及び／又はハロゲンで置換されている）を表す）で
示される残基を表す。
【００１５】式（Ｉ）の化合物において、光学活性の中
間相形成性残基Ａ3 は、好ましくは一般式（III)：
【００１６】
【化１２】
【００１７】（式中、環Ｅ及びＦは、それぞれ独立し
て、１，４−フェニレン（これは、場合によりハロゲ
ン、メチル及び／シアノで置換されている）、ピリジン
−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、トラ
ンス−１，４−シクロヘキシレン又はトランス−１，３
−ジオキサン−２，５−ジイルを表し；環Ｇは、非置換
又はハロゲン、メチル、ジメチルアミノ、アミノ、ニト
ロ／又はシアノでモノ−置換又はジ置換された１，４−
フェニレンを表し；Ｚ4 は、単結合、−（ＣＨ2 ）
P−、−（ＣＨ2 ）p Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ2 ）p −、−
（ＣＨ2 ）p ＣＯＯ−、−ＯＯＣ（ＣＨ2 ）p −、−
（ＣＨ2 ）p ＯＯＣ−、−ＣＯＯ（ＣＨ2 ）p −、−Ｏ
ＯＣ（ＣＨ2 ）p ＯＯＣ−、−Ｏ（ＣＨ2 ）p ＯＯＣ又
は−ＣＯＯ（ＣＨ2 ）pＯ−を表し；Ｚ5 及びＺ6 は、
単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＯＣＨ2
−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−（ＣＨ2 ）4 −、−Ｏ
（ＣＨ2 ）3 −又は−（ＣＨ2 ）3 Ｏ−を表し；ｐは、
１〜１６の整数を表し；ｒ及びｓは、０又は１を表し；
そしてＲ2 は、光学活性基、例えば（Ｓ）−若しくは
（Ｒ）−２−ブチルオキシ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−
２−ペンチルオキシ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ヘ
キシルオキシ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ヘプチル
オキシ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−オクチルオキ
シ、又はアルキル、アルコキシ若しくはアルカノイルオ
キシ（これらは、炭素原子数４〜８を有し、メチル、メ
トキシ、シアノ及び／ハロゲンで置換されている）を表
す）で示される残基である。
【００１８】「１，４−フェニレン（これは、場合によ
りハロゲン、メチル及び／又はシアノで置換されてい
る）」とは、本発明の範囲において、１，４−フェニレ
ン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ
−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−
フェニレン、２−クロロ−１，４−フェニレン、３−ク
ロロ−１，４−フェニレン、２，３−ジクロロ−１，４
−フェニレン、２−シアノ−１，４−フェニレン、３−
シアノ−１，４−フェニレン、２，３−ジシアノ−１，
４−フェニレン、２−メチル−１，４−フェニレン、３
−メチル−１，４−フェニレン等を意味する。
【００１９】「非置換又はハロゲン、メチル、ジメチル
アミノ、アミノ、ニトロ及び／若しくはシアノでモノ−
置換ましくはジ置換された１，４−フェニレン」とは、
本発明の範囲内において、１，４−フェニレン、又は例
えば、２−アミノ−５−ニトロ−１，４−フェニレン、
５−アミノ−２−ニトロ−１，４−フェニレン、２−ジ
メチルアミノ−５−ニトロ−１，４−フェニレン又は５
−ジメチルアミノ−２−ニトロ−１，４−フェニレン等
を意味する。
【００２０】ハロゲンとは、フッ素、塩素、臭素及びヨ
ウ素を表し、特にフッ素又は塩素を表す。
【００２１】「アルキル、アルコキシ若しくはアルカノ
イルオキシ（これらは、炭素原子４〜８個を有し、メチ
ル、メトキシ、シアノ及び／又はハロゲンで置換されて
いる）」とは、本発明の範囲において、光学活性のアル
キル、アルコキシ又はアルカノイルオキシ基類、例えば
（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−メチルブチル、（Ｓ）−
若しくは（Ｒ）−２−メチルペンチル、（Ｓ）−若しく
は（Ｒ）−２−メチルヘキシル、（Ｓ）−若しくは
（Ｒ）−２−メチルヘプチル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）
−２−メトキシブチル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−
メトキシペンチル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−メト
キシヘキシル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−メトキシ
ヘプチル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−１−シアノブチ
ル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−１−シアノペンチル、
（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−１−シアノヘキシル、（Ｓ）
−若しくは（Ｒ）−１−シアノヘプチル、（Ｓ）−若し
くは（Ｒ）−２−シアノブチル、（Ｓ）−若しくは
（Ｒ）−２−シアノペンチル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）
−２−シアノヘキシル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−
シアノヘプチル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−１−フルオ
ロブチル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−１−フルオロペン
チル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−１−フルオロヘキシ
ル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−１−フルオロヘプチル、
（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−フルオロブチル、（Ｓ）
−若しくは（Ｒ）−２−フルオロペンチル、（Ｓ）−若
しくは（Ｒ）−２−フルオロヘキシル、（Ｓ）−若しく
は（Ｒ）−２−フルオロヘプチル、（Ｓ）−若しくは
（Ｒ）−１−クロロブチル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−
１−クロロペンチル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−１−ク
ロロヘキシル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−１−クロロヘ
プチル、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−クロロブチル、
