JP2002537280A

JP2002537280A - 液晶化合物

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Publication number: JP2002537280A
Application number: JP2000599726A
Authority: JP
Inventors: リカルドブヘッカー; テオドルルカック; カールシュテンベネッケ
Original assignee: Rolic AG
Current assignee: Rolic Technologies Ltd
Priority date: 1999-02-17
Filing date: 2000-02-01
Publication date: 2002-11-05
Anticipated expiration: 2020-02-01
Also published as: ATE271538T1; DE60012308D1; CN1340041A; KR20010102136A; AU2123800A; GB9903670D0; HK1038734A1; US6676851B1; CN101941922B; CN101941922A; EP1154981B1; KR100619468B1; DE60012308T2; JP4619541B2; WO2000048985A1; EP1154981A1

Abstract

(57)【要約】次式（I）で示されることを特徴とする化合物及びこの化合物を含む液晶混合物。【化１】（式中、G¹及びG²は、独立して、重合性メソゲニック残基を示し、Xは、-CH₂-、-O-、-CO-、-COO-、-OOC-、-CONR'-、-OCOO-及び-OCONR'-から成る群より選ばれた基を示し、Spは、式-(CH₂)_p-の基を示し、ｐは、１〜１８の整数であり、かつ１又は２つの非隣接-CH₂-基は、任意に-CH=CH-で置換され、若しくは第一にスペーサー基は２つの隣接したヘテロ原子を含まず、第二に、Xが-CH₂-の場合、ｐが０の値をも有することができる条件で、１又は２つの-CH₂-基は、-CH₂-、-O-、-CO-、-COO-、-OOC-、-CONR'-、-OCOO-及び-OCONR'-から成る群より選ばれた１又は２つの基で置換されていてもよく、Qは、-CN、-COR、-COOR、-OCOR、-CONR'R、-NR'COR、-OCOOR、-OCONR'R、-NR'COOR、F、Cl、-CF₃、-OCF₃、又は-OR若しくは、非置換又は任意に低級アルキル、低級アルケニル、低級アルコキシ、低級アルケニロキシ、ハロゲン、-CN、-COR"、-COOR"、-OCOR"、-CONR'R"、-NR'COR"、-OCOOR"、-OCONR'R"、-NR'COOR"、-CF ₃及び-OCF₃から選ばれた基で置換された環式基から選ばれた極性基を示し、Rは、水素、低級アルキル、低級アルケニル又は上記環式基を示し、及びR'は、水素、低級アルキル又は低級アルケニル基であり、R"は、低級アルキル又は低級アルケニル基を示す。）

Description

【発明の詳細な説明】【発明の属する技術分野】

【０００１】本発明は、メソゲニック特性を有するラテラルに置換された硬化性液晶（LCP
）又はこれらのLCPにメソゲニック分子構造に適合させる性質を有するラテラル
に置換された硬化性液晶に関する。特に、本発明は、低融点及び良好な整列特性
を有するラテラルに置換された硬化性液晶（LCP）、及び支持体の平面において
、また、その平面に対して、LCP分子の配向をコントロールできる、十分に均一
な又はパターン化された薄膜の調製におけるこのようなLCPの使用に関する。硬化性液晶から調製された薄膜（LCPフィルム）は、当業者によく知られてお
り、また光学及び電気光学デバイスの調製に使用される。これらの薄膜は、一般
的に、スピンコーティングのような被覆技術を使用して製造される。この技術に
は、配向層で提供される支持体の上に、架橋性LCP又はLCP混合物の有機溶液を注
型することが含まれる。有機溶媒を次いで除去して、良好に配向した溶媒のない
メソゲニックLCP層が得られる。このメソゲニックLCP層を、架橋して、LCPフィ
ルムを得ることもできる。LCPフィルムの厚さは、粘性及びそれによって、被覆
工程で使用される重合性LCP混合物の有機溶液の濃度に依存する。形成されたフ
ィルムの均一性は、LCPが、チルト領域のない均質層を形成できるLCPの能力と、
被覆及び架橋工程中のLCP混合物の安定性とに依存している。「チルト領域」と
いう用語は、LCP分子の長軸が、同じ大きさであるが、反対方向の、支持体表面
とのチルト角を形成する、LCPフィルムの領域を意味すると理解すべきである。公知のLCP、特に高い透明及び融点を有するLCPの問題は、LCPが、被覆及び架
橋工程の両方において安定なままの混合物を形成できないということである。こ
れらの従来のLCP混合物は、有機溶媒に不十分な溶解性の特徴がある傾向にあり
、混合物の成分が相互に分離する傾向、及び結晶化する傾向である。例えば、低
融点のLCPを調製することによって、これらの問題を解決する試みがなされたが
、フィルムに付与されるチルト方向に整列する従来のLCPの能力は、乏しい傾向
にある。このような不十分の整列したフィルムは、低コントラスト率の特徴があ
る。現存のLCP材料に関する更なる問題は、LCPフィルムの調製中のチルト領域及び
ディスクリネーションの形成である。ディスクリネーションという用語は、反対
のチルト角のLCP分子が隣接している隣接チルト領域の境界線を意味すると理解
すべきである。これらのチルト領域及びディスクリネーションは、フィルムの均
一の外観及び非均質な（inhomogeneous）光学性能における両方の妨害を生ずる
。前記の問題は、光配向及び光パターン化した配向層が、LCPの配向に使用され
た場合に、特に関連する。これは、線状光重合（LPP）技術（Nature,381,p.212
を参照のこと）と呼ばれ、これにより、均一のみならず、構造化された（struct
ured）（光パターン化された）配向層を製造できる。このような構造化された配
向層をLCPの配向に使用した場合、このLCPの分子は、各単一のピクセルの個々に
、整列の方向及びチルト角に関する配向層によって与えられる情報を適合させる
べきである。従って、LCP混合物及び層の調製に使用できる、前述の欠点を有意に減少させ
るとともに、LPP配向層に適用した場合に特に適合する、新規なLCP材料に対する
要求がある。

【０００２】第１の発明の特徴は、次式（I）で示される化合物を提供する。

【０００３】

【化４】

【０００４】ここで、G¹及びG²は、独立して、重合性メソゲニック残基を示し、 Xは、-CH₂-、-O-、-CO-、-COO-、-OOC-、-CONR'-、-OCOO-及び-OCONR'-から成る
群より選ばれた基を示し、 Spは、式-(CH₂)_p-の基を示し、ｐは、１〜１８の整数であり、かつ１又は２つの
非隣接-CH₂-基は、任意に-CH=CH-で置換され、若しくは第一にスペーサー基は２
つの隣接したヘテロ原子を含まず、第二に、Xが-CH₂-の場合、ｐが０の値をも有
することができる条件で、１又は２つの-CH₂-基は、任意に、-O-、-CO-、-COO-
、-OOC-、-CONR'-、-OCOO-及び-OCONR'-から成る群より選ばれた１又は２つの基
で置換されていてもよく、 Qは、-CN、-COR、-COOR、-OCOR、-CONR'R、-NR'COR、-OCOOR、-OCONR'R、-NR'CO
OR、F、Cl、-CF₃、-OCF₃、又は-OR若しくは、非置換又は任意に低級アルキル、
低級アルケニル、低級アルコキシ、低級アルケニロキシ、ハロゲン、-CN、-COR"
、-COOR"、-OCOR"、-CONR'R"、-NR'COR"、-OCOOR"、-OCONR'R"、-NR'COOR"、-CF ₃ 及び-OCF₃から選ばれた基で置換された環式基から選ばれた極性基を示し、 Rは、水素、低級アルキル、低級アルケニル又は上記環式基を示し、及び R'は、水素、低級アルキル又は低級アルケニル基であり、 R"は、低級アルキル又は低級アルケニル基を示す。本発明の化合物は、従来の化合物と比較して低融点を有することが分った。ま
た、本発明の化合物は、液晶混合物の一部を形成する他の成分とよく混和し、そ
のような混合物から結晶化する傾向が低く、かつそのような混合物の透明点にほ
とんど影響しないことが分った。加えて、本発明の化合物は、従来の化合物と比
較して、改良された整列能力を示す。

