JP2007114521A - タンデム型対応レーザ走査装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】光学素子の配置の自由度を確保するとともに、デフォーカス時に各感光体上でのビーム径の変化の差を解消でき、品質の良好なカラー画像を得ることのできるタンデム型対応レーザ走査装置を得る。
【解決手段】 半導体レーザ1a〜1dと、アパーチャ3a〜3dと、シリンダレンズ5と、ポリゴンミラー6と、ポリゴンミラー6で偏向された光を並置された感光体12a〜12dに導いて結像させる走査光学系20とで構成したタンデム型対応レーザ走査装置。走査光学系20は各光路においてポリゴンミラー6と感光体12a〜12dとの間の副走査方向の結像倍率が0.9以下で、かつ、互いに異なっており、アパーチャ3a〜3dの位置を適切に設定することで、各光路においてアパーチャ共役像の位置が感光体12a〜12dからほぼ等しい距離となるようにした。
【選択図】図1

Description

本発明は、タンデム型対応レーザ走査装置、特に、電子写真法によってタンデム方式でカラー画像を形成する複写機やプリンタなど画像形成装置に搭載されるレーザ走査装置に関する。
従来、色の三原色及び黒色の画像をそれぞれ形成するための複数の感光体を並置し、該感光体上に形成されたそれぞれの色の画像を中間転写体上に順次1次転写して合成し、該合成画像を転写材上に2次転写するようにした、タンデム型の画像形成装置が種々提供されている。
この種のタンデム型に対応したレーザ走査装置として、特許文献1には、複数の光源からの光を偏向器(ポリゴンミラー)の一つの面で偏向した後、折返しミラーで光路を分離し、レンズやミラーを介してそれぞれの感光体に導いて画像を形成することで、カラー画像を高速に形成する技術が記載されている。
また、特許文献2には、複数の光源からの光が副走査方向において偏向器への入射角度が異なるとき、副走査方向の結像倍率を変更して感光体上でのボウを抑制することが記載されている。ここでは、光源からの光を所望のスポット径とするためのアパーチャを偏向器の前段に設けることが開示されている。
ところで、特許文献1に記載のタンデム型対応レーザ走査装置では、各光路について偏向器と感光体との間の副走査方向の結像倍率を揃えようとすると、光学素子の配置上の制約が大きい。そこで、副走査方向の結像倍率に差を付けることで光学素子の配置に自由度を持たせることが考えられる。この場合に、特許文献2に記載されているように、アパーチャを用いてアパーチャ以降の光学系を介して感光体の近くに形成されるアパーチャの像の位置については、感光体からの距離が副走査方向の結像倍率に応じて差が生じてしまう。
その結果、デフォーカスの発生時におけるビーム径の変化が副走査方向倍率に応じて差を生じてしまい、例えば、温度変化などによるデフォーカスで各感光体上でのビーム径に差が生じ、階調性に差が生じて色味が変化してしまうという問題点を有していた。
特開2004−70190号公報 特開2000−180749号公報
そこで、本発明の目的は、副走査方向の結像倍率に差を付けて光学素子の配置の自由度を確保するとともに、デフォーカス時に各感光体上でのビーム径の変化の差を解消でき、品質の良好なカラー画像を得ることのできるタンデム型対応レーザ走査装置を提供することにある。
以上の目的を達成するため、第1の発明は、少なくとも二つの光源と、前記光源からの光を偏向する一つの偏向器と、前記光源からの光をそれぞれ前記偏向器の近傍で副走査方向のみに集光する第1の光学系と、前記光源と前記偏向器との間の光路中に配置され、前記光源からの光のそれぞれを光束規制する少なくとも二つのアパーチャと、前記偏向器によって偏向されたそれぞれの光を少なくとも二つの感光体のそれぞれに導く第2の光学系と、を備えたタンデム型対応レーザ走査装置において、
前記第2の光学系は、前記感光体のそれぞれに対応して、前記偏向器と前記感光体との間の副走査方向の結像倍率が0.9以下で、かつ、互いに異なっており、
前記感光体の数をnとし、画像中央に対応する偏向角において前記アパーチャから前記感光体までの間に設置された光学系による前記アパーチャの像から前記感光体までの主光線に沿った距離をtk(1≦k≦n)とし、前記tkのうち副走査方向の結像倍率が最も低い光路に対応するものをtとしたとき、以下の式が任意のkについて成り立つこと、
