JP2625647B2 - セファロスポリン誘導体の新規製造方法 - Google Patents
セファロスポリン誘導体の新規製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/02—Preparation
- C07D501/04—Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
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- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/18—7-Aminocephalosporanic or substituted 7-aminocephalosporanic acids
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】セファロスポリン類は、人間医学
に使用される価値ある抗生物質である。これらの化合物
の1部のもの(例えば、セファロチン、セフォタキシム)
は、7−アミノセファロスポラン酸(7−ACA)なる基
本骨格から誘導される。7−ACAは、セファロスポリ
ンCを発酵生産し、その天然生産物を単離し、側鎖を分
解することによって簡単に製造することができ、容易に
入手し得る商業製品である。
に使用される価値ある抗生物質である。これらの化合物
の1部のもの(例えば、セファロチン、セフォタキシム)
は、7−アミノセファロスポラン酸(7−ACA)なる基
本骨格から誘導される。7−ACAは、セファロスポリ
ンCを発酵生産し、その天然生産物を単離し、側鎖を分
解することによって簡単に製造することができ、容易に
入手し得る商業製品である。
【0002】
【従来の技術】一方、今日治療上使用されているセファ
ロスポリン類の本質的な大部分を占めているのは、3位
に7−ACAと異なる残基を有する7−アミノセファロ
スポラン酸類から誘導されたものである(例えば、セフ
ァロリジン、セファマンドール、セフアゾリン、セフォ
ペラゾン、セフタジディム、セフトリアキソン、セフメ
ノキシム、セフォニシド)。この種の化合物を製造する
には、通常、まず7−ACAの3位置換基を置換し、得
られた7−ACAの3位置換体を単離しなければならな
い。次いで、7位をアシル化する段階を経て、所望のセ
ファロスポリン抗生物質が単離される。
ロスポリン類の本質的な大部分を占めているのは、3位
に7−ACAと異なる残基を有する7−アミノセファロ
スポラン酸類から誘導されたものである(例えば、セフ
ァロリジン、セファマンドール、セフアゾリン、セフォ
ペラゾン、セフタジディム、セフトリアキソン、セフメ
ノキシム、セフォニシド)。この種の化合物を製造する
には、通常、まず7−ACAの3位置換基を置換し、得
られた7−ACAの3位置換体を単離しなければならな
い。次いで、7位をアシル化する段階を経て、所望のセ
ファロスポリン抗生物質が単離される。
【0003】また、この反応は逆の順に実施することも
可能である。すなわち、まず所望の残基で7−ACAの
7位のアシル化を行なって、7−ACAのアシル誘導体
を単離する。次いで、緩衝水溶液中で置換基の置換を行
ない、常法により、初期の目的であるセファロスポリン
生産物へと誘導する。
可能である。すなわち、まず所望の残基で7−ACAの
7位のアシル化を行なって、7−ACAのアシル誘導体
を単離する。次いで、緩衝水溶液中で置換基の置換を行
ない、常法により、初期の目的であるセファロスポリン
生産物へと誘導する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】これらの両反応には限
界がある。つまり3位または7位における所望の残基の
組合わせ次第では、無差別にこれらの反応を実施するわ
けには行かないのである。アシル化、置換反応または単
離またはそれらを組合わせた何れの場合でも、プロトン
性媒質中で操作しなければならない。7位の側鎖がアシ
ル化され易い、もしくは活性化された官能基である場合
には、まずこの基を、選ばれた保護基で保護し、初期の
目的であるセファロスポリン生産物を単離した後、もう
一度この保護基を脱離しなければならない。
界がある。つまり3位または7位における所望の残基の
組合わせ次第では、無差別にこれらの反応を実施するわ
けには行かないのである。アシル化、置換反応または単
離またはそれらを組合わせた何れの場合でも、プロトン
性媒質中で操作しなければならない。7位の側鎖がアシ
ル化され易い、もしくは活性化された官能基である場合
には、まずこの基を、選ばれた保護基で保護し、初期の
目的であるセファロスポリン生産物を単離した後、もう
一度この保護基を脱離しなければならない。
【0005】
【課題を解決する方法】この種の化合物を製造する従来
技術には、本来3通りの方法があるが、何れも若干の問
題を有している。西ドイツ国公開特許第2804896
号(トヤマ)には、7−アミノセフェム(3)−4−カルボ
ン酸と過剰のルイス酸またはプロトン酸との反応が開示
され、その際、3フッ化ホウ素の使用が好ましいことが
記載されている。この種の試薬はきわめて毒性が強く、
環境問題を生じ易いが、そのほかにも、プロトン性媒質
中で強酸条件下、β−ラクタムが不安定であることは周
知の事実である。
技術には、本来3通りの方法があるが、何れも若干の問
題を有している。西ドイツ国公開特許第2804896
号(トヤマ)には、7−アミノセフェム(3)−4−カルボ
ン酸と過剰のルイス酸またはプロトン酸との反応が開示
され、その際、3フッ化ホウ素の使用が好ましいことが
記載されている。この種の試薬はきわめて毒性が強く、
環境問題を生じ易いが、そのほかにも、プロトン性媒質
中で強酸条件下、β−ラクタムが不安定であることは周
知の事実である。
【0006】第2の方法として、緩衝水溶液中における
3位の置換反応が開示されている(米国特許第3516
997号)。この方法では、pH5〜9の緩衝溶液におい
て摘要条件下(7−ACA+複素環チオール)でセファロ
スポリンの大半が分解し、標題化合物が充分な純度で得
られないため収量が悪い。
3位の置換反応が開示されている(米国特許第3516
997号)。この方法では、pH5〜9の緩衝溶液におい
て摘要条件下(7−ACA+複素環チオール)でセファロ
スポリンの大半が分解し、標題化合物が充分な純度で得
られないため収量が悪い。
【0007】第3の方法として、既に所期の置換基を3
位に有するセファロスポリンにおいて、その7位の側鎖
のアシル化および脱離を行なう方法が開示されている
(例えば米国特許第4369313号)。然しこの特許に
使用される出発物質を製造するためには、まず7−AC
Aの7位をアシル化し、次いで3位における置換反応を
行ない、最後に7位の側鎖を分解脱離しなければならな
い。一連の反応を合計すると、7−ACAからの収量が
不経済であると考えられる。
位に有するセファロスポリンにおいて、その7位の側鎖
のアシル化および脱離を行なう方法が開示されている
(例えば米国特許第4369313号)。然しこの特許に
使用される出発物質を製造するためには、まず7−AC
Aの7位をアシル化し、次いで3位における置換反応を
行ない、最後に7位の側鎖を分解脱離しなければならな
い。一連の反応を合計すると、7−ACAからの収量が
不経済であると考えられる。
【0008】この発明の方法は、7−ACAまたはその
誘導体をN,0−ビス・シリル誘導体とし、これにヨー
素化試薬を反応させて3−ヨードメチル化合物とし、求
核反応試薬を添加することによってN,0−ビス−シリ
ル−7−ACAの所望の3位置換誘導体を得て、これを
直ちに脱保護するか、あるいは所望のアシル基を7位に
導入し得るアシル化剤で置換した後、脱保護によって反
応を終結させるものである。この発明はまた、方法全体
における個々の反応ないし各反応段階の配列順序に関す
るものである。またこの発明の方法は、所望により全体
を通じて個々の中間生産物を単離することなく実施する
ことができる。
誘導体をN,0−ビス・シリル誘導体とし、これにヨー
素化試薬を反応させて3−ヨードメチル化合物とし、求
核反応試薬を添加することによってN,0−ビス−シリ
ル−7−ACAの所望の3位置換誘導体を得て、これを
直ちに脱保護するか、あるいは所望のアシル基を7位に
導入し得るアシル化剤で置換した後、脱保護によって反
応を終結させるものである。この発明はまた、方法全体
における個々の反応ないし各反応段階の配列順序に関す
るものである。またこの発明の方法は、所望により全体
を通じて個々の中間生産物を単離することなく実施する
ことができる。
【0009】この発明の方法は、下記の一般反応工程式
によって示すことができる。
によって示すことができる。
【化1】 式(I)〜(V)において、R1は水素またはメトキシ基、
R2はメチルまたはアミノ基、Rは低級アルキル基、R4
は水素、アルカリまたは負電荷、またはOR4がハロゲ
ンであってもよい。R5はセファロスポリン化学におい
て慣用されるアシル基を示す。R3は求核試薬の残基で
ある。この発明は、特に(IV)から(III)、(III)から(II)
へ至る段階、および(III)から(II)を経て(IIa)へ至る段
階および(III)から(II)/(IIa)を経て(I)へ至る段階の
配列順序に関する。
R2はメチルまたはアミノ基、Rは低級アルキル基、R4
は水素、アルカリまたは負電荷、またはOR4がハロゲ
ンであってもよい。R5はセファロスポリン化学におい
て慣用されるアシル基を示す。R3は求核試薬の残基で
ある。この発明は、特に(IV)から(III)、(III)から(II)
へ至る段階、および(III)から(II)を経て(IIa)へ至る段
階および(III)から(II)/(IIa)を経て(I)へ至る段階の
配列順序に関する。
【0010】これらの方法は、詳しくは下記の如く例示
できる。式(V)で示される7−アミノセフェム(3)−4
−カルボン酸(好ましくは7−ACA)を、反応条件下で
不活性な溶媒に懸濁し、シリル化試薬の過剰量の存在下
に加熱還流する。このシリル化反応の溶媒には、ハロゲ
ン化炭化水素(例、ジクロルメタン、クロロホルム、1,
2−ジクロルエタン、1,1,2−トリクロルエタン、テ
トラクロルエチレン等)、有機ニトリル(例、アセトニト
リル、プロピオニトリル等)、ニトロアルカン(例、ニト
ロメタン等)またはスルホン(例、スルホラン等)が挙げ
られる。シリル化反応は、高沸点溶媒を使用し対応する
温度に加熱することによって遂行するか、あるいは低沸
点溶媒を使用し有機オキソ酸(例えば、カドラト酸)、ト
リフルオロ酢酸またはそれらの混合物から成る特殊触媒
を用いて遂行する何れかの方法によって達成することが
できる。この反応のシリル化試薬には、通常この反応に
使用されるヘキサメチルジシラザン、トリメチルクロル
シラン、ビス−トリメチルシリル尿素、N−トリメチル
シリルジアルキルアミンまたは、ビス−またはモノシリ
ル化アセトアミドまたはこれらの混合物のようなシリル
化試薬が使用できる。この場合、モノシリル誘導体が少
量でも存在していると以後の反応に著しく支障を来すお
それがあるので、ビスシリル化が100%進行すること
が望ましい。このようにして得られた式(IV)の化合物を
置換するには、例えば、該反応混合物に1.1〜1.5当
量のトリアルキルヨードシラン(例えばトリメチルヨー
ジラン)を加え、−20〜+50℃、好ましくは0〜4
5℃の温度で反応を行えばよい。驚くべきことに3−ヨ
ードメチル−N,0−ビス−トリアルキルシリル−7−
アミノセファロスポラン酸なる構造の化合物は安定であ
る。文献に記載されている若干の類似構造では、その窒
素において過度の自己アルキル化反応が生じる(西ドイ
ツ国公開特許第3212900号、ヤマノウチ)。本発
明においてN,0−ビス−トリアルキルシリル−3−ヨ
ードメチル−7−アミノセファロスポラン酸が安定であ
るのは、窒素原子に結合しているトリアルキルシリル基
の立体障害によるものであろう。この場合、モノシリル
化合物が混在するとさらに分解が進み、過度の重合化を
もたらすので、ビス−シリル化合物を純粋に生成させる
ことが肝要である。
