JPS6343399B2 - - Google Patents
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- JPS6343399B2 JPS6343399B2 JP57167051A JP16705182A JPS6343399B2 JP S6343399 B2 JPS6343399 B2 JP S6343399B2 JP 57167051 A JP57167051 A JP 57167051A JP 16705182 A JP16705182 A JP 16705182A JP S6343399 B2 JPS6343399 B2 JP S6343399B2
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D513/04—Ortho-condensed systems
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Description
本発明は、新規なアゼチジノン化合物に関す
る。 本発明のアゼチジノン化合物は、文献未載の新
規化合物であり、下記一般式で表わされる。 〔式中、R1は置換もしくは非置換のフエニル基
を示す。R2はカルボキシル保護基を示す。Ｙは、
−ONO2、−OH、基
る。 本発明のアゼチジノン化合物は、文献未載の新
規化合物であり、下記一般式で表わされる。 〔式中、R1は置換もしくは非置換のフエニル基
を示す。R2はカルボキシル保護基を示す。Ｙは、
−ONO2、−OH、基
【式】
【式】又は−SR4を示し、各基において
R3は低級アルキル基、又は−OR5（R5は含ハロゲ
ン低級アルキル基を示す）を、R4は置換もしく
は非置換のイオウ及び／又はチツ素原子を含む５
員環芳香族複素環残基を示す。〕 上記一般式（）で表わされるアゼチジノン化
合物は、セフアロスポリン系抗生物質を合成する
ための中間体として有用である。例えば、下記反
応式に従い、本発明化合物から抗菌剤として有用
なセフアロスポリン化合物（）を合成できる。 〔式中、R1、R2及びＹは前記に同じ。〕 また上記一般式（）の本発明化合物は、下記
反応式に従い、直接有用なセフアロスポリン誘導
体に導くことができ、更に得られるセフアロスポ
リン誘導体を塩素原子の反応性を利用して脱アシ
ル化し、容易に７位にアミノ基を有するセフアロ
スポリン誘導体とすることができる。 〔式中、R1、R2及びＹは前記に同じ。〕 上記一般式（）において、R1で示される置
換もしくは非置換のフエニル基としては、フエニ
ル基、トリル基、キシリル基、ｐ−クロロフエニ
ル基、ｐ−ブロモフエニル基、ｐ−ニトロフエニ
ル基、保護されたヒドロキシ基を持つフエニル
基、例えば、ｐ−メトキシフエニル等を挙げるこ
とができる。R2で示されるカルボキシル基の保
護基としては、例えばメチル、ベンジル、ジフエ
ニルメチル、ｐ−ニトロフエニル、トリクロロエ
チル等を例示できる。またR3で示される低級ア
ルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル等の炭素数１〜４程
度のものが例示できる。R4で示される置換もし
くは非置換のイオウ及び／又はチツ素原子を含む
５員環芳香族複素環残基としては、例えば５−メ
チル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル、
１−メチル−１，２，３，４−テトラゾール−５
−イル、１−フエニル−１，２，３，４−テトラ
ゾール−５−イル、１，３，４−チアジアゾール
−２−イル、１，３−チアゾール−２−イル等を
挙げることができる。また、R5で示される含ハ
ロゲン低級アルキル基としては、２−クロロエチ
ル、２−ブロモエチル、２，２−ジクロロエチ
ル、２，2′−ジブロモエチル、２，２，２−トリ
クロロエチル、２，２，２−トリブロモエチル等
を挙げることができる。 本発明の上記一般式（）の化合物は、一般式 〔式中、R1及びR2は上記に同じ。〕で表わされる
化合物を出発物質として、以下に記載する如く各
種の方法で製造し得る。 尚、上記一般式（）の化合物は、例えば
Tetrahedron Lett.22、3193（1981）記載の方法
等の既報の製法に従い製造できる。 (1) 一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Ｙは
ン低級アルキル基を示す）を、R4は置換もしく
は非置換のイオウ及び／又はチツ素原子を含む５
員環芳香族複素環残基を示す。〕 上記一般式（）で表わされるアゼチジノン化
合物は、セフアロスポリン系抗生物質を合成する
ための中間体として有用である。例えば、下記反
応式に従い、本発明化合物から抗菌剤として有用
なセフアロスポリン化合物（）を合成できる。 〔式中、R1、R2及びＹは前記に同じ。〕 また上記一般式（）の本発明化合物は、下記
反応式に従い、直接有用なセフアロスポリン誘導
体に導くことができ、更に得られるセフアロスポ
リン誘導体を塩素原子の反応性を利用して脱アシ
ル化し、容易に７位にアミノ基を有するセフアロ
スポリン誘導体とすることができる。 〔式中、R1、R2及びＹは前記に同じ。〕 上記一般式（）において、R1で示される置
換もしくは非置換のフエニル基としては、フエニ
ル基、トリル基、キシリル基、ｐ−クロロフエニ
ル基、ｐ−ブロモフエニル基、ｐ−ニトロフエニ
ル基、保護されたヒドロキシ基を持つフエニル
基、例えば、ｐ−メトキシフエニル等を挙げるこ
とができる。R2で示されるカルボキシル基の保
護基としては、例えばメチル、ベンジル、ジフエ
ニルメチル、ｐ−ニトロフエニル、トリクロロエ
チル等を例示できる。またR3で示される低級ア
ルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル等の炭素数１〜４程
度のものが例示できる。R4で示される置換もし
くは非置換のイオウ及び／又はチツ素原子を含む
５員環芳香族複素環残基としては、例えば５−メ
チル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル、
１−メチル−１，２，３，４−テトラゾール−５
−イル、１−フエニル−１，２，３，４−テトラ
ゾール−５−イル、１，３，４−チアジアゾール
−２−イル、１，３−チアゾール−２−イル等を
挙げることができる。また、R5で示される含ハ
ロゲン低級アルキル基としては、２−クロロエチ
ル、２−ブロモエチル、２，２−ジクロロエチ
ル、２，2′−ジブロモエチル、２，２，２−トリ
クロロエチル、２，２，２−トリブロモエチル等
を挙げることができる。 本発明の上記一般式（）の化合物は、一般式 〔式中、R1及びR2は上記に同じ。〕で表わされる
化合物を出発物質として、以下に記載する如く各
種の方法で製造し得る。 尚、上記一般式（）の化合物は、例えば
Tetrahedron Lett.22、3193（1981）記載の方法
等の既報の製法に従い製造できる。 (1) 一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Ｙは
【式】を示し、R3は前記に同じである。〕
で表わされる本発明化合物は、前記一般式
（）の出発原料と一般式 Ｍ−Ｙ 〔式中、Ｙは
（）の出発原料と一般式 Ｍ−Ｙ 〔式中、Ｙは
【式】を示す。R3は上記に
同じ。Ｍはナトリウム又はカリウム原子を示
す。〕で表わされる求核剤とを、有機溶媒中で
反応させることにより製造できる。該有機溶媒
としては、一般式（）の原料化合物及び上記
求核剤を溶解するものであればよく、特にアセ
トン、ジメチルスルホキシド等が好ましい。一
般式（）の化合物と求核剤との使用割合は適
宜選択できるが、通常前者に対し後者を等モル
〜５倍モル程度用いるのがよい。反応は、通常
−10〜70℃程度、好ましくは10〜55℃にて行な
われ、一般に0.5〜４時間程で終了する。 (2) 一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Ｙは、
す。〕で表わされる求核剤とを、有機溶媒中で
反応させることにより製造できる。該有機溶媒
としては、一般式（）の原料化合物及び上記
求核剤を溶解するものであればよく、特にアセ
トン、ジメチルスルホキシド等が好ましい。一
般式（）の化合物と求核剤との使用割合は適
宜選択できるが、通常前者に対し後者を等モル
〜５倍モル程度用いるのがよい。反応は、通常
−10〜70℃程度、好ましくは10〜55℃にて行な
われ、一般に0.5〜４時間程で終了する。 (2) 一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Ｙは、
【式】又は−SR4を示
し、R3及びR4は前記に同じ。〕で表わされる本
発明化合物は、一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
るチアゾリノアゼチジノン化合物と、一般式 Ｍ−Ｙ 〔式中、Ｍはナトリウム又はカリウム原子を示
す。Ｙは
発明化合物は、一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
るチアゾリノアゼチジノン化合物と、一般式 Ｍ−Ｙ 〔式中、Ｍはナトリウム又はカリウム原子を示
す。Ｙは
で表わされる求核剤とを有機溶媒中で反応させ
ることにより製造できる。一般式（）の化合
物と該求核剤との反応は、上記(1)式の方法と同
様にして行なわれる。 (3) 一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る本発明化合物は、一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る化合物と、NaNO3又はKNO3とを、ジメチ
ルスルホキシド等の有機溶媒中で反応させるこ
とにより得られる。一般式（）の化合物と
NaNO3又はKNO3との使用割合も広範囲から
適宜選択できるが、通常前者に対し後者を等モ
ル〜10倍モル程度、好ましくは等モル〜５倍モ
ル程度用いればよい。反応は、通常０〜100℃
程度、好ましくは40〜60℃程度で行なわれる。
反応の進行と共にNaI又はKIが副生するが、
これを除去すべく反応は、メタンスルホン酸メ
チル又はトルエンスルホン酸メチルの存在下、
30〜80mmHg程度の減圧下で行なうのが好まし
い。本反応は通常２〜６時間程度で終了する。 また、一般式（）の化合物を含水ジメチル
スルホキシド中で、酸触媒を作用させると、沃
素原子のみが選択的に−OHで置換され、一般
式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ〕で表わされ
る本発明化合物を得ることができる。含水ジメ
チルスルホキシド中の水の量は、通常一般式
（）の化合物に対し約１〜50倍モル程度とす
ればよい。また、酸触媒としては、ｐ−トルエ
ンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸、トリクロロ酢酸、ジクロロ酢酸等を挙
げることができ、これらは通常一般式（）の
化合物に対し約0.1〜３倍モル使用すればよい。
反応温度としては20〜80℃が採用でき、反応は
通常１〜５時間程度で終了する。 こうして得られる上記化合物（Ｙ＝−OH）
と、炭素数１〜５の低級カルボン酸無水物もし
くは低級カルボン酸ハライド又は一般式 〔式中R5は含ハロゲン低級アルキル基を示
す。〕で表わされる化合物とを、ピリジン、ポ
リビニルピリジン、分子ふるい等の酸捕捉剤の
存在下で反応させることにより、一般式 〔式中、R1、R2及びR3は前記に同じ。〕で表わ
される本発明化合物を収得できる。該反応は、
反応に不活性な有機溶媒、例えばジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ベ
ンゼン等を用いて行なわれる。上記化合物（Ｙ
＝−OH）と上記低級カルボン酸無水物又は低
級カルボン酸ハライド又は一般式（XI）の化合
物との使用割合は、広い範囲で適宜選択できる
が、一般に前者に対し後者を等モル〜10倍モル
程度、好ましくは等モル〜５倍モル程度とする
のがよい。反応は、比較的低温下に行なうのが
好ましく、−50〜10℃程度が好適である。反応
は、一般に１〜10時間程度で終了する。 上記一般式（ｂ）で表わされる化合物は、上
記(1)〜(3)で得られる本発明化合物（）を原料と
し、例えば以下のようにして製造できる。 (4) 一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Ｙは、
−OH、
ることにより製造できる。一般式（）の化合
物と該求核剤との反応は、上記(1)式の方法と同
