JPH0686460B2 - セフオジジムの製法 - Google Patents
セフオジジムの製法Info
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
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- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
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Description
【発明の詳細な説明】 次式のセフオジジム(cefodizime)(HR221) は、その製法および良好な抗生物質活性が文献により知
られている抗生物質である。これはカルボキシル基にお
いて活性化された次式のATS を次式のTACS と反応させることにより得られる。セフアロスポリン類
を製造するための特に好適な方法は欧州特許出願公開第
23453号明細書に記載されている。しかしこの方法をセ
フオジジムの製造に用いると、目的とするセフオジジム
のほかに約5〜15%の副生物が生成する。副生物の含量
は種々の有効な精製工程により低下させることができる
が、副生物を完全にセフオジジムから除くことはできな
い。さらにこれらの精製法(例えばクロマトグラフイー
または再結晶)は複雑であり、実質的に総収率を低下さ
せるので、価格を高める。
られている抗生物質である。これはカルボキシル基にお
いて活性化された次式のATS を次式のTACS と反応させることにより得られる。セフアロスポリン類
を製造するための特に好適な方法は欧州特許出願公開第
23453号明細書に記載されている。しかしこの方法をセ
フオジジムの製造に用いると、目的とするセフオジジム
のほかに約5〜15%の副生物が生成する。副生物の含量
は種々の有効な精製工程により低下させることができる
が、副生物を完全にセフオジジムから除くことはできな
い。さらにこれらの精製法(例えばクロマトグラフイー
または再結晶)は複雑であり、実質的に総収率を低下さ
せるので、価格を高める。
従つて副生物の生成を抑えるために反応パラメーターを
変える試みが多数なされた。例えばモル比、温度、反応
時間、溶剤、塩基(添加しても添加しなくてもよい)、
および活性化剤を変えること、あるいは他の物質を添加
することである。これらの試みは何れも成功しなかつ
た。上記副生物の生成を減少させるのは不可能であると
されていた。
変える試みが多数なされた。例えばモル比、温度、反応
時間、溶剤、塩基(添加しても添加しなくてもよい)、
および活性化剤を変えること、あるいは他の物質を添加
することである。これらの試みは何れも成功しなかつ
た。上記副生物の生成を減少させるのは不可能であると
されていた。
本発明者らは他の添加物を調べている際に意外にもシリ
ル化剤をTACSに添加することにより副生物の生成がほぼ
完全に防止されることを見出した。
ル化剤をTACSに添加することにより副生物の生成がほぼ
完全に防止されることを見出した。
従つて本発明は、 (a)式II(ATS) (式中R1は水素原子またはアミノ保護基を表わし、Aは
水素原子または1当量のアルカリ金属、アルカリ土金
属、アンモニウムもしくは有機窒素塩基を表わす)の化
合物をまず式III R−SO2−Hal (式中Rは置換されていてもよいアルキル基、アリール
基またはアルアルキル基を表わし、Halはハロゲン原子
を表わす)の化合物と、有機溶剤中で、場合により塩基
の存在下に反応させ、 (b)式I(TACS) (式中Aは前記の意味をもつ)の化合物をシリル化剤
と、有機溶剤中で、場合により塩基の存在下に反応さ
せ、そして (c)(a)および(b)で得られた2種の生成物をそ
れらの反応液中で反応させ、目的生成物中に保護基R1が
存在する場合にはこれを離脱させることよりなる、次式 の製法に関する。
水素原子または1当量のアルカリ金属、アルカリ土金
属、アンモニウムもしくは有機窒素塩基を表わす)の化
合物をまず式III R−SO2−Hal (式中Rは置換されていてもよいアルキル基、アリール
基またはアルアルキル基を表わし、Halはハロゲン原子
を表わす)の化合物と、有機溶剤中で、場合により塩基
の存在下に反応させ、 (b)式I(TACS) (式中Aは前記の意味をもつ)の化合物をシリル化剤
と、有機溶剤中で、場合により塩基の存在下に反応さ
せ、そして (c)(a)および(b)で得られた2種の生成物をそ