【０００５】ラテラルに置換されたメソゲニック化合物は、国際特許出願第WO95/24454号明
細書、同WO95/24455明細書、米国特許出願第5650534号明細書、同5593617明細書
、同5567347明細書及び同5707544明細書から公知である。しかしながら、これら
の化合物の多くは、実質的にチルト領域のない、LCPフィルム及びネットワーク
の製造に適切ではない。その他の化合物は、高い融点、高い粘性（米国特許出願
第5567347号明細書）、低い透明点（米国特許出願第5593617号明細書）、不良な
溶解性及び/又は不良な配向特性を示す。本発明の化合物を使用することによっ
て、支持体の平面におけるLCP又はLCP混合物の配向又は整列をコントロールでき
、平面に対するチルト角を形成でき、また形成されたメソゲニック層及びフィル
ムのチルト領域の形成を抑制できる。従って、本発明の化合物は、高コントラス
トの光学又は電気光学デバイスの製造に使用できる。本発明の化合物は、また、広範囲の濃度に渡って他のLCP化合物との高い混和
性があることが分った。これらの化合物及びこれらを含む混合物は、有機溶媒に
非常によく溶ける。これらの性質は、広い範囲に渡ってコントロールできる、濃
度と粘度とを有する被覆溶液を調製することが可能であることを意味する。従っ
て、これらの被覆溶液を使用して形成されたLCP層の厚さを直ちにコントロール
できる。本発明の化合物は、更に、一般的に室温より上の、相対的な低い融点と、透明
点との特徴がある。従って、本発明の化合物又はそれらの混合物を使用したLCP
フィルム又はネットワークが形成される間、自然結晶化が生じる傾向は無い。こ
の性質（過冷却として知られている）は、欠点のないLCPフィルム及びネットワ
ークの形成を顕著に促進する。更に、このことは、LCP混合物の製造に使用する
液晶成分の数を減らすことも可能であることを意味する。重合性メソゲニック残基G¹及びG²は、同一又は異なってもよいが、好ましくは
同一である。 X基は、好ましくは、-CH₂-、-O-、-COO-及び-OOC-から選択される。スペーサー基のSpは、任意に、１つ以上のフッ素原子で置換されてもよい。置
換基の存在が無い基が好ましい。特に、整数pは、１〜１１の値を有し、わずか
１つの-CH₂-基が、-CH=CH-、-O-、CO-、-COO-、-OOC-、-CONR'-、-OCOO-、-OCON
R'-で置換されることが好ましい。 Q基は、好ましくは、-CN、-COOR、-OCOR、Cl、-CF₃、-OCF₃、又は-OR （Rは前
記で規定されている）から選択される。環式基は、飽和又は非飽和の、同素環式
又は複素環式の５又は６員の環式基でもよい。環式基は、非置換又は独立して低
級アルキル、低級アルケニル、低級アルコキシ、低級アルケニロキシ、ハロゲン
、-CN、-COR''、-COOR''、-OCOR''、-CONR'R''、-NR'COR''、-OCOOR''、-OCONR'
R''、-NR'COOR''、-CF₃、-OCF₃又は-OR''及びこれらの任意の組合せに係る基か
ら選択される１又は２つの置換基を含んでもよく、ここで、R'は、前記で規定さ
れ、R''は、低級アルキル又は低級アルケニル基を示す。環式基の好ましいハロ
ゲン置換基は、F及びClを含む。好ましくは、Q基に含まれる５員環式基は、任意に、置換されたフラニル、テト
ラヒドロフラニル、ジオキソラニル、オキサゾルイル、3,4-ジヒドロオキサゾル
イル又はシクロペンチルから成る群から選択される。特に好ましくは、５員環式
基は、2-フラニル、2-テトラヒドロフラニル、2-ジオキソラニル及び3,4-ジヒド
ロ-2-オキサゾルイルを含む。好ましくは、Q基に含まれる６員環式基は、任意に、置換されたフェニル、ピリ
ジニル、ピリミジニル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、テトラヒドロピラ
ニル、1,3-ジオキサニルから成る群から選択される。特に好ましくは、６員基は
、フェニル、シクロヘキシル、1,3-ジオキサン-2-イル及び2-テトラヒドロピラ
ニルを含む。５又は６員環式基が非置換又はわずか１つの置換基を含むことが好ましい。置換
基が存在する場合、好ましくは、低級アルキル、低級アルコキシ、F、Cl、-CN、
-COOR"、-OCOR"、-OCF₃又はOR"（R"は、低級アルキル）から成る群から選択され
る。「低級アルキル」という用語は、C_1-6のアキラルな、分枝又は直鎖アルキル基を
含むと理解されるべきである。本発明の化合物に存在してもよい低級アルキル基
の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルなどが
挙げられる。「低級アルケニル」という用語は、２重結合が２位以上の位置にある、C_3-6のア
キラルな、分枝又は直鎖アルケニル基を含むと理解されるべきである。本発明の
化合物に存在してもよい低級アルケニル基の例としては、2-プロピレン、3-ブチ
レン、3-イソペンチレン、4-ペンチレンなどが挙げられる。「低級アルコキシ」という用語に関して、C_1-6のアキラルな、分枝又は直鎖アル
コキシ基を含むと理解されるべきである。本発明の化合物に存在する低級アルコ
キシ基の例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ
、ヘキソキシなどが挙げられる。好ましくは、重合性メソゲニック残基G¹及びG²は、各独立して、次式IIで示され
る基によって表される。

