JPH1160583A - セファロスポリン誘導体の製造のための反応試薬 - Google Patents
セファロスポリン誘導体の製造のための反応試薬Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/02—Preparation
- C07D501/04—Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
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- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/18—7-Aminocephalosporanic or substituted 7-aminocephalosporanic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規セファロスポリン誘導体の製造のための
試薬を提供すること。 【解決方法】 単離された、化学式 【化1】 (式中、Rは低級アルキル基およびR1は水素原子または
メトキシ基である)で示される物質を必須成分とする、
セファロスポリン誘導体の製造のための反応試剤。
試薬を提供すること。 【解決方法】 単離された、化学式 【化1】 (式中、Rは低級アルキル基およびR1は水素原子または
メトキシ基である)で示される物質を必須成分とする、
セファロスポリン誘導体の製造のための反応試剤。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】セファロスポリン類は、人間
医学に使用される価値ある抗生物質である。これらの化
合物の1部のもの(例えば、セファロチン、セフォタキ
シム)は、7−アミノセファロスポラン酸(7−ACA)
なる基本骨格から誘導される。7−ACAは、セファロ
スポリンCを発酵生産し、その天然生産物を単離し、側
鎖を分解することによって簡単に製造することができ、
容易に入手し得る商業製品である。
医学に使用される価値ある抗生物質である。これらの化
合物の1部のもの(例えば、セファロチン、セフォタキ
シム)は、7−アミノセファロスポラン酸(7−ACA)
なる基本骨格から誘導される。7−ACAは、セファロ
スポリンCを発酵生産し、その天然生産物を単離し、側
鎖を分解することによって簡単に製造することができ、
容易に入手し得る商業製品である。
【0002】
【従来の技術】一方、今日治療上使用されているセファ
ロスポリン類の本質的な大部分を占めているのは、3位
に7−ACAと異なる残基を有する7−アミノセファロ
スポラン酸類から誘導されたものである(例えば、セフ
ァロリジン、セファマンドール、セフアゾリン、セフォ
ペラゾン、セフタジディム、セフトリアキソン、セフメ
ノキシム、セフォニシド)。この種の化合物を製造する
には、通常、まず7−ACAの3位置換基を置換し、得
られた7−ACAの3位置換体を単離しなければならな
い。次いで、7位をアシル化する段階を経て、所望のセ
ファロスポリン抗生物質が単離される。
ロスポリン類の本質的な大部分を占めているのは、3位
に7−ACAと異なる残基を有する7−アミノセファロ
スポラン酸類から誘導されたものである(例えば、セフ
ァロリジン、セファマンドール、セフアゾリン、セフォ
ペラゾン、セフタジディム、セフトリアキソン、セフメ
ノキシム、セフォニシド)。この種の化合物を製造する
には、通常、まず7−ACAの3位置換基を置換し、得
られた7−ACAの3位置換体を単離しなければならな
い。次いで、7位をアシル化する段階を経て、所望のセ
ファロスポリン抗生物質が単離される。
【0003】また、この反応は逆の順に実施することも
可能である。すなわち、まず所望の残基で7−ACAの
7位のアシル化を行なって、7−ACAのアシル誘導体
を単離する。次いで、緩衝水溶液中で置換基の置換を行
ない、常法により、初期の目的であるセファロスポリン
生産物へと誘導する。
可能である。すなわち、まず所望の残基で7−ACAの
7位のアシル化を行なって、7−ACAのアシル誘導体
を単離する。次いで、緩衝水溶液中で置換基の置換を行
ない、常法により、初期の目的であるセファロスポリン
生産物へと誘導する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】これらの両反応には限
界がある。つまり3位または7位における所望の残基の
組合わせ次第では、無差別にこれらの反応を実施するわ
けには行かないのである。アシル化、置換反応または単
離またはそれらを組合わせた何れの場合でも、プロトン
性媒質中で操作しなければならない。7位の側鎖がアシ
ル化され易い、もしくは活性化された官能基である場合
には、まずこの基を、選ばれた保護基で保護し、初期の
目的であるセファロスポリン生産物を単離した後、もう
一度この保護基を脱離しなければならない。
界がある。つまり3位または7位における所望の残基の
組合わせ次第では、無差別にこれらの反応を実施するわ
けには行かないのである。アシル化、置換反応または単
離またはそれらを組合わせた何れの場合でも、プロトン
性媒質中で操作しなければならない。7位の側鎖がアシ
ル化され易い、もしくは活性化された官能基である場合
には、まずこの基を、選ばれた保護基で保護し、初期の
目的であるセファロスポリン生産物を単離した後、もう
一度この保護基を脱離しなければならない。
【0005】
【課題を解決するための手段】この種の化合物を製造す
る従来技術には、本来3通りの方法があるが、何れも若
干の問題を有している。西ドイツ国公開特許第2804
896号(トヤマ)には、7−アミノセフェム(3)−4−
カルボン酸と過剰のルイス酸またはプロトン酸との反応
が開示され、その際、3フッ化ホウ素の使用が好ましい
ことが記載されている。この種の試薬はきわめて毒性が
強く、環境問題を生じ易いが、そのほかにも、プロトン
性媒質中で強酸条件下、β−ラクタムが不安定であるこ
とは周知の事実である。