0.9≦tk/t≦1.1
を特徴とする。
第1の発明に係るタンデム型対応レーザ走査装置においては、副走査方向の結像倍率に差を付けたことにより、光学素子の配置の自由度が確保され、かつ、アパーチャの位置を前記式を満足するように設定したため、副走査方向の結像倍率が異なるにも拘わらずアパーチャ以降の光学系を介して感光体の近くに形成されるアパーチャの像の位置が感光体からほぼ等しい距離になる。これにて、デフォーカスが生じた場合であっても感光体上でのビーム径の挙動がほぼ等しくなり、カラー画像の階調性、色味が変化することが解消される。
また、第2の発明は、少なくとも二つの光源と、前記光源からの光を偏向する一つの偏向器と、前記光源からの光をそれぞれ前記偏向器の近傍で副走査方向のみに集光する第1の光学系と、前記光源と前記偏向器との間の光路中に配置され、前記光源からの光のそれぞれを光束規制する少なくとも二つのアパーチャと、前記偏向器によって偏向されたそれぞれの光を少なくとも二つの感光体のそれぞれに導く第2の光学系と、を備えたタンデム型対応レーザ走査装置において、
前記第2の光学系は、前記感光体のそれぞれに対応して、前記偏向器と前記感光体との間の副走査方向の結像倍率が0.9以下で、かつ、互いに異なっており、
前記アパーチャと前記偏向器との間の光路中に、副走査方向についてパワーを有する光学素子が配置され、
前記光学素子と前記アパーチャとの間の光路中にはパワーを有する光学素子が配置されておらず、
前記アパーチャから前記光学素子までの主光線に沿った距離が、前記偏向器と前記感光体との間の副走査方向の結像倍率の絶対値が小さい光路ほど長いこと、
を特徴とする。
第2の発明に係るタンデム型対応レーザ走査装置においては、副走査方向の結像倍率に差を付けたことにより、光学素子の配置の自由度が確保され、かつ、アパーチャの位置を、アパーチャから光学素子までの主光線に沿った距離が偏向器と感光体との間の副走査方向の結像倍率の絶対値が小さい光路ほど、長く設定したため、副走査方向の結像倍率が異なるにも拘わらずアパーチャ以降の光学系を介して感光体の近くに形成されるアパーチャの像の位置が感光体からほぼ等しい距離になる。これにて、デフォーカスが生じた場合であっても感光体上でのビーム径の挙動がほぼ等しくなり、カラー画像の階調性、色味が変化することが解消される。
以下、本発明に係るタンデム型対応レーザ走査装置の実施例について、添付図面を参照して説明する。
(第1実施例、図1〜図10参照)
図1に本発明の第1実施例であるタンデム型対応レーザ走査装置の概略構成を示す。このレーザ走査装置は、概略、四つの半導体レーザ1a〜1dと、アパーチャ3a〜3dと、シリンダレンズ5と、ポリゴンミラー6と、ポリゴンミラー6で偏向された光を並置された四つの感光体12a〜12dに導いて結像させる走査光学系20とで構成されている。
感光体12a〜12dは、色の三原色及び黒色の画像をそれぞれ形成するためのもので、各感光体12a〜12d上に形成された各色の画像は図示しない中間転写ベルト上に転写、合成される。このようなカラー画像の形成方式はタンデム型として周知であり、その説明は省略する。
半導体レーザ1a〜1dのそれぞれから放射されたレーザ光は、コリメータレンズ2a〜2dによってそれぞれ平行光となり、アパーチャ3a〜3dによって光束規制された後、平面ミラーアレイ4によって主走査方向Yについて重ね合わされ、シリンダレンズ5によって副走査方向Zのみに集光される。その後、レーザ光はポリゴンミラー6によって主走査方向Yに等角速度で偏向され、共通の走査第1レンズ7によって屈折された後、各感光体12a〜12dへの分岐された四つの光路に対応した第1折返しミラー8a〜8d、第2折返しミラー9a〜9d、走査第2レンズ10a〜10d、ウインドウガラス11a〜11dを介して、感光体12a〜12d上に結像される。
図2に第1実施例であるレーザ走査装置の副走査方向Zの断面での光路を示す。レーザ光がポリゴンミラー6によって偏向されるまでは、各光路は副走査方向Zについて同じ高さであり、主光線の副走査方向Zの角度が異なっている。