れらの反応液中で反応させ、目的生成物中に保護基R1が
存在する場合にはこれを離脱させることよりなる、次式 の製法に関する。
Aは水素原子またはアンモニウムを表わす他にさらに1
当量のアルカリ金属、例えばナトリウムもしくはカリウ
ム、アルカリ土金属、例えばカルシウムもしくはマグネ
シウム、または有機窒素塩基、例えばジエチル−、トリ
メチル−、トリエチル−、メチル−、プロピル、N,N−
ジメチルエタノール−もしくはエタノール−アミンを表
わすことができる。
当量のアルカリ金属、例えばナトリウムもしくはカリウ
ム、アルカリ土金属、例えばカルシウムもしくはマグネ
シウム、または有機窒素塩基、例えばジエチル−、トリ
メチル−、トリエチル−、メチル−、プロピル、N,N−
ジメチルエタノール−もしくはエタノール−アミンを表
わすことができる。
適切な保護基R1はセフアロスポリン化学またはペプチド
化学においてアミノ保護基として述べられたもの、例え
ば欧州特許出願公開第23453号明細書3頁43〜63行に挙
げられたものである。R1が水素原子を表わす化合物を本
発明に用いることが好ましい。アミノ基の保護は強制さ
れないので、2工程(保護および脱離)を省くことがで
き、これにより更に収率が高まる。
化学においてアミノ保護基として述べられたもの、例え
ば欧州特許出願公開第23453号明細書3頁43〜63行に挙
げられたものである。R1が水素原子を表わす化合物を本
発明に用いることが好ましい。アミノ基の保護は強制さ
れないので、2工程(保護および脱離)を省くことがで
き、これにより更に収率が高まる。
式IIIの適切な化合物は文献にカルボン酸との反応に適
したものとして記載されたすべてのもの、例えば塩化メ
タンスルホニルまたは塩化トシルであり、活性化された
カルボン酸基−COOSO2Rが形成されるであろう。良好な
反応性をもち、容易に得られるため、塩化p−トシルま
たは塩化フエニルスルホニルなどの化合物が好ましい。
Halが塩素原子を表わす式IIIの化合物も好ましい。
したものとして記載されたすべてのもの、例えば塩化メ
タンスルホニルまたは塩化トシルであり、活性化された
カルボン酸基−COOSO2Rが形成されるであろう。良好な
反応性をもち、容易に得られるため、塩化p−トシルま
たは塩化フエニルスルホニルなどの化合物が好ましい。
Halが塩素原子を表わす式IIIの化合物も好ましい。
式IIの化合物と式IIIの化合物の反応は無水の有機溶
剤、例えばアセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラ
ン、アセトニトリル、四塩化炭素、塩化メチレン、トル
エン、ジオキサン、イソプロピルエーテル、N−メチル
ピロリドンまたはジメチルホルムアミド、好ましくはジ
メチルアセトアミド中で、約−30〜0℃、好ましくは−
10〜−15℃の温度で行うことができる。
剤、例えばアセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラ
ン、アセトニトリル、四塩化炭素、塩化メチレン、トル
エン、ジオキサン、イソプロピルエーテル、N−メチル
ピロリドンまたはジメチルホルムアミド、好ましくはジ
メチルアセトアミド中で、約−30〜0℃、好ましくは−
10〜−15℃の温度で行うことができる。
式IIの化合物を遊離酸(A=水素原子)の形で用いる場
合、塩基、好ましくは有機窒素塩基、例えばトリエチル
アミン、N,N−ジメチルアニリン、トリブチルアミン、
N−メチルモルホリン、ピリジンもしくはピコリン、ま
たは例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウムもしくは炭酸水素カリウム、特にトリエチルア
ミンを添加することが有利である。式IIのカルボン酸を
前記の塩のうちの1つの形で用いる場合は、塩基の添加
は省くことができる。
合、塩基、好ましくは有機窒素塩基、例えばトリエチル
アミン、N,N−ジメチルアニリン、トリブチルアミン、
N−メチルモルホリン、ピリジンもしくはピコリン、ま
たは例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウムもしくは炭酸水素カリウム、特にトリエチルア
ミンを添加することが有利である。式IIのカルボン酸を
前記の塩のうちの1つの形で用いる場合は、塩基の添加
は省くことができる。
次いで、後続の反応を下記の通り行う。すなわち式I
(TACS)の化合物を無水の有機溶剤、例えば塩化メチレ