【０００６】

【化５】

【０００７】ここで、 A及びBは、独立して、1,4-フェニレン、ピリジン-2,5-ジイル、ピリミジン-2,5-
ジイル、トランス-1,4-シクロヘキシレン及びトランス-1,3-ジオキサン-1,4-ジ
イルから成る群から選択され、任意に、ハロゲン、-CN、低級アルキル、低級ア
ルケニル、低級アルコキシ又は低級アルケニロキシ基で置換されていてもよく、
ｎは、１又は０であり、 Z¹及びZ²は、独立して、単結合、-COO-、-OOC-、-CH₂-CH₂-、-CH₂O-、-OCH₂-、-
CH=CH-、-C≡C-、-(CH₂)₄-、又は-(CH₂)₃O-から成る群から選択され、 Z³は、式-(CH₂)_pX-基（pは、１〜１８の値の整数であり、Xは、上記で規定され
る）を示し、１又は２つの非隣接-CH₂-基が、任意に、-CH=CH-で置換されていて
もよく、若しくは、第一にZ³基は２つの隣接したヘテロ原子を含まず、第二に、
Xが-CH₂-の場合、pが０の値をも有することができる条件で、１又は２つの-CH₂-
基は、１又は２つの付加的な連結基Xで置換されていてもよく、 R¹は、CH₂=C(Ph)-、CH₂=CW-COO-、CH₂=CH-COO-Ph-、CH₂=CW-CO-NH-、CH₂=CH-O-
、CH₂=CH-OOC-、Ph-CH=CH-、CH₂=CH-Ph-、CH₂=CH-Ph-O-、R³-Ph-CH=CH-COO-、R³ -OOC-CH=CH-Ph-O-及び2-W-エポキシエチルから成る群から選択された重合性基を
示し、 Wは、H、Cl、Ph又は低級アルキルを示し、 R³は、低級アルキルを示し、ただしR³が1,4-フェニレン基(-Ph-)に結合している
場合には、R³は、水素又は低級アルコキシを示してもよい。前後関係から他を要求する場合を除いて、「Ph」及び「Ph-」という用語は、フ
ェニル基を示し、「-Ph-」は、フェニレンの異性体、即ち、1,2-フェニレンや1,
3-フェニレン、1,4-フェニレンを示すと理解される。基A及びBは、任意に、ハロゲン、-CN、低級アルキル、低級アルケニル、低級ア
ルコキシ又は低級アルケニロキシ基で置換されてもよい。もしハロゲン置換基が
存在するならば、好ましくはF又はClである。基A及びBは、任意に、置換された1
,4-フェニレン及び1,4-シクロヘキシレン環から選択されることが好ましい。特
に好ましくは、基A及びBは、非置換である。「アルケニロキシ」という用語は、２重結合が２位以上の位置にある、C_3-6のア
キラルな、分枝又は直鎖のアルケニロキシ基を含むと理解されるべきである。本
発明の化合物に存在してもよい低級アルケニロキシ基の例としては、2-プロペニ
ロキシ、3-ブテニロキシ、4-ペンテニロキシ、5-ヘキセニロキシなどが挙げられ
る。 Z¹及びZ²基は、単結合、-COO-、-OOC-、-CH₂-CH₂-、-CH₂O-、-OCH₂-、-CH=CH-及
び-C≡C-から成る群から選択されることが好ましい。特に好ましくは、Z¹及びZ² は、単結合、-C≡C-、-COO-又は-OOC-である。 Z³は、任意に、１つ以上のハロゲン原子、好ましくは、１つ以上のフッ素原子で
置換されてもよい。好ましくは、ｐは、１〜１１の値を有する。また、好ましく
は、Z³は、置換基を含まない。更に好ましくは、Z³基において、Xは、-CH₂-、-O
-、-COO-及び-OOC-、特に-CH₂-又は-O-から選択される。好ましくは、R¹基は、CH₂=CW-、CH₂=CW-COO-及びCH₂=CH-O-から成る群から選択
される。好ましくは、各G¹及びG²基の２つの整数ｎの合計が、０又は１である。特に好ま
しくは、G¹及びG²の両方のｎは、０の値を有する。本発明の化合物は、直ちに、以下のスキーム１〜６に述べられた手順のどれか１
つに従って当業者によく知られた手順を用いて調製されてもよい。

【０００８】

【化６】

【０００９】ここで、 DBUは、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エンであり、 EDCは、N-（3-ジメチルアミノプロピル）-N'-エチルカルボジイミドハイドロク
ロライドであり、 DMAPは、4-ジメチルアミノピリジンである。

【００１０】

【化７】

【００１１】ここで、 DBUは、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エンであり、 KIは、ヨウ化カリウムであり、 EDCは、N-（3-ジメチルアミノプロピル）-N'-エチルカルボジイミドハイドロク
ロライドであり、 DMAPは、4-ジメチルアミノピリジンである。

【００１２】

【化８】

【００１３】ここで、 DEADは、ジエチルアゾジカルボキシレートであり、 KIは、ヨウ化カリウムであり、 DBUは、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エンであり、 EDCは、N-（3-ジメチルアミノプロピル）-N'-エチルカルボジイミドハイドロ
クロライドであり、 DMAPは、4-ジメチルアミノピリジンである。

【００１４】

【化９】

【００１５】ここで、 TBPBは、テトラブチルホスホニウムブロミドであり、 HBrは、48％臭化水素酸であり、 AcOHは、酢酸であり、 DBUは、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エンであり、 EDCは、N-（3-ジメチルアミノプロピル）-N'-エチルカルボジイミドハイドロ
クロライドであり、 DMAPは、4-ジメチルアミノピリジンである。

【００１６】

【化１０】

【００１７】ここで、 NMPは、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノンであり、 EDCは、N-（3-ジメチルアミノプロピル）-N'-エチルカルボジイミドハイドロク
ロライドであり、 DMAPは、4-ジメチルアミノピリジンである。

【００１８】

【化１１】

【００１９】本発明の化合物の調製に使用される適切な出発原料は、数ある中でフェニル及
びビフェニルカルボン酸化合物及び、1,4-シクロヘキサンジオンを含む。本発明
の化合物は、好ましくは、メソゲニック残基に結合する前に、側基（lateral g
roup）を含む環を形成することによって調製される。それとは別に、化合物は、
側基の結合の前に、重合性メソゲニック残基を含む環を形成することによって調
製してもよい。従って、本発明の第２の特徴は、式（I）の化合物の調製方法を
提供し、その方法は、側基を含む環を形成し、続いてそこへメソゲニック残基を
結合することを含む。好ましくは、メソゲニック残基G¹及びG²を、同時に結合す
る。上述したように、特に好ましくは、メソゲニック残基G¹及びG²は、同一であ
る。本発明の化合物を、液晶混合物の調製に使用できることが理解される。このよ
うな混合物を、式（II）の化合物を１つ以上の付加的な成分と混合することによ
って調製してもよい。また、有機溶媒をこれらの混合物の調製に使用してもよい
。従って、本発明の第３の特徴は、式（I）及び１つ以上の付加的な成分を含む
液晶混合物を提供する。液晶混合物に存在する１つ以上の付加的な成分は、更に
式（I）の化合物、他のメソゲニック化合物、螺旋ピッチの導入のためのメソゲ
ニック分子構造又はキラルドーパントと相溶性である化合物でもよい。また、LC
P混合物は、適切な有機溶媒を含む。このような液晶混合物の調製に使用される
例としては、アニソール、カプロラクトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケ
トン、メチルプロピルケトンなどが挙げられる。本発明の第３の特徴に従って、液晶LCPの調製に使用できる付加的な成分の例
としては、式III〜Xで示されるそれらの化合物が挙げられる。