また、第2レンズ10a〜10dから各感光体12a〜12dまでの距離が光路ごとに異なっている。タンデム型対応のレーザ走査装置の場合、黒色トナーの消費量が他の色のトナーに比べて多いため、黒色トナーのホッパだけが大きい場合がある。本第1実施例においては“a”を付した光路を黒色画像形成用として割り当てることによって、装置をコンパクトに構成している。以下、四つの光路をそれぞれ“a”、“b”、“c”、“d”として区別して表記する。
一方、副走査方向Zにパワーを持っている第2レンズ10a〜10dの位置が各光路ごとに異なっており、各光路における走査光学系の副走査方向Zの結像倍率は各光路ごとに異なっている。これにて、走査光学系20を構成する各光学素子の設計上の自由度が増すことになる。
図3に第1実施例であるレーザ走査装置における光路“a”の展開状態を示す。図4に同様に光路“b”の展開状態を示す。図5に同様に光路“c”の展開状態を示す。図6に同様に光路“d”の展開状態を示す。これらの各図においては、平面かつ固定のミラーを省略して、元の光学系と光学的に等価になるように描かれている。各図において、(A)は主走査方向Yの断面図、(B)は副走査方向Zの断面図、(C)は光源部光学系の副走査方向Zの断面図である。
以下に示す表1〜表7は光路“a”の各光学素子のコンストラクションデータを示す。表8及び表9は光路“b”の各光学素子のコンストラクションデータを示し、面1〜面8は光路“a”の光学素子と同一形状である。表10及び表11は光路“c”の各光学素子のコンストラクションデータを示し、面1〜面8は光路“a”の光学素子と同一形状である。表12及び表13は光路“d”の各光学素子のコンストラクションデータを示し、面1〜面8は光路“a”の光学素子と同一形状である。なお、表1〜表13で表記のない係数は0である。
これらのコンストラクションデータにおいて、軸対称非球面の面形状は次式(1)によって表現される。
Figure 2007114521
また、自由曲面の面形状は次式(2)によって表現される。
Figure 2007114521
Figure 2007114521
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ところで、図7は第1実施例であるレーザ走査装置でのアパーチャ共役像13a〜13dの位置を示し、アパーチャ3a〜3d以降の主走査方向Y断面における展開光路と重ね合わせている。ここに示すアパーチャ共役像13a〜13dは、画像中央に相当する偏向角における副走査方向Z断面での像である。本第1実施例では、走査光学系の副走査方向Zの結像倍率を各光路ごとに異ならせているが、アパーチャ3a〜3dをそれぞれの光路ごとに、以下に説明するように、最適位置に配置することによりアパーチャ共役像13a〜13dの位置を揃えている。
なお、図7において、ウインドウガラス11a〜11dの位置は1箇所に揃えている。実際には、各光路でウインドウガラス11a〜11dの位置は異なっているが、ウインドウガラス11a〜11dはパワーを持たない平板であるため、角度を変えずに位置だけを変えても光学的な作用は変化しない。
図8は第1実施例であるレーザ走査装置における、光学系のデフォーカスに伴う副走査方向Zでのビーム径の変化を示す。ビーム径は画像中央に相当する偏向角において計算した数値である。アパーチャ共役像13a〜13dの位置が感光体12a〜12dに近いため、マイナス側とプラス側とでデフォーカス時の副走査方向Zでのビーム径の変化状態が異なる挙動を示す。この場合、マイナス側にアパーチャ共役像13a〜13dが生じているため、マイナス側にデフォーカスしたときにビーム径が細くなる状態になっている。
アパーチャ共役像13a〜13dが感光体12a〜12dの近くに生じてしまうのは、走査光学系の副走査方向Zでの結像倍率が低いためであり、この結像倍率が低いのは副走査方向Zの光束幅を狭くするためである。本第1実施例では、副走査方向Zに角度を変えて4本のレーザ光を走査するため、光路を分離するまでの部分の光束幅を狭くしておかないと、第1折返しミラー8a〜8dでの光路分離ができなくなってしまう。それゆえ、走査光学系の副走査方向Zの結像倍率は0.9以下が好ましい。
各光路間の角度差を大きくすることによっても光路の分離は可能であるが、その場合は、ポリゴンミラー6の面倒れによるジッタや、ポリゴンミラー6の軸面間距離の誤差によるピッチむらが大きくなり、画質が低下してしまう。
なお、主走査方向Yについては、アパーチャ共役像の位置が感光体12a〜12dから大きく離れているため、デフォーカス方向による非対称性は発生しない。
図9は第1実施例であるレーザ走査装置における、光学系のデフォーカスに伴う副走査方向Zでのビーム径の変化を曲線a〜d(図8と同じ)に示し、比較例として曲線b’,c’,d’を示している。比較例としての曲線b’,c’,d’は、光路“b”“c”“d”でのアパーチャ3b〜3dの位置を主走査方向Yの断面内で光路“a”と同じになるように変更したものである。
以下に示す表14は、第1実施例と比較例とにおける、アパーチャからシリンダレンズまでの光路長と、副走査方向Zでのアパーチャ共役像から感光体までの光路長と、走査光学系の副走査方向Zでの結像倍率を示している。なお、アパーチャの移動はそれぞれの光路の主光線方向に沿っている。従って、アパーチャの副走査方向Zの高さは各光路で異なっている。
Figure 2007114521
また、表14にはtk/tの値も合わせて示しており、本第1実施例でその値は1.00である。ここで、感光体の数をnとし、画像中央に対応する偏向角においてアパーチャから感光体までの間に設置された光学系によるアパーチャ共役像から感光体までの主光線に沿った距離をtk(1≦k≦n)とし、前記tkのうち副走査方向Zの結像倍率が最も低い光路に対応するものをtとする。この場合、tk/tの値が1であること、即ち、副走査方向Zでのアパーチャ共役像から感光体までの光路長が等しいことが望ましいが、tk/tの値が0.9から1.1の範囲であれば、実用可能である。
ところで、比較例においては、ビーム径の変化の様子が光路間で異なっている。各光路は、タンデム型対応レーザ走査装置においてはそれぞれ別の色に割り当てられており、デフォーカス時のビーム径変化の挙動が異なるということは、例えば、温度変化時にビーム径がそれぞれ異なる変化を生じて、階調性が色ごとに異なる変化をし、カラー画像の色味が変化してしまうことを意味する。
図10は前記比較例でのアパーチャ共役像13b’,13c’,13d’の位置を示している。光路“b”“c”“d”のアパーチャを移動させて光路“a”と同じ位置にしているため、共役像13b’,13c’,13d’の位置は共役像13aの位置からずれている。図9と併せて見ると、共役像の位置が感光体に近づくほど、ビーム径変化の非対称性が大きくなっていることが理解できる。
(第2実施例、図11〜図13参照)
図11に本発明の第2実施例であるタンデム型対応レーザ走査装置の概略構成を示す。このレーザ走査装置において、ポリゴンミラー6以降の光学系の構成は前記第1実施例と同じである。従って、本第2実施例において第1実施例と同じ部材には同じ符号を付し、重複する説明は省略する。
本第2実施例では、第1実施例における平面ミラーアレイ4とシリンダレンズ5に代えて、自由曲面ミラーアレイ14によって各光路を主走査方向Yについて重ね合わせるとともに、副走査方向Zについてポリゴンミラー6上で同じ高さに集光している。
以下に示す表15及び表16は光路“a”の各光学素子のコンストラクションデータを示し、面1〜面3及びポリゴンミラー6以降の光学素子は第1実施例と同一形状である。表17及び表18は光路“b”の各光学素子のコンストラクションデータを示し、面1〜面3及びポリゴンミラー6以降の光学素子は第1実施例と同一形状である。表19及び表20は光路“c”の各光学素子のコンストラクションデータを示し、面1〜面3及びポリゴンミラー6以降の光学素子は第1実施例と同一形状である。表21及び表22は光路“d”の各光学素子のコンストラクションデータを示し、面1〜面3及びポリゴンミラー6以降の光学素子は第1実施例と同一形状である。
Figure 2007114521
Figure 2007114521
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図12は第2実施例であるレーザ走査装置でのアパーチャ共役像13a〜13dの位置を示し、図7に示した第1実施例でのアパーチャ共役像13a〜13dとは位置が異なっているが、本第2実施例中で光路間での差は生じていない。
以下に示す表23は、第2実施例における、アパーチャから自由曲面ミラーアレイまでの光路長と、副走査方向Zでのアパーチャ共役像から感光体までの光路長と、走査光学系の副走査方向Zでの結像倍率(いずれの光路においても0.9以下であり、かつ、異なっている)を示している。表23にはtk/tの値も合わせて示しており、本第2実施例でtk/tの値は望ましい1.00である。