ン、ジメチルアセトアミド、メチル−t−ブチルエーテ
ル、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル又は酢酸アミ
ル、特に塩化メチレンまたはメチル−t−ブチルエーテ
ル中で、約3モル当量のシリル化剤、好ましくはトリメ
チルクロルシランと(シリル化剤に対し)、ほぼ化学量
論的量の有機窒素塩基、特にトリエチルアミンの存在下
で反応させ、次いで生成物を式IIIの化合物との反応に
より活性化された式IIのカルボン酸と反応させる。
(TACS)の化合物を無水の有機溶剤、例えば塩化メチレ
ン、ジメチルアセトアミド、メチル−t−ブチルエーテ
ル、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル又は酢酸アミ
ル、特に塩化メチレンまたはメチル−t−ブチルエーテ
ル中で、約3モル当量のシリル化剤、好ましくはトリメ
チルクロルシランと(シリル化剤に対し)、ほぼ化学量
論的量の有機窒素塩基、特にトリエチルアミンの存在下
で反応させ、次いで生成物を式IIIの化合物との反応に
より活性化された式IIのカルボン酸と反応させる。
トリメチルクロルシランの代りに他のシリル化剤、例え
ばビス−トリメチルシリルアセトアミド、ジクロルジメ
チルシラン、トリクロルメチルシランまたはN,N′−ビ
ス−トリメチルシリル尿素を用いることもでき、これら
他のシリル化剤のうちビス−トリメチルシリルアセトア
ミドが好ましい。3モル当量よりも僅かに過剰のシリル
化剤は反応に不利な影響を与えない。
ばビス−トリメチルシリルアセトアミド、ジクロルジメ
チルシラン、トリクロルメチルシランまたはN,N′−ビ
ス−トリメチルシリル尿素を用いることもでき、これら
他のシリル化剤のうちビス−トリメチルシリルアセトア
ミドが好ましい。3モル当量よりも僅かに過剰のシリル
化剤は反応に不利な影響を与えない。
ビス−トリメチルシリルアセトアミドまたはN,N′−ビ
ス−トリメチルシリル尿素を用いる場合、シリル化に際
して塩基を添加する必要はない。この場合、結合すべき
塩酸が生成しないからである。
ス−トリメチルシリル尿素を用いる場合、シリル化に際
して塩基を添加する必要はない。この場合、結合すべき
塩酸が生成しないからである。
式Iの化合物のシリル化は約20〜25℃の温度で行われ
る。温度を例えば約40℃(塩化メチレンの沸点)にまで
高めることもできる。
る。温度を例えば約40℃(塩化メチレンの沸点)にまで
高めることもできる。
活性化されたATSをシリル化されたTACSと有利には以下
により一緒にする。すなわち活性化されたATSの溶液を
シリル化されたTACSの溶液に、約−20〜0℃、好ましく
は−10〜−12℃の温度で、生じる反応熱が容易に伝達除
去されるのに十分なほど緩徐に、例えば1/4〜2時間に
わたつて添加する。
により一緒にする。すなわち活性化されたATSの溶液を
シリル化されたTACSの溶液に、約−20〜0℃、好ましく
は−10〜−12℃の温度で、生じる反応熱が容易に伝達除
去されるのに十分なほど緩徐に、例えば1/4〜2時間に
わたつて添加する。
反応混合物を短期間攪拌し、次いで既知の方法で仕上げ
処理する。例えばこれを、例えば有機塩基(特にトリエ
チルアミン)の添加によりpH値が約6.0〜7.5に維持され
た水に注入することができる。相を分離したのち、酢酸
ナトリウムを溶解した水で有機相を再抽出する。水相を
合わせて必要な場合には更に例えば活性炭で透明にし、
これから鉱酸(例えば硫酸)の添加によりpH値を約2.8
に調整することによつて、セフオジジムを遊離酸として
沈殿させることができる。
処理する。例えばこれを、例えば有機塩基(特にトリエ
チルアミン)の添加によりpH値が約6.0〜7.5に維持され
た水に注入することができる。相を分離したのち、酢酸
ナトリウムを溶解した水で有機相を再抽出する。水相を
合わせて必要な場合には更に例えば活性炭で透明にし、
これから鉱酸(例えば硫酸)の添加によりpH値を約2.8
に調整することによつて、セフオジジムを遊離酸として
沈殿させることができる。
アミノ保護基R1をもつ式IIのカルボン酸を用いた場合、
文献記載の方法により行われるこの基の除去を仕上げ処
理の前に行わなければならない。
文献記載の方法により行われるこの基の除去を仕上げ処
理の前に行わなければならない。
僅かに高められた温度で真空中において乾燥させたの
ち、セフオジジム(酸)が極めて純粋な形で得られる。
