JPH02300164A - インドール誘導体及びその製造方法 - Google Patents
インドール誘導体及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、高脂血症及び動脈硬化症の治療ないし予防に
極めて有用なインドール誘導体及びその製造方法並びに
その新規化合物を有効成分として含有する脂質低下剤に
関する。
極めて有用なインドール誘導体及びその製造方法並びに
その新規化合物を有効成分として含有する脂質低下剤に
関する。
[従来の技術]
従来、コレステロールやトリグリセライドなどの血清脂
質が異常高値を示す高脂血症は、それ自体が臨床的疾患
であると同時に、動脈硬化症の一因となっていると考え
られている。脂質代謝異常を改善させる薬剤としてニコ
チン酸及びその誘導体、クロフィブレート及びその部分
構造であるフェニルアルキルエーテルを有する化合物等
が繁用されている。近年にはリノール酸アミド銹導体の
メリナミド、ビスフェノール誘導体のプロブコール、イ
オン交換樹脂であるコレスチラミンなどが臨床の場に供
されるようになった。また、本発明化合物に類似した構
造のものにタザスプレート(メルク・パテント社、特開
昭56−92881号)が挙げられるが、本発明化合物
のようにインドール骨格を有するものは知られていない
。
質が異常高値を示す高脂血症は、それ自体が臨床的疾患
であると同時に、動脈硬化症の一因となっていると考え
られている。脂質代謝異常を改善させる薬剤としてニコ
チン酸及びその誘導体、クロフィブレート及びその部分
構造であるフェニルアルキルエーテルを有する化合物等
が繁用されている。近年にはリノール酸アミド銹導体の
メリナミド、ビスフェノール誘導体のプロブコール、イ
オン交換樹脂であるコレスチラミンなどが臨床の場に供
されるようになった。また、本発明化合物に類似した構
造のものにタザスプレート(メルク・パテント社、特開
昭56−92881号)が挙げられるが、本発明化合物
のようにインドール骨格を有するものは知られていない
。
また、インドール環の2位にチオ酢酸を有する化合物と
しては、ジャーナル オブ ヘテロサイクリック ケミ
ストリー、8巻、903頁。
しては、ジャーナル オブ ヘテロサイクリック ケミ
ストリー、8巻、903頁。
1971年(J、)Ieterocycl 、Chem
、、8,903 (1971)) に記載されている
が、その構造は3位にフェニル基を有しており、本発明
化合物とは全く構造を異にするだけでなく、その化合物
が薬理活性を示すという記載も全くない。
、、8,903 (1971)) に記載されている
が、その構造は3位にフェニル基を有しており、本発明
化合物とは全く構造を異にするだけでなく、その化合物
が薬理活性を示すという記載も全くない。
[発明が解決しようとする課題]
最近、動脈硬化性因子である低比重リポ蛋白コレステロ
ール(uL−ch)と抗動脈硬化性因子である高比重リ
ボ蛋白コレステロール()IDL−Ch)が注目されて
いる。即ち、単に血清中の総コレステロールやトリグリ
セライド等を低下させるのでなく、LDL−Ch値を低
下させ、HDL−tl:h値は増加させることにより、
LDL−Ch値/HDL−Ch値の比で表される動脈硬
化指数(^■)を改善することが重要とされている。し
かし、現在臨床にある薬剤は満足するものではなく、脂
質代謝異常を改善する効果が強く、安全性の高い薬剤の
開発が望まれている。
ール(uL−ch)と抗動脈硬化性因子である高比重リ
ボ蛋白コレステロール()IDL−Ch)が注目されて
いる。即ち、単に血清中の総コレステロールやトリグリ
セライド等を低下させるのでなく、LDL−Ch値を低
下させ、HDL−tl:h値は増加させることにより、
LDL−Ch値/HDL−Ch値の比で表される動脈硬
化指数(^■)を改善することが重要とされている。し
かし、現在臨床にある薬剤は満足するものではなく、脂
質代謝異常を改善する効果が強く、安全性の高い薬剤の
開発が望まれている。
[課題を解決するための手段]
発明者らは、高脂血症及び動脈硬化症の治療ないし予防
作用を有する薬剤に関して鋭意研究を重ねた結果、以下
の式で表される化合物が強い脂質代謝異常改善作用を有
し、安全性も高いことを見出し、本発明を完成した。
作用を有する薬剤に関して鋭意研究を重ねた結果、以下
の式で表される化合物が強い脂質代謝異常改善作用を有
し、安全性も高いことを見出し、本発明を完成した。
[式中、Rは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し Hl、R2,R3及びR4は同−又は相
異なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級ア
ルキル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基
、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキ
シ基、アシルオキシ基、置換されていてもよいアラルキ
ル基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換さ
れていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R2とR
3でメチレンジオキシ基を表してもよく、R5は水素原
子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されていて
もよいアラルキル基を表すか、RとR4又はR1とR5
とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環を形
成してもよく、R6及びR7は同−又は相異なり水素原
子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されていても
よいアリル基又は5員もしくは6員の複素環を示し、^
は−COOR’ (R’は水素原子、炭素数1〜6の低
級アルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は
置換されていてもよいアリル基を表す)又は−CH20
R’ (R9は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル
基、炭素数2〜6の低級アルケニル基、アシル基又は置
換されていてもよいアラルキル基を表す)を表す] で表されるインドール訪導体、それらの医薬的に許容さ
れた塩及びその水和物。
、カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し Hl、R2,R3及びR4は同−又は相
異なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級ア
ルキル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基
、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキ
シ基、アシルオキシ基、置換されていてもよいアラルキ
ル基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換さ
れていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R2とR
3でメチレンジオキシ基を表してもよく、R5は水素原
子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されていて
もよいアラルキル基を表すか、RとR4又はR1とR5
とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環を形
成してもよく、R6及びR7は同−又は相異なり水素原
子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されていても
よいアリル基又は5員もしくは6員の複素環を示し、^
は−COOR’ (R’は水素原子、炭素数1〜6の低
級アルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は
置換されていてもよいアリル基を表す)又は−CH20
R’ (R9は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル
基、炭素数2〜6の低級アルケニル基、アシル基又は置
換されていてもよいアラルキル基を表す)を表す] で表されるインドール訪導体、それらの医薬的に許容さ
れた塩及びその水和物。
上記一般式[I]において、低級アルキル基としては炭
素数1〜6の直鎖状又は分枝状のアルキル基が挙げられ
、中でもメチル、エチル、プロピル、イソアミル、ブチ
ル基が好ましい。
素数1〜6の直鎖状又は分枝状のアルキル基が挙げられ
、中でもメチル、エチル、プロピル、イソアミル、ブチ
ル基が好ましい。
置換されていてもよいアラルキル基としては、フェニル
基に1ないしそれ以上のハロゲン原子、低級アルキル、
低級アルコキシ基等で置換されていてもよいベンジル、
フェニルエチル、フェニルプロピル基等が挙げられ、中
でもベンジル、p−クロルベンジル、3.4−ジメトキ
シベンジル基等が好ましい、ハロゲン原子としては、フ
ッ素、塩素、臭素が好ましい。アシル基としては、低級
アルキルカルボニル、アリルカルボニル、アラルキルカ
ルボニル基等が挙げられ、中でもアセチル、ベンゾイル
、クロトニル基が好ましい0.アシルオキシ基としては
、低級アルキルカルボニルオキシ、アリルカルボニルオ
キシ、アラルキルカルボニルオキシ基等が挙げられ、中
でもアセチルオキシ、p−クロロベンゾイルオキシ、3
−ピリジンカルボニルオキシ基等が好ましい。アルコキ
シ基としては、アルキル部分が炭素数1〜6の直鎮又は
分枝状のアルコキシ基が挙げられ、中でもメトキシ、工
、トキシ、イソプロポキシ、n−へキシルオキシ基が好
ましい。置換されていてもよいアリル基としては、工な
いしそれ以上のハロゲン原子、低級アルキル、低級アル
コキシ基等で置換されていてもよいフェニル、ナフチル
基が挙げられる。中でもフェニル、p−クロロフェニル
、p−メチルフェニル、2.3−ジメチルフェニル基が
好ましい、置換されていてもよいアリルオキシ基として
は、1ないしそれ以上のハロゲン原子、低級アルキル、
低級アルコキシ基等で置換されていてもよいフェノキシ
、ナフチルオキシ基が挙げられる。置換されていてもよ
いアラルキルオキシ基としては、フェニル基に1ないし
それ以上のハロゲン原子、低級アルキル、低級アルコキ
シ基等で置換されていてもよいベンジルオキシ、フェニ
ルエトキシ、フェニルプロポキシ基等が挙げられ、中で
もベンジルオキシ、m−フルオロベンジルオキシ、p−
メチルベンジルオキシ基が好ましい。式中RとR4又は
口1とR5とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で
6員環を形成する場合のへテロ原子としては、酸素、窒
素、硫黄原子が挙げられる。式中、R6又はR7の5員
もしくは6員の複素環としては、ピリジル、ピリミジル
、イミダゾリル、チアゾリル等の複素環が挙げられ、中
でも2−又は3−ピリジル、3−ピラゾリル、2−チア
ゾリル環が好ましい。
基に1ないしそれ以上のハロゲン原子、低級アルキル、
低級アルコキシ基等で置換されていてもよいベンジル、
フェニルエチル、フェニルプロピル基等が挙げられ、中
でもベンジル、p−クロルベンジル、3.4−ジメトキ
シベンジル基等が好ましい、ハロゲン原子としては、フ
ッ素、塩素、臭素が好ましい。アシル基としては、低級
アルキルカルボニル、アリルカルボニル、アラルキルカ
ルボニル基等が挙げられ、中でもアセチル、ベンゾイル
、クロトニル基が好ましい0.アシルオキシ基としては
、低級アルキルカルボニルオキシ、アリルカルボニルオ
キシ、アラルキルカルボニルオキシ基等が挙げられ、中
でもアセチルオキシ、p−クロロベンゾイルオキシ、3
−ピリジンカルボニルオキシ基等が好ましい。アルコキ
シ基としては、アルキル部分が炭素数1〜6の直鎮又は
分枝状のアルコキシ基が挙げられ、中でもメトキシ、工
、トキシ、イソプロポキシ、n−へキシルオキシ基が好
ましい。置換されていてもよいアリル基としては、工な
いしそれ以上のハロゲン原子、低級アルキル、低級アル
コキシ基等で置換されていてもよいフェニル、ナフチル
基が挙げられる。中でもフェニル、p−クロロフェニル
、p−メチルフェニル、2.3−ジメチルフェニル基が
好ましい、置換されていてもよいアリルオキシ基として
は、1ないしそれ以上のハロゲン原子、低級アルキル、
低級アルコキシ基等で置換されていてもよいフェノキシ
、ナフチルオキシ基が挙げられる。置換されていてもよ
いアラルキルオキシ基としては、フェニル基に1ないし
それ以上のハロゲン原子、低級アルキル、低級アルコキ
シ基等で置換されていてもよいベンジルオキシ、フェニ
ルエトキシ、フェニルプロポキシ基等が挙げられ、中で
もベンジルオキシ、m−フルオロベンジルオキシ、p−
メチルベンジルオキシ基が好ましい。式中RとR4又は
口1とR5とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で
6員環を形成する場合のへテロ原子としては、酸素、窒
素、硫黄原子が挙げられる。式中、R6又はR7の5員
もしくは6員の複素環としては、ピリジル、ピリミジル
、イミダゾリル、チアゾリル等の複素環が挙げられ、中
でも2−又は3−ピリジル、3−ピラゾリル、2−チア
ゾリル環が好ましい。
本発明によれば、一般式[I]の化合物は以下に述べる
経路により製造することができる。
経路により製造することができる。
(1)一般式[IFで^が−GOOR’ (R’は水素
原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されていて
もよいアラルキル基または置換されていてもよいアリル
基を示す)を表す化合物は、下記一般式[III ]で
表される化合物と一般式[IV ]で表される化合物を
塩基の存在下に反応させ、要すれば加水分解することに
より製造することがでとる。更に詳しくは、反応は、塩
基としてアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等、アルカリ金属炭酸塩、例えば炭
、酸ナトリウム、炭酸カリウム等又は有機塩基、例えば
トリエチルアミン、1.8−ジアザビシクロ[5゜4.
