JPS617280A - セフアロスポリン誘導体 - Google Patents

セフアロスポリン誘導体

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JPS617280A
JPS617280A JP59126773A JP12677384A JPS617280A JP S617280 A JPS617280 A JP S617280A JP 59126773 A JP59126773 A JP 59126773A JP 12677384 A JP12677384 A JP 12677384A JP S617280 A JPS617280 A JP S617280A
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JP
Japan
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compound
formula
cephem
ring
reaction
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JP59126773A
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Inventor
Akio Ejima
江島 明男
Takeshi Hayano
早野 健
Minoru Furukawa
稔 古川
Hiroaki Tagawa
田川 博昭
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Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02ATECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
    • Y02A50/00TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
    • Y02A50/30Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change

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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は抗菌薬として有用な一般式(1)(式中、R1
は低級アルキル基を、 R2はオキサゾール基、オキサ
ジアゾール基またはチアジアゾール基を表わす。)で表
わされる化合物およびその塩に関するものである。
低級アルキル基としてはメチル、エチル、ループロピル
および1so−プロピル等があげられる0 式(I)の化合物の塩としては、塩酸、硫酸等の無機酸
およびギ酸、メタンスルホン酸等の有機酸との酸付加塩
あるいはカルボン酸のナトリウム塩、カリウム塩等のア
ルカリ金属塩およびカルシウム塩、マグネシウム塩等の
アルカリ土類金属塩があげられる。
本発明の一般式(1)で表わされる化合物はいずれも新
規化合物であり2次に示す製造法A、 BまたはCによ
って製造することが出来る。
製造法人 (式中、R1および服は前記に同じであり、 R3はは
低級アルキル基を表わす。) 即ち2式(ff)の化合物またはその塩を、ヨウ化ナト
リウム、チオシアン化カリウムなどの存在下に2式(1
)の化合物と可及的少量の水または含水溶媒中で加熱す
ることによって目的とする式(I)の化合物を得ること
が出来る。含水溶媒としては通常水とアセトニトリル、
アセトンまたはジオキサンなどとの混液が用いられる。
反応は通常40〜100’C,好ましくは60〜90℃
で15分〜8時間、好ましくは80分〜4時間行なわれ
、必要ならば塩酸などでpHを3〜8の範囲に調整して
行なうことが出来る。
(式中、Ft+および島は前記に同じであり、zlはア
ミ7基の保護基を、Z2はカルボキシル基の保護基を、
 X+および乃は同じまたは異なったハロゲン原子を表
わす。) アミン基の保護基としてはホルミル、トリチル、第三級
ブトキシカルボニルまたはp−メトキシベンジルオキシ
カルボニルなどがあげられる。また、カルボキシル基の
保護基としてはp−ニトロベンジル、第三級ブチルまた
はベンズヒドリルなどがあげられる。
本製造法は前記化学反応式から明らかなように置換反応
、脱オキシド反応および脱保護基反応より構成される。
以下にそれぞれの反応について説明する。
置換反応 式(酌の化合物と式(I)の化合物とを、アセトン。
メチルエチルケトン、ジクロルメタン、テトラヒドロフ
ランまたはアセトニトリルなどの反応に悪影響を及ぼさ
ない溶媒中もしくはそれらの混合溶媒中で反応させるこ
とにより式(7)の化合物を製造することが出来る。反
応は通常θ〜50℃、好ましくは10〜80℃で8〜2
4時間行なわれる。
脱オキシド反応 式(至)の化合物をN、N−ジメチルホルムアミドまた
はN、N−ジメチルアセトアミドなどの反応に悪影響を
及ぼさない溶媒中玉塩化燐または三臭化燐などの脱オキ
シ剤と反応させることにより式(W)の化合物を製造す
ることが出来る。反応は通常−70〜0℃、好ましくは
−50〜−20℃で15分〜8時間、好ましくは80分
〜60分間行なわれる。
脱保護基反応 式(W)の化合物に於ける保護基の脱離反応は塩酸など
の無機酸、ギ酸やトリフルオル酢酸などの有機酸あるい
はこれらの混合液中で進行し。
目的とする式(I)の化合物を製造することが出来る。
また、この反応はアニソールやチオアニソールなどのス
カベンジャーの存在下に行なうことが出来る。反応は通
常0〜50°C9好ましくは0〜80℃で15分〜8時
間、好ましくは80分〜2時間行なわれる。
製造法C 名) (式中、’R1,F+2およびZlは前記に同じ。)本
製造法は化学反応式から明らかなように縮合反応および
脱保護基反応より構成される。以下に各反応を説明する
綜合反応 式(ロ)の化合物を、五塩化燐、チオニルクロリドもし
くはオキザリルクロリドなどど処理して得られる酸ハラ
イド体またはN、N−ジメチルホルムアミドとオキシ塩
化燐などから調整される−〇F− ビールスマイヤー試薬と処理することによって得られる
活性体と式(4)の化合物とを、酢酸エチル、アセドニ
Fリル、ジク四ルメタンなどの反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒中、N、O−ビス(トリメチルシリル)アセトア
ミドあるいはトリエチルアミン、炭酸水素ナトリウム、
プロピレンオキシドなどの存在下反応させることにより
式(財)の化合物を製造することが出来る。反応は通常
−50〜50℃、好ましくは一30〜80°Cで行なわ
れる。
脱保護基反応 製造法Bで説明した脱保護基反応と同様に行なうことに
より9式(財)の化合物から目的とする式(I)の化合
物を製造することが出来る。
原料の製造法 製造法Cに於ける原料化合物(4)は以下のようにして
製造することが出来る。
すなわち、7−アミツセフアロスボラン酸またはその塩
を、ジクロルメタン、アセトニトリ)V ルなどの有機溶媒中、トリフルオ書メタンスルホン酸な
どのハロスルホン酸の存在下トリメチルシリルハライド
、ヨウ化ナトリウムあるいはチオシアン化カリなどと反
応させ2次いで前記の式(1)の化合物と反応させるこ
とにより原料化合物(4)を製造することが出来る。
また、7−アシルアミノセファロスポラン酸を、アセト
ニトリルなどの有機溶媒と水の混液中9式(I)の化合
物およびヨウ化ナトリウムまたはチオシアン化カリなど
の無機塩と加熱することにより7−アシルアミノ−8−
(置換ピリジニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボ
キシラードが生成する。この化合物をN、O−ビス(ト
リメチルシリル)アセトアミドなどのシリル止剤9次い
で五塩化燐などのイミノクロル化剤と接触させ、生成し
たイミドクロリドを1,8−ブタンジオールなどにより
イミノエーテルに変換した後、イミノエーテル体を加水
分解または加アルコール分解させることにより式(4)
の化合物を製造することも出来る。この場合、アシ′ル
基としては通常のものが使用可能であるが。
フェニルアセチル、チェニルアセチル、アミノアジピル
などが好適に使用される。
本発明の式(1)の化合物およびその中間体はオキシイ
ミノ基を有するが、これらの化合物には以下に示すシン
異性体およびアンチ異性体が存在する。一般にシン異性
体の方が優れた抗菌活性を示す。
シン異性体      アンチ異性体 (式中、R1は前記に同じであり、 R4は水素または
前記のz、を表わす。) 本明細書に於いてシン異性体とアンチ異性体を便宜的に
一つの表現で表わす時には、以下の部分構造で表わす。
υに1 (式中、R1および&は前記に同じである。)また、目
的化合物(I)およびその中間体は互変異性体を包含す
る。すなわち、2−アミノチアゾール部分は平衡関係に
あり1次のような平衡式で示すことが出来る。
(式中、R4は前記に同じである。) しかしながら画部分構造式は相互に変換できるので実質
的には同一化合物と考えることが出来る。本明細書に於
いてはこの部分構造を便宜上互変異性体の一方である。
(式中、R4は前記に同じである。)によって表わす。
本□発明の化合物は広域抗菌スペクトルを示し。
緑膿菌を含むグラム陰性菌およびグラム陽性菌に対して
強い抗菌活性を示す。それらの結果をセ7オタキシムを
対照薬として最小発育阻止濃度値で示す。
最小発育阻止濃度(MIC,に/−=/ )〔接種菌量
:106/−;培養条件:87°C118時間〕 化合物Aニアβ−(2=(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−メトキシイミノアセトアミド)−8−(4
−(オキサゾール−5−イル)ピリジニオコメチル−8
−セフェム−4−カルボキシラード(シン異性体) 化合物Bニアβ−(2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−メトキシイミノアセトアミド)−8−(4
−(オキサゾール−2−イル)ピリジニオコメチル−8
−セフェム−4−カルボキシラード(シン異性体) 化合物Cニアβ−(2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−メトキシイミノアセトアミド) −8−(
4−(1,8,4−オキサジアゾール−2−イル)ピリ
ジニオコメチル−3−セフェム−4−カルボキシラード
(シン異性体) 化合物Dニアβ−(:2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド)−8−(
8−(オキサゾール−5−イル)ピリジニオコメチル−
8−セフェム−4−カルポギシラー¥(シン異性体) 化合物Eニアβ−(2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−メトキシイミノアセトアミド)−8−(4
−(1,2,8−チアジアゾール−4−イル)ピリジニ
オコメチル−8−セフェム−4−カルボキシラード・二
塩酸塩(シン異性体) 実施例1 7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド〕−8−(4−(オキサ
ゾール−5−イル)ピリジニオコメチル−3−セフェム
−4−カルボキシラード(シン異性体) 7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド〕−8−アセトキシメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム1.5g
、ヨウ化ナトリウム4.59および4−(オキサゾール
−5−イル)ピリジン1.81を4N−塩酸0.851
a/とアセトニトリル2.51Ltの混液に加え、80
℃で1時間10分攪拌する。反応液をアセトン中に注加
後、析出物を濾取し、アセトンで洗う。得られた粉末を
ダイヤイオンHP−20を担体とするカラムクロマトグ
ラフィーに付し、水−テトラヒドロフラン(98ニア)
の混液で展開スル。
ついで逆相高速液体クロマトグラフィー〔担体:デベロ
シル(杼打化学社製)〕に付し、水−アセトニトリル(
89:11)の混液で展開すると表題化合物を得る。
F T −N M R(D20中δ値、ppm):8.
17 、 8.76 (2H,ABq、 J−18Hz
、セフェム環2位のH) L91 (8H,s、メトキシ基) 5.82 (IH,rl、 J−5Hz、セフェム環6
位のH)5.2 B 、  5.60 (2H,ABq
、 J−15Hz、セフェム環8位のCH2基のH) 5.79 (IH,d、 J−5Hz、セフェム環7位
のH)6.74 (IH,s、チアゾール環5位のH)
8.16 (1)1. s、オキサゾール環4位のH)
8.55 (IH,8,オキサゾール環2位のH)8.
24,9.02(各々2H,各々(1,J−7Hz、ピ
リジン環のH) 実施例2 7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド〕−8−(4−(オキサ
ゾール−2−イル)ピリジニオコメチル−8−セフェム
−4−カルボキシラード(シン異性体) 7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド〕−3−アセトキシメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム0.75
9.ヨウ化ナトリウム2.259および4−(オキサゾ
ール−2−イル)ピリジン0.519を4N−塩酸0.
4 mlとアセトニトリル1.2−の混液に加え、80
°Cで1時間攪拌する。反応液をアセトン中に注加後析
出物を濾取し、アセトンで洗う。得られた粉末をダイヤ
イオンHP−20を担体とするカラムクロマトグラフィ
ーに付し、水−テトラヒドロフラン(98:’7)の混
液で展開する。ついで逆相高速液体クロマトグラフィー
〔担体:デベロシル〕に付し、水−アセトニトリル(8
9:11)の混液で展開すると表題化合物を得る。
FT−NMR(D20中δ値、ppm)21.28 、
 8.76 (2H,ABq、 J−18Hz、セフェ
ム環2位のH) 8.94 (8H,s、メトキシ基) 5.88 (IH,a、 J=4Hz、セフェム環6位
のH)5.86 、 5.66 (2H,ABq、 J
−15Hz、セフェム環3位の0服基のH) 5゜85 (IH,d、 J−4Hz、セフェム環7位
のH)6.91 (IH,s、チアゾール環5位のH)
7.61.8.26 (各々IH,各々S、オキサゾー
ル環のH) 8.56.9.15 (各々2H,各々d、J−7Hz
+ピリジン環のH) 実施例8 7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド〕−8−(4+−(1,
8,4−オキサジアゾール−2−イル)ピリジニオコメ
チル−8−セフェム−4−カルボキシラード(シン異性
体) 7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド〕−8−アセトキシメチ
ル−8−セフェム−4噌−カルボン酸ナトリウム2.0
り、ヨウ化ナトリウム6gおよび41− (1,8,4
−オキサジアゾール8′イル)ピリジン1.769を4
N−塩酸1.1trLtとアセトニトリル3.3−の混
液に加え、80℃で1時間攪拌する。反応液をアセトン
中に注加後析出物を濾取し、アセトンで洗う。得られた
粉末をダイヤイオンHP−20を担体とするカラムクロ
マトグラフィーに付し、水−テトラヒドロフラン(98
ニア)の混液で展開する。ついで逆相高速液体クロマト
グラフィー〔担体:デベロシル〕に付し、水−アセトニ
トリル(98ニア)の混液で展開すると表題化合物を得
る。
F T −N M R(D20中δ値、ppIll):
8.21 、 8.79 (2H,ABq、 J−18
Hz、セフェム環2位のH) 8.94 (8H,s、 メ) キシ基)5.88 (
IH,t5. J−5H2,セフェム環6位のH)5.
89 、 5.76 (2H,ABq、 J−14Hz
、セフェム環3位のCH2基のH) 5.81 (IH,d、 J−5Hz、セフェム環7位
のH)6.81 (IH,8,チアゾール環5位のH)
8.69.9.88 (各々2H,各々d、 J−7H
z、ピリジン環のH)=17− 9.80 (IH,s、オキサジアゾール環のH)実施
例4 7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド〕−8−fl−(オキサ
ゾール−5−イル)ピリジニオコメチル−3−セフェム
−4−カルボキシラード(シン異性体) 7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド〕−8−アセトキシメチ
ル−8−セフェム−41−カルボン酸ナトリウム2.0
り、ヨウ化ナトリウム6りおよび3−(オキサゾール−
5−イル)ピリジン1.69を4N−塩酸1.1−とア
セトニトリル8.81dの混液に加え、80″Cで1.
5時間攪拌する。反応液をアセトン中に注加後、析出物
を濾取し、アセトンで洗う。得られた粉末をダイヤイオ
ンHP−20を担体とするカラムクロマトグラフィーに
付し、水−テトラヒドロフラン(98ニア)の混液で展
開する。ついで逆相高速液体クロマトグラフィー〔担体
:デベロシル〕に付し、水−アセトニトリル(90: 
10 )の混液で展開すると表題化合物を得る。
I RvKBrcm= : 1765 ax FT−NMR(D20中δ値+l)I)m)’3.22
 、 8.74 (2H,ABq、 J−18Hz、セ
フェム環2位のH) 8.96 (8H,s、メトキシ基) 5.81 (IH,a、 J−4Hz、セフェム環6#
のH)5.86 、 5.68 (2H,ABq、 J
−1,4Hz、セフェム環3位のGH2基のH) 5.88 (IH,d、 J−4H2,セフェム環7位
のH)6.85 (IH,s、チアゾール環5位のH)
7.88 (1,H,s、オキサゾール環4位のH)s
、lq (IH,aa、ピリジン環5位のH)8.48
 (LH,s、オキサゾール環2位のH)B、B 5.
8.99 (各々IH,各々d、ピリジン環4位および
6位のH) 9.50 (LH,s、ピリジン環2位のH)実施例5 7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド〕−8−(4−(1,2
,8−チアジアゾール−4−イル)ピリジニオコメチル
−3−セフェム−4−カルボキシラード・二塩酸塩(シ
ン異性体)〔工程1〕 4−アセチルピリジン1.2g、セミカルバジド・塩酸
塩1.1gおよびトリエチルアミン1.4−をエタノー
ル15m/に加え一夜攪拌する。析出物を濾取し、4−
アセチルピリジンセミカルバゾン1..65gを得る。
融点218〜217℃0cw−NuR(nuso−山中
δ値+ pp”)’2.19 (8H,s、メチル基) 6.56 (2H,bs、 −〇〇NH2)9.58 
(IH,bs、 −NH−)上記で得られた4−アセチ
ルピリジンセミカルバゾン16.89を水冷下チオニル
クロリド47d中に加え、室温にもどして1時間攪拌を
続ける。反応液にクロロホルム200−を加え氷冷した
炭酸ナトリウム水溶液に滴下する。クロロホルム層を抽
出し、水洗、乾燥後濃縮して4− (1,2,8−チア
ジアゾール−4−イル)ピリジン3.49を得る。融点
121〜128℃0GW−NMR(ODC13中δ値+
 ppm)’7.7〜8.0 、8.6〜8.9 (各
々2H,各々m、ピリジン環のH) 8.44 (IH,s、チアジアゾール環5位のH)〔
工程2〕 7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド〕−8−アセトキシメチ
ル−8−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム2.09
.ヨウ化ナトリウム6.0gおよび4− (1,2,8
−チアジアゾール−4−イル)ピリジン1.959を4
N−塩酸1.1−とアセトニトリル8.8−の混液に加
え、80°Cで1.5時間攪拌する。反応液をアセトン
中に注加後、析出物を濾取し、アセトンで洗う。得られ
た粉末をダイヤイオンHP−20を担体とするカラムク
ロマトグラフィーに付し、水−テトