JPH07110451A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
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- JPH07110451A JPH07110451A JP5256119A JP25611993A JPH07110451A JP H07110451 A JPH07110451 A JP H07110451A JP 5256119 A JP5256119 A JP 5256119A JP 25611993 A JP25611993 A JP 25611993A JP H07110451 A JPH07110451 A JP H07110451A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/124—Details of the optical system between the light source and the polygonal mirror
Abstract
(57)【要約】
【目的】アパーチャ等の開口手段による回折の影響を有
効に軽減し、デフォーカス量に対する光スポット径変動
の小さい光走査装置を実現する。 【構成】走査結像光学系６，７の副走査対応方向に関す
る共役横倍率が１より小さく、光源装置１，２と光偏向
器の偏向反射面５との間に配備され、開口部によりレー
ザー光束を通過させつつ、レーザー光束の光束周辺部の
光を遮断する開口手段３を有し、光偏向器による偏向光
束の偏向の起点と、基準偏向光束の結像点との間の距離
をＬ、開口手段以降の光学系による開口手段の共役像と
上記結像点との間の距離をΔとするとき、ＬとΔとが条
件 Δ／Ｌ≧０．３２ （１） を満足するように開口手段３の位置を定めた。
効に軽減し、デフォーカス量に対する光スポット径変動
の小さい光走査装置を実現する。 【構成】走査結像光学系６，７の副走査対応方向に関す
る共役横倍率が１より小さく、光源装置１，２と光偏向
器の偏向反射面５との間に配備され、開口部によりレー
ザー光束を通過させつつ、レーザー光束の光束周辺部の
光を遮断する開口手段３を有し、光偏向器による偏向光
束の偏向の起点と、基準偏向光束の結像点との間の距離
をＬ、開口手段以降の光学系による開口手段の共役像と
上記結像点との間の距離をΔとするとき、ＬとΔとが条
件 Δ／Ｌ≧０．３２ （１） を満足するように開口手段３の位置を定めた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は光走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＤ光源を光源とする光源装置からのレ
ーザー光束を偏向反射面により反射して偏向光束とし、
走査結像光学系により被走査面上に光スポットとして集
光させて光走査を行う光走査方式は光プリンター等に関
連して広く知られている（特公昭６０−６４２号公報、
特開平１−３０２２１７号公報等）。
ーザー光束を偏向反射面により反射して偏向光束とし、
走査結像光学系により被走査面上に光スポットとして集
光させて光走査を行う光走査方式は光プリンター等に関
連して広く知られている（特公昭６０−６４２号公報、
特開平１−３０２２１７号公報等）。
【０００３】高密度記録等の高精度の光走査を実現する
には「光スポット径」が安定していなければならない。
光スポット径の不安定さの原因となるものの一つとし
て、光源装置と光偏向器との間に配備されるアパーチャ
の存在がある。
には「光スポット径」が安定していなければならない。
光スポット径の不安定さの原因となるものの一つとし
て、光源装置と光偏向器との間に配備されるアパーチャ
の存在がある。
【０００４】アパーチャは本来、光スポット形状や光ス
ポット径の調整や迷光の除去等の目的で配備され、光源
装置からのレーザー光束の光束周辺部を遮光する。この
光束周辺部の遮光により、アパーチャを通過したレーザ
ー光束の光強度分布は、レーザー光束本来のガウス型の
光強度分布の裾野の部分をカットされた形状となり、被
走査面上に集光される光スポットの強度分布にはアパー
チャの開口による回折の影響が現れる。
ポット径の調整や迷光の除去等の目的で配備され、光源
装置からのレーザー光束の光束周辺部を遮光する。この
光束周辺部の遮光により、アパーチャを通過したレーザ
ー光束の光強度分布は、レーザー光束本来のガウス型の
光強度分布の裾野の部分をカットされた形状となり、被
走査面上に集光される光スポットの強度分布にはアパー
チャの開口による回折の影響が現れる。
【０００５】特に上記各公報開示の光走査装置によう
に、走査結像光学系の「副走査対応方向（光源から被走
査面に到る光路を光軸に沿って直線的に展開した仮想的
な光路上で、副走査方向と平行的に対応する方向を言
う。また上記仮想的な光路上で、主走査方向と平行的に
対応する方向を「主走査対応方向」と言う。）」の結像
倍率が１より小さい場合には、走査結像光学系を含むア
パーチャ以降の光学系によるアパーチャの実像が、アパ
ーチャの位置によっては被走査面近傍にでき、回折の影
響により光スポット径が、偏向光束結像位置と被走査面
とのずれ、即ち「デフォーカス量」に応じて著しく変動
し、安定した光スポット径を得ることができない。
に、走査結像光学系の「副走査対応方向（光源から被走
査面に到る光路を光軸に沿って直線的に展開した仮想的
な光路上で、副走査方向と平行的に対応する方向を言
う。また上記仮想的な光路上で、主走査方向と平行的に
対応する方向を「主走査対応方向」と言う。）」の結像
倍率が１より小さい場合には、走査結像光学系を含むア
パーチャ以降の光学系によるアパーチャの実像が、アパ
ーチャの位置によっては被走査面近傍にでき、回折の影
響により光スポット径が、偏向光束結像位置と被走査面
とのずれ、即ち「デフォーカス量」に応じて著しく変動
し、安定した光スポット径を得ることができない。
【０００６】特開平４ー２２９８１９号公報には、アパ
ーチャの実像を被走査面の手前側に形成する光走査装置
が示されているが、フレネル回折の影響により、上記デ
フォーカス量に応じて光スポット径の変動が大きいとい
う問題がある。