0]−7−ウンデセン等の存在下に、適当な溶媒、例え
ばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アル
コール等の中で0〜150℃、好ましくは20〜100
℃の範囲で行うことができる。続いて、要すればカルボ
ン酸エステルを加水分解し、カルボン酸工各チルを対応
するカルボン酸に変換することができる。この反応は、
アルカリ、゛例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等の存在下に、適当な溶媒、例えば水、アルコール、ジ
メチルホルムアミド等、又はそれらの混合物の中で0−
150℃、好ましくは20〜100℃の範囲で行うこと
ができる。
原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されていて
もよいアラルキル基または置換されていてもよいアリル
基を示す)を表す化合物は、下記一般式[III ]で
表される化合物と一般式[IV ]で表される化合物を
塩基の存在下に反応させ、要すれば加水分解することに
より製造することがでとる。更に詳しくは、反応は、塩
基としてアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等、アルカリ金属炭酸塩、例えば炭
、酸ナトリウム、炭酸カリウム等又は有機塩基、例えば
トリエチルアミン、1.8−ジアザビシクロ[5゜4.
0]−7−ウンデセン等の存在下に、適当な溶媒、例え
ばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アル
コール等の中で0〜150℃、好ましくは20〜100
℃の範囲で行うことができる。続いて、要すればカルボ
ン酸エステルを加水分解し、カルボン酸工各チルを対応
するカルボン酸に変換することができる。この反応は、
アルカリ、゛例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等の存在下に、適当な溶媒、例えば水、アルコール、ジ
メチルホルムアミド等、又はそれらの混合物の中で0−
150℃、好ましくは20〜100℃の範囲で行うこと
ができる。
[式中、R,R’、R”、R3,R’及びR5は前述の
通りである] X −C−C0OR” [lV][式
中、R6及びR7は前述の通りであり、Xはハロゲン原
子を表し、RIOは炭素数1〜6の低級アルキル基、置
換されていてもよいアラルキル基又は置換されていても
よいアリル基を表す〕 (2)一般式[I−1でAが一〇〇OHを表す化合物は
、一般式[m ]で表される化合物と下記一般式[Iで
表される化合物を塩基の存在下に反応させて下記一般式
[■コの化合物を得、ついで開環することにより製造す
ることができる。更に詳しくは、反応は、塩基としてア
ルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等、アルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等又は有機塩基、例えばトリエチルア
ミン、1.8−ジアザビシクロ[5,4,0l−7−ウ
ンデセン等の存在下に、適当な溶媒、例えばジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、アルコール等の中
で0〜150℃、好ましくは20〜100℃の範囲で行
うことができる。続いて、得られた一般式[■コの化合
物を開環し、対応するカルボン酸体に変換することがで
きる。この反応は、アルカリ、例えば水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム等の存在下に、適当な溶媒、例えば水
、アルコール、ジメチルホルムアミド等、又はそれらの
混合物の中で0〜150℃、好ましくは20〜100℃
の範囲で行うことができる。
通りである] X −C−C0OR” [lV][式
中、R6及びR7は前述の通りであり、Xはハロゲン原
子を表し、RIOは炭素数1〜6の低級アルキル基、置
換されていてもよいアラルキル基又は置換されていても
よいアリル基を表す〕 (2)一般式[I−1でAが一〇〇OHを表す化合物は
、一般式[m ]で表される化合物と下記一般式[Iで
表される化合物を塩基の存在下に反応させて下記一般式
[■コの化合物を得、ついで開環することにより製造す
ることができる。更に詳しくは、反応は、塩基としてア
ルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等、アルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等又は有機塩基、例えばトリエチルア
ミン、1.8−ジアザビシクロ[5,4,0l−7−ウ
ンデセン等の存在下に、適当な溶媒、例えばジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、アルコール等の中
で0〜150℃、好ましくは20〜100℃の範囲で行
うことができる。続いて、得られた一般式[■コの化合
物を開環し、対応するカルボン酸体に変換することがで
きる。この反応は、アルカリ、例えば水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム等の存在下に、適当な溶媒、例えば水
、アルコール、ジメチルホルムアミド等、又はそれらの
混合物の中で0〜150℃、好ましくは20〜100℃
の範囲で行うことができる。
[式中、R1,R2,R3,R4及びR5は前述の通り
である] X −C−GOOR” [IV][式中
、R6及びR7は前述の通りであり、×はハロゲン原子
を表し RIGは炭素数1〜6の低級アルコキシ基、置
換されていてもよいアラルキルオキシ基又は置換されて
いてもよいアリルオキシ基を表す] (l R7 [式中、R1,R2,R3,R4,R8,R6及びR7
は前述の通りである] (3)一般式[I]でAが−COOR”(R”は炭素数
1〜6の低級アルキル基又は置換されていてもよいアラ
ルキル基を示す)を表す化合物は、一般式[IX]で表
される化合物と一般式[X]で表される化合物をアゾジ
カルボン酸ジエチル及びトリフェニルホスフィンの存在
下に反応させることにより製造することができる。更に
詳しくは、反応は、アゾジカルボン酸ジエチル及びトリ
フェニルホスフィンの存在下に、適当な溶媒、例えばエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼン等の中で一50
〜100℃、好ましくは一20〜50℃の範囲で行うこ
とができる。
である] X −C−GOOR” [IV][式中
、R6及びR7は前述の通りであり、×はハロゲン原子
を表し RIGは炭素数1〜6の低級アルコキシ基、置
換されていてもよいアラルキルオキシ基又は置換されて
いてもよいアリルオキシ基を表す] (l R7 [式中、R1,R2,R3,R4,R8,R6及びR7
は前述の通りである] (3)一般式[I]でAが−COOR”(R”は炭素数
1〜6の低級アルキル基又は置換されていてもよいアラ
ルキル基を示す)を表す化合物は、一般式[IX]で表
される化合物と一般式[X]で表される化合物をアゾジ
カルボン酸ジエチル及びトリフェニルホスフィンの存在
下に反応させることにより製造することができる。更に
詳しくは、反応は、アゾジカルボン酸ジエチル及びトリ
フェニルホスフィンの存在下に、適当な溶媒、例えばエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼン等の中で一50
〜100℃、好ましくは一20〜50℃の範囲で行うこ
とができる。
I
R’RR’
[式中、R,R’、R”、R’、R’、R’、R’及び
R7は前述の通りである] R”OH[X] [式中、R10は前述の通りである] (4)一般式[I1で八が−CH20Hを表す化合物は
、一般式[I1]で表される化合物を還元することによ
り製造することができる。更に詳しくは、反応は、還元
剤として水素化リチウムアルミニウム、水素化シアノホ
ウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム等の存在下に、
適当な溶媒、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ト
ルエル等の中で0〜200℃、好ましくは20〜150
℃の範囲で行うことができる。
R7は前述の通りである] R”OH[X] [式中、R10は前述の通りである] (4)一般式[I1で八が−CH20Hを表す化合物は
、一般式[I1]で表される化合物を還元することによ
り製造することができる。更に詳しくは、反応は、還元
剤として水素化リチウムアルミニウム、水素化シアノホ
ウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム等の存在下に、
適当な溶媒、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ト
ルエル等の中で0〜200℃、好ましくは20〜150
℃の範囲で行うことができる。
R+
[式中、R,R’、R’、R’、R’、R’、R’、R
’及びR8は前述の通りである] (5)一般式[I]でAが−c120Hを表す化合物は
、一般式[IX]で表される化合物をα−八へエステル
と反応させ、混合酸無水物とし、ついで還元することに
より製造することができる。更に詳しくは、反応は、還
元剤として水素化ホウ素ナトリウム等の存在下に、適当
な溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エタノール、水、
ジオキサン等の中で0〜50℃、好ましくは10〜30
℃の範囲で行うことができる。
’及びR8は前述の通りである] (5)一般式[I]でAが−c120Hを表す化合物は
、一般式[IX]で表される化合物をα−八へエステル
と反応させ、混合酸無水物とし、ついで還元することに
より製造することができる。更に詳しくは、反応は、還
元剤として水素化ホウ素ナトリウム等の存在下に、適当
な溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エタノール、水、
ジオキサン等の中で0〜50℃、好ましくは10〜30
℃の範囲で行うことができる。
口1
[式中、R,R’、R2,R3,R’、R’、R’ 及
ヒR’ハ前述の通りである] (6)一般式[I]で八が−C)120R” (R”は
炭素数1〜6の低級アルキル基、炭素数2〜6の低級ア
ルケニル基、アシル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表す)を表す化合物は、一般式[X11で表さ
れる化合物と一般式[XIII]で表される化合物を反
応させることにより製造することができる。更に詳しく
は、反応は、例えばジオキサン、ジメチルホルムアミド
、テトラヒドロフラン、ベンゼン等の中で0〜200℃
、好ましくは20〜150℃の範囲で行うことができる
。
ヒR’ハ前述の通りである] (6)一般式[I]で八が−C)120R” (R”は
炭素数1〜6の低級アルキル基、炭素数2〜6の低級ア
ルケニル基、アシル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表す)を表す化合物は、一般式[X11で表さ
れる化合物と一般式[XIII]で表される化合物を反
応させることにより製造することができる。更に詳しく
は、反応は、例えばジオキサン、ジメチルホルムアミド
、テトラヒドロフラン、ベンゼン等の中で0〜200℃
、好ましくは20〜150℃の範囲で行うことができる
。
$11
[式中、R,R’、R2,R’、R’、R’、R’及び
R7は前述の通りである] R目Y [XI] [式中、R11は炭素数1〜6の低級アルキル基、アシ
ル基、炭素数2〜6の低級アルケニル基又は置換されて
いてもよいアラルキル基を表し、Yはハロゲン原子を表
す] (7)一般式[I]でRがRI2(R12は炭素数1〜
6の低級アルキル基、カルボキシメチル基又は置換され
ていてもよいアラルキル基を表す)を表す化合物は、一
般式[xvlで表される化合物と一般式[XVI]で表
される化合物を反応させることにより製造することがで
きる。更に詳しくは、反応は、例えばジメチルホルムア
ミド、テトラヒドロフラン、ベンゼン等の中で0〜10
0℃、好ましくは10〜50℃の範囲で行うことができ
る。
R7は前述の通りである] R目Y [XI] [式中、R11は炭素数1〜6の低級アルキル基、アシ
ル基、炭素数2〜6の低級アルケニル基又は置換されて
いてもよいアラルキル基を表し、Yはハロゲン原子を表
す] (7)一般式[I]でRがRI2(R12は炭素数1〜
6の低級アルキル基、カルボキシメチル基又は置換され
ていてもよいアラルキル基を表す)を表す化合物は、一
般式[xvlで表される化合物と一般式[XVI]で表
される化合物を反応させることにより製造することがで
きる。更に詳しくは、反応は、例えばジメチルホルムア
ミド、テトラヒドロフラン、ベンゼン等の中で0〜10
0℃、好ましくは10〜50℃の範囲で行うことができ
る。
[式中、R142,R3,H4,R8,R6,H?及び
Aは前述の通りである] RI2Y [履] [式中、R12は前述の通りであり、Yはハロゲン原子
を表す] なお、一般式[I]で表される化合物は、その不斉炭素
に基づく2以上の・光学異性体が存在するが、これら異
性体及びそれらの混合物は便宜上全て単一の式で示され
ており、これらによって本発明が限定されるものではな
い。
Aは前述の通りである] RI2Y [履] [式中、R12は前述の通りであり、Yはハロゲン原子
を表す] なお、一般式[I]で表される化合物は、その不斉炭素
に基づく2以上の・光学異性体が存在するが、これら異
性体及びそれらの混合物は便宜上全て単一の式で示され
ており、これらによって本発明が限定されるものではな
い。
また、一般式[I1でAが−COOHで表される化合物
は、所望ならばその塩に常法に従って変換することがで
きる。塩としては、例えばナトリウム、カリウム、マグ
ネシウム、カルシウム、アルミニウム、セリウム、クロ
ム、コバルト、銅、鉄、亜鉛、白金、銀等の塩が挙げら
れる。
は、所望ならばその塩に常法に従って変換することがで
きる。塩としては、例えばナトリウム、カリウム、マグ
ネシウム、カルシウム、アルミニウム、セリウム、クロ
ム、コバルト、銅、鉄、亜鉛、白金、銀等の塩が挙げら
れる。
[実施例]
次に本発明化合物の製法を、実施例をもって詳細に説明
する。
する。
実施例1
2− (IH−インドール−2−イル)チオ−2−フェ
ニルプロピオン酸エチル 1.3−ジヒドロインドール−2−チオン(19,7g
)と2−ブロモ−2−フェニルプロピオン酸エチル(3
3,qg)のジメチルホルムアミド(DMF、200m
N)溶液に、水冷下2N水酸化ナトリウム水溶液(aa
n+Jl)を滴下し、室温で2時間攪拌した。反応液を
水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧
下、溶媒を留去し、残留物にn−ヘキサンを加えて結晶
化させた。この結晶を酢酸エチル−n−ヘキサンから再
結晶させ、淡黄色プリズム晶として目的物30.3g(
収率71%)を得た。融点97−99℃ 元素分析値 C+s)I+gNO2Sとして計算値傭)
;Cニア0.13. H:5.88.N :4.30実
測値(豹;c ニア0.38. H:5.89.N :
4.2B実施例2〜38 実施例1の方法に準じ、表1に示す化合物を合成した。
ニルプロピオン酸エチル 1.3−ジヒドロインドール−2−チオン(19,7g
)と2−ブロモ−2−フェニルプロピオン酸エチル(3
3,qg)のジメチルホルムアミド(DMF、200m
N)溶液に、水冷下2N水酸化ナトリウム水溶液(aa
n+Jl)を滴下し、室温で2時間攪拌した。反応液を
水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧
下、溶媒を留去し、残留物にn−ヘキサンを加えて結晶
化させた。この結晶を酢酸エチル−n−ヘキサンから再
結晶させ、淡黄色プリズム晶として目的物30.3g(
収率71%)を得た。融点97−99℃ 元素分析値 C+s)I+gNO2Sとして計算値傭)
;Cニア0.13. H:5.88.N :4.30実
測値(豹;c ニア0.38. H:5.89.N :
4.2B実施例2〜38 実施例1の方法に準じ、表1に示す化合物を合成した。
実施例39
2−(1)1−インドール−2−イル)チオ−2−フェ
ニルプロピオン酸 2−(1)1−インドール−2−イル)チオ−2−フェ
ニルプロピオン酸エチル(2,8!1g)のエタノール
懸濁液(57,8mJ2)に水酸化カリウム(1,5g
)の水溶液(12wffi)を加え、1時間加熱還流し
た。
ニルプロピオン酸 2−(1)1−インドール−2−イル)チオ−2−フェ
ニルプロピオン酸エチル(2,8!1g)のエタノール
懸濁液(57,8mJ2)に水酸化カリウム(1,5g
)の水溶液(12wffi)を加え、1時間加熱還流し
た。
反応液を放冷した後、減圧下、有機溶媒を留去し、残留
物に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減
圧下、溶媒を留去し、残漬をベンゼンから再結晶して無
色プリズム晶として目的物2.12g (収率73.1
%)を得た。融点165−167℃ 元素分析値 C1tHISNO□Sとして計算値(豹、
C:68.6B、 H:5.08.N :4.71実測
値鴎);C:88.96. H:5.11.N :4.