る従来技術には、本来3通りの方法があるが、何れも若
干の問題を有している。西ドイツ国公開特許第2804
896号(トヤマ)には、7−アミノセフェム(3)−4−
カルボン酸と過剰のルイス酸またはプロトン酸との反応
が開示され、その際、3フッ化ホウ素の使用が好ましい
ことが記載されている。この種の試薬はきわめて毒性が
強く、環境問題を生じ易いが、そのほかにも、プロトン
性媒質中で強酸条件下、β−ラクタムが不安定であるこ
とは周知の事実である。
【0006】第2の方法として、緩衝水溶液中における
3位の置換反応が開示されている(米国特許第3516
997号)。この方法では、pH5〜9の緩衝溶液におい
て摘要条件下(7−ACA+複素環チオール)でセファロ
スポリンの大半が分解し、標題化合物が充分な純度で得
られないため収量が悪い。
3位の置換反応が開示されている(米国特許第3516
997号)。この方法では、pH5〜9の緩衝溶液におい
て摘要条件下(7−ACA+複素環チオール)でセファロ
スポリンの大半が分解し、標題化合物が充分な純度で得
られないため収量が悪い。
【0007】第3の方法として、既に所期の置換基を3
位に有するセファロスポリンにおいて、その7位の側鎖
のアシル化および脱離を行なう方法が開示されている
(例えば米国特許第4369313号)。然しこの特許に
使用される出発物質を製造するためには、まず7−AC
Aの7位をアシル化し、次いで3位における置換反応を
行ない、最後に7位の側鎖を分解脱離しなければならな
い。一連の反応を合計すると、7−ACAからの収量が
不経済であると考えられる。
位に有するセファロスポリンにおいて、その7位の側鎖
のアシル化および脱離を行なう方法が開示されている
(例えば米国特許第4369313号)。然しこの特許に
使用される出発物質を製造するためには、まず7−AC
Aの7位をアシル化し、次いで3位における置換反応を
行ない、最後に7位の側鎖を分解脱離しなければならな
い。一連の反応を合計すると、7−ACAからの収量が
不経済であると考えられる。
【0008】この発明の方法は、7−ACAまたはその
誘導体をN,0−ビス・シリル誘導体とし、これにヨー
素化試薬を反応させて3−ヨードメチル化合物とし、求
核反応試薬を添加することによってN,0−ビス−シリ
ル−7−ACAの所望の3位置換誘導体を得て、これを
直ちに脱保護するか、あるいは所望のアシル基を7位に
導入し得るアシル化剤で置換した後、脱保護によって反
応を終結させるものである。この発明はまた、方法全体
における個々の反応ないし各反応段階の配列順序に関す
るものである。またこの発明の方法は、所望により全体
を通じて個々の中間生産物を単離することなく実施する
ことができる。
誘導体をN,0−ビス・シリル誘導体とし、これにヨー
素化試薬を反応させて3−ヨードメチル化合物とし、求
核反応試薬を添加することによってN,0−ビス−シリ
ル−7−ACAの所望の3位置換誘導体を得て、これを
直ちに脱保護するか、あるいは所望のアシル基を7位に
導入し得るアシル化剤で置換した後、脱保護によって反
応を終結させるものである。この発明はまた、方法全体
における個々の反応ないし各反応段階の配列順序に関す
るものである。またこの発明の方法は、所望により全体
を通じて個々の中間生産物を単離することなく実施する
ことができる。
【0009】この発明の方法は、下記の一般反応工程式
によって示すことができる。
によって示すことができる。
【化2】 式(I)〜(V)において、R1は水素またはメトキシ基、
R2はメチルまたはアミノ基、Rは低級アルキル基、R4
は水素、アルカリまたは負電荷、またはOR4がハロゲ
ンであってもよい。R5はセファロスポリン化学におい
て慣用されるアシル基を示す。R3は求核試薬の残基で
ある。この発明は、特に(IV)から(III)、(III)から(II)
へ至る段階、および(III)から(II)を経て(IIa)へ至る段
階および(III)から(II)/(IIa)を経て(I)へ至る段階の
配列順序に関する。
R2はメチルまたはアミノ基、Rは低級アルキル基、R4
は水素、アルカリまたは負電荷、またはOR4がハロゲ
ンであってもよい。R5はセファロスポリン化学におい
て慣用されるアシル基を示す。R3は求核試薬の残基で
ある。この発明は、特に(IV)から(III)、(III)から(II)
へ至る段階、および(III)から(II)を経て(IIa)へ至る段
階および(III)から(II)/(IIa)を経て(I)へ至る段階の
配列順序に関する。
【0010】これらの方法は、詳しくは下記の如く例示
できる。式(V)で示される7−アミノセフェム(3)−4
−カルボン酸(好ましくは7−ACA)を、反応条件下で
不活性な溶媒に懸濁し、シリル化試薬の過剰量の存在下
に加熱還流する。このシリル化反応の溶媒には、ハロゲ
ン化炭化水素(例、ジクロルメタン、クロロホルム、1,
2−ジクロルエタン、1,1,2−トリクロルエタン、テ
トラクロルエチレン等)、有機ニトリル(例、アセトニト
リル、プロピオニトリル等)、ニトロアルカン(例、ニト
ロメタン等)またはスルホン(例、スルホラン等)が挙げ
られる。シリル化反応は、高沸点溶媒を使用し対応する
温度に加熱することによって遂行するか、あるいは低沸
点溶媒を使用し有機オキソ酸(例えば、カドラト酸)、ト
リフルオロ酢酸またはそれらの混合物から成る特殊触媒
を用いて遂行する何れかの方法によって達成することが
できる。この反応のシリル化試薬には、通常この反応に
使用されるヘキサメチルジシラザン、トリメチルクロル
シラン、ビス−トリメチルシリル尿素、N−トリメチル
シリルジアルキルアミンまたは、ビス−またはモノシリ
ル化アセトアミドまたはこれらの混合物のようなシリル
化試薬が使用できる。この場合、モノシリル誘導体が少
量でも存在していると以後の反応に著しく支障を来すお
それがあるので、ビスシリル化が100%進行すること
が望ましい。このようにして得られた式(IV)の化合物を
置換するには、例えば、該反応混合物に1.1〜1.5当
量のトリアルキルヨードシラン(例えばトリメチルヨー
ジラン)を加え、−20〜+50℃、好ましくは0〜4
5℃の温度で反応を行えばよい。驚くべきことに3−ヨ
ードメチル−N,0−ビス−トリアルキルシリル−7−
アミノセファロスポラン酸なる構造の化合物は安定であ
る。文献に記載されている若干の類似構造では、その窒
素において過度の自己アルキル化反応が生じる(西ドイ
ツ国公開特許第3212900号、ヤマノウチ)。本発
明においてN,0−ビス−トリアルキルシリル−3−ヨ
ードメチル−7−アミノセファロスポラン酸が安定であ
るのは、窒素原子に結合しているトリアルキルシリル基
の立体障害によるものであろう。この場合、モノシリル
化合物が混在するとさらに分解が進み、過度の重合化を
もたらすので、ビス−シリル化合物を純粋に生成させる
ことが肝要である。
できる。式(V)で示される7−アミノセフェム(3)−4
−カルボン酸(好ましくは7−ACA)を、反応条件下で
不活性な溶媒に懸濁し、シリル化試薬の過剰量の存在下
に加熱還流する。このシリル化反応の溶媒には、ハロゲ
ン化炭化水素(例、ジクロルメタン、クロロホルム、1,
2−ジクロルエタン、1,1,2−トリクロルエタン、テ
トラクロルエチレン等)、有機ニトリル(例、アセトニト
リル、プロピオニトリル等)、ニトロアルカン(例、ニト
ロメタン等)またはスルホン(例、スルホラン等)が挙げ
られる。シリル化反応は、高沸点溶媒を使用し対応する
温度に加熱することによって遂行するか、あるいは低沸
点溶媒を使用し有機オキソ酸(例えば、カドラト酸)、ト
リフルオロ酢酸またはそれらの混合物から成る特殊触媒
を用いて遂行する何れかの方法によって達成することが
できる。この反応のシリル化試薬には、通常この反応に
使用されるヘキサメチルジシラザン、トリメチルクロル
シラン、ビス−トリメチルシリル尿素、N−トリメチル
シリルジアルキルアミンまたは、ビス−またはモノシリ
ル化アセトアミドまたはこれらの混合物のようなシリル
化試薬が使用できる。この場合、モノシリル誘導体が少
量でも存在していると以後の反応に著しく支障を来すお
それがあるので、ビスシリル化が100%進行すること
が望ましい。このようにして得られた式(IV)の化合物を
置換するには、例えば、該反応混合物に1.1〜1.5当
量のトリアルキルヨードシラン(例えばトリメチルヨー
ジラン)を加え、−20〜+50℃、好ましくは0〜4
5℃の温度で反応を行えばよい。驚くべきことに3−ヨ
ードメチル−N,0−ビス−トリアルキルシリル−7−
アミノセファロスポラン酸なる構造の化合物は安定であ
る。文献に記載されている若干の類似構造では、その窒
素において過度の自己アルキル化反応が生じる(西ドイ
ツ国公開特許第3212900号、ヤマノウチ)。本発
明においてN,0−ビス−トリアルキルシリル−3−ヨ
ードメチル−7−アミノセファロスポラン酸が安定であ
るのは、窒素原子に結合しているトリアルキルシリル基
の立体障害によるものであろう。この場合、モノシリル
化合物が混在するとさらに分解が進み、過度の重合化を
もたらすので、ビス−シリル化合物を純粋に生成させる
ことが肝要である。
【0011】過剰の溶媒およびトリアルキルヨードシラ
ンを真空下に除去することにより、ビス−トリメチルシ
リル−3−ヨードメチル−7−アミノセフェム(3)−4
−カルボン酸[式(III)]は純粋な形で単離され、NMR
スペクトルによって確認することができる。
ンを真空下に除去することにより、ビス−トリメチルシ
リル−3−ヨードメチル−7−アミノセフェム(3)−4
−カルボン酸[式(III)]は純粋な形で単離され、NMR
スペクトルによって確認することができる。
【0012】式(III)で示されるセファロスポリン誘導
体は、式(II)または式(IIa)の3−置換−7−アミノセ
フェム(3)−4−カルボン酸へと容易に誘導することが
でき、その際式(III)の化合物を単離する必要がない。
具体的には、例えば(a) 第3級(含窒素)複素環(例、ビ
リジン、キノリン等)または脂肪族第3級アミンまたは
脂環式第3級アミン(例、N−エチルピペリジン−N−
メチルピロリジン等)、または(b) メルカプト置換基を
有する複素環チオラート・アニオン、または遊離のメル
カプト複素環と酸捕獲剤、または(c) 第2級窒素原子
を有する複素環のような求核反応試薬で置換し、所望に
より同時に脱保護を行なうか、もしくは置換後、引続き
脱保護を行なう。
体は、式(II)または式(IIa)の3−置換−7−アミノセ
フェム(3)−4−カルボン酸へと容易に誘導することが
でき、その際式(III)の化合物を単離する必要がない。
具体的には、例えば(a) 第3級(含窒素)複素環(例、ビ
リジン、キノリン等)または脂肪族第3級アミンまたは
脂環式第3級アミン(例、N−エチルピペリジン−N−
メチルピロリジン等)、または(b) メルカプト置換基を
有する複素環チオラート・アニオン、または遊離のメル
カプト複素環と酸捕獲剤、または(c) 第2級窒素原子
を有する複素環のような求核反応試薬で置換し、所望に
より同時に脱保護を行なうか、もしくは置換後、引続き
脱保護を行なう。
【0013】この場合、式(III)の化合物と反応する反
応試薬としては、下記に挙げるものが特に好ましい。 (a) ピリジン、キノリンのような芳香族含窒素塩基(こ
れらは、さらに1またはそれ以上の置換基を有してもよ
い)、脂肪族トリアルキルアミン(アルキルはC1〜C4が
好ましい)および飽和または不飽和の炭素環式第3級ア
ミン(例えばN−エチルピペリジン、N−メチルピロリ
ジン、キヌクリジン等)。 (b) 複素環チオール塩または酸捕捉剤を添加したメル
カプト化合物。 (c) 第2級アルキル化窒素を有する複素環化合物(例え
ば、トリアゾール、テトラゾール、ピラゾール、ピロリ
ジン、イミダゾール)。
応試薬としては、下記に挙げるものが特に好ましい。 (a) ピリジン、キノリンのような芳香族含窒素塩基(こ
れらは、さらに1またはそれ以上の置換基を有してもよ
い)、脂肪族トリアルキルアミン(アルキルはC1〜C4が
好ましい)および飽和または不飽和の炭素環式第3級ア
ミン(例えばN−エチルピペリジン、N−メチルピロリ
ジン、キヌクリジン等)。 (b) 複素環チオール塩または酸捕捉剤を添加したメル
カプト化合物。 (c) 第2級アルキル化窒素を有する複素環化合物(例え
ば、トリアゾール、テトラゾール、ピラゾール、ピロリ
ジン、イミダゾール)。
【0014】上記の反応試薬との置換反応は、前記した
溶媒中、−78〜+70℃、好ましくは−50〜+40
℃で遂行することができる。該反応試薬が前記の溶媒に
対して溶解し難い場合は、必要に応じて完全に乾燥した
非プロトン性極性溶媒(例、DMF、HMPT)を添加す
ることができる。
溶媒中、−78〜+70℃、好ましくは−50〜+40
℃で遂行することができる。該反応試薬が前記の溶媒に
対して溶解し難い場合は、必要に応じて完全に乾燥した
非プロトン性極性溶媒(例、DMF、HMPT)を添加す
ることができる。
【0015】次いで、式(I)の化合物を製造するため
に、反応混合物をそのまま、自体公知の方法によって7
位に所望のアシル基を導入し、シリル基が存在している
場合は、これを脱離する。
に、反応混合物をそのまま、自体公知の方法によって7
位に所望のアシル基を導入し、シリル基が存在している
場合は、これを脱離する。
【0016】アシル化反応のために、式(II)または(II
a):[ここで、R1は前記と同意義であり、R3は (a) 式
a):[ここで、R1は前記と同意義であり、R3は (a) 式
【化3】 (式中、Hetはピリジン、キノリン、ピリミジンまたは
チアゾール、R6はカルボキシ、カルバミド、スルホン
アミドまたはβ−ラクタム化学において慣用される置換
基であり、あるいは2つのR6が一緒になって、所望に
より置換基を有する炭素環を作ることができる)で示さ
れる芳香性窒素塩基、または
チアゾール、R6はカルボキシ、カルバミド、スルホン
アミドまたはβ−ラクタム化学において慣用される置換
基であり、あるいは2つのR6が一緒になって、所望に
より置換基を有する炭素環を作ることができる)で示さ
れる芳香性窒素塩基、または
【0017】(b) 式
【化4】 (式中、R7、R8およびR9は同一または異なる基であっ
てそれぞれ低級アルキル基または低級アルケニル基を表
わし、またはR7はR8および窒素原子と一緒にR9をア
ルキル置換基とする5員または6員の飽和または不飽和
炭素環を作り、さらにこの場合、R9はその環の1,3位
または1,4位間にアルキレンまたはビニレン架橋を作
ることができる)で示される脂肪族または脂環式窒素塩
基、または
てそれぞれ低級アルキル基または低級アルケニル基を表
わし、またはR7はR8および窒素原子と一緒にR9をア
ルキル置換基とする5員または6員の飽和または不飽和
炭素環を作り、さらにこの場合、R9はその環の1,3位
または1,4位間にアルキレンまたはビニレン架橋を作
ることができる)で示される脂肪族または脂環式窒素塩
基、または
【0018】(c) 式
【化5】 (式中、Hetは5員または6員の複素環、R10およびR
11はアルキル、ハロゲンまたはアルケニル基を表わし、
ここでアルキル基は、さらにスルホン酸、アシルアミ
ノ、ジアルキルアミノ、オキソまたはヒドロキシ基で置
換されることができる)で示される所望により置換基を
有し得る複素環チオール残基、または
11はアルキル、ハロゲンまたはアルケニル基を表わし、
ここでアルキル基は、さらにスルホン酸、アシルアミ
ノ、ジアルキルアミノ、オキソまたはヒドロキシ基で置
換されることができる)で示される所望により置換基を
有し得る複素環チオール残基、または
【0019】(d) 式
【化6】 (式中、Hetは低級アルキル基で置換されることもある
テトラゾール、トリアゾール、イミダゾール、ピロリジ
ンまたはピラゾールである)で示される残基である]の化
合物は、好ましくは該反応混合物中で製造される。これ
らの化合物は、下式
テトラゾール、トリアゾール、イミダゾール、ピロリジ
ンまたはピラゾールである)で示される残基である]の化
合物は、好ましくは該反応混合物中で製造される。これ
らの化合物は、下式
【化7】 (式中、R6〜R11およびHetは前記と同意義である)で
示される化合物を、式(II)または(IIa)の化合物を含有
している反応混合物へ添加することによって得ることが
できる。
示される化合物を、式(II)または(IIa)の化合物を含有
している反応混合物へ添加することによって得ることが
できる。
【0020】以下、実施例によりこの発明を具体的に説
明するが、これによって発明の範囲を限定するものでは
ない。実施例において温度はすべて摂氏温度で示してあ
る。
明するが、これによって発明の範囲を限定するものでは
ない。実施例において温度はすべて摂氏温度で示してあ
る。
【0021】
実施例1 7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨードメチルセフェ
ム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリルエステル[式
(III)の化合物] (a) 7−トリメチルシリルアミノ−3−アセトキシメ
チルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリルエ
ステル[(IV)] 7−アミノセファロスポラン酸2.5g、トリクロルシ
ラン1.75ml、ヘキサメチルジシラザン7.65mlの乾
燥クロロホルム100ml中懸濁液を沸とうさせ、この液
にカドラト酸45mgを加え、この混合物を、窒素雰囲気
下に1夜加熱還流する。透明な溶液を、減圧下に蒸発乾
固し、7−トリメチルシリルアミノセファロスポラン酸
トリメチルシリルエステルが固体の形で得られる。この
ものは極度に加水分解をうけ易いため、融点を測定する
ことはできなかったが、NMRスぺクトル測定によって
確認した。1 HNMR:0.15(9H,N−Si=);0.36(s,9H,
−CO2Si=);1.43(d,I=12Hz,1H,NH);2.
09(s,3H,
ム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリルエステル[式
(III)の化合物] (a) 7−トリメチルシリルアミノ−3−アセトキシメ
チルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリルエ
ステル[(IV)] 7−アミノセファロスポラン酸2.5g、トリクロルシ
ラン1.75ml、ヘキサメチルジシラザン7.65mlの乾
燥クロロホルム100ml中懸濁液を沸とうさせ、この液
にカドラト酸45mgを加え、この混合物を、窒素雰囲気
下に1夜加熱還流する。透明な溶液を、減圧下に蒸発乾
固し、7−トリメチルシリルアミノセファロスポラン酸
トリメチルシリルエステルが固体の形で得られる。この
ものは極度に加水分解をうけ易いため、融点を測定する
ことはできなかったが、NMRスぺクトル測定によって
確認した。1 HNMR:0.15(9H,N−Si=);0.36(s,9H,
−CO2Si=);1.43(d,I=12Hz,1H,NH);2.
09(s,3H,
【化8】 );3.46(AB,I=18Hz,2H,C2−H);4.60−
5.28(m,4H,CH2−I,C6−H,C7−H)。
5.28(m,4H,CH2−I,C6−H,C7−H)。
【0022】(b) 7−トリメチルシリルアミノ−3−
ヨードメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチル
シリルエステル[式(III)] N,0−ビス−シリル化7−ACA[(a)により製造]を乾
燥ジクロロメタン125mlに溶解し、この溶液を0°に
冷却してトリメチルヨードシラン1.87mlを滴下す
る。液の温度を室温に戻し、さらに2時間撹拌する。溶
媒を減圧下に溜去して標題化合物を固体の形で得る。こ
のものは加水分解され易いため、ただNMRスぺクトル
によって確認した。1 HNMR(CDCl3):0.125(b,9H,N−Si=);
0.38(s,9H,−CO2Si=);1.55(d,J=12H
z,1H,NH);3.50(AB,I=18Hz,2H,C2H);
4.39(AB,I=9Hz,2H,−CH2−I);4.58
(d,d,I=12Hz,4,5Hz,1H,C7−H);4.71(d,
I=4,5Hz,1H,C6−H)。
ヨードメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチル
シリルエステル[式(III)] N,0−ビス−シリル化7−ACA[(a)により製造]を乾
燥ジクロロメタン125mlに溶解し、この溶液を0°に
冷却してトリメチルヨードシラン1.87mlを滴下す
る。液の温度を室温に戻し、さらに2時間撹拌する。溶
媒を減圧下に溜去して標題化合物を固体の形で得る。こ
のものは加水分解され易いため、ただNMRスぺクトル
によって確認した。1 HNMR(CDCl3):0.125(b,9H,N−Si=);
0.38(s,9H,−CO2Si=);1.55(d,J=12H
z,1H,NH);3.50(AB,I=18Hz,2H,C2H);
4.39(AB,I=9Hz,2H,−CH2−I);4.58
(d,d,I=12Hz,4,5Hz,1H,C7−H);4.71(d,
I=4,5Hz,1H,C6−H)。
【0023】この7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨ
ードメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチルシ
リルエステルから、以下に例示するような、式(II)で示
される3位置換誘導体を製造することができる。
ードメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチルシ
リルエステルから、以下に例示するような、式(II)で示
される3位置換誘導体を製造することができる。
【0024】実施例2 7−アミノ−3−ピリジウムメチルセフェム(3)−4−
カルボン酸・ヨー化水素酸塩[式(IIa)] 実施例1の標題化合物の溶液を氷冷し、これにピリジン
1.47mlを加え、次いでこの溶液を室温で2時間撹拌
する。この溶液にメタノール1.7mlを添加すると、7
−アミノ−3−ピリジウムメチルセフェム(3)−4−カ
ルボン酸の粗製のヨー化水素酸塩が沈殿する。この固体
物質を水に浸漬することによって純粋な標題化合物が得
られる。mp:145°(分解)。1 HNMR:(D2O,K2Co3);3.38(AB,I=18H
z,2H,C2−H);4.80(d,I=5,8Hz,1H,C7−
H);5.10(d,I=5,8Hz,1H,C6−H);5.43
(AB,I=17Hz,2H,CH2−N +=);8.0−8.2
(m,2H,ピリジン3H's);8.41−8.63(m,1H,ピ
リジンC4−H);8.93(d,I=6,3Hz,2H,ピリジ
ン−2H's)。
カルボン酸・ヨー化水素酸塩[式(IIa)] 実施例1の標題化合物の溶液を氷冷し、これにピリジン
1.47mlを加え、次いでこの溶液を室温で2時間撹拌
する。この溶液にメタノール1.7mlを添加すると、7
−アミノ−3−ピリジウムメチルセフェム(3)−4−カ
ルボン酸の粗製のヨー化水素酸塩が沈殿する。この固体
物質を水に浸漬することによって純粋な標題化合物が得
られる。mp:145°(分解)。1 HNMR:(D2O,K2Co3);3.38(AB,I=18H
z,2H,C2−H);4.80(d,I=5,8Hz,1H,C7−
H);5.10(d,I=5,8Hz,1H,C6−H);5.43
(AB,I=17Hz,2H,CH2−N +=);8.0−8.2
(m,2H,ピリジン3H's);8.41−8.63(m,1H,ピ
リジンC4−H);8.93(d,I=6,3Hz,2H,ピリジ
ン−2H's)。
【0025】実施例3 7−アミノ−3−[5−(1,2,3−トリアゾル)チオメ
チル]セフェム(3)−4−カルボン酸[式(IIa)] 実施例1の標題化合物のジクロルメタン溶液にN,N−
ジメチルホルムアミド5mlおよび5−メルカプト−1,
2,3−トリアゾールのNa塩2.26gを0°で加え、
この溶液を室温でさらに2時間撹拌する。氷冷下、メタ
ノール5mlを加えることにより、標題化合物が沈殿す
る。沈殿を6N−HClに溶解し、濃NaOH溶液でpH
1に調節すると標題化合物が再沈殿する。分解点:19
0°以上。1 HNMR(DMSO;CF3CO2H):3.28(AB,I=
18Hz,2H);3.95(AB,I=12,6Hz,2H);
4.76(d,I=5,7Hz,1H);4.97(d,I=5,7H
z,1H);7.9(s,1H)。
チル]セフェム(3)−4−カルボン酸[式(IIa)] 実施例1の標題化合物のジクロルメタン溶液にN,N−
ジメチルホルムアミド5mlおよび5−メルカプト−1,
2,3−トリアゾールのNa塩2.26gを0°で加え、
この溶液を室温でさらに2時間撹拌する。氷冷下、メタ
ノール5mlを加えることにより、標題化合物が沈殿す
る。沈殿を6N−HClに溶解し、濃NaOH溶液でpH
1に調節すると標題化合物が再沈殿する。分解点:19
0°以上。1 HNMR(DMSO;CF3CO2H):3.28(AB,I=
18Hz,2H);3.95(AB,I=12,6Hz,2H);
4.76(d,I=5,7Hz,1H);4.97(d,I=5,7H
z,1H);7.9(s,1H)。
【0026】実施例4 7−β−アミノ−3−(2−デヒドロキヌクリジニウム)
メチルセフェム(3)−4−カルボンシラート・2塩酸塩
[式(IIa)] 7−アミノセファロスポラン酸2.22gを、実施例1
に記載の如く置換して7−トリメチルシリルアミノ−3
−ヨードメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチ
ルシリルエステルとする。このジクロルメタン溶液に、
氷冷下、1−アザ−ビシクロ[2.2.2]オクタ−2−エ
ン1gを加え、さらに室温で2時間撹拌する。エーテル
性飽和HCl2mlを添加して生成物を沈殿させる。粗製
品を希HCl水溶液に溶解し、イソプロパノールで沈殿
させる。無色の粉末を得る。140°より分解。1 HNMR(D2O):1.70−2.50(m,4H);3.0−
5.2(m);3.76および4.10(AB,I=19Hz,2
H);5.34(d,I=6Hz,1H);5.53(d,I=6Hz,
1H);6.70−7.3(m,2H)。
メチルセフェム(3)−4−カルボンシラート・2塩酸塩
[式(IIa)] 7−アミノセファロスポラン酸2.22gを、実施例1
に記載の如く置換して7−トリメチルシリルアミノ−3
−ヨードメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチ
ルシリルエステルとする。このジクロルメタン溶液に、
氷冷下、1−アザ−ビシクロ[2.2.2]オクタ−2−エ
ン1gを加え、さらに室温で2時間撹拌する。エーテル
性飽和HCl2mlを添加して生成物を沈殿させる。粗製
品を希HCl水溶液に溶解し、イソプロパノールで沈殿
させる。無色の粉末を得る。140°より分解。1 HNMR(D2O):1.70−2.50(m,4H);3.0−
5.2(m);3.76および4.10(AB,I=19Hz,2
H);5.34(d,I=6Hz,1H);5.53(d,I=6Hz,
1H);6.70−7.3(m,2H)。
【0027】実施例5 7−β−アミノ−3−(N−メチルピロリジニウム)メチ
ルセフェム(3)−4−カルボキシラート・塩酸塩[式(II
a)] 前記と同様に、7−アミノセファロスポラン酸10.8
8gを置換して7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨー
ドメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリ
ルエステルとする。この化合物のジクロロメタン120
mlの溶液に−60°でN−メチルピロリジン4.15ml
を徐々に加え、この温度で90分間撹拌する。次いで、
HClガスを溶存させたエタノール100mlに反応混合
物を注入する。この懸濁液のpHを2.5に調節する。1
夜放置すると、固体が分離する。これを水20mlに懸濁
し、濃HClでpHを0に調節する。この液に活性炭5
gを加え、5分間撹拌し、不溶物および活性炭を濾去す
る。5N−NaOHで無色の水溶液のpHを2.5に調節
し、アセトン200mlをこの溶液に徐々に注加する。冷
蔵庫に2時間放置後、沈殿物をヌッツエに濾取し、アセ
トンおよびエーテルで洗浄する。乾燥機で乾燥すること
により、無色の粉末を得る。分解点:115°。収量5.
6g(理論値の42%)。1 HNMR(CF3CO2D+D2O):5.48(1H,d,I=
5,2Hz,C7−H);5.31(1H,d,I=5,2Hz,C6
−H);4.73(2H,AB,I=13Hz;CH2−N−);
4.1−3.47(6H,m,C2−HおよびN−メチルピロ
リジン−H);3.15(3H,s,CH3−N−);2.37(4
H,b,N−メチルピロリジン−H)。
ルセフェム(3)−4−カルボキシラート・塩酸塩[式(II
a)] 前記と同様に、7−アミノセファロスポラン酸10.8
8gを置換して7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨー
ドメチルセフェム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリ
ルエステルとする。この化合物のジクロロメタン120
mlの溶液に−60°でN−メチルピロリジン4.15ml
を徐々に加え、この温度で90分間撹拌する。次いで、
HClガスを溶存させたエタノール100mlに反応混合
物を注入する。この懸濁液のpHを2.5に調節する。1
夜放置すると、固体が分離する。これを水20mlに懸濁
し、濃HClでpHを0に調節する。この液に活性炭5
gを加え、5分間撹拌し、不溶物および活性炭を濾去す
る。5N−NaOHで無色の水溶液のpHを2.5に調節
し、アセトン200mlをこの溶液に徐々に注加する。冷
蔵庫に2時間放置後、沈殿物をヌッツエに濾取し、アセ
トンおよびエーテルで洗浄する。乾燥機で乾燥すること
により、無色の粉末を得る。分解点:115°。収量5.
6g(理論値の42%)。1 HNMR(CF3CO2D+D2O):5.48(1H,d,I=
5,2Hz,C7−H);5.31(1H,d,I=5,2Hz,C6
−H);4.73(2H,AB,I=13Hz;CH2−N−);
4.1−3.47(6H,m,C2−HおよびN−メチルピロ
リジン−H);3.15(3H,s,CH3−N−);2.37(4
H,b,N−メチルピロリジン−H)。
【0028】式(I)の化合物は、以下の実施例の如くし
て得られる。 実施例6 (6R,7R)−7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル]
−(Z)−2−[(1−ジフェニルメトキシカルボニル−1
−メチルエトキシ)イミノ]アセトアミド−3−(1−ピ
リジニウムメチル)セフェム(3)−4−カルボン酸クロ
リド・塩酸塩[式(I)] 7−ACA2.5g、トリクロルシラン1.75mlおよび
ヘキサメチルジシラザン7.65mlの乾燥クロロホルム
100ml懸濁液を還流下に沸とうさせ、これにカドラト
酸45mgを加え、この混合物を、窒素雰囲気下に1夜煮
沸還流する。透明な溶液を減圧下に蒸発乾固すると、7
−トリメチルシリルアミノセファロスポラン酸トリメチ
ルシリルエステルが固体となって析出する。これを乾燥
ジクロルメタ2ン15mlに溶解し、0°に冷却し、ヨー
ドトリメチルシラン1.87mlを滴下する。溶液を室温
に戻し、さらに2時間撹拌する。生成した7−トリメチ
ルシリルアミノ−3−ヨードメチルセフェム(3)−4−
カルボン酸トリメチルシリルエステルに乾燥ピリジン
1.47mlを加え、室温で2時間撹拌する。次いで、こ
の溶液に2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−(Z)−2
−[(1−ジフェニルメトキシカルボニル−1−メチルエ
トキシ)イミノ]−チオ酢酸−S−ベンゾチアゾール−2
−イルエステル5.41gを加え、この混合物を2日間
室温で撹拌する。次に、この反応混合物を50°に加温
した濃塩酸4.5mlのイソプロパノール500mlの溶液
に投入すると、標題化合物が沈殿する。この沈殿を吸引
濾別し、イソプロパノールで洗浄する。乾燥し、塩酸/
イソプロパノールから再結晶することによって、黄色の
標題化合物を得る。mp:160°より分解。1 H−NMR(DMSO−d6);9.84(1H,d,−N−H,
I=8Hz);9.20,8.67および8.23(5H,ピリ
ジニウム−H);7.28(10H,フェニル−H);6.98
(1H,S,チアゾリル−H);6.79(1H,S,CH−Ph
2);5.95(1H,dd,H7,I=8Hz,I=5Hz);5.7
2(2H,CH 2−ピリジン);5.27(1H,d,H6,I=5H
z);3.57(2H,H2およびH2');1.63(6H,−C
(CH3)2)。
て得られる。 実施例6 (6R,7R)−7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル]
−(Z)−2−[(1−ジフェニルメトキシカルボニル−1
−メチルエトキシ)イミノ]アセトアミド−3−(1−ピ
リジニウムメチル)セフェム(3)−4−カルボン酸クロ
リド・塩酸塩[式(I)] 7−ACA2.5g、トリクロルシラン1.75mlおよび
ヘキサメチルジシラザン7.65mlの乾燥クロロホルム
100ml懸濁液を還流下に沸とうさせ、これにカドラト
酸45mgを加え、この混合物を、窒素雰囲気下に1夜煮
沸還流する。透明な溶液を減圧下に蒸発乾固すると、7
−トリメチルシリルアミノセファロスポラン酸トリメチ
ルシリルエステルが固体となって析出する。これを乾燥
ジクロルメタ2ン15mlに溶解し、0°に冷却し、ヨー
ドトリメチルシラン1.87mlを滴下する。溶液を室温
に戻し、さらに2時間撹拌する。生成した7−トリメチ
ルシリルアミノ−3−ヨードメチルセフェム(3)−4−
カルボン酸トリメチルシリルエステルに乾燥ピリジン
1.47mlを加え、室温で2時間撹拌する。次いで、こ
の溶液に2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−(Z)−2
−[(1−ジフェニルメトキシカルボニル−1−メチルエ
トキシ)イミノ]−チオ酢酸−S−ベンゾチアゾール−2
−イルエステル5.41gを加え、この混合物を2日間
室温で撹拌する。次に、この反応混合物を50°に加温
した濃塩酸4.5mlのイソプロパノール500mlの溶液
に投入すると、標題化合物が沈殿する。この沈殿を吸引
濾別し、イソプロパノールで洗浄する。乾燥し、塩酸/
イソプロパノールから再結晶することによって、黄色の
標題化合物を得る。mp:160°より分解。1 H−NMR(DMSO−d6);9.84(1H,d,−N−H,
I=8Hz);9.20,8.67および8.23(5H,ピリ
ジニウム−H);7.28(10H,フェニル−H);6.98
(1H,S,チアゾリル−H);6.79(1H,S,CH−Ph
2);5.95(1H,dd,H7,I=8Hz,I=5Hz);5.7
2(2H,CH 2−ピリジン);5.27(1H,d,H6,I=5H
z);3.57(2H,H2およびH2');1.63(6H,−C
(CH3)2)。
【0029】実施例7 7−[α−(エトキシカルボニルメトキシ)イミノ−1H
−ピラゾール−3−イル]アセトアミド−3−[(1−メ
チル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル]セフ
ェム(3)−4−カルボン酸・エタノール溶媒和物[式
(I)] 7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸トリメチルシリルエステル
(実施例1または実施例6により製造)3.82gの乾燥
ジクロルメタン125ml溶液にジメチルホルムアミド5
mlおよび1−メチル−5−メルカプト−1,2,3,4−
テトラゾールのナトリウム塩1.4gを加え、この溶液
を室温で2時間撹拌する。次いで(メトキシカルボニル
メトキシイミノ)−1H−ピラゾール−3−イル酢酸・
メルカプトベンゾチアゾリルエステルの結晶4.16g
をこれに加え、反応混合物を1夜室温で撹拌し続ける。
55°に加温したエタノール350mlに、この反応物を
撹拌しながら加え、徐々に30°に冷却する。標題化合
物の結晶種を加えることによって、標題化合物が結晶と
して沈殿する。これを濾取し、乾燥する。mp:119〜
121°。
−ピラゾール−3−イル]アセトアミド−3−[(1−メ
チル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル]セフ
ェム(3)−4−カルボン酸・エタノール溶媒和物[式
(I)] 7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸トリメチルシリルエステル
(実施例1または実施例6により製造)3.82gの乾燥
ジクロルメタン125ml溶液にジメチルホルムアミド5
mlおよび1−メチル−5−メルカプト−1,2,3,4−
テトラゾールのナトリウム塩1.4gを加え、この溶液
を室温で2時間撹拌する。次いで(メトキシカルボニル
メトキシイミノ)−1H−ピラゾール−3−イル酢酸・
メルカプトベンゾチアゾリルエステルの結晶4.16g
をこれに加え、反応混合物を1夜室温で撹拌し続ける。
55°に加温したエタノール350mlに、この反応物を
撹拌しながら加え、徐々に30°に冷却する。標題化合
物の結晶種を加えることによって、標題化合物が結晶と
して沈殿する。これを濾取し、乾燥する。mp:119〜
121°。
【0030】実施例8 7−β−(2−チェニルアセトアミド)−3−ピリジニウ
ムメチルセフェム(3)−4−カルボン酸・硝酸塩[式
(I)] 7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨードメチルセフェ
ム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリルエステル(実
施例1または実施例6により製造)3.82gの乾燥ジク
ロルメタン125ml溶液に乾燥ピリジン1.47mlを加
え、室温で2時間撹拌する。次いで、この溶液にチエニ
ル酢酸−S−メルカプトベンゾチアゾリルエステル3.
2gのジクロルメタン20ml溶液[ジクロルメタン中、
チオフェン酢酸1.56g、ビス(ベンゾチアゾール−2
−イル)ジスルフィド4.47gおよびフェニルホスフィ
ン3.53gから調製し、そのまま使用する]を加え、こ
の混合物を室温で30時間撹拌する。これにメタノール
5mlを注加することにより、標題化合物の粗製品がヨウ
化水素酸塩として沈殿する。この沈殿を5%重炭酸塩溶
液に溶解し、不溶物を濾別し、濾液に希硝酸溶液を加え
ることによりpH1.8で標題化合物が硝酸塩として結晶
化する。mp:151〜152°(分解)
ムメチルセフェム(3)−4−カルボン酸・硝酸塩[式
(I)] 7−トリメチルシリルアミノ−3−ヨードメチルセフェ
ム(3)−4−カルボン酸トリメチルシリルエステル(実
施例1または実施例6により製造)3.82gの乾燥ジク
ロルメタン125ml溶液に乾燥ピリジン1.47mlを加
え、室温で2時間撹拌する。次いで、この溶液にチエニ
ル酢酸−S−メルカプトベンゾチアゾリルエステル3.
2gのジクロルメタン20ml溶液[ジクロルメタン中、
チオフェン酢酸1.56g、ビス(ベンゾチアゾール−2
−イル)ジスルフィド4.47gおよびフェニルホスフィ
ン3.53gから調製し、そのまま使用する]を加え、こ
の混合物を室温で30時間撹拌する。これにメタノール
5mlを注加することにより、標題化合物の粗製品がヨウ
化水素酸塩として沈殿する。この沈殿を5%重炭酸塩溶
液に溶解し、不溶物を濾別し、濾液に希硝酸溶液を加え
ることによりpH1.8で標題化合物が硝酸塩として結晶
化する。mp:151〜152°(分解)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハインリッヒ・ターラー オーストリア国アー−6322キルヒビヒル 195番 (72)発明者 ヨハネス・リュデッシェル オーストリア国アー−6250ブライテンバッ ハ、ブライテンバッハ109番
Claims (1)
- 【請求項1】 単離された、化学式 【化1】 (式中、Rは低級アルキル基およびR1は水素原子または
メトキシ基である)で示される物質を必須成分とする、
セファロスポリン誘導体の製造のための反応試薬。
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---|---|---|---|
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AT0371684A AT381315B (de) | 1984-11-23 | 1984-11-23 | Verfahren zur herstellung von cephalosporinderivaten |
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AT396108B (de) * | 1991-08-21 | 1993-06-25 | Biochemie Gmbh | Neues verfahren und neue zwischenprodukte zur herstellung von 7-aminocephalosporansaeurederivaten |
ATE244248T1 (de) * | 1996-04-12 | 2003-07-15 | Takeda Chemical Industries Ltd | Herstellung von amino cephalosporansäurederivaten |
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JPS6011917B2 (ja) * | 1981-04-09 | 1985-03-28 | 山之内製薬株式会社 | 新規なセファロスポリン化合物 |
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DE3316798A1 (de) * | 1983-05-07 | 1984-11-08 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von cephemverbindungen |
JPS60132993A (ja) * | 1983-11-18 | 1985-07-16 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | 7−{α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−〔(2−アミノ−4−チアゾリル)メトキシイミノ〕アセトアミド}−3−(置換−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸 |
JPS60136586A (ja) * | 1983-12-26 | 1985-07-20 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | 7‐〔α‐(2‐アミノ‐4‐チアゾリル)‐α‐(チオカルバモイルメトキシイミノ)アセトアミド〕‐3‐置換‐Δ↑3‐セフエム‐4‐カルボン酸 |
JPS60188389A (ja) * | 1984-03-07 | 1985-09-25 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(チオカルバモイルメトキシイミノ)アセトアミド〕−3−置換メチル−Δ↑3−セフエム−4−カルボン酸 |
JPS60169486A (ja) * | 1984-02-10 | 1985-09-02 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | 7−アミノ−3−置換メチル−3−セフエム−4−カルボン酸およびその低級アルキルシリル誘導体の製造法 |
-
1985
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- 1985-11-21 JP JP61500166A patent/JP2572382B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1985-11-21 KR KR1019860700488A patent/KR930007260B1/ko not_active IP Right Cessation
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