JPS5955888A - アゼチジノン化合物 - Google Patents
アゼチジノン化合物Info
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- JPS5955888A JPS5955888A JP57167051A JP16705182A JPS5955888A JP S5955888 A JPS5955888 A JP S5955888A JP 57167051 A JP57167051 A JP 57167051A JP 16705182 A JP16705182 A JP 16705182A JP S5955888 A JPS5955888 A JP S5955888A
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- compound
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D513/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00
- C07D513/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D513/04—Ortho-condensed systems
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規なアゼチジノン化合物に関する。
本発明のアゼチジノン化合物は、文献未載の新規化合物
であり、下記一般式で表わされる。
であり、下記一般式で表わされる。
〔式中、Ｒ１は置換もしくは非置換のフェニル基を示す
。Ｒ２はカルボキシル保護基を示す。Ｘは、水素原子又
は塩素原子を示す。Ｙは、−Ｉ、−ＯＮＯ２、−ＯＨ、
基、、又は−ＳＲ４ を示し、各基においてＲ３は低級アルキル基、又は−Ｏ
Ｒ５（Ｒ５は含ハロゲン低級アルキル基を示す）を、Ｒ
４は置換もしくは非置換のイオウ及び／又はチッ素原子
を含む５員環芳香族複素環残基を示す。〕上記一般式（
Ｉ）で表わされるアゼチジノン化合物は、セファロスポ
リン系抗生物質を合成するための中間体として有用であ
る。例えば、下記反応式に従い、本発明化合物から抗菌
剤として有用なセファロスポリン化合物（ＶＩＩ）を合
成できる。
。Ｒ２はカルボキシル保護基を示す。Ｘは、水素原子又
は塩素原子を示す。Ｙは、−Ｉ、−ＯＮＯ２、−ＯＨ、
基、、又は−ＳＲ４ を示し、各基においてＲ３は低級アルキル基、又は−Ｏ
Ｒ５（Ｒ５は含ハロゲン低級アルキル基を示す）を、Ｒ
４は置換もしくは非置換のイオウ及び／又はチッ素原子
を含む５員環芳香族複素環残基を示す。〕上記一般式（
Ｉ）で表わされるアゼチジノン化合物は、セファロスポ
リン系抗生物質を合成するための中間体として有用であ
る。例えば、下記反応式に従い、本発明化合物から抗菌
剤として有用なセファロスポリン化合物（ＶＩＩ）を合
成できる。
〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは前記に同じ。〕上記一般式
（Ｉ）において、Ｒ１で示される置換もしくは非置換の
フェニル基としては、フェニル基、トリル基、キシリル
基、Ｐ−クロロフェニル基、Ｐ−ブロモフェニル基、Ｐ
−ニトロフエニル基、保護されたヒドロキシ基を持つフ
ェニル基、例えば、Ｐ−メトキシフェニル等を挙げるこ
とができる。Ｒ２で示されるカルボキシル基の保護基と
しては、例えばメチル、ベシジル、ジフェニルメチル、
Ｐ−ニトロフェニル、トリクロロエチル等を例示できる
。またＲ３で示される低級アルキル基としては、例えば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等の
炭素数１〜４程度のものが例示できる。Ｒ４で示される
置換もしくは非置換のイ才つ及び／又はチツ素原子を含
む５員環芳香族複素環残基としては、例えば５−メチル
−１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１−メチル
−１，２，３，４−テトラゾール−５−イル、１−フェ
ニル−１，２，３．４−テトラゾール−５−イル、１，
３．４−チアジアゾール−２−イル、１．３−チアゾー
ル−２−イル等を挙げることができる。また、Ｒ５で示
される含ハロゲン低級アルキル基としては、２−クロロ
エチル、２−ブロモエチル、２，２−ジクロロエチル、
２．２′−ジブロモエチル、２．２．２−トリクロロエ
チル、２，２．２−トリブロモエチル等を挙げることが
できる。
（Ｉ）において、Ｒ１で示される置換もしくは非置換の
フェニル基としては、フェニル基、トリル基、キシリル
基、Ｐ−クロロフェニル基、Ｐ−ブロモフェニル基、Ｐ
−ニトロフエニル基、保護されたヒドロキシ基を持つフ
ェニル基、例えば、Ｐ−メトキシフェニル等を挙げるこ
とができる。Ｒ２で示されるカルボキシル基の保護基と
しては、例えばメチル、ベシジル、ジフェニルメチル、
Ｐ−ニトロフェニル、トリクロロエチル等を例示できる
。またＲ３で示される低級アルキル基としては、例えば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等の
炭素数１〜４程度のものが例示できる。Ｒ４で示される
置換もしくは非置換のイ才つ及び／又はチツ素原子を含
む５員環芳香族複素環残基としては、例えば５−メチル
−１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１−メチル
−１，２，３，４−テトラゾール−５−イル、１−フェ
ニル−１，２，３．４−テトラゾール−５−イル、１，
３．４−チアジアゾール−２−イル、１．３−チアゾー
ル−２−イル等を挙げることができる。また、Ｒ５で示
される含ハロゲン低級アルキル基としては、２−クロロ
エチル、２−ブロモエチル、２，２−ジクロロエチル、
２．２′−ジブロモエチル、２．２．２−トリクロロエ
チル、２，２．２−トリブロモエチル等を挙げることが
できる。
本発明の上記一般式（Ｉ）の化合物は、一般式〔式中、
Ｒ１及びＲ２は上記に同じ。〕で表わされる化合物を出
発物質として、以下に記載する如く各種の方法で製造し
得る。
Ｒ１及びＲ２は上記に同じ。〕で表わされる化合物を出
発物質として、以下に記載する如く各種の方法で製造し
得る。
尚、上記一般式（ＩＶ）の化合物は、例えばＴｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．２２，３１９３（１９８１）
記載の方法等の既報の製法に従い製造できる。
ｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．２２，３１９３（１９８１）
記載の方法等の既報の製法に従い製造できる。
（１）一般式
〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じであり、Ｙは−Ｉ又
はを示し、Ｒ３は前記に同じである。〕で表わされる本
発明化合物は、前記一般式（ＩＶ）の出発原料と一般式 Ｍ−Ｙ 〔式中、Ｙは−Ｉ又はを示す。Ｒ３は上記に同じ。Ｍは
ナトリウム又はカリウム原子を示す。〕で表わされる求
核剤とを、有機溶媒中で反応させることにより製造でき
る。該有機溶媒としては、一般式（ＩＶ）の原料化合物
及び上記求核剤を溶解するものであればよく、特にアセ
トン、ジメチルスルホキシド等が好ましい。一般式（Ｉ
Ｖ）の化合物と求核剤との使用割合は適宜選択できるが
、通常前者に対し後者を等モル〜５倍モル程度用いるの
がよい。反応は、通常−１０〜７０℃程度、好ましくは
１０〜５５℃にて行なわれ、一般に０．５〜４時間程で
終了する。
はを示し、Ｒ３は前記に同じである。〕で表わされる本
発明化合物は、前記一般式（ＩＶ）の出発原料と一般式 Ｍ−Ｙ 〔式中、Ｙは−Ｉ又はを示す。Ｒ３は上記に同じ。Ｍは
ナトリウム又はカリウム原子を示す。〕で表わされる求
核剤とを、有機溶媒中で反応させることにより製造でき
る。該有機溶媒としては、一般式（ＩＶ）の原料化合物
及び上記求核剤を溶解するものであればよく、特にアセ
トン、ジメチルスルホキシド等が好ましい。一般式（Ｉ
Ｖ）の化合物と求核剤との使用割合は適宜選択できるが
、通常前者に対し後者を等モル〜５倍モル程度用いるの
がよい。反応は、通常−１０〜７０℃程度、好ましくは
１０〜５５℃にて行なわれ、一般に０．５〜４時間程で
終了する。
（２）一般式
〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じであり、Ｙは、、又
は−ＳＲ４を示し、Ｒ３及び Ｒ４は前記に同じ。〕で表わされる本発明化合物は、上
記（１）の方法で得られる一般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされるチ
アゾリノアゼチジノン化合物と、一般式Ｍ−Ｙ 〔式中、Ｍはナトリウム又はカリウム原子を示す。
は−ＳＲ４を示し、Ｒ３及び Ｒ４は前記に同じ。〕で表わされる本発明化合物は、上
記（１）の方法で得られる一般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされるチ
アゾリノアゼチジノン化合物と、一般式Ｍ−Ｙ 〔式中、Ｍはナトリウム又はカリウム原子を示す。
Ｙは、又は−ＳＲ４を示し、Ｒ３
及びＲ４は前記に同じ。〕で表わされる求核剤とを、有
機溶媒中で反応させて、沃素原子のみを選択的に求核置
換して得ることができる。上記有機溶媒としては、一般
式（ＶＩ）の化合物及び上記求核剤を溶解するものであ
ればよく、アセトシ、ジメチルスルホキシド、ジメチル
ホルムアミド等の非プロトン性溶媒が好ましい。特にア
セトンが好適である。一般式（ＶＩ）の化合物と上記求
核剤との使用割合は、広範囲から適宜選択できるが、一
般に前者に対し後者を等モル〜３倍モル、好ましくは等
モル〜１．５倍モル用いるのがよい。反応は通常−１０
〜４０℃程度、好ましくは室温付近にて行なわれ、一般
に０．１〜２時間程で完結する。
機溶媒中で反応させて、沃素原子のみを選択的に求核置
換して得ることができる。上記有機溶媒としては、一般
式（ＶＩ）の化合物及び上記求核剤を溶解するものであ
ればよく、アセトシ、ジメチルスルホキシド、ジメチル
ホルムアミド等の非プロトン性溶媒が好ましい。特にア
セトンが好適である。一般式（ＶＩ）の化合物と上記求
核剤との使用割合は、広範囲から適宜選択できるが、一
般に前者に対し後者を等モル〜３倍モル、好ましくは等
モル〜１．５倍モル用いるのがよい。反応は通常−１０
〜４０℃程度、好ましくは室温付近にて行なわれ、一般
に０．１〜２時間程で完結する。
（３）一般式
〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる本
発明化合物は、前記（１）の方法で得られる一般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる化
合物と、ＮａＮＯ３又はＫＮＯ３とを、ジメチルスルホ
キシド等の有機溶媒中で反応させることにより得られる
。一般式（ＶＩ）の化合物とＮａＮＯ３又はＫＮＯ３と
の使用割合も広範囲から適宜選択できるが、通常前者に
対し後者を等モル〜１０倍モル程度、好ましくは等モル
〜５倍モル程度用いればよい。反応は、通常０〜１００
℃程度、好ましくは４０〜６０℃程度で行なわれる。反
応の進行と共にＮａＩ又はＫＩが副生するが、これを除
去すべく反応は、メタンスルホン酸メチル又はトルエン
スルホン酸メチルの存在下、３０〜８０ｍｍＨｇ程度の
減圧下で行なうのが好ましい。本反応は通常２〜６時間
程度で終了する。
発明化合物は、前記（１）の方法で得られる一般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる化
合物と、ＮａＮＯ３又はＫＮＯ３とを、ジメチルスルホ
キシド等の有機溶媒中で反応させることにより得られる
。一般式（ＶＩ）の化合物とＮａＮＯ３又はＫＮＯ３と
の使用割合も広範囲から適宜選択できるが、通常前者に
対し後者を等モル〜１０倍モル程度、好ましくは等モル
〜５倍モル程度用いればよい。反応は、通常０〜１００
℃程度、好ましくは４０〜６０℃程度で行なわれる。反
応の進行と共にＮａＩ又はＫＩが副生するが、これを除
去すべく反応は、メタンスルホン酸メチル又はトルエン
スルホン酸メチルの存在下、３０〜８０ｍｍＨｇ程度の
減圧下で行なうのが好ましい。本反応は通常２〜６時間
程度で終了する。
また、一般式（ＶＩ）の化合物を含水ジメチルスルホキ