7B実施例40〜69 実施例39の方法に準じ、表2に示す化合物を合成した
。
物に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減
圧下、溶媒を留去し、残漬をベンゼンから再結晶して無
色プリズム晶として目的物2.12g (収率73.1
%)を得た。融点165−167℃ 元素分析値 C1tHISNO□Sとして計算値(豹、
C:68.6B、 H:5.08.N :4.71実測
値鴎);C:88.96. H:5.11.N :4.
7B実施例40〜69 実施例39の方法に準じ、表2に示す化合物を合成した
。
実施例70
2−(5−ヒドロキシ−IH−インドール−2−イル)
チオ−2−フェニルプロピオン酸 i) 1.3−ジヒドロ−5−ヒドロキシインドール
−2−チオン(1,28g)と2−ブロモ−2−フェニ
ルプロピオン酸エチル(1,88g)のDMF溶液(1
3d)に氷冷下2N水酸化ナトリウム水溶液(7,3m
ff1)を滴下し、室温で3時間攪拌した。反応液を水
で希釈し、6N塩酸を加えることにより酸性とし酢酸エ
チルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し残漬
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:塩
化メチレン)にて精製し無色無定形孔として7−ヒドロ
キシ−2−メチル−2−フェニルチアゾロ[3,2−a
]]インドールー3(2H)−オン1.77g (
収率81.9%)を得た。
チオ−2−フェニルプロピオン酸 i) 1.3−ジヒドロ−5−ヒドロキシインドール
−2−チオン(1,28g)と2−ブロモ−2−フェニ
ルプロピオン酸エチル(1,88g)のDMF溶液(1
3d)に氷冷下2N水酸化ナトリウム水溶液(7,3m
ff1)を滴下し、室温で3時間攪拌した。反応液を水
で希釈し、6N塩酸を加えることにより酸性とし酢酸エ
チルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し残漬
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:塩
化メチレン)にて精製し無色無定形孔として7−ヒドロ
キシ−2−メチル−2−フェニルチアゾロ[3,2−a
]]インドールー3(2H)−オン1.77g (
収率81.9%)を得た。
ii) 7−ヒドロキシ−2−メチル−2−フェニル
チアゾロ[3,2−al インドール−3(2H)−オ
ン(3,85g)に2N水酸化ナトリウム(70mM)
を加え30分間加熱還流した0反応液を放冷した後、酢
酸エチルで洗浄し、水層に6N塩酸を加えることにより
酸性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下
溶媒を留去し、残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒:クロロホルム:メタノール=4:1)
にて精製し、更にアセトニトリルから再結晶して、褐色
粉末として目的物2.77g (収率71%)を得た
。
チアゾロ[3,2−al インドール−3(2H)−オ
ン(3,85g)に2N水酸化ナトリウム(70mM)
を加え30分間加熱還流した0反応液を放冷した後、酢
酸エチルで洗浄し、水層に6N塩酸を加えることにより
酸性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下
溶媒を留去し、残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒:クロロホルム:メタノール=4:1)
にて精製し、更にアセトニトリルから再結晶して、褐色
粉末として目的物2.77g (収率71%)を得た
。
融点179.5−181.5℃
元素分析値 C,フ)II!N03Sとして計算値鴎)
;C:65.16. H:4.82.N :4.47実
測値(豹、C:64.96.:H4,78,N :4.
83実施例71 2−(5−へキシルオキシ−IH−インドール−2−イ
ル)チオ−2−フェニルプロピオン酸1)7−ヒドロキ
シ−2−メチル−2フエニルチアゾロ[3,2−a]ゼ
インール−3(2H)−オン(2,86g)のアセトン
(30IIlM)溶液に、炭酸カリウム(2,7g)、
臭化n−ヘキシル(1,76g)及び少量のヨウ化カリ
ウムを加えて33時間加熱還流した0反応液を放冷した
後、不溶物を濾別し、濾液は減圧下溶媒を留去した。残
漬に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽
和食塩水で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧
下溶媒を留去し、残漬をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=9:1
)にて精製し、淡褐色結晶として7−へキシルオキシ−
2−メチル−2−フェニルチアゾロ[3,2−al イ
ンドール−3(2)1)−オン3.4g(収率93%)
を得た。
;C:65.16. H:4.82.N :4.47実
測値(豹、C:64.96.:H4,78,N :4.
83実施例71 2−(5−へキシルオキシ−IH−インドール−2−イ
ル)チオ−2−フェニルプロピオン酸1)7−ヒドロキ
シ−2−メチル−2フエニルチアゾロ[3,2−a]ゼ
インール−3(2H)−オン(2,86g)のアセトン
(30IIlM)溶液に、炭酸カリウム(2,7g)、
臭化n−ヘキシル(1,76g)及び少量のヨウ化カリ
ウムを加えて33時間加熱還流した0反応液を放冷した
後、不溶物を濾別し、濾液は減圧下溶媒を留去した。残
漬に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽
和食塩水で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧
下溶媒を留去し、残漬をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=9:1
)にて精製し、淡褐色結晶として7−へキシルオキシ−
2−メチル−2−フェニルチアゾロ[3,2−al イ
ンドール−3(2)1)−オン3.4g(収率93%)
を得た。
ii) 7−へキシルオキシ−2−メチル−2−フェニ
ルチアゾロ(3,2−alインドール−3(2)1)
−オン(3,92g)に2N水酸化ナトリウム(70m
M)を加え1.5時間加熱還流した。反応液を放冷した
後、析出孔を濾通して集めた。この結晶をメタノールに
溶解し、水冷下漬塩酸を加えて酸性にし減圧下溶媒を留
去した。残漬に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機
層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧下溶媒を留去し、残留物をn−ヘキサンか
ら結晶化させ、無色粉末として目的物3.81g(収率
93%)を得た。
ルチアゾロ(3,2−alインドール−3(2)1)
−オン(3,92g)に2N水酸化ナトリウム(70m
M)を加え1.5時間加熱還流した。反応液を放冷した
後、析出孔を濾通して集めた。この結晶をメタノールに
溶解し、水冷下漬塩酸を加えて酸性にし減圧下溶媒を留
去した。残漬に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機
層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧下溶媒を留去し、残留物をn−ヘキサンか
ら結晶化させ、無色粉末として目的物3.81g(収率
93%)を得た。
融点100−102℃
元素分析値 C15lhyNO,+Sとして計算値(豹
;c :69.49. H:6.85.N :3.52
実測値鴎)、;C:69.36. H:6.94.N
:3.71実施例72 2− (IH−インドール−2−イル)チオ−2−フェ
ニルプロピオン酸ベンジル 2−(IH−インドール−2−イル)チオ−2−フェニ
ルプロピオン酸(1,5g>とアゾジカルボン酸ジ・エ
チル(0,96g)の無水テトラヒドロフランm 液(
5mJ2)に、アルゴン気流下、ベンジルアルコール(
0,81g) とトリフェニルホスフィン(1,44g
)の無水テトラヒドロフラン溶イ夜(5℃交)を滴下し
、室温で一夜攪拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣にベ
ンゼンを加え、析出する結晶を濾過して除いた。濾液よ
り減圧下溶媒を留去し、残漬をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(展開溶媒:n−へキサン:酢酸エチル−
9:1)にて精製し、更に酢酸エチル−n−ヘキサンか
ら再結晶して無色鱗片状晶として目的物1.37g
(収率71%)を得た。
;c :69.49. H:6.85.N :3.52
実測値鴎)、;C:69.36. H:6.94.N
:3.71実施例72 2− (IH−インドール−2−イル)チオ−2−フェ
ニルプロピオン酸ベンジル 2−(IH−インドール−2−イル)チオ−2−フェニ
ルプロピオン酸(1,5g>とアゾジカルボン酸ジ・エ
チル(0,96g)の無水テトラヒドロフランm 液(
5mJ2)に、アルゴン気流下、ベンジルアルコール(
0,81g) とトリフェニルホスフィン(1,44g
)の無水テトラヒドロフラン溶イ夜(5℃交)を滴下し
、室温で一夜攪拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣にベ
ンゼンを加え、析出する結晶を濾過して除いた。濾液よ
り減圧下溶媒を留去し、残漬をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(展開溶媒:n−へキサン:酢酸エチル−
9:1)にて精製し、更に酢酸エチル−n−ヘキサンか
ら再結晶して無色鱗片状晶として目的物1.37g
(収率71%)を得た。
融点102−103℃
元素分析値 (:24)121NO2Sとして計算値(
豹;c ニア4.39. H:5.46.N :3.6
1実測値鴎);Cニア4.4B、 H:5.47.N
:3.57実施例73 2−(1−メチルインドール−2−イル)チオ−2−フ
ェニルプロパツール 水素化リチウムアルミニウム(870mg)の無水テト
ラヒドロフラン懸濁液(75o+ff1)に2−(1−
メチルインドール−2−イル)チオ−2−フェニルプロ
ピオン酸エチル(3g)の無水テトラヒドロフラン溶液
(20IIlりを滴下し、2時間加熱還流した。反応液
を放冷した後、氷水に注ぎ、6N塩酸を加えることによ
り酸性として、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
豹;c ニア4.39. H:5.46.N :3.6
1実測値鴎);Cニア4.4B、 H:5.47.N
:3.57実施例73 2−(1−メチルインドール−2−イル)チオ−2−フ
ェニルプロパツール 水素化リチウムアルミニウム(870mg)の無水テト
ラヒドロフラン懸濁液(75o+ff1)に2−(1−
メチルインドール−2−イル)チオ−2−フェニルプロ
ピオン酸エチル(3g)の無水テトラヒドロフラン溶液
(20IIlりを滴下し、2時間加熱還流した。反応液
を放冷した後、氷水に注ぎ、6N塩酸を加えることによ
り酸性として、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
減圧下、溶媒を留去し、得られた残漬をリグロインから
再結晶して、淡黄色粉末として目的物1.84g (
収率70%)を得た。融点118−119℃元素分析値
C+a)I+、NO5として計算値(t);C:フ2
.69. H:6.44.N :4.71実測値(豹;
c +72.59’、 H:6.50.N :4.70
実施例74〜84 実施例73の方法に準じ、表3に示す化合物を合成した
。
再結晶して、淡黄色粉末として目的物1.84g (
収率70%)を得た。融点118−119℃元素分析値
C+a)I+、NO5として計算値(t);C:フ2
.69. H:6.44.N :4.71実測値(豹;
c +72.59’、 H:6.50.N :4.70
実施例74〜84 実施例73の方法に準じ、表3に示す化合物を合成した
。
実施例85
2−(5−へキシルオキシ−IH−インドール−2−イ
ル)チオ−2−フェニルプロパツール水素化リチウムア
ルミニウム(0,4g )の無水テトラヒドロフラン懸
濁液(tomi)に2−(5−ヘキシルオキシ−IH−
インドール−2−イル)チオ−2−フェニルプロピオン
酸(2,81g)の無水テトラヒドロフラン溶液(20
d)を滴下し、30分間加熱還流した0反応液を放冷し
た後、氷水に注ぎ、6N塩酸を加えることにより酸性と
して、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、溶
媒を留去し、残渣にn−ヘキサンを加えて結晶化した。
ル)チオ−2−フェニルプロパツール水素化リチウムア
ルミニウム(0,4g )の無水テトラヒドロフラン懸
濁液(tomi)に2−(5−ヘキシルオキシ−IH−
インドール−2−イル)チオ−2−フェニルプロピオン
酸(2,81g)の無水テトラヒドロフラン溶液(20
d)を滴下し、30分間加熱還流した0反応液を放冷し
た後、氷水に注ぎ、6N塩酸を加えることにより酸性と
して、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、溶
媒を留去し、残渣にn−ヘキサンを加えて結晶化した。
この粗結晶をエタノールから再結晶して、淡緑色プリズ
ム晶として目的物1.66g (収率61%)を得た
。
ム晶として目的物1.66g (収率61%)を得た
。
融点93.5−95.5℃
゛ 元素分析値 C2:IH211NO2Sとして
計算値情);Cニア2.02. Hニア、62.N :
3.65実測値(!k);Cニア2.ll、 Hニア、
64.N :3.65実施例86 2−(5−ヒドロキシ−IH−インドール−2−イル)
チオ−2−フェニルプロパツール 2−(5−ヒドロキシ−IH−インドール−2−イル)
チオ−2−フェニルプロピオン酸を原料として、実施例
8Sの方法に従い目的物を得た。収率24.5%、融点
143−145℃元素分析値 C+yH+7NO2Sと
して計算値傭);C:68.20. H:5.72.N
:4.68実測値鴎);C:67.96. H:5.
70.N ;4.89実施例87 2−(IH−インドール−2−イル)チオ−2−フェニ
ルプロパツール 2− (IH−インドール−2−イル)チオ−2−フェ
ニルプロピオン酸(5,0g)の無水テトラヒドロフラ
ン溶液(20d)にトリエチルアミン(1,7g)を加
え、アルゴン気流下に氷冷してクロル蟻酸エチル(1,
8g)の無水テトラヒドロフラン溶液(8m12)を滴
下した。そのままの温度で1時間攪拌した後析出し゛て
いる塩を濾別し、混合酸無水物のテトラヒドロフラン溶
液を調整した。水素化ホウ素ナトリウム(2,2g)を
水(301112)に懸濁させ、これに混合酸無水物の
溶液を10〜15℃で滴下し、そのままの温度で4時間
攪拌した。反応液に濃塩酸を加えることにより酸性とし
て、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、溶媒
を留去し、残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒;塩化メチレン)で精製し、さらにアセトニ
トリルから再結晶して、無色粉末として目的物2,4g
(収率48%)を得た。融点125.5−127℃元素
分析値 C12)lI?NO5として計算値鴎);Cニ
ア2.05. H:8.05.N :4.91!実測値
鴎);Cニア1.99. H:8.25.N :4.8
2実施例88 酢酸2−(IH−インドール−2−イル)チオ−2−フ
ェニルプロピル 2−(1)1−インドール−2−イル)チオ−2−フェ
ニルプロパツール(2,81g)とN、N−ジメチルア
ニリン(1,23g)の無水DMF溶液(20n+2)
に、水冷下、塩化アセチル(0,86g)の無水DMF
溶液(zml)を滴下し、室温で一夜攪拌した。反応液
を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層をIN塩
酸、水、飽和食塩水で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧下、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン:酢酸
エチル=9;1)で精製し、更にエタノールから再結晶
して、淡黄色プリズム晶として目的物1.35g(収率
42%)を得た。融点105−106℃元素分析値 C
+sH+J(hsとして計算値(豹;c ニアG、12
. H:5.89.N :4.30実測値鴎);Cニア
0.01. H:5.88.N :4.28実施例89 クロトン酸2−(1−メチルインドール−2−イル)チ
オ−2−フェニルプロピル 2−(l−メチルインドール−2−イル)チオ−2−フ
ェニルプロパツール(3g)とトリエチルアミン(1,
4m1)の無水ジオキサン溶液(30m交)に、アルゴ
ン気流下、0℃にてクロトン酸クロライド(0,97m
jりの無水ジオキサン溶液(5dlを滴下した0反応液
を室温で3.5時間攪拌し、析出した塩を濾別した。濾
液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和
食塩水で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧
下、溶媒を留去し、残漬にn−ヘキサンを加えて結晶化
させ、更にn−へキチンから再結晶して無色粉末として
目的物2.56g (収率69%)を得た。融点5B
−57℃ 元素分析値 C22H2,NO,Sとして計算値(*)
;Cニア2.30. H:8.34.N :3.83
実測値鴎);Cニア2.24. H:6.32.N :
3.88実施例90 クロトン酸2−(l−メチルインドール−2−イル)チ
オ−2−フェニルペンチル 2−(1−メチルインドール−2−イル)チオ−2−フ
ェニルペンタノールを原料として実施例87の方法に従
い、淡黄色油状物として目的物を得た(収率82%)。
計算値情);Cニア2.02. Hニア、62.N :
3.65実測値(!k);Cニア2.ll、 Hニア、
64.N :3.65実施例86 2−(5−ヒドロキシ−IH−インドール−2−イル)
チオ−2−フェニルプロパツール 2−(5−ヒドロキシ−IH−インドール−2−イル)
チオ−2−フェニルプロピオン酸を原料として、実施例
8Sの方法に従い目的物を得た。収率24.5%、融点
143−145℃元素分析値 C+yH+7NO2Sと
して計算値傭);C:68.20. H:5.72.N
:4.68実測値鴎);C:67.96. H:5.
70.N ;4.89実施例87 2−(IH−インドール−2−イル)チオ−2−フェニ
ルプロパツール 2− (IH−インドール−2−イル)チオ−2−フェ
ニルプロピオン酸(5,0g)の無水テトラヒドロフラ
ン溶液(20d)にトリエチルアミン(1,7g)を加
え、アルゴン気流下に氷冷してクロル蟻酸エチル(1,
8g)の無水テトラヒドロフラン溶液(8m12)を滴
下した。そのままの温度で1時間攪拌した後析出し゛て
いる塩を濾別し、混合酸無水物のテトラヒドロフラン溶
液を調整した。水素化ホウ素ナトリウム(2,2g)を
水(301112)に懸濁させ、これに混合酸無水物の
溶液を10〜15℃で滴下し、そのままの温度で4時間
攪拌した。反応液に濃塩酸を加えることにより酸性とし
て、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、溶媒
を留去し、残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒;塩化メチレン)で精製し、さらにアセトニ
トリルから再結晶して、無色粉末として目的物2,4g
(収率48%)を得た。融点125.5−127℃元素
分析値 C12)lI?NO5として計算値鴎);Cニ
ア2.05. H:8.05.N :4.91!実測値
鴎);Cニア1.99. H:8.25.N :4.8
2実施例88 酢酸2−(IH−インドール−2−イル)チオ−2−フ
ェニルプロピル 2−(1)1−インドール−2−イル)チオ−2−フェ
ニルプロパツール(2,81g)とN、N−ジメチルア
ニリン(1,23g)の無水DMF溶液(20n+2)
に、水冷下、塩化アセチル(0,86g)の無水DMF
溶液(zml)を滴下し、室温で一夜攪拌した。反応液
を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層をIN塩
酸、水、飽和食塩水で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧下、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン:酢酸
エチル=9;1)で精製し、更にエタノールから再結晶
して、淡黄色プリズム晶として目的物1.35g(収率
42%)を得た。融点105−106℃元素分析値 C
+sH+J(hsとして計算値(豹;c ニアG、12
. H:5.89.N :4.30実測値鴎);Cニア
0.01. H:5.88.N :4.28実施例89 クロトン酸2−(1−メチルインドール−2−イル)チ
オ−2−フェニルプロピル 2−(l−メチルインドール−2−イル)チオ−2−フ
ェニルプロパツール(3g)とトリエチルアミン(1,
4m1)の無水ジオキサン溶液(30m交)に、アルゴ
ン気流下、0℃にてクロトン酸クロライド(0,97m
jりの無水ジオキサン溶液(5dlを滴下した0反応液
を室温で3.5時間攪拌し、析出した塩を濾別した。濾
液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和
食塩水で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧
下、溶媒を留去し、残漬にn−ヘキサンを加えて結晶化
させ、更にn−へキチンから再結晶して無色粉末として
目的物2.56g (収率69%)を得た。融点5B
−57℃ 元素分析値 C22H2,NO,Sとして計算値(*)
;Cニア2.30. H:8.34.N :3.83
実測値鴎);Cニア2.24. H:6.32.N :
3.88実施例90 クロトン酸2−(l−メチルインドール−2−イル)チ
オ−2−フェニルペンチル 2−(1−メチルインドール−2−イル)チオ−2−フ
ェニルペンタノールを原料として実施例87の方法に従
い、淡黄色油状物として目的物を得た(収率82%)。
元素分析値 C24H2?N02Sとして計算値鴎);
Cニア3.24. H:6.92.N :3.56実測
値鴎);Cニア3.18. H:6.9Q、N :3.
31実施例91 2−(l−メチルインドール−2−イル)チオ−2−フ
ェニルプロピル−2−ブテニルエーテル60%水酸化ナ
トリウム(0,37g)をn−ペンタンで洗浄し、これ
に無水DMF(35+nJl)を加えた。この懸濁液に
室温下、2−(1−メチルインドール−2−イル)チオ
−2−フェニルプロパツール(2,sg)の無水DMF
溶液 (15ffIffi)を滴下し、同温で30分間
攪拌した。この反応液に0℃で臭化クロチル(0,9m
fi)の無水DMF溶液(5gIffi)を滴下し、同
温で10分間攪拌し、更に室温で°2時間攪拌した0反
応液を70〜80℃で30分間攪拌した後、放冷し、氷
水に注ぎ、エーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=10 :
1)で精製し、淡黄色油状物の目的物1.5g (収
率51%)を得た。
Cニア3.24. H:6.92.N :3.56実測
値鴎);Cニア3.18. H:6.9Q、N :3.