できる。式(V)で示される7−アミノセフェム(3)−4
−カルボン酸(好ましくは7−ACA)を、反応条件下で
不活性な溶媒に懸濁し、シリル化試薬の過剰量の存在下
に加熱還流する。このシリル化反応の溶媒には、ハロゲ
ン化炭化水素(例、ジクロルメタン、クロロホルム、1,
2−ジクロルエタン、1,1,2−トリクロルエタン、テ
トラクロルエチレン等)、有機ニトリル(例、アセトニト
リル、プロピオニトリル等)、ニトロアルカン(例、ニト
ロメタン等)またはスルホン(例、スルホラン等)が挙げ
られる。シリル化反応は、高沸点溶媒を使用し対応する
温度に加熱することによって遂行するか、あるいは低沸
点溶媒を使用し有機オキソ酸(例えば、カドラト酸)、ト
リフルオロ酢酸またはそれらの混合物から成る特殊触媒
を用いて遂行する何れかの方法によって達成することが
できる。この反応のシリル化試薬には、通常この反応に
使用されるヘキサメチルジシラザン、トリメチルクロル
シラン、ビス−トリメチルシリル尿素、N−トリメチル
シリルジアルキルアミンまたは、ビス−またはモノシリ
ル化アセトアミドまたはこれらの混合物のようなシリル
化試薬が使用できる。この場合、モノシリル誘導体が少
量でも存在していると以後の反応に著しく支障を来すお
それがあるので、ビスシリル化が100%進行すること
が望ましい。このようにして得られた式(IV)の化合物を
置換するには、例えば、該反応混合物に1.1〜1.5当
量のトリアルキルヨードシラン(例えばトリメチルヨー
ジラン)を加え、−20〜+50℃、好ましくは0〜4
5℃の温度で反応を行えばよい。驚くべきことに3−ヨ
ードメチル−N,0−ビス−トリアルキルシリル−7−
アミノセファロスポラン酸なる構造の化合物は安定であ
る。文献に記載されている若干の類似構造では、その窒
素において過度の自己アルキル化反応が生じる(西ドイ
ツ国公開特許第3212900号、ヤマノウチ)。本発
明においてN,0−ビス−トリアルキルシリル−3−ヨ
ードメチル−7−アミノセファロスポラン酸が安定であ
るのは、窒素原子に結合しているトリアルキルシリル基
の立体障害によるものであろう。この場合、モノシリル
化合物が混在するとさらに分解が進み、過度の重合化を
もたらすので、ビス−シリル化合物を純粋に生成させる
ことが肝要である。
【0011】過剰の溶媒およびトリアルキルヨードシラ
ンを真空下に除去することにより、ビス−トリメチルシ
リル−3−ヨードメチル−7−アミノセフェム(3)−4
−カルボン酸[式(III)]は純粋な形で単離され、NMR
スペクトルによって確認することができる。
ンを真空下に除去することにより、ビス−トリメチルシ
リル−3−ヨードメチル−7−アミノセフェム(3)−4
−カルボン酸[式(III)]は純粋な形で単離され、NMR
スペクトルによって確認することができる。
【0012】式(III)で示されるセファロスポリン誘導
体は、式(II)または式(IIa)の3−置換−7−アミノセ
フェム(3)−4−カルボン酸へと容易に誘導することが
でき、その際式(III)の化合物を単離する必要がない。
具体的には、例えば (a) 第3級(含窒素)複素環(例、ビリジン、キノリン
等)または脂肪族第3級アミンまたは脂環式第3級アミ
ン(例、N−エチルピペリジン−N−メチルピロリジン
等)、または (b) メルカプト置換基を有する複素環チオラート・ア
ニオン、または遊離のメルカプト複素環と酸捕獲剤、ま
たは (c) 第2級窒素原子を有する複素環 のような求核反応試薬で置換し、所望により同時に脱保
護を行なうか、もしくは置換後、引続き脱保護を行な
う。
体は、式(II)または式(IIa)の3−置換−7−アミノセ
フェム(3)−4−カルボン酸へと容易に誘導することが
でき、その際式(III)の化合物を単離する必要がない。
具体的には、例えば (a) 第3級(含窒素)複素環(例、ビリジン、キノリン
等)または脂肪族第3級アミンまたは脂環式第3級アミ
ン(例、N−エチルピペリジン−N−メチルピロリジン
等)、または (b) メルカプト置換基を有する複素環チオラート・ア
ニオン、または遊離のメルカプト複素環と酸捕獲剤、ま
たは (c) 第2級窒素原子を有する複素環 のような求核反応試薬で置換し、所望により同時に脱保
護を行なうか、もしくは置換後、引続き脱保護を行な
う。
【0013】この場合、式(III)の化合物と反応する反
応試薬としては、下記に挙げるものが特に好ましい。 (a) ピリジン、キノリンのような芳香族含窒素塩基(こ
れらは、さらに1またはそれ以上の置換基を有してもよ
い)、脂肪族トリアルキルアミン(アルキルはC1〜C4が
好ましい)および飽和または不飽和の炭素環式第3級ア
ミン(例えばN−エチルピペリジン、N−メチルピロリ
ジン、キヌクリジン等)。 (b) 複素環チオール塩または酸捕捉剤を添加したメル
カプト化合物。 (c) 第2級アルキル化窒素を有する複素環化合物(例え
ば、トリアゾール、テトラゾール、ピラゾール、ピロリ
ジン、イミダゾール)。
応試薬としては、下記に挙げるものが特に好ましい。 (a) ピリジン、キノリンのような芳香族含窒素塩基(こ
れらは、さらに1またはそれ以上の置換基を有してもよ
い)、脂肪族トリアルキルアミン(アルキルはC1〜C4が
好ましい)および飽和または不飽和の炭素環式第3級ア
ミン(例えばN−エチルピペリジン、N−メチルピロリ
ジン、キヌクリジン等)。 (b) 複素環チオール塩または酸捕捉剤を添加したメル
カプト化合物。 (c) 第2級アルキル化窒素を有する複素環化合物(例え
ば、トリアゾール、テトラゾール、ピラゾール、ピロリ
ジン、イミダゾール)。
【0014】上記の反応試薬との置換反応は、前記した
溶媒中、−78〜+70℃、好ましくは−50〜+40
℃で遂行することができる。該反応試薬が前記の溶媒に
対して溶解し難い場合は、必要に応じて完全に乾燥した
非プロトン性極性溶媒(例、DMF、HMPT)を添加す
ることができる。
溶媒中、−78〜+70℃、好ましくは−50〜+40
℃で遂行することができる。該反応試薬が前記の溶媒に
対して溶解し難い場合は、必要に応じて完全に乾燥した
非プロトン性極性溶媒(例、DMF、HMPT)を添加す