ーチャの実像を被走査面の手前側に形成する光走査装置
が示されているが、フレネル回折の影響により、上記デ
フォーカス量に応じて光スポット径の変動が大きいとい
う問題がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上述した事
情に鑑みてなされたもので、アパーチャ等の開口手段に
よる回折の影響を有効に軽減し、デフォーカス量に対す
る光スポット径変動の小さい光走査装置の提供を目的と
する。この発明の別の目的は、開口手段による回折の影
響を有効に軽減出来、尚且つコンパクトな光学配置が可
能な光走査装置を提供することにある。この発明のさら
に他の目的は、開口手段による回折の影響を有効に軽減
出来、コンパクトな光学配置が可能で、開口手段による
適正な光遮断量を実現できる光走査装置の提供にある。
情に鑑みてなされたもので、アパーチャ等の開口手段に
よる回折の影響を有効に軽減し、デフォーカス量に対す
る光スポット径変動の小さい光走査装置の提供を目的と
する。この発明の別の目的は、開口手段による回折の影
響を有効に軽減出来、尚且つコンパクトな光学配置が可
能な光走査装置を提供することにある。この発明のさら
に他の目的は、開口手段による回折の影響を有効に軽減
出来、コンパクトな光学配置が可能で、開口手段による
適正な光遮断量を実現できる光走査装置の提供にある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明の光走査装置
は、「ＬＤ光源とカップリングレンズ系とを有する光源
装置からのレーザー光束を、シリンダ光学系により副走
査対応方向へ収束させて主走査対応方向に長い線像とし
て結像させ、上記線像の結像位置近傍に偏向反射面を有
する光偏向器により偏向させ、偏向光束を走査結像光学
系により被走査面上に光スポットとして集光させて光走
査を行う光走査装置」であり、走査結像光学系として
「副走査対応方向に関する共役横倍率が１より小さい」
ものが用いられ、光源装置と光偏向器の偏向反射面との
間に配備されて開口部によりレーザー光束を通過させつ
つ、レーザー光束の光束周辺部の光を遮断する「開口手
段」を有する。
は、「ＬＤ光源とカップリングレンズ系とを有する光源
装置からのレーザー光束を、シリンダ光学系により副走
査対応方向へ収束させて主走査対応方向に長い線像とし
て結像させ、上記線像の結像位置近傍に偏向反射面を有
する光偏向器により偏向させ、偏向光束を走査結像光学
系により被走査面上に光スポットとして集光させて光走
査を行う光走査装置」であり、走査結像光学系として
「副走査対応方向に関する共役横倍率が１より小さい」
ものが用いられ、光源装置と光偏向器の偏向反射面との
間に配備されて開口部によりレーザー光束を通過させつ
つ、レーザー光束の光束周辺部の光を遮断する「開口手
段」を有する。
【０００９】請求項１記載の光走査装置は、光偏向器に
よる偏向光束の偏向の起点と、基準偏向光束（主光線が
走査結像光学系の光軸と平行になるような偏向光束、即
ち、偏向角：０のときの偏向光束）の結像点との間の距
離をＬ、開口手段以降の光学系（前述の、光源から被走
査面に到る光路を光軸に沿って直線的に展開した仮想的
な光路上で、開口手段と被走査面との間にある光学系）
による「開口手段の共役像」と上記結像点との間の距離
をΔとするとき、ＬとΔとが条件 Δ／Ｌ≧０．３２ （１） を満足するように上記開口手段の位置を定めたことを特
徴とする。
よる偏向光束の偏向の起点と、基準偏向光束（主光線が
走査結像光学系の光軸と平行になるような偏向光束、即
ち、偏向角：０のときの偏向光束）の結像点との間の距
離をＬ、開口手段以降の光学系（前述の、光源から被走
査面に到る光路を光軸に沿って直線的に展開した仮想的
な光路上で、開口手段と被走査面との間にある光学系）
による「開口手段の共役像」と上記結像点との間の距離
をΔとするとき、ＬとΔとが条件 Δ／Ｌ≧０．３２ （１） を満足するように上記開口手段の位置を定めたことを特
徴とする。
【００１０】なお、上記光偏向器による「偏向の起点」
とは、上記基準偏向光束が反射されている位置である。
とは、上記基準偏向光束が反射されている位置である。
【００１１】請求項２記載の光走査装置においては、開
口手段が、主走査対応方向において光束周辺部の光を遮
断する「第１の開口部材」と、副走査対応方向において
光束周辺部の光を遮断する「第２の開口部材」とを有す
る。光偏向器による偏向光束の偏向の起点と、基準偏向
光束の結像点との間の距離をＬ、第２の開口部材以降の
光学系による、第２の開口部材の共役像と上記結像点と
の間の距離をδとするとき、Ｌとδとが条件 δ／Ｌ≧０．３２ （２） を満足するように「第２の開口手段の位置」が定められ
る。
口手段が、主走査対応方向において光束周辺部の光を遮
断する「第１の開口部材」と、副走査対応方向において
光束周辺部の光を遮断する「第２の開口部材」とを有す
る。光偏向器による偏向光束の偏向の起点と、基準偏向
光束の結像点との間の距離をＬ、第２の開口部材以降の
光学系による、第２の開口部材の共役像と上記結像点と
の間の距離をδとするとき、Ｌとδとが条件 δ／Ｌ≧０．３２ （２） を満足するように「第２の開口手段の位置」が定められ
る。
【００１２】請求項２記載の光走査装置は「少なくとも
第２の開口部材における光束周辺部の光の遮断量を調整
する遮光量調整手段」を有することが出来る（請求項
３）。また、上記請求項２または３記載の光走査装置に
おいて、少なくとも第２の開口部材は「ＬＤ光源とカッ
プリングレンズ系との間」に配備されることができる
（請求項４）。
第２の開口部材における光束周辺部の光の遮断量を調整
する遮光量調整手段」を有することが出来る（請求項
３）。また、上記請求項２または３記載の光走査装置に
おいて、少なくとも第２の開口部材は「ＬＤ光源とカッ
プリングレンズ系との間」に配備されることができる
（請求項４）。
【００１３】上記請求項１〜４記載の光走査装置におい
て、「シリンダ光学系」は、シリンダレンズ系（１枚若
しくは２枚以上のシリンダレンズにより構成される）と
しても良いし、シリンダミラーとしてもよい（請求項
５）。
て、「シリンダ光学系」は、シリンダレンズ系（１枚若
しくは２枚以上のシリンダレンズにより構成される）と
しても良いし、シリンダミラーとしてもよい（請求項
５）。
【００１４】請求項１記載の発明における開口手段は、
アパーチャもしくはスリット部材として構成出来、請求
項２の発明における第１及び第２の開口部材も、アパー
チャおよび／またはスリット部材として構成できる（請
求項 ５）。
アパーチャもしくはスリット部材として構成出来、請求
項２の発明における第１及び第２の開口部材も、アパー
チャおよび／またはスリット部材として構成できる（請
求項 ５）。
【００１５】請求項２記載の光走査装置においては、第
２の開口部材を副走査対応方向の開口幅の固定されたア
パーチャとし、これをＬＤ光源とカップリングレンズ系
の間に配備することができ、遮光量調整手段を、上記ア
パーチャをカップリングレンズ系の光軸方向へ変位させ
る変位機構として構成できる。
２の開口部材を副走査対応方向の開口幅の固定されたア
パーチャとし、これをＬＤ光源とカップリングレンズ系
の間に配備することができ、遮光量調整手段を、上記ア
パーチャをカップリングレンズ系の光軸方向へ変位させ
る変位機構として構成できる。
【００１６】
【作用】図１は、この発明を適用可能な光走査装置の光
学配置を、ＬＤ光源１から被走査面８に到る光路を光学
系の光軸に沿って直線的に展開し、副走査対応方向が上
下方向となるように描いたものである。主走査対応方向
は図面に直交する方向である。
学配置を、ＬＤ光源１から被走査面８に到る光路を光学
系の光軸に沿って直線的に展開し、副走査対応方向が上
下方向となるように描いたものである。主走査対応方向
は図面に直交する方向である。
【００１７】ＬＤ光源１から放射された発散性の光束
は、ＬＤ光源１とともに光源装置をなすカップリングレ
ンズ系２により平行光束化され、開口手段であるアパー
チャ３により光束周辺部を遮光され、シリンダレンズ系
４により副走査対応方向に収束されて光偏向器の偏向反
射面５の位置に「主走査対応方向に長い線像」として結
像する。
は、ＬＤ光源１とともに光源装置をなすカップリングレ
ンズ系２により平行光束化され、開口手段であるアパー
チャ３により光束周辺部を遮光され、シリンダレンズ系
４により副走査対応方向に収束されて光偏向器の偏向反
射面５の位置に「主走査対応方向に長い線像」として結
像する。
【００１８】偏向反射面５により反射された偏向光束
は、レンズ６，７で構成されるアナモフィックな走査結
像光学系により被走査面８上に光スポットとして集光す
る。図１に示すように、アパーチャ３における「副走査
対応方向の開口幅」をＷS1とし、偏向反射面５上に結像
した線像の「幅」即ち、線像位置におけるレーザー光束
の副走査対応方向の光束幅（光強度のピーク値の１／ｅ
2以上となる光束部分の幅）をＷS2、被走査面８の近傍
に結像する光スポットにおけるビームウエストの副走査
方向の径をＷS3とすると、これらＷS1，ＷS2，ＷS3の間
には、回折の影響を無視すると、近似的に以下の関係が
成り立つ。 ＷS2＝ｋ・（λ／π）・（ｆcy／ＷS1） （３） ＷS3＝β・ＷS2 （４） ここに、λはレーザー光束の波長、ｋは比例係数、ｆcy
はシリンダレンズ系４の副走査対応方向の焦点距離、β
は走査結像光学系の共役横倍率を表している。
は、レンズ６，７で構成されるアナモフィックな走査結
像光学系により被走査面８上に光スポットとして集光す
る。図１に示すように、アパーチャ３における「副走査
対応方向の開口幅」をＷS1とし、偏向反射面５上に結像
した線像の「幅」即ち、線像位置におけるレーザー光束
の副走査対応方向の光束幅（光強度のピーク値の１／ｅ
2以上となる光束部分の幅）をＷS2、被走査面８の近傍
に結像する光スポットにおけるビームウエストの副走査
方向の径をＷS3とすると、これらＷS1，ＷS2，ＷS3の間
には、回折の影響を無視すると、近似的に以下の関係が
成り立つ。 ＷS2＝ｋ・（λ／π）・（ｆcy／ＷS1） （３） ＷS3＝β・ＷS2 （４） ここに、λはレーザー光束の波長、ｋは比例係数、ｆcy
はシリンダレンズ系４の副走査対応方向の焦点距離、β
は走査結像光学系の共役横倍率を表している。
【００１９】上記関係（３），（４）から明らかなよう
に、副走査方向の光スポット径として、所望の径：ＷS3
を得る場合、走査結像光学系の共役横倍率：βを小さく
設定するほど、アパーチャ３の開口幅：ＷS1を小さくし
なければならない。
に、副走査方向の光スポット径として、所望の径：ＷS3
を得る場合、走査結像光学系の共役横倍率：βを小さく
設定するほど、アパーチャ３の開口幅：ＷS1を小さくし
なければならない。
【００２０】この発明の光走査装置におけるように「β
＜１」の場合には、所望の光スポット径：ＷS3を得るた
めに、アパーチャ３の開口幅：ＷS1が小さくなりやす
く、アパーチャ３の開口によるフレネル回折が発生し易
い。その結果、「偏向光束の結像位置と被走査面とのず
れ量であるデフォーカス量に対する副走査対応方向の光
スポット径の変動」が顕著になり易い。なお、走査結像
光学系が、副走査対応方向において、「偏向の起点と被
走査面位置とを、幾何光学的な共役関係としているの
で、主走査対応方向についてはフレネル回折の影響は発
生しない。
＜１」の場合には、所望の光スポット径：ＷS3を得るた
めに、アパーチャ３の開口幅：ＷS1が小さくなりやす
く、アパーチャ３の開口によるフレネル回折が発生し易
い。その結果、「偏向光束の結像位置と被走査面とのず
れ量であるデフォーカス量に対する副走査対応方向の光
スポット径の変動」が顕著になり易い。なお、走査結像
光学系が、副走査対応方向において、「偏向の起点と被
走査面位置とを、幾何光学的な共役関係としているの
で、主走査対応方向についてはフレネル回折の影響は発
生しない。
【００２１】しかるに、「開口手段」であるアパーチャ
３を、シリンダレンズ系４の前側焦点位置に置くと、被
走査面８がアパーチャ３からみて光学的に見て無限遠と
なるため、前記共役横倍率：βが１より小さくても、被
走査面を含むかなりの領域において、偏向光束の結像は
アパーチャ開口部のフラウンホーファー回折像となり、
デフォーカス量をパラメータとした副走査方向の光スポ
ット径の変化は傾きが小さく「なだらか」となり、偏向
光束の結像位置と被走査面との間に多少のデフォーカス
があっても、副走査対応方向における光スポット径の変
