JPS6011917B2 - 新規なセファロスポリン化合物 - Google Patents

新規なセファロスポリン化合物

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JPS6011917B2
JPS6011917B2 JP56052408A JP5240881A JPS6011917B2 JP S6011917 B2 JPS6011917 B2 JP S6011917B2 JP 56052408 A JP56052408 A JP 56052408A JP 5240881 A JP5240881 A JP 5240881A JP S6011917 B2 JPS6011917 B2 JP S6011917B2
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憲昭 長野
功二 中野
忠夫 柴沼
幸康 村上
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Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
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Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/20Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D277/587Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with aliphatic hydrocarbon radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms, said aliphatic radicals being substituted in the alpha-position to the ring by a hetero atom, e.g. with m >= 0, Z being a singly or a doubly bound hetero atom
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は下記一般式(1) 〔式中、RIはアミノ基を、R2はカルボキシ基又はカ
ルバモィル基で置換されていてもよい低級アルキル基を
、R3は式(式中、Raはカルボ キシ基又はシアノ基を、Rbは水酸基又はアミノ基を意
味する。
以下同様)を意味し、波線の結合はァンチ(anti)
形又はシン(syn)形の結合を表わす。以下同機〕で
示される新規なセフアロスポリン化合物及びその塩に関
するものである。
本明細書の一般式の基の定義において『低級』なる語は
炭素数1〜5個を有する直鎖又は分枝状の炭素鎖を意味
する。
従って、低級アルキル基としては具体的にはメチル基、
エチル基、プロピル基、ィソプロピル基、ブチル基、ィ
ソプチル基、にrt−ブチル基、アミル基、ィソベンチ
ル基、1ーメチルプチル基、2−メチルブチル基、ネオ
ベンチル基等が挙げられる。本発明は一般式(1)で示
される化合物の薬理学上許容される非毒性の塩類をも包
含するものであり、かかる塩としてはナトリウム、カリ
ウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム等の
アルカリ±競金属等の無機塩基との塩、アンモニウム塩
、トリメチルアミン、トリェチルアミン、シクロヘキシ
ルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジェタノールアミ
ン、アルギニン、リジン等の有機塩基や塩基性アミノ酸
との塩、塩酸、硫酸、リン酸等の滋酸塩、酢酸、乳酸、
酒石酸、フマール酸、マレィン酸、メタンスルホン酸、
ェタンスルホン酸等の有機酸との塩が挙げられる。
本発明化合物(1)は、ィミノェーテル型のオキシムや
2−置換チアゾール基を有しており、これらの化合物に
は幾何異性体や互変異性体が存在する。本発明はこれら
シン(syn)、アンチ(anti)形の幾何異性体や
相互の互変異性体の全てを包含するものである。本発明
によって提供される上記一波式(1)で示される化合物
及びその塩は、セフアロスポリン骨格の3位に(置換ィ
ソチァゾール−5ーィル)チオメチル基を有する点に化
学構造上の特徴を有する新規化合物であり、グラム陽・
性菌ならびにグラム陰性菌殊に緑膿菌に対して優れた抗
菌作用を有し、抗菌剤として有用である。
本発明化合物の抗菌作用を セフオタジジム(ceRazidime)と対比して次
表に示す。
本発明化合物は種々の方法より製造することができる。
代表的な方法を以下に例示する。(反応式中、R4は保
護されたアミノ基を、R5はカルバモィル基又は保護さ
れたカルボキシ基で置換されていてもよい低級アルキル
基を、R6は水素原子又はカルボキシ基の保護基を意味
する。
以下同様)本発明化合物(1)は一般式(ロ)で示され
るアルコキシィミノチアゾ−ル酢酸譲導体又はそのカル
ポキシ基における反応性議導体と、一般式(m)で示さ
れる7ーアミノ−3−イソチアゾ−ルチオメチルセフア
ロスポリン誘導体とを反応させ、次いでカルボキシ基や
アミノ基の保護基を脱離させることにより製造すること
ができる。
ここに、カルボキシ基の保護基としては具体的にはトリ
メチルシリル基、ベンズヒドリル基、8−メチルスルホ
ニルェチル基、フェナシル基、pーメトキシベンジル基
、ten−ブチル基、p−ニトロベンジル基など、緩和
な条件下容易に脱離しうる保護基が挙げられる。また、
アミ/基の保護基としては当該べプチド化学の分野にお
いて通常用いられる保護基を意味し、例えばホルミル基
、アセチル基、ブロピオニル基、にrt−プトキシカル
ボニル基、メトキシアセチル基、メトキシプロピオニル
基、ベンジルオキシカルボニル基、p−ニトロベンジル
オキシカルボニル基等のアシル基やペンジル基、ベンズ
ヒドリル基、トリチル基などのァラルキル基等が挙げら
れる。
反応は通常溶媒中冷却下乃至室温下で行なわれる。
溶媒は反応に関与しないものであれば特に制限はないが
、通常使用されるものとしては、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、エーテル、アセトン、メチルエチルケトン
、クロロホルム、メチレンクロリド、エチレンクロリド
、メタノール、エタノール、アセトニトリル、酢酸エチ
ル、ギ酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド等の有機溶媒が挙げられる。これらの溶媒は適
宜混合して用いることもできる。化合物(0)は遊離カ
ルボン酸の状態で使用されるほか、カルボン酸の反応性
誘導体として反応に供される。
好適なものは混合酸無水物、酸ハロゲン化物、活性ェス
テル、活性ァミド、酸無水物、酸ァジド等である。化合
物(0)を遊離のカルボン酸の状態で使用するときは、
N・N′ージシクロヘキシルカルボジイミド、N・N′
−ジエチルカルボジィミド等の縮合剤を使用するのがよ
い。また用いられるカルボン酸の反応性誘導体の種類に
よっては、塩基の存在下に反応させるのが、反応を円滑
に進行させる上で好ましい場合もある。
かかる塩基としては炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ト
リメチルアミン、トリェチルアミン、ジメチルアニリン
、ピリジン等の有機塩基が挙げられる。こうして得られ
た生成物からのカルポキシ基の保護基の除去は、たとえ
ばペンズヒドリル基、pーメトキシベンジル基等は酸に
よって、トリメチルシリル基は水と接触させることによ
って容易に行うことができる。
また、アミノ基の保護基の脱離は、保護基として前述し
たトリチル基の如きアラルキル基や各種のアシル基を用
いる場合には酸による加水分解によって容易に行うこと
ができる。
この際用いられる酸としてはギ酸、トリフルオロ酢酸、
塩酸等が好ましい。なお、カルボキシ基の保護基の脱離
及びアミノ基の保護基の脱離とは同時に行なうことも可
能である。
一般式(1)で示される本発明化合物の塩はたとえば上
記製法において予じめ原料化合物の塩を用いて製造する
ことにより、あるいは上記製法により製造された遊離の
化合物に当分野で慣用されている造塩反応を適用するこ
とにより製造することができる。
たとえば、2ーェチルヘキサン酸アルカリのn−ブタノ
ール溶液を加え、次に溶解性の異なるエーテル、酢酸エ
チル等の有機溶媒を加えることによりアルカリ金属塩を
、ジシクロヘキシルアミン、トリエチルアミン、シクロ
ヘキシルアミン、ジェタノールアミン、アルギニン、リ
ジン等の有機塩基や塩基性アミノ酸を当量ないし少過剰
量加え反応させることにより有機塩基や塩基性アミノ酸
との塩を、アンモニア水を加えることによりアンモニウ
ム塩を製造できる。
本発明化合物(1)及びその塩の単離精製は常法に従っ
て行なわれ、有機溶媒による抽出、結晶化、カラマクロ
マトグラフィーによる分離精製が用いられる。
一般式(1)で示される化合物やその塩を主成分として
含有する抗菌剤は任意慣用の製薬用担体や、賦形剤を用
いて任意慣用の方法で調製される。
投与は錠剤、丸剤、カプセル剤、額粒剤等の経口投与あ
るいは静注、筋注等の注射剤、坐剤等の非経口投与のい
ずれの形態であってもよい。投与量は症状や投与対象者
の年令、性別等を考慮して個々の場合に応じて適宜決定
されるが、通常成人1日当り250〜3000の9であ
り、これを1日2〜4回に分けて投与する。以下に実施
例を掲載し、本発明を更に詳細に説明する。
なお、一般式(m)で示される本発明の原料化合物はい
ずれも新規物質であり、その製造方法及び物性を参考例
に託す。参考例 1 20地3頚フラスコに3−アセトキシメチル−7ーアミ
ノ−△3 ーセフエム−4ーカルボン酸2.5夕(0.
0092モル)、ョウ化ナトリウム1.52夕及びアセ
トニトリル12.5の【を入れ、内溢を18℃迄冷却す
る。
次いで同温度でトリフルオロメチルスルホン酸5の‘を
7分要して滴下する。12〜1す0で17分間反応させ
た後氷水50舷に分散する。
氷冷下2ぴ分間分散液を燭拝した後結晶を炉遇する。得
られた結晶を氷水32.5の‘次いでアセトン25の【
で洗浄後、デシケータ五酸化リン上で乾燥して、融点1
77℃を示す7ーアミノ−3ーョウドメチル−△3ーセ
フェム−4−カルボン酸2.09夕(収率67%)を得
る。参考例 2 7−アミノ−3−ヨウドメチル−△3−セフエム−4−
カルボン酸3.4夕(0.01モル)を水60の【に懸
濁させ、これに炭酸水素ナトリウム0.84夕(0.0
1モル)を加えて溶解する。
これに4ーカルボキシー3−ヒドロキシー5−メルカプ
トイソチアゾール・トリナトリウム塩2.67夕(0.
011モル)を加えて室温で3時間反応させる。反応終
了後氷水冷却下に州塩酸11.4机‘でPH1.6に調
整する。1雌ご間氷水冷却下に櫨拝した後析出物を炉取
する。
析出物を冷水10奴で洗浄後乾燥して7ーアミノー3−
[(4ーカルボキシ−3−ヒドロキシイソチアゾールー
5ーイル)チオメチル]一A3−セフェム−4ーカルボ
ン酸2.9夕(収率74.5%)を得る。融点は約17
0ooで変色いまじめ200qo以上で黒褐色となる。
核磁気共鳴スペクトル(D20十NaHC03中)6(
肌);3.58(2日、q、2位CH2)、3.98(
班、q、‐CH2‐S‐)、5.04(IH、d、6位
CH)、5.41(IH、d、7位CH)赤外線吸収ス
ベクトルレ奇襲肌‐1;1770(ラクタム)参考例
3 3−アミノー4−シアノー5ーメルカプトイソチアゾー
ルナトリワム塩0.7夕(0.0039モル)を含む水
溶液40の‘に、7−アミノー3ーョウドメチル−△3
−セフェム−4−カルボン酸1.22(0.0035
モル)及び炭酸水素ナトリウム0.29夕(0.003
5モル)を加え、室温で3時間縄拝する。
不溶物をパーラィト炉去し、源液を氷水冷却下に州塩酸
でPH2に調整する。10分間氷水冷却下に鷹拝した後
析出物を炉取し、水10奴で洗浄し、減圧下乾燥して粗
製の7ーアミノー3一[(3−アミノ−4−シアノイソ
チアゾール一5−イル)チオメチル「一△3ーセフェム
ー4−カルボン酸0.75夕を得る。
精製したものの物閏ま以下の通りである。
赤外線吸収スペクトルひ鰭安仇‐1:2280、176
5、1610核磁気共鳴スペクトル(D20−NaHC
03中)6(胸);3.60(班、q)、4.18(が
、q)、5.08(IH、d)、5.42(IH、d)
参考例 4ジオキサン45の‘に(Z)−Qーメトキシ
イミノ−Q−(2−トリチルアミノチアゾール−4ーイ
ル)酢酸3.0夕(0.00677モル)、1−ヒドロ
キシベンゾトリアゾール914雌(0.00677モル
)及びジシクロヘキシルカルボジイミド1.42夕(0
.00688モル)を加え、室温で1時間反応させる。
反応終了後、析出するジシクロヘキシル尿素を炉去して
活性ェステルのジオキサン溶液を得る。一方、参考例2
で得られた7ーアミノ−3−[(4ーカルボキシ−3−
ヒドロキシイソチアゾールー5ーイル)チオメチル]一
△3 ーセフエムー4ーカルポン酸1.7夕(0.00
437モル)を水22机‘に懸濁し、炭酸水素ナトリウ
ム1.0夕を少しずつ加えて溶かす。得られた褐色透明
液に、先の活性ェステル−ジオキサン溶液を滴下して加
え、室温で4時間反応させる。反応後反応液より析出し
た活性ェステルを炉過して回収する(回収量1.37夕
)。一方、炉液を減圧下蟹去してジオキサンを除き、得
られた水溶液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてpH
7.5〜8に調整する。水溶液を酢酸エチルlow‘で
2回抽出洗浄し、得られた水層にIN−塩酸を加えてp
HI.5〜2に調整する(13の【)。この酸性水溶液
にメチルエチルケトン100の‘、次いで50叫を加え
て抽出する。この間析出する未反応の原料は炉遇して除
く。メチルエチルケトン液を飽和食塩水30私、20泌
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下留去し
てカラメル4.4夕を得る。カラメルをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−ィソプロ
パノールーギ酸(容量比90:10:2)で溶出し、目
的物を含むフラクションを集め、溶媒を留去しエーテル
で粉末化して(Z)一3一[(4ーカルボキシー3−ヒ
ドロキシイソチアゾール−5−イル)チオメチル]−7
一[Q一(メトキシイミノ)一ば−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4ーイル)アセタミド]−△3−セフェ
ム−4ーカルボン酸1.5夕を得る(収率28.5%)
。赤外線吸収スペクトル;し礎ギcの‐1:1780(
ラクタム)核磁気共鳴スペクトル(ムーDMSO中)6
(脚);3.62(2日、q、2位CH2)、3.78
(犯、s、OCH3)、4.14(2日、q、−CH2
S−)、5.12(IH、d、6位CH)、5.56〜
5.76(IH、q、7位CH)、6.67(IH、s
、チアゾール5位CH)、7.24〜7.28(1班、
30一)、8.74(IH、s、−HN−)、9.48
(IH、d、一CONH−) 実施例 1 トリフルオo酢酸4の‘を5℃以下に氷水にて冷し、そ
れに前記参考例4で得られた化合物407の9を加える
この間温度は6.5℃迄上昇した。次いで水4の上を加
えて10qo以下で1時間反応させる。トリフルオロ酢
酸、水を減圧下に留去して得られた固形物にエタノール
10泌を加えて溶かし更に一部エタノールを留去して得
られるオイル状目的物をエーテルで粉末化して(Z)一
7−[Q一(2ーアミノチアゾール−4−イル)−Q−
(メトキシイミ/)アセタミド]一3−[(4ーカルボ
キシー3ーヒドロキシイソチアゾール−5ーイル)チオ
メチノレ]−△3ーセフェム−4−カルポン酸300の
9を得る。赤外線吸収スペクトル;し麓ギ伽‐1177
0(ラクタム)核磁気共鳴スペクトル(広−DMSO中
)・6(胸);3.M(が、q、2位C弦)、3.84
(犯、s、OCH3)、4.18(犯、q、−CH2S
−)、5.16(IH、d、6位CH)、5.72(I
H、q、7位CH)、9.斑(IH、d、一NHCO−
)参考例 5ジオキサン10奴に(Z)一Q一(1一t
ertープトキシカルボニル一1一メチルエトキシイミ
ノ)−Q−(2ートリチルアミノチアゾールー4−イル
)酢酸864の9(0.0015モル)、1−ヒドロキ
シベンゾトリアゾール204の9(0.0015モル)
、ジシクoへキシルカルボジイミド317の夕(0.0
015モル)を加え室温で一時間反応させる。
反応終了後析出したジシクロヘキシル尿素を炉遇して除
き、活性ェステルのジオキサン溶液を得る。一方、7ー
アミノ−3一[4ーカルボキシー3ーヒドロキシイソチ
アゾール−5ーイル)チオメチル]一△3−セフェム−
4ーカルボン酸389の9(0.001モル)をジメチ
ルスルホキシド4の‘に懸濁させ、トリェチルアミンを
390〃夕を加えて溶かす。この溶液に先の活性ェステ
ルを室温下で滴下して加える。室温で4時間反応させた
後ジオキサンを減圧留去して水20奴、飽和炭酸水素ナ
トリウム水2の‘を加えて、酢酸エチル20の‘で2回
洗浄し、水層を洲‐塩酸水でpHI〜1.5にして、メ
チルエチルケトン20の‘で抽出する。メチルエチルケ
トン液を飽和食塩水10叫で2回洗浄後無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥し、溶媒を減圧下留去して、固形物を得
る。固形物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
しクロロホルム−ィソプロパノールーギ酸(容量比:9
0:10:2)で溶出し、目的物を含むフラクションを
集め、溶出溶媒を減圧下に留去して残澄をエーテル一石
油エーテル(容量比1:1)にて粉末化して(Z)−3
−[(4−カルボキシ−3−ヒドロキシイソチアゾール
−5ーイル)チオメチル]一7一[Q−(2−トリチル
アミノチアゾール−4ーイル〉一Q−(1一tertー
ブトキシカルボニル一1−メチルエトキシイミノ)アセ
タミド]一△3 −セフェム−4ーカルボン酸148の
9を得る。赤外線吸収スペクトル;し麓支肌‐1:17
80、1710〜1720 1670、1500核磁気
共鳴スペクトル(ムーDMSO中)6(帆);1‐88
(母日、S、一CH3)、3‐64(2日、q、2位C
H2)、4.16(斑、q、一C比S−)、5.15(
IH、d、6位CH)、5.68(IH、q、7位 CH)、6.66(IH、s、 8.72(IH、 s、一NH)、9.26(IH、d、NHCO−)実施
例 2トリフルオロ酢酸6の‘、アニソール0.5泌を
氷水にて冷却し前記参考例5で得られた化合物555の
9を添加する。
15〜2000の間で1時間反応させた後水4の‘を加
えて更に1時間15〜20qoで反応させる。
反応終了後トリフルオロ酢酸、水、アニソ−ルを減圧下
に蟹去して、エタノールを加え再度エタノールを一部留
去して得たエタノール溶液にエーテル10の‘を加え粉
末化して(Z)−7一[Q−(2−アミノチアゾール−
4−イル)一Q−(1−力ルボキシー1−メチルエトキ
シイミノ)アセタミド]一3−[(4−力ルボキシ−3
ーヒドロキシイソチアゾールー5−イル)チオメチル]
一△8ーセフェム−4−カルボン酸360の9を得る。
.三…・赤外線吸収スペクトル:嫌袋仇‐1;177ム
1665核磁気共鳴スペクトル(キーDMSO中)6(
欄);1.46(細、s、CH3)、3.69(が、q
、2位CH2)、4.19(が、q、‐C比S−)、5
.21(IH、d、6位 CH)、5.86(IH、q、7位CH)、6.77(
IH、s、、9.43(IH、 d、NHCO) 参考例 6 (Z)一Q−(1一tert−ブトキシカルボニル−1
一メチルヱトキシイミノ)−Q−(2−トリチルァミノ
チァゾール−4ーイル)酢酸1.14夕(0.002モ
ル)、1ーヒドロキシベンゾトリアゾール0.27夕(
0.002モル)、ジシクロヘキシルカルポジイミド0
.41夕(0.002モル)をジオキサン10地中、室
温で1時間欄梓する。
反応液を炉遇し、ジシクロヘキシル尿素を除く。炉液を
参考例3で得られた7ーアミノー3一[(3ーアミノ−
4ーシアノイソチアゾールー5−イル)チオメチル]一
△3 −セフェム−4ーカルボン酸0.75夕(0.0
02モル)、炭酸水素ナトリウム0.24夕(0.00
28モル)及び水10の‘の濠液に滴下する。この溶液
に更にジオキサン10の‘、メチルエチルケトン10の
上を加え、室温で一夜櫨拝する。反応液を約20のとま
で減圧下濃縮し、水50の‘を加え不溶物を炉去する。
炉液に酢酸エチル100のとを積層させ、氷冷、縄梓下
、洲−塩酸でPH2に調整する。酢酸エチル層を分取し
、飽和食塩水100の‘で3回洗い、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧濃縮すると粗製の3一[(3ーアミ
ノー4ーシアノイソチアゾールー5−イル)チオメチル
]一7一[Q一(1一把rt−ブトキシカルボニルー1
一メチルエトキシイミノ)一Q一(2ートリチルアミノ
チアゾールー4ーイル)アセタミド]−△3ーセフエム
−4−カルボン酸の粉末0.8夕を得る。赤外線吸収ス
ベクトルレ機キ肌‐1:2205、1775、1720
、1680(i)で得られた化合物0.8夕をメチレン
クロリド10叫に溶解し、ジフェニルジアゾメタン0.
2夕を加え室温で3時間濃梓する。
反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフイー
に付し、ベンゼン一酢酸エチル(容量比85:15)で
溶出し目的物を含む画分を集め、濃縮して、(Z)‐3
−[(3−アミノー4−シアノイソチアゾール−5−イ
ル)チオメチル]−7−[Q一(1一tertーブトキ
シカルボニル一1−メチルエトキシイミノ)一Q一(2
ートリチルアミノチアゾールー4*ーイル)アセタミド
]一△3−セフエムー4ーカルボン酸ペンズヒドリルヱ
ステル200の9を得る。赤外線吸収スペクトルぷ鼓伽
‐1:2205、1785、172い1685核磁気共
鳴スペクトル(CDC13一CD30D中)6(脚);
1.35(班、s)、1.60(細、s)、3.43(
が、q)、4.95(IH、d)、5.85(IH、d
)、6.70(IH、s)、6.85(IH、s)実施
例 3 参考例6(ii)で得られた化合物200の9に氷冷下
、アニソール1の‘、トリフルオロ酢酸1泌を加え、室
温で1時間燈梓する。
反応液を減圧濃縮し、残澄をエーテルで処理し、得られ
た粉末を炉取し乾燥する。得られた粉末を氷冷下トリフ
ルオロ酢酸1.肌‘‘こ溶解し、水0.5Mを加えて1
時間燈梓する。反応液を減圧下濃縮し、エーテルで処理
すると粉末となる。その粉末を炉取し、ェ−テルで洗浄
した後、減圧下乾燥すると(Z)一3一[(3ーアミノ
ー4−シアノイソチアゾール−5ーイル)チオメチル]
一7一[Q−(2ーアミノチアゾールー4ーイル)−Q
一(1−カルボキシー1一メチルエトキシイミノ)アセ
タミド]一△3−セフェムー4ーカルボン酸30の9を
得る。赤外線吸収スペクトル〃総支肌‐1:2205、
1770、1670、1620核磁気共鳴スペクトル(
ムーDMSO中)8(跡);1.44(細、s)、4.
25(2日、d)、5.18(IH、d)、5.82(
IH、q)、6.71(IH、s)、9.33(IH、
d)参考例 7(Z)一Q一(にrtーブトキシカルポ
ニルメトキシイミノ)一ば一(2ートリチルアミノチア
ゾールー4ーィル)酢酸1.23夕を15.8舷とのジ
オキサンに溶解し、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール
305の夕を加え、ついでジシクロヘキシルカルボジィ
ミド510の9を加える。
反応液を1時間室温で蝿拝した後、析出したジシクロヘ
キシル尿素を炉遇して除き、活性ェステルのジオキサン
溶液を得る。一方、7−アミノ−3一[(4ーカルボキ
シー3−ヒドロキシイソチアゾールー5ーイル)チオメ
チル]−△3−セフェムー4ーカルボン酸580の9を
水7.5の‘に懸濁させ、炭酸水素ナトリウム252の
9を少しずつ加えて溶かす。この溶液に、活性ェステル
のジオキサン溶液を10〜lyoで加えて反応させる。
反応液にメチルエチルケトン9の‘を加えた後、5時間
室温で蝉拝する。反応液より析出物を炉去し、炉液を減
圧濃縮する。残澄に酢酸エチル40の‘と水20泌の飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液3泌を加えて、分液し、水
層をIN−塩酸でPHI〜2とし、メチルエチルケトン
40私で抽出する。メチルエチルケトン液を飽和食塩水
20の‘で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、メチ
ルエチルケトン溶液を減圧下に濃縮する。残簿をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付しクロロホルム−ィ
ソプロパノールーギ酸(容量比90:10:0.2)で
綾出し、目的物を含むフラクションを集め、熔出港媒を
減圧蟹去して(Z)−7一[Q−(tem−ブトキシカ
ルボニルメトキシイミノ)−Q−(2−トリチルアミノ
チアゾール−4−イル)アセタミド]−3−[(4−力
ルボキシー3ーヒドロキシイソチアゾール−5−イル)
チオメチル]−△3−セフェム−4−カルボン酸170
の9を得る。赤外線吸収スベクトルレ益累加−1;17
80核磁気共鳴スペクトル(広DMSO中)6(脚);
1.42(風、s、 )、 4.5o(沢、S・ )、5.13(IH、 d、 )、 5.69(IH、 )、 6.72(IH、s、 実施例 4 参考例7で得られた化合物170の9に、氷冷下トリフ
ルオロ酢酸4の‘を加えた後、外浴を180ooに保ち
1時間燈梓する。
ついで反応液に氷冷下、水2の‘を加えた後、反応液を
外浴18qCでさらに1時間櫨拝し、減圧下に濃縮する
。得られた残澄にエタノール10泌を加え再度減圧濃縮
する。残澄にエタノール0.5地を加えてアメ状にし、
エーテル30の‘を加え粉末化して、(Z)一7−[Q
−(2−アミノチアゾール−4ーイル)−Q一(カルボ
キシメトキシイミノ)アセタミド]一3−[4−力ルボ
キシー3ーヒドロキシイソチアゾール−5−イル)チオ
メチル]一△3−セフエムー4−力ルボン酸100の9
を得る。赤外線吸収スペクトル〃帯群肌‐1;1760
核磁気共鳴スペクトル(&−DMSO中)6(脚):3
.64(幻、q、 )、4.16(が、 4.57(2日、s、 )、 5.17(IH、d、 )、5.78(IH、 q、 6.76(IH、s、 参考例 8 (Z)−Q−(力ルバモイルメトキシイミノ)一ば−(
2−トリチルアミノチアゾール−4ーイル)酢酸1.0
8夕をジメチルホルムアミド15羽に溶解し、1−ヒド
ロキシベンゾトリアゾール319の9を加え、ついでジ
シクロヘキシルカルボジイミド550の9を加えて1時
間室温で凝拝する。
反応液より析出したジシクロヘキシル尿素を炉過して除
き、活性ェステルのジメチルホルムアミド溶液を得る。
一方、7ーアミノー3−[(4−カルボキシー3−ヒド
ロキシイソチアゾール−5−イル)チオメチル]−△3
−セフヱムー4ーカルボン酸580側を水7.5の上
に懸濁させ、炭酸水素ナトリウム252雌を少しずつ加
えて溶かす。
この溶液に、活性ェステルのジメチルホルムアミド溶液
を10〜lyCで加え、ついで室温で4時間灘拝する。
反応液に水70汎‘、酢酸エチル50の‘を加え、分液
し、水層をIN−塩酸でpHI〜2に調整し、メチルエ
チルケトン100の上で抽出する。メチルエチルケトン
溶液を飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下濃縮する。残澄をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、最初クロロホルムで溶出し、ついで
クロロホルム−ィソプロパノールーギ酸(容量比95:
5:0.2)で溶出し目的物を含むフラクションを集め
、溶出溶媒を減圧下に留去して(Z)−7−[Q−(カ
ルバモイルメトキシイミノ)一は一(2ートリチルアミ
ノチアゾールー4−イル)アセタミド]一3一[(4ー
カルポキシー3ーヒドロキシイソチアゾール−5ーイル
)チオメチル]−△3ーセフエムー4ーカルボン酸70
の9を得る。赤外線吸収スペクトル〃帯製cの−1;1
768核磁気共鳴スペクトル(ムーDMSO中)6(脚
);4.38(2日、S、 5.72(IH、q、 )、5.15(IH、 d、 6.78(IH、s、 実施例 5 参考例8で得られた化合物70雌を氷冷下トリフルオロ
酢酸4叫に溶解させた後、水2泌を加えて外温18oo
で1時間櫨拝する。
反応液を減圧下濃縮し、得られた残溝にエタノール5の
‘を加え、再度減圧下に濃縮する。残澄をエタノール0
.2の‘を加えてアメ状にし、エーテル20の‘を加え
、粉末化して、(Z)一7一[Q−(2ーアミノチアゾ
ール−4ーイル)−Q−(力ルバモイルメトキシイミノ
)アセタミド]一3一[4−力ルボキシ−3ーヒドロキ
シイソチアゾールー5ーイル)チオメチル]−△3−セ
フェム−4−カルボン酸40の9を得る。赤外線吸収ス
ベクトルレ益鴎肌‐1;1755核磁気共鳴スペクトル
(ムーDMSO中)8(脚);3.65(2日、q、 )、4,16(が、 4.41(2日、s、 5.16(IH、d、 )、5.82(IH、 406.79(IH、s、 参考例 9 3ーアミノ−4ーカルボキシ−5ーエチルチオィソチア
ゾール1.2夕(0.006モル)を液体アンモニア2
0の‘に加え、一60午0以下で金属ナトリウム450
の9を加える。
液体アンモニアを蟹去後、減圧乾燥し、残湾に水40泌
を加えて溶解し、7ーアミノ−3−ヨードメチル−△3
−セフエムー4ーカルボン酸1.2夕(0.0035モ
ル)を加え室温で3時間蝿拝する。反応液をパーラィト
炉遇し、不溶物を除き、炉液を氷冷下が−塩酸で舟2に
調整する。析出物を炉取し、水洗後、減圧乾燥すると粗
製の7−アミノー3−[(3ーアミノ−4−力ルボキシ
イソチアゾールー5ーイル)チオメチル]‐△3−セフ
ェム−4ーカルボン酸1.4夕を得る。
精製したものの物性は以下の通りである。赤外線吸収ス
ベクトルレ総支仇‐1:1760、1750、1605
参考例 10 (Z)−Q一(1−tenーブトキシカルボニル−1−
メチルエトキシイミノ)一Q一(2ートリチルアミノチ
アゾール−4ーィル)酢酸1.7夕(0.003モル)
、1ーヒドロキシベンゾトリアゾ−ルo.4夕(0.0
03モル)及びジシクロヘキシルカルボジイミド0.6
2夕(0.003モル)をジオキサン15の‘中、室温
で、1時間蝿拝する。
反応液を炉遇し、ジシクoヘキシル尿素を除く。炉液を
参考例9で得られた7ーアミノー3一[(3−アミノー
4−カルボキシイソチアゾール−5ーイル)チオメチル
]−△3ーセフェム−4−カルボン酸1.16夕(0.
003モル)、炭酸水素ナトリウム0.35夕(0.0
042モル)及び水15Mの混液に滴下する。この溶液
に更にジオキサン15叫を加え、室温で一夜損拝する。
反応液に水50の‘を加え、不溶物を炉去する。炉液に
酢酸エチル100の‘を積層させ、氷冷蝿投下2N−塩
酸でpH2に調整する。酢酸エチル層で分取し、水、各
100の【で3回洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥後
、減圧下濃縮すると粗製の3−[(3ーアミノ−4ーカ
ルボキシイソチアゾール−5ーイル)チオメチル]一7
−[Q−(1一把rt−ブトキシカルボニルー1一メチ
ルエトキシイミノ)一Q一(2ートリチルアミノチアゾ
ールー4ーイル)アセタミド]−△3ーセフエム−4ー
カルボン酸の粉末0.6夕を得る。赤外線吸収スペクト
ル布設cm‐1;1775、1720、1675上記(
i)で得られた化合物0.6夕をメチレンクロリド10
の‘に熔解しジフェニルジアゾメタン0.2夕を加え室
温で3時間蝿拝する。
反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフイー
に付し、ベンゼン−酢酸エチル(容量比9:1)で溶出
し目的物を含む画分を集め濃縮して、(Z)一3一[(
3−アミノ−4−ジフエニルメトキシカルボニルイソチ
アゾールー5−イル)チオメチル]−7−[Q−(1一
にrt−ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシイミ
ノ)−Q−(2ートリチルアミノチアゾール−4−イル
)アセタミド]−△3ーセフェム−4−カルボン酸ペン
ズヒドリルェステル120の9を得る。赤外線吸収スペ
クトルぷ最肌‐1;1775、1715、1680核磁
気共鳴スペクトル(CDC13一CD30D中)6(胸
):1.35(畑、s)、1.60(細、s)、3.3
5(2日、q)、4.95(IH、d)、5.85(I
H「 d)、6.25(IH、s)、6.75(2日、
s)実施例 6 上記参考例10(ll)で得られた化合物120の9に
氷冷下、アニソール0.5の‘、トリフルオロ酢酸1汎
‘を加え、室温で2時間燈洋する。
反応液を氷冷し、水0.4の‘を加え、更に2時間蝿拝
する。反応液を減圧下濃縮し、エーテルで処理すると粉
末となる。その粉末を炉取し、エーテルで洗浄後減圧下
乾燥して、(Z)−3一[(3ーアミノー4ーカルボキ
シイソチアゾール−5ーイル)チオメチル]一7−[Q
−(2−アミノチアゾールー4一イル)一Q−(1−力
ルボキシー1一メチルエトキシイミノ)アセタミド]−
△3ーセフエムー4ーカルボン酸50の9を得る。赤外
線吸収スベクトルレ器影弧‐1;1770、1670核
磁気共鳴スペクトル(ムーDMSO中)6(脚);1.
44(紺、s)、5.18(IH、d)、5.84(I
H、q)、6.72(IH、s)、9.34(IH、d
)参考例 li ジメルカプトメチレンプロパンジニトリルジナトリウム
塩3.48夕(0.019モル)を氷水45肌に溶解し
0〜8℃で30%過酸化水素水3羽を滴下する。
滴下終了後更に室温で3時間櫨拝した後7−アミノー3
ーヨードメチルー△3ーセフエム−4−カルボン酸6.
46夕(0.019モル)及び炭酸水素ナトリウム1.
6夕を加え室温で3時間縄拝する。反応液を氷袷下、2
N−塩酸でpH2.5に調整し、析出する固体を炉取し
、水洗後、減圧乾燥すると粗製の7−アミノ−3−[(
4−シアノ−3−ヒドロキシイソチアゾール−5ーイル
)チオメチル]−△3 −セフヱムー4ーカルボン酸4
.1夕を得る。精製したものの物性は以下の通りである
赤外線吸収スベクトルレ総支弧‐1:2205、178
0、1610核磁気共鳴スペクトル(D20十NaHC
03中)6(脚);3.58(2日、q)、4.14(
2日、q)、5.05(IH、d)、5.42(IH、
d)参考例 12(Z)−QーメトキシイミノーQ一(
2ートリチルアミノチアゾール−4−ィル)酢酸1.3
3夕(0.003モル)、1−ヒドロキシベンゾトリア
ゾール0.49(0.003モル)及びジシクoへキシ
ルカルボジイミド0.62夕(0.003モル)をジオ
キサン中室温で1時間額杵する。
反応液を炉遇し、ジシクロヘキシル尿素を除く。炉液を
7ーアミノー3一[(4−ンアノ−3−ヒドロキシイソ
チアゾールー5−イル)チオメチル]−△3ーセフエム
ー4−カルボン酸1.1夕(0.003モル)、炭酸水
素ナトリウム0.35夕(0.0042モル)及び水1
5私の混液に滴下する。この溶液に更にジオキサン10
の上を加え、室温で4時間魔杵する。反応液に水40の
‘を加え、不溶物を炉去し、炉液に酢酸エチル100m
‘を積層させ、氷冷、鷹枠下州−塩酸でPH2に調整し
た。酢酸エチル層を分取し、水各100の‘で洗い、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮すると3一[
(4−シアノ−3−ヒドロキシィソチアゾール−5−イ
ル)チオメチル]一7−[Q−メトキシイミノ−Q−(
2ートリチルアミノチアゾール−4−イル)アセタミド
]−△3−セフェムー4−カルボン酸1.3夕を得る。
赤外線吸収スペクトル淋袋弧‐1;2205、1775
、1720、1670(i)で得られた化合物1.3夕
をメチレンクロリド3助けこ溶解し、顔粋下ジフェニル
ジアゾメタン400雌を加え1時間室温で反応させる。
反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、ベンゼン一酢酸エチル(容量比9:1)で溶出
し、目的物を含む画分を集め、濃縮すると3一[(4−
シアノー3ーヒドロキシイソチアゾールー5ーイル)チ
オメチル]一7一[Q−メトキシイミノーQ−(2ート
リチルアミノチアゾール−4ーイル)アセタミド「一△
3−セフヱムー4−カルボン酸ペンズヒドリルェステル
490のoを得る。赤外線吸収スペクトル〃総支肌‐1
:2210、1775、172Q 1675核磁気共鳴
スペクトル(CDC13一CD30D中)8(胸):3
.40(餌、q)、4.00(斑、s)、4.95(I
H、d)、5.85(IH、d)、6.65(IH、s
)、6.90(IH、s)実施例 7参考例12皿で得
られた化合物480の9に氷冷下、アニソール1の【及
びトリフルオロ酢酸2の‘を加え1時間燈拝した後、水
0.7の‘を加え更に1.虫時間燈梓する。
反応液を減圧下濃縮し、エーテルで処理すると粉末とな
る。その粉末を炉取し、エーテルで洗い、減圧下乾燥す
ると(Z)−7一[Q−(2ーアミノチアゾール−4ー
イル)−Q−メトキシイミノ)アセタミド]一3−[(
4−シアノー3−ヒドロキシイソチアゾール−5ーイル
)チオメチル]−△3ーセフェムー4−カルボン酸21
0雌を得る。赤外線吸収スベクトルレ帯鼓弧‐1:松1
以1775核磁気共鳴スペクトル(ムーDMSO中)6
(肌);3.66(が、q)、3.乳(洲「 s)、4
.30(班、q)、5.14(IH、d)、5.74(
IH、q)、6.72(IH、s)、9.56(IH、
d)参考例 13 DL−2ーメチル酪酸46.4夕に臭素89夕(28.
8の‘)を室温で滴下し、次いで三臭化燐1の‘を加え
る。
80〜90午0に加熱する。
この時臭化水素が発生する。約3時間で臭素の色もなく
なり臭化水素の発生も止まる。室温に冷して氷−水20
0地中に分散する。
次いでエーテル100M、2回で抽出する。エーテル液
を合せて、氷50の‘で2回、飽和食塩水50の‘で1
回洗浄する。エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、エーテルを留去してオイル82夕を得る。赤外線吸
収スペクトル〃申鱗伽‐1:2970、1700、14
50、1270核磁気共鳴スペクトル(CDC13中) 6(柳);1.02(細、t、CH3−)、1.85(
斑、s、CH3‐)、2.17(が、、一C比一 1
0.32 1日 s 一Cの迎 イソブテン約40の‘を取り、2ーフロモ−2ーメチル
酪酸40夕、濃硫酸1の‘、乾燥エチルエーテル20叫
を封管中で室温一夜反応させる。
反応終了後氷水150叫、炭酸水素ナトリウム10タ中
に分散させ、エーテル200叫、次いで100の【で抽
出する。有機層を集め、水50叫で二回、飽和食塩水5
0の‘で一回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。エーテルを留去してteれーブチル2−ブロモ一
2−メチルブチレートを3筋タ得た。赤外線吸収スベク
トルレ総蔓肌‐1;2970、2920、1725 1
36止 1140845核磁気共鳴スペクトル(CDC
13中) 6(胸);0,班(犯、t、CH3‐)、1.45(畑
、s、t‐Bu)、1.80(粗、s、CH3−)、2
.07(2日、q、一C協一) (Z)一2一(2ートリチルアミノチアゾール−4−ィ
ル)−2一[(ヒドロキシ)イミノ]酢酸エチル塩酸塩
22.43夕(45.45ミリモル)をジメチルスルホ
キシド150の【に溶解し粉末炭酸カリウム9.19(
65ミリモル)を加え3粉ふ間室温で反応させる。
反応終了後、teれーブチル2ーブロモー2−メチルブ
チレート12.8夕(54ミリモル)を加え室温にて一
夜反応させる。反応終了後氷水400肌に分散して酢酸
エチル200の‘、次いで100凧‘で2回抽出する。
有機層を集め水50の‘で2回、次いで飽和食塩水50
の【で洗浄する。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥後溶媒を減圧留去して得たカラメルをシリカゲル
カラムクロマトグラフイーに付しn−へキサン−酢酸エ
チル(容積比3:1)で流出し目的物を含むフラクショ
ンを集め溶媒を蟹去して得たカラメルをエーテル−nー
ヘキサンで結晶化させ、エチル(Z)−2一(1−企r
tーブトキシカルボニル一1−メチルプロポキシイミノ
)−2−(2一トリチルアミノチアゾ−ルー4ーィル)
アセテート9.04夕を得た。mP122〜122.5
つ0赤外線吸収スベクトルレ総支弧‐1:3260、2
960、1730、1530、151ふ1290、11
30、960、695核磁気共鳴スペクトル(CDC1
3中〉6(脚);0.88(斑、t、CH3‐)、1.
33(9日、t、CH3一)、1‐40(割日、s、t
−Bu)、1.47(3日、s、CH3−)、1.84
(2日、q、一CH2−)、4.36(2日、q、一C
H2−)、6.61(IH、S・Lに■ 日 )、6.69(IH、 s、‐NH−)、7.1〜7.3(1班、30)(iV
)上記化合物9夕をメタノール495の‘に溶解させ、
次いで水55のとに炭酸カリウム4.5夕を溶かした液
を加えて50〜5100で一夜反応させる。
反応終了後メタノールを蟹去して得た水溶液に水50の
‘、州−塩酸25の【を加えて酢酸エチル200地、次
いで100奴で抽出する。有機層を集め最初水50の‘
で2回次いで飽和食塩水50の【で洗浄する。酢酸エチ
ル層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、酢酸エチルを
減圧下に留去して得たカラメルをクロロホルム−ィソプ
ロパノールーギ酸(容積比90:10:2)で流出し目
的物を含むフラクションを集め、溶媒を蟹去して、(Z
)−2−(1−ten−ブトキシカルボニルー1−メチ
ルプロポキシイミノ)−2一(2ートリチルアミノチア
ゾールー4ーイル)酢酸を6.16タ得た。mp 16
3〜164qo 赤外線吸収スベクトルレ麓支狐‐1:3230、296
0、17151530、1440、1365、1250
、1125、970、75止 935 695核磁気共
鳴スペクトル(キーDMSO中)6(肌);0.78(
3日、t、CH3一)、1.31(斑、s、CH3‐)
、1.33(班、s、t‐Bu)、1.67(犯、q、
‐ C比−)、6.74(IH、t、 7.4(19日、3つ)、8.72(IH、一NH−)
参考例 14ジオキサン46の乙に(Z)一2−(1一
tert−ブトキシカルポニル−1ーメチルプロポキシ
イミノ)一2一(2ートリチルアミノチアゾールー4−
ィル)酢酸4.粥夕(8ミリモル)、1ーヒドロキシベ
ンゾトリアゾール1.1夕(8.15ミリモル)、及び
ジシクロヘキシルカルボジイミド2夕(9.7ミリモル
)を加えて、室温で1時間反応させる。
反応終了後、析出するジシクロヘキシル尿素を炉去して
、活性ェステルのジオキサン溶液を得る。一方、7−ア
ミノ−3−[(4−カルボキシ−3−ヒドロキシイソチ
アゾールー5−イル)チオメチル]−△3ーセフェムー
4−カルボン酸3夕(7.7ミリモル)を水30の【‘
こ懸濁し、炭酸水素ナトリウム650の9を少しずつ加
えて溶かす。得られた褐色透明液に、先の活性ェステル
ージオキサン溶液を滴下して加え、室温で一夜反応させ
る。反応液を減圧下留去してジオキサンを除き、得られ
た残燈に水50の‘、飽和炭酸水素ナトリウム溶液20
の上を加え酢酸エチル100柵、50の‘で各一回抽出
、洗浄する。得られた水層に2N−塩酸30の‘を加え
、次いでメチルエチルケトン100机‘、次いで50の
【を加えて抽出する。この間に析出する未反応の原料は
炉遇して除く。メチルエチルケトン抽出液を水50の上
で二回、次いで飽和食塩水50秋で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後減圧下にメチルエチルケトンを留去
してカラメルを得る。このカラメルをシリカゲルカラム
クロマトグラフイーに付し、クロロホルム−イソプロパ
ノールーギ酸(容積比90:10:2)で溶出し、目的
物を含むフラクションを集め溶媒を蟹去し、エーテルで
粉末化して、(Z)−3一[(4−力ルボキシ−3−ヒ
ドロキシイソチアゾールー5ーイル)チオメチル]−7
一[Q一(1一にrtーブトキシカルボニル−1−メチ
ルプロポキシイミノ)アセタミド]一A8 −セフェム
−4−カルボン酸950の9を得た。赤外線吸収スベク
トルし糠安肌‐1;3300〜3350、3200〜3
240、290い178以1710、1590、148
5、1440、136ふ1250、113u 99う
750 695核磁気共鳴スペクトル(ムーDMSO中
)8(胸);0.84(9日、t、CH3一)、1.2
2(9日、s、CH3‐)、1.39(岬、s、t‐B
u)、1.71(が、q、− C比−)、4.16(2日、q、3位 C比)、5.13(IH、d、6位CH)、5.71(
IH、q、7位CH)、6.64(IH、S・)、7.
1〜 7.4(1粥、30)、8.32(IH、s、−NH−
)、9.27(IH、d、一CONH−)実施例 8 トリフルオロ酢酸10の【及びアニソール0.5の‘に
前記参考例14で得られた化合物465腿を加えて1〜
2100にて一時間反応させる。
反応終了後、トljフルオロ酢酸を減圧下に留去して得
られたオイルをエーテルで粉末化する。炉取した粉末を
トリフルオロ酢酸10肌に20qo以下で加え、更に水
5のとを2000以下で加えて1時間19〜2roで反
応させる。反応終了後トリフルオロ酢酸、水を減圧下に
蟹去して得た残留物にエタノール10の‘を加えて均一
化して、エタノールを一都留去したオイルにエチルエー
テルを加えて粉末化して(Z)−7−[Q−(2ーアミ
ノチアゾール−4ーイル)一Q−(1ーカルポキシ−1
−メチルプロポキシイミノ)アセタミド1−3−[(4
−力ルボキシー3ーヒドロキシイソチアゾールー5ーイ
ル)チオメチル]−△3 −セフェム−4−カルボン酸
330雌を得た。赤外線吸収スペクトル松裏地‐1;3
300〜3400、17701620、1120、10
00、790、720核磁気共鳴スペクトル(ムーDM
SO中)6(脚);0.86(乳日、t、CH3−)、
1.38、1.41(知日、各々s、CH3−)、1.
82(2日、q、‐CH2−)、3.68(犯、q、2
位CH2一)、4.18(2日、q、−CH2−S−)
、5.18(IH、d、6位CH)、5.7〜5.9(
IH、7位CH)、6.71(IH、s、)、7.28
(IH、一 NH−)、9.36(IH、d、一CONH−)参考例
15参考例13(ii)と同様にして、tertープ
チルQーブロモーイソバレレートを製造した。
赤外線吸収スペクトル〃帯叢肌‐1;2970、173
0、13651135核磁気共鳴スペクトル(広−DM
SO中)6(跡);1.00(級、d、CH3‐)、1
.05(犯、d、CH3‐)、1.45(班、s、t−
Bu)、1.6〜2.6 ■ くIH、m、 −CH )、 3.88(IH、d、 ) 参考例13(iiDと同様にして、エチル(Z)−2−
(1一にrt−ブトキシカルボニルイソブチルオキシイ
ミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4ーィ
ル)アセテートを得た。
mpl09〜11000 赤外線吸収スペクトル〃鰭支肌‐1:3250、296
0、1730、1330、1290、1180、102
0、695核磁気共鳴スペクトル(CDC13中)6(
肌);0.99(班、t、CH3‐)、1.32(祖、
d、CH3‐)、1.45(12日、s、t−Bu、C
瓜−)、2.0〜2.4(1日、m、 )、4.38(が、q・一 CQ−)、4.56(IH、d、 )、6.54(IH、s、 )、6.91(IH、 s、‐NH−)、7.1〜7.5(1班、3J)上記i
lの目的物質6.13夕(0.01モル)をメタノール
343の‘に溶解させて次いで水38私に炭酸カリウム
3.17夕(0.0225モル)を溶かした液を加え加
熱し還流下4時間反応させる。
反応終了後メタノールを蟹去して得た水溶液に水100
の‘、洲−塩酸50の‘を加え酢酸エチル200机上、
次いでl00の‘で抽出する。有機層を集め最初水50
叫で2回次いで飽和食塩水50机で洗浄する。有機層を
無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、酢酸エチルを減圧下
に蟹去して得たカラメルにエーテル50の‘、次いでn
−へキサン100の‘で粉末化すれば2一(1一ter
tーブトキシカルボニルインブチルオキシイミノ)一2
一(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)酢酸を
4.37タ得る。赤外線吸収スペクトル〃麓ま肌‐1;
3380、3230、2960、1735、1695
1530、1155、1135、1030、690核磁
気共鳴スペクトル(ち−DMSO中)6(脚):0.9
2(細、d、CH3‐)、1.40(班、s、t−Bu
)、1.8〜2.2(IH、m、 >、 4.17(IH、d、 )、 6.82(IH、s、 )、7‐1〜 7.3(19日、3◇)、8.78(IH、s、一NH
−)参考例 16参考例14と同様にして、3−[(4
−カルボキシ−3−ヒドロキシイソチアゾール−5ーイ
ル)チオメチル]−7−[Q−(1−ten−ブトキシ
カルボニルイソブチルオキシイミノ)−Q−(2ートリ
チルアミノチアゾール−4ーイル)アセタミド]−△3
−セフェム−4−カルボン酸を得た。
赤外線吸収スペクトル〃総キcの‐1;3440〜34
80、2950、1775、1710、1670、14
80〜1520、1360、1150、690核磁気共
鳴スペクトル(ムーDMSO中)6(脚);0.94(
細、d、CH3‐)、1.40,(帆、s、t‐Bu)
、3.64(2日、q、2位CH2)、4.14(2日
、q、一CH2−)、5.15(IH、d、6位CH)
、5.6〜5.8(IH、7位CH)、6.67、6.
70(IH、各々s、 )、7.1〜 7.5(1胡、30)、8,76(IH、−NH−)、
9.40(IH、一CONH−)実施例 9 実施例8と同様に処理して(Z)−7一[Q−(2ーア
ミノチアゾール−4−イル)一Q一(1−力ルボキシイ
ソブチルオキシイミノ)アセタミド]−3−[(4−力
ルボキシ−3ーヒドロキシイソチアゾールー5−イル)
チオメチル]−△3ーセフェムー4−カルボン酸を得た
赤外線吸収スペクトル松謙抑‐1;3300〜3370
、29601770、1690〜17201670、1
6251020核磁気共鳴スペクトル(4一DMSO中
)6(肌);0.95(斑、d、CH3‐)、3.66
(が、q、2位CH2)、4.19(が、q、一CH2
−)、5.19(IH、d、6位CH)、5.粥〜5.
9(IH、7位CH)、6.72、6.76(IH、各
々s、 ※)、9.41、9.50(IH、各々d、一
CONH−)参考例 17 参考例13(ii)と同様にしてteれ−ブチルQ−フ
ロモプロピオネートを得た。
赤外線吸収スベクトルレ給学肌−1;2960、173
0、1365、1230、1145、840核磁気共鳴
スペクトル(CDC13中) 6(脚);1.48(班、s、tBu)、1.77(細
、d、CH3−)、4.28(IH、q、一日小) 参考例13(iii)と同様にしてエチル(Z)−2−
(1一tert−ブトキシカルボニルエトキシイミノ)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−ィル)ア
セテートを得た。
mP 58〜590○ 赤外線吸収スベクトルリ総キ伽‐1;3330〜338
0、2970、1730、152う 12701180
、1155、1030、97u 690核磁気共鳴スペ
クトル(CDC13中) 6(胸);1.36(細、t、CH3‐)、1.25(
班、s、田u)、1.57(斑、d、CH3‐)、4.
斑(が、q、‐CH2 −)、4.80(IH、q、 )、6.52(IH、s、 )、6.88(IH「 s、一NH−)、7.1〜7.5(19日、s、30)
参考例13Mと同様にして2一(1−teれ−プトキシ
カルボニルエトキシイミノ)一2一(2ートリチルアミ
ノチアゾール−4−ィル)酢酸を得た。
赤外線吸収スベクトルレ帯享支肌‐1:3250、29
60、1710、1530、12451155103与
835 690核磁気共鳴スペクトル(ムーDMSO
中)6(胸);1.33(祖、d、CH3‐)、1.3
8(岬、s、t‐Bu)、4.52(IH、q、 )、 6.80(IH、s、 )、7.1〜 7.5(1班、3J)、8.76(IH、s、‐NH−
)参考例 18参考例14と同様にして、(Z)−3一
[(4−カルボキシ−3−ヒドロキシイソチアゾール−
5−イル)チオメチル]−7−[Q−(1−tertー
ブトキシカルボニルエトキシイミノ)−Q−(2−トリ
チルアミノチアゾール−4−イル)アセタミド]−△3
−セフヱムー4ーカルボン酸を得た。
赤外線吸収スペクトル淋群弧‐1;2920、1780
、1720、1670、1520、1440、1360
、1150、750、690核磁気共鳴スペクトル(4
−DMSO中)6(肌);1.27(3日、d、CH3
−)、1.39(班、s、t‐Bu)、3.63(2日
、q、2位CH2)、4.18(犯、q、‐CH2一)
、 4.49(IH、q、 CH )、 5.15(IH、d、6位CH)、5.64〜5.80
(IH、7位CH)、6.72(IH、)、7.1〜7
.5 (1班、30)、8.80(IH、s、‐NH‐)、9
.389.41(IH、各d、一CONH−)実施例
10実施例8と同様にして(Z)一7−[Q−(2−ア
ミノチアゾール−4ーイル)−Q一(1−カルボキシエ
トキシイミノ)アセタミド]一3−[(4−カルボキシ
ー3ーヒドロキシイソチアゾール−5ーイル)チオメチ
ル]一△3ーセフエム−4ーカルボン酸を得た。
赤外線吸収スペクトル〃総支伽‐1;2900〜330
0、1760、1690〜1720、1670、162
0、1185、1130、1030核磁気共鳴スペクト
ル(公一DMSO中)6(柳);1.40(柵、d、C
H3‐)、3.69(2日、q、2位CH2)、4.2
0(2日、q、一CH2一)、4.66(IH、q、 )、 5.22(IH、d、6位CH)、5.835.89(
IH、各々d、7位CH)、6.796.80(IH、
各々s、9.48(IH、各々d、一CONH−)参考
例 19 ジメルカプトメチレンプロパンジニトリルジナトリゥム
塩3.48夕(0.019モル)を氷水45机に溶解し
0〜8℃で30%過酸化水素水3の‘を滴下する。
滴下終了後更に室温で3時間蝿拝した後7ーアミノ−3
−ヨードメチル−△3−セフエム−4−カルボン酸6.
46夕(0.019モル)および炭酸水素ナトリウム1
.6夕を加え室温で3時間燈梓する。
反応液を氷冷下、洲−塩酸で岬2.5に調整し、析出す
る固体を炉取し、水洗後、減圧乾燥すると粗製の7−ア
ミノー3一[(4−シアノー3ーヒドロキシイソチアゾ
ールー5ーイル)チオメチル]−△3 ーセフェムー4
ーカルボン酸4.1夕を得る。精製したものの物性は以
下の通りである。
赤外線吸収スペクトル淋薮伽‐1;2205、1780
、1610核磁気共鳴スペクトル(D20十NaHC0
3中)6(肌);3.58(2日、q)、4.14(2
日、q)、5.05(IH、d)、5.42(IH、d
)参考例 20(Z)一Q一(1一te比−ブトキシカ
ルポニル−1−メチルエトキシイミノ)−Q−(2−ト
リチルアミノチァゾール−4ーィル)酢酸1.7夕(0
.003モル)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール0
.4夕(0.003モル)およびジシクロヘキシルカル
ボジイミド0.62夕(0.003モル)をジオキサン
15の【中、室温で1時間蝿梓する。
反応液を炉過し、ジシクロヘキシル尿素を除く。炉液を
7−アミノ−3−[(4−シアノー3ーヒドロキシイソ
チアゾールー5ーイル)チオメチル]−△3−セフェム
ー4−カルボン酸1.1夕(0.003モル)、炭酸水
素ナトリウム1.0夕(0.012モル)および水15
の‘の濠液に滴下する。この濠液に更にジオキサン15
の‘を加え、室温で一夜灘拝する。反応液に水50の‘
を加え、不溶物を炉去する。炉液に酢酸エチル100の
‘を積層させ、氷冷下が‐塩酸でpH2に調整する。酢
酸エチル層を分取し、水各100の‘で3回洗い、無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮すると粗製の(
Z)−3−[(4ーシアノ−3ーヒドロキシイソチアゾ
ールー5−イル)チオメチル]一7−[Q−(1一te
nープトキシカルボニル−1−メチルエトキシイミノ)
一Q−(2−トリチルアミノチアゾール−4ーイル)ア
セタミド]−△3ーセフェムー4ーカルボン酸の粉末1
.2夕を得る。上記で得られた化合物1.2夕をメチレ
ンクロリド20舷に溶解しジフェニルジアゾメタン0.
2夕を加え室温で1時間縄拝する。
反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフイー
に付し、ベンゼン−酢酸エチル(容量比8:2)で溶出
し目的物を含む画分を集め濃縮して、(Z)−3−[(
4−シアノー3−ヒドロキシイソチアゾール−5ーイル
)チオメチル]一7一[Q−(1一把「t−ブトキシカ
ルボニル−1一メチルエトキシイミノ)一Q−(2ート
リチルアミノチアゾール−4−イル)アセタミド]一△
3−セフエムー4−カルボン酸ペンズヒドリルェステル
310夕を得る。赤外線吸収スペクトル〃鰭支仇‐1:
2210、1775、1710、1675核磁気共鳴ス
ペクトル(CDC13一CD30D中)6(脚);1.
38(QH、s)、1.58(印日、s)、3.47(
2日、q)、4.07(斑、q)、5.55(IH、d
)、5.90(IH、d)、6.70(IH、s)、6
.85(IH、s)実施例 11上記参考例20(ii
)で得られた化合物310のcに氷袷下アニソール0.
5叫、トリフルオロ酢酸1の上を加え、室温で30分間
燈梓する。
反応液を氷冷し、水0.3のを加え、更に2時間凝拝す
る。反応液を減圧濃縮し、エーテルで処理すると粉末に
なる。その粉末を炉取し、エーテルで洗浄後減圧下乾燥
して、(Z)一7−[Q−(2−アミノチアゾールー4
ーイル)一Q一(1ーカルボキシ−1−メチルエトキシ
イミノ)アセタミド]−3一[(4ーシアノー3ーヒド
ロキシイソチアゾール−5−イル)チオメチル]−△3
ーセフエム−4ーカルボン酸130瓜夕を得る。赤外線
吸収スペクトル〃鍵支伽‐1:2210、1770、1
670核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6)6(胸
);2.40(細、s)、3.66(が、q)、4.3
0(が、q)、5.18(IH、d)、5.82(IH
、q)、6.70(IH、s)、9.35(IH、d)
参考例 21 参考例13の(ii)と同様にしてQ−ブロモ−n−酪
酸25夕より上eれ−ブチルQーブロモブチレート29
夕を得た。
赤外線吸収スベクトルレ総蔓弧‐1;2960、172
5、1360、1140、840核磁気共鳴スペクトル
(CDC13中) 6(柳)::0.98(班、t、C比‐)、1.46(
班、s、tBu)、1.91(が、q、−C弦−)、4
.00(IH、t、) 参考例13(iii)と同様にしてエチル(Z)一2一
(1一にてt−プトキシカルボニルプロポキシイミ/)
一2一(2ートリチルアミノチアゾールー4−ィル)ア
セテートを得た。
赤外線吸収スペクトル淋まま仇‐1:3320〜337
0、296止1730、1525127ul180、1
150、1025、990690核磁気共鳴スペクトル
(CDC13中) 6(胸):0.96(斑、t、CH3‐)、1.35(
粗、t、CH3−)、1.44(畑、s、t−Bu)、
1.85(2日、m、−C比‐)、4.紙(滋、q、−
CH2 一)、 ■ 4.磯(IH、t、 −CH− )、 6.56(IH、s、 )、6.93(IH、 s、−NH−)、7.30(1斑、s、30)iij)
参考例13Mと同様にして(Z)−2一(1−にrt−
ブトキシカルボニルプoポキシイミノ)一2−(2−ト
リチルアミノチアゾール−4ーイル)酢酸を得た。
mP172〜30(分解) 赤外線吸収スベクトルレ機支の‐1;3250、296
0、171i 1530、1430、1355 124
5、1150、1130、990、840、690核磁
気共鳴スペクトル(キーDMSO中)6(脚);0.9
0(細、t、CH3‐)、1.40(畑、s、tBu)
、1.64(犯、q、‐CH2−)、4.42(IH、
s、f −CH )、6.84(IH、s、 )、7.1〜 7.5(1班、30)、8.81(IH、s、一NH一
)参考例 22参考例14と同様にして(Z)一3−[
(4ーカルボキシ−3ーヒドロキシイソチアゾールー5
−イル)チオメチル]一7一[Q−(1一にrt−ブト
キシカルボニルプロポキシイミノ)一Q一(2−トリチ
ルアミノチアゾール−4ーイル)アセタミド]−△3−
セフェムー4ーカルボン酸を得た。
赤外線吸収スペクトル〃麓支弧−1;3300、2班0
、17751715、167止161ふ1440、13
60、1240、1150995690核磁気共鳴スペ
クトル(ムーDMSO中)6(肌):0.96(乳日、
t、CH3一)、1.44(班、s、t‐Bu)、1.
70(が、q、‐CH2‐)、3.63(が、q、2位
C比)、 4.49(IH、t、 )、 5.20(IH、d、6位CH)、5.64〜5.80
(IH、7位CH)、6.746.78(IH、各s、
)、7.1〜7.5(1班、30) 実施例 12 実施例8と同様にして(Z)−7−[Q−(2−アミノ
チアゾール−4ーイル)−Q−(1−カルボキシプロポ
キシイミノ)アセタミド]一3一[(4−カルボキシー
3ーカルボキシイソチアゾールー5−イル)チオメチル
]−△3−セフエム−4ーカルボン酸を得た。
赤外線吸収スペクトル〃麓安肌‐1;3280〜337
0、1765、1660、1620、118ふ1000
、790、720核磁気共鳴スペクトル(ムーDMSO
中)6(脚);0.96(乳日、t、CH3−)、1.
81(犯、q、‐CH2‐)、3.磯(餌、q、2位C
H2)、4.22(沢、q、−.C比S−)、4.49
(IH、t、一CH一)、5.21(IH、d、6位C
H)、5.90(IH、q、7位CH)、6.76、6
.78(IH、各々s、)、9.40 9.48(IH、各々d、一CONH−)参考例 23 参考例13Mで得られた(Z)一2−(1一にrtーブ
トキシカルボニル一1−メチルプロポキシイミノ)−2
−(2−トリチルアミノチアゾール−4ーィル)酢酸5
.85夕(0.01モル)、1ーヒドロキシベンズトリ
アゾール1.35夕(0.01モル)、ジシクロヘキシ
ルカルポジイミド2.06夕(0.01モル)をジオキ
サン50の‘中、室温で1時間櫨拝する。
反応液を炉遇し、ジシクロヘキシル尿素を除〈。炉液を
参考例3ti)〜(ili)で得られた7−アミノ−3
−[(3−アミノ−4−シアノイソチアゾール−5−イ
ル)チオメチル]−△3−セフエムー4−カルボン酸3
.7夕(0.01モル)、炭酸水素ナトリウム1.68
夕(0.02モル)及び水50机‘の混液に滴下する。
この溶液を室温で一夜燭押した後、水100泌、酢酸エ
チル200のとを加え、氷冷、磯梓下、州−塩酸でPH
2に調整する。析出する不溶物を炉去し、酢酸エチル層
を分取し、飽和食塩水各50の‘毎で2度洗い、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。濃縮残燈をメ
チレンクロリド40の‘に溶解し、ジフェニルジアゾメ
タン1.0夕加え室温で1時間蝿拝する。反応液を濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフイーに付し、ベン
ゼン−酢酸エチル(容積比90:10)で溶出し、目的
物を含む画分を集め、濃縮して、(Z)−3−[(3ー
アミノ−4−シアノイソチアゾール一5−イル)チオメ
チル]一7一〔Q−(1一teれーブトキシカルボニル
−1−メチルプロポキシイミ汗/)−Q一(2−トリチ
ルアミノチアゾール−4−イル)アセタミド]−△3ー
セフエム−4ーカルボン酸ペンズヒドリルェステル90
0moを得る。赤外線吸収スペクトル〃総支弧‐1:2
205、1780、1720、1680核磁気共鳴スペ
クトル(CDC13中) 0.97(畑、t、−CH3)、1.43(班、s、t
‐Bu)、1.57、1.62(班、各々s、−CH3
)、1.弊(が、q、‐CH2‐)、3.54(が、q
、2位C舷)、4.07(が、q、3位C比)、5.0
3(IH、d、6位CH)、5.96(IH、d、q、
7位CH)、6.75(IH、s、)、 6.92(IH、s、 ) 実施施例 13 上記参考例23で得られた化合物900雌に氷冷下、ァ
ニソール0.5の上、トリフルオロ酢酸5の‘を加え、
室温で2時間蝿拝した後、水2の‘を加え、更に室温で
2時間蝿拝した。
反応液を減圧下濃縮し、残溝をェ−テルで処理し、得ら
れた粉末を炉敬し、エーテルで洗浄した後、減圧下乾燥
すると(Z)−3一[(3−アミノー4−シアノイソチ
アゾール−5−イル)チオメチル]−7一【Q−(2−
アミノチアゾールー4ーイル)−Q−(1ーカルボキシ
−1−メチルプロポキシイミノ)アセタミド]一△3−
セフェムー4ーカルポン酸250雌を得る。赤外線吸収
スベクトルレ益薮仇‐1;220ふ 1770核磁気共
鳴スペクトル(ムーDMSO中)6(胸);0.機(班
、t、‐Cは)、1.42、1.44(各々s、一CH
3)、1.舷(2日、q、−CH2−)、3.70(2
日、q、2位CH2)、4.32(2日、q、3位CH
2)、5.21(IH、d、6位CH)、5.斑(IH
、dd、7位CH)、67i6.77(IH、各々s、

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1はアミノ基を、R^2はカルボキシ基又は
    カルバモイル基で置換されていてもよい低級アルキル基
    を、R^3は式▲数式、化学式、表等があります▼ (式 中、Raはカルボキシ基又はシアノ基を、Rbは水酸基
    又はアミノ基を意味する)で示される基を意味し、波線
    の結合はアンチ(anti)形又はシン(syn)形の
    結合を表わす〕で示される新規なセフアロスポリン化合
    物又はその塩。
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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4616081A (en) * 1982-07-07 1986-10-07 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Cephalosporin compounds
DK96284A (da) * 1983-03-04 1984-09-05 Fujisawa Pharmaceutical Co Cephemderivater
JPS6041683A (ja) * 1983-07-06 1985-03-05 Asahi Chem Ind Co Ltd 経口用セフアロスボリン誘導体
DE3485860T2 (de) * 1983-12-29 1993-01-14 Mochida Pharm Co Ltd Cephalosporinverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und pharmazeutishe praeparate.
JPS60142987A (ja) * 1983-12-29 1985-07-29 Mochida Pharmaceut Co Ltd セフアロスポリン誘導体
US4695565A (en) * 1984-10-04 1987-09-22 Merck & Co., Inc. Antibacterial 7β-heterocyclic-cephem
EP0182633A3 (en) * 1984-11-20 1987-09-02 Ici Pharma Cephalosporin derivatives
EP0204781B1 (de) * 1984-11-23 1995-04-26 BIOCHEMIE Gesellschaft m.b.H. Verfahren zur herstellung bissilylierter 3-iodmethylcephalosporinderivaten
US4840945A (en) * 1985-04-01 1989-06-20 Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. Cephalosporin derivatives
US4749522A (en) * 1985-10-31 1988-06-07 Angio-Medical Corporation Supercritical fluid extraction of animal derived materials
GB8626245D0 (en) * 1985-11-27 1986-12-03 Ici Pharma Cephalosporin compounds
IL83993A0 (en) * 1986-09-26 1988-02-29 Glaxo Group Ltd Cephalosporins,their preparation and pharmaceutical compositions containing them
GB8623211D0 (en) * 1986-09-26 1986-10-29 Glaxo Group Ltd Chemical compounds
JPS63132893A (ja) * 1986-11-25 1988-06-04 Mochida Pharmaceut Co Ltd 新規セフアロスポリン誘導体、その製法およびそれらを有効成分とする抗菌剤
US4880798A (en) * 1986-11-25 1989-11-14 Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. Cephalosporin derivatives
GB8704621D0 (en) * 1987-02-27 1987-04-01 Glaxo Group Ltd Chemical compounds
JPH0320265A (ja) * 1989-02-10 1991-01-29 Meiji Seika Kaisha Ltd アミノチアゾール酢酸誘導体並びにその製造法
JPH11124384A (ja) * 1997-10-17 1999-05-11 Otsuka Chem Co Ltd 3−セフェム化合物の製造法
JP4616844B2 (ja) * 2003-12-23 2011-01-19 サンド・ゲーエムベーハー セファロスポリン合成に使用するための中間体の生成プロセス
EP2862569A1 (en) 2011-09-09 2015-04-22 Cubist Pharmaceuticals, Inc. Methods for treating intrapulmonary infections
US8809314B1 (en) 2012-09-07 2014-08-19 Cubist Pharmacueticals, Inc. Cephalosporin compound
US8476425B1 (en) 2012-09-27 2013-07-02 Cubist Pharmaceuticals, Inc. Tazobactam arginine compositions
JP2014165096A (ja) * 2013-02-27 2014-09-08 Nippon Zeon Co Ltd リチウムイオン二次電池耐熱層用スラリーの製造方法及びリチウムイオン二次電池用電極の製造方法
US9872906B2 (en) 2013-03-15 2018-01-23 Merck Sharp & Dohme Corp. Ceftolozane antibiotic compositions
KR102329764B1 (ko) 2013-03-15 2021-11-23 머크 샤프 앤드 돔 코포레이션 세프톨로잔 항균성 조성물
US20140274993A1 (en) 2013-03-15 2014-09-18 Cubist Pharmaceuticals, Inc. Ceftolozane-tazobactam pharmaceutical compositions
EP3043797B1 (en) 2013-09-09 2020-04-08 Merck Sharp & Dohme Corp. Treating infections with ceftolozane/tazobactam in subjects having impaired renal function
US8906898B1 (en) 2013-09-27 2014-12-09 Calixa Therapeutics, Inc. Solid forms of ceftolozane

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1399086A (en) * 1971-05-14 1975-06-25 Glaxo Lab Ltd Cephalosporin compounds
DK154939C (da) * 1974-12-19 1989-06-12 Takeda Chemical Industries Ltd Analogifremgangsmaade til fremstilling af thiazolylacetamido-cephemforbindelser eller farmaceutisk acceptable salte eller estere deraf
BE878433A (fr) * 1978-08-31 1980-02-25 Fujisawa Pharmaceutical Co Procede de preparation de derives d'acide 3-cephem-4-carboxylique 3,7-disubstitue, nouveaux produits ainsi obtenus et leur utilisation pour leur activite antibacterienne
JPS52125188A (en) * 1976-04-14 1977-10-20 Takeda Chem Ind Ltd Cephalosporin derivatives and their preparation
DE2716677C2 (de) * 1977-04-15 1985-10-10 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Cephemderivate und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2714880A1 (de) * 1977-04-02 1978-10-26 Hoechst Ag Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung
CH648317A5 (de) * 1977-06-10 1985-03-15 Yamanouchi Pharma Co Ltd 7alpha-methoxy-7betha-(1,3-dithietan-2- carboxamido)cephalosporansaeurederivate und verfahren zu ihrer herstellung.
GB2027691B (en) * 1978-05-26 1983-03-02 Glaxo Group Ltd Cephalosporin antibiotics
AR229883A1 (es) * 1978-05-26 1983-12-30 Glaxo Group Ltd Procedimiento para la preparacion de antibiotico(6r,7r)-7-((z)-2-(2-aminotiazol-4-il)-2-(2-carboxiprop-2-oxiimino)-acetamido)-3-(1-piridinometil)-cef-3-em-4-carboxilato
BE878637A (fr) * 1978-09-11 1980-03-06 Fujisawa Pharmaceutical Co Procede de preparation de composes d'acide 3-cephem-4-carboxylique 3,7-disubstitue et de leurs sels pharmaceutiquement acceptables, nouveaux produits ainsi obtenus et leur utilisation pour leurs activites antimicrobiennes

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