様にして行なわれる。 (3) 一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る本発明化合物は、一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る化合物と、NaNO3又はKNO3とを、ジメチ
ルスルホキシド等の有機溶媒中で反応させるこ
とにより得られる。一般式（）の化合物と
NaNO3又はKNO3との使用割合も広範囲から
適宜選択できるが、通常前者に対し後者を等モ
ル〜10倍モル程度、好ましくは等モル〜５倍モ
ル程度用いればよい。反応は、通常０〜100℃
程度、好ましくは40〜60℃程度で行なわれる。
反応の進行と共にNaI又はKIが副生するが、
これを除去すべく反応は、メタンスルホン酸メ
チル又はトルエンスルホン酸メチルの存在下、
30〜80mmHg程度の減圧下で行なうのが好まし
い。本反応は通常２〜６時間程度で終了する。 また、一般式（）の化合物を含水ジメチル
スルホキシド中で、酸触媒を作用させると、沃
素原子のみが選択的に−OHで置換され、一般
式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ〕で表わされ
る本発明化合物を得ることができる。含水ジメ
チルスルホキシド中の水の量は、通常一般式
（）の化合物に対し約１〜50倍モル程度とす
ればよい。また、酸触媒としては、ｐ−トルエ
ンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸、トリクロロ酢酸、ジクロロ酢酸等を挙
げることができ、これらは通常一般式（）の
化合物に対し約0.1〜３倍モル使用すればよい。
反応温度としては20〜80℃が採用でき、反応は
通常１〜５時間程度で終了する。 こうして得られる上記化合物（Ｙ＝−OH）
と、炭素数１〜５の低級カルボン酸無水物もし
くは低級カルボン酸ハライド又は一般式 〔式中R5は含ハロゲン低級アルキル基を示
す。〕で表わされる化合物とを、ピリジン、ポ
リビニルピリジン、分子ふるい等の酸捕捉剤の
存在下で反応させることにより、一般式 〔式中、R1、R2及びR3は前記に同じ。〕で表わ
される本発明化合物を収得できる。該反応は、
反応に不活性な有機溶媒、例えばジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ベ
ンゼン等を用いて行なわれる。上記化合物（Ｙ
＝−OH）と上記低級カルボン酸無水物又は低
級カルボン酸ハライド又は一般式（XI）の化合
物との使用割合は、広い範囲で適宜選択できる
が、一般に前者に対し後者を等モル〜10倍モル
程度、好ましくは等モル〜５倍モル程度とする
のがよい。反応は、比較的低温下に行なうのが
好ましく、−50〜10℃程度が好適である。反応
は、一般に１〜10時間程度で終了する。 上記一般式（ｂ）で表わされる化合物は、上
記(1)〜(3)で得られる本発明化合物（）を原料と
し、例えば以下のようにして製造できる。 (4) 一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Ｙは、
−OH、
【式】
【式】又は−SR4を示し、R3及びR4は
前記に同じ。〕で表わされる化合物は、上記(1)
〜(3)の方法で得られる一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Ｙは
−OH、
〜(3)の方法で得られる一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Ｙは
−OH、
【式】
【式】又は−SR4を示し、R3及びR4は
前記に同じ。〕で表わされる化合物を、有機溶
媒中、酢酸の存在下、亜鉛と反応させることに
より製造できる。上記有機溶媒としては、下記
反応条件下で酢酸及び亜鉛に不活性なものがい
ずれも使用でき、例えば酢酸エチル、テトラヒ
ドロフラン、塩化メチレン、アセトン、ベンゼ
ン等が例示できる。酢酸の使用量としては、広
い範囲で適宜選択できるが、一般式（ａ）の
化合物に対し、通常２〜100倍モル程度、好ま
しくは２〜30倍モル程度の酢酸を反応系内に存
在させるのがよい。また、亜鉛の使用量も広範
囲から適宜選択できるが、通常一般式（ａ）
の化合物に対し２〜10倍モル程度、好ましくは
２〜４倍モル程度とするのがよい。反応は、通
常0.5〜２時間程度で完結する。 (5) 一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る化合物は、上記(3)の方法で得られる一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る化合物を、酢酸の存在下で亜鉛と反応させる
ことによつても製造できる。酢酸の使用量とし
ては特に制限がないが、通常酢酸を反応溶媒と
して用いるか、特に好ましくは他の有機溶媒と
酢酸との混合溶媒として用いる。一般式（
ａ）に対する亜鉛の使用量は、広い範囲で適宜
選択できるが、通常前者に対し後者を５〜20倍
モル、好ましくは５〜10倍モル用いるのがよ
い。混合溶媒として用いられる有機溶媒は反応
に不活性なものであればよく、例えば酢酸エチ
ル、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、アセ
トン、ベンゼン等を例示できる。反応は、一般
に−20〜30℃程度で行われ、一般に0.5〜２時
間程度で終了する。 (6) 一般式 〔式中、R1、R2及びR3は前記に同じ。〕で表わ
される化合物は、上記(5)の方法で得られる一般
式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る化合物と、低級カルボン酸無水物又は低級カ
ルボン酸ハライドとを、ピリジン、ポリビニル
ピリジン、分子ふるい等の酸捕捉剤の存在下で
反応させることによつても得ることができる。
上記化合物（Ｙ＝OH）と上記低級カルボン酸
無水物又は低級カルボン酸ハライドとの使用割
合は、広い範囲で適宜選択できるが、一般に前
者に対し後者を等モル〜10倍モル程度、好まし
くは等モル〜５倍モル程度とするのがよい。反
応は、比較的低温下に行なうのが好ましく、−
50〜10℃程度が好適である。反応は、一般に１
〜10時間程度で終了する。 (7) 一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る化合物は、Tetrahedron Letters、22、3193
（1981）の方法で得られる一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る化合物とNaI又はKIとを前記(1)と同様にし
て反応させることによつても製造できる。 (8) 一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る本発明化合物は、上記(7)の方法で得られる一
般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る化合物と、NaNO3又はKNO3とを、前記(3)
の方法と同様に反応させることによつても製造
することができる。 以上の方法で製造される一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。Ｙは−ONO2、
媒中、酢酸の存在下、亜鉛と反応させることに
より製造できる。上記有機溶媒としては、下記
反応条件下で酢酸及び亜鉛に不活性なものがい
ずれも使用でき、例えば酢酸エチル、テトラヒ
ドロフラン、塩化メチレン、アセトン、ベンゼ
ン等が例示できる。酢酸の使用量としては、広
い範囲で適宜選択できるが、一般式（ａ）の
化合物に対し、通常２〜100倍モル程度、好ま
しくは２〜30倍モル程度の酢酸を反応系内に存
在させるのがよい。また、亜鉛の使用量も広範
囲から適宜選択できるが、通常一般式（ａ）
の化合物に対し２〜10倍モル程度、好ましくは
２〜４倍モル程度とするのがよい。反応は、通
常0.5〜２時間程度で完結する。 (5) 一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る化合物は、上記(3)の方法で得られる一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る化合物を、酢酸の存在下で亜鉛と反応させる
ことによつても製造できる。酢酸の使用量とし
ては特に制限がないが、通常酢酸を反応溶媒と
して用いるか、特に好ましくは他の有機溶媒と
酢酸との混合溶媒として用いる。一般式（
ａ）に対する亜鉛の使用量は、広い範囲で適宜
選択できるが、通常前者に対し後者を５〜20倍
モル、好ましくは５〜10倍モル用いるのがよ
い。混合溶媒として用いられる有機溶媒は反応
に不活性なものであればよく、例えば酢酸エチ
ル、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、アセ
トン、ベンゼン等を例示できる。反応は、一般
に−20〜30℃程度で行われ、一般に0.5〜２時
間程度で終了する。 (6) 一般式 〔式中、R1、R2及びR3は前記に同じ。〕で表わ
される化合物は、上記(5)の方法で得られる一般
式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る化合物と、低級カルボン酸無水物又は低級カ
ルボン酸ハライドとを、ピリジン、ポリビニル
ピリジン、分子ふるい等の酸捕捉剤の存在下で
反応させることによつても得ることができる。
上記化合物（Ｙ＝OH）と上記低級カルボン酸
無水物又は低級カルボン酸ハライドとの使用割
合は、広い範囲で適宜選択できるが、一般に前
者に対し後者を等モル〜10倍モル程度、好まし
くは等モル〜５倍モル程度とするのがよい。反
応は、比較的低温下に行なうのが好ましく、−
50〜10℃程度が好適である。反応は、一般に１
〜10時間程度で終了する。 (7) 一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る化合物は、Tetrahedron Letters、22、3193
（1981）の方法で得られる一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る化合物とNaI又はKIとを前記(1)と同様にし
て反応させることによつても製造できる。 (8) 一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る本発明化合物は、上記(7)の方法で得られる一
般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされ
る化合物と、NaNO3又はKNO3とを、前記(3)
の方法と同様に反応させることによつても製造
することができる。 以上の方法で製造される一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。Ｙは−ONO2、
【式】又は
−SR4で表わされる基を示し、各基において、R3
低級アルキル基又は−OR5（R5は含ハロゲン低級
アルキル基）を、R4はイオウ及び／又はチツ素
原子を含む５員環芳香族複素環残基を示す。〕で
表わされるチアゾリノアゼチジノン化合物を含水
ジオキサン中
低級アルキル基又は−OR5（R5は含ハロゲン低級
アルキル基）を、R4はイオウ及び／又はチツ素
原子を含む５員環芳香族複素環残基を示す。〕で
表わされるチアゾリノアゼチジノン化合物を含水
ジオキサン中
【式】と反応させ
ると、一般式
〔式中、R1、R2及びＹは一般式（）の場合と
同じ。〕で表わされる化合物を得ることができる。
この反応において、含水ジオキサン中に占める水
の量としては、広い範囲から適宜選択できるが、
通常一般式（）の化合物に対して１〜500倍モ
ル、好ましくは10〜100倍モル程度用いるのがよ
い。一般式（）の化合物と
同じ。〕で表わされる化合物を得ることができる。
この反応において、含水ジオキサン中に占める水
の量としては、広い範囲から適宜選択できるが、
通常一般式（）の化合物に対して１〜500倍モ
ル、好ましくは10〜100倍モル程度用いるのがよ
い。一般式（）の化合物と
【式】との使用割合も広範囲に
わたるが、通常前者に対して後者を等モル〜10倍
モル、好ましくは等モル〜４倍モル用いるのがよ
い。該反応は、通常−10〜60℃程度、好ましくは
室温付近にて行われ、通常0.1〜１時間程度で終
了する。尚、該反応で用いられる
モル、好ましくは等モル〜４倍モル用いるのがよ
い。該反応は、通常−10〜60℃程度、好ましくは
室温付近にて行われ、通常0.1〜１時間程度で終
了する。尚、該反応で用いられる
【式】は、不活性溶媒、例え
ば、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、
ジオキサン、テトラヒドロフラン等中で、
ジオキサン、テトラヒドロフラン等中で、