動は少ない。
３を、シリンダレンズ系４の前側焦点位置に置くと、被
走査面８がアパーチャ３からみて光学的に見て無限遠と
なるため、前記共役横倍率：βが１より小さくても、被
走査面を含むかなりの領域において、偏向光束の結像は
アパーチャ開口部のフラウンホーファー回折像となり、
デフォーカス量をパラメータとした副走査方向の光スポ
ット径の変化は傾きが小さく「なだらか」となり、偏向
光束の結像位置と被走査面との間に多少のデフォーカス
があっても、副走査対応方向における光スポット径の変
動は少ない。
【００２２】条件（１）は、請求項１記載の構成におい
て、デフォーカス量をパラメータとした副走査方向の光
スポット径の変化は傾きが小さく「なだらか」となる条
件である。
て、デフォーカス量をパラメータとした副走査方向の光
スポット径の変化は傾きが小さく「なだらか」となる条
件である。
【００２３】上記のように、フレネル回折の影響は副走
査対応方向においてのみ発生するので、請求項２記載の
発明のように開口手段を第１および第２の開口部材で構
成する場合、問題となるのは、副走査対応方向において
光束規制を行う第２の開口部材の共役像であり、デフォ
ーカス量をパラメータとした副走査方向の光スポット径
の変化は傾きが小さく「なだらか」となる条件は、上述
の条件（２）となる。
査対応方向においてのみ発生するので、請求項２記載の
発明のように開口手段を第１および第２の開口部材で構
成する場合、問題となるのは、副走査対応方向において
光束規制を行う第２の開口部材の共役像であり、デフォ
ーカス量をパラメータとした副走査方向の光スポット径
の変化は傾きが小さく「なだらか」となる条件は、上述
の条件（２）となる。
【００２４】
【実施例】以下、具体的な実施例を説明する。図１にお
けるアパーチュア３以降の光学配置における光学系デー
タの具体的な１例として、以下のものを挙げる。
けるアパーチュア３以降の光学配置における光学系デー
タの具体的な１例として、以下のものを挙げる。
【００２５】Ｘとあるのは、前述の光源から被走査面に
到る光路を光軸に沿って直線的に展開した仮想的な光路
上で、アパーチャ３からシリンダレンズ４の光源側レン
ズ面に到る光路上の距離、Ｒとあるのは、各光学素子に
おける副走査対応方向の曲率半径、Ｄとあるのは光学素
子の各面の面間隔、Ｎとあるのは屈折率を表す。
到る光路を光軸に沿って直線的に展開した仮想的な光路
上で、アパーチャ３からシリンダレンズ４の光源側レン
ズ面に到る光路上の距離、Ｒとあるのは、各光学素子に
おける副走査対応方向の曲率半径、Ｄとあるのは光学素
子の各面の面間隔、Ｎとあるのは屈折率を表す。
【００２６】 Ｒ Ｄ Ｎ アパーチャ３ ∞ Ｘ １．０ シリンダレンズ系４ ４８ ５ １．５１１ シリンダレンズ系４ ∞ ３２５ １．０ レンズ６ ∞ １３ １．７６６ レンズ６ −１３７．０ ９８ １．０ レンズ７ ４８ ３ １．５１１ レンズ７ ∞ ７９ １．０ レンズ７に関するＤ＝７９は、レンズ７の被走査面側レ
ンズ面と被走査面との間の光軸上の距離を表す。レンズ
６，７により構成される走査結像光学系の副走査対応方
向の共役横倍率：βは０．３９である。なお、レンズ７
は長尺シリンダレンズである。
ンズ面と被走査面との間の光軸上の距離を表す。レンズ
６，７により構成される走査結像光学系の副走査対応方
向の共役横倍率：βは０．３９である。なお、レンズ７
は長尺シリンダレンズである。
【００２７】上記のＸの値を、６９ｍｍ，１１９．９４
ｍｍ，１２９．９４ｍｍ，１３９．９４ｍｍとしたと
き、前記Ｌ，Δ，Δ／Ｌおよび深度の値は以下のように
なる。
ｍｍ，１２９．９４ｍｍ，１３９．９４ｍｍとしたと
き、前記Ｌ，Δ，Δ／Ｌおよび深度の値は以下のように
なる。
【００２８】 Ｘ Δ Ｌ Δ／Ｌ 深度（ｍｍ） ６９ ２２ ４３０ ０．０５ ３．００ １１９．９４ １３６ ４３０ ０．３２ ６．００ １２９．９４ ∞ ４３０ ∞ ６．３０ １３９．９４ １３６ ４３０ ０．３２ ６．２０ 。
【００２９】被走査面上に形成される光スポットの副走
査方向の径は、偏向光束の副走査対応方向の結像位置と
被走査面とのずれ（デフォーカス量）により変化する。
上記の「深度」は、光スポットの副走査対応方向の径
が、設計値：８０μｍ以下となるデフォーカス量の範囲
であり、深度の数値（ｍｍ）が大きいほど、デフォーカ
ス量の広い範囲で光スポットの副走査対応方向の径は安
定していることになる。
査方向の径は、偏向光束の副走査対応方向の結像位置と
被走査面とのずれ（デフォーカス量）により変化する。
上記の「深度」は、光スポットの副走査対応方向の径
が、設計値：８０μｍ以下となるデフォーカス量の範囲
であり、深度の数値（ｍｍ）が大きいほど、デフォーカ
ス量の広い範囲で光スポットの副走査対応方向の径は安
定していることになる。
【００３０】上記の例では、Δ／Ｌが０．３２以上であ
ると、深度は６ｍｍ以上と十分に大きく、光スポット径
は安定している。しかるに、Δ／Ｌが０．３２より小さ
くなり、例えば上の例のように、Δ／Ｌ＝０．０５では
深度は３ｍｍと小さくなり、安定した径の光スポットで
光走査を行うのは困難である。
ると、深度は６ｍｍ以上と十分に大きく、光スポット径
は安定している。しかるに、Δ／Ｌが０．３２より小さ
くなり、例えば上の例のように、Δ／Ｌ＝０．０５では
深度は３ｍｍと小さくなり、安定した径の光スポットで
光走査を行うのは困難である。
【００３１】図２（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）に、
上記Ｘの値を、６９ｍｍ，１１９．９４ｍｍ，１２９．
９４ｍｍ，１３９．９４ｍｍとしたときの、副走査対応
方向の光スポット径（縦軸）と、デフォーカス量（横
軸）との関係を示す。これらの図において、関係曲線が
光スポット径：８０μｍ以下になる横軸領域が「深度」
である。Δ／Ｌ＝０．０５に相当する図２（ａ）におい
て、深度：３ｍｍと小さくなっているのは、開口手段で
あるアパーチャ３によるフレネル回折の影響によるもの
である。
上記Ｘの値を、６９ｍｍ，１１９．９４ｍｍ，１２９．
９４ｍｍ，１３９．９４ｍｍとしたときの、副走査対応
方向の光スポット径（縦軸）と、デフォーカス量（横