シド中で、酸触媒を作用させると、沃素原子のみが選択
的に−ＯＨで置換され、一般式〔式中、Ｒ１及びＲ２は
前記に同じ〕で表わされる本発明化合物を得ることがで
きる。含水ジメチルスルホキシド中の水の量は、通常一
般式（ＶＩ）の化合物に対し約１〜５０倍モル程度とす
ればよい。
シド中で、酸触媒を作用させると、沃素原子のみが選択
的に−ＯＨで置換され、一般式〔式中、Ｒ１及びＲ２は
前記に同じ〕で表わされる本発明化合物を得ることがで
きる。含水ジメチルスルホキシド中の水の量は、通常一
般式（ＶＩ）の化合物に対し約１〜５０倍モル程度とす
ればよい。
また、酸触媒としては、Ｐ−トルエンスルホン酸、メタ
ジスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、ジ
クロロ酢酸等を挙げることができ、これらは通常一般式
（ＶＩ）の化合物に対し約０．１〜３倍モル使用すれば
よい。反応温度としては２０〜８０℃が採用でき１反応
は通常１〜５時間程度で終了する。
ジスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、ジ
クロロ酢酸等を挙げることができ、これらは通常一般式
（ＶＩ）の化合物に対し約０．１〜３倍モル使用すれば
よい。反応温度としては２０〜８０℃が採用でき１反応
は通常１〜５時間程度で終了する。
こうして得られる上記化合物（Ｙ＝−ＯＨ）と、炭素数
１〜５の低級カルボン酸無水物もしくは低級カルボン酸
ハライド又は一般式 〔式中Ｒ５は含ハロゲン低級アルキル基を示す。〕で表
わされる化合物とを、ピリジン、ポリビニルピリジン、
分子ふるい等の酸捕捉剤の存在下で反応させることによ
り、一般式 〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前記に同じ。〕で表わさ
れる本発明化合物を収得できる。該反応は、反応に不活
性な有機溶媒、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、塩化メチレン、ベンゼン等を用いて行なわれる
。上記化合物（Ｙ＝−ＯＨ）と上記低級カルボン酸無水
物又は低級カルボン酸ハライド又は一般式（ＸＩ）の化
合物との使用割合は、広い範囲で適宜選択できるが、一
般に前者に対し後者を等モル〜１０倍モル程度、好まし
くは等モル〜５倍モル程度とするのがよい。反応は、比
較的低温下に行なうのが好ましく、−５０〜１０℃程度
が好適である。反応は、一般に１〜１０時間程度で完了
する。
１〜５の低級カルボン酸無水物もしくは低級カルボン酸
ハライド又は一般式 〔式中Ｒ５は含ハロゲン低級アルキル基を示す。〕で表
わされる化合物とを、ピリジン、ポリビニルピリジン、
分子ふるい等の酸捕捉剤の存在下で反応させることによ
り、一般式 〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前記に同じ。〕で表わさ
れる本発明化合物を収得できる。該反応は、反応に不活
性な有機溶媒、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、塩化メチレン、ベンゼン等を用いて行なわれる
。上記化合物（Ｙ＝−ＯＨ）と上記低級カルボン酸無水
物又は低級カルボン酸ハライド又は一般式（ＸＩ）の化
合物との使用割合は、広い範囲で適宜選択できるが、一
般に前者に対し後者を等モル〜１０倍モル程度、好まし
くは等モル〜５倍モル程度とするのがよい。反応は、比
較的低温下に行なうのが好ましく、−５０〜１０℃程度
が好適である。反応は、一般に１〜１０時間程度で完了
する。
（４）一般式
〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じであり、Ｙは、−Ｏ
Ｈ、、、又は−ＳＲ４ を示し、Ｒ３及びＲ４は前記に同じ。〕で表わされる本
発明化合物は、上記（１）〜（３）の方法で得られる一
般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じであり、Ｙは−ＯＨ
、、、又は−ＳＲ４ を示し、Ｒ３及びＲ４は前記に同じ。〕で表わされる化
合物を、有様溶媒中、酢酸の存在下、亜鉛と反応させる
ことにより製造できる。上記有機溶媒としては、下記反
応条件下で酢酸及び亜鉛に不活性なものがいずれも使用
でき、例えば酢酸エチル、テトラヒドロフラン、塩化メ
チレン、アセトン、ベンゼン等が例示できる。酢酸の使
用量としては、広い範囲で適宜選択できるが、一般式（
Ｉａ）の化合物に対し、通常２〜１００倍モル程度、好
ましくは２〜３０倍モル程度の酢酸を反応系内に存在さ
せるのがよい。また、亜鉛の使用量も広範囲から適宜選
択できるが、通常一般式（Ｉａ）の化合物に対し２〜１
０倍モル程度、好ましくは２〜４倍モル程度とするのが
よい。反応は、通常０．５〜２時間程度で完結する。
Ｈ、、、又は−ＳＲ４ を示し、Ｒ３及びＲ４は前記に同じ。〕で表わされる本
発明化合物は、上記（１）〜（３）の方法で得られる一
般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じであり、Ｙは−ＯＨ
、、、又は−ＳＲ４ を示し、Ｒ３及びＲ４は前記に同じ。〕で表わされる化
合物を、有様溶媒中、酢酸の存在下、亜鉛と反応させる
ことにより製造できる。上記有機溶媒としては、下記反
応条件下で酢酸及び亜鉛に不活性なものがいずれも使用
でき、例えば酢酸エチル、テトラヒドロフラン、塩化メ
チレン、アセトン、ベンゼン等が例示できる。酢酸の使
用量としては、広い範囲で適宜選択できるが、一般式（
Ｉａ）の化合物に対し、通常２〜１００倍モル程度、好
ましくは２〜３０倍モル程度の酢酸を反応系内に存在さ
せるのがよい。また、亜鉛の使用量も広範囲から適宜選
択できるが、通常一般式（Ｉａ）の化合物に対し２〜１
０倍モル程度、好ましくは２〜４倍モル程度とするのが
よい。反応は、通常０．５〜２時間程度で完結する。
（６）一般式
〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる本
発明化合物は、上記（３）の方法で得られる一般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる化
合物を、酢酸の存在下で亜鉛と反応させることによって
も製造できる。酢酸の使用量としては特に制限がないが
、通常酢酸を反応溶媒として用いるか、特に好ましくは
他の有機溶媒と酢酸との混合溶媒として用いる。一般式
（Ｉａ）に対する亜鉛の使用量は、広い範囲で適宜選択
できるが、通常前者に対し後者を５〜２０倍モル、好ま
しくは５〜１０倍モル用いるのがよい。混合溶媒として
用いられる有機溶媒は反応に不活性なものであればよく
、例えば酢酸エチル、テトラヒドロフラン、塩化メチレ
ン、アセトン、ベンゼン等を例示できる。反応は、一般
に−２０〜３０℃程度で行われ、一般に０．５〜２時間
程度で終了する。
発明化合物は、上記（３）の方法で得られる一般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる化
合物を、酢酸の存在下で亜鉛と反応させることによって
も製造できる。酢酸の使用量としては特に制限がないが
、通常酢酸を反応溶媒として用いるか、特に好ましくは
他の有機溶媒と酢酸との混合溶媒として用いる。一般式
（Ｉａ）に対する亜鉛の使用量は、広い範囲で適宜選択
できるが、通常前者に対し後者を５〜２０倍モル、好ま
しくは５〜１０倍モル用いるのがよい。混合溶媒として
用いられる有機溶媒は反応に不活性なものであればよく
、例えば酢酸エチル、テトラヒドロフラン、塩化メチレ
ン、アセトン、ベンゼン等を例示できる。反応は、一般
に−２０〜３０℃程度で行われ、一般に０．５〜２時間
程度で終了する。
（６）一般式
〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前記に同じ。〕で表ゎさ
れる本発明化合物は、上記（５）の方法で得られる一般
式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる化
合物と、低級カルボン酸無水物又は低級カルボン酸ハラ
イドとを、ヒリジン、ポリビニルピリジル、分子ふるい
等の酸捕捉剤の存在下で反応さぜることにより得られる
。上記化合物（Ｙ＝ＯＨ）と上記低級カルボン酸無水物
又は低級カルポジ酸ハライドとの使用割合は、広い範囲
で適宜選択できるが、一般に前者に対し後者を等モル〜
１０倍モル程度、好ましくは等モル〜５倍モル程度とす
るのがよい。反応は、比較的低温下に行なうのが好まし
く、−５０〜１０℃程度が好適である。反応は、一般に
１〜１０時間程度で完了する。
れる本発明化合物は、上記（５）の方法で得られる一般
式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる化
合物と、低級カルボン酸無水物又は低級カルボン酸ハラ
イドとを、ヒリジン、ポリビニルピリジル、分子ふるい
等の酸捕捉剤の存在下で反応さぜることにより得られる
。上記化合物（Ｙ＝ＯＨ）と上記低級カルボン酸無水物
又は低級カルポジ酸ハライドとの使用割合は、広い範囲
で適宜選択できるが、一般に前者に対し後者を等モル〜
１０倍モル程度、好ましくは等モル〜５倍モル程度とす
るのがよい。反応は、比較的低温下に行なうのが好まし
く、−５０〜１０℃程度が好適である。反応は、一般に
１〜１０時間程度で完了する。
（７）一般式
〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる本
発明化合物は、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒ
ｓ，２２，３１９３（１９８１）の方法で得られる一般
式〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる
化合物とＮａＩ又はＫＩとを前記（１）と同様にして反
応さぜることにより製造できる。
発明化合物は、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒ
ｓ，２２，３１９３（１９８１）の方法で得られる一般
式〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる
化合物とＮａＩ又はＫＩとを前記（１）と同様にして反
応さぜることにより製造できる。
（８）一般式
〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる本
発明化合物は、上記（７）の方法で得られる一般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる化
合物と、ＮａＮＯ３又はＫＮＯ３とを、前記（３）の方
法と同様に反応させて製造することができる。
発明化合物は、上記（７）の方法で得られる一般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる化
合物と、ＮａＮＯ３又はＫＮＯ３とを、前記（３）の方
法と同様に反応させて製造することができる。
以上の方法で製造される一般式
〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。Ｙは一〇ＮＯ２、
、、又は−ＳＲ４で表わ される基を示し、各基において、Ｒ３は低級アルキル基
又は−〇Ｒ５（Ｒ５は含ハロゲン低級アルキル基）を、
Ｒ４はイオウ及び／又はチッ素原子を含む５員環芳香族
複素環残基を示す。〕で表わされるチアゾリノアゼチジ
ノン化合物を含水ジオキサン中と反応させると、一般式 〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは一般式（ＩＩ）の場合と同
じ。〕で表わされる化合物を得ることができる。
、、又は−ＳＲ４で表わ される基を示し、各基において、Ｒ３は低級アルキル基
又は−〇Ｒ５（Ｒ５は含ハロゲン低級アルキル基）を、
Ｒ４はイオウ及び／又はチッ素原子を含む５員環芳香族
複素環残基を示す。〕で表わされるチアゾリノアゼチジ
ノン化合物を含水ジオキサン中と反応させると、一般式 〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは一般式（ＩＩ）の場合と同
じ。〕で表わされる化合物を得ることができる。
この反応において、含水ジオキサン中に占める水の量と
しては、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式（