Figure 2007114521
図13は第2実施例であるレーザ走査装置における、光学系のデフォーカスに伴う副走査方向Zでのビーム径の変化を示す。アパーチャ共役像13a〜13dの位置を各光路間で揃えているため、各光路間でのビーム径の変化の差は生じていない。
(第3実施例、図14〜図17参照)
図14に本発明の第3実施例であるタンデム型対応レーザ走査装置の概略構成を示す。このレーザ走査装置は、ポリゴンミラー6をほぼ中央部に配置し、ポリゴンミラー6に対して左右から2本ずつのレーザ光を入射させるように構成している。光学系は、ポリゴンミラー6の回転中心軸を通り、感光体12a〜12dの中心軸に平行な平面に対して鏡像の状態に構成されている。それ以外の構成は前記第1実施例と同様であり、本第3実施例において第1実施例と同じ部材には同じ符号を付し、重複する説明は省略する。
以下に示す表24〜表28は光路“a”の各光学素子のコンストラクションデータを示し、面1〜面3は第1実施例と同一形状である。表29〜表31は光路“b”の各光学素子のコンストラクションデータを示し、面1〜面3は第1実施例と同一形状であり、面5〜面8は本第3実施例での光路“a”の光学素子と同一形状である。光路“c”、“d”は光路“a”、“b”と鏡像の状態であり、データの記載は省略する。
Figure 2007114521
Figure 2007114521
Figure 2007114521
Figure 2007114521
Figure 2007114521
Figure 2007114521
Figure 2007114521
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図15に第3実施例であるレーザ走査装置の副走査方向Zの断面での光路を示す。図15では光路“a”、“b”のみを示し、鏡像関係にある光路“c”、“d”は省略している。本第3実施例にあっては、折返しミラー8a〜8d,9b〜9cの配置の都合上、第2レンズ10a〜10dから感光体12a〜12dまでの光路長に差を設けている。このことは、装置を薄型化するために有効である。本第3実施例では、ウインドウガラス11a〜11dから感光体12a〜12dまでの光路長は各光路間で同じに設定されている。
図16は第3実施例であるレーザ走査装置でのアパーチャ共役像13a〜13dの位置を示す。本第3実施例では、半導体レーザ1a〜1dから感光体12a〜12dまでの全系で副走査方向Zの結像倍率を揃えるため、シリンダレンズ5a〜5dの焦点距離を各光路ごとに異ならせている。
即ち、アパーチャ3a〜3dとポリゴンミラー6との間の光路中に、副走査方向についてパワーを有するシリンダレンズ5a〜5dが配置され、かつ、該シリンダレンズ5a〜5dとアパーチャ3a〜3dとの間の光路中にはパワーを有する光学素子が配置されておらず、アパーチャ3a〜3dからシリンダレンズ5a〜5dまでの主光線に沿った距離が、ポリゴンミラー6と感光体12a〜12dとの間の副走査方向の結像倍率の絶対値が小さい光路ほど長く設定されている。これにて、アパーチャ3a〜3dの位置が適切に設定され、アパーチャ共役像13a〜13dの位置が揃うことになる。
以下に示す表32は、第3実施例における、アパーチャからシリンダレンズまでの光路長と、副走査方向Zでのアパーチャ共役像から感光体までの光路長と、走査光学系の副走査方向Zでの結像倍率を示している。表32にはtk/tの値も合わせて示しており、本第3実施例でtk/tの値は望ましい1.00である。
Figure 2007114521
図17は第3実施例であるレーザ走査装置における、光学系のデフォーカスに伴う副走査方向Zでのビーム径の変化を示す。アパーチャ共役像13a〜13dの位置を各光路間で揃えているため、各光路間でのビーム径の変化の差は生じていない。
(他の実施例)
なお、本発明に係るタンデム型対応レーザ走査装置は前記実施例に限定するものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更できる。
特に、光源部の構成やポリゴンミラー以降の光学系の構成などは任意である。
本発明に係るレーザ走査装置の第1実施例の概略構成を示す斜視図である。 第1実施例の副走査方向断面での光路図である。 第1実施例の光路“a”の展開状態を示し、(A)は主走査方向断面、(B)は副走査方向断面図、(C)は光源部光学系の副走査方向断面図である。 第1実施例の光路“b”の展開状態を示し、(A)は主走査方向断面、(B)は副走査方向断面図、(C)は光源部光学系の副走査方向断面図である。 第1実施例の光路“c”の展開状態を示し、(A)は主走査方向断面、(B)は副走査方向断面図、(C)は光源部光学系の副走査方向断面図である。 第1実施例の光路“d”の展開状態を示し、(A)は主走査方向断面、(B)は副走査方向断面図、(C)は光源部光学系の副走査方向断面図である。 第1実施例でのアパーチャ共役像の位置を示す説明図である。 第1実施例でのデフォーカスに伴う副走査方向のビーム径の変化を示すグラフである。 第1実施例及び比較例でのデフォーカスに伴う副走査方向のビーム径の変化を示すグラフである。 比較例でのアパーチャ共役像の位置を示す説明図である。 本発明に係るレーザ走査装置の第2実施例の概略構成を示す斜視図である。 第2実施例でのアパーチャ共役像の位置を示す説明図である。 第2実施例でのデフォーカスに伴う副走査方向のビーム径の変化を示すグラフである。 本発明に係るレーザ走査装置の第3実施例の概略構成を示す斜視図である。 第3実施例の副走査方向断面での光路図である。 第3実施例でのアパーチャ共役像の位置を示す説明図である。 第3実施例でのデフォーカスに伴う副走査方向のビーム径の変化を示すグラフである。
符号の説明
1a〜1d…半導体レーザ
2a〜2d…コリメータレンズ
3a〜3d…アパーチャ
4…平面ミラーアレイ
5,5a〜5b…シリンダレンズ
6…ポリゴンミラー
7…走査第1レンズ
8a〜8d,9a〜9d…折返しミラー
10…走査第2レンズ
12a〜12d…感光体
13a〜13d…アパーチャ共役像
14…自由曲面ミラーアレイ

Claims (2)

  1. 少なくとも二つの光源と、
    前記光源からの光を偏向する一つの偏向器と、
    前記光源からの光をそれぞれ前記偏向器の近傍で副走査方向のみに集光する第1の光学系と、
    前記光源と前記偏向器との間の光路中に配置され、前記光源からの光のそれぞれを光束規制する少なくとも二つのアパーチャと、
    前記偏向器によって偏向されたそれぞれの光を少なくとも二つの感光体のそれぞれに導く第2の光学系と、を備えたタンデム型対応レーザ走査装置において、
    前記第2の光学系は、前記感光体のそれぞれに対応して、前記偏向器と前記感光体との間の副走査方向の結像倍率が0.9以下で、かつ、互いに異なっており、
    前記感光体の数をnとし、画像中央に対応する偏向角において前記アパーチャから前記感光体までの間に設置された光学系による前記アパーチャの像から前記感光体までの主光線に沿った距離をtk(1≦k≦n)とし、前記tkのうち副走査方向の結像倍率が最も低い光路に対応するものをtとしたとき、以下の式が任意のkについて成り立つこと、
    0.9≦tk/t≦1.1
    を特徴とするタンデム型対応レーザ走査装置。
  2. 少なくとも二つの光源と、
    前記光源からの光を偏向する一つの偏向器と、
    前記光源からの光をそれぞれ前記偏向器の近傍で副走査方向のみに集光する第1の光学系と、
    前記光源と前記偏向器との間の光路中に配置され、前記光源からの光のそれぞれを光束規制する少なくとも二つのアパーチャと、
    前記偏向器によって偏向されたそれぞれの光を少なくとも二つの感光体のそれぞれに導く第2の光学系と、を備えたタンデム型対応レーザ走査装置において、
    前記第2の光学系は、前記感光体のそれぞれに対応して、前記偏向器と前記感光体との間の副走査方向の結像倍率が0.9以下で、かつ、互いに異なっており、
    前記アパーチャと前記偏向器との間の光路中に、副走査方向についてパワーを有する光学素子が配置され、
    前記光学素子と前記アパーチャとの間の光路中にはパワーを有する光学素子が配置されておらず、
    前記アパーチャから前記光学素子までの主光線に沿った距離が、前記偏向器と前記感光体との間の副走査方向の結像倍率の絶対値が小さい光路ほど長いこと、
    を特徴とするタンデム型対応レーザ走査装置。
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