軸）との関係を示す。これらの図において、関係曲線が
光スポット径：８０μｍ以下になる横軸領域が「深度」
である。Δ／Ｌ＝０．０５に相当する図２（ａ）におい
て、深度：３ｍｍと小さくなっているのは、開口手段で
あるアパーチャ３によるフレネル回折の影響によるもの
である。
【００３２】図３は光走査装置の別の例を図１に倣って
示している。図１の例との違いは、走査結像光学系が３
枚のレンズ６０，６１，７０により構成されている点で
ある。レンズ７０は長尺トロイダルレンズである。
示している。図１の例との違いは、走査結像光学系が３
枚のレンズ６０，６１，７０により構成されている点で
ある。レンズ７０は長尺トロイダルレンズである。
【００３３】図３におけるアパーチュア３以降の光学配
置における光学系データの具体的な１例として、以下の
ものを挙げる。記載の要領は図１の例の場合と同様であ
る。
置における光学系データの具体的な１例として、以下の
ものを挙げる。記載の要領は図１の例の場合と同様であ
る。
【００３４】 Ｒ Ｄ Ｎ アパーチャ３ ∞ Ｘ １．０ シリンダレンズ系４ ６４．５ ３ １．５１１ シリンダレンズ系４ ∞ １６２ １．０ レンズ６０ −１４０．１ １８．８ １．５７２ レンズ６０ −１１３．９ ２．７ １．０ レンズ６１ ∞ ２３．５ １．５７２ レンズ６１ −１５０．０ １１１．５ １．０ レンズ７０ −４３．６ ３ １．５７２ レンズ７０ −２０．３ ８８ １．０ レンズ６０，６１，７０により構成される走査結像光学
系の副走査対応方向の共役横倍率：βは０．６である。
系の副走査対応方向の共役横倍率：βは０．６である。
【００３５】上記のＸの値を、３０ｍｍ，１８０ｍｍ，
２４７．９ｍｍ，３１５ｍｍとしたとき、前記Ｌ，Δ，
Δ／Ｌおよび深度の値は以下のようになる。
２４７．９ｍｍ，３１５ｍｍとしたとき、前記Ｌ，Δ，
Δ／Ｌおよび深度の値は以下のようになる。
【００３６】 Ｘ Δ Ｌ Δ／Ｌ 深度（ｍｍ） ３０ ２６．５ ２９３ ０．０９ ４．６９ １８０ ９３ ２９３ ０．３２ ７．００ ２４７．９ ∞ ２９３ ∞ ６．４９ ３１５ ９３ ２９３ ０．３２ ７．００ 。
【００３７】この例でも、「深度」は、光スポットの副
走査対応方向の径が、設計値：８０μｍ以下となるデフ
ォーカス量の範囲である。この例でも、Δ／Ｌが０．３
２以上であると、深度は十分に大きく、光スポット径は
安定している。しかるに、Δ／Ｌが０．３２より小さく
なり、例えば上の例のように、Δ／Ｌ＝０．０９では深
度は４．６９ｍｍと小さくなり、安定した径の光スポッ
トで光走査を行うのは困難である。
走査対応方向の径が、設計値：８０μｍ以下となるデフ
ォーカス量の範囲である。この例でも、Δ／Ｌが０．３
２以上であると、深度は十分に大きく、光スポット径は
安定している。しかるに、Δ／Ｌが０．３２より小さく
なり、例えば上の例のように、Δ／Ｌ＝０．０９では深
度は４．６９ｍｍと小さくなり、安定した径の光スポッ
トで光走査を行うのは困難である。
【００３８】図４（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）に、
図３の例で、Ｘの値を３０ｍｍ，１８０ｍｍ，２４７．
９ｍｍ，３１５ｍｍとしたときの、副走査対応方向の光
スポット径（縦軸）と、デフォーカス量（横軸）との関
係を示す。Δ／Ｌ＝０．０９に相当する図４（ａ）にお
いて、深度：４．６９ｍｍと小さくなっているのは、開
口手段であるアパーチャ３によるフレネル回折の影響に
よるものである。
図３の例で、Ｘの値を３０ｍｍ，１８０ｍｍ，２４７．
９ｍｍ，３１５ｍｍとしたときの、副走査対応方向の光
スポット径（縦軸）と、デフォーカス量（横軸）との関
係を示す。Δ／Ｌ＝０．０９に相当する図４（ａ）にお
いて、深度：４．６９ｍｍと小さくなっているのは、開
口手段であるアパーチャ３によるフレネル回折の影響に
よるものである。
【００３９】これらの例から、一般に、アパーチャ以後
の光学系に対して、条件（１）が満足されるとき、光ス
ポット径（副走査方向）を安定させて、良好な光走査を
行い得ることが理解されるであろう。前述の如く、主走
査方向には、開口手段によるフレネル回折の影響は現れ
ないので、主走査方向の光スポット径は、安定した状態
にある。
の光学系に対して、条件（１）が満足されるとき、光ス
ポット径（副走査方向）を安定させて、良好な光走査を
行い得ることが理解されるであろう。前述の如く、主走
査方向には、開口手段によるフレネル回折の影響は現れ
ないので、主走査方向の光スポット径は、安定した状態
にある。
【００４０】上記の２例では、光スポット径の安定のた
めに、Δ／Ｌを０．３２以上に設定しようとすると、開
口手段であるアパーチャ３からシリンダレンズ系４にい
たる光路長は、図１の例で１１９．９４ｍｍ、図３の例
で１８０ｍｍと、かなりの長さになり、光走査装置をコ
ンパクトに構成するには、例えば、アパーチャ３とシリ
ンダレンズ系４との間に、平面鏡を１以上介して光路を
屈曲させるなどの工夫が必要となる。
めに、Δ／Ｌを０．３２以上に設定しようとすると、開
口手段であるアパーチャ３からシリンダレンズ系４にい
たる光路長は、図１の例で１１９．９４ｍｍ、図３の例
で１８０ｍｍと、かなりの長さになり、光走査装置をコ
ンパクトに構成するには、例えば、アパーチャ３とシリ
ンダレンズ系４との間に、平面鏡を１以上介して光路を
屈曲させるなどの工夫が必要となる。
【００４１】装置のコンパクト化に有効な方策として、
開口手段をＬＤ光源とカップリングレンズ系の間に配備
する方法がある。このようにすると、開口手段以降の光
学系に、正のパワーを持つカップリングレンズが含まれ
るので、開口手段以降の光学系による開口手段の共役像
の位置が、被走査面から偏向反射面側へずれて「Δ」が
大きくなるため、開口手段からシリンダ光学系に到る光
路長を短縮できるのである。
開口手段をＬＤ光源とカップリングレンズ系の間に配備
する方法がある。このようにすると、開口手段以降の光
学系に、正のパワーを持つカップリングレンズが含まれ
るので、開口手段以降の光学系による開口手段の共役像
の位置が、被走査面から偏向反射面側へずれて「Δ」が
大きくなるため、開口手段からシリンダ光学系に到る光
路長を短縮できるのである。