ち、セフオジジム(酸)が極めて純粋な形で得られる。
前述のように副生物の含量が1%よりもはるかに低い値
にまで予想外に低下したほかに、以下の点も指摘すべき
である。すなわち例えば前記欧州特許出願公開第23453
号明細書の実施例8〜12では、アシル化に際して−70〜
−72℃の反応温度が用いられている。これに対し本発明
による反応は約−20〜0℃の温度で行うことができ、こ
れにより品質または収率が低下することはない。この事
実はセフオジジムの工業的製造に関してかなり重要であ
る。これにより作業時間を短縮でき、冷却容量を縮小で
きるからである。
にまで予想外に低下したほかに、以下の点も指摘すべき
である。すなわち例えば前記欧州特許出願公開第23453
号明細書の実施例8〜12では、アシル化に際して−70〜
−72℃の反応温度が用いられている。これに対し本発明
による反応は約−20〜0℃の温度で行うことができ、こ
れにより品質または収率が低下することはない。この事
実はセフオジジムの工業的製造に関してかなり重要であ
る。これにより作業時間を短縮でき、冷却容量を縮小で
きるからである。
実施例1. 工程1. ジメチルアセトアミド52kg中のATS17.5kg(87.1モル)
をトリエチルアミン8.95kg(88.6モル)により、20〜22
℃の温度で30分間攪拌しながらアンモニウム塩に変え
た。
をトリエチルアミン8.95kg(88.6モル)により、20〜22
℃の温度で30分間攪拌しながらアンモニウム塩に変え
た。
塩化p−トルエンスルホニル12.9kg(68.0モル)を20〜
25℃において30分間でジメチルアセトアミド13.2kgに溶
解し、この溶液を−10〜−14℃において30分間でATSの
トリエチルアンモニウム塩の懸濁液に流入させ、更に2.
5時間攪拌を続けた。
25℃において30分間でジメチルアセトアミド13.2kgに溶
解し、この溶液を−10〜−14℃において30分間でATSの
トリエチルアンモニウム塩の懸濁液に流入させ、更に2.
5時間攪拌を続けた。
工程2. TACS23.7kg(59.0モル)を塩化メチレン212kgに懸濁
し、トリメチレンクロルシラン19.7kg(181.0モル)を2
0〜25℃で流入させ、トリエチルアミン18.2kg(180.0モ
ル)を20〜41℃の温度(塩化メチレンの還流温度)にお
いて30分間で添加した。
し、トリメチレンクロルシラン19.7kg(181.0モル)を2
0〜25℃で流入させ、トリエチルアミン18.2kg(180.0モ
ル)を20〜41℃の温度(塩化メチレンの還流温度)にお
いて30分間で添加した。
添加が終了した時点で溶液をきわめて速やかに−15℃に
冷却し、工程1の記載に従つて得た活性化されたATSの
溶液を−10〜−12℃において30分間で添加した。更に5
分間攪拌を続けたのち反応混合物を水143lおよびトリエ
チルアミン19.3kgの混合物に5〜10分間で流入させた。
その際pHは6〜7.5に維持された。相を分離したのち塩
化メチレン相を2.2kgの酢酸ナトリウム・3H2Oが溶解さ
れた水70lで再抽出した。水相を合わせて活性炭1.2kgお
よびジカライト1.2kgで透明にし、次いで18%濃度の硫
酸をpH値2.8に達するまで添加することにより、セフオ
ジジムが遊離酸の形でこれらの相から沈殿した。生成物
を別し、40℃で100mmHgにおいて乾燥させたのち、セ
フオジジム30.6kgがHPLC分析により96〜97面積%の純度
で得られた。
冷却し、工程1の記載に従つて得た活性化されたATSの
溶液を−10〜−12℃において30分間で添加した。更に5
分間攪拌を続けたのち反応混合物を水143lおよびトリエ
チルアミン19.3kgの混合物に5〜10分間で流入させた。
その際pHは6〜7.5に維持された。相を分離したのち塩
化メチレン相を2.2kgの酢酸ナトリウム・3H2Oが溶解さ
れた水70lで再抽出した。水相を合わせて活性炭1.2kgお
よびジカライト1.2kgで透明にし、次いで18%濃度の硫
酸をpH値2.8に達するまで添加することにより、セフオ
ジジムが遊離酸の形でこれらの相から沈殿した。生成物
を別し、40℃で100mmHgにおいて乾燥させたのち、セ
フオジジム30.6kgがHPLC分析により96〜97面積%の純度
で得られた。
実施例2. 工程1:実施例1に述べた方法に相当する。
工程2. TACS23.7kg(59.0モル)を塩化メチレン212kgに懸濁
し、ビス−トリメチルシリルアセトアミド36.0kg(177.