31実施例91 2−(l−メチルインドール−2−イル)チオ−2−フ
ェニルプロピル−2−ブテニルエーテル60%水酸化ナ
トリウム(0,37g)をn−ペンタンで洗浄し、これ
に無水DMF(35+nJl)を加えた。この懸濁液に
室温下、2−(1−メチルインドール−2−イル)チオ
−2−フェニルプロパツール(2,sg)の無水DMF
溶液 (15ffIffi)を滴下し、同温で30分間
攪拌した。この反応液に0℃で臭化クロチル(0,9m
fi)の無水DMF溶液(5gIffi)を滴下し、同
温で10分間攪拌し、更に室温で°2時間攪拌した0反
応液を70〜80℃で30分間攪拌した後、放冷し、氷
水に注ぎ、エーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=10 :
1)で精製し、淡黄色油状物の目的物1.5g (収
率51%)を得た。
Mass (m/e) ;351 (M”)NMR(C
DC13)δ: 1.52〜1.71(3H,m)、1
.73(3H,s)。
DC13)δ: 1.52〜1.71(3H,m)、1
.73(3H,s)。
3.33 (3H,s) 、 3.77〜3.95(4
H,m)、 5.5Q〜5.63(2H,m) 、6.
6’4 (l)I、s) 、 7.02〜7.62 (
9)1.Lll)実施例92 2−(l−メチルインドール−2−イル)チオ−2−フ
ェニル酪酸メチル 60%水素化ナトリウム(0,89g)をn−ペンタン
で洗浄し、これに無水DMF (80iN)を加えた。
H,m)、 5.5Q〜5.63(2H,m) 、6.
6’4 (l)I、s) 、 7.02〜7.62 (
9)1.Lll)実施例92 2−(l−メチルインドール−2−イル)チオ−2−フ
ェニル酪酸メチル 60%水素化ナトリウム(0,89g)をn−ペンタン
で洗浄し、これに無水DMF (80iN)を加えた。
この懸濁液に室温下、2−(1)1−インドール−2−
イル)チオ−2−フェニル酪酸メチル(6,87g)の
無水DMF溶液 (20all)を滴下し、同温で20
分間攪拌した。この反応液に水冷下にヨウ化メチル(1
,45m1)の無水DMF溶液(5mM)を滴下し、そ
の後室温で2.5時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ、
エーテルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、溶媒を留去し
、残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶
媒:ベンゼン:n−ヘキサン;3:1)で精製し、更に
エタノールから再結晶して淡黄色プリズムとして目的物
4.89g (収率68%)を得た。融点90−91
℃ 元素分析値 C2゜)121NO□Sとして計算値鴎)
;Cニア0.77、 H:8゜24.N :4.13実
測値鴎);Cニア0.77、 H:6.24.N :4
.11実施例93 2−(1−エトキシカルボニルメチルインドール−2−
イル)チオ−2−フェニルプロピオン酸エチル 2−(IH−インドール−2−イル)チオ−2−フェニ
ルプロピオン酸エチルとブロモ酢酸エチルを原料として
実施例92の方法に従い、淡黄色油状物として目的物を
得た(収率63%)。
イル)チオ−2−フェニル酪酸メチル(6,87g)の
無水DMF溶液 (20all)を滴下し、同温で20
分間攪拌した。この反応液に水冷下にヨウ化メチル(1
,45m1)の無水DMF溶液(5mM)を滴下し、そ
の後室温で2.5時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ、
エーテルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、溶媒を留去し
、残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶
媒:ベンゼン:n−ヘキサン;3:1)で精製し、更に
エタノールから再結晶して淡黄色プリズムとして目的物
4.89g (収率68%)を得た。融点90−91
℃ 元素分析値 C2゜)121NO□Sとして計算値鴎)
;Cニア0.77、 H:8゜24.N :4.13実
測値鴎);Cニア0.77、 H:6.24.N :4
.11実施例93 2−(1−エトキシカルボニルメチルインドール−2−
イル)チオ−2−フェニルプロピオン酸エチル 2−(IH−インドール−2−イル)チオ−2−フェニ
ルプロピオン酸エチルとブロモ酢酸エチルを原料として
実施例92の方法に従い、淡黄色油状物として目的物を
得た(収率63%)。
次に、本発明化合物の有用性について以下の実験を行っ
た。
た。
実験1 正常ラットの血清脂質に対する作用体重200
〜250gのウィスター系ラット(雄)に、0.5%カ
ルボキシメチルセルロース(CMC)溶液に懸濁した本
発明化合物を1日1回4日間経口投与した後、血清脂質
を測定し、正常ラットの値に対する割合(%)で示した
。結果を表4に示す。
〜250gのウィスター系ラット(雄)に、0.5%カ
ルボキシメチルセルロース(CMC)溶液に懸濁した本
発明化合物を1日1回4日間経口投与した後、血清脂質
を測定し、正常ラットの値に対する割合(%)で示した
。結果を表4に示す。
表4 正常ラットの血清脂質に対する作用実施例 用量
(B/kg)TCh LDL−Ch A11
100 61.5”17.8 21.139
3.125 75.6” 29.9”
31.7”6.25 84.8″ 66.0
70.712.5 74.3”
52.8 58.525 44.4””
9.1” 14.6”“40 100
42.6″″ 13.6” 22.4”48
100 56.5”24.3 34.252
100 22.7”’″ 8.’6 42
.174 3.125 86.5”
75.5’ 82.86.25
92.4 81.5 81.712.5
80.9””5B、3” 60.2’
25 68.9””40.1”” 4
1.9”50 62.1″” 19.5″″”
18.3””75 100
ft3.4” 32.4” 34.’
l”88 25 81i、Oo
34.8” 42.0”87
3.125 80.7” 49.7
53.7B、25 74.5”41.
6” 46.312.5 83.4”
”29.9”″ 39.0″25 5
1.5”” 14.7”” 19.5”150
2B、7”” 3.6” 12
.2”8゜8 25 65.3”” 32.
8”” 37.8””数値は対照群の値を100とし
た場合のパーセントを示す。
(B/kg)TCh LDL−Ch A11
100 61.5”17.8 21.139
3.125 75.6” 29.9”
31.7”6.25 84.8″ 66.0
70.712.5 74.3”
52.8 58.525 44.4””
9.1” 14.6”“40 100
42.6″″ 13.6” 22.4”48
100 56.5”24.3 34.252
100 22.7”’″ 8.’6 42
.174 3.125 86.5”
75.5’ 82.86.25
92.4 81.5 81.712.5
80.9””5B、3” 60.2’
25 68.9””40.1”” 4
1.9”50 62.1″” 19.5″″”
18.3””75 100
ft3.4” 32.4” 34.’
l”88 25 81i、Oo
34.8” 42.0”87
3.125 80.7” 49.7
53.7B、25 74.5”41.
6” 46.312.5 83.4”
”29.9”″ 39.0″25 5
1.5”” 14.7”” 19.5”150
2B、7”” 3.6” 12
.2”8゜8 25 65.3”” 32.
8”” 37.8””数値は対照群の値を100とし
た場合のパーセントを示す。
1群は5匹。
*: P < 0.05
◆中:P<0.01
◆中傘: P < 0.001は対照群に対して有意差
ありTCh 、総コレステロール LDL−Ch:低比重リボ蛋白コレステロール^I;動
脈硬化指数(LDL−Ch/HDL−Ch)実験2 高
コレステロール食ラットの血清脂質に対する作用 体重200〜250gのウィスター系ラット(雄)に、
1%コレステロール、0.2%コール酸、2.5%オリ
ーブ油を混合した高コルステロール飼料を与えるととも
に0.5%CMG溶液に懸濁した本発明化合物を1日1
回5日間経口投与した後、血清脂質を測定した。結果は
、高コレステロール食を与えて、CMC溶液を投与した
対照群の値に対する抑制率で表す、結果を表5に示した
。
ありTCh 、総コレステロール LDL−Ch:低比重リボ蛋白コレステロール^I;動
脈硬化指数(LDL−Ch/HDL−Ch)実験2 高
コレステロール食ラットの血清脂質に対する作用 体重200〜250gのウィスター系ラット(雄)に、
1%コレステロール、0.2%コール酸、2.5%オリ
ーブ油を混合した高コルステロール飼料を与えるととも
に0.5%CMG溶液に懸濁した本発明化合物を1日1
回5日間経口投与した後、血清脂質を測定した。結果は
、高コレステロール食を与えて、CMC溶液を投与した
対照群の値に対する抑制率で表す、結果を表5に示した
。
表5 高コレステロール食ラットの血清脂質上昇に対す
る抑制作用 39 12.5 55.8″ 85.7 57.7
’ 68.2’25 94.8”144.8″″
98.0″” 9[I,7″150 105.5
”148.4 108.2”106.4”74 12.
5 32.7″ 38.7 33.2’ 43.
1”25 53.6″″ 42.3” 52.7
” 59.5”50 69.7”10B、1
72.8” 71.2187 12.5
62.7” 118.8 86.3’ 70.
ビ25 105.7”150.9”1013.6”L
O6,4”50 111.3””74.1 108.
9″″106.9”“数値は上昇抑制率()l[)L−
Chは低下抑制率)を示す。
る抑制作用 39 12.5 55.8″ 85.7 57.7
’ 68.2’25 94.8”144.8″″
98.0″” 9[I,7″150 105.5
”148.4 108.2”106.4”74 12.
5 32.7″ 38.7 33.2’ 43.
1”25 53.6″″ 42.3” 52.7
” 59.5”50 69.7”10B、1
72.8” 71.2187 12.5
62.7” 118.8 86.3’ 70.
ビ25 105.7”150.9”1013.6”L
O6,4”50 111.3””74.1 108.
9″″106.9”“数値は上昇抑制率()l[)L−
Chは低下抑制率)を示す。
1群は5匹
*:P<0.05
** : P < 0.01
1II: P < 0.001は対照群に対して有意差
ありTCh 、総コレステロール HDL−Ch 、 高比重リボ蛋白コレステロールLD
L−Ch 、低比重リポ蛋白コレステロールA■:動脈
硬化指数(LDL−Ch/HDL−Ch)以上の実験結
果から、本発明化合物は正常ラット及び高コレステロー
ル食ラットにおいて総コレステロール及び動脈硬化性の
低比重リポ蛋白コレステロールを低下させるか、又は上
昇を抑制させるとともに動脈硬化指数の改善作用を示し
た。
ありTCh 、総コレステロール HDL−Ch 、 高比重リボ蛋白コレステロールLD
L−Ch 、低比重リポ蛋白コレステロールA■:動脈
硬化指数(LDL−Ch/HDL−Ch)以上の実験結
果から、本発明化合物は正常ラット及び高コレステロー
ル食ラットにおいて総コレステロール及び動脈硬化性の
低比重リポ蛋白コレステロールを低下させるか、又は上
昇を抑制させるとともに動脈硬化指数の改善作用を示し
た。
実施例38及び85の化合物トついて、急性毒性をIC
R系マウスで検討したところ、それぞれ1 g/kg及
び3 g/kgの経口投与でなんら異常を示さず、死亡
固体もなかったことから低毒性であることが判明した。
R系マウスで検討したところ、それぞれ1 g/kg及
び3 g/kgの経口投与でなんら異常を示さず、死亡
固体もなかったことから低毒性であることが判明した。
他4名
手続補正書
平成Z年ぐ117←B
1、事件の表示
平成 1年特許願第1/97g′7号
2、発明の名称
4’”’−””!” hC)”’L’g:’Ef−。
3、補正をする者
事件との関係 出 願 人
4、代理 人
住 所 東京都千代田区丸の内2丁目6番2号丸の内
へ重洲ビル33G7、補正の対象 明lの待詐M−RのI−7くご項と;ミ\補
正 書 本願明細書中下北事項を補正致します。
へ重洲ビル33G7、補正の対象 明lの待詐M−RのI−7くご項と;ミ\補
正 書 本願明細書中下北事項を補正致します。
記
1、特許請求の範囲を別紙の如く訂正する。
2、第30頁下から5行目に
r[II夏]jとあるを
「[■]」と訂正する。
3、第30頁下から4行目に
’ [”/13 Jとあるを
’[IV]Jと訂正する。
4、第32頁下から4〜2行目に
「アルコキシ基、・・・・・アリルオキシ基を表す】」
とあるを 「アルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は
置換されていてもよいアリル基を表す】」と訂正する。
とあるを 「アルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は
置換されていてもよいアリル基を表す】」と訂正する。
5、第60頁6行目に
「フェニルプロピル−2−ブテニルエーテル」とあるを
「フェニルプロピル2−ブテニルエーテル」と訂正する
。
。
6、第60頁7行目に
r60%水酸化ナトリウム」とあるを
「60%水素化ナトリウム」と訂正する。
り、;′i″′)二1
代理人 本 多 小 平゛1゜
特許請求の範囲
(1)一般式[!]