ることができる。
【0015】次いで、式(I)の化合物を製造するため
に、反応混合物をそのまま、自体公知の方法によって7
位に所望のアシル基を導入し、シリル基が存在している
場合は、これを脱離する。
に、反応混合物をそのまま、自体公知の方法によって7
位に所望のアシル基を導入し、シリル基が存在している
場合は、これを脱離する。
【0016】アシル化反応のために、式(II)または(II
a):[ここで、R1は前記と同意義であり、R3は (a) 式
a):[ここで、R1は前記と同意義であり、R3は (a) 式
【化2】 (式中、Hetはピリジン、キノリン、ピリミジンまたは
チアゾール、R6はカルボキシ、カルバミド、スルホン
アミドまたはβ−ラクタム化学において慣用される置換
基であり、あるいは2つのR6が一緒になって、所望に
より置換基を有する炭素環を作ることができる)で示さ
れる芳香性窒素塩基、または (b) 式
チアゾール、R6はカルボキシ、カルバミド、スルホン
アミドまたはβ−ラクタム化学において慣用される置換
基であり、あるいは2つのR6が一緒になって、所望に
より置換基を有する炭素環を作ることができる)で示さ
れる芳香性窒素塩基、または (b) 式
【化3】 (式中、R7、R8およびR9は同一または異なる基であっ
てそれぞれ低級アルキル基または低級アルケニル基を表
わし、またはR7はR8および窒素原子と一緒にR9をア
ルキル置換基とする5員または6員の飽和または不飽和
炭素環を作り、さらにこの場合、R9はその環の1,3位
または1,4位間にアルキレンまたはビニレン架橋を作
ることができる)で示される脂肪族または脂環式窒素塩
基、または
てそれぞれ低級アルキル基または低級アルケニル基を表
わし、またはR7はR8および窒素原子と一緒にR9をア
ルキル置換基とする5員または6員の飽和または不飽和
炭素環を作り、さらにこの場合、R9はその環の1,3位
または1,4位間にアルキレンまたはビニレン架橋を作
ることができる)で示される脂肪族または脂環式窒素塩
基、または
【0017】(c) 式
【化4】 (式中、Hetは5員または6員の複素環、R10およびR
11はアルキル、ハロゲンまたはアルケニル基を表わし、
ここでアルキル基は、さらにスルホン酸、アシルアミ
ノ、ジアルキルアミノ、オキソまたはヒドロキシ基で置
換されることができる)で示される所望により置換基を
有し得る複素環チオール残基、または (d) 式
11はアルキル、ハロゲンまたはアルケニル基を表わし、
ここでアルキル基は、さらにスルホン酸、アシルアミ
ノ、ジアルキルアミノ、オキソまたはヒドロキシ基で置
換されることができる)で示される所望により置換基を
有し得る複素環チオール残基、または (d) 式
【化5】 (式中、Hetは低級アルキル基で置換されることもある
テトラゾール、トリアゾール、イミダゾール、ピロリジ
ンまたはピラゾールである)で示される残基である]の
化合物は、好ましくは該反応混合物中で製造される。こ
れらの化合物は、下式
テトラゾール、トリアゾール、イミダゾール、ピロリジ
ンまたはピラゾールである)で示される残基である]の
化合物は、好ましくは該反応混合物中で製造される。こ
れらの化合物は、下式
【化6】 (式中、R6〜R11およびHetは前記と同意義である)で
示される化合物を、式(II)または(IIa)の化合物を含有
している反応混合物へ添加することによって得ることが
できる。
示される化合物を、式(II)または(IIa)の化合物を含有
している反応混合物へ添加することによって得ることが
できる。
【0018】以下、実施例によりこの発明を具体的に説
明するが、これによって発明の範囲を限定するものでは
ない。実施例において温度はすべて摂氏温度で示してあ
る。 実施例1 7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨードメチルセフェ
ム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリルエステル[式
(III)の化合物] (a) 7−トリメチルシリルアミノ−3−アセトキシメ
チルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリルエ
ステル[(IV)] 7−アミノセファロスポラン酸2.5g、トリクロルシラ
ン1.75ml、ヘキサメチルジシラザン7.65mlの乾燥
クロロホルム100ml中懸濁液を沸とうさせ、この液に
カドラト酸45mgを加え、この混合物を、窒素雰囲気下
に1夜加熱還流する。透明な溶液を、減圧下に蒸発乾固
し、7−トリメチルシリルアミノセファロスポラン酸ト
リメチルシリルエステルが固体の形で得られる。このも
のは極度に加水分解をうけ易いため、融点を測定するこ
とはできなかったが、NMRスぺクトル測定によって確
認した。
明するが、これによって発明の範囲を限定するものでは
ない。実施例において温度はすべて摂氏温度で示してあ
る。 実施例1 7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨードメチルセフェ
ム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリルエステル[式
(III)の化合物] (a) 7−トリメチルシリルアミノ−3−アセトキシメ
チルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリルエ
ステル[(IV)] 7−アミノセファロスポラン酸2.5g、トリクロルシラ
ン1.75ml、ヘキサメチルジシラザン7.65mlの乾燥
クロロホルム100ml中懸濁液を沸とうさせ、この液に
カドラト酸45mgを加え、この混合物を、窒素雰囲気下
に1夜加熱還流する。透明な溶液を、減圧下に蒸発乾固
し、7−トリメチルシリルアミノセファロスポラン酸ト
リメチルシリルエステルが固体の形で得られる。このも
のは極度に加水分解をうけ易いため、融点を測定するこ
とはできなかったが、NMRスぺクトル測定によって確
認した。
【0019】1HNMR:0.15(9H,N−Si≡);0.