0モル)を添加した。20〜25℃で30分間攪拌したのち、
透明な溶液を−15℃に冷却し、工程1の記載に従つて得
た活性化されたATSの溶液を−10〜−12℃において30分
間で添加した。5分間攪拌したのち反応混合物を5〜10
分間で水143lに流入させ、同時にトリエチルアミンによ
りpH値を6.0〜7.5に維持した。相を分離したのち、2.2k
gの酢酸ナトリウム・3H2Oを含む水70kgで有機相を再抽
出した。水相を合わせて活性炭1.2kgおよびジカライト
1.2kgで透明にし、18%濃度の硫酸をpH値が2.8になるま
で添加することにより生成物を沈殿させた。生成物を
別し、40℃で100mmHgにおいて乾燥させたのち、セフオ
ジジム30.0kgが遊離酸の形で、HPLC分析により95〜97面
積%の純度において得られた。
し、ビス−トリメチルシリルアセトアミド36.0kg(177.
0モル)を添加した。20〜25℃で30分間攪拌したのち、
透明な溶液を−15℃に冷却し、工程1の記載に従つて得
た活性化されたATSの溶液を−10〜−12℃において30分
間で添加した。5分間攪拌したのち反応混合物を5〜10
分間で水143lに流入させ、同時にトリエチルアミンによ
りpH値を6.0〜7.5に維持した。相を分離したのち、2.2k
gの酢酸ナトリウム・3H2Oを含む水70kgで有機相を再抽
出した。水相を合わせて活性炭1.2kgおよびジカライト
1.2kgで透明にし、18%濃度の硫酸をpH値が2.8になるま
で添加することにより生成物を沈殿させた。生成物を
別し、40℃で100mmHgにおいて乾燥させたのち、セフオ
ジジム30.0kgが遊離酸の形で、HPLC分析により95〜97面
積%の純度において得られた。
Claims (14)
- 【請求項1】(a)式II(ATS) (式中R1は水素原子またはアミノ保護基を表わし、Aは
水素原子、または1当量のアルカリ金属、アルカリ土金
属、アンモニウムもしくは有機窒素塩基を表わす)の化
合物をまず 式III R−SO2−Hal (式中Rは置換されていてもよいアルキル基、アリール
基またはアルアルキル基を表わしHalはハロゲン原子を
表わす)の化合物と、有機溶剤中で、場合により塩基の
存在下に反応させ、 (b)式I(TACS) (式中Aは上記の意味をもつ)の化合物をシリル化剤
と、有機溶剤中で、場合により塩基の存在下に反応さ
せ、そして (c)(a)および(b)で得られた2種の生成物をそ
れらの反応液中で反応させ、目的生成物中に保護基R1が
存在する場合にはこれを離脱させることよりなる、次式 のセフオジジムの製法。 - 【請求項2】式IIIの化合物においてRがp−トシル基
またはフェニル基を表わし、Halが塩素原子を表わす、
特許請求の範囲第1項に記載の方法。 - 【請求項3】Rがp−トシル基を表わす、特許請求の範
囲第2項に記載の方法。 - 【請求項4】式II(ATS)の化合物においてR1およびA
が水素原子を表わす、特許請求の範囲第1項ないし第3
項のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項5】工程(a)で用いられる溶剤がアセトン、
ジメチルアセトアミド、酢酸エチル、テトラヒドロフラ
ン、アセトニトリル、四塩化炭素、塩化メチレン、トル
エン、ジオキサン、イソプロピルエーテル、n−メチル
ピロリドンまたはジメチルホルムアミドである、特許請
求の範囲第1項ないし第4項のいずれか1項に記載の方
法。 - 【請求項6】溶剤がジメチルアセトアミドである、特許
請求の範囲第5項に記載の方法。 - 【請求項7】シリル化剤がトリメチルクロルシラン、ジ
クロルジメチルシラン、トリクロルメチルシラン、ビス
−トリメチルシリルアセトアミドまたはN,N′−ビスト
リメチルシリル尿素である、特許請求の範囲第1項ない
し第6項のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項8】シリル化剤がトリメチルクロルシランであ
る、特許請求の範囲第7項に記載の方法。 - 【請求項9】TACSに対し3モル当量のシリル化剤が用い
られる、特許請求の範囲第7項または第8項に記載の方
法。 - 【請求項10】工程(b)で用いる溶剤が塩化メチレ
ン、ジメチルアセトアミド、メチル−t−ブチルエーテ
ル、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチルまたは酢酸ア
ミルである、特許請求の範囲第1項ないし第8項のいず
れか1項に記載の方法。 - 【請求項11】溶剤が塩化メチレンまたはメチル−t−
ブチルエーテルである、特許請求の範囲第10項に記載の
方法。 - 【請求項12】各工程で場合により添加される塩基がト
リエチルアミンである、特許請求の範囲第1項ないし第
10項のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項13】工程(a)の反応が約−30〜0℃の温度
で行われる、特許請求の範囲第1項ないし第11項のいず
れか1項に記載の方法。 - 【請求項14】工程(b)の反応が約−20〜0℃の温度
で行われる、特許請求の範囲第1項ないし第12項のいず