【００２０】

【化１２】

【００２１】ここで、 R⁴は、CH₂=CH-O-、CH₂=CH-COO-、CH₂=C(CH₃)-COO-、CH₂=C(Cl)-COO-及び

【００２２】

【化１３】

【００２３】から成る群から選択され、 S³、S⁴は、独立して、-(CH₂)_n-又は-O(CH₂)_n-を示し、 E¹、E²は、独立して、1,4-フェニレントランス-1,4-シクロヘキシレン、ピリ
ジン-2,5-ジイル、ピリミジン-2,5-ジイル及びトランス1,4-シクロヘキシレン-1
,4-フェニレンから成る群から選択され、 F¹、F²は、独立して、1,4-フェニレン及び2-又は3-フルオロ-1,4-フェニレン
から成る群から選択され、 L⁴、L⁵、L⁶は、独立して、OH、C₁-C₂₀-アルキル、C₁-C₂₀-アルケニル、C₁-C₂₀ -アルコキシ、C₁-C₂₀-アルコキシ-カルボニル、ホルミル、C₁-C₂₀-アルキルカル
ボニル、C₁-C₂₀-アルキルカルボニロキシ、ハロゲン、シアノ及びニトロから成
る群から選択され、 Z⁶は、-COO-、-OOC-、-OCH₂-、-CH₂O-、-O(CH₂)₃-、-OOC(CH₂)₂-、及び-COO(C
H₂)₃-から成る群から選択され、 Z⁷は、単結合、-CH₂CH₂-、-CH₂O-、-OCH₂-、-COO-、-OOC-、-(CH₂)₄-、-O(CH₂ )₃-、(CH₂)₃O-及び-C≡C-からなる群から選択され、 Z⁸は、単結合、-CH₂CH₂-、-CH₂O-、-OCH₂-、-COO-、-OOC-及び-C≡C-から成る
群から選択され、 Yは、独立して、水素、C₁-C₂₀-アルキル、C₁-C₂₀-アルケニル、C₁-C₂₀-アルコ
キシ、C₁-C₂₀-アルコキシカルボニル、ホルミル-、C₁-C₂₀-アルキルカルボニル
、C₁-C₂₀-アルキルカルボニロキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノ及びニ
トロから成る群から選択され、ｍは、２〜２０の値を有する整数であり、及び Vは、２〜１２の値を有する整数である。

【００２４】また、本発明の化合物は、本発明の第１の特徴によるLCP化合物又は本発明の
第３の特徴による混合物を支持体上に注型することによる、LCP層の形成に使用
できる。従って、本発明の第４の特徴は、式（Ｉ）の化合物を含むLCP層の形成
及び層を架橋すること含むLCPネットワークの形成する方法を提供する。また、
本発明の第３の特徴による液晶混合物は、同様の方法でLCPネットワークの製造
に使用できる。また、本発明は、本発明の第５の特徴に、架橋した形状で式（I）の化合物を
含む架橋LCPネットワークを含む。また、架橋した形状で本発明の第３の特徴に
よる混合物を含む架橋LCPネットワークを、本発明のこの特徴に含んでもかまわ
ない。本発明の第６の特徴は、光学又は電気光学デバイスの調製に式（I）の化合物
の使用を提供する。光学又は電気光学デバイスの調製において、本発明の第３の
特徴による液晶混合物のこの使用を、本発明のこの特徴に含んでもかまわない。本発明の第７の特徴は、架橋状態で式（I）の化合物を含む光学又は電気光学
デバイスを提供する。本発明の第３の特徴による架橋状態のLCP液晶混合物を含
む光学又は電気光学デバイスを、本発明のこの特徴に含んでもかまわない。本発明を、以下の制限されない例を参照して説明する。これらの例を、説明の
みの手段によって提供する。本発明の範囲内に含まれるこれらの例の変形は、当
業者に明白であろう。

【００２５】

【実施例】実施例１ 3-シアノプロピル2,5-ジヒドロキシベンゾエートの合成

【００２６】

【化１４】

【００２７】 2,5-ジヒドロキシ安息香酸（4.6g；30mmol）、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウ
ンデカ-7-エン（5.0g；33mmol）、4-ブロモブチロニトリル（4.9g；33mmol）及
びアセトニトリル（70ml）の混合物を、還流下で一晩加熱した。反応混合物を水
（500ml）に添加し、エチルアセテート（3×100ml）で抽出した。一緒にした有
機層を、1N-塩酸(150ml)及び水（2×150ml）で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾
燥させ、濾過した。次に、有機溶媒を真空で除去した。残留物(6.2g)をエチルア
セテート／ヘキサンから再結晶させ、所望の3-シアノプロピル2,5-ジヒドロキシ
ベンゾエート5.2g（78%）を得た。

【００２８】2,5-ビス-[4-(6-アクリロイルオキシ-ヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ]安息香酸3-シアノプロピルエステルの合成

【００２９】

【化１５】

【００３０】 N-(3-ジメチルアミノプロピル)-N'-エチルカルボジイミドハイドロクロライド
（6.5g；39.9mmol）のジクロロメタン（100ml）の溶液を、3-シアノプロピル2,5
-ジヒドロキシベンゾエート（9.9g；33.9mmol）、4-（6-アクリロイルヘキシル
オキシ）-安息香酸（5.7g；19.5mmol）及び4-ジメチルアミノピリジン（0.8g；6
.7mmol）のジクロロメタン（60ml）の溶液に、０℃で、ゆっくりと添加した。こ
の混合物を室温で一晩攪拌した。次に、これを水(300ml)に加え、ジクロロメタ
ン（3×100ml）で抽出した。一緒にした有機層を、水（2×130ml）で洗浄し、硫
化マグネシウム上で乾燥させ、濾過した。次に、有機溶媒を真空で除去した。残
留物(14.0g)を、溶出液としてトルエン/エチルアセテート（85:15）を使用した
シリカゲルのカラムフラッシュクロマトグラフィーで精製し、6.3g（60.6%）の2
,5-ビス-[4-（6-アクリロイル-オキシ）ヘキシルオキシベンゾイルオキシ]安息
香酸3-シアノプロピルエステルを得た。Ｍp=42℃；Clp（N-I）=63.7℃であった
。この化合物を過冷却できる。以下の化合物を同様の方法で調製した。2,5-ビス-[4-（6-アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ]安息
香酸2-シアノエチルエステル

【００３１】

【化１６】

【００３２】Ｍp=46.5℃；Clp(N-I)=61℃であった。この化合物を過冷却できる。2,5-ビス-[4-（6-(2-メタクリロイルオキシ)ヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ ]安息香酸3-シアノプロピルエステル

【００３３】

【化１７】

【００３４】Ｍp=10℃；Clp(N-I)=41.4℃であった。2,5-ビス-[4-(6-アクリロイルオキシヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ]安息香
酸4-シアノブチルエステル

【００３５】

【化１８】

【００３６】Ｍp=79℃；Clp(N-I)=56℃であった。2,5-ビス-[4-(6-アクリロイルオキシヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ]安息香
酸5-シアノペンチルエステル

【００３７】

【化１９】

【００３８】Ｍp=85℃；Clp(N-I)=63.1℃であった。2,5-ビス-[4-(6-アクリロイルオキシヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ]安息香
酸6-シアノへキシルエステル

【００３９】

【化２０】

【００４０】Ｍp=57℃；Clp(N-I)=58.2℃であった。この化合物を過冷却できる。2,5-ビス-[4-(5-アクリロイルオキシペンチルオキシ)ベンゾイルオキシ]安息香
酸3-シアノプロピルエステル