36(s,9H,−CO2Si≡);1.43(d,I=12Hz,1
H,NH);2.09(s,3H,
36(s,9H,−CO2Si≡);1.43(d,I=12Hz,1
H,NH);2.09(s,3H,
【化7】 ;3.46(AB,I=18Hz,2H,C2−H);4.60−
5.28(m,4H,CH2−I,C6−H,C7−H).
5.28(m,4H,CH2−I,C6−H,C7−H).
【0020】(b) 7−トリメチルシリルアミノ−3−
ヨードメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチル
シリルエステル[式(III)] N,0−ビス−シリル化7−ACA[(a)により製造]を乾
燥ジクロロメタン125mlに溶解し、この溶液を0°に
冷却してトリメチルヨードシラン1.87mlを滴下す
る。液の温度を室温に戻し、さらに2時間撹拌する。溶
媒を減圧下に溜去して標題化合物を固体の形で得る。こ
のものは加水分解され易いため、ただNMRスぺクトル
によって確認した。
ヨードメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチル
シリルエステル[式(III)] N,0−ビス−シリル化7−ACA[(a)により製造]を乾
燥ジクロロメタン125mlに溶解し、この溶液を0°に
冷却してトリメチルヨードシラン1.87mlを滴下す
る。液の温度を室温に戻し、さらに2時間撹拌する。溶
媒を減圧下に溜去して標題化合物を固体の形で得る。こ
のものは加水分解され易いため、ただNMRスぺクトル
によって確認した。
【0021】1HNMR(CDCl3):0.125(b,9H,
N−Si≡);0.38(s,9H,−CO2Si≡);1.55(d,
J=12Hz,1H,NH);3.50(AB,I=18Hz,2
H,C2H);4.39(AB,I=9Hz,2H,−CH2−
I);4.58(d,d,I=12Hz,4,5Hz,1H,C7−
H);4.71(d,I=4,5Hz,1H,C6−H).
N−Si≡);0.38(s,9H,−CO2Si≡);1.55(d,
J=12Hz,1H,NH);3.50(AB,I=18Hz,2
H,C2H);4.39(AB,I=9Hz,2H,−CH2−
I);4.58(d,d,I=12Hz,4,5Hz,1H,C7−
H);4.71(d,I=4,5Hz,1H,C6−H).
【0022】この7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨ
ードメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチルシ
リルエステルから、以下に例示するような、式(II)で示
される3位置換誘導体を製造することができる。
ードメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチルシ
リルエステルから、以下に例示するような、式(II)で示
される3位置換誘導体を製造することができる。
【0023】実施例2 7−アミノ−3−ピリジウムメチルセフェム(3)−4−
カルボン酸・ヨー化水素酸塩[式(IIa)] 実施例1の標題化合物の溶液を氷冷し、これにピリジン
1.47mlを加え、次いでこの溶液を室温で2時間撹拌
する。この溶液にメタノール1.7mlを添加すると、7
−アミノ−3−ピリジウムメチルセフェム(3)−4−カ
ルボン酸の粗製のヨー化水素酸塩が沈殿する。この固体
物質を水に浸漬することによって純粋な標題化合物が得
られる。mp:145°(分解)。
カルボン酸・ヨー化水素酸塩[式(IIa)] 実施例1の標題化合物の溶液を氷冷し、これにピリジン
1.47mlを加え、次いでこの溶液を室温で2時間撹拌
する。この溶液にメタノール1.7mlを添加すると、7
−アミノ−3−ピリジウムメチルセフェム(3)−4−カ
ルボン酸の粗製のヨー化水素酸塩が沈殿する。この固体
物質を水に浸漬することによって純粋な標題化合物が得
られる。mp:145°(分解)。
【0024】1HNMR:(D2O,K2Co3);3.38(A
B,I=18Hz,2H,C2−H);4.80(d,I=5,8H
z,1H,C7−H);5.10(d,I=5,8Hz,1H,C6−
H);5.43(AB,I=17Hz,2H,CH2−N+≡);
8.0−8.2(m,2H,ピリジン3H's);8.41−8.6
3(m,1H,ピリジンC4−H);8.93(d,I=6,3Hz,
2H,ピリジン−2H's).
B,I=18Hz,2H,C2−H);4.80(d,I=5,8H
z,1H,C7−H);5.10(d,I=5,8Hz,1H,C6−
H);5.43(AB,I=17Hz,2H,CH2−N+≡);
8.0−8.2(m,2H,ピリジン3H's);8.41−8.6
3(m,1H,ピリジンC4−H);8.93(d,I=6,3Hz,
2H,ピリジン−2H's).
【0025】実施例3 7−アミノ−3−[5−(1,2,3−トリアゾル)チオメ
チル]セフェム(3)−4−カルボン酸[式(IIa)] 実施例1の標題化合物のジクロルメタン溶液にN,N−
ジメチルホルムアミド5mlおよび5−メルカプト−1,
2,3−トリアゾールのNa塩2.26gを0°で加え、こ
の溶液を室温でさらに2時間撹拌する。氷冷下、メタノ
ール5mlを加えることにより、標題化合物が沈殿する。
沈殿を6N−HClに溶解し、濃NaOH溶液でpH1に
調節すると標題化合物が再沈殿する。分解点:190°
以上。1HNMR(DMSO;CF3CO2H):3.28(A
B,I=18Hz,2H);3.95(AB,I=12,6Hz,
2H);4.76(d,I=5,7Hz,1H);4.97(d,I=
5,7Hz,1H);7.9(s,1H).