【００４２】ところで、ＬＤ光源から放射される発散性
のレーザー光束の発散角は、個々のＬＤ光源により若干
の変動が有り、一律に設計したアパーチャをＬＤ光源と
カップリングレンズ系との間に配備すると、光走査ごと
に、アパーチャの光束規制量が異なる事態となる慮があ
る。
のレーザー光束の発散角は、個々のＬＤ光源により若干
の変動が有り、一律に設計したアパーチャをＬＤ光源と
カップリングレンズ系との間に配備すると、光走査ごと
に、アパーチャの光束規制量が異なる事態となる慮があ
る。
【００４３】このような事態に備え、開口手段をＬＤ光
源とカップリングレンズ系との間に配備する場合には、
開口手段を、主走査対応方向において光束周辺部の光を
遮断する第１の開口部材と、副走査対応方向において光
束周辺部の光を遮断する第２の開口部材とにより構成
し、少なくとも第２の開口部材における光束周辺部の光
の遮断量を調整する「遮光量調整手段」を設けるのがよ
い（請求項３）。
源とカップリングレンズ系との間に配備する場合には、
開口手段を、主走査対応方向において光束周辺部の光を
遮断する第１の開口部材と、副走査対応方向において光
束周辺部の光を遮断する第２の開口部材とにより構成
し、少なくとも第２の開口部材における光束周辺部の光
の遮断量を調整する「遮光量調整手段」を設けるのがよ
い（請求項３）。
【００４４】このようにする場合は、ＬＤ光源とカップ
リングレンズ系との間には、第２の開口手段のみを配備
し（請求項４）、第１の開口手段はカップリングレンズ
と光偏向器との間の適宜の位置に配備すればよく、第２
の開口手段につき、前述の条件に代えて、条件（２）が
満足されるようにすればよいのである（請求項２）。前
述のように、光スポット径の深度に影響を与えるフレネ
ル回折は副走査対応方向においてのみ生じるからであ
る。
リングレンズ系との間には、第２の開口手段のみを配備
し（請求項４）、第１の開口手段はカップリングレンズ
と光偏向器との間の適宜の位置に配備すればよく、第２
の開口手段につき、前述の条件に代えて、条件（２）が
満足されるようにすればよいのである（請求項２）。前
述のように、光スポット径の深度に影響を与えるフレネ
ル回折は副走査対応方向においてのみ生じるからであ
る。
【００４５】図５（ａ）は請求項２，６記載の発明の１
実施例を特徴部のみ略示している。符号３’は第２の開
口手段、符号３’’は第１の開口手段を示している。第
１の開口手段３’’は、カップリングレンズ系２の後方
に配備され、図５（ｂ）に示すように、２枚の遮光板３
１，３２を組み合わせてスリットを形成するようにした
スリット部材であり、カップリングレンズ系２により平
行光束化された光束ＬＦの主走査対応方向（図の左右方
向）の周辺部の光束を規制する。遮光板３１，３２によ
り形成されるスリット幅（開口径）は必要に応じて公知
の調整手段で調整してもよい。
実施例を特徴部のみ略示している。符号３’は第２の開
口手段、符号３’’は第１の開口手段を示している。第
１の開口手段３’’は、カップリングレンズ系２の後方
に配備され、図５（ｂ）に示すように、２枚の遮光板３
１，３２を組み合わせてスリットを形成するようにした
スリット部材であり、カップリングレンズ系２により平
行光束化された光束ＬＦの主走査対応方向（図の左右方
向）の周辺部の光束を規制する。遮光板３１，３２によ
り形成されるスリット幅（開口径）は必要に応じて公知
の調整手段で調整してもよい。
【００４６】第２の開口手段３’は、主走査方向には十
分な幅で、副走査方向には所定幅の矩形状開口部を持つ
アパーチャであり、主走査方向には光束を規制しない。
第２の開口手段３’は、変位機構４０により、カップリ
ングレンズ系２の光軸方向へ変位可能となっている。
分な幅で、副走査方向には所定幅の矩形状開口部を持つ
アパーチャであり、主走査方向には光束を規制しない。
第２の開口手段３’は、変位機構４０により、カップリ
ングレンズ系２の光軸方向へ変位可能となっている。
【００４７】変位機構４０は、図５（ｃ）に示すよう
に、第２の開口手段３’を保持する保持体４１と、この
保持体４１を、カップリングレンズ系２の光軸方向（図
５（ｃ）において左右方向）へ摺動自在に嵌合され、装
置の不動部材５０に固定された支持体４２と、保持体４
１と支持体４２の間に配備され、保持体４１に、図の左
方へ向かう弾性力を作用させる圧縮性のバネ４３と、こ
のバネ４３による弾性力に拮抗する力を保持体４１に作
用させる調整螺子４４とにより構成され、調整螺子４４
の調整により、第２の開口手段３’の位置を、カップリ
ングレンズ系２の光軸方向に変位調整できる。
に、第２の開口手段３’を保持する保持体４１と、この
保持体４１を、カップリングレンズ系２の光軸方向（図
５（ｃ）において左右方向）へ摺動自在に嵌合され、装
置の不動部材５０に固定された支持体４２と、保持体４
１と支持体４２の間に配備され、保持体４１に、図の左
方へ向かう弾性力を作用させる圧縮性のバネ４３と、こ
のバネ４３による弾性力に拮抗する力を保持体４１に作
用させる調整螺子４４とにより構成され、調整螺子４４
の調整により、第２の開口手段３’の位置を、カップリ
ングレンズ系２の光軸方向に変位調整できる。
【００４８】ＬＤ光源１から放射されたレーザー光束
は、光源とカップリングレンズ系２との間では発散光束
であるから、第２の開口手段３’を上記の如く変位調整
することにより副走査対応方向に於いて、レーザー光束
の規制量を所望の量に調整できる（請求項６）。
は、光源とカップリングレンズ系２との間では発散光束
であるから、第２の開口手段３’を上記の如く変位調整
することにより副走査対応方向に於いて、レーザー光束
の規制量を所望の量に調整できる（請求項６）。
【００４９】上に説明した実施例では、光源装置からの
レーザー光束を副走査対応方向にのみ収束させるシリン
ダ光学系として、シリンダレンズ系を用いたが、シリン
ダ光学系はシリンダレンズ系に限らず「シリンダミラ
ー」を用いることもできる（請求項５）。
レーザー光束を副走査対応方向にのみ収束させるシリン
ダ光学系として、シリンダレンズ系を用いたが、シリン
ダ光学系はシリンダレンズ系に限らず「シリンダミラ
ー」を用いることもできる（請求項５）。
【００５０】図６は、シリンダ光学系としてシリンダミ