【００４１】

【化２１】

【００４２】Ｍp=97℃；Clp(N-I)=72.2℃であった。この化合物を過冷却できる。2,5-ビス-[4-(8-アクリロイルオキシオクチルオキシ)ベンゾイルオキシ]安息香
酸3-シアノプロピルエステル

【００４３】

【化２２】

【００４４】Ｍp=63.5℃；Clp;(N-I)=66℃であった。この化合物を過冷却してもよい。2,5-ビス-[4-(6-アクリロイルオキシヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ]安息香
酸4-メトキシブチルエステル

【００４５】

【化２３】

【００４６】 Clp(N-I)=59℃であった。この化合物を過冷却できる。[[3-(エトキシカルボニル)プロポキシ]カルボニル]-p-フェニレンビス[p-[6-(アクリロイルオキシ)ヘキシルオキシ]ベンゾエート

【００４７】

【化２４】

【００４８】[[(6-クロロヘキシル)オキシ]カルボニル]-p-フェニレンビス[p-[6-（アクリロ
イルオキシ）ヘキシルオキシ]-ベンゾエート]

【００４９】

【化２５】

【００５０】Ｍp=44℃；Clp(N-I)=62.6℃であった。[(4-フェノキシブトキシ)カルボニル]-p-フェニレンビス[p-[6-(アクリロイルオキシ)ヘキシルオキシ]-ベンゾエート]

【００５１】

【化２６】

【００５２】[(4,4,4-トリフルオロブトキシ)カルボニル]-p-フェニレンビス[p-[6-(アクリロイルオキシ)ヘキシルオキシ]-ベンゾエート]

【００５３】

【化２７】

【００５４】Ｍp=69.7℃；Clp(N-I)=55.1℃であった。この化合物を過冷却できる。[トランス-4-ブチルシクロヘキシル]メトキシカルボニル]-p-フェニレンビス[p- ([6-（アクリロイルオキシ）ヘキシル]オキシ)-ベンゾエート

【００５５】

【化２８】

【００５６】Ｍp=66℃；Clp(N-I)=59.8℃であった。この化合物を過冷却できる。

【００５７】実施例２ 8-クロロオクチル2-フランカルボキシレートの合成

【００５８】

【化２９】

【００５９】 2-フロイルクロライド（6.5g；50mmol）の溶液を、8-クロロ-1-オクタノール
（6.6g；40mmol）及びピリジン（20g；253mmol）の溶液に、０℃で一滴ずつ添加
し、室温で２時間攪拌した。得られた混合物を、１N-塩酸（200ml）及び氷（200
ml）の混合物に添加し、エチルアセテート(3×80ml)で抽出した。一緒にした有
機層を、飽和塩化ナトリウム溶液（2×80ml）で洗浄し、硫化マグネシウム上で
乾燥させ、濾過した。有機溶媒を真空で除去し、油として、8-クロロオクチル-2
-フランカルボキシレート（9.7g）（94%）を得た。オクタメチレン2,5-ジヒドロキシベンゾエート2-フロエートの合成

【００６０】

【化３０】

【００６１】 2,5-ジヒドロキシ安息香酸（5.8g；37mmol）、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウ
ンデカ-7-エン（5.7g；37mmol）、8-クロロオクチル-2-フランカルボキシレート
(9.7g；37mmol)、ヨウ化カリウム（7.8g；47mmol）及びアセトニトリル（150ml
）の混合物を、還流下で44時間、加熱した。冷却した反応混合物を、水（600ml
）に添加し、エチルアセテート（3×150ml）で抽出した。一緒にした有機層を、
1N-塩酸（150ml）及び水（2×150ml）で洗浄し、硫化マグネシウム上で乾燥させ
、濾過した。次に、溶媒を真空で除去した。エチルアセテート/ヘキサンからの
残留物(12.3g)の再結晶によって、オクタメチレン-2,5-ジヒドロキシベンゾエー
ト-2-フロエート9.5g（68%）を得た。フラン-2-カルボン酸8-{2,5-ビス-[4-(6-アクリロイルオキシヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}オクチルエステルの合成

【００６２】

【化３１】

【００６３】 N-(3-ジメチルアミノプロピル)-N'-エチルカルボジイミドハイドロクロライド
（8.9g；46.5mmol）のジクロロメタン（140ml）の溶液を、オクタメチレン-2,5-
ジヒドロキシベンゾエート-2-フロエート（7.0g；18.6mmol）、4-(6-アクリロイ
ルヘキシルオキシ)安息香酸（13.6g；46.5mmol）及び4-ジメチルアミノピリジン
（1.1g；9.3mmol）のジクロロメタン(140ml)の溶液に、０℃でゆっくりと添加し
た。混合物を、室温で一晩攪拌した。次に、得られた溶液を水(600ml)に添加し
、ジクロロメタン（3×250ml）で抽出した。一緒にした有機層を、水（2×200ml
）で洗浄し、硫化マグネシウム上で乾燥させ、濾過した。溶媒を真空で除去した
。残留物（21.0g）を溶出液としてトルエン／エチルアセテート（93:7）を使用
するシリカゲルのカラムフラッシュクロマトグラフィーで精製し、8.3g（48.2％
）のフラン-2-カルボン酸8-{2,5-ビス-[4-(6-アクリロイルオキシヘキシルオキ
シ)ベンゾイルオキシ]-ベンゾイルオキシ}オクチルエステルＭp=36℃；Clp(N-I)
=41.2℃を得た。この化合物を過冷却できる。以下の化合物を同様の方法で調製した。(RS)-テトラヒドロフラン-2-カルボン酸8-{2,5-ビス-[4-(6-アクリロイルオキシヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}オクチルエステル

【００６４】

【化３２】

【００６５】 Clp(N-I)=27℃であった。フラン-2-カルボン酸11-{2,5-ビス-[4-(6-アクリロイルオキシヘキシルオキシ)
ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}ウンデシルエステル

【００６６】

【化３３】

【００６７】Ｍp=43.9℃；Clp(N-I)=45.8℃であった。この化合物を過冷却してもよい。フラン-2-カルボン酸4-{2,5-ビス-[4-(6-アクリロイロキシヘキシロキシ)ベンゾイロキシ]ベンゾイロキシ}ブチルエステル

【００６８】

【化３４】

【００６９】 Clp(N-I)=40.7℃であった。この化合物を過冷却できる。実施例３ p-[(8-クロロオクチル)オキシ]ベンゾニトリルの合成

【００７０】

【化３５】

【００７１】ジエチルアゾジカルボキシレート（7.3g；42mmol）及びテトラヒドロフラン(1
5ml)の溶液を、4-ヒドロキシベンゾニトリル（4.2g；35mmol）、8-クロロ-1-オ
クタノール（6.9g；42mmol）、トリフェニルホスフィン（11.0g；42mmol）及び
テトラヒドロフラン（70ml）の溶液に、０℃で一滴ずつ添加し、室温で一晩攪拌
した。反応混合物を、水(200ml)に添加して、エチルアセテート（3×100ml）で
抽出した。次に溶媒を真空で除去した。残留物を、溶出液としてトルエン／エチ
ルアセテート（97:3）を使用するシリカゲルのカラムフラッシュクロマトグラフ
ィーで精製し、8.8g（94％）のp-[(8-クロロオクチル)オキシ]ベンゾニトリルを
得た。8-(p-シアノフェノキシ)オクチル2,5-ジヒドロキシベンゾエートの合成