チル]セフェム(3)−4−カルボン酸[式(IIa)] 実施例1の標題化合物のジクロルメタン溶液にN,N−
ジメチルホルムアミド5mlおよび5−メルカプト−1,
2,3−トリアゾールのNa塩2.26gを0°で加え、こ
の溶液を室温でさらに2時間撹拌する。氷冷下、メタノ
ール5mlを加えることにより、標題化合物が沈殿する。
沈殿を6N−HClに溶解し、濃NaOH溶液でpH1に
調節すると標題化合物が再沈殿する。分解点:190°
以上。1HNMR(DMSO;CF3CO2H):3.28(A
B,I=18Hz,2H);3.95(AB,I=12,6Hz,
2H);4.76(d,I=5,7Hz,1H);4.97(d,I=
5,7Hz,1H);7.9(s,1H).
【0026】実施例4 7−β−アミノ−3−(2−デヒドロキヌクリジニウム)
メチルセフェム(3)−4−カルボンシラート・2塩酸塩
[式(IIa)] 7−アミノセファロスポラン酸2.22gを、実施例1に
記載の如く置換して7−トリメチルシリルアミノ−3−
ヨードメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチル
シリルエステルとする。このジクロルメタン溶液に、氷
冷下、1−アザ−ビシクロ[2.2.2]オクタ−2−エン
1gを加え、さらに室温で2時間撹拌する。エーテル性
飽和HCl2mlを添加して生成物を沈殿させる。粗製品
を希HCl水溶液に溶解し、イソプロパノールで沈殿さ
せる。無色の粉末を得る。140°より分解。
メチルセフェム(3)−4−カルボンシラート・2塩酸塩
[式(IIa)] 7−アミノセファロスポラン酸2.22gを、実施例1に
記載の如く置換して7−トリメチルシリルアミノ−3−
ヨードメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチル
シリルエステルとする。このジクロルメタン溶液に、氷
冷下、1−アザ−ビシクロ[2.2.2]オクタ−2−エン
1gを加え、さらに室温で2時間撹拌する。エーテル性
飽和HCl2mlを添加して生成物を沈殿させる。粗製品
を希HCl水溶液に溶解し、イソプロパノールで沈殿さ
せる。無色の粉末を得る。140°より分解。
【0027】1HNMR(D2O):1.70−2.50(m,4
H);3.0−5.2(m);3.76および4.10(AB,I=
19Hz,2H);5.34(d,I=6Hz,1H);5.53(d,
I=6Hz,1H);6.70−7.3(m,2H).
H);3.0−5.2(m);3.76および4.10(AB,I=
19Hz,2H);5.34(d,I=6Hz,1H);5.53(d,
I=6Hz,1H);6.70−7.3(m,2H).
【0028】実施例5 7−β−アミノ−3−(N−メチルピロリジニウム)メチ
ルセフェム(3)−4−カルボキシラート・塩酸塩[式(II
a)] 前記と同様に、7−アミノセファロスポラン酸10.8
8gを置換して7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨー
ドメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリ
ルエステルとする。この化合物のジクロロメタン120
mlの溶液に−60°でN−メチルピロリジン4.15ml
を徐々に加え、この温度で90分間撹拌する。次いで、
HClガスを溶存させたエタノール100mlに反応混合
物を注入する。この懸濁液のpHを2.5に調節する。1
夜放置すると、固体が分離する。これを水20mlに懸濁
し、濃HClでpHを0に調節する。この液に活性炭5g
を加え、5分間撹拌し、不溶物および活性炭を濾去す
る。5N−NaOHで無色の水溶液のpHを2.5に調節
し、アセトン200mlをこの溶液に徐々に注加する。冷
蔵庫に2時間放置後、沈殿物をヌッツエに濾取し、アセ
トンおよびエーテルで洗浄する。乾燥機で乾燥すること
により、無色の粉末を得る。分解点:115°。収量5.
6g(理論値の42%)。
ルセフェム(3)−4−カルボキシラート・塩酸塩[式(II
a)] 前記と同様に、7−アミノセファロスポラン酸10.8
8gを置換して7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨー
ドメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリ
ルエステルとする。この化合物のジクロロメタン120
mlの溶液に−60°でN−メチルピロリジン4.15ml
を徐々に加え、この温度で90分間撹拌する。次いで、
HClガスを溶存させたエタノール100mlに反応混合
物を注入する。この懸濁液のpHを2.5に調節する。1
夜放置すると、固体が分離する。これを水20mlに懸濁
し、濃HClでpHを0に調節する。この液に活性炭5g
を加え、5分間撹拌し、不溶物および活性炭を濾去す
る。5N−NaOHで無色の水溶液のpHを2.5に調節
し、アセトン200mlをこの溶液に徐々に注加する。冷
蔵庫に2時間放置後、沈殿物をヌッツエに濾取し、アセ
トンおよびエーテルで洗浄する。乾燥機で乾燥すること
により、無色の粉末を得る。分解点:115°。収量5.
6g(理論値の42%)。
【0029】1HNMR(CF3CO2D+D2O):5.48
(1H,d,I=5,2Hz,C7−H);5.31(1H,d,I=
5,2Hz,C6−H);4.73(2H,AB,I=13Hz;C
H2−N−);4.1−3.47(6H,m,C2−HおよびN−
メチルピロリジン−H);3.15(3H,s,CH3−N−);
2.37(4H,b,N−メチルピロリジン−H). 式(I)の化合物は、以下の実施例の如くして得られる。
(1H,d,I=5,2Hz,C7−H);5.31(1H,d,I=
5,2Hz,C6−H);4.73(2H,AB,I=13Hz;C
H2−N−);4.1−3.47(6H,m,C2−HおよびN−
メチルピロリジン−H);3.15(3H,s,CH3−N−);
2.37(4H,b,N−メチルピロリジン−H). 式(I)の化合物は、以下の実施例の如くして得られる。
【0030】実施例6 (6R,7R)−7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル]
−(Z)−2−[(1−ジフェニルメトキシカルボニル−1
−メチルエトキシ)イミノ]アセトアミド−3−(1−ピ
リジニウムメチル)セフェム(3)−4−カルボン酸クロ
リド・塩酸塩[式(I)] 7−ACA2.5g、トリクロルシラン1.75mlおよび
ヘキサメチルジシラザン7.65mlの乾燥クロロホルム
100ml懸濁液を還流下に沸とうさせ、これにカドラト
酸45mgを加え、この混合物を、窒素雰囲気下に1夜煮
沸還流する。透明な溶液を減圧下に蒸発乾固すると、7
−トリメチルシリルアミノセファロスポラン酸トリメチ
ルシリルエステルが固体となって析出する。これを乾燥
ジクロルメタ2ン15mlに溶解し、0°に冷却し、ヨー
ドトリメチルシラン1.87mlを滴下する。溶液を室温
に戻し、さらに2時間撹拌する。生成した7−トリメチ
ルシリルアミノ−3−ヨードメチルセフェム(3)−4−
カルボン酸トリメチルシリルエステルに乾燥ピリジン
1.47mlを加え、室温で2時間撹拌する。次いで、こ
の溶液に2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−(Z)−2
−[(1−ジフェニルメトキシカルボニル−1−メチルエ
トキシ)イミノ]−チオ酢酸−S−ベンゾチアゾール−2
−イルエステル5.41gを加え、この混合物を2日間室
温で撹拌する。次に、この反応混合物を50°に加温し
た濃塩酸4.5mlのイソプロパノール500mlの溶液に
投入すると、標題化合物が沈殿する。この沈殿を吸引濾
別し、イソプロパノールで洗浄する。乾燥し、塩酸/イ
ソプロパノールから再結晶することによって、黄色の標
題化合物を得る。mp:160°より分解。
−(Z)−2−[(1−ジフェニルメトキシカルボニル−1
−メチルエトキシ)イミノ]アセトアミド−3−(1−ピ
リジニウムメチル)セフェム(3)−4−カルボン酸クロ
リド・塩酸塩[式(I)] 7−ACA2.5g、トリクロルシラン1.75mlおよび
ヘキサメチルジシラザン7.65mlの乾燥クロロホルム
100ml懸濁液を還流下に沸とうさせ、これにカドラト
酸45mgを加え、この混合物を、窒素雰囲気下に1夜煮
沸還流する。透明な溶液を減圧下に蒸発乾固すると、7
−トリメチルシリルアミノセファロスポラン酸トリメチ
ルシリルエステルが固体となって析出する。これを乾燥
ジクロルメタ2ン15mlに溶解し、0°に冷却し、ヨー
ドトリメチルシラン1.87mlを滴下する。溶液を室温
に戻し、さらに2時間撹拌する。生成した7−トリメチ
ルシリルアミノ−3−ヨードメチルセフェム(3)−4−
カルボン酸トリメチルシリルエステルに乾燥ピリジン
1.47mlを加え、室温で2時間撹拌する。次いで、こ
の溶液に2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−(Z)−2
−[(1−ジフェニルメトキシカルボニル−1−メチルエ
トキシ)イミノ]−チオ酢酸−S−ベンゾチアゾール−2
−イルエステル5.41gを加え、この混合物を2日間室
温で撹拌する。次に、この反応混合物を50°に加温し
た濃塩酸4.5mlのイソプロパノール500mlの溶液に
投入すると、標題化合物が沈殿する。この沈殿を吸引濾
別し、イソプロパノールで洗浄する。乾燥し、塩酸/イ
ソプロパノールから再結晶することによって、黄色の標
題化合物を得る。mp:160°より分解。
【0031】1H−NMR(DMSO−d6);9.84(1
H,d,−N−H,I=8Hz);9.20,8.67および8.
23(5H,ピリジニウム−H);7.28(10H,フェニ
ル−H);6.98(1H,S,チアゾリル−H);6.79(1
H,S,CH−Ph2);5.95(1H,dd,H7,I=8Hz,I
=5Hz);5.72(2H,CH 2−ピリジン);5.27(1
H,d,H6,I=5Hz);3.57(2H,H2およびH2');
1.63(6H,−C(CH3)2).
H,d,−N−H,I=8Hz);9.20,8.67および8.
23(5H,ピリジニウム−H);7.28(10H,フェニ
ル−H);6.98(1H,S,チアゾリル−H);6.79(1
H,S,CH−Ph2);5.95(1H,dd,H7,I=8Hz,I
=5Hz);5.72(2H,CH 2−ピリジン);5.27(1
H,d,H6,I=5Hz);3.57(2H,H2およびH2');
1.63(6H,−C(CH3)2).
【0032】実施例7 7−[α−(エトキシカルボニルメトキシ)イミノ−1H
−ピラゾール−3−イル]アセトアミド−3−[(1−メ
チル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル]セフ
ェム(3)−4−カルボン酸・エタノール溶媒和物[式
(I)] 7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸トリメチルシリルエステル
(実施例1または実施例6により製造)3.82gの乾燥ジ
クロルメタン125ml溶液にジメチルホルムアミド5ml
および1−メチル−5−メルカプト−1,2,3,4−テ
トラゾールのナトリウム塩1.4gを加え、この溶液を室
温で2時間撹拌する。次いで(メトキシカルボニルメト
キシイミノ)−1H−ピラゾール−3−イル酢酸・メル
カプトベンゾチアゾリルエステルの結晶4.16gをこれ
に加え、反応混合物を1夜室温で撹拌し続ける。55°
に加温したエタノール350mlに、この反応物を撹拌し
ながら加え、徐々に30°に冷却する。標題化合物の結
晶種を加えることによって、標題化合物が結晶として沈
殿する。これを濾取し、乾燥する。mp:119〜121
°。
−ピラゾール−3−イル]アセトアミド−3−[(1−メ
チル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル]セフ
ェム(3)−4−カルボン酸・エタノール溶媒和物[式
(I)] 7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸トリメチルシリルエステル
(実施例1または実施例6により製造)3.82gの乾燥ジ
クロルメタン125ml溶液にジメチルホルムアミド5ml
および1−メチル−5−メルカプト−1,2,3,4−テ
トラゾールのナトリウム塩1.4gを加え、この溶液を室
温で2時間撹拌する。次いで(メトキシカルボニルメト
キシイミノ)−1H−ピラゾール−3−イル酢酸・メル
カプトベンゾチアゾリルエステルの結晶4.16gをこれ
に加え、反応混合物を1夜室温で撹拌し続ける。55°
に加温したエタノール350mlに、この反応物を撹拌し
ながら加え、徐々に30°に冷却する。標題化合物の結
晶種を加えることによって、標題化合物が結晶として沈
殿する。これを濾取し、乾燥する。mp:119〜121
°。
【0033】実施例8 7−β−(2−チェニルアセトアミド)−3−ピリジニウ
ムメチルセフェム(3)−4−カルボン酸・硝酸塩[式
(I)] 7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨードメチルセフェ
ム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリルエステル(実
施例1または実施例6により製造)3.82gの乾燥ジク
ロルメタン125ml溶液に乾燥ピリジン1.47mlを加
え、室温で2時間撹拌する。次いで、この溶液にチエニ
ル酢酸−S−メルカプトベンゾチアゾリルエステル3.
2gのジクロルメタン20ml溶液[ジクロルメタン中、チ
オフェン酢酸1.56g、ビス(ベンゾチアゾール−2−
イル)ジスルフィド4.47gおよびフェニルホスフィン
3.53gから調製し、そのまま使用する]を加え、この
混合物を室温で30時間撹拌する。これにメタノール5
mlを注加することにより、標題化合物の粗製品がヨウ化
水素酸塩として沈殿する。この沈殿を5%重炭酸塩溶液
に溶解し、不溶物を濾別し、濾液に希硝酸溶液を加える
ことによりpH1.8で標題化合物が硝酸塩として結晶化
する。 mp:151〜152°(分解)
ムメチルセフェム(3)−4−カルボン酸・硝酸塩[式
(I)] 7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨードメチルセフェ
ム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリルエステル(実
施例1または実施例6により製造)3.82gの乾燥ジク
ロルメタン125ml溶液に乾燥ピリジン1.47mlを加
え、室温で2時間撹拌する。次いで、この溶液にチエニ
ル酢酸−S−メルカプトベンゾチアゾリルエステル3.
2gのジクロルメタン20ml溶液[ジクロルメタン中、チ
オフェン酢酸1.56g、ビス(ベンゾチアゾール−2−
イル)ジスルフィド4.47gおよびフェニルホスフィン
3.53gから調製し、そのまま使用する]を加え、この
混合物を室温で30時間撹拌する。これにメタノール5
mlを注加することにより、標題化合物の粗製品がヨウ化
水素酸塩として沈殿する。この沈殿を5%重炭酸塩溶液
に溶解し、不溶物を濾別し、濾液に希硝酸溶液を加える
ことによりpH1.8で標題化合物が硝酸塩として結晶化
する。 mp:151〜152°(分解)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヨハネス・リュデッシェル オーストリア国アー−6250ブライテンバ ッハ、ブライテンバッハ109番 (56)参考文献 特開 昭56−131590(JP,A) 特開 昭53−59689(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】 7−アミノセファロスポラン酸(7−A
CA)またはその誘導体をシリル化して対応するN,O−
ビス−シリル化物に変化させ、これをヨード化して対応
するN,O−ビス−シリル−3−ヨードメチル化物と
し、これに求核反応試薬を反応させて対応するN,O−
ビス−シリル−3−置換メチル化物に導き、これにアシ
ル化剤を反応させ、かつ、この反応の前または後におい
て保護基を脱離せしめることにより、対応する3−置換
メチル−7−アシルアミノセファロスポラン酸化合物を
製することを特徴とする、セファロスポリン誘導体の製
造方法。
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---|---|---|---|
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AT0371684A AT381315B (de) | 1984-11-23 | 1984-11-23 | Verfahren zur herstellung von cephalosporinderivaten |
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ATE244248T1 (de) * | 1996-04-12 | 2003-07-15 | Takeda Chemical Industries Ltd | Herstellung von amino cephalosporansäurederivaten |
WO2006008749A1 (en) * | 2004-07-16 | 2006-01-26 | Hetero Drugs Limited | Process for preparing pure cephalosporine intermediates |
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GB2052490B (en) * | 1979-05-25 | 1983-09-07 | Glaxo Group Ltd | Intermediates for use in the preparation of cephalosporin antibiotics |
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JPS6011917B2 (ja) * | 1981-04-09 | 1985-03-28 | 山之内製薬株式会社 | 新規なセファロスポリン化合物 |
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DE3316797A1 (de) * | 1983-05-07 | 1984-11-08 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von cephemverbindungen |
DE3316798A1 (de) * | 1983-05-07 | 1984-11-08 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von cephemverbindungen |
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JPS60136586A (ja) * | 1983-12-26 | 1985-07-20 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | 7‐〔α‐(2‐アミノ‐4‐チアゾリル)‐α‐(チオカルバモイルメトキシイミノ)アセトアミド〕‐3‐置換‐Δ↑3‐セフエム‐4‐カルボン酸 |
JPS60188389A (ja) * | 1984-03-07 | 1985-09-25 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(チオカルバモイルメトキシイミノ)アセトアミド〕−3−置換メチル−Δ↑3−セフエム−4−カルボン酸 |
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-
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- 1985-11-21 AT AT94105662T patent/ATE177104T1/de not_active IP Right Cessation
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- 1985-11-21 DE DE3588208T patent/DE3588208D1/de not_active Expired - Lifetime
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-
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-
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