ラーを用いた実施例を、特徴部分のみ略示している。Ｌ
Ｄ光源１から放射され、カップリングレンズ系２により
平行光束化されたレーザー光束はシリンダミラー４Ａに
より副走査対応方向（図面に直交する方向）にのみ収束
され、偏向反射面５の近傍に主走査対応方向に長い線像
として結像し、経卯反射面５により反射されて偏向光束
となる。
ラーを用いた実施例を、特徴部分のみ略示している。Ｌ
Ｄ光源１から放射され、カップリングレンズ系２により
平行光束化されたレーザー光束はシリンダミラー４Ａに
より副走査対応方向（図面に直交する方向）にのみ収束
され、偏向反射面５の近傍に主走査対応方向に長い線像
として結像し、経卯反射面５により反射されて偏向光束
となる。
【００５１】シリンダ光学系として、シリンダミラーを
用いると、シリンダミラーは、線像の結像機能ととも
に、光路を屈曲させる機能を持つので、この光路屈曲機
能を利用して、光学配置のコンパクト化を図ることがで
きる。
用いると、シリンダミラーは、線像の結像機能ととも
に、光路を屈曲させる機能を持つので、この光路屈曲機
能を利用して、光学配置のコンパクト化を図ることがで
きる。
【００５２】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば新規な
光走査装置を提供できる。この発明は上記の如き構成と
なっているので、アパーチャ等の開口手段によるフレネ
ル回折の影響を有効に防止し、安定した光スポット径で
良好な光走査を実現することができる。
光走査装置を提供できる。この発明は上記の如き構成と
なっているので、アパーチャ等の開口手段によるフレネ
ル回折の影響を有効に防止し、安定した光スポット径で
良好な光走査を実現することができる。
【００５３】なお、開口手段は、上記実施例の位置に限
らず、シリンダ光学系と光偏向器との間に配備してもよ
い。走査結像光学系は、副走査対応方向に関する共役横
倍率が１より小さいので、公差に強く、レンズ面精度に
さほどの高精度を要求されることなく、小さい光スポッ
ト径を実現できる。
らず、シリンダ光学系と光偏向器との間に配備してもよ
い。走査結像光学系は、副走査対応方向に関する共役横
倍率が１より小さいので、公差に強く、レンズ面精度に
さほどの高精度を要求されることなく、小さい光スポッ
ト径を実現できる。
【図１】請求項１記載の発明の１実施例の光学配置を説
明するための図である。
明するための図である。
【図２】図１の光学配置において、開口手段とシリンダ
レンズ系の距離と、深度特性との関係を説明するための
図である。
レンズ系の距離と、深度特性との関係を説明するための
図である。
【図３】請求項１記載の発明の別実施例の光学配置を説
明するための図である。
明するための図である。
【図４】図３の光学配置において、開口手段とシリンダ
レンズ系の距離と、深度特性との関係を説明するための
図である。
レンズ系の距離と、深度特性との関係を説明するための
図である。
【図５】請求項６記載の発明の１実施例を説明するため
の図である。
の図である。
【図６】請求項５記載の発明の１実施例で、シリンダ光
学系としてシリンダミラーを用いた例を、特徴部分のみ
示す図である。
学系としてシリンダミラーを用いた例を、特徴部分のみ
示す図である。
１ ＬＤ光源 ２ カップリングレンズ系 ３ 開口手段としてのアパーチャ ４ シリンダ光学系としてのシリンダレンズ系 ５ 偏向反射面 ６ レンズ ７ レンズ６と共に走査結像光学系を構成するレン
ズ
ズ
Claims (6)
- 【請求項１】ＬＤ光源とカップリングレンズ系とを有す
る光源装置からのレーザー光束を、シリンダ光学系によ
り副走査対応方向へ収束させて主走査対応方向に長い線
像として結像させ、上記線像の結像位置近傍に偏向反射
面を有する光偏向器により偏向させ、偏向光束を走査結
像光学系により被走査面上に光スポットとして集光させ
て光走査を行う光走査装置において、 上記走査結像光学系は、副走査対応方向に関する共役横
倍率が１より小さく、 上記光源装置と光偏向器の偏向反射面との間に配備さ
れ、開口部によりレーザー光束を通過させつつ、レーザ
ー光束の光束周辺部の光を遮断する開口手段を有し、 上記光偏向器による偏向光束の偏向の起点と、基準偏向
光束の結像点との間の距離をＬ、開口手段以降の光学系
による開口手段の共役像と上記結像点との間の距離をΔ
とするとき、ＬとΔとが条件 Δ／Ｌ≧０．３２ （１） を満足するように上記開口手段の位置を定めたことを特
徴とする光走査装置。 - 【請求項２】ＬＤ光源とカップリングレンズ系とを有す
る光源装置からのレーザー光束を、シリンダ光学系によ
り副走査対応方向へ収束させて主走査対応方向に長い線
像として結像させ、上記線像の結像位置近傍に偏向反射
面を有する光偏向器により偏向させ、偏向光束を走査結
像光学系により被走査面上に光スポットとして集光させ
て光走査を行う光走査装置において、 上記走査結像光学系は、副走査対応方向に関する共役横
倍率が１より小さく、 上記光源装置と光偏向器の偏向反射面との間に配備さ
れ、開口部によりレーザー光束を通過させつつ、レーザ
ー光束の光束周辺部の光を遮断する開口手段を有し、 上記開口手段は、主走査対応方向において光束周辺部の
光を遮断する第１の開口部材と、副走査対応方向におい
て光束周辺部の光を遮断する第２の開口部材とを有し、 上記光偏向器による偏向光束の偏向の起点と、基準偏向
光束の結像点との間の距離をＬ、第２の開口部材以降の
光学系による、第２の開口部材の共役像と上記結像点と
の間の距離をδとするとき、Ｌとδとが条件 δ／Ｌ≧０．３２ （２） を満足するように上記第２の開口手段の位置を定めたこ
とを特徴とする光走査装置。 - 【請求項３】請求項２記載の光走査装置において、 少なくとも第２の開口部材における光束周辺部の光の遮
断量を調整する、遮光量調整手段を有することを特徴と
する光走査装置。 - 【請求項４】請求項２または３記載の光走査装置におい
て、 少なくとも第２の開口部材がＬＤ光源とカップリングレ
ンズ系との間に配備されることを特徴とする光走査装
置。 - 【請求項５】請求項１または２または３または４記載の
光走査装置において、 シリンダ光学系が、シリンダレンズ系もしくはシリンダ