【００７２】

【化３６】

【００７３】 2,5-ジヒドロキシ安息香酸(4.2g；27.5mmol)、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウ
ンデカ-7-エン（4.2g；27.5mmol）、ヨウ化カリウム(41.0g；247mmol)、p-[(8-
クロロオクチル)オキシ]ベンゾニトリル（6.6g；25mmol）及びアセトニトリル（
100ml）の混合物を、還流下で72時間加熱した。反応混合物を冷却し、水(500ml)
の中に注ぎ、エチルアセテート（3×150ml）で抽出した。一緒にした有機層は、
1N-塩酸(150ml)及び水（2×150ml）で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、
濾過した。溶媒を真空で除去した。残留物を溶出液としてトルエン／エチルアセ
テート80:20を使用するシリカゲルのカラムフラッシュクロマトグラフィーで精
製し、8.0g（84％）の8-(p-シアノフェノキシ)オクチル2,5-ジヒドロキシベンゾ
エートを得た。2,5-ビス-[4-(6-アクリロイルオキシヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ]安息香
酸8-(4-シアノ-フェノキシ)オクチルエステル

【００７４】

【化３７】

【００７５】 N-(3-ジメチルアミノプロピル)-N'-エチルカルボジイミドハイドロクロライド
（3.7g；19.5mmol）のジクロロメタン（60ml）の溶液を、8-(p-シアノフェノキ
シ)オクチル-2,5-ジヒドロキシベンゾエート（3g；7.8mmol）、4-（アクリロイ
ルヘキシルオキシ）-安息香酸（5.7g；19.5mmol）及び4-ジメチルアミノピリジ
ン（0.5g；3.9mmol）のジクロロメタン（80ml）の溶液に、０℃でゆっくりと添
加した。混合物を室温で一晩攪拌した。得られた混合物を水(350ml)に添加して
、ジクロロメタン（3×100ml）で抽出した。一緒にした有機層を水（2×100ml）
で洗浄し、硫化マグネシウム上で乾燥し、濾過した。有機溶媒を真空で除去した
。残留物(9.0g)をシリカゲルカラムと溶出液としてトルエン／エチルアセテート
（98：2）を使用してフラッシュクロマトグラフィーで精製し、4.6g(63％)の2,5
-ビス-[4-(6-アクリロイルオキシヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ]安息香酸8-
(4-シアノフェノキシ)オクチルエステルを得た。Ｍp=54.5℃；Clp(N-I)=78.4℃
；(S_A-N)=43.5℃であった。この化合物を過冷却できる。

【００７６】実施例４ 4-ヒドロキシ-4'-メトキシ-3-ビフェニルカルボン酸

【００７７】

【化３８】

【００７８】パラジウム(II)アセテート（55mg；0.23mmol）を、水(125ml)に溶かした5-ブ
ロモサリチル酸（5.4g；22.4mmol）、炭酸ナトリウム（7.2g；68.1mmol）及び4-
メトキシホウ酸（3.8g；25mmol）の混合物に、アルゴン下で添加した。反応混合
物を、室温で1時間攪拌した。得られたスラリーを熱水（1300ml）に溶解し、濾
過して、濾液と沈殿物を得た。濾液を、塩酸で酸性化した。沈殿物を水で洗浄し
、真空で乾燥して、5.3g（95％）の4-ヒドロキシ-4'-メトキシ-3-ビフェニルカ
ルボン酸を得た。4,4'-ジヒドロキシ-3-ビフェニルカルボン酸の合成

【００７９】

【化３９】

【００８０】 4-ヒドロキシ-4'-メトキシ-3-ビフェニルカルボン酸（5.3ｇ；21.6mmol）、テ
トラブチルホスホニウムブロミド(0.8g；2.3mmol)、酢酸(35ml)及び臭化水素酸(
48％溶液を35ml)の溶液を、還流で６時間加熱した。反応混合物を、冷却して、
水(400ml)の中に注いだ。生じた沈殿物を分離して、エチルアセテートから再結
晶させ、2.4g（47％）の4,4'-ジヒドロキシ-3-ビフェニル-カルボン酸を得た。
3-シアノプロピル-4,4'-ジヒドロキシ-3-ビフェニルカルボキシレートの合成

【００８１】

【化４０】

【００８２】 4,4'-ジヒドロキシ-3-ビフェニルカルボン酸（2.3g；10mmol）、1,8-ジアザビ
シクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン（1.7g；11.2mmol）、4-ブロモブチロニトリル（
1.7g；11.2mmol）及びN,N-ジメチルホルムアミド（40ml）の混合物を、75℃で4
時間加熱した。反応混合物を、冷却し、水(300ml)の中に注ぎ、エチルアセテー
ト（3×100ml）で抽出した。一緒にした有機層を、1N-塩酸(150ml)及び水（2×1
00ml）で洗浄し、硫化マグネシウム上で乾燥させ、濾過した。有機溶媒を真空で
除去した。残留物(3.0g)をシリカゲルカラム及び溶出液としてトルエン/エチル
アセテート（97:3）を使用してフラッシュクロマトグラフィーで精製して、2.1g
（70％）の3-シアノプロピル-4,4'-ジヒドロキシ-3-ビフェニルカルボキシレー
トを得た。3-{(3-シアノプロポキシ)カルボニル}-4,4'-ビフェニレンビス[p-[6-（アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ]ベンゾエート]の合成

【００８３】

【化４１】

【００８４】 N-(3-ジメチルアミノプロピル)-N'-エチルカルボジイミドハイドロクロライド
(2.9g；15.4mmol)のジクロロメタン（50ml）の溶液を、3-シアノプロピル-4,4'-
ジヒドロキシ-3-ビフェニルカルボキシレート(2.1g；7.1mmol)、4-(6-アクリロ
イルヘキシルオキシ)安息香酸(4.5g；15.4mmol)及び4-ジメチルアミノピリジン
（0.5g；3.9mmol）のジクロロメタン(80ml)の溶液を０℃でゆっくりと添加した
。混合物を、室温で一晩攪拌した。生じた混合物を、水（300ml）に添加し、ジ
クロロメタン（3×100ml）で抽出した。一緒にした有機層を、水（2×100ml）で
洗浄し、硫化マグネシウム上で乾燥させ、濾過した。有機溶媒を真空で除去した
。残留物(6.3g)を、シリカゲルカラムと溶出液としてトルエン/エチルアセテー
ト(90:10)とを使用するフラッシュクロマトグラフィーで精製し、1.3g（20％）
の3-[(3-シアノプロポキシ)カルボニル]-4,4'-ビフェニレンビス[p-[6-(アクリ
ロイルオキシ)ヘキシルオキシ]ベンゾエート]を得た。Ｍp=85.5℃；Clp=154.5℃
であった。この化合物を過冷却できる。以下の化合物を同様の方法で調製した。 3-[(3-シアノプロポキシ)カルボニル]-4-（トランス-4-シクロヘキシル）-フェ
ニルビス[p-（[6-(アクリロイルオキシ)ヘキシル]オキシ）-ベンゾエート]