[式中、Rは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し、nl、 R2,83及びR4は同−又は
相異なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級
アルキル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル
基、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基5、ヒド
ロキシ基、アシルオキシ基、置換されていてもよいアラ
ルキル基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は置
換されていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R2
とR3でメチレンジオキシ基を表してもよく、RSは水
素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されて
いてもよいアラルキル基を表すか、RとR4又は「とR
5とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環を
形成してもよく、R6及びR7は同−又は相異なり水素
原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されていて
もよいアリル基又は5員もしくは6員の複素環を示し、
^は一〇〇OR” (R’は水素原子、炭素数1〜6の
低級アルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又
は置換されていてもよいアリル基を表す)又は−ctt
、oR’ (R’は水素原子、炭素数1〜6の低級γ
ルキル基、炭素数2〜6の低級アルケニル基、アシル基
又は置換されていてもよいアラルキル基を表す)を表す
] で表されるインドール話導体1.それらの医薬的に許容
された塩及びその水和物。
、カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し、nl、 R2,83及びR4は同−又は
相異なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級
アルキル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル
基、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基5、ヒド
ロキシ基、アシルオキシ基、置換されていてもよいアラ
ルキル基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は置
換されていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R2
とR3でメチレンジオキシ基を表してもよく、RSは水
素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されて
いてもよいアラルキル基を表すか、RとR4又は「とR
5とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環を
形成してもよく、R6及びR7は同−又は相異なり水素
原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されていて
もよいアリル基又は5員もしくは6員の複素環を示し、
^は一〇〇OR” (R’は水素原子、炭素数1〜6の
低級アルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又
は置換されていてもよいアリル基を表す)又は−ctt
、oR’ (R’は水素原子、炭素数1〜6の低級γ
ルキル基、炭素数2〜6の低級アルケニル基、アシル基
又は置換されていてもよいアラルキル基を表す)を表す
] で表されるインドール話導体1.それらの医薬的に許容
された塩及びその水和物。
(2)一般式[I] テA カーC0OR’ (R’ハ
水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されて
いてもよいアラルキル基又は置換されていてもよいアリ
ル基を表す)であることを特徴とする、請求項1記載の
化合物、それらの医薬的に許容された塩及びその水和物
。
水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されて
いてもよいアラルキル基又は置換されていてもよいアリ
ル基を表す)であることを特徴とする、請求項1記載の
化合物、それらの医薬的に許容された塩及びその水和物
。
(3)一般式[I]で^が−CH20R9(R”は水素
原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、炭素数2〜6の
低級アルケニル基、アシル基又は置換されていてもよい
アラルキル基を表す)であることを特徴とする請求項1
記載の化合。
原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、炭素数2〜6の
低級アルケニル基、アシル基又は置換されていてもよい
アラルキル基を表す)であることを特徴とする請求項1
記載の化合。
物、それらの医薬的に許容された塩及びその水和物。
(4)一般式[■!]
[式中、Rは水素原子、素数1〜6の低級アルキル基、
カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラルキ
ル基を表し、R1゜R2,R3及びR4は同−又は相異
なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級アル
キル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基、
置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ
基、アシルオキシ基、置換されていてもよいアラルキル
基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換され
ていてもよいアラルキルオキシ基を表すか R2とR3
でメチレンジオキシ基を表してもよく、R5は水素原子
、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されていても
よいアラルキル基を表すか、RとR4又はR1とR5と
でヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環を形成
してもよく、R6及びR7は同−又は相異なり水素原子
、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されていてもよ
いフリル基又は5員もしくは6員の複素環を示し、na
は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換され
ていてもよいアラルキル基又は置換されていてもよいア
リル基を表す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
III ] [式中、R,R’、R”、R’、R’及びR5は前述の
通りある] で表される化合物と一般式[rV] X−C−COOR” [IV ][式
中、R6及びR7は前述の通りであり、Xはハロゲン原
子を表し、RIGは炭素数1〜6の低級アルキル基、置
換されていてもよいアラルキル基又は置換されていても
よいアリル基を表す] で表される化合物を塩基の存在下に反応させ、要すれば
カルボン酸エステルを加水分解することを特徴とする請
求項2記載の化合物の製造方法。
カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラルキ
ル基を表し、R1゜R2,R3及びR4は同−又は相異
なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級アル
キル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基、
置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ
基、アシルオキシ基、置換されていてもよいアラルキル
基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換され
ていてもよいアラルキルオキシ基を表すか R2とR3
でメチレンジオキシ基を表してもよく、R5は水素原子
、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されていても
よいアラルキル基を表すか、RとR4又はR1とR5と
でヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環を形成
してもよく、R6及びR7は同−又は相異なり水素原子
、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されていてもよ
いフリル基又は5員もしくは6員の複素環を示し、na
は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換され
ていてもよいアラルキル基又は置換されていてもよいア
リル基を表す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
III ] [式中、R,R’、R”、R’、R’及びR5は前述の
通りある] で表される化合物と一般式[rV] X−C−COOR” [IV ][式
中、R6及びR7は前述の通りであり、Xはハロゲン原
子を表し、RIGは炭素数1〜6の低級アルキル基、置
換されていてもよいアラルキル基又は置換されていても
よいアリル基を表す] で表される化合物を塩基の存在下に反応させ、要すれば
カルボン酸エステルを加水分解することを特徴とする請
求項2記載の化合物の製造方法。
(5)一般式[V]
[式中、R1,R243及びR4は同−又は相異なり水
素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基、置換さ
れていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ア
シルオキシ基、置換されていてもよいアラルキル基1、
置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換されてい
てもよいアラルキルオキシ基を表すか、R2とR3でメ
チレンジオキシ基を表してもよく、R8は水素原子、炭
素数1〜6の低級アルキル基又は置換されていてもよい
アラルキル基を表すか、R1とnaとでヘテロ原子を含
んでもよいメチレン鎖で6員環を形成してもよく、R6
及びR7は同−又は相異なり水素原子、炭素数1〜6の
低級アルキル基、置換されていてもよいアリル基又は5
員もしくは6員の複素環を示す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
冑] 8重 [式中、R1,n24!44及びRsは前述の通りであ
る] で表される化合物と一般式[IV] X−C−GOOR” [IV ][式
中、R6及びR7は前述の通りであり、Xはハロゲン原
子を表し、RIGは炭素数1〜6の低級アルキル基、置
換されていてもよいアラルキル基又は置換されていても
よいアリル基を表す] で表される化合物を過剰の塩基の存在下に反応させて一
般式[■] [式中、11.H243,H44Jl+及びR7は前述
の通りである] で表される化合物を得、ついで開環することを特徴とす
る請求項2記載の化合物でR及びR8が水素原子を表す
化合物の製造方法。
素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基、置換さ
れていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ア
シルオキシ基、置換されていてもよいアラルキル基1、
置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換されてい
てもよいアラルキルオキシ基を表すか、R2とR3でメ
チレンジオキシ基を表してもよく、R8は水素原子、炭
素数1〜6の低級アルキル基又は置換されていてもよい
アラルキル基を表すか、R1とnaとでヘテロ原子を含
んでもよいメチレン鎖で6員環を形成してもよく、R6
及びR7は同−又は相異なり水素原子、炭素数1〜6の
低級アルキル基、置換されていてもよいアリル基又は5
員もしくは6員の複素環を示す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
冑] 8重 [式中、R1,n24!44及びRsは前述の通りであ
る] で表される化合物と一般式[IV] X−C−GOOR” [IV ][式
中、R6及びR7は前述の通りであり、Xはハロゲン原
子を表し、RIGは炭素数1〜6の低級アルキル基、置
換されていてもよいアラルキル基又は置換されていても
よいアリル基を表す] で表される化合物を過剰の塩基の存在下に反応させて一
般式[■] [式中、11.H243,H44Jl+及びR7は前述
の通りである] で表される化合物を得、ついで開環することを特徴とす
る請求項2記載の化合物でR及びR8が水素原子を表す
化合物の製造方法。
(6)一般式[■]
[式中、Rは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し、R1,R2,R3及びR4は同−又は相
異なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級ア
ルキル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基
、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキ
シ基、アシルオキシ基、置換されていてもよいアラルキ
ル基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換さ
れていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R2とR
3でメチレンジオキシ基を表してもよく、R8は水素原
子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されていて
もよいアラルキル基を表すか、RとR4又はR1とRS
とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環を形
成してもよく、R6及びR7は同−又は相異なり水素原
子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されていても
よし〜アリル基又は5員もしくは6員の複素環を示し、
RIGは炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されて
いてもよいアラルキル基を表す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
IX] [式中、R,R’、R2,R’、R’、R’、R’及び
R7は前述の通りである] で表される化合物と一般式[X] R”OH[X ] [式中 BIG、は前述の通りである]で表される化合
物をアゾジカルボン酸ジエチル及びトリフェニルホスフ
ィンの存在下に反応させることを特徴とする請求項2記
載の化合物でRaが炭素数1〜6の低級アルキル基又は
置換されていてもよいアラルキル基を表す化合物の製造
方法。
、カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し、R1,R2,R3及びR4は同−又は相
異なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級ア
ルキル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基
、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキ
シ基、アシルオキシ基、置換されていてもよいアラルキ
ル基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換さ
れていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R2とR
3でメチレンジオキシ基を表してもよく、R8は水素原
子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されていて
もよいアラルキル基を表すか、RとR4又はR1とRS
とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環を形
成してもよく、R6及びR7は同−又は相異なり水素原
子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されていても
よし〜アリル基又は5員もしくは6員の複素環を示し、
RIGは炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されて
いてもよいアラルキル基を表す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
IX] [式中、R,R’、R2,R’、R’、R’、R’及び
R7は前述の通りである] で表される化合物と一般式[X] R”OH[X ] [式中 BIG、は前述の通りである]で表される化合
物をアゾジカルボン酸ジエチル及びトリフェニルホスフ
ィンの存在下に反応させることを特徴とする請求項2記
載の化合物でRaが炭素数1〜6の低級アルキル基又は
置換されていてもよいアラルキル基を表す化合物の製造
方法。
(7)一般式[XI]
ロエ
[式中、Rは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、又は置換されていてもよいアラルキル基を表し、R1
,R243及びR4は同−又は相異なり水素原子、ハロ
ゲン原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、炭素数1〜
6の低級アルコキシ基、置換されていてもよいアミノ基
、ニトロ基、ヒドロキシ基、置換されていてもよいアラ
ルキル基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は置
換されていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R2
と83でメチレンジオキシ基を表してもよく、R5は水
素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されて
いてもよいアラルキル基を表すか、RとR4又はR1と
R5とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環
を形成してもよく、R6及びR7は同−又は相異なり水
素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されてい
てもよいアリル基又は5員もしくは6員の複素環を示す
] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
I!] l [式中、R,R’、R”、R’、R’、R’工R6及び
R7は前述の通りであり、R6は水素原子、炭素数1〜
6の低級アルキル基、置換されていてもよいアラルキル
基又は置換されていてもよいアリル基を表す] で表される化合物を還元することを特徴とする請求項3
記載の化合物で89が水素原子を表す化合物の製造方法
。
、又は置換されていてもよいアラルキル基を表し、R1
,R243及びR4は同−又は相異なり水素原子、ハロ
ゲン原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、炭素数1〜