ミラーであることを特徴とする光走査装置。 - 【請求項６】請求項２記載の光走査装置において、 第２の開口部材は副走査対応方向の開口幅の固定された
アパーチャであって、ＬＤ光源とカップリングレンズ系
の間に配備され、遮光量調整手段は、上記アパーチャを
カップリングレンズ系の光軸方向へ変位させる変位機構
であることを特徴とする光走査装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5256119A JPH07110451A (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | 光走査装置 |
| US08/312,642 US5581392A (en) | 1993-10-13 | 1994-09-27 | Optical Scanner |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5256119A JPH07110451A (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | 光走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07110451A true JPH07110451A (ja) | 1995-04-25 |
Family
ID=17288166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5256119A Pending JPH07110451A (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | 光走査装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5581392A (ja) |
| JP (1) | JPH07110451A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7728863B2 (en) | 2003-05-29 | 2010-06-01 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning device and image forming apparatus |
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|---|---|---|---|---|
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| JP3435311B2 (ja) * | 1997-06-19 | 2003-08-11 | 松下電器産業株式会社 | 情報読み取り装置 |
| JP3451473B2 (ja) | 1999-03-03 | 2003-09-29 | 株式会社リコー | マルチビーム走査装置および画像形成装置 |
| JP3503929B2 (ja) * | 1999-06-09 | 2004-03-08 | 株式会社リコー | 光走査用レンズおよび光走査装置および画像形成装置 |
| US6509995B1 (en) | 1999-09-01 | 2003-01-21 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning device, line-image forming optical system therein, imaging adjustment method in the device and image forming apparatus |
| US6785028B1 (en) | 1999-11-24 | 2004-08-31 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning device having a temperature compensation unit |
| JP2001215437A (ja) | 2000-02-03 | 2001-08-10 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
| JP3939896B2 (ja) | 2000-04-05 | 2007-07-04 | 株式会社リコー | 光走査装置 |
| JP4774157B2 (ja) | 2000-04-13 | 2011-09-14 | 株式会社リコー | マルチビーム光源装置及び光走査装置 |
| US7006271B2 (en) | 2000-04-13 | 2006-02-28 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning device and image forming apparatus |
| JP3980812B2 (ja) * | 2000-05-19 | 2007-09-26 | 株式会社リコー | マルチビーム走査装置・マルチビーム走査方法・画像形成装置 |
| JP2002040342A (ja) | 2000-07-24 | 2002-02-06 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置・光走査方法および画像形成装置 |
| JP2002082303A (ja) | 2000-09-08 | 2002-03-22 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置およびこれを用いた画像形成装置 |
| JP4039797B2 (ja) | 2000-10-03 | 2008-01-30 | 株式会社リコー | 光走査装置および画像形成装置 |
| JP4118013B2 (ja) | 2000-10-27 | 2008-07-16 | 株式会社リコー | 光走査装置、画像形成装置及び画像形成方法 |
| JP2002202472A (ja) | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
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