（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−クロロペンチル、（Ｓ）
−若しくは（Ｒ）−２−クロロヘキシル、又は（Ｓ）−
若しくは（Ｒ）−２−クロロヘプチル等である。
【００２２】したがって、式（Ｉ）の好ましい化合物
は、一般式（Ｉ−１）：
【００２３】
【化１３】
【００２４】（式中、記号は前述の意味を有する）でも
表される化合物である。
【００２５】本発明による、式（Ｉ−１）の化合物の中
間相は、環Ｃ、Ｄ、Ｅ及びＦを変えることによって影響
を受け得る。こうして、芳香族環は、スメクチック相を
生成する傾向が強くなる。好ましくは、環Ｃ、Ｄは、そ
れぞれ独立して、１，４−フェニレン、２−フルオロ−
１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレ
ン、ピリジン−２，５−ジイル、又はピリミジン−２，
５−ジイルを、とりわけ１，４−フェニレン、２−フル
オロ−１，４−フェニレン又は３−フルオロ−１，４−
フェニレンを表す。
【００２６】本発明による化合物中の環Ｅ及びＦは、好
ましくは１，４−フェニレンを表すが、環Ｇは好ましく
は２−アミノ−５−ニトロ−１，４−フェニレン又は５
−アミノ−２−ニトロ−１，４−フェニレンを表す。
【００２７】式（Ｉ−１）の特に好ましい化合物は、Ｚ
1 が、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＣＯＯ−、又は−ＯＯＣ−を表
し；そしてＺ2 が、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ
2 Ｏ−、−ＯＣＨ2 −、−ＣＯＯ−又は−ＯＯＣ−を表
す化合物である。
【００２８】式（Ｉ−１）の特に好ましい化合物におい
て、残基Ｒ1 は、アクリル酸エステル、メタクリル酸エ
ステル、２−クロロアクリル酸エステル、２−フェニル
アクリル酸エステル、アクリロイルフェニレン、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド、２−フェニルアクリルア
ミド、エポキシ、ビニルエーテル、ビニルエステル、ス
チレン誘導体、マレイン酸誘導体又はフマル酸誘導体等
を表す。このようにして、これらは、電界内での式
（Ｉ）の化合物の配向後に、光化学的に架橋し得る残基
である。
【００２９】アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、ビニルオキシ及びエポキシは、特に好ましい残基Ｒ
1 である。
【００３０】（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ブチルオキ
シ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ペンチルオキシ、
（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ヘキシルオキシ、（Ｓ）
−若しくは（Ｒ）−２−ヘプチルオキシ及び（Ｓ）−若
しくは（Ｒ）−オクチルオキシは、光学活性残基Ｒ2 と
して好ましく使用される。
【００３１】好ましくは、中間相形成性残基Ａ1 及びＡ
2 は、同一で、例えばｎ＝０である式（II−ａ）：
【００３２】
【化１４】
【００３３】（式中、Ｒ11は、アクリル酸エステル、メ
タクリル酸エステル又はエポキシを表し；Ｚ31は、−
（ＣＨ2 ）t −、−（ＣＨ2 ）t Ｏ−、−（ＣＨ2 ）t
ＣＯＯ−又は−（ＣＨ2 ）t ＯＯＣ−を表し；ｔは、４
〜１２の整数を表し；環Ｃ1 は、１，４−フェニレン、
２−フルオロ−１，４−フェニレン又は３−フルオロ−
１，４−フェニレンを表し；そしてＺ11は、−ＣＨ2 Ｏ
−、−ＣＯＯ−又は−ＯＯＣ−を表す）で示される残基
を表す。
【００３４】好ましくは、中間相形成性残基Ａ3 は、式
（III)、例えば式（III −ａ）：
【００３５】
【化１５】
【００３６】（式中、Ｒ2 は、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）
−２−ブチルオキシ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ペ
ンチルオキシ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ヘキシル
オキシ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ヘプチルオキシ
又は（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−オクチルオキシを表
し；ｒ及びｓは、０又は１を表し；Ｚ41は、−ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 ＣＨ2 −、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ
−、−ＣＯＯＣＨ2 −又は−ＣＨ2 ＯＯＣ−を表し；Ｚ
51及びＺ61は、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ
−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−（ＣＨ2 ）4 −又は
−（ＣＨ2 ）3 Ｏ−を表し；そして環Ｅ1 及びＦ1 は、
１，４−フェニレンを表す）の残基を表す。
【００３７】したがって、式（Ｉ−１）の特別に好まし
い化合物は、式（Ｉ−２）：
【００３８】
【化１６】
【００３９】（式中、ｔは、４〜１２の整数を表し；Ｒ
2 は、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ブチルオキシ、
（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ペンチルオキシ、（Ｓ）
−若しくは（Ｒ）−２−ヘキシルオキシ、（Ｓ）−若し
くは（Ｒ）−２−ヘプチルオキシ又は（Ｓ）−若しくは
（Ｒ）−オクチルオキシを表し；Ｚ41は、−ＣＯＯＣＨ
2−を表し；Ｚ51は、単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＯＣ
−を表す）の化合物である。
【００４０】本発明による一般式（Ｉ）の化合物は、合
成的に非常に容易に入手することができ、またそれ自体
公知の方法、例えば、反応式１及び２並びに実施例で述
べる方法と同様の方法で製造することができる。
【００４１】式（II）及び（III)の中間相形成性残基
は、公知のもの、又は公知の構造と同様のものであり、
それ自体公知の方法で調製され、その後芳香族と結合す
ることができる。
【００４２】好ましくない熱架橋を止めるため、少量の
ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノー
ル＝“ブチル化ヒドロキシトルエン”）を、各工程にお
いて混入した。
【００４３】反応式において記号は、上記に述べた意味
を有する。
【００４４】
【化１７】
【００４５】
【化１８】
【００４６】本発明による式（Ｉ）の化合物は、合成的
に容易に入手することができ、例えば、光学活性アルコ
ール〔式（III)の誘導体〕及びビス〔２，５−ビス（４
−〔ｎ−アクリロイルオキシアルキルオキシ）〕フェニ
ルカルボキシ〕安息香酸から、それ自体公知の方法で製
造することができる。例えば、ジクロロメタン中、又は
他の適当な溶媒、例えばクロロホルム中、Ｎ，Ｎ′−ジ
シクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）及び４−（ジ
メチルアミノ）ピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下、エステ
ル化を行うことができる。
【００４７】さらに、式（Ｉ）の化合物は、まず、４−
ベンズアルデヒドをω−ハロ−１−アルコール誘導体で
エーテル化し、アルデヒドをホウ水素化ナトリウムで、
式（II）のベンジルアルコール誘導体に還元し、この誘
導体を２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒドで光延反
応によって、エーテル化し、次いでアクリル酸でエステ
ル化し、ジョーンズ試薬で対応する安息香酸にまで酸化
し、続いて上記のように光学活性アルコール〔式（III)
の誘導体〕でエステル化して製造することができる。
【００４８】光学活性アルコール〔式（III)の誘導体〕
は、例えば４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−
〔（Ｓ）−２−アルキルオキシ〕フェニル）〕安息香酸
と、４−ヒドロキシベンズアルデヒドのエステル化生成
物を、ホウ水素化ナトリウムを還元することにより製造
できる。
【００４９】不斉化合物、すなわち残基Ａ1 及びＡ2 が
異なる化合物は、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒ
ドを４−（ｎ−アクリロイルオキシアルキルオキシ）安
息香酸で、モノエステルまでモノエステル化し、次いで
別の４−（ｎ−アクリロイルオキシアルキルオキシ）安
息香酸を、ジエステルまでエステル化することにより調
製することができる。このジエステルを、ジョーンズ試
薬で酸化すると、対応する不斉〔２，５−ビス（４−
〔ｎ−アクリロイルオキシアルキルオキシ〕）フェニル
カルボキシ〕安息香酸を得、これを次いでアルコール
〔式（III)の誘導体〕と反応させた。出発物質は、公知
のものであり、ある程度市販されている。
【００５０】式（Ｉ）の化合物は、単一の化合物、又は
互いの混合物の形でも、及び／又はほかの液晶成分と混
合した形でも使用することができる。
【００５１】本発明による液晶混合物は、少なくとも２
つの成分を含み、そのうちの少なくとも１つは式（Ｉ）
の化合物である。もう一方の成分及び場合による付加成
分は、式（Ｉ）の化合物又は光架橋性基を有する他の公
知の液晶化合物でもよい。混合物中には、付加的なキラ
ル成分も存在し得る。
【００５２】式（Ｉ）の化合物の良好な溶解性と、相互
の良好な混和性を考えると、本発明による混合物におい
て、式（Ｉ）の異なる化合物の含量は高くすることがで
き、１００重量％にもすることができる。
【００５３】本発明による混合物は、式（Ｉ）の１つ以
上の化合物を含むことに加えて、一般式（Ｖ）、（V
I）、（VII)、（VIII）、（IX）及び（Ｘ）：
【００５４】
【化１９】
【００５５】
【化２０】
【００５６】（式中、ｔは、４〜１２の整数を表し、そ
してｑは、２〜１２の整数を表す）で示される化合物群
からの１つ以上の化合物を含むことが好ましい。
【００５７】これらの化合物を含む液晶混合物並びに式
（Ｉ）の化合物の製造は、以下の実施例にさらに詳細に
記述する。Ｃは結晶相を表し、Ｓはスメクチック相を表
し、Ｎ* はキラルネマチック相を表し、Ｉは等方相を表
す。ａｃは交流を表し、ｄｃは直流を表す。光学対掌体
はどの場合も「鏡像特性」を有する、つまり同一融点等
を有しているが、それは逆向きのらせん形回転及び反射
光に対する逆の円偏光に導く。
【００５８】
【実施例】
実施例１：ジクロロメタン２０ml中の、２，５−ビス
（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェ
ニルカルボキシ）安息香酸０．６ｇ、４−〔４−（２−
アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−オクチルオキ
シ〕−フェニル）ベンゾイルオキシ〕フェニルメタノー
ル０．４ｇ及び４−ジメチルアミノピリジン０．０４ｇ
の溶液中に、Ｎ，Ｎ′−ジシクロジシクロヘキシルカル
ボジイミド０．２ｇを、攪拌しながら室温で加えた。反
応混合物を一晩室温で撹拌し、水１００mlに注ぎ、それ
ぞれジクロロメタン５０mlで３回抽出した。有機相をそ
れぞれ水１００mlで２回洗浄し、硫酸マグネシウム上で
乾燥し、ろ過し、その後濃縮した。残渣を、ヘキサン／
酢酸エチル（容量１：１）で、シリカゲルクロマトグラ
フィーにより精製し、薄層クロマトグラフィーにより純
粋であったアセトン画分から、（４−〔４−（２−アミ
ノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−オクチルオキシ〕
フェニル）ベンゾイルオキシ〕−フェニル）−メチル＝
２，５−ビス（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシル
オキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート０．４ｇ
（再結晶２回）を得た；m.p.(C-I)100℃,Sc*-N*,96℃,c
l.p.(N*-I)100 ℃
【００５９】出発物質として使用した（４−〔４−（５
−アミノ−２−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−オクチルオ
キシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕フェニル）メタノ
ールは、以下のように調製した。
【００６０】ａ）ホウ水素化ナトリウム０．１３ｇ及び
水１５mlの混合物を、ジオキサン１００ml中の、４−
〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−
オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕ベンズ
アルデヒド０．８ｇの溶液で、０℃で滴下にて処理し
た。反応混合物を０℃で更に６０分間、次いで室温で１
０分間撹拌し、その後ジクロロメタン１００ml中に注い
だ。有機相を分離し、それぞれ水１００mlで２回洗浄し
た。水性相を、それぞれジクロロメタン５０mlで２回抽
出した。合せた有機相をそれぞれ水１００mlで２回洗浄
し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、懸濁液をろ過し、ろ
液を濃縮した。残渣はこれ以上の精製をすることなく、
次工程で使用した。
【００６１】ｂ）ジクロロメタン２０ml中の、４−〔４
−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−オク
チルオキシ〕フェニル）〕安息香酸１．０ｇ、４−ヒド
ロキシベンズアルデヒド０．３ｇ及び４−ジメチルアミ
ノピリジン０．０４ｇの溶液に、Ｎ，Ｎ′−ジシクロジ
シクロヘキシルカルボジイミド０．６ｇを撹拌しながら
加えた。反応混合物を室温にて一晩撹拌し、水１００ml
に注ぎ、次いでそれぞれジクロロメタン５０mlで３回抽
出した。有機相を、それぞれ水１００mlで２回洗浄し、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、その後ろ液を濃
縮した。残渣を、ヘキサン／酢酸エチル（容積１：１）
でシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、薄層ク
ロマトグラフィーにより純粋であったエタノール画分か
ら、４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−
〔（Ｓ）−２−オクチルオキシ〕フェニル）−ベンゾイ
ルオキシ〕ベンズアルデヒド０．９ｇ（再結晶２回）を
得た；m.p.(C-I)77-78℃
【００６２】以下の化合物も同様の方法で製造した。
【００６３】（４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−
４−〔（Ｓ）−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾ
イルオキシ〕フェニル）メチル＝２，５−ビス（４−
〔７−アクリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカ
ルボキシ）ベンゾアート （４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）
−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕
フェニル）メチル＝２，５−ビス（４−〔８−アクリロ
イルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベン
ゾアート （４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）
−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕
フェニル）メチル＝２，５−ビス（４−〔９−アクリロ
イルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾ
アート （４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）
−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕
フェニル）メチル＝２，５−ビス（４−〔１０−アクリ
ロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベン
ゾアート （４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）
−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕
フェニル）メチル＝２，５−ビス（４−〔１１−アクリ
ロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）
ベンゾアート；m.p.(C-SA)108 ℃;cl.p.(SA-I)112 ℃ （４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）
−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕
フェニル）メチル＝２，５−ビス（４−〔１２−アクリ
ロイルオキシドデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベ
ンゾアート 〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−
オクチルオキシ〕ベンゾイルオキシ）フェニル〕メチル
＝２，５−ビス（４−〔７−アクリロイルオキシヘプチ
ルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート 〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−
オクチルオキシ〕ベンゾイルオキシ）フェニル〕メチル
＝２，５−ビス（４−〔８−アクリロイルオキシオクチ
ルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート 〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−
オクチルオキシ〕ベンゾイルオキシ）フェニル〕メチル
＝２，５−ビス（４−〔９−アクリロイルオキシノンイ
ルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート 〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−
オクチルオキシ〕ベンゾイルオキシ）フェニル〕メチル
＝２，５−ビス（４−〔１０−アクリロイルオキシデシ
ルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート 〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−
オクチルオキシ〕ベンゾイルオキシ）フェニル〕メチル
＝２，５−ビス（４−〔１１−アクリロイルオキシウン
デシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート 〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−
オクチルオキシ〕ベンゾイルオキシ）フェニル〕メチル
＝２，５−ビス（４−〔１２−アクリロイルオキドデシ
ルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート。
【００６４】実施例２：２，５−ビス（４−〔６−アク
リロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボキシ）
安息香酸０．６ｇ、（４−〔４−（２−アミノ−５−ニ
トロ−４−〔（Ｓ）−２−オクチルオキシ〕フェニル）
ベンゾイルオキシ〕フェノキシ）エタノール０．４ｇ、
４−ジメチルアミノピリジン０．０４ｇ、Ｎ，Ｎ′−ジ
シクロジシクロヘキシルジカルボジイミド０．２ｇ及び
ジクロロメタン２０mlを実施例１と同様の方法で反応さ
せて、（４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−
〔（Ｓ）−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイル
オキシ〕フェノキシ）エチル＝２，５−ビス（４−〔６
−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェニルカルボ
キシ）ベンゾアートを得た。
【００６５】出発物質として使用した（４−〔４−（２
−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−オクチルオ
キシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕フェノキシ）エタ
ノールは、以下の方法で製造した。
【００６６】ａ）４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ
−４−〔（Ｓ）−２−オクチルオキシ〕フェニル〕安息
香酸０．６ｇ、（４−ヒドロキシフェノキシ）エタノー
ル０．２ｇ、４−ジメチルアミノピリジン０．０４ｇ、
Ｎ，Ｎ′−ジシクロジシクロヘキシルジカルボジイミド
０．４ｇ及びジクロロメタン５０mlを、実施例１と同様
の方法で反応させて、（４−〔４−（２−アミノ−５−
ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−オクチルオキシ〕フェニ
ル）ベンゾイルオキシ〕フェノキシ）エタノール０．４
ｇを得た。
【００６７】ｂ）エチルメチルケトン５０ml中の、４−
ヒドロキノン５．０ｇとクロロエタノール３．７ｇの溶
液を、微粉化された炭酸カリウム２５ｇで処理し、混合
物を一晩わずかに加熱還流した。懸濁液を吸引ろ過し、
ろ液を真空濃縮した。ジエチルエーテル１００ml中の残
渣溶液を、それぞれ水１００mlで２回洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、濃縮した。粗生成物を、ヘキサン／
酢酸エチル（容量７：３）でシリカゲルクロマトグラフ
ィーに付し、（４−ヒドロキシフェノキシ）エタノール
２．０ｇを得た。
【００６８】以下の化合物を同様の方法で製造した。
【００６９】（４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−
４−〔（Ｓ）−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾ
イルオキシ〕フェノキシ）エチル＝２，５−ビス（４−
〔７−アクリロイルオキシヘプチルオキシ〕フェニルカ
ルボキシ）ベンゾアート （４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）
−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕
フェノキシ）エチル＝２，５−ビス（４−〔８−アクリ
ロイルオキシオクチルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベ
ンゾアート （４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）
−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕
フェノキシ）エチル＝２，５−ビス（４−〔９−アクリ
ロイルオキシノニルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベン
ゾアート （４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）
−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕
フェノキシ）エチル＝２，５−ビス（４−〔１０−アク
リロイルオキシデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベ
ンゾアート （４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）
−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕
フェノキシ）エチル＝２，５−ビス（４−〔１１−アク
リロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボキ
シ）ベンゾアート （４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）
−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕
フェノキシ）エチル＝２，５−ビス（４−〔１２−アク
リロイルオキシドデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）
ベンゾアート 〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−
オクチルオキシ〕ベンゾイルオキシ）フェノキシ〕エチ
ル＝２，５−ビス（４−〔７−アクリロイルオキシヘプ
チルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート 〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−
オクチルオキシ〕ベンゾイルオキシ）フェノキシ〕エチ
ル＝２，５−ビス（４−〔８−アクリロイルオキシオク
チルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート 〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−
オクチルオキシ〕ベンゾイルオキシ）フェノキシ〕エチ
ル＝２，５−ビス（４−〔９−アクリロイルオキシノニ
ルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート 〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−
オクチルオキシ〕ベンゾイルオキシ）フェノキシ〕エチ
ル＝２，５−ビス（４−〔１０−アクリロイルオキシデ
シルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート 〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−
オクチルオキシ〕ベンゾイルオキシ）フェノキシ〕エチ
ル＝２，５−ビス（４−〔１１−アクリロイルオキシウ
ンデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート 〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−
オクチルオキシ〕ベンゾイルオキシ）フェノキシ〕エチ
ル＝２，５−ビス（４−〔１２−アクリロイルオキシド
デシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート。
【００７０】実施例３：４−〔４−（２−アミノ−５−
ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−オクチルオキシ〕フェニ
ル）〕安息香酸０．３ｇ、４−ヒドロキシブチル＝２，
５−ビス（４−〔１１−アクリロイルオキシウンデシル
オキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート０．８ｇ、
４−ジメチルアミノピリジン０．０４ｇ及びＮ，Ｎ′−
ジシクロジシクロヘキシルジカルボジイミド０．２ｇ及
びジクロロメタン５０mlを実施例１と同様の方法で反応
させ、４−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−
〔（Ｓ）−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイル
オキシ〕ブチル＝２，５−ビス（４−〔１１−アクリロ
イルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベ
ンゾアート０．５ｇを得た。
【００７１】出発物質として使用した４−ヒドロキシブ
チル＝２，５−ビス（４−〔１１−アクリロイルオキシ
ウンデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート
は、以下の方法で製造した。
【００７２】ａ）２，５−ビス（４−〔１１−アクリロ
イルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）安
息香酸１．０ｇ、１，４−ブタンジオール１．０ｇ、４
−ジメチルアミノピリジン０．０４ｇ、Ｎ，Ｎ′−ジシ
クロジシクロヘキシルジカルボジイミド０．４ｇ及びジ
クロロメタン５０mlを、実施例１と同様の方法で反応さ
せ、４−ヒドロキシブチル＝２，５−ビス（４−〔１１
−アクリロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカル
ボキシ）ベンゾアート０．８ｇを得た。
【００７３】以下の化合物を同様の方法で製造した。
【００７４】３−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４
−〔（Ｓ）−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイ
ルオキシ〕プロピル＝２，５−ビス（４−〔１１−アク
リロイルオキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボキ
シ）ベンゾアート ５−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−
２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕ペ
ンチル＝２，５−ビス（４−〔１１−アクリロイルオキ
シウンデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアー
ト ６−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−
２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕ヘ
キシル＝２，５−ビス（４−〔１１−アクリロイルオキ
シウンデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアー
ト ７−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−
２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕ヘ
プチル＝２，５−ビス（４−〔１１−アクリロイルオキ
シウンデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアー
ト ８−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−
２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕オ
クチル＝２，５−ビス（４−〔１１−アクリロイルオキ
シウンデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアー
ト ９−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−
２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕ノ
ニル＝２，５−ビス（４−〔１１−アクリロイルオキシ
ウンデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート １０−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）
−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕
デシル＝２，５−ビス（４−〔１１−アクリロイルオキ
シウンデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアー
ト １１−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）
−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕
ウンデシル＝２，５−ビス（４−〔１１−アクリロイル
オキシウンデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾ
アート １２−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）
−２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕
ドデシル＝２，５−ビス（４−〔１１−アクリロイルオ
キシウンデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾア
ート ３−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−
２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕プ
ロピル＝２，５−ビス（４−〔５−アクリロイルオキシ
ペンチルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート ３−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−
２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕プ
ロピル＝２，５−ビス（４−〔６−アクリロイルオキシ
ヘキシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート ３−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−
２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕プ
ロピル＝２，５−ビス（４−〔７−アクリロイルオキシ
ヘプチルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート ３−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−
２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕プ
ロピル＝２，５−ビス（４−〔８−アクリロイルオキシ
オクチルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート ３−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−
２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕プ
ロピル＝２，５−ビス（４−〔９−アクリロイルオキシ
ノニルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート ３−〔４−（２−アミノ−５−ニトロ−４−〔（Ｓ）−
２−オクチルオキシ〕フェニル）ベンゾイルオキシ〕プ
ロピル＝２，５−ビス（４−〔１０−アクリロイルオキ
シデシルオキシ〕フェニルカルボキシ）ベンゾアート。
【００７５】実施例４：４−〔４−（５−アミノ−２−
ニトロ−４−〔（Ｓ）−２−オクチルオキシ〕フェニ
ル）ベンゾイルオキシ〕フェニルメチル＝２，５−ビス
（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕フェ
ニルカルボキシ）ベンゾアート０．０５ｇ及び２，５−
ビス（４−〔６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ〕
フェニルカルボキシ）ベンゾアート０．２０ｇの６μm
スペーサーを有する混合物（I-N*,114℃,N*-Sc*106℃及
びSc*-Sx 70 ℃）を、光重合開始剤（Irgacure、チバガ
イギー）３重量％及びＢＨＴ１重量％で処理し、平行配
向で７．８μm セル中に１６０℃で充填した。層は、電
界（１５V ａｃ）で１０５℃で配向させ、９０℃及び１
１０℃ｄｃでらせん状に巻き、この状態でキセノン光で
照射した（たとえば１５分間）。この層は、周波数倍増
器として機能する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 255/49 Ｃ０７Ｄ 239/26 239/34 Ｃ０８Ｆ 20/18 ＭＬＹ Ｃ０９Ｋ 19/20 9279−4Ｈ 19/34 9279−4Ｈ 19/42 9279−4Ｈ // Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｃ０７Ｍ 7:00

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、Ａ1 及びＡ2 は、それぞれ架橋性の中間相形成
    性残基を表し、そしてＡ3 は、光学活性の中間相形成性
    残基を表す）で示される化合物。
  2. 【請求項２】 架橋性の中間相形成性残基Ａ1 及びＡ2
    が、同一であり、かつ式（II）： 【化２】 （式中、環Ｃ及びＤは、それぞれ独立して、１，４−フ
    ェニレン（これは、場合によりハロゲン、メチル、及び
    ／又はシアノで置換されている）、ピリジン−２，５−
    ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、トランス−１，
    ４−シクロヘキシレン又はトランス−１，３−ジオキサ
    ン−２，５−ジイルを表し；Ｚ1 は、単結合、−ＣＨ2
    ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−
    （ＣＨ2 ）4 −又は−（ＣＨ2 ）3 Ｏ−を表し；Ｚ2
    は、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＯＣ
    Ｈ2 −、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−（ＣＨ2 ）4 −、
    −Ｏ（ＣＨ2 ）3 −又は−（ＣＨ2 ）3 Ｏ−を表し；Ｚ
    3 は、−（ＣＨ2 ）m −、−（ＣＨ2 ）m Ｏ−、−（Ｃ
    Ｈ2 ）m ＣＯＯ−又は−（ＣＨ2 ）m ＯＯＣ−を表し；
    ｎは、０又は１を表し；ｍは、１〜１６までの整数を表
    し；そしてＲ1 は、架橋性基：アクリル酸エステル、メ
    タクリル酸エステル、２−クロロアクリル酸エステル、
    ２−フェニルアクリル酸エステル、アクリロイルフェニ
    レン、アクリルアミド、メタクリルアミド、２−フェニ
    ルアクリルアミド、エポキシ、イタコン酸エステル、ビ
    ニルエーテル、ビニルエステル、スチレン誘導体、マレ
    イン酸誘導体、フマル酸誘導体又はケイ皮酸誘導体（こ
    れらは、場合によりメチル、メトキシ、シアノ、及び／
    又はハロゲンで置換されている）を表す）で示される残
    基である請求項１記載の化合物。
  3. 【請求項３】 光学活性の中間相形成性残基Ａ3 が、式
    （III)： 【化３】 （式中、環Ｅ及びＦは、それぞれ独立して、１，４−フ
    ェニレン（これは、場合によりハロゲン、メチル及び／
    又はシアノで置換されている）、ピリジン−２，５−ジ
    イル、ピリミジン−２，５−ジイル、トランス−１，４
    −シクロヘキシレン又はトランス−１，３−ジオキサン
    −２，５−ジイルを表し；環Ｇは、非置換又はハロゲ
    ン、メチル、ジメチルアミノ、アミノ、ニトロ及び／又
    はシアノで、モノ−置換又はジ置換された１，４−フェ
    ニレンを表し；Ｚ4 は、単結合、−（ＣＨ2 ）P −、−
    （ＣＨ2 ）p Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ2 ）p −、−（ＣＨ2 ）
    p ＣＯＯ−、−ＯＯＣ（ＣＨ2 ）p −、−（ＣＨ2 ）p
    ＯＯＣ−、−ＣＯＯ（ＣＨ2 ）p −、−ＯＯＣ（ＣＨ
    2 ）p ＯＯＣ−、−Ｏ（ＣＨ2 ）p ＯＯＣ又は−ＣＯＯ
    （ＣＨ2 ）p Ｏ−を表し；Ｚ5 及びＺ6 は、単結合、−
    ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2 −、−ＣＯ
    Ｏ−、−ＯＯＣ−、−（ＣＨ2 ）4 −、−Ｏ（ＣＨ2 ）
    3 −又は−（ＣＨ2 ）3 Ｏ−を表し；ｐは、１〜１６ま
    での整数を表し；ｒ及びｓは、０又は１を表し；そして
    Ｒ2 は、光学活性基：（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ブ
    チルオキシ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ペンチルオ
    キシ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ヘキシルオキシ、
    （Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ヘプチルオキシ、（Ｓ）
    −若しくは（Ｒ）−２−オクチルオキシ、又はアルキ
    ル、アルコキシ若しくはアルカノイルオキシ（これら
    は、炭素原子数４〜８を有し、メチル、メトキシ、シア
    ノ及び／又はハロゲンで置換されている）を表す）で示
    される残基である請求項１又は２記載の化合物。
  4. 【請求項４】 式（Ｉ−１）： 【化４】 （式中、環Ｃ及びＤは、それぞれ独立して、１，４−フ
    ェニレン（これは、場合によりハロゲン、メチル及び／
    又はシアノで置換されている）、ピリジン−２，５−ジ
    イル、ピリミジン−２，５−ジイル、トランス−１，４
    −シクロヘキシレン又はトランス−１，３−ジオキサン
    −２，５−ジイルを表し；環Ｅ及びＦは、それぞれ独立
    して、１，４−フェニレン（これは、場合によりハロゲ
    ン、メチル及び／又はシアノで置換されている）、ピリ
    ジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、
    トランス−１，４−シクロヘキシレン又はトランス−
    １，３−ジオキサン−２，５−ジイルを表し；環Ｇは、
    非置換又はハロゲン、メチル、ジメチルアミノ、アミ
    ノ、ニトロ及び／若しくはシアノでモノ−置換若しくは
    ジ置換された１，４−フェニレンを表し；Ｚ1 は、単結
    合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、ＣＨ2 Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ
    ＯＣ−、−（ＣＨ2 ）4 −又は−（ＣＨ2 ）3 Ｏ−を表
    し；Ｚ2 、Ｚ5 及びＺ6 は、それぞれ独立して、単結
    合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、ＣＨ2 Ｏ−、−ＯＣＨ2 −、−
    ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−（ＣＨ2 ）4 −、−Ｏ（ＣＨ
    2 ）3 −又は−（ＣＨ2 ）3 Ｏ−を表し；Ｚ3 は、−
    （ＣＨ2 ）m −、−（ＣＨ2 ）m Ｏ−、−（ＣＨ2 ）m
    ＣＯＯ−又は−（ＣＨ2 ）m ＯＯＣ−を表し；Ｚ4 は、
    単結合、−（ＣＨ2 ）p −、−（ＣＨ2 ）p Ｏ−、−Ｏ
    （ＣＨ2 ）p −、−（ＣＨ2 ）p ＣＯＯ−、−ＯＯＣ
    （ＣＨ2 ）p −、−（ＣＨ2 ）p ＯＯＣ−、−ＣＯＯ
    （ＣＨ2 ）p −、−ＯＯＣ（ＣＨ2 ）p ＯＯＣ−、−Ｏ
    （ＣＨ2）p ＯＯＣ−又は−ＣＯＯ（ＣＨ2 ）p Ｏ−を
    表し；ｎは、０又は１を表し；ｍ及びｐは、１〜１６の
    整数を表し；ｒ及びｓは、０又は１を表し；Ｒ1 は、架
    橋性基：アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、
    ２−クロロアクリル酸エステル、２−フェニルアクリル
    酸エステル、アクリロイルフェニレン、アクリルアミ
    ド、メタクリルアミド、２−フェニルアクリルアミド、
    エポキシ、イタコン酸エステル、ビニルエーテル、ビニ
    ルエステル、スチレン誘導体、マレイン酸誘導体、フマ
    ル酸誘導体又はケイ皮酸誘導体（これらは、場合により
    メチル、メトキシ、シアノ及び／又はハロゲンで置換さ
    れている）を表し；そしてＲ2 は、光学活性基：（Ｓ）
    −若しくは（Ｒ）−２−ブチルオキシ、（Ｓ）−若しく
    は（Ｒ）−２−ペンチルオキシ、（Ｓ）−若しくは
    （Ｒ）−２−ヘキシルオキシ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）
    −２−ヘプチルオキシ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−
    オクチルオキシ、又はアルキル、アルコキシ若しくはア
    ルカノイルオキシ（これらは、炭素原子数４〜８を有
    し、メチル、メトキシ、シアノ及び／又はハロゲンで置
    換されている）を表す）で示される化合物である請求項
    １記載の化合物。
  5. 【請求項５】 （式中、中間相形成性残基Ａ1 及びＡ2
    が、同一であり、かつ式（II−ａ）： 【化５】 （式中、Ｒ11は、アクリル酸エステル、メタクリル酸エ
    ステル又はエポキシを表し；Ｚ31は、−（ＣＨ2 ）t
    −、−（ＣＨ2 ）t Ｏ−、−（ＣＨ2 ）t ＣＯＯ−又は
    −（ＣＨ2 ）t ＯＯＣ−を表し；ｔは、４〜１２の整数
    を表し、環Ｃ1 は、１，４−フェニレン、２−フルオロ
    −１，４−フェニレン又は３−フルオロ−１，４−フェ
    ニレン；そしてＺ11は、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＣＯＯ−、又
    は−ＯＯＣ−を表す）で示される基である請求項１及び
    ２記載の化合物。
  6. 【請求項６】 光学活性の中間相形成性残基Ａ3 が、式
    （III −ａ）： 【化６】 （式中、Ｒ2 は、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ブチル
    オキシ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ペンチルオキ
    シ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ヘキシルオキシ、
    （Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−ヘプチルオキシ又は
    （Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２−オクチルオキシを表し；
    ｒ及びｓは、０又は１を表し；Ｚ41は、−ＣＨ2 ＣＨ2
    ＣＨ2 −、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ−、
    −ＣＯＯＣＨ2 −又は−ＣＨ2 ＯＯＣ−を表し；Ｚ51及
    びＺ61は、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、
    −ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−（ＣＨ2 ）4 −又は（ＣＨ
    2 ）3 Ｏを表し；そして環Ｅ1 及びＦ1 は、１，４−フ
    ェニレンを表す）で示される基である請求項１又は３記
    載の化合物。
  7. 【請求項７】 式（Ｉ−２）： 【化７】 （式中、ｔは、４〜１２の整数を表し；Ｒ2 は、（Ｓ）
    −若しくは（Ｒ）−２−ブチルオキシ、（Ｓ）−若しく
    は（Ｒ）−２−ペンチルオキシ、（Ｓ）−若しくは
    （Ｒ）−２−ヘキシルオキシ、（Ｓ）−若しくは（Ｒ）
    −２−ヘプチルオキシ又は（Ｓ）−若しくは（Ｒ）−２
    −オクチルオキシを表し；Ｚ41は、−ＣＯＯＣＨ2 −を
    表し；そしてＺ51は、単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＯＣ
    −を表す）で示される化合物。
  8. 【請求項８】 その内の少なくとも１つの成分が請求項
    １記載の式Ｉの化合物である、少なくとも２つの成分か
    らなる架橋性の液晶混合物。
  9. 【請求項９】 式（Ｉ）の１つ以上の化合物に加えて、
    式（Ｖ）、（VI）、（VII)、（VIII）、（IX）及び
    （Ｘ）： 【化８】 【化９】 （式中、ｔは、４〜１２の整数を表し；そしてｑは、２
    〜１２の整数を表す）で示される化合物群からの一つ以
    上化合物を含有する、請求項８記載の架橋性の液晶混合
    物。
  10. 【請求項１０】 光学成分として、架橋結合している請
    求項１〜７のいずれか一項記載の化合物の用途。
  11. 【請求項１１】 光学成分として、架橋結合している請
    求項８又は９記載の架橋性の液晶混合物の用途。
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