6の低級アルコキシ基、置換されていてもよいアミノ基
、ニトロ基、ヒドロキシ基、置換されていてもよいアラ
ルキル基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は置
換されていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R2
と83でメチレンジオキシ基を表してもよく、R5は水
素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されて
いてもよいアラルキル基を表すか、RとR4又はR1と
R5とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環
を形成してもよく、R6及びR7は同−又は相異なり水
素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されてい
てもよいアリル基又は5員もしくは6員の複素環を示す
] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
I!] l [式中、R,R’、R”、R’、R’、R’工R6及び
R7は前述の通りであり、R6は水素原子、炭素数1〜
6の低級アルキル基、置換されていてもよいアラルキル
基又は置換されていてもよいアリル基を表す] で表される化合物を還元することを特徴とする請求項3
記載の化合物で89が水素原子を表す化合物の製造方法
。
(8)一般式[XI]
+111
[式中、Rは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し、H142,R3及びR4は同−又は相異
なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級アル
キル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、置換されて
いてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、置換さ
れていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいア
リルオキシ基又は置換されていてもよいアラルキルオキ
シ基を表すか R2とR3でメチレンジオキシ基を表し
てもよく、R5は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキ
ル基又は置換されていてもよいアラルキル基を表すか、
RとR4又はR1とR5とでヘテロ原子を含んでもよい
メチレン鎖で6員環を形成してもよく、R6及びR7は
同−又は相異なり水素原子、炭素数1〜6の低級アルキ
ル基、置換されていてもよいアリル基又は5員もしくは
6員の複素環を示す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
IX] c式中、R,R’、R2,Fl’、R’、R’工R6及
びR7は前述の通りである] で表される化合物をα−八へエステルと反応させ、混合
酸無水物を形成させ、ついで還元することを特徴とする
請求項3記載の化合物でR9が水素原子を表す化合物の
製造方法。
、カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し、H142,R3及びR4は同−又は相異
なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級アル
キル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、置換されて
いてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、置換さ
れていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいア
リルオキシ基又は置換されていてもよいアラルキルオキ
シ基を表すか R2とR3でメチレンジオキシ基を表し
てもよく、R5は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキ
ル基又は置換されていてもよいアラルキル基を表すか、
RとR4又はR1とR5とでヘテロ原子を含んでもよい
メチレン鎖で6員環を形成してもよく、R6及びR7は
同−又は相異なり水素原子、炭素数1〜6の低級アルキ
ル基、置換されていてもよいアリル基又は5員もしくは
6員の複素環を示す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
IX] c式中、R,R’、R2,Fl’、R’、R’工R6及
びR7は前述の通りである] で表される化合物をα−八へエステルと反応させ、混合
酸無水物を形成させ、ついで還元することを特徴とする
請求項3記載の化合物でR9が水素原子を表す化合物の
製造方法。
(9)一般式[X[I]
R1
[式中、Rは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、又は置換されていてもよいアラルキル基を表し nl
、R2,R3及びR4は同−又は相異なり水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、炭素数1
〜6の低級アルコキシ基、置換されていてもよいアミノ
基、ニトロ基、ヒドロキシ基、置換されていてもよいア
ラルキル基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は
置換されていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R
2と83でメチレンジオキシ基を表してもよく、R5は
水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換され
ていてもよいアラルキル基を表すか、RとR4又はR1
とR5とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員
環を形成してもよく、R6及びR7は同−又は相異なり
水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されて
いてもよいアリル基又は5員もしくは6員の複素環を示
し、R1は炭素数1〜6の低級アルキル基、炭素数2〜
6め低級アルケニル基、アシル基又は置換されていても
よいアラルキル基を表す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
XI] [式中、 R,R’、R2,R’、R’、R’;R’及
ヒR’ハ前述の通りである] で表される化合物と一般式[XII] R目Y [XIII][式中、R11
は炭素数1〜6の低級アルキル基、アシル基、炭素数2
〜6の低級アルケニ基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し%Yはハロゲン原子を表す]で表される化
合物を反応させることを特徴とする請求項3記載の化合
物でR″が炭素数1〜6の低級アルキル基、炭素数2〜
6の低級アルケニル基、アシル基又は置換されていても
よいアラルキル基を表す化合物の製造方法。
、又は置換されていてもよいアラルキル基を表し nl
、R2,R3及びR4は同−又は相異なり水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、炭素数1
〜6の低級アルコキシ基、置換されていてもよいアミノ
基、ニトロ基、ヒドロキシ基、置換されていてもよいア
ラルキル基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は
置換されていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R
2と83でメチレンジオキシ基を表してもよく、R5は
水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換され
ていてもよいアラルキル基を表すか、RとR4又はR1
とR5とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員
環を形成してもよく、R6及びR7は同−又は相異なり
水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されて
いてもよいアリル基又は5員もしくは6員の複素環を示
し、R1は炭素数1〜6の低級アルキル基、炭素数2〜
6め低級アルケニル基、アシル基又は置換されていても
よいアラルキル基を表す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
XI] [式中、 R,R’、R2,R’、R’、R’;R’及
ヒR’ハ前述の通りである] で表される化合物と一般式[XII] R目Y [XIII][式中、R11
は炭素数1〜6の低級アルキル基、アシル基、炭素数2
〜6の低級アルケニ基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し%Yはハロゲン原子を表す]で表される化
合物を反応させることを特徴とする請求項3記載の化合
物でR″が炭素数1〜6の低級アルキル基、炭素数2〜
6の低級アルケニル基、アシル基又は置換されていても
よいアラルキル基を表す化合物の製造方法。
(lO)一般式[XIV]
nl
〔式中、B1.R2,R3及びR4は同−又は相異なり
水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級アルキル
基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基、置換
されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、
アシルオキシ基、置換されていてもよいアラルキル基、
置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換されてい
てもよいアラルキルオキシ基を表すか、R2とR3でメ
チレンジオキシ基を表してもよく、R11は水素原子、
炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されていてもよ
いアラルキル基を表すか、RとR4又は「とPとでヘテ
ロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環を形成しても
よく、R6及びR7は同−又は相異なり水素原子、炭素
数1〜6の低級アルキル基、置換されていてもよいアリ
ル基又は5員もしくは6員の複素環を示し、^は−GO
OR’ (R6は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキ
ル基、置換されていてもよいアラルキル基又は置換され
ていて゛もよいアリル基を表す)又Gt (:H2OR
” (RJt水素原子、炭s数1〜6の低級アルキル基
、炭素数2〜6の低級アルケニル基、アシル基又は置換
されていてもよいアラルキル基を表す)を表し、R12
は炭素数1〜6の低級アルキル基、カルボキシメチル基
又は置換されていてもよいアラルキル基を表す] で表されるインドール誘導体、それらの医薬的に許容さ
れた塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[X
V] [式中、R’、R’、R’、R’、R’、R’、R’及
ヒA lt前述の通りである] で表される化合物と一般式 [嘉] R12Y [蹟J[式中、R1
2は前述の通りであり、Yはハロゲン原子を表す] で表される化合物を反応させることを特徴とする請求項
1記載の化合物でRが炭素数1〜6の低級アルキル基、
カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラルキ
ル基を表す化合物の製造方法。
水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級アルキル
基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基、置換
されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、
アシルオキシ基、置換されていてもよいアラルキル基、
置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換されてい
てもよいアラルキルオキシ基を表すか、R2とR3でメ
チレンジオキシ基を表してもよく、R11は水素原子、
炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されていてもよ
いアラルキル基を表すか、RとR4又は「とPとでヘテ
ロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環を形成しても
よく、R6及びR7は同−又は相異なり水素原子、炭素
数1〜6の低級アルキル基、置換されていてもよいアリ
ル基又は5員もしくは6員の複素環を示し、^は−GO
OR’ (R6は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキ
ル基、置換されていてもよいアラルキル基又は置換され
ていて゛もよいアリル基を表す)又Gt (:H2OR
” (RJt水素原子、炭s数1〜6の低級アルキル基
、炭素数2〜6の低級アルケニル基、アシル基又は置換
されていてもよいアラルキル基を表す)を表し、R12
は炭素数1〜6の低級アルキル基、カルボキシメチル基
又は置換されていてもよいアラルキル基を表す] で表されるインドール誘導体、それらの医薬的に許容さ
れた塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[X
V] [式中、R’、R’、R’、R’、R’、R’、R’及
ヒA lt前述の通りである] で表される化合物と一般式 [嘉] R12Y [蹟J[式中、R1
2は前述の通りであり、Yはハロゲン原子を表す] で表される化合物を反応させることを特徴とする請求項
1記載の化合物でRが炭素数1〜6の低級アルキル基、
カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラルキ
ル基を表す化合物の製造方法。
(11)一般式[I]
[式中、Rは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し、Hl、R2,R3及びR4は同−又は相
異なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級ア
ルキル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基
、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキ
シ基、アシルオキシ基、置換されていてもよいアラルキ
ル基、Wjhされていてもよいアリルオキシ基又は置換
されていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R2と
R3でメチレンジオキシ基を表してもよく、R5は水素
原子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されてい
てもよいアラルキル基を表すか、RとR4又はR1とR
Sとでペテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環を
形成してもよく、R6及びR7は同−又は相異なり水素
原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されていて
もよいアリル基又は5員もしくは6員の複素環を示し、
^は−GOOR’ (R”は水素原子、炭素数1〜6の
低級アルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又
は置換されていてもよいアリル基を表す)又は−CH2
0R”(allは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキ
ル基、炭素数2〜6の低級アルケニル基、アシル基又は
置換されていてもよいアラルキル基を表す)を表す] で表されるインドール誘導体、それらの医薬的に許容さ
れた塩及びその水和物の少なくとも一種以上を有効成分
とする脂質低下剤。
、カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し、Hl、R2,R3及びR4は同−又は相
異なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級ア
ルキル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基
、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキ
シ基、アシルオキシ基、置換されていてもよいアラルキ
ル基、Wjhされていてもよいアリルオキシ基又は置換
されていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R2と
R3でメチレンジオキシ基を表してもよく、R5は水素
原子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されてい
てもよいアラルキル基を表すか、RとR4又はR1とR
Sとでペテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環を
形成してもよく、R6及びR7は同−又は相異なり水素
原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されていて
もよいアリル基又は5員もしくは6員の複素環を示し、
^は−GOOR’ (R”は水素原子、炭素数1〜6の
低級アルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又
は置換されていてもよいアリル基を表す)又は−CH2
0R”(allは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキ
ル基、炭素数2〜6の低級アルケニル基、アシル基又は
置換されていてもよいアラルキル基を表す)を表す] で表されるインドール誘導体、それらの医薬的に許容さ
れた塩及びその水和物の少なくとも一種以上を有効成分
とする脂質低下剤。
Claims (11)
- (1)一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] 〔式中、Rは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し、 R^1、R^2、R^2及びR^4は同一又は相異なり
水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級アルキル
基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基、置換
されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、
アシルオキシ基、置換されていてもよいアラルキル基、
置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換されてい
てもよいアラルキルオキシ基を表すか、R^2とR^3
でメチレンジオキシ基を表してもよく、R^5は水素原
子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されていて
もよいアラルキル基を表すか、RとR^4又はR^1と
R^5とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員
環を形成してもよく、R^6及びR^7は同一又は相異
なり水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換さ
れていてもよいアリル基又は5員もしくは6員の複素環