れか1項に記載の方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853542644 DE3542644A1 (de) | 1985-12-03 | 1985-12-03 | Verfahren zur herstellung von cefodizim |
DE3542644.6 | 1985-12-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62132886A JPS62132886A (ja) | 1987-06-16 |
JPH0686460B2 true JPH0686460B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=6287438
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61288656A Expired - Lifetime JPH0686460B2 (ja) | 1985-12-03 | 1986-12-03 | セフオジジムの製法 |
Country Status (27)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4868295A (ja) |
EP (1) | EP0226093B1 (ja) |
JP (1) | JPH0686460B2 (ja) |
KR (1) | KR940000240B1 (ja) |
AT (1) | ATE90682T1 (ja) |
AU (1) | AU585414B2 (ja) |
CA (1) | CA1287347C (ja) |
CS (1) | CS259544B2 (ja) |
DD (1) | DD252606A5 (ja) |
DE (2) | DE3542644A1 (ja) |
DK (1) | DK164671C (ja) |
EG (1) | EG17611A (ja) |
ES (1) | ES2058056T3 (ja) |
FI (1) | FI84829C (ja) |
HK (1) | HK86995A (ja) |
HU (1) | HU197912B (ja) |
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IL (1) | IL80816A (ja) |
MA (1) | MA20818A1 (ja) |
NO (1) | NO166325C (ja) |
NZ (1) | NZ218452A (ja) |
PH (1) | PH24269A (ja) |
PT (1) | PT83858B (ja) |
TN (1) | TNSN86154A1 (ja) |
TW (1) | TW467915B (ja) |
YU (1) | YU45807B (ja) |
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Families Citing this family (9)
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JP2578113B2 (ja) * | 1987-05-08 | 1997-02-05 | 株式会社東芝 | 高熱伝導性窒化アルミニウム焼結体の製造方法 |
ES2006988A6 (es) * | 1988-06-20 | 1989-05-16 | Gema Sa | Procedimiento de preparar hidrocloruro cloruro-2-(2-aminotiazol-4-il)-2-metoxiiminoacetil-sulfito-dimetilformiminio y procedimiento de utilizacion del mismo para obtencion de amidas. |
EP0377987A3 (en) * | 1988-12-27 | 1991-08-28 | Eli Lilly And Company | Acylation process for obtaining cephalosporin derivatives |
DE4026630A1 (de) * | 1990-08-23 | 1992-02-27 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von kristalliner tacs |
MX9700872A (es) * | 1994-08-02 | 1997-05-31 | Procter & Gamble | Procedimiento para producir antimicrobianos de quinolonil-lactama y compuestos intermediarios novedosos. |
NZ290721A (en) * | 1994-08-02 | 1999-03-29 | Procter & Gamble | Process for making quinolone-containing antimicrobial compounds |
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