【式】又は
【式】を分子状塩素と反応させる
ことにより製造される。上記反応においては、斯
くして製造される
くして製造される
【式】を反応
混合物から単離して一般式（）の化合物との反
応に供してもよいし、反応混合物をそのまま該反
応に供してもよい。該一般式（）の化合物との
反応は、無機酸又は有機酸の存在下反応を行なう
と収率が向上することがある。無機酸としては、
硫酸、塩酸等が、有機酸としてはトリフルオロ酢
酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が好ましい。該酸
の使用量としては一般式（）の化合物に対して
0.1〜10倍モル程度を使用すればよい。 また、上記により製造される一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Ｙは−
ONO2、
応に供してもよいし、反応混合物をそのまま該反
応に供してもよい。該一般式（）の化合物との
反応は、無機酸又は有機酸の存在下反応を行なう
と収率が向上することがある。無機酸としては、
硫酸、塩酸等が、有機酸としてはトリフルオロ酢
酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が好ましい。該酸
の使用量としては一般式（）の化合物に対して
0.1〜10倍モル程度を使用すればよい。 また、上記により製造される一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Ｙは−
ONO2、
【式】
【式】又は−SR4を示し、各基におい
て、R3は低級アルキル基又は−OR5（R5は含ハロ
ゲン低級アルキル基）を、R4は置換もしくは非
置換のイオウ及び／又はチツ素原子を含む５員環
芳香族複素環残基を示す。〕で表わされるアゼチ
ジノン化合物を、ジメチルホルムアミド中、アン
モニアと反応させて一般式 〔式中、R1、R2及びＹは一般式（）の場合に
同じ。〕で表わされるセフアロスポリン化合物を
製造することができる。一般式（）の化合物と
アンモニアの使用割合は、前者に対し後者を等モ
ル〜10倍モル、好ましくは等モル〜３倍モル程度
とすればよい。該反応は通常−78〜20℃程度、好
ましくは−40〜５℃程度にて行なわれ、通常0.1
〜１時間程で終了する。 以上詳述した各製法により得られる各化合物
は、反応終了後常法により抽出単離し、カラムク
ロマトグラフイー又は再結晶法により精製するこ
とができる。 実施例 １ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘペト−２−エン−６−イル）−３−ク
ロロメチル−３−ブテン酸メチル249.2mgにアセ
トン４mlを加え均一溶液とする。これに
ゲン低級アルキル基）を、R4は置換もしくは非
置換のイオウ及び／又はチツ素原子を含む５員環
芳香族複素環残基を示す。〕で表わされるアゼチ
ジノン化合物を、ジメチルホルムアミド中、アン
モニアと反応させて一般式 〔式中、R1、R2及びＹは一般式（）の場合に
同じ。〕で表わされるセフアロスポリン化合物を
製造することができる。一般式（）の化合物と
アンモニアの使用割合は、前者に対し後者を等モ
ル〜10倍モル、好ましくは等モル〜３倍モル程度
とすればよい。該反応は通常−78〜20℃程度、好
ましくは−40〜５℃程度にて行なわれ、通常0.1
〜１時間程で終了する。 以上詳述した各製法により得られる各化合物
は、反応終了後常法により抽出単離し、カラムク
ロマトグラフイー又は再結晶法により精製するこ
とができる。 実施例 １ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘペト−２−エン−６−イル）−３−ク
ロロメチル−３−ブテン酸メチル249.2mgにアセ
トン４mlを加え均一溶液とする。これに
【式】248.5mgを加え、室温で１時間反
応させる。次にジエチルエーテル20mlを加え希釈
し、これを飽和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥
したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡黄色
油状残渣をシリカゲルカラム上で、ベンゼン−酢
酸エチル（10：１）を用いてクロマトグラフイー
を行ない、２−（３−フエニルジクロロメチル−
７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ
〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３
−エトキシチオカルボニルチオメチル−３−ブテ
ン酸メチルを得る。 （268.5mg、90％） NMR（δ CDCl3） 1.39（ｔ、3H、７Hz） 3.70（ｓ、3H） 4.63（ｑ、2H、７Hz） 5.04（ｓ、1H） 5.11（ｓ、1H） 5.39（ｓ、1H） 6.02（ｓ、2H） 7.20〜7.55（ｍ、3H） 7.55〜7.85（ｍ、2H） 実施例 ２ 出発原料として２−（３−フエニルジクロロメ
チル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビ
シクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−クロロメチル−３−ブテン酸ベンジル
50.0mgを用いて実施例１と同様にして反応して、
同様の処理を行ない２−（３−フエニルジクロロ
メチル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザ
ビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−オン−６−
イル）−３−エトキシチオカルボニルチオメチル
−３−ブテン酸ベンジルを得る。（49.5mg、85％） IR（neat） 1775、1735cm-1 NMR（δ CDCl3） 1.35（ｔ、3H、７Hz） 3.70（ｓ、2H） 4.59（ｑ、2H、７Hz） 5.00（ｓ、1H） 5.09（ｓ、1H） 5.15（ｓ、2H） 5.32（ｓ、1H） 6.00（ｓ、2H） 7.25〜7.60（ｍ、8H） 7.60〜7.85（ｍ、2H） 参考例 １ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘペト−２−エン−６−イル）−３−ク
ロロメチル−３−ブテン酸メチル30.7mgにアセト
ン１mlを加え均一溶液とする。これにNaI22.0mg
を加え、55℃に加熱しながら３時間反応させる。
次に室温まで冷却したのち、酢酸エチルを加えて
希釈し、これをNa2S2O3水溶液で洗浄、次いで飽
和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥したのち減圧
下溶媒を留去する。得られた淡黄色油状残渣をシ
リカゲルカラム上でベンゼン−酢酸エチル（10：
１）を用いてクロマトグラフイーを行ない、２−
（３−フエニルジクロロメチル−７−オキソ−４
−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕
ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヨードメチ
ル−３−ブテン酸メチルを得る。（30.0mg、81％） IR（CHCl3） 1780、1745cm-1 NMR（δ CDCl3） 3.55及び3.69（ABq、2H、
10Hz）、3.75（ｓ、3H） 5.05（ｓ、1H） 5.24（ｓ、1H） 5.46（ｓ、1H） 6.04及び6.09（ABq、2H、４Hz）、7.20〜7.60
（ｍ、3H）、7.60〜7.90（ｍ、2H） 参考例 ２ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ク
ロロメチル−３−ブテン酸ベンジル450.0mgにア
セトン５mlを加え均一溶液とする。これに
NaI264.6mgを加え、55℃に加熱しながら1.5時間
反応させる。次に室温まで冷却したのち、酢酸エ
チルを加えて希釈し、これをNa2S2O3水溶液で洗
浄、次いで飽和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥
したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡黄色
油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン−酢酸
エチル（80：１）を用いてクロマトグラフイーを
行ない、２−（３−フエニルジクロロメチル−７
−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ
〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３
−ヨードメチル−３−ブテン酸ベンジルを得る。 （492.0mg、93％） NMR（δ CDCl3） 3.53及び3.67（ABq、2H、
10Hz）、4.94（ｓ、1H） 5.18（ｓ、2H） 5.30（ｓ、1H） 5.39（ｓ、1H） 6.03（ｓ、2H） 7.33（ｓ、5H） 7.15〜7.60（ｍ、3H） 7.60〜7.90（ｍ、2H） 実施例 ３ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヨ
ードメチル−３−ブテン酸ベンジル25.3mgにジメ
チルスルホキシド0.4mlを加え均一溶液とする。
これにNaNO314.3mg、メタンスルホン酸メチル
7.0mgを加え溶解させる。水流ポンプを用いて反
応系を55mmHgの減圧状態に保ちながら65℃に加
熱して２時間40分反応させる。次いで室温まで放
冷したのちNa2S2O3水溶液を加えてはげしくかき
まぜる。これを酢酸エチルで抽出し、有機層を飽
和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥したのち減圧
下溶媒を留去する。得られた黄色油状残渣をシリ
カゲルカラム上でベンゼン−酢酸エチル（80：
１）、続いてベンゼン−酢酸エチル（10：１）を
用いてクロマトグラフイーを行ない、２−（３−
フエニルジクロロメチル−７−オキソ−４−チア
−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト
−２−エン−６−イル）−３−ニトロキシメチル
−３−ブテン酸ベンジルを得る。 （18.1mg、80％） IR（neat） 1775、1740、1635、1275cm-1 NMR（δ CDCl3） 4.74（ｓ、2H） 5.04（ｓ、1H） 5.18（ｓ、2H） 5.23（ｓ、1H） 5.44（ｓ、1H） 6.02及び6.06（ABq、2H、４Hz）、7.32（ｓ、
5H） 7.15〜7.55（ｍ、3H） 7.55〜7.85（ｍ、2H） 参考例 ３ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシク〔３，２，
０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ニトロ
キシメチル−３−ブテン酸ベンジル68.9mgに塩化
メチレン0.6mlを加え均一溶液とする。これに亜
鉛粉末42.0mgを加え０〜５℃に冷却する。これに
酢酸0.6mlを加え45分間かきまぜながら反応させ
る。次いで５mlの酢酸エチルを加えて希釈し、飽
和NaHCO3水溶液で洗浄、続いて飽和食塩水で
洗浄して、Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を
留去する。得られた淡黄色油状残渣をシリカゲル
カラム上でベンゼン−酢酸エチル（４：１）を用
いてクロマトグラフイーを行ない、２−（３−ベ
ンジル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザ
ビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベ
ンジルを得る。（46.4mg、85％） IR（neat） 3380、1770、1740、1150cm-1 NMR（δ CDCl3） 2.12（bs、1H） 3.85（ｓ、2H） 3.97（ｓ、2H） 5.00（ｓ、1H） 5.08（ｓ、1H） 5.20（ｓ、2H） 5.29（ｓ、1H） 5.91（ｓ、2H） 7.32（ｓ、5H） 7.37（ｓ、5H） 実施例 ４ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアゾビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヨ
ードメチル−３−ブテン酸ベンジル35.3mgにジメ