を示し、Aは−COOR^8(R^8は水素原子、炭素
数1〜6の低級アルキル基、置換されていてもよいアラ
ルキル基又は置換されていてもよいアリル基を表す)又
は−CH_2OR^9(R^9は水素原子、炭素数1〜
6の低級アルキル基、炭素数2〜6の低級アルケニル基
、アシル基又は置換されていてもよいアラルキル基を表
す)を表す] で表されるインドール誘導体、それらの、医薬的に許容
された塩及びその水和物。 - (2)一般式[ I ]でAが−COOR^8(R^8は
水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されて
いてもよいアラルキル基又は置換されていてもよいアリ
ル基を表す)であることを特徴とする、請求項1記載の
化合物、それらの医薬的に許容された塩及びその水和物
。 - (3)一般式[ I ]でAが−CH_2OR^9(R^
9は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、炭素数
2〜6の低級アルケニル基、アシル基又は置換されてい
てもよいアラルキル基を表す)であることを特徴とする
、請求項1記載の化合物、それらの医薬的に許容された
塩及びその水和物。 - (4)一般式[II] ▲数式、化学式、表等があります▼[II] [式中、Rは水素原子、素数1〜6の低級アルキル基、
カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラルキ
ル基を表し、R^1、R^2、R^3及びR^4は同一
又は相異なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の
低級アルキル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、ア
シル基、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒ
ドロキシ基、アシルオキシ基、置換されていてもよいア
ラルキル基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は
置換されていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R
^2とR^3でメチレンジオキシ基を表してもよく、R
^5は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置
換されていてもよいアラルキル基を表すか、RとR^4
又はR^1とR^5とでヘテロ原子を含んでもよいメチ
レン鎖で6員環を形成してもよく、R^6及びR^7は
同一又は相異なり水素原子、炭素数1〜6の低級アルキ
ル基、置換されていてもよいアリル基又は5員もしくは
6員の複素環を示し、R^8は水素原子、炭素数1〜6
の低級アルキル基、置換されていてもよいアラルキル基
又は置換されていてもよいアリル基を表す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
III] ▲数式、化学式、表等があります▼[III] [式中、R、R^1、R^2、R^3、R^4及びR^
5は前述の通りある] で表される化合物と一般式[IV] ▲数式、化学式、表等があります▼[IV] 〔式中、R^6及びR^7は前述の通りであり、Xはハ
ロゲン原子を表し、R^1^0は炭素数1〜6の低級ア
ルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は置換
されていてもよいアリル基を表す] で表される化合物を塩基の存在下に反応さ せ、要すればカルボン酸エステルを加水分解することを
特徴とする請求項2記載の化合物の製造方法。 - (5)一般式[V] ▲数式、化学式、表等があります▼[V] [式中、R^1、R^2、R^3及びR^4は同一又は
相異なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級
アルキル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル
基、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロ
キシ基、アシルオキシ基、置換されていてもよいアラル
キル基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換
されていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R^2
とR^3でメチレンジオキシ基を表してもよく、R^5
は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換さ
れていてもよいアラルキル基を表すか、R^1とR^5
とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員環を形
成してもよく、R^6及びR^7は同一又は相異なり水
素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されてい
てもよいアリル基又は5員もしくは6員の複素環を示す
] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
VI] ▲数式、化学式、表等があります▼[VI] [式中、R^1、R^2、R^3、R^4及びR^5は
前述の通りである] で表される化合物と一般式[IV] ▲数式、化学式、表等があります▼[IV] [式中、R^5及びR^7は前述の通りであり、Xはハ
ロゲン原子を表し、R^1^0は炭素数1〜6の低級ア
ルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は置換
されていてもよいアリル基を表す] で表される化合物を過剰の塩基の存在下に反応させて一
般式[VII] ▲数式、化学式、表等があります▼[VII] [式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5、R
^6及びR^7は前述の通りである] で表される化合物を得、ついで開環することを特徴とす
る請求項2記載の化合物でR及びR^8が水素原子を表
す化合物の製造方法。 - (6)一般式[VIII] ▲数式、化学式、表等があります▼[VIII] 〔式中、Rは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し、 R^1、R^2、R^3及びR^4は同一又は相異なり
水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級アルキル
基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基、置換
されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、
アシルオキシ基、置換されていても、よいアラルキル基
、置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換されて
いてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R^2とR^
3でメチレンジオキシ基を表してもよく、R^5は水素
原子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されてい
てもよいアラルキル基を表すか、RとR^4又はR^1
とR^5とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6
員環を形成してもよく、R^6及びR^7は同一又は相
異なり水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換
されていてもよいアリル基又は5員もしくは6員の複素
環を示し、R^1^0は炭素数1〜6の低級アルキル基
又は置換されていてもよいアラルキル基を表す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
IX] ▲数式、化学式、表等があります▼[IX] 〔式中、R、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5
、R^6及びR^7は前述の通りである〕 で表される化合物と一般式[X] R^1^0OH[X] [式中、R^1^0は前述の通りである] で表される化合物をアゾジカルボン酸ジエチル及びトリ
フェニルホスフィンの存在下に反応させることを特徴と
する請求項2記載の化合物でR^8が炭素数1〜6の低
級アルキル基又は置換されていてもよいアラルキル基を
表す化合物の製造方法。 - (7)一般式[X I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[X I ] [式中、Rは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、又は置換されていてもよいアラルキル基を表し、R^
1、R^2、R^3びR^4は同一又は相異なり水素原
子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、炭
素数1〜6の低級アルコキシ基、置換されていてもよい
アミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、置換されていても
よいアラルキル基、置換されていてもよいアリルオキシ
基又は置換されていてもよいアラルキルオキシ基を表す
か、R^2とR^3でメチレンジオキシ基を表してもよ
く、R^5は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
又は置換されていてもよいアラルキル基を表すか、Rと
R^4又はR^1とR^5とでヘテロ原子を含んでもよ
いメチレン鎖で6員環を形成してもよく、R^6及びR
^7は同一又は相異なり水素原子、炭素数1〜6の低級
アルキル基、置換されていてもよいアリル基又は5員も
しくは6員の複素環を示す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
II] ▲数式、化学式、表等があります▼[II] [式中、R、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5
、R^6及びR^7は前述の通りであり、R^8は水素
原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されていて
もよい アラルキル基又は置換されていてもよいアリル基を表す
] で表される化合物を還元することを特徴とする請求項3
記載の化合物でR^9が水素原子を表す化合物の製造方
法。 - (8)一般式[X I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[X I ] [式中、Rは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、カルボキシメチル基又は置換 されていてもよいアラルキル基を表し、 R^1、R^2、R^3及びR^4は同一又は相異なり
水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級アルキル
基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、置換されていて
もよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、置換されて
いてもよいアラルキル基、置換されていてもよいアリル
オキシ基又は置換されていてもよいアラルキルオキシ基
を表すか、R^2とR^3でメチレンジオキシ基を表し
てもよく、R^5は水素、原子、炭素数1〜6の低級ア
ルキル基又は置換されていてもよいアラルキル基を表す
か、RとR^4又はR^1とR^5とでヘテロ原子を含
んでもよいメチレン鎖で6員環を形成してもよく、R^
6及びR^7は同一又は相異なり水素原子、炭素数1〜
6の低級アルキル基、置換されていてもよいアリル基又
は5員もしくは6員の複素環を示す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
X I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[X I ] [式中、R、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5
、R^6及びR^7は前述の通りである] で表される化合物をα−ハロエステルと反応させ、混合
酸無水物を形成させ、ついで還元することを特徴とする
請求項3記載の化合物でR^9が水素原子を表す化合物
の製造方法。 - (9)一般式[XII] ▲数式、化学式、表等があります▼[XII] [式中、Rは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、又は置換されていてもよいアラルキル基を表し、R^
1、R^2、R^3及びR^4は同一又は相異なり水素
原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、
炭素数1〜6の低級アルコキシ基、置換されていてもよ
いアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、置換されていて
もよいアラルキル基、置換されていてもよいアリルオキ
シ基又は置換されていてもよいアラルキルオキシ基を表
すか、R^2とR^3でメチレンジオキシ基を表しても
よく、R^5は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル
基又は置換されていてもよいアラルキル基を表すか、R
とR^4又はR^1とR^5とでヘテロ原子を含んでも
よいメチレン鎖で6員環を形成してもよく、R^6及び
R^7は同一又は相異なり水素原子、炭素数1〜6の低
級アルキル基、置換されていてもよいアリル基又は5員
もしくは6員の複素環を示し、R^1^1は炭素数1〜
6の低級アルキル基、炭素数2〜6の低級アルケニル基
、アシル基又は置換されていてもよいアラルキル基を表
す] で表されるインドール誘導体及びそれらの医薬的に許容
された塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[
X I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[X I ] [式中、R、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5
、R^6及びR^7は前述の通りである] で表される化合物と一般式[XIII] R^1^1Y[XIII] [式中、R^1^1は炭素数1〜6の低級アルキル基、
アシル基、炭素数2〜6の低級アルニケル基又は置換さ
れていてもよいアラルキル基を表し、Yはハロゲン原子
を表す] で表される化合物を反応させることを特徴とする請求項
3記載の化合物でR^9が炭素数1〜6の低級アルキル
基、炭素数2〜6の低級アルケニル基、アシル基又は置
換されていてもよいアラルキル基を表す化合物の製造方
法。 - (10)一般式[XIV] ▲数式、化学式、表等があります▼[XIV] [式中、R^1、R^2、R^3及びR^4は同一又は
相異なり水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級
アルキル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル
基、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロ
キシ基、アシルオキシ基、置換されていてもよいアラル
キル基、置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換
されていてもよいアラルキルオキシ基を表すか、R^2
とR^3でメチレンジオキシ基を表してもよく、R^5
は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換さ
れていてもよいアラルキル基を表すか、RとR^4又は
R^1とR^5とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン
鎖で6員環を形成してもよく、R^6及びR^7は同一
又は相異なり水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、置換されていてもよいアリル基又は5員もしくは6員
の複素環を示し、Aは−COOR^5(R^6は水素原
子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換されていても
よいアラルキル基又は置換されていてもよいアリル基を
表す) 又は−CH_2OR^9(R^9は水素原子、炭素数1
〜6の低級アルキル基、炭素数2〜6の低級アルケニル
基、置換されていてもよいアリル基又は置換されていて
もよいアラルキル基を表す)を表し、R^1^2は炭素
数1〜6の低級アルキル基、カルボキシメチル基又は置
換されていてもよいアラルキル基を表す] で表されるインドール誘導体、それらの医薬的に許容さ
れた塩及びその水和物を製造するにあたり、一般式[X
V] ▲数式、化学式、表等があります▼[XV] [式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5、R
^6、R^7及びAは前述の通りである] で表される化合物と一般式[XVI] R^1^2Y[XVI] [式中、R^1^2は前述の通りであり、Yはハロゲン
原子を表す] で表される化合物を反応させることを特徴とする請求項
1記載の化合物でRが炭素数1〜6の低級アルキル基、
カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラルキ
ル基を表す化合物の製造方法。 - (11)一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] [式中、Rは水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
、カルボキシメチル基又は置換されていてもよいアラル
キル基を表し、 R^1、R^2、R^3及びR^4は同一又は相異なり
水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の低級アルキル
基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、アシル基、置換
されていてもよいアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、
アシルオキシ基、置換されていてもよいアラルキル基、
置換されていてもよいアリルオキシ基又は置換されてい
てもよいアラルキルオキシ基を表すか、R^2とR^3
でメチレンジオキシ基を表してもよく、R^5は水素原
子、炭素数1〜6の低級アルキル基又は置換されていて
もよいアラルキル基を表すか、RとR^4又はR^1と
R^5とでヘテロ原子を含んでもよいメチレン鎖で6員
環を形成してもよく、R^6及びR^7は同一又は相異
なり水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基、置換さ
れていてもよいアリル基又は5員もしくは6員の複素環
を示し、Aは−COOR^8(R^8は水素原子、炭素
数1〜6の低級アルキル基、置換されていてもよいアラ
ルキル基又は置換されていてもよいアリル基を表す)又
は−CH_2OR^9(R^9は水素原子、炭素数1〜
6の低級アルキル基、炭素数2〜6の低級アルケニル基
、置換されていてもよいアリル基又は置換されていても
よいアラルキル基を表す) を表す] で表されるインドール誘導体、それらの医薬的に許容さ
れた塩及びその水和物の少なくとも一種以上を有効成分
とする脂質低下剤。
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