ＩＩ）の化合物に対して１〜５００倍モル、好ましくは
１０〜１００倍モル程度用いるのがよい。一般式（ＩＩ
）の化合物ととの使用割合も広範囲にわたるが、通常前
者に対して後者を等モル〜１０倍モル、好ましくは等モ
ル〜４倍モル用いるのがよい。該反応は、通常−１０〜
６０℃程度、好ましくは室温付近にて行われ、通常０．
１〜１時間程度で終了する。尚、該反応で用いられるは
、不活性溶媒、例え ば、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等中で又はを分子状塩素と 反応させることにより製造される。上記反応においては
、斯くして製造されるを反応 混合物から単離して一般式（ＩＩ）の化合物との反応に
供してもよいし、反応混合物をそのまま該反応に供して
もよい。該一般式（ＩＩ）の化合物との反応は、無機酸
又は有機酸の存在下反応を行なうと収率が向上すること
がある。無機酸としては、硫酸、塩酸等が、有機酸とし
てはトリフルオロ酢酸、Ｐ−トルエンスルホン酸等が好
ましい。該酸の使用量としては一般式（ＩＩ）の化合物
に対して０．１〜１０倍モル程度を使用すればよい。
しては、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式（
ＩＩ）の化合物に対して１〜５００倍モル、好ましくは
１０〜１００倍モル程度用いるのがよい。一般式（ＩＩ
）の化合物ととの使用割合も広範囲にわたるが、通常前
者に対して後者を等モル〜１０倍モル、好ましくは等モ
ル〜４倍モル用いるのがよい。該反応は、通常−１０〜
６０℃程度、好ましくは室温付近にて行われ、通常０．
１〜１時間程度で終了する。尚、該反応で用いられるは
、不活性溶媒、例え ば、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等中で又はを分子状塩素と 反応させることにより製造される。上記反応においては
、斯くして製造されるを反応 混合物から単離して一般式（ＩＩ）の化合物との反応に
供してもよいし、反応混合物をそのまま該反応に供して
もよい。該一般式（ＩＩ）の化合物との反応は、無機酸
又は有機酸の存在下反応を行なうと収率が向上すること
がある。無機酸としては、硫酸、塩酸等が、有機酸とし
てはトリフルオロ酢酸、Ｐ−トルエンスルホン酸等が好
ましい。該酸の使用量としては一般式（ＩＩ）の化合物
に対して０．１〜１０倍モル程度を使用すればよい。
また、上記により製造される一般式
〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じであり、Ｙは−ＯＮ
Ｏ２、、、又は −ＳＲ４を示し、各基において、Ｒ３は低級アルキル基
又は−ＯＲ５（Ｒ５は含ハロゲン低級アルキル基）を、
Ｒ４は置換もしくは非置換のイオウ及び／又はチッ素原
子を含む５員環芳香族複素環残基を示す。〕で表わされ
るアゼチジノシ化合物を、ジメチルホルムアミド中、ア
ンモニアと反応させて一般式〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹ
は一般式（ＩＩＩ）の場合に同じ。〕で表わされるセフ
ァロスポリン化合物を製造することができる。一般式（
ＩＩＩ）の化合物とアンモニアの使用割合は、前者に対
し後者を等モル〜１０倍モル、好ましくは等モル〜３倍
モル程度とすればよい。該反応は通常−７８〜２０℃程
度、好ましくは一４０〜５℃程度にて行なわれ、通常０
．１〜１時間程で完了する。
Ｏ２、、、又は −ＳＲ４を示し、各基において、Ｒ３は低級アルキル基
又は−ＯＲ５（Ｒ５は含ハロゲン低級アルキル基）を、
Ｒ４は置換もしくは非置換のイオウ及び／又はチッ素原
子を含む５員環芳香族複素環残基を示す。〕で表わされ
るアゼチジノシ化合物を、ジメチルホルムアミド中、ア
ンモニアと反応させて一般式〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹ
は一般式（ＩＩＩ）の場合に同じ。〕で表わされるセフ
ァロスポリン化合物を製造することができる。一般式（
ＩＩＩ）の化合物とアンモニアの使用割合は、前者に対
し後者を等モル〜１０倍モル、好ましくは等モル〜３倍
モル程度とすればよい。該反応は通常−７８〜２０℃程
度、好ましくは一４０〜５℃程度にて行なわれ、通常０
．１〜１時間程で完了する。
以上詳述した各製法により得られる各化合物は、反応終
了後常法によシ抽出単離し、カラムクロマドグラフイー
又は再結晶法により精製することができる。
了後常法によシ抽出単離し、カラムクロマドグラフイー
又は再結晶法により精製することができる。
実施例１
２−（３−フェニルジクロロメチルー７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘペト−
２−エン−６−イル−３−クロロメチル−３−ブテン酸
メチル２４９．２ｍｇにアセトン４ｍｌを加え均一溶液
とする。これに２４８．５ｍｇを加え、室温で１時間反
応させる。次にジエチルエーテル２０ｍｌを加え希釈し
、これを飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥した
のち減圧上溶媒を留去する。得られた淡黄色油状残渣を
シリカゲルカラム上で、ベシゼン−酢酸エチル（１０：
１）を用いてクロマトグラフィーを行ない、２−（３−
フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−チア−２，
６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−
６−イル）−３−エトキシチオカルボニルチオメチル−
３−ブテン酸メチルを得る。
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘペト−
２−エン−６−イル−３−クロロメチル−３−ブテン酸
メチル２４９．２ｍｇにアセトン４ｍｌを加え均一溶液
とする。これに２４８．５ｍｇを加え、室温で１時間反
応させる。次にジエチルエーテル２０ｍｌを加え希釈し
、これを飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥した
のち減圧上溶媒を留去する。得られた淡黄色油状残渣を
シリカゲルカラム上で、ベシゼン−酢酸エチル（１０：
１）を用いてクロマトグラフィーを行ない、２−（３−
フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−チア−２，
６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−
６−イル）−３−エトキシチオカルボニルチオメチル−
３−ブテン酸メチルを得る。
（２６８，５ｍｇ、９０％）
ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ３） １．３９（ｔ、３Ｈ、７Ｈ
ｚ） ３．７０（ｓ、３Ｈ）
４．６３（ｑ、２Ｈ、７Ｈ
ｚ） ５．０４（ｓ、１Ｈ）
５．１１（ｓ、１Ｈ）
５．３９（ｓ、１Ｈ）
６．０２（ｓ、２Ｈ）
７．２０〜７．５５（ｍ、３Ｈ）
７．５５〜７．８５（ｍ、２Ｈ）
実施例２ 出発原料として２−（３−フェニルジクロロメチル−７
−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２
，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−クロロメチ
ル−３−ブテン酸ベンジル５０．０ｍｇ用いて実施例１
と同様にして反応して、同様の処理を行ない２−（３−
フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−チア−２，
６−ジアザヒシクロ〔３，２，０）ヘプト−２−エン−
６−イル）−３−エトキシチオカルボニルチオメチル−
３−ブテン酸ベンジルを得る。（４９．５ｍｇ、８５％
）ＩＲ（ｎｅａｔ） １７７５、１７３５ｃｍ−１ＮＭ
Ｒ（δ ＣＤＣｌ３） １．３５（ｔ、３Ｈ、７Ｈｚ）
３．７０（ｓ、２Ｈ）
４．５９（ｑ、２Ｈ、７Ｈｚ）
５．００（ｓ、１Ｈ）
５．０９（ｓ、１Ｈ）
５．１５（ｓ、２Ｈ）
５．３２（ｓ、１Ｈ）
６．００（ｓ、２Ｈ）
７．２５〜７．６０（ｍ、８Ｈ）
７．６０〜７．８５（ｍ、２Ｈ）実施例３ ２−（３−フェニルジクロロメチル−７一オキソ−４−
チアー２．６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘペト−
２−エン−６−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン
酸メチル３０．７ｍｇにアセトン１ｍｌを加え均一溶液
とする。これにＮａＩ２２．０ｍｇを加え、５５℃に加
熱しながら３時間反応させる。次に室温まで冷却したの
ち、酢酸エチルを加えて希釈し、これをＮａ２Ｓ２Ｏ３
水溶液で洗浄、次いで飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ
４で乾燥したのち減圧上溶媒を留去する。得られた淡黄
色油状残渣をシリカゲルカラム上でベシゼン−酢酸エチ
ル（１０：１）を用いてクロマトグラフィーを行ない、
２−（３−フェニルジクロロメチルー７ーオキソー４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプトー
２−エン−６−イル）−３−ヨードメチル−３−ブテン
酸メチルを得る。（３０，０ｍｇ、８１％）ＩＲ（ＣＨ
Ｃｌ３） １７８０、１７４５ｃｍ−１ＮＭＲ（δ Ｃ
ＤＣｌ３） ３．５５及び３．６９（ＡＢｑ、２Ｈ、
１０Ｈｚ）、３．７５（ｓ、
３Ｈ） ５．０５（ｓ、１Ｈ
） ５．２４（ｓ、１Ｈ）
５．４６（ｓ、１Ｈ）
６．０４及び６．０９（ＡＢｑ、
２Ｈ、 ４Ｈｚ）、７．２０
〜７．６０（ｍ、 ３Ｈ）、
７．６０〜７．９０（ｍ、
２Ｈ） 実施例４ ２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン
酸ベシジル４５０．０ｍｇにアセトン５ｍｌを加え均一
溶液とする。これにＮａＩ２６４．６ｍｇを加え、５５
℃に加熱しながら１．５時間反応させる。
ｚ） ３．７０（ｓ、３Ｈ）
４．６３（ｑ、２Ｈ、７Ｈ
ｚ） ５．０４（ｓ、１Ｈ）
５．１１（ｓ、１Ｈ）
５．３９（ｓ、１Ｈ）
６．０２（ｓ、２Ｈ）
７．２０〜７．５５（ｍ、３Ｈ）
７．５５〜７．８５（ｍ、２Ｈ）
実施例２ 出発原料として２−（３−フェニルジクロロメチル−７
−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２
，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−クロロメチ
ル−３−ブテン酸ベンジル５０．０ｍｇ用いて実施例１
と同様にして反応して、同様の処理を行ない２−（３−
フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−チア−２，
６−ジアザヒシクロ〔３，２，０）ヘプト−２−エン−
６−イル）−３−エトキシチオカルボニルチオメチル−
３−ブテン酸ベンジルを得る。（４９．５ｍｇ、８５％
）ＩＲ（ｎｅａｔ） １７７５、１７３５ｃｍ−１ＮＭ
Ｒ（δ ＣＤＣｌ３） １．３５（ｔ、３Ｈ、７Ｈｚ）
３．７０（ｓ、２Ｈ）
４．５９（ｑ、２Ｈ、７Ｈｚ）
５．００（ｓ、１Ｈ）
５．０９（ｓ、１Ｈ）
５．１５（ｓ、２Ｈ）
５．３２（ｓ、１Ｈ）
６．００（ｓ、２Ｈ）
７．２５〜７．６０（ｍ、８Ｈ）
７．６０〜７．８５（ｍ、２Ｈ）実施例３ ２−（３−フェニルジクロロメチル−７一オキソ−４−
チアー２．６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘペト−
２−エン−６−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン
酸メチル３０．７ｍｇにアセトン１ｍｌを加え均一溶液
とする。これにＮａＩ２２．０ｍｇを加え、５５℃に加
熱しながら３時間反応させる。次に室温まで冷却したの
ち、酢酸エチルを加えて希釈し、これをＮａ２Ｓ２Ｏ３
水溶液で洗浄、次いで飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ
４で乾燥したのち減圧上溶媒を留去する。得られた淡黄
色油状残渣をシリカゲルカラム上でベシゼン−酢酸エチ
ル（１０：１）を用いてクロマトグラフィーを行ない、
２−（３−フェニルジクロロメチルー７ーオキソー４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプトー
２−エン−６−イル）−３−ヨードメチル−３−ブテン
酸メチルを得る。（３０，０ｍｇ、８１％）ＩＲ（ＣＨ
Ｃｌ３） １７８０、１７４５ｃｍ−１ＮＭＲ（δ Ｃ
ＤＣｌ３） ３．５５及び３．６９（ＡＢｑ、２Ｈ、
１０Ｈｚ）、３．７５（ｓ、
３Ｈ） ５．０５（ｓ、１Ｈ
） ５．２４（ｓ、１Ｈ）
５．４６（ｓ、１Ｈ）
６．０４及び６．０９（ＡＢｑ、
２Ｈ、 ４Ｈｚ）、７．２０
〜７．６０（ｍ、 ３Ｈ）、
７．６０〜７．９０（ｍ、
２Ｈ） 実施例４ ２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン
酸ベシジル４５０．０ｍｇにアセトン５ｍｌを加え均一
溶液とする。これにＮａＩ２６４．６ｍｇを加え、５５
℃に加熱しながら１．５時間反応させる。
次に室温まで冷却したのち、酢酸エチルを加えて希釈し
、これをＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液で洗浄、次いで飽和食塩
水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥したのち減圧下溶媒を
留去する。得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム
上でベシゼン−酢酸エチル（８０：１）を用いてクロマ
トグラフィーを行ない、２−（３−フェニルジクロロメ
チル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ
（３，２，０）ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヨ
ードメチル−３−ブテン酸ベンジルを得る。
、これをＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液で洗浄、次いで飽和食塩
水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥したのち減圧下溶媒を
留去する。得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム
上でベシゼン−酢酸エチル（８０：１）を用いてクロマ
トグラフィーを行ない、２−（３−フェニルジクロロメ
チル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ
（３，２，０）ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヨ
ードメチル−３−ブテン酸ベンジルを得る。
（４９２，０ｍｇ、９３％）
ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ３） ３．５３及び３．６７（Ａ
Ｂｑ、２Ｈ、 １０Ｈｚ）、
４．９４（ｓ、１Ｈ） ５．
１８（ｓ、２Ｈ） ５．３０
（ｓ、１Ｈ） ５．３９（ｓ
、１Ｈ） ６．０３（ｓ、２
Ｈ） ７．３３（ｓ、５Ｈ）
７．１５〜７．６０（ｍ、
３Ｈ） ７．６０〜７．９０
（ｍ、２Ｈ）実施例５ ２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−ヨードメチル−３−ブテン
酸ベンジル２５．３ｍｇにジメチルスルホキシド０．４
ｍｌを加え均一溶液とする。これにＮａＮＯ３１４．３
ｍｇ、メタンスルホシ酸メチル７．０ｍｇを加え溶解さ
せる。水流ポンプを用いて反応系を５５ｍｍＨｇの減圧
状態に保ちながら６５℃に加熱して２時間４０分反応さ
せる。次いで室温まで放冷したのちＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶
液を加えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチルで抽
出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾
燥したのち減圧下溶媒を留去する。得られた黄色油状残
渣をシリカゲルカラム上でベシゼン−酢酸エチル（８０
：１）、続いてベシゼン−酢酸エチル（１０：１）を用
いてクロマトグラフイーを行ない、２−（３−フェニル
ジクロロメチル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジア
ザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル
）−３−ニトロキシメチル−３−ブテン酸ベンジルを得
る。
Ｂｑ、２Ｈ、 １０Ｈｚ）、
４．９４（ｓ、１Ｈ） ５．
１８（ｓ、２Ｈ） ５．３０
（ｓ、１Ｈ） ５．３９（ｓ
、１Ｈ） ６．０３（ｓ、２
Ｈ） ７．３３（ｓ、５Ｈ）
７．１５〜７．６０（ｍ、
３Ｈ） ７．６０〜７．９０
（ｍ、２Ｈ）実施例５ ２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−ヨードメチル−３−ブテン
酸ベンジル２５．３ｍｇにジメチルスルホキシド０．４
ｍｌを加え均一溶液とする。これにＮａＮＯ３１４．３
ｍｇ、メタンスルホシ酸メチル７．０ｍｇを加え溶解さ
せる。水流ポンプを用いて反応系を５５ｍｍＨｇの減圧
状態に保ちながら６５℃に加熱して２時間４０分反応さ
せる。次いで室温まで放冷したのちＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶
液を加えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチルで抽
出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾
燥したのち減圧下溶媒を留去する。得られた黄色油状残
渣をシリカゲルカラム上でベシゼン−酢酸エチル（８０
：１）、続いてベシゼン−酢酸エチル（１０：１）を用
いてクロマトグラフイーを行ない、２−（３−フェニル
ジクロロメチル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジア
ザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル
）−３−ニトロキシメチル−３−ブテン酸ベンジルを得
る。
（１８．１ｍｇ、８０％）
ＩＲ（ｎｅａｔ）１７７５、１７４０，１６３５、１２
７５ｃｍ−１ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ） ４．７４（ｓ、
２Ｈ） ５．０４（ｓ、１Ｈ）
５．１８（ｓ、２Ｈ）
５．２３（ｓ、１Ｈ）
５．４４（ｓ、１Ｈ）
６．０２及び６．０６（ＡＢｑ、２Ｈ、
４Ｈｚ）、７．３２（ｓ、５Ｈ）
７．１５〜７．５５（ｍ、３Ｈ）
７．５５〜７．８５（ｍ、２
Ｈ）実施例６−Ａ ２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−ニトロキシメチル−３−ブ
テン酸ベシジル６８．９ｍｇに塩化メチレン０．６ｍｌ
を加え均一溶液とする。これに亜鉛粉末４２．０ｍｇを
加え０〜５℃に冷却する。これに酢酸０．６ｍｌを加え
４５分間かきまぜながら反応させる。次いで５ｍｌの酢
酸エチルを加えて希釈し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液で洗
浄、続いて飽和食塩水で洗浄して、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥
したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡黄色油状残
液をシリカゲル力ラム上でベンゼン−酢酸エチル（４：
１）を用いてクロマトグラフィーを行ない、２−（３−
ベシジル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシ
クロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル−３−
ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベンジルを得る。（４
６，４ｍｇ、８５％） ＩＲ（ｎｅａｔ）３３８０、ｌ７７０、１７４０．１Ｉ
５０ｃｍ−１ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ） ２．１２（ｂｓ
、１Ｈ） ３．８５（ｓ、２Ｈ
） ３．９７（ｓ、２Ｈ）
５．００（ｓ、１Ｈ）
５．０８（ｓ、１Ｈ）
５．２０（ｓ、２Ｈ）
５．２９（ｓ、１Ｈ） ５．
９１（ｓ、２Ｈ） ７．３２（
ｓ、５Ｈ） ７．３７（ｓ、５
Ｈ）実施例６−Ｂ ２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−ヨードメチル−３−ブテン
酸ベンジル３５．３ｍｇにジメチルスルホキシド０．３
ｍｌを加え均一溶液とする。これにｐ−トルエンスルホ
ン酸１４．０ｍｇを加え溶解させる。これを５０℃に加
熱して２時間反応させる。
７５ｃｍ−１ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ） ４．７４（ｓ、
２Ｈ） ５．０４（ｓ、１Ｈ）
５．１８（ｓ、２Ｈ）
５．２３（ｓ、１Ｈ）
５．４４（ｓ、１Ｈ）
６．０２及び６．０６（ＡＢｑ、２Ｈ、
４Ｈｚ）、７．３２（ｓ、５Ｈ）
７．１５〜７．５５（ｍ、３Ｈ）
７．５５〜７．８５（ｍ、２
Ｈ）実施例６−Ａ ２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−ニトロキシメチル−３−ブ
テン酸ベシジル６８．９ｍｇに塩化メチレン０．６ｍｌ
を加え均一溶液とする。これに亜鉛粉末４２．０ｍｇを
加え０〜５℃に冷却する。これに酢酸０．６ｍｌを加え
４５分間かきまぜながら反応させる。次いで５ｍｌの酢
酸エチルを加えて希釈し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液で洗
浄、続いて飽和食塩水で洗浄して、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥
したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡黄色油状残
液をシリカゲル力ラム上でベンゼン−酢酸エチル（４：
１）を用いてクロマトグラフィーを行ない、２−（３−
ベシジル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシ
クロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル−３−
ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベンジルを得る。（４
６，４ｍｇ、８５％） ＩＲ（ｎｅａｔ）３３８０、ｌ７７０、１７４０．１Ｉ
５０ｃｍ−１ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ） ２．１２（ｂｓ
、１Ｈ） ３．８５（ｓ、２Ｈ
） ３．９７（ｓ、２Ｈ）
５．００（ｓ、１Ｈ）
５．０８（ｓ、１Ｈ）
５．２０（ｓ、２Ｈ）
５．２９（ｓ、１Ｈ） ５．
９１（ｓ、２Ｈ） ７．３２（
ｓ、５Ｈ） ７．３７（ｓ、５
Ｈ）実施例６−Ｂ ２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−ヨードメチル−３−ブテン
酸ベンジル３５．３ｍｇにジメチルスルホキシド０．３
ｍｌを加え均一溶液とする。これにｐ−トルエンスルホ
ン酸１４．０ｍｇを加え溶解させる。これを５０℃に加
熱して２時間反応させる。
次いで室温まで放冷したのちＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液を加
えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチルで抽出し、
有機層を飽和食塩水で洗浄し、Ｈａ２ＳＯ４で乾燥した
のち減圧下溶媒を留去する。得られた黄色油状残渣をシ
リカゲルカラム上でベンゼン−酢酸エチル（１０：１）
を用いてクロマトグラフィーを行ない、２−（３−フェ
ニルジクロロメチル−７−オキソ−４−チア−２，６−
ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベシジルを
得る。（２２，６ｍｇ、７８％） ＩＲ（ｎｅａｔ）３４４０、１７８０、１７４５、１１
６０ｃｍ−１ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ３）１．７５（ｂｓ
、１Ｈ） ４．００（ｓ、２Ｈ
） ５．０１（ｓ、１Ｈ）
５．１１（ｓ、１Ｈ）
５．１９（ｓ、２Ｈ）
５．３０（ｓ、１Ｈ）
６．０５（ｓ、２Ｈ） ７．
３６（ｓ、５Ｈ） ７．２０〜
７．６０（ｍ、３Ｈ） ７．６
０〜７．９０（ｍ、２Ｈ）実施例７ 出発原料として２−（３−フェニルジクロロメチル−７
−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２
，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヒドロキシ
メチル−３−ブテン酸ベンジル２２．３ｍｇを用いて、
塩化メチレン０．５ｍｌ中、亜鉛粉末６．５ｍｇ及び酢
酸３０μｌと実施例６の方法と同様に反応させて、同様
に処理し２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−
２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エ
ン−６−イル−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベ
ンジルを得る。（１６．８ｍｇ、８７％）得られた化合
物の分析値は実施例６の値と一致する。
えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチルで抽出し、
有機層を飽和食塩水で洗浄し、Ｈａ２ＳＯ４で乾燥した
のち減圧下溶媒を留去する。得られた黄色油状残渣をシ
リカゲルカラム上でベンゼン−酢酸エチル（１０：１）
を用いてクロマトグラフィーを行ない、２−（３−フェ
ニルジクロロメチル−７−オキソ−４−チア−２，６−
ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベシジルを
得る。（２２，６ｍｇ、７８％） ＩＲ（ｎｅａｔ）３４４０、１７８０、１７４５、１１
６０ｃｍ−１ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ３）１．７５（ｂｓ
、１Ｈ） ４．００（ｓ、２Ｈ
） ５．０１（ｓ、１Ｈ）
５．１１（ｓ、１Ｈ）
５．１９（ｓ、２Ｈ）
５．３０（ｓ、１Ｈ）
６．０５（ｓ、２Ｈ） ７．
３６（ｓ、５Ｈ） ７．２０〜
７．６０（ｍ、３Ｈ） ７．６
０〜７．９０（ｍ、２Ｈ）実施例７ 出発原料として２−（３−フェニルジクロロメチル−７
−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２
，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヒドロキシ
メチル−３−ブテン酸ベンジル２２．３ｍｇを用いて、
塩化メチレン０．５ｍｌ中、亜鉛粉末６．５ｍｇ及び酢
酸３０μｌと実施例６の方法と同様に反応させて、同様
に処理し２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−
２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エ
ン−６−イル−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベ
ンジルを得る。（１６．８ｍｇ、８７％）得られた化合
物の分析値は実施例６の値と一致する。
実施例８
２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−２，６−
ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−クロロメチル−３−ブテン酸ベンジル９４
．６ｍｇにアセトン１．２ｍｌを加え均−溶液とする。
ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−クロロメチル−３−ブテン酸ベンジル９４
．６ｍｇにアセトン１．２ｍｌを加え均−溶液とする。
これにＮａＩ ６４．３ｍｇを加え、５５℃に加熱しな
がら１．５時間かきまぜる。次に室温まで冷却したのち
５ｍｌの酢酸エチルを加えて希釈し、これをＮａ２Ｓ２
Ｏ３水溶液で洗浄、次いで飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２
ＳＯ４で乾燥したのち減圧下濃縮して、２−（３−ベシ
ジル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ
〔３，２，０〕ヘプト−２エン−６−イル−３−ヨード
メチル−３−ブテン酸ベシジルを無色油状物質として得
る。
がら１．５時間かきまぜる。次に室温まで冷却したのち
５ｍｌの酢酸エチルを加えて希釈し、これをＮａ２Ｓ２
Ｏ３水溶液で洗浄、次いで飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２
ＳＯ４で乾燥したのち減圧下濃縮して、２−（３−ベシ
ジル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ
〔３，２，０〕ヘプト−２エン−６−イル−３−ヨード
メチル−３−ブテン酸ベシジルを無色油状物質として得
る。
（１１３．０ｍｇ、９９％）
ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ３）３．６３（ｓ、２Ｈ））
３．８３（ｓ、２Ｈ）
４．９５（ｓ、１Ｈ）
５．１７（ｓ、２Ｈ）
５．２３（ｓ、２Ｈ） ５．
３８（ｓ、１Ｈ） ５．８７（
ｂｓ、２Ｈ） ７．２６（ｓ、
５Ｈ） ７．３３（ｓ、５Ｈ）
実施例９ ２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チアー２．６−
ジアザヒシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−ヨードメチル−３−ブテン酸ベシジル１０
３．５ｍｇにジメチルスルホキシド０．９ｍｌを加え均
一溶液とする。これに１ＮａＮＯ３８０ｍｇ、メタンス
ルホン酸メチル４０ｍｇを加え溶解させる。
３．８３（ｓ、２Ｈ）
４．９５（ｓ、１Ｈ）
５．１７（ｓ、２Ｈ）
５．２３（ｓ、２Ｈ） ５．
３８（ｓ、１Ｈ） ５．８７（
ｂｓ、２Ｈ） ７．２６（ｓ、
５Ｈ） ７．３３（ｓ、５Ｈ）
実施例９ ２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チアー２．６−
ジアザヒシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−ヨードメチル−３−ブテン酸ベシジル１０
３．５ｍｇにジメチルスルホキシド０．９ｍｌを加え均
一溶液とする。これに１ＮａＮＯ３８０ｍｇ、メタンス
ルホン酸メチル４０ｍｇを加え溶解させる。
水流ポンプを用いて反応系を４５〜５０ｍｍＨｇの減圧
状態に保ちながら４８℃に加熱して４時間反応させる。
状態に保ちながら４８℃に加熱して４時間反応させる。
次いで室温まで放冷したのちＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液を加
えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチルで抽出し、
有機層を飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥した
のち減圧下濃縮する。得られた黄色油状残渣をシリカゲ
ルカラム上でベンゼン−酢酸エチル（１５：１）を用い
てクロマトグラフイーを行ない、２−（３−ベンジル−
７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−二トロキ
シメチル−３−ブテン酸ベンジルを得る。
えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチルで抽出し、
有機層を飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥した
のち減圧下濃縮する。得られた黄色油状残渣をシリカゲ
ルカラム上でベンゼン−酢酸エチル（１５：１）を用い
てクロマトグラフイーを行ない、２−（３−ベンジル−
７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−二トロキ
シメチル−３−ブテン酸ベンジルを得る。
（６８，５ｍｇ、７６％）
ＩＲ（ｎｅａｔ）１７８０、１７４０．１６４０、ｌ２
７５ｃｍ−１ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ３）３．８５（ｓ、
２Ｈ） ４．７４（ｓ、２Ｈ）
５．０１（ｓ、１Ｈ）
５．１８（ｓ、２Ｈ）
５．２２（ｓ、１Ｈ）
５．４３（ｓ、１Ｈ）
５．８９及び５．９３（ＡＢｑ、２Ｈ、
４Ｈｚ）、７．２８（ｓ、５Ｈ）
７．３４（ｓ、５Ｈ）実施例１０ ２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−２，６−
ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベシジル
２３．８ｍｇに塩化メチレン０．３ｍｌを加え均一溶液
とする。これを０〜５℃に冷却し、無水酢酸２２μｌを
加え、続いてピリジン１２μｌを加えて１２時間反応さ
せる。次いで真空ポンプを用いて減圧下溶媒等を留去す
る。得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベ
ンゼン酢酸エチル（１０：１）を用いてクロマトグラフ
ィーを行ない、２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−アセトキシメチル−３−ブ
テン酸ベシジルを得る。
７５ｃｍ−１ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ３）３．８５（ｓ、
２Ｈ） ４．７４（ｓ、２Ｈ）
５．０１（ｓ、１Ｈ）
５．１８（ｓ、２Ｈ）
５．２２（ｓ、１Ｈ）
５．４３（ｓ、１Ｈ）
５．８９及び５．９３（ＡＢｑ、２Ｈ、
４Ｈｚ）、７．２８（ｓ、５Ｈ）
７．３４（ｓ、５Ｈ）実施例１０ ２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−２，６−
ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベシジル
２３．８ｍｇに塩化メチレン０．３ｍｌを加え均一溶液
とする。これを０〜５℃に冷却し、無水酢酸２２μｌを
加え、続いてピリジン１２μｌを加えて１２時間反応さ
せる。次いで真空ポンプを用いて減圧下溶媒等を留去す
る。得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベ
ンゼン酢酸エチル（１０：１）を用いてクロマトグラフ
ィーを行ない、２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−アセトキシメチル−３−ブ
テン酸ベシジルを得る。
（２４．７ｍｇ、９４％）
ＩＲ（ｎｅａｔ）１７７５、１７４５、１７４０（ｓｈ
）、 １２３０ｃｍ−１ ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ３）２．００（ｓ、３Ｈ）
３．８４（ｓ，２Ｈ）
４．４９（ｓ、２Ｈ）
５．０５（ｓ、２Ｈ）
５．１５（ｓ、２Ｈ） ５．２
９（ｓ、１Ｈ） ５．８８（ｓ
、２Ｈ） ７．２４（ｓ、５Ｈ
） ７．３２（ｓ、５Ｈ）実施
例１１ ２−（３−ベシジル−７−オキソ−４−チア−２，６−
ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベンジル
２８．３ｍｇに塩化メチレン０．３ｍｌを加え均一溶液
とする。これを０〜５℃に冷却し、１４．４μｌを加え
、続いてピリジン １５．６μｌを加えて２．５時間反応させる。次いで５
％塩酸を加えて、これを酢酸エチルで抽出する。
）、 １２３０ｃｍ−１ ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ３）２．００（ｓ、３Ｈ）
３．８４（ｓ，２Ｈ）
４．４９（ｓ、２Ｈ）
５．０５（ｓ、２Ｈ）
５．１５（ｓ、２Ｈ） ５．２
９（ｓ、１Ｈ） ５．８８（ｓ
、２Ｈ） ７．２４（ｓ、５Ｈ
） ７．３２（ｓ、５Ｈ）実施
例１１ ２−（３−ベシジル−７−オキソ−４−チア−２，６−
ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−ヒドロキシメチル−３−ブテン酸ベンジル
２８．３ｍｇに塩化メチレン０．３ｍｌを加え均一溶液
とする。これを０〜５℃に冷却し、１４．４μｌを加え
、続いてピリジン １５．６μｌを加えて２．５時間反応させる。次いで５
％塩酸を加えて、これを酢酸エチルで抽出する。
得られた酢酸エチル溶液を飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２
ＳＯ４で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。
ＳＯ４で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。
得られた無色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン
−酢酸エチル（２０：１）を用いてクロマトグラフィー
を行ない、２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア
−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０）ヘプト−２−
エン−６−イル）−３−（２，２，２−トリクロロエト
シキカルボニルオキシメチル）−３−ブテン酸ベンジル
を得る。
−酢酸エチル（２０：１）を用いてクロマトグラフィー
を行ない、２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア
−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０）ヘプト−２−
エン−６−イル）−３−（２，２，２−トリクロロエト
シキカルボニルオキシメチル）−３−ブテン酸ベンジル
を得る。
（３０ｍｇ、７５％）
ＩＲ（ｎｅａｔ）１７７０、１７４５（ｓｈ）、１７３
０（ｓｈ）、 １２３５ｃｍ−１ ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ３）３．８５（ｓ、２Ｈ）
４、１０（ｓ、２Ｈ）
４．２３（ｓ、２Ｈ）
５．０４（ｓ、１Ｈ）
５．１６（ｓ、３Ｈ） ５．３
７（ｓ、１Ｈ） ５．８４及び
５．９１（ＡＢｑ、２Ｈ、 ４
Ｈｚ）、７．２５（ｓ、５Ｈ）
７．３４（ｓ、５Ｈ）実施例１２ 出発原料として２−（３−フェニルジクロロメチル−７
−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２
，０）ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヒドロキシ
メチル−３−ラテン酸ベシジル２６．０ｍｇを用いて、
実施例１０と同様反応させて、同様に処理し２−（３−
フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−チア−２，
６−ジアザビシクロ（３，２，０）ヘプト−２−エン−
６−イル）−３−アセトキシメチル−３−ブテン酸ベン
ジルを得る。
０（ｓｈ）、 １２３５ｃｍ−１ ＮＭＲ（δ ＣＤＣｌ３）３．８５（ｓ、２Ｈ）
４、１０（ｓ、２Ｈ）
４．２３（ｓ、２Ｈ）
５．０４（ｓ、１Ｈ）
５．１６（ｓ、３Ｈ） ５．３
７（ｓ、１Ｈ） ５．８４及び
５．９１（ＡＢｑ、２Ｈ、 ４
Ｈｚ）、７．２５（ｓ、５Ｈ）
７．３４（ｓ、５Ｈ）実施例１２ 出発原料として２−（３−フェニルジクロロメチル−７
−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２
，０）ヘプト−２−エン−６−イル）−３−ヒドロキシ
メチル−３−ラテン酸ベシジル２６．０ｍｇを用いて、
実施例１０と同様反応させて、同様に処理し２−（３−
フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−チア−２，
６−ジアザビシクロ（３，２，０）ヘプト−２−エン−
６−イル）−３−アセトキシメチル−３−ブテン酸ベン
ジルを得る。
（２７．０ｍｇ、９６％）
ＩＲ（ｎｅａｔ）１７７０．１７４０．１７３０．１２
２０ｃｍ−１ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ３）２．０２（ｓ、
３Ｈ） ４．４７（ｓ、２Ｈ）
５．０９（ｓ、２Ｈ）
５．１６（ｓ、２Ｈ）
５．３０（ｓ、１Ｈ）
６．０１（ｓ、２Ｈ）
７．３１（ｓ、５Ｈ） ７．２
０〜７．６０（ｍ、３Ｈ） ７
．６０〜７．９０（ｍ、２Ｈ）実施例１３ 出発原料として２−（３−フェニルジクロロメチル−７
−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２
，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−アセトキシ
メチル−３−ブテン酸ベンジル３２．０ｍｇを用いて実
施例７と同様に反応させて、同様に処理し、２−（３−
ベンジル−７−オキソ−４−）チア−２，６−ジアザビ
シクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−
３−アセトキシメチル−３−ブテン酸ベンジルを得る。
２０ｃｍ−１ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ３）２．０２（ｓ、
３Ｈ） ４．４７（ｓ、２Ｈ）
５．０９（ｓ、２Ｈ）
５．１６（ｓ、２Ｈ）
５．３０（ｓ、１Ｈ）
６．０１（ｓ、２Ｈ）
７．３１（ｓ、５Ｈ） ７．２
０〜７．６０（ｍ、３Ｈ） ７
．６０〜７．９０（ｍ、２Ｈ）実施例１３ 出発原料として２−（３−フェニルジクロロメチル−７
−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２
，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−アセトキシ
メチル−３−ブテン酸ベンジル３２．０ｍｇを用いて実
施例７と同様に反応させて、同様に処理し、２−（３−
ベンジル−７−オキソ−４−）チア−２，６−ジアザビ
シクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−
３−アセトキシメチル−３−ブテン酸ベンジルを得る。
（２５．６ｍｇ、９２％）得られた化合物の分析値は実
施例１０の値と一致する。
施例１０の値と一致する。
実施例１４
２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン
酸ベンジル２００．０ｍｇにアセトン２．２ｍｌを加え
均一溶液とする。これにＮａＩ１１７．６ｍｇを加え、
５５℃に加熱しながら１．５時間反応させる。次に室温
まで冷却したのち、酢酸エチルを加えて希釈し、これを
Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液で洗浄し、次いで飽和食塩水で洗
浄して、Ｎｏ２ＳＯ４で乾燥したのち減圧下溶媒を留去
する。得られた淡黄色油状残渣にジメチルスルホキシド
１．６ｍｌを加え均一溶液とする。これにＮａＮｏ３１
５０ｍｇ、メタンスルホン酸メチル７５．６ｍｇを加え
て溶解させる。次いで水流ポンプを用いて反応系を４５
〜５２ｍｍＨｇの減圧状態に保ちながら５０℃に加熱し
て４時間反応させる。次いで室温まで放冷したのちＮａ
２Ｓ２Ｏ３水溶液を加えてはげしくかきまぜる。これを
酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、Ｎ
ａ２ＳＯ４で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。得ら
れた黄色油状残渣に塩化メチレン１．５ｍｌを加え均一
溶液とする。これに亜鉛粉末１２８．２ｍｇを加え０〜
５℃に冷却する。これに酢酸１．５ｍｌを加え２時間か
きまぜながら反応させる。
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン
酸ベンジル２００．０ｍｇにアセトン２．２ｍｌを加え
均一溶液とする。これにＮａＩ１１７．６ｍｇを加え、
５５℃に加熱しながら１．５時間反応させる。次に室温
まで冷却したのち、酢酸エチルを加えて希釈し、これを
Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液で洗浄し、次いで飽和食塩水で洗
浄して、Ｎｏ２ＳＯ４で乾燥したのち減圧下溶媒を留去
する。得られた淡黄色油状残渣にジメチルスルホキシド
１．６ｍｌを加え均一溶液とする。これにＮａＮｏ３１
５０ｍｇ、メタンスルホン酸メチル７５．６ｍｇを加え
て溶解させる。次いで水流ポンプを用いて反応系を４５
〜５２ｍｍＨｇの減圧状態に保ちながら５０℃に加熱し
て４時間反応させる。次いで室温まで放冷したのちＮａ
２Ｓ２Ｏ３水溶液を加えてはげしくかきまぜる。これを
酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、Ｎ
ａ２ＳＯ４で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。得ら
れた黄色油状残渣に塩化メチレン１．５ｍｌを加え均一
溶液とする。これに亜鉛粉末１２８．２ｍｇを加え０〜
５℃に冷却する。これに酢酸１．５ｍｌを加え２時間か
きまぜながら反応させる。
次いで酢酸エチルを加えて希釈し、飽和ＮａＨＣＯ３水
溶液で洗浄、続いて飽和食塩水で洗浄して、Ｎａ２ＳＯ
４で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。
溶液で洗浄、続いて飽和食塩水で洗浄して、Ｎａ２ＳＯ
４で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。
得られた黄色油状残渣に塩化メチレン１．５ｍｌを加え
均一溶液とする。これを０〜５℃に冷却し、無水酢酸０
．１２ｍｌを加え、続いてピリジン６６μｌを加えて１
６時間反応させる。次いで実施例１０と同様の処理を行
ない、２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−２
，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン
−６−イル）−３−アセトキシメチル−３−ブテン酸ベ
ンジルを得る。
均一溶液とする。これを０〜５℃に冷却し、無水酢酸０
．１２ｍｌを加え、続いてピリジン６６μｌを加えて１
６時間反応させる。次いで実施例１０と同様の処理を行
ない、２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−２
，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン
−６−イル）−３−アセトキシメチル−３−ブテン酸ベ
ンジルを得る。
（１３７ｍｇ、７５％）得られた化合物の分析値は実施
例１０の値と一致する。
例１０の値と一致する。
実施例１５
２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン
酸ベンジル４３．８ｍｇにアセトン０．５ｍｌを加え、
均一溶液とする。これに１０．５ｍｇを加え、室温で３
５分間がぎまぜながら反応させる。次いで酢酸エチル３
ｍｌを加えて希釈し、これをＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液で洗
浄し、次いで飽和食塩水で洗浄して、Ｎａ２ＳＯ４で乾
燥したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡黄色油状
残渣をシリカゲルカラム上でベンセン−酢酸エチル（２
０：１）を用いてクロマトグラフィーを行ない、２−（
３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−チア−
２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エ
ン−６−イル）−３−（１−メチル−１，２，３，４−
テトラゾール−５−イルチオメチル）−３−ブテン酸ベ