チルスルホキシド0.3mlを加え均一溶液とする。
これにｐ−トルエンスルホン酸14.0mgを加え溶解
させる。これを50℃に加熱して２時間反応させ
る。次いで室温まで放冷したのちNa2S2O3水溶液
を加えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチル
で抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、
Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。
得られた黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベ
ンゼン−酢酸エチル（10：１）を用いてクロマト
グラフイーを行ない、２−（３−フエニルジクロ
ロメチル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジア
ザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６
−イル）−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸
ベンジルを得る。（22.6mg、78％） IR（neat） 3440、1780、1745、1160cm-1 NMR（δ CDCl3） 1.75（bs、1H） 4.00（ｓ、2H） 5.01（ｓ、1H） 5.11（ｓ、1H） 5.19（ｓ、2H） 5.30（ｓ、1H） 6.05（ｓ、2H） 7.36（ｓ、5H） 7.20〜7.60（ｍ、3H） 7.60〜7.90（ｍ、2H） 参考例 ４ 出発原料として２−（３−フエニルジクロロメ
チル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビ
シクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベン
ジル22.3mgを用いて、塩化メチレン0.5ml中、亜
鉛粉末6.5mg及び酢酸30μと参考例３の方法と同
様に反応させて、同様に処理し２−（３−ベンジ
ル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシ
クロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベン
ジルを得る。（16.8mg、87％）得られた化合物の
分析値は参考例３の値と一致する。 参考例 ５ ２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−
２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−クロロメチル−３−
ブテン酸ベンジル94.6mgにアセトン1.2mlを加え
均一溶液とする。これにNaI64.3mgを加え、55℃
に加熱しながら1.5時間かきまぜる。次に室温ま
で冷却したのち５mlの酢酸エチルを加えて希釈
し、これをNa2S2O3水溶液で洗浄、次いで飽和食
塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥したのち減圧下濃
縮して、２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘ
プト−２−エン−６−イル）−３−ヨードメチル
−３−ブテン酸ベンジルを無色油状物質として得
る。 （113.0mg、99％） NMR（δ CDCl3） 3.63（ｓ、2H） 3.83（ｓ、2H） 4.95（ｓ、1H） 5.17（ｓ、2H） 5.23（ｓ、2H） 5.38（ｓ、1H） 5.87（bs、2H） 7.26（ｓ、5H） 7.33（ｓ、5H） 参考例 ６ ２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−
２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−ヨードメチル−６−
ブテン酸ベンジル103.5mgにジメチルスルホキシ
ド0.9mlを加え均一溶液とする。これにNaNO380
mg、メタンスルホン酸メチル40mgを加え溶解させ
る。水流ポンプを用いて反応系を45〜50mmHgの
減圧状態に保ちながら48℃に加熱して４時間反応
させる。次いで室温まで放冷したのちNa2S2O3水
溶液を加えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エ
チルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、
Na2SO4で乾燥したのち減圧下濃縮する。得られ
た黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン
−酢酸エチル（15：１）を用いてクロマトグラフ
イーを行ない、２−（３−ベンジル−７−オキソ
−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，
０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ニトロ
キシメチル−３−ブテン酸酸ベンジルを得る。 （68.5mg、76％） IR（neat） 1780、1740、1640、1275cm-1 NMR（δ CDCl3） 3.85（ｓ、2H） 4.74（ｓ、2H） 5.01（ｓ、1H） 5.18（ｓ、2H） 5.22（ｓ、1H） 5.43（ｓ、1H） 5.89及び5.93（ABq、2H、４Hz）、7.28（ｓ、
5H） 7.34（ｓ、5H） 参考例 ７ ２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−
２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−ヒドロキシメチル−
３−ブテン酸ベンジル23.8mgに塩化メチレン0.3
mlを加え均一溶液とする。これを０〜５℃に冷却
し、無水酢酸22μを加え、続いてピリジン12μ
を加えて12時間反応させる。次いで真空ポンプ
を用いて減圧下溶媒等を留去する。得られた淡黄
色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン−酢
酸エチル（10：１）を用いてクロマトグラフイー
を行ない、２−（３−ベンジル−７−オキソ−４
−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕
ヘプト−２−エン−６−イル）−３−アセトキシ
メチル−３−ブテン酸ベンジルを得る。 （24.7mg、94％） IR（neat） 1775、1745、1740（sh）、1230cm-1 NMR（δ CDCl3） 2.00（ｓ、3H） 3.84（ｓ、2H） 4.49（ｓ、2H） 5.05（ｓ、2H） 5.15（ｓ、2H） 5.29（ｓ、1H） 5.88（ｓ、2H） 7.24（ｓ、5H） 7.32（ｓ、5H） 参考例 ８ ２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−
２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−ヒドロキシメチル−
３−ブテン酸ベンジル28.3mgに塩化メチレン0.3
mlを加え均一溶液とする。これを０〜５℃に冷却
し、
し、これを飽和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥
したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡黄色
油状残渣をシリカゲルカラム上で、ベンゼン−酢
酸エチル（10：１）を用いてクロマトグラフイー
を行ない、２−（３−フエニルジクロロメチル−
７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ
〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３
−エトキシチオカルボニルチオメチル−３−ブテ
ン酸メチルを得る。 （268.5mg、90％） NMR（δ CDCl3） 1.39（ｔ、3H、７Hz） 3.70（ｓ、3H） 4.63（ｑ、2H、７Hz） 5.04（ｓ、1H） 5.11（ｓ、1H） 5.39（ｓ、1H） 6.02（ｓ、2H） 7.20〜7.55（ｍ、3H） 7.55〜7.85（ｍ、2H） 実施例 ２ 出発原料として２−（３−フエニルジクロロメ
チル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビ
シクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−クロロメチル−３−ブテン酸ベンジル
50.0mgを用いて実施例１と同様にして反応して、
同様の処理を行ない２−（３−フエニルジクロロ
メチル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザ
ビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−オン−６−
イル）−３−エトキシチオカルボニルチオメチル
−３−ブテン酸ベンジルを得る。（49.5mg、85％） IR（neat） 1775、1735cm-1 NMR（δ CDCl3） 1.35（ｔ、3H、７Hz） 3.70（ｓ、2H） 4.59（ｑ、2H、７Hz） 5.00（ｓ、1H） 5.09（ｓ、1H） 5.15（ｓ、2H） 5.32（ｓ、1H） 6.00（ｓ、2H） 7.25〜7.60（ｍ、8H） 7.60〜7.85（ｍ、2H） 参考例 １ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘペト−２−エン−６−イル）−３−ク
ロロメチル−３−ブテン酸メチル30.7mgにアセト
ン１mlを加え均一溶液とする。これにNaI22.0mg
を加え、55℃に加熱しながら３時間反応させる。
次に室温まで冷却したのち、酢酸エチルを加えて
希釈し、これをNa2S2O3水溶液で洗浄、次いで飽
和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥したのち減圧
下溶媒を留去する。得られた淡黄色油状残渣をシ
リカゲルカラム上でベンゼン−酢酸エチル（10：
１）を用いてクロマトグラフイーを行ない、２−
（３−フエニルジクロロメチル−７−オキソ−４
−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕
ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヨードメチ
ル−３−ブテン酸メチルを得る。（30.0mg、81％） IR（CHCl3） 1780、1745cm-1 NMR（δ CDCl3） 3.55及び3.69（ABq、2H、
10Hz）、3.75（ｓ、3H） 5.05（ｓ、1H） 5.24（ｓ、1H） 5.46（ｓ、1H） 6.04及び6.09（ABq、2H、４Hz）、7.20〜7.60
（ｍ、3H）、7.60〜7.90（ｍ、2H） 参考例 ２ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ク
ロロメチル−３−ブテン酸ベンジル450.0mgにア
セトン５mlを加え均一溶液とする。これに
NaI264.6mgを加え、55℃に加熱しながら1.5時間
反応させる。次に室温まで冷却したのち、酢酸エ
チルを加えて希釈し、これをNa2S2O3水溶液で洗
浄、次いで飽和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥
したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡黄色
油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン−酢酸
エチル（80：１）を用いてクロマトグラフイーを
行ない、２−（３−フエニルジクロロメチル−７
−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ
〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３
−ヨードメチル−３−ブテン酸ベンジルを得る。 （492.0mg、93％） NMR（δ CDCl3） 3.53及び3.67（ABq、2H、
10Hz）、4.94（ｓ、1H） 5.18（ｓ、2H） 5.30（ｓ、1H） 5.39（ｓ、1H） 6.03（ｓ、2H） 7.33（ｓ、5H） 7.15〜7.60（ｍ、3H） 7.60〜7.90（ｍ、2H） 実施例 ３ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヨ
ードメチル−３−ブテン酸ベンジル25.3mgにジメ
チルスルホキシド0.4mlを加え均一溶液とする。
これにNaNO314.3mg、メタンスルホン酸メチル
7.0mgを加え溶解させる。水流ポンプを用いて反
応系を55mmHgの減圧状態に保ちながら65℃に加
熱して２時間40分反応させる。次いで室温まで放
冷したのちNa2S2O3水溶液を加えてはげしくかき
まぜる。これを酢酸エチルで抽出し、有機層を飽
和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥したのち減圧
下溶媒を留去する。得られた黄色油状残渣をシリ
カゲルカラム上でベンゼン−酢酸エチル（80：
１）、続いてベンゼン−酢酸エチル（10：１）を
用いてクロマトグラフイーを行ない、２−（３−
フエニルジクロロメチル−７−オキソ−４−チア
−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト
−２−エン−６−イル）−３−ニトロキシメチル
−３−ブテン酸ベンジルを得る。 （18.1mg、80％） IR（neat） 1775、1740、1635、1275cm-1 NMR（δ CDCl3） 4.74（ｓ、2H） 5.04（ｓ、1H） 5.18（ｓ、2H） 5.23（ｓ、1H） 5.44（ｓ、1H） 6.02及び6.06（ABq、2H、４Hz）、7.32（ｓ、
5H） 7.15〜7.55（ｍ、3H） 7.55〜7.85（ｍ、2H） 参考例 ３ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシク〔３，２，
０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ニトロ
キシメチル−３−ブテン酸ベンジル68.9mgに塩化
メチレン0.6mlを加え均一溶液とする。これに亜
鉛粉末42.0mgを加え０〜５℃に冷却する。これに
酢酸0.6mlを加え45分間かきまぜながら反応させ
る。次いで５mlの酢酸エチルを加えて希釈し、飽
和NaHCO3水溶液で洗浄、続いて飽和食塩水で
洗浄して、Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を
留去する。得られた淡黄色油状残渣をシリカゲル
カラム上でベンゼン−酢酸エチル（４：１）を用
いてクロマトグラフイーを行ない、２−（３−ベ
ンジル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザ
ビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベ
ンジルを得る。（46.4mg、85％） IR（neat） 3380、1770、1740、1150cm-1 NMR（δ CDCl3） 2.12（bs、1H） 3.85（ｓ、2H） 3.97（ｓ、2H） 5.00（ｓ、1H） 5.08（ｓ、1H） 5.20（ｓ、2H） 5.29（ｓ、1H） 5.91（ｓ、2H） 7.32（ｓ、5H） 7.37（ｓ、5H） 実施例 ４ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアゾビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヨ
ードメチル−３−ブテン酸ベンジル35.3mgにジメ
チルスルホキシド0.3mlを加え均一溶液とする。
これにｐ−トルエンスルホン酸14.0mgを加え溶解
させる。これを50℃に加熱して２時間反応させ
る。次いで室温まで放冷したのちNa2S2O3水溶液
を加えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチル
で抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、
Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。
得られた黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベ
ンゼン−酢酸エチル（10：１）を用いてクロマト
グラフイーを行ない、２−（３−フエニルジクロ
ロメチル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジア
ザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６
−イル）−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸
ベンジルを得る。（22.6mg、78％） IR（neat） 3440、1780、1745、1160cm-1 NMR（δ CDCl3） 1.75（bs、1H） 4.00（ｓ、2H） 5.01（ｓ、1H） 5.11（ｓ、1H） 5.19（ｓ、2H） 5.30（ｓ、1H） 6.05（ｓ、2H） 7.36（ｓ、5H） 7.20〜7.60（ｍ、3H） 7.60〜7.90（ｍ、2H） 参考例 ４ 出発原料として２−（３−フエニルジクロロメ
チル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビ
シクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベン
ジル22.3mgを用いて、塩化メチレン0.5ml中、亜
鉛粉末6.5mg及び酢酸30μと参考例３の方法と同
様に反応させて、同様に処理し２−（３−ベンジ
ル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシ
クロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベン
ジルを得る。（16.8mg、87％）得られた化合物の
分析値は参考例３の値と一致する。 参考例 ５ ２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−
２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−クロロメチル−３−
ブテン酸ベンジル94.6mgにアセトン1.2mlを加え
均一溶液とする。これにNaI64.3mgを加え、55℃
に加熱しながら1.5時間かきまぜる。次に室温ま
で冷却したのち５mlの酢酸エチルを加えて希釈
し、これをNa2S2O3水溶液で洗浄、次いで飽和食
塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥したのち減圧下濃
縮して、２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘ
プト−２−エン−６−イル）−３−ヨードメチル
−３−ブテン酸ベンジルを無色油状物質として得
る。 （113.0mg、99％） NMR（δ CDCl3） 3.63（ｓ、2H） 3.83（ｓ、2H） 4.95（ｓ、1H） 5.17（ｓ、2H） 5.23（ｓ、2H） 5.38（ｓ、1H） 5.87（bs、2H） 7.26（ｓ、5H） 7.33（ｓ、5H） 参考例 ６ ２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−
２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−ヨードメチル−６−
ブテン酸ベンジル103.5mgにジメチルスルホキシ
ド0.9mlを加え均一溶液とする。これにNaNO380
mg、メタンスルホン酸メチル40mgを加え溶解させ
る。水流ポンプを用いて反応系を45〜50mmHgの
減圧状態に保ちながら48℃に加熱して４時間反応
させる。次いで室温まで放冷したのちNa2S2O3水
溶液を加えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エ
チルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、
Na2SO4で乾燥したのち減圧下濃縮する。得られ
た黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン
−酢酸エチル（15：１）を用いてクロマトグラフ
イーを行ない、２−（３−ベンジル−７−オキソ
−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，
０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ニトロ
キシメチル−３−ブテン酸酸ベンジルを得る。 （68.5mg、76％） IR（neat） 1780、1740、1640、1275cm-1 NMR（δ CDCl3） 3.85（ｓ、2H） 4.74（ｓ、2H） 5.01（ｓ、1H） 5.18（ｓ、2H） 5.22（ｓ、1H） 5.43（ｓ、1H） 5.89及び5.93（ABq、2H、４Hz）、7.28（ｓ、
5H） 7.34（ｓ、5H） 参考例 ７ ２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−
２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−ヒドロキシメチル−
３−ブテン酸ベンジル23.8mgに塩化メチレン0.3
mlを加え均一溶液とする。これを０〜５℃に冷却
し、無水酢酸22μを加え、続いてピリジン12μ
を加えて12時間反応させる。次いで真空ポンプ
を用いて減圧下溶媒等を留去する。得られた淡黄
色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン−酢
酸エチル（10：１）を用いてクロマトグラフイー
を行ない、２−（３−ベンジル−７−オキソ−４
−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕
ヘプト−２−エン−６−イル）−３−アセトキシ
メチル−３−ブテン酸ベンジルを得る。 （24.7mg、94％） IR（neat） 1775、1745、1740（sh）、1230cm-1 NMR（δ CDCl3） 2.00（ｓ、3H） 3.84（ｓ、2H） 4.49（ｓ、2H） 5.05（ｓ、2H） 5.15（ｓ、2H） 5.29（ｓ、1H） 5.88（ｓ、2H） 7.24（ｓ、5H） 7.32（ｓ、5H） 参考例 ８ ２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−
２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−ヒドロキシメチル−
３−ブテン酸ベンジル28.3mgに塩化メチレン0.3
mlを加え均一溶液とする。これを０〜５℃に冷却
し、
【式】14.4μを加え、続いてピ
リジン15.6μを加えて2.5時間反応させる。次い
で５％塩酸を加えて、これを酢酸エチルで抽出す
る。得られた酢酸エチル溶液を飽和食塩水で洗浄
し、Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去す
る。得られた無色油状残渣をシリカゲルカラム上
でベンゼン−酢酸エチル（20：１）を用いてクロ
マトグラフイーを行ない、２−（３−ベンジル−
７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ
〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３
−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル
オキシメチル）−３−ブテン酸ベンジルを得る。 （30mg、75％） IR（neat） 1770、1745（sh）、1730（sh）、1235cm
-1 NMR（δ CDCl3） 3.85（ｓ、2H） 4.10（ｓ、2H） 4.23（ｓ、2H） 5.04（ｓ、1H） 5.16（ｓ、3H） 5.37（ｓ、1H） 5.84及び5.91（ABq、2H、４Hz）、7.25（ｓ、
5H） 7.34（ｓ、5H） 実施例 ５ 出発原料として２−（３−フエニルジクロロメ
チル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビ
シクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベン
ジル26.0mgを用いて、参考例７と同様反応させ
て、同様に処理し２−（３−フエニルジクロロメ
チル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビ
シクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−アセトキシメチル−３−ブテン酸ベン
ジルを得る。（27.0mg、96％） IR（neat） 1770、1740、1730、1220cm-1 NMR（δ、CDCl3） 2.02（ｓ、3H） 4.47（ｓ、2H） 5.09（ｓ、2H） 5.16（ｓ、2H） 5.30（ｓ、1H） 6.01（ｓ、2H） 7.31（ｓ、5H） 7.20〜7.60（ｍ、3H） 7.60〜7.90（ｍ、2H） 参考例 ９ 出発原料として２−（３−フエニルジクロロメ
チル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビ
シクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−アセトキシメチル−３−ブテン酸ベン
ジル32.0mgを用いて参考例４と同様に反応させ
て、同様に処理し、２−（３−ベンジル−７−オ
キソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ア
セトキシメチル−３−ブテン酸ベンジルを得る。
（25.6mg、92％）得られた化合物の分析値は参考
例７の値と一致する。 実施例 ６ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ク
ロロメチル−３−ブテン酸ベンジル200.0mgにア
セトン2.2mlを加え均一溶液とする。これに
NaI117.6mgを加え、55℃に加熱しながら1.5時間
反応させる。次に室温まで冷却したのち、酢酸エ
チルを加えて希釈し、これをNa2S2O3水溶液で洗
浄し、次いで飽和食塩水で洗浄して、Na2SO4で
乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡
黄色油状残渣にジメチルスルホキシド1.6mlを加
え均一溶液とする。これにNaNO3150mg、メタン
スルホン酸メチル75.6mgを加えて溶解させる。次
いで水流ポンプを用いて反応系を45〜52mmHgの
減圧状態に保ちながら50℃に加熱して４時間反応
させる。次いで室温まで放冷したのちNa2S2O3水
溶液を加えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エ
チルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、
Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。
得られた黄色油状残渣に塩化メチレン1.5mlを加
え均一溶液とする。これに亜鉛粉末128.2mgを加
え０〜５℃に冷却する。これに酢酸1.5mlを加え
２時間かきまぜながら反応させる。次いで酢酸エ
チルを加えて希釈し、飽和NaHCO3水溶液で洗
浄、続いて飽和食塩水で洗浄して、Na2SO4で乾
燥したのち減圧下溶媒を留去する。得られた黄色
油状残渣に塩化メチレン1.5mlを加え均一溶液と
する。これを０〜５℃に冷却し、無水酢酸0.12ml
を加え、続いてピリジン66μを加えて16時間反
応させる。次いで参考例７と同様の処理を行な
い、２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア
−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト
−２−エン−６−イル）−３−アセトキシメチル
−３−ブテル酸ベンジルを得る。（137mg、75％）
得られた化合物の分析値は参考例７の値と一致す
る。 実施例 ７ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヨ
ードメチル−３−ブテン酸ベンジル43.8mgにアセ
トン0.5mlを加え均一溶液とする。これに
で５％塩酸を加えて、これを酢酸エチルで抽出す
る。得られた酢酸エチル溶液を飽和食塩水で洗浄
し、Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去す
る。得られた無色油状残渣をシリカゲルカラム上
でベンゼン−酢酸エチル（20：１）を用いてクロ
マトグラフイーを行ない、２−（３−ベンジル−
７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ
〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３
−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル
オキシメチル）−３−ブテン酸ベンジルを得る。 （30mg、75％） IR（neat） 1770、1745（sh）、1730（sh）、1235cm
-1 NMR（δ CDCl3） 3.85（ｓ、2H） 4.10（ｓ、2H） 4.23（ｓ、2H） 5.04（ｓ、1H） 5.16（ｓ、3H） 5.37（ｓ、1H） 5.84及び5.91（ABq、2H、４Hz）、7.25（ｓ、
5H） 7.34（ｓ、5H） 実施例 ５ 出発原料として２−（３−フエニルジクロロメ
チル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビ
シクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベン
ジル26.0mgを用いて、参考例７と同様反応させ
て、同様に処理し２−（３−フエニルジクロロメ
チル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビ
シクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−アセトキシメチル−３−ブテン酸ベン
ジルを得る。（27.0mg、96％） IR（neat） 1770、1740、1730、1220cm-1 NMR（δ、CDCl3） 2.02（ｓ、3H） 4.47（ｓ、2H） 5.09（ｓ、2H） 5.16（ｓ、2H） 5.30（ｓ、1H） 6.01（ｓ、2H） 7.31（ｓ、5H） 7.20〜7.60（ｍ、3H） 7.60〜7.90（ｍ、2H） 参考例 ９ 出発原料として２−（３−フエニルジクロロメ
チル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビ
シクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−アセトキシメチル−３−ブテン酸ベン
ジル32.0mgを用いて参考例４と同様に反応させ
て、同様に処理し、２−（３−ベンジル−７−オ
キソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ア
セトキシメチル−３−ブテン酸ベンジルを得る。
（25.6mg、92％）得られた化合物の分析値は参考
例７の値と一致する。 実施例 ６ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ク
ロロメチル−３−ブテン酸ベンジル200.0mgにア
セトン2.2mlを加え均一溶液とする。これに
NaI117.6mgを加え、55℃に加熱しながら1.5時間
反応させる。次に室温まで冷却したのち、酢酸エ
チルを加えて希釈し、これをNa2S2O3水溶液で洗
浄し、次いで飽和食塩水で洗浄して、Na2SO4で
乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡
黄色油状残渣にジメチルスルホキシド1.6mlを加
え均一溶液とする。これにNaNO3150mg、メタン
スルホン酸メチル75.6mgを加えて溶解させる。次
いで水流ポンプを用いて反応系を45〜52mmHgの
減圧状態に保ちながら50℃に加熱して４時間反応
させる。次いで室温まで放冷したのちNa2S2O3水
溶液を加えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エ
チルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、
Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。
得られた黄色油状残渣に塩化メチレン1.5mlを加
え均一溶液とする。これに亜鉛粉末128.2mgを加
え０〜５℃に冷却する。これに酢酸1.5mlを加え
２時間かきまぜながら反応させる。次いで酢酸エ
チルを加えて希釈し、飽和NaHCO3水溶液で洗
浄、続いて飽和食塩水で洗浄して、Na2SO4で乾
燥したのち減圧下溶媒を留去する。得られた黄色
油状残渣に塩化メチレン1.5mlを加え均一溶液と
する。これを０〜５℃に冷却し、無水酢酸0.12ml
を加え、続いてピリジン66μを加えて16時間反
応させる。次いで参考例７と同様の処理を行な
い、２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア
−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト
−２−エン−６−イル）−３−アセトキシメチル
−３−ブテル酸ベンジルを得る。（137mg、75％）
得られた化合物の分析値は参考例７の値と一致す
る。 実施例 ７ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヨ
ードメチル−３−ブテン酸ベンジル43.8mgにアセ
トン0.5mlを加え均一溶液とする。これに
【式】10.5mgを加え、室温で35分間か
きまぜながら反応させる。次いで酢酸エチル３ml
を加えて希釈し、これをNa2S2O3水溶液で洗浄
し、次いで飽和食塩水で洗浄して、Na2SO4で乾
燥したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡黄
色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン−酢
酸エチル（20：１）を用いてクロマトグラフイー
を行ない、２−（３−フエニルジクロロメチル−
７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ
〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３
−（１−メチル−１，２，３，４−テトラゾール
−５−イルチオメチル）−３−ブテン酸ベンジル
を得る。（36.2mg、89％） IR（neat） 1775、1740cm-1 NMR（δ、CDCl3） 3.45及び3.98（ABq、2H、
14Hz） 3.73（ｓ、3H） 4.94（ｓ、1H） 5.10（ｓ、1H） 5.19（ｓ、1H） 5.33（ｓ、1H） 6.02及び6.09（ABq、2H、４Hz） 7.33（ｓ、5H） 7.10〜7.60（ｍ、3H） 7.60〜7.90（ｍ、2H） 実施例 ８ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ク
ロロメチル−３−ブテン酸ベンジル37.1mgにアセ
トン0.5mlを加え均一溶液とする。これにNaI21.8
mgを加え、53℃に加熱しながら２時間反応させ
る。次いでこれを室温まで放冷し、続いて
を加えて希釈し、これをNa2S2O3水溶液で洗浄
し、次いで飽和食塩水で洗浄して、Na2SO4で乾
燥したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡黄
色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン−酢
酸エチル（20：１）を用いてクロマトグラフイー
を行ない、２−（３−フエニルジクロロメチル−
７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ
〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３
−（１−メチル−１，２，３，４−テトラゾール
−５−イルチオメチル）−３−ブテン酸ベンジル
を得る。（36.2mg、89％） IR（neat） 1775、1740cm-1 NMR（δ、CDCl3） 3.45及び3.98（ABq、2H、
14Hz） 3.73（ｓ、3H） 4.94（ｓ、1H） 5.10（ｓ、1H） 5.19（ｓ、1H） 5.33（ｓ、1H） 6.02及び6.09（ABq、2H、４Hz） 7.33（ｓ、5H） 7.10〜7.60（ｍ、3H） 7.60〜7.90（ｍ、2H） 実施例 ８ ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ク
ロロメチル−３−ブテン酸ベンジル37.1mgにアセ
トン0.5mlを加え均一溶液とする。これにNaI21.8
mgを加え、53℃に加熱しながら２時間反応させ
る。次いでこれを室温まで放冷し、続いて
【式】11.1mgを加えて室温で20分間か
きまぜながら反応させる。これを実施例６と同様
に処理して２−（３−フエニルジクロロメチル−
７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ
〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３
−（１−メチル−１，２，３，４−テトラゾール
−５−イルチオメチル）−３−ブテン酸ベンジル
を得る。（36.5mg、85％）得られた化合物の分析
値は実施例７の値と一致する。 実施例 ９ 実施例８と同様の方法で次の化合物を製造す
る。結果を下表に示す。
に処理して２−（３−フエニルジクロロメチル−
７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ
〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３
−（１−メチル−１，２，３，４−テトラゾール
−５−イルチオメチル）−３−ブテン酸ベンジル
を得る。（36.5mg、85％）得られた化合物の分析
値は実施例７の値と一致する。 実施例 ９ 実施例８と同様の方法で次の化合物を製造す
る。結果を下表に示す。
【表】
実施例 10
２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヒ
ドロキシメチル−３−ブテン酸ベンジル32.9mgに
塩化メチレン0.3mlを加え均一溶液とする。これ
を０〜５℃に冷却し、
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヒ
ドロキシメチル−３−ブテン酸ベンジル32.9mgに
塩化メチレン0.3mlを加え均一溶液とする。これ
を０〜５℃に冷却し、
【式】14.5μを加え、続いてピリジ
ン16.0μを加えて2.5時間反応させる。次いで５
％塩酸を加えて、これを酢酸エチルで抽出する。
得られた酢酸エチル溶液を飽和食塩水で洗浄し、
Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。
得られた無色油状残渣をシリカゲルカラム上でベ
ンゼン−酢酸エチル（20：１）を用いてクロマト
グラフイーを行ない、２−（３−フエニルジクロ
ロメチル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジア
ザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６
−イル）−３−（２，２，２−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシメチル）−３−ブテン酸ベンジ
ルを得る（35.7mg、80％）。 IR（neat） 1770、1740、1730（sh）、1230cm-1 NMR（δ、CDCl3） 4.80（ｓ、2H） 4.21（ｓ、2H） 5.05（ｓ、1H） 5.18（ｓ、3H） 5.38（ｓ、1H） 5.86及び6.02（ABq、2H、４Hz） 7.33（ｓ、5H） 7.20〜7.60（ｍ、3H） 7.60〜7.90（ｍ、2H） 参考例 10 ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−（１
−メチル−１，２，３，４−テトラゾール−５−
イルチオメチル）−３−ブテン酸ベンジル27.0mg
に塩化メチレン0.3mlを加え均一溶液とする。こ
れに亜鉛粉末7.5mgを加え、続いて酢酸30μを加
え、室温で10分間かきまぜながら反応させる。次
いで３mlの酢酸エチルを加えて希釈し、飽和
NaHCO3水溶液で洗浄、続いて飽和食塩水で洗
浄して、Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留
去する。得られた無色油状残渣をシリカゲルカラ
ム上でベンゼン−酢酸エチル（10：１）を用いて
クロマトグラフイーを行ない、２−（３−ベンジ
ル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシ
クロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−（１−メチル−１，２，３，４−テトラ
ゾール−５−イルチオメチル）−３−ブテン酸ベ
ンゼンを得る。（20.7mg、87％） IR（neat） 1770、1740cm-1 NMR（δ、CDCl3） 3.47及び3.93（ABq、2H、
14.5Hz） 3.71（ｓ、3H） 3.85（ｓ、2H） 4.91（ｓ、1H） 5.09（ｓ、2H） 5.17（ｓ、1H） 5.29（ｓ、1H） 5.85及び5.93（ABq、2H、４Hz） 7.25（ｓ、5H） 7.34（ｓ、5H） 参考例 11 参考例10と同様の方法で次の化合物を製造す
る。結果を下表に示す。
％塩酸を加えて、これを酢酸エチルで抽出する。
得られた酢酸エチル溶液を飽和食塩水で洗浄し、
Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。
得られた無色油状残渣をシリカゲルカラム上でベ
ンゼン−酢酸エチル（20：１）を用いてクロマト
グラフイーを行ない、２−（３−フエニルジクロ
ロメチル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジア
ザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６
−イル）−３−（２，２，２−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシメチル）−３−ブテン酸ベンジ
ルを得る（35.7mg、80％）。 IR（neat） 1770、1740、1730（sh）、1230cm-1 NMR（δ、CDCl3） 4.80（ｓ、2H） 4.21（ｓ、2H） 5.05（ｓ、1H） 5.18（ｓ、3H） 5.38（ｓ、1H） 5.86及び6.02（ABq、2H、４Hz） 7.33（ｓ、5H） 7.20〜7.60（ｍ、3H） 7.60〜7.90（ｍ、2H） 参考例 10 ２−（３−フエニルジクロロメチル−７−オキ
ソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−（１
−メチル−１，２，３，４−テトラゾール−５−
イルチオメチル）−３−ブテン酸ベンジル27.0mg
に塩化メチレン0.3mlを加え均一溶液とする。こ
れに亜鉛粉末7.5mgを加え、続いて酢酸30μを加
え、室温で10分間かきまぜながら反応させる。次
いで３mlの酢酸エチルを加えて希釈し、飽和
NaHCO3水溶液で洗浄、続いて飽和食塩水で洗
浄して、Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留
去する。得られた無色油状残渣をシリカゲルカラ
ム上でベンゼン−酢酸エチル（10：１）を用いて
クロマトグラフイーを行ない、２−（３−ベンジ
ル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシ
クロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−（１−メチル−１，２，３，４−テトラ
ゾール−５−イルチオメチル）−３−ブテン酸ベ
ンゼンを得る。（20.7mg、87％） IR（neat） 1770、1740cm-1 NMR（δ、CDCl3） 3.47及び3.93（ABq、2H、
14.5Hz） 3.71（ｓ、3H） 3.85（ｓ、2H） 4.91（ｓ、1H） 5.09（ｓ、2H） 5.17（ｓ、1H） 5.29（ｓ、1H） 5.85及び5.93（ABq、2H、４Hz） 7.25（ｓ、5H） 7.34（ｓ、5H） 参考例 11 参考例10と同様の方法で次の化合物を製造す
る。結果を下表に示す。
【表】
実施例 12
２−（３−ベンジル−７−オキシ−４−チア−
２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−（１−メチル−１，
２，３，４−テトラゾール−５−イル チオメチ
ル）−３−ブテン酸ベンジル29.7mgにジオキサン
0.6mlを加えて均一溶液とし、続いて５％塩酸60μ
を加えて室温下15分間反応させる。 上記操作とは別に２−ベンゾチアゾリルジスル
フイド37.9mgにジオキサン２mlを加え、湯浴で加
熱しながら均一溶液とし、これに塩素の0.59M四
塩化炭素溶液0.14mlを加えて15分間反応させる。
これを上記ジオキサン溶液に加え室温で５分撹拌
下反応させる。次いでこの反応混合物を酢酸エチ
ルを用いて短いシリカゲルカラムに通し、溶出液
を減圧濃縮する。得られた残渣をベンゼンに溶解
し、再びベンゼンを減圧下留去する。このように
して得られた無色固体及び無色油状物の混合の残
渣をシリカゲルカラム上でベンゼン続いてベンゼ
ン−酢酸エチル（４：１）を用いてクロマトグラ
フイーを行ない２−〔３−フエニルアセトアミド
−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼ
チジノン−１−イル〕−３−（１−メチル−１，
２，３，４−テトラゾール−５−イル チオメチ
ル）−３−ブテン酸ベンジルを得る。（35.7mg、89
％） IR（neat） 3280、1780、1740、1670cm-1 NMR（δ、CDCl3） 3.69（ｓ、2H） 3.74（ｓ、3H） 4.19（ｓ、2H） 5.10（ｓ、3H） 5.23（dd、1H、4.5Hz、８Hz） 5.36（ｓ、1H） 5.48（ｓ、1H） 5.57（ｄ、1H、4.5Hz） 6.79（ｄ、1H、８Hz） 7.1〜7.6（ｍ、12H） 7.6〜8.0（ｍ、2H） 参考例 13 参考例12と同様の方法で次の化合物を製造す
る。結果を下表に示す。
２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−（１−メチル−１，
２，３，４−テトラゾール−５−イル チオメチ
ル）−３−ブテン酸ベンジル29.7mgにジオキサン
0.6mlを加えて均一溶液とし、続いて５％塩酸60μ
を加えて室温下15分間反応させる。 上記操作とは別に２−ベンゾチアゾリルジスル
フイド37.9mgにジオキサン２mlを加え、湯浴で加
熱しながら均一溶液とし、これに塩素の0.59M四
塩化炭素溶液0.14mlを加えて15分間反応させる。
これを上記ジオキサン溶液に加え室温で５分撹拌
下反応させる。次いでこの反応混合物を酢酸エチ
ルを用いて短いシリカゲルカラムに通し、溶出液
を減圧濃縮する。得られた残渣をベンゼンに溶解
し、再びベンゼンを減圧下留去する。このように
して得られた無色固体及び無色油状物の混合の残
渣をシリカゲルカラム上でベンゼン続いてベンゼ
ン−酢酸エチル（４：１）を用いてクロマトグラ
フイーを行ない２−〔３−フエニルアセトアミド
−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼ
チジノン−１−イル〕−３−（１−メチル−１，
２，３，４−テトラゾール−５−イル チオメチ
ル）−３−ブテン酸ベンジルを得る。（35.7mg、89
％） IR（neat） 3280、1780、1740、1670cm-1 NMR（δ、CDCl3） 3.69（ｓ、2H） 3.74（ｓ、3H） 4.19（ｓ、2H） 5.10（ｓ、3H） 5.23（dd、1H、4.5Hz、８Hz） 5.36（ｓ、1H） 5.48（ｓ、1H） 5.57（ｄ、1H、4.5Hz） 6.79（ｄ、1H、８Hz） 7.1〜7.6（ｍ、12H） 7.6〜8.0（ｍ、2H） 参考例 13 参考例12と同様の方法で次の化合物を製造す
る。結果を下表に示す。
【表】
【表】
参考例 14
２−（３−ベンジル−７−オキシ−４−チア−
２，３−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−エトキシチオカルボ
ニルチオメチル−３−ブテン酸メチル25.1mgにジ
オキサン0.25mlを加え均一溶液とし、続いて50μ
の水を加える。 上記操作とは別に２−メルカプトベンゾチアゾ
ール9.4mgを沃素14.2mgをジオキサン１mlに溶解
する。これを上記ジオキサン溶液に加えて、室温
で90分間反応させる。次いでジエチルエーテル５
mlを加えて希釈し、これをNa2S2O3水溶液、飽和
食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥したのち減圧下
濃縮する。得られた黄色油状残渣をシリカゲルカ
ラム上でベンゼン−酢酸エチル（８：１）を用い
てクロマトグラフイーを行ない、２−〔３−フエ
ニルアセトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリチ
オ）−２−アゼチジノン−１−イル）−３−エトキ
シカルボニルチオメチル−３−ブテン酸メチルを
得る。（23.5mg、67％）得られた化合物の分析値
は参考例13の値と一致する。 参考例 15 ２−〔３−フエニルアセトアミド−４−（２−ベ
ンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチジノン−１
−イル〕−３−（１−メチル−１，２，３，４−テ
トラゾール−５−イル チオメチル）−３−ブテ
ン酸ベンジル35.7mgにジメチルホルムアミド0.7
mlを加え均一溶液とする。これを−30〜35℃に冷
却し、アンモニアガスをジメチルホルムアミドに
溶かして調整した溶液（約3.3M）23μを加えて
15分間かきまぜながら反応させる。これを−30℃
に保つたまま、真空ポンプを用いて減圧下過剰の
アンモニアを留去する。次いで除々に温度を室温
までもどしながら溶媒を留去する。得られた淡黄
色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン、続
いてベンゼン−酢酸エチル（４：１）を用いてク
ロマトグラフイーを行ない、７−フエニルアセト
アミド−３−（１−メチル−１，２，３，４−テ
トラゾール−５−イル チオメチル）−３−セフ
エム−４−カルボン酸ベンジルを得る。 （24.6mg、90％） NMR（δ、CDCl3） 3.61（ｓ、2H） 3.66（ｓ、2H） 3.84（ｓ、3H） 4.25及び4.45（ABq、2H、13Hz） 4.90（ｄ、1H、５Hz） 5.27（ｓ、2H） 5.79（dd、1H、５Hz、7.5Hz） 6.35（ｄ、1H、7.5Hz） 7.30（ｓ、5H） 7.47（ｓ、5H） 参考例 16 参考例４と同様の方法で次の化合物を製造す
る。結果を下表に示す。
２，３−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−エトキシチオカルボ
ニルチオメチル−３−ブテン酸メチル25.1mgにジ
オキサン0.25mlを加え均一溶液とし、続いて50μ
の水を加える。 上記操作とは別に２−メルカプトベンゾチアゾ
ール9.4mgを沃素14.2mgをジオキサン１mlに溶解
する。これを上記ジオキサン溶液に加えて、室温
で90分間反応させる。次いでジエチルエーテル５
mlを加えて希釈し、これをNa2S2O3水溶液、飽和
食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥したのち減圧下
濃縮する。得られた黄色油状残渣をシリカゲルカ
ラム上でベンゼン−酢酸エチル（８：１）を用い
てクロマトグラフイーを行ない、２−〔３−フエ
ニルアセトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリチ
オ）−２−アゼチジノン−１−イル）−３−エトキ
シカルボニルチオメチル−３−ブテン酸メチルを
得る。（23.5mg、67％）得られた化合物の分析値
は参考例13の値と一致する。 参考例 15 ２−〔３−フエニルアセトアミド−４−（２−ベ
ンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチジノン−１
−イル〕−３−（１−メチル−１，２，３，４−テ
トラゾール−５−イル チオメチル）−３−ブテ
ン酸ベンジル35.7mgにジメチルホルムアミド0.7
mlを加え均一溶液とする。これを−30〜35℃に冷
却し、アンモニアガスをジメチルホルムアミドに
溶かして調整した溶液（約3.3M）23μを加えて
15分間かきまぜながら反応させる。これを−30℃
に保つたまま、真空ポンプを用いて減圧下過剰の
アンモニアを留去する。次いで除々に温度を室温
までもどしながら溶媒を留去する。得られた淡黄
色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン、続
いてベンゼン−酢酸エチル（４：１）を用いてク
ロマトグラフイーを行ない、７−フエニルアセト
アミド−３−（１−メチル−１，２，３，４−テ
トラゾール−５−イル チオメチル）−３−セフ
エム−４−カルボン酸ベンジルを得る。 （24.6mg、90％） NMR（δ、CDCl3） 3.61（ｓ、2H） 3.66（ｓ、2H） 3.84（ｓ、3H） 4.25及び4.45（ABq、2H、13Hz） 4.90（ｄ、1H、５Hz） 5.27（ｓ、2H） 5.79（dd、1H、５Hz、7.5Hz） 6.35（ｄ、1H、7.5Hz） 7.30（ｓ、5H） 7.47（ｓ、5H） 参考例 16 参考例４と同様の方法で次の化合物を製造す
る。結果を下表に示す。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、R1は置換もしくは非置換のフエニル基
を示し、R2はカルボキシル保護基を示す。Ｙは、
−ONO2、−OH、基 【式】【式】【式】 又は−SR4を示し、各基においてR3は低級アルキ
ル基又は−OR5（R5は、含ハロゲン低級アルキル
基を示す）を、R4は置換もしくは非置換のイオ
ウ及び／又はチツ素原子を含む５員環芳香族複素
環基を示す。〕 で表わされるアゼチジノン化合物。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57167051A JPS5955888A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | アゼチジノン化合物 |
| US06/869,811 US4656264A (en) | 1982-09-24 | 1983-09-24 | Bicyclic azetidinone intermediates |
| PCT/JP1983/000315 WO1984001152A1 (en) | 1982-09-24 | 1983-09-24 | Azetidinone compounds |
| EP83903008A EP0120094B1 (en) | 1982-09-24 | 1983-09-24 | Azetidinone compounds |
| DE8383903008T DE3379655D1 (de) | 1982-09-24 | 1983-09-24 | Azetidinone compounds |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57167051A JPS5955888A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | アゼチジノン化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5955888A JPS5955888A (ja) | 1984-03-31 |
| JPS6343399B2 true JPS6343399B2 (ja) | 1988-08-30 |
Family
ID=15842481
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57167051A Granted JPS5955888A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | アゼチジノン化合物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4656264A (ja) |
| EP (1) | EP0120094B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5955888A (ja) |
| DE (1) | DE3379655D1 (ja) |
| WO (1) | WO1984001152A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3195371B2 (ja) * | 1991-03-11 | 2001-08-06 | 大塚化学株式会社 | セフエム誘導体の製造法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5143791A (ja) * | 1974-08-15 | 1976-04-14 | Farmaceutici Italia | |
| JPS5759896A (en) * | 1980-09-30 | 1982-04-10 | Otsuka Chem Co Ltd | Production of thiazolineazetidinone derivative |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1472868A (en) * | 1975-08-11 | 1977-05-11 | Farmaceutici Italia | Intermediates for cephalosporin synthesis |
| GB1576219A (en) * | 1976-12-31 | 1980-10-01 | Connlab Holdings Ltd | Thiazoleneazetidinone derivatives |
| CA1145339A (en) | 1979-04-30 | 1983-04-26 | Eli Lilly And Company | Allylic chlorination process and compounds prepared thereby |
| JPS5759897A (en) * | 1980-09-30 | 1982-04-10 | Otsuka Chem Co Ltd | Thiazolineazatidinone |
| US4482491A (en) * | 1981-05-01 | 1984-11-13 | Otsuka Kagaku Yakuhin Kabushiki Kaisha | Thiazolinoazetidinone derivatives and process for the preparation of the same |
| JPS5944356A (ja) * | 1982-09-06 | 1984-03-12 | Otsuka Chem Co Ltd | アゼチジノン誘導体の製造法 |
-
1982
- 1982-09-24 JP JP57167051A patent/JPS5955888A/ja active Granted
-
1983
- 1983-09-24 DE DE8383903008T patent/DE3379655D1/de not_active Expired
- 1983-09-24 US US06/869,811 patent/US4656264A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-09-24 WO PCT/JP1983/000315 patent/WO1984001152A1/ja active IP Right Grant
- 1983-09-24 EP EP83903008A patent/EP0120094B1/en not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5143791A (ja) * | 1974-08-15 | 1976-04-14 | Farmaceutici Italia | |
| JPS5759896A (en) * | 1980-09-30 | 1982-04-10 | Otsuka Chem Co Ltd | Production of thiazolineazetidinone derivative |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0120094A1 (en) | 1984-10-03 |
| DE3379655D1 (de) | 1989-05-24 |
| EP0120094B1 (en) | 1989-04-19 |
| JPS5955888A (ja) | 1984-03-31 |
| US4656264A (en) | 1987-04-07 |
| EP0120094A4 (en) | 1985-02-18 |
| WO1984001152A1 (en) | 1984-03-29 |
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