【００８５】

【化４２】

【００８６】Ｍp=98℃；Clp(N-I)=140℃であった。実施例５ 2-フルフリルヒドロキノンの合成

【００８７】

【化４３】

【００８８】 1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン(20ml)に溶かした1,4-シクロヘキサンジオ
ン（5.6g；50mmol）、フラン-2-カルバルデヒド（4.8g；50mmol）及び無水リチ
ウムクロライド(2.1g；50mmol)の混合物を、油浴上で大気圧下で攪拌しながら加
熱した。油浴の温度は、165℃で１時間維持した。冷却した反応混合物を、水(30
0ml)の中に注ぎ、エチルアセテート（2×150ml）で抽出した。一緒にした有機層
を、水（2×100ml）で洗浄し、硫化マグネシウム上で乾燥させ、濾過した。有機
溶媒を真空で除去した。残留物(9.4g)をシリカゲルカラム及び溶出液としてトル
エン／エチルアセテート（90:10）を使用するフラッシュクロマトグラフィーで
精製し、6.7g（70％）の3-フルフリルヒドロキノンを得た。4-(6-アクリロイルオキシヘキシルオキシ)安息香酸4-[4-(6-アクリロイルオキシヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ]3-フラン-2-イルメチルフェニルエステルの
合成

【００８９】

【化４４】

【００９０】 N-(3-ジメチルアミノプロピル)-N'-エチルカルボジイミドヒドロクロライド（
8.8g；46mmol）のジクロロメタン(160ml)の溶液を、2-フルフリルヒドロキノン
（3.5g；18.4mmol）、4-(6-アクリロイルヘキシロキシ)安息香酸（13.4g；46mmo
l）及び4-ジメチルアミノピリジン(0.5g；3.9mmol)のジクロロメタン（50ml）の
溶液に、０℃でゆっくりと添加した。反応混合物を、室温で一晩攪拌し、水（35
0ml）を添加し、ジクロロメタン（3×100ml）で抽出した。一緒にした有機層を
、水（2×100ml）で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥して、濾過した。有機溶
媒を真空で除去した。残留物（18.6g）をシリカゲルカラムと溶出液としてトル
エン／エチルアセテート（95:5）とを使用したフラッシュクロマトグラフィーで
精製して、エチルアセテート/ヘキサンから再結晶させ、6.4g（47％）の4-(6-ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ)安息香酸4-[4-(6-アクリロイルオキシヘキシ
ルオキシ)ベンゾイルオキシ]-3-フラン-2-イルメチルフェニルエステルを得た。
Ｍp=65℃ Clp(N-I)=51℃であった。この化合物を過冷却できる。

【００９１】実施例６ [[3-シアノプロポキシ]カルボニル]-p-フェニレン]ビス[オキシメチレン-p-フェニレンオキシヘキサメチレン]ジアクリレートの合成

【００９２】

【化４５】

【００９３】ジエチルアゾジカルボキシレート（4.2g；24mmol）及びテトラヒドロフラン(2
0ml)の溶液を、トリフェニルホスフィン（6.4g；24mmol）のテトラヒドロフラン
（40ml）の溶液に、０℃で一滴づつ加え、塩混合物を０℃で２時間攪拌した。塩
混合物を、6-[(α-ヒドロキシ-p-トリル)オキシ]ヘキシルアクリレート（3.1g；
10mmol）、3-シアノプロピル-2,5-ジヒドロキシベンゾエート（2.2；10mmol）及
びテトラヒドロフラン（60ml）の溶液に、０℃でゆっくりと添加した後、室温で
一晩攪拌した。反応混合物を、水（400ml）に添加し、エチルアセテート（3×20
0ml）で抽出した。一緒にした有機層を、水（2×200ml）で洗浄し、硫化マグネ
シウム上で乾燥し、濾過して、次に減圧下で蒸発させた。残留物(16.0g)を、溶
出液として95:5のトルエン/エチルアセテート混合物を使用するシリカゲルのカ
ラムフラッシュクロマトグラフィーで精製し、2.3g(31％)の所望のエステルを得
た。以下の化合物を、同様の方法を用いて合成できる。 [[(3-シアノプロポキシ)カルボニル]-p-フェニレン]ビス[オキシメチレン(トラ
ンス-1,4-シクロ-へキシレン)オキシヘキサメチレン]ジアクリレート

【００９４】

【化４６】

【００９５】実施例７ネマチックLCPフィルムの調製 (i)アニソール中の以下の成分の混合物を調製した。 70質量％の

【００９６】

【化４７】

【００９７】 30質量％の

【００９８】

【化４８】チヌビン（Tinuvin）123安定剤1000ppm及び2,6-ジ-(t-ブチル)-4-ヒドロキシ
トルエン(BHT)抑制剤500ppmを、この混合物に添加した。イルガキュア（Irgacur
e）369重合開始剤（チバガイギー（スイス、バーゼル）から市販で入手可能）50
0ppmを添加した。混合物を、室温で攪拌し、次に配向層を有するガラスプレート
にスピンコートし、厚さ約800nmのLCPフィルムを形成した。このフィルムを、50
℃で１又は２分乾燥させ、水銀ランプを使用してN₂雰囲気で、室温で約５分、紫
外光で光重合させた。このフィルムは、室温でネマチック中間相を示す。加えて、このフィルムは、
楕円偏光（ellipsometric）測定によって示されるように、支持体の表面に対し
て約１０°のチルト角を示す。非重合フィルムは、優れた過冷却挙動を示す。 (ii)アニソール中の以下の成分の混合物を、上述の手順(i)に従って調製した。
60質量％の

【００９９】

【化４９】

【０１００】、20質量％の

【０１０１】

【化５０】

【０１０２】、10質量％の

【０１０３】

【化５１】

【０１０４】及び10質量％の1,4-ブタネジオールジアクリレート（アルドリッチ）形成されたネマチックフィルムは、80℃の透明点で室温で良好に配向したネマ
チック中間相を示す。加えて、このフィルムは、楕円偏光測定で示されるように
、支持体の平面に対して約１°のチルト角を示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｆ 1/061 ５０１Ｇ０２Ｆ 1/061 ５０１ 1/13 ５００ 1/13 ５００ (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者ベネッケカールシュテンドイツ連邦共和国デー−79576 ヴァイルアムラインフィールタウゼン９Ｆターム(参考） 2H079 DA08 4H006 AA01 AB64 AC43 AC48 BJ50 BM10 BM71 BM72 BP10 BP30 KA06 QN30 4H027 BA11 BD24 4J100 AB07P AE09P AL66P BA02P BA15P BA40P BC43P BC53P CA01 JA32

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】次式（I）で示されることを特徴とする化合物。【化１】（式中、 G¹及びG²は、独立して、重合性メソゲニック残基を示し、 Xは、-CH₂-、-O-、-CO-、-COO-、-OOC-、-CONR'-、-OCOO-及び-OCONR'-から成る
群より選ばれた基を示し、 Spは、式-(CH₂)_p-の基を示し、ｐは、１〜１８の整数であり、かつ１又は２つの
非隣接-CH₂-基は、任意に-CH=CH-で置換され、若しくは第一にスペーサー基は２
つの隣接したヘテロ原子を含まず、第二に、Xが-CH₂-の場合、ｐが０の値をも有
することができる条件で、１又は２つの-CH₂-基は、-CH₂-、-O-、-CO-、-COO-、
-OOC-、-CONR'-、-OCOO-及び-OCONR'-から成る群より選ばれた１又は２つの基で
置換されていてもよく、 Qは、-CN、-COR、-COOR、-OCOR、-CONR'R、-NR'COR、-OCOOR、-OCONR'R、-NR'CO
OR、F、Cl、-CF₃、-OCF₃、又は-OR若しくは、非置換又は任意に低級アルキル、
低級アルケニル、低級アルコキシ、低級アルケニロキシ、ハロゲン、-CN、-COR"
、-COOR"、-OCOR"、-CONR'R"、-NR'COR"、-OCOOR"、-OCONR'R"、-NR'COOR"、-CF ₃ 及び-OCF₃から選ばれた基で置換された環式基から選ばれた極性基を示し、 Rは、水素、低級アルキル、低級アルケニル又は上記環式基を示し、及び R'は、水素、低級アルキル又は低級アルケニル基であり、 R"は、低級アルキル又は低級アルケニル基を示す。）
【請求項２】前記G¹及びG²が、同一である、請求項１記載の化合物。
【請求項３】前記Xが、-CH₂-、-O-、-COO-及び-OOC-から選ばれる、請求
項１又は２記載の化合物。
【請求項４】前記Sp基の整数pが、１〜１１の値を有する、請求項１〜３
のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項５】前記Sp基のわずか１つの-CH₂-部分が、-CH=CH-、-O-、CO-、
-COO-、-OOC-、-CONR'-、-OCOO-、-OCONR'-で置換されている、請求項１〜４の
いずれか１項に記載の化合物。
【請求項６】前記Qが、-CN、-COOR、-OCOR、Cl、-CF₃、-OCF₃、-OR又は環
式基から選ばれる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項７】前記環式基が、５又は６員の飽和又は非飽和の、同素環式又
は複素環式部分から選ばれる、請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項８】前記環式基が、任意に、低級アルキル、低級アルコキシ、F
、Cl、-CN、-COOR"、-OCOR"、-OCF₃、OR"から選ばれた基で置換され、R"は、低
級アルキルである、請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項９】前記メソゲニック残基G¹及びG²が、次式IIで示される、請求
項１〜８のいずれか１項に記載の化合物。【化２】（式中、 A及びBは、独立して、1,4-フェニレン、ピリジン-2,5-ジイル、ピリミジン-2,5-
ジイル、トランス-1,4-シクロヘキシレン又はトランス-1,3-ジオキサン-1,4-ジ
イルを示し、任意に、ハロゲン、-CN、低級アルキル、低級アルケニル、低級ア
ルコキシ又は低級アルケニロキシ基で置換されていてもよく、ｎは、１又は０であり、 Z¹及びZ²は、独立して、単結合、-COO-、-OOC-、-CH₂-CH₂-、-CH₂O-、-OCH₂-、-
CH=CH-、-C≡C-、-(CH₂)₄-、又は-(CH₂)₃O-を示し、 Z³は、式-(CH₂)pX-基を示し、１又は２つの非隣接-CH₂-基が、任意に、-CH=CH-
で置換されていてもよく、若しくは、第一にスペーサー基は２つの隣接したヘテ
ロ原子を含まず、第二に、Xが-CH₂-の場合、pが０の値をも有することができる
条件で、１又は２つの-CH₂-基は、-CH₂-、-O-、-CO-、-COO-、-OOC-、-CONR'-、
-OCOO-及び-OCONR'-から成る群より選ばれた１又は２つの基で置換されていても
よく、 pは、１〜１２の値を有する整数であり、 Xは、-CH₂-、-O-、-CO-、-COO-、-OOC-、-CONR'-、-OCOO-及び-OCONR'-から成る
群より選ばれ、 R¹は、CH₂=C(Ph)-、CH₂=CW-COO-、CH₂=CH-COO-Ph、CH₂=CW-CO-NH-、CH₂=CH-O-、
CH₂=CH-OOC-、Ph-CH=CH-、CH₂=CH-Ph-、CH₂=CH-Ph-O-、R³-Ph-CH=CH-COO-、R³-O
OC-CH=CH-Ph-O-又は2-W-エポキシエチルから成る重合性基を示し、 Wは、H、Cl、Ph又は低級アルキルを示し、 R³は、低級アルキルであり、ただしR³が1,4-フェニレン基(-Ph-)に結合している
場合には、R³は、水素又は低級アルコキシでもよい。）
【請求項１０】前記Z¹及びZ²が、単結合、-COO-、-OOC-、-CH₂-CH₂-、-CH ₂ O-、-OCH₂-、-CH=CH-、-C≡C-から選ばれる、請求項９記載の化合物。
【請求項１１】前記R¹が、CH₂=CW-、CH₂=CW-COO-及びCH₂=CH-O-から選ば
れる、請求項９又は１０記載の化合物。
【請求項１２】次式（I）で示される化合物と、１つ以上の付加の適切な
成分とを含有することを特徴とするLCP混合物。【化３】（式中、 G¹及びG²は、独立して、重合性メソゲニック残基を示し、 Xは、-CH₂-、-O-、-CO-、-COO-、-OOC-、-CONR'-、-OCOO-及び-OCONR'-から成る
群より選ばれ、 Spは、式-(CH₂)_p-の基を示し、 pは、１〜１８の整数であり、かつ１又は２つの非隣接-CH₂-基は、任意に-CH=CH
-で置換され、若しくは、第一にスペーサー基が２つの隣接したヘテロ原子を含
まず、第二に、Xが-CH₂-の場合、pは０の値をも有することができる条件で、１
又は２つの-CH₂-基は、-CH₂-、-O-、-CO-、-COO-、-OOC-、-CONR'-、-OCOO-及び
-OCONR'-から成る群より選ばれた１又は２つの基に置換されていてもよく、 Qは、-CN、-COR、-COOR、-OCOR、-CONR'R、-NR'COR、-OCOOR、-OCONR'R、-NR'CO
OR、F、Cl、-CF₃、-OCF₃、又は-OR若しくは非置換又は任意に低級アルキル、低
級アルケニル、低級アルコキシ、低級アルケニロキシ、ハロゲン、-CN、-COR"、
-COOR"、-OCOR"、-CONR'R"、-NR'COR"、-OCOOR"、-OCONR'R"、-NR'COOR"、-CF₃
及び-OCF₃から選ばれた基に置換された環式基から選ばれた極性基を示し、 Rは、水素、低級アルキル、低級アルケニル又は上記環式基を示し、及び R'は、水素、低級アルキル又は低級アルケニル基であり、 R"は、低級アルキル又は低級アルケニル基を示す。）
【請求項１３】請求項１〜１１のいずれか１つに記載の化合物、又は架橋
若しくは重合した形態の請求項１２記載の混合物を含有することを特徴とする、
LCPネットワーク。
【請求項１４】光学又は電気光学デバイスの製品での、請求項１〜１１の
いずれか１項に記載の化合物又は請求項１２記載の混合物の使用。
【請求項１５】請求項１〜１１のいずれか１項に記載の化合物、又は架橋
若しくは重合した形態の請求項１２記載の混合物を含有することを特徴とする、
光学又は電気光学デバイス。