ンジルを得る。（３６．２ｍｇ、８９％） ＩＲ（ｎｅａｔ）１７７５、１７４０ｃｍ−１ＮＭＲ（
δ、ＣＤＣｌ３）３．４５及び３．９８（ＡＢｑ、２Ｈ
、１４Ｈｓ） ３．７３（ｓ、
３Ｈ） ４．９４（ｓ、１Ｈ）
５．１０（ｓ、１Ｈ）
５．１９（ｓ、１Ｈ）
５．３３（ｓ、１Ｈ）
６．０２及び６．０９（ＡＢｑ、２Ｈ、４Ｈｓ）
７．３３（ｓ、５Ｈ）
７．１０〜７．６０（ｍ、３Ｈ）
７．６０〜７．９０（ｍ、２Ｈ
）実施例１６ ２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン
酸ベンジル３７．１ｍｇにアセトン０．５ｍｌを加え均
一溶液とする。これにＮａＩ２１．８ｍｇを加え、５３
℃に加熱しながら２時間反応させる。次いでこれを室温
まで放冷し、続いて１１．１ｍｇを加えて室温で２０分
間かきまぜながら反応させる。これを実施例１４と同様
に処理して２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オ
キソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０
〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−（１−メチル−
１，２，３，４−テトラゾール−５−イルチオメチル）
−３−ブテン酸ベンジルを得る。
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン
酸ベンジル４３．８ｍｇにアセトン０．５ｍｌを加え、
均一溶液とする。これに１０．５ｍｇを加え、室温で３
５分間がぎまぜながら反応させる。次いで酢酸エチル３
ｍｌを加えて希釈し、これをＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液で洗
浄し、次いで飽和食塩水で洗浄して、Ｎａ２ＳＯ４で乾
燥したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡黄色油状
残渣をシリカゲルカラム上でベンセン−酢酸エチル（２
０：１）を用いてクロマトグラフィーを行ない、２−（
３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−チア−
２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エ
ン−６−イル）−３−（１−メチル−１，２，３，４−
テトラゾール−５−イルチオメチル）−３−ブテン酸ベ
ンジルを得る。（３６．２ｍｇ、８９％） ＩＲ（ｎｅａｔ）１７７５、１７４０ｃｍ−１ＮＭＲ（
δ、ＣＤＣｌ３）３．４５及び３．９８（ＡＢｑ、２Ｈ
、１４Ｈｓ） ３．７３（ｓ、
３Ｈ） ４．９４（ｓ、１Ｈ）
５．１０（ｓ、１Ｈ）
５．１９（ｓ、１Ｈ）
５．３３（ｓ、１Ｈ）
６．０２及び６．０９（ＡＢｑ、２Ｈ、４Ｈｓ）
７．３３（ｓ、５Ｈ）
７．１０〜７．６０（ｍ、３Ｈ）
７．６０〜７．９０（ｍ、２Ｈ
）実施例１６ ２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン
酸ベンジル３７．１ｍｇにアセトン０．５ｍｌを加え均
一溶液とする。これにＮａＩ２１．８ｍｇを加え、５３
℃に加熱しながら２時間反応させる。次いでこれを室温
まで放冷し、続いて１１．１ｍｇを加えて室温で２０分
間かきまぜながら反応させる。これを実施例１４と同様
に処理して２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オ
キソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０
〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−（１−メチル−
１，２，３，４−テトラゾール−５−イルチオメチル）
−３−ブテン酸ベンジルを得る。
（３６．５ｍｇ、８５％）得られた化合物の分析値は実
施例１５の値と一致する。
施例１５の値と一致する。
実施例１７
実施例１６と同様の方法で次の化合物を製造する。結果
を下表に示す。
を下表に示す。
実施例１８
２−（３−フェニルジクロロメチル−７−オキソ−４−
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−クロロメチル−１，２，３
，４−テトラゾール−５−イルチオメチル）−３−ブテ
ン酸ベンジル２７．０ｍｇに塩化メチレン０．３ｍｌを
加え均一溶液とする。これに亜鉛粉末７．５ｍｇを加え
、続いて酢酸３０μｌを加え、室温で１０分間かきまぜ
ながら反応させる。次いで３ｍｌの酢酸エチルを加えて
希釈し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液で洗浄、続いて飽和食
塩水で洗浄して、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥したのち減圧下溶
媒を留去する。
チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−クロロメチル−１，２，３
，４−テトラゾール−５−イルチオメチル）−３−ブテ
ン酸ベンジル２７．０ｍｇに塩化メチレン０．３ｍｌを
加え均一溶液とする。これに亜鉛粉末７．５ｍｇを加え
、続いて酢酸３０μｌを加え、室温で１０分間かきまぜ
ながら反応させる。次いで３ｍｌの酢酸エチルを加えて
希釈し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液で洗浄、続いて飽和食
塩水で洗浄して、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥したのち減圧下溶
媒を留去する。
得られた無色油状残渣をシリカゲルカラム上でベシゼン
−酢酸エチル（１０：１）を用いてクロマトグラフィー
を行ない、２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア
−２，６−ジアザビシクル〔３，２，０〕ヘプト−２−
エン−６−イル）−３−（ｌ−メチル−１，２，３，４
−テトラゾール−５−イルチオメチル）−３−ブテン酸
ベンセンを得る。
−酢酸エチル（１０：１）を用いてクロマトグラフィー
を行ない、２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア
−２，６−ジアザビシクル〔３，２，０〕ヘプト−２−
エン−６−イル）−３−（ｌ−メチル−１，２，３，４
−テトラゾール−５−イルチオメチル）−３−ブテン酸
ベンセンを得る。
（２０．７ｍｇ、８７％）
ＩＲ（ｎｅａｔ）１７７５、１７４０ｃｍ−１ＮＭＲ（
δ、ＣＤＣｌ３）３．４５及び３．９３（ＡＢｑ、２Ｈ
、 １４．５Ｈｓ）
３．７１（ｓ、３Ｈ）
３．８５（ｓ、２Ｈ）
４．９１（ｓ、１Ｈ） ５．
０９（ｓ、２Ｈ） ５．１７（
ｓ、１Ｈ） ５．２９（ｓ、１
Ｈ） ５．８５及び５．９３（
ＡＢｑ、２Ｈ、 ４Ｈｓ） ７．２５（ｓ、５Ｈ）
７．３４（ｓ、５Ｈ）実施例１９ 実施例１８と同様の方法で次の化合物を製造する。結果
を下表に示す。
δ、ＣＤＣｌ３）３．４５及び３．９３（ＡＢｑ、２Ｈ
、 １４．５Ｈｓ）
３．７１（ｓ、３Ｈ）
３．８５（ｓ、２Ｈ）
４．９１（ｓ、１Ｈ） ５．
０９（ｓ、２Ｈ） ５．１７（
ｓ、１Ｈ） ５．２９（ｓ、１
Ｈ） ５．８５及び５．９３（
ＡＢｑ、２Ｈ、 ４Ｈｓ） ７．２５（ｓ、５Ｈ）
７．３４（ｓ、５Ｈ）実施例１９ 実施例１８と同様の方法で次の化合物を製造する。結果
を下表に示す。
参考例１
２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−２，６−
ジアザビシクル〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−（ｌ−メチル−１，２，３，４−テトラゾ
ール−５−イルチオメチル）−３−ブテン酸ベンセン２
９．７ｍｇにジオキサン０．６ｍｌを加えて均一溶液と
し、続いて５％塩酸６０μｌを加えて室温下１５分間反
応させる。
ジアザビシクル〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−（ｌ−メチル−１，２，３，４−テトラゾ
ール−５−イルチオメチル）−３−ブテン酸ベンセン２
９．７ｍｇにジオキサン０．６ｍｌを加えて均一溶液と
し、続いて５％塩酸６０μｌを加えて室温下１５分間反
応させる。
上記操作とは別に２−ベンゾチアゾリルジスルフイド３
７．９ｍｇにジオキサン２ｍｌを加え、湯浴で加熱しな
がら均一溶液とし、これに塩素の０．５９Ｍ四塩化炭素
溶液０．１４ｍｌを加えて１５分間反応させる。これを
上記ジオキサン溶液に加え室温で５分間攪拌下反応させ
る。次いでこの反応混合物を酢酸エチルを用いて短いシ
リカゲルカラムに通し、溶出液を減圧濃縮する。得られ
た残渣をベンゼンに溶解し、再びベンゼンを減圧下留去
する。このようにして得られた無色固体及び無色油状物
の混合の残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン続いてベ
ンゼン−酢酸エチル（４：１）を用いてクロマトグラフ
ィーを行ない２−〔３−フェニルアセトアミド−４−（
２−ベンゾチアゾリルジチオオキソ−２−アゼチジノン
−１−イル〕−３−（１−メチル−１，２，３，４−テ
トラゾール−５−イルチオメチル）−３−ブテン酸ベン
ジルを得る。（３５．７ｍｇ、８９％）ＩＲ（ｎｅａｔ
）３２８０、１７８０、１７４０、１６７０ｃｍ−１Ｎ
ＭＲ（δ、ＣＤＣｌ３）３．６９（ｓ、２Ｈ）
３．７４（ｓ、３Ｈ）
４．１９（ｓ、２Ｈ）
５．１０（ｓ、３Ｈ） ５
．１９（ｓ、１Ｈ） ５．２３
（ｄｄ、１Ｈ、４．５Ｈｓ、８Ｈｓ）
５．３６（ｓ、１Ｈ）
５．４８（ｓ、１Ｈ） ５．
５７（ｄ、１Ｈ、４．５Ｈｓ）
６．７９（ｄ、１Ｈ、８Ｈｓ）
７．１〜７．６（ｍ、１２Ｈ）
７．６〜７．９（ｍ、２Ｈ）参考例２ 参考例１と同様の方法で次の化合物を製造する。
７．９ｍｇにジオキサン２ｍｌを加え、湯浴で加熱しな
がら均一溶液とし、これに塩素の０．５９Ｍ四塩化炭素
溶液０．１４ｍｌを加えて１５分間反応させる。これを
上記ジオキサン溶液に加え室温で５分間攪拌下反応させ
る。次いでこの反応混合物を酢酸エチルを用いて短いシ
リカゲルカラムに通し、溶出液を減圧濃縮する。得られ
た残渣をベンゼンに溶解し、再びベンゼンを減圧下留去
する。このようにして得られた無色固体及び無色油状物
の混合の残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン続いてベ
ンゼン−酢酸エチル（４：１）を用いてクロマトグラフ
ィーを行ない２−〔３−フェニルアセトアミド−４−（
２−ベンゾチアゾリルジチオオキソ−２−アゼチジノン
−１−イル〕−３−（１−メチル−１，２，３，４−テ
トラゾール−５−イルチオメチル）−３−ブテン酸ベン
ジルを得る。（３５．７ｍｇ、８９％）ＩＲ（ｎｅａｔ
）３２８０、１７８０、１７４０、１６７０ｃｍ−１Ｎ
ＭＲ（δ、ＣＤＣｌ３）３．６９（ｓ、２Ｈ）
３．７４（ｓ、３Ｈ）
４．１９（ｓ、２Ｈ）
５．１０（ｓ、３Ｈ） ５
．１９（ｓ、１Ｈ） ５．２３
（ｄｄ、１Ｈ、４．５Ｈｓ、８Ｈｓ）
５．３６（ｓ、１Ｈ）
５．４８（ｓ、１Ｈ） ５．
５７（ｄ、１Ｈ、４．５Ｈｓ）
６．７９（ｄ、１Ｈ、８Ｈｓ）
７．１〜７．６（ｍ、１２Ｈ）
７．６〜７．９（ｍ、２Ｈ）参考例２ 参考例１と同様の方法で次の化合物を製造する。
結果を下表に示す。
参考例３
２−（３−ベンジル−７−オキソ−４−チア−２，６−
ジアザビシクル〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−エトキシチカルボニルチオメチル）−３−
ブテン酸メチル２５．１ｍｇにジオキサン０．２５ｍｌ
を加え均一溶液とし、続いて５０μｌの水を加える。
ジアザビシクル〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−エトキシチカルボニルチオメチル）−３−
ブテン酸メチル２５．１ｍｇにジオキサン０．２５ｍｌ
を加え均一溶液とし、続いて５０μｌの水を加える。
上記操作とは別に２−メルカプトベンゾチアゾール９．
４ｍｇと沃素１４．２ｍｇをジオキサン１ｍｌに溶解す
る。これを上記ジオキサン溶液に加えて、室温で９０分
間反応させる。次いでジエチルエーテル５ｍｌを加えて
希釈し、これをＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液、飽和食塩水で洗
浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥したのち減圧下濃縮する。得
られた黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン−
酢酸エチル（８：１）を用いてクロマトグラフィーを行
ない、２−〔３−フェニルアセトアミド−４−（２−ベ
ンゾチアゾリルチオ）−２−アゼチジノン−１−イル）
−３−エトキシチオカルボニルチオメチル−３−ブテン
酸メチルを得る。（２３．５ｍｇ、６７％）得られた化
合物の分析値は参考例２の値と一致する。
４ｍｇと沃素１４．２ｍｇをジオキサン１ｍｌに溶解す
る。これを上記ジオキサン溶液に加えて、室温で９０分
間反応させる。次いでジエチルエーテル５ｍｌを加えて
希釈し、これをＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液、飽和食塩水で洗
浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥したのち減圧下濃縮する。得
られた黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン−
酢酸エチル（８：１）を用いてクロマトグラフィーを行
ない、２−〔３−フェニルアセトアミド−４−（２−ベ
ンゾチアゾリルチオ）−２−アゼチジノン−１−イル）
−３−エトキシチオカルボニルチオメチル−３−ブテン
酸メチルを得る。（２３．５ｍｇ、６７％）得られた化
合物の分析値は参考例２の値と一致する。
参考例４
２−〔３−フェニルアセドアミド−４−（２−ベンゾリ
アゾリルジチオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３
−（１−メチル−１，２，３，４−テトラゾール−５−
イルチオメチル）−３−ブテン酸ベンジル３５．７ｍｇ
にジメチルホルムアミド０．７ｍｌを加え均一溶液とす
る。これを−３０〜３５℃に冷却し、アンモニアガスを
ジメチルホルムアミドに溶かして調製した溶液（約３．
３Ｍ）２３μｌを加えて１５分間かきまぜながら反応さ
せる。これを−３０℃に保ったまま、真空ポンプを用い
て減圧下過剰のアンモニアを留去する。次いで徐々に温
度を室温までもどしながら溶媒を留去する。
アゾリルジチオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３
−（１−メチル−１，２，３，４−テトラゾール−５−
イルチオメチル）−３−ブテン酸ベンジル３５．７ｍｇ
にジメチルホルムアミド０．７ｍｌを加え均一溶液とす
る。これを−３０〜３５℃に冷却し、アンモニアガスを
ジメチルホルムアミドに溶かして調製した溶液（約３．
３Ｍ）２３μｌを加えて１５分間かきまぜながら反応さ
せる。これを−３０℃に保ったまま、真空ポンプを用い
て減圧下過剰のアンモニアを留去する。次いで徐々に温
度を室温までもどしながら溶媒を留去する。
得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンセ
ン、続いてベンセン−酢酸エチル（４：１）を用いてク
ロマトグラフィーを行ない、７−フェニルアセトアミド
−３−（ｌ−メチル−１，２，３，４−テトラゾール−
５−イルチオメチル）−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンジルを得る。
ン、続いてベンセン−酢酸エチル（４：１）を用いてク
ロマトグラフィーを行ない、７−フェニルアセトアミド
−３−（ｌ−メチル−１，２，３，４−テトラゾール−
５−イルチオメチル）−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンジルを得る。
（２４．６ｍｇ、９０％）
ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ３）３．６１（ｓ、２Ｈ）
３．６６（ｓ、２Ｈ）
３．８４（ｓ、３Ｈ）
４．２５及び４．４５（ＡＢｑ，２Ｈ、１３Ｈｓ
） ５．２７（ｓ、２Ｈ）
５．７９（ｄｄ、１Ｈ、４Ｈｓ，
７．５Ｈｓ） ６．３５（ｄ、
１Ｈ，７．５Ｈｓ） ７．３０
（ｓ、５Ｈ） ７．４７（ｓ、
５Ｈ）参考例５ 参考例４と同様の方法で次の化合物を製造する。
３．６６（ｓ、２Ｈ）
３．８４（ｓ、３Ｈ）
４．２５及び４．４５（ＡＢｑ，２Ｈ、１３Ｈｓ
） ５．２７（ｓ、２Ｈ）
５．７９（ｄｄ、１Ｈ、４Ｈｓ，
７．５Ｈｓ） ６．３５（ｄ、
１Ｈ，７．５Ｈｓ） ７．３０
（ｓ、５Ｈ） ７．４７（ｓ、
５Ｈ）参考例５ 参考例４と同様の方法で次の化合物を製造する。
結果を下表に示す。
Claims (1)
- （１）一般式 〔式中、Ｒ１は置換もしくは非置換のフェニル基を示し
、Ｒ２はカルボキシル保護基を示す。Ｘは、水素原子又
は塩素原子を示し、Ｙは、−Ｉ、−ＯＮＯ２、−ＯＨ、
一般式、、 又は−ＳＲ４を示し、各基において、 Ｒ３は低級アルキル基又は−ＯＲ５（Ｒ５は、含ハロゲ
ン低級アルキル基を示す）を、Ｒ４は置換もしくは非置
換のイオウ及び／又はチッ素原子を含む５員環芳香族複
素環残基を示す。〕 で表わされるアゼチジノン化合物。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57167051A JPS5955888A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | アゼチジノン化合物 |
| PCT/JP1983/000315 WO1984001152A1 (en) | 1982-09-24 | 1983-09-24 | Azetidinone compounds |
| DE8383903008T DE3379655D1 (de) | 1982-09-24 | 1983-09-24 | Azetidinone compounds |
| EP83903008A EP0120094B1 (en) | 1982-09-24 | 1983-09-24 | Azetidinone compounds |
| US06/869,811 US4656264A (en) | 1982-09-24 | 1983-09-24 | Bicyclic azetidinone intermediates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57167051A JPS5955888A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | アゼチジノン化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5955888A true JPS5955888A (ja) | 1984-03-31 |
| JPS6343399B2 JPS6343399B2 (ja) | 1988-08-30 |
Family
ID=15842481
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57167051A Granted JPS5955888A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | アゼチジノン化合物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4656264A (ja) |
| EP (1) | EP0120094B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5955888A (ja) |
| DE (1) | DE3379655D1 (ja) |
| WO (1) | WO1984001152A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3195371B2 (ja) * | 1991-03-11 | 2001-08-06 | 大塚化学株式会社 | セフエム誘導体の製造法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5143791A (ja) * | 1974-08-15 | 1976-04-14 | Farmaceutici Italia | |
| JPS5759896A (en) * | 1980-09-30 | 1982-04-10 | Otsuka Chem Co Ltd | Production of thiazolineazetidinone derivative |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1472868A (en) * | 1975-08-11 | 1977-05-11 | Farmaceutici Italia | Intermediates for cephalosporin synthesis |
| GB1576219A (en) * | 1976-12-31 | 1980-10-01 | Connlab Holdings Ltd | Thiazoleneazetidinone derivatives |
| FR2455604A1 (fr) | 1979-04-30 | 1980-11-28 | Lilly Co Eli | Nouveaux derives de thiazolino-azetidinones et leur preparation |
| JPS5759897A (en) * | 1980-09-30 | 1982-04-10 | Otsuka Chem Co Ltd | Thiazolineazatidinone |
| US4482491A (en) | 1981-05-01 | 1984-11-13 | Otsuka Kagaku Yakuhin Kabushiki Kaisha | Thiazolinoazetidinone derivatives and process for the preparation of the same |
| JPS5944356A (ja) | 1982-09-06 | 1984-03-12 | Otsuka Chem Co Ltd | アゼチジノン誘導体の製造法 |
-
1982
- 1982-09-24 JP JP57167051A patent/JPS5955888A/ja active Granted
-
1983
- 1983-09-24 WO PCT/JP1983/000315 patent/WO1984001152A1/ja active IP Right Grant
- 1983-09-24 DE DE8383903008T patent/DE3379655D1/de not_active Expired
- 1983-09-24 US US06/869,811 patent/US4656264A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-09-24 EP EP83903008A patent/EP0120094B1/en not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5143791A (ja) * | 1974-08-15 | 1976-04-14 | Farmaceutici Italia | |
| JPS5759896A (en) * | 1980-09-30 | 1982-04-10 | Otsuka Chem Co Ltd | Production of thiazolineazetidinone derivative |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0120094B1 (en) | 1989-04-19 |
| EP0120094A1 (en) | 1984-10-03 |
| WO1984001152A1 (en) | 1984-03-29 |
| US4656264A (en) | 1987-04-07 |
| JPS6343399B2 (ja) | 1988-08-30 |
| EP0120094A4 (en) | 1985-02-18 |
| DE3379655D1 (de) | 1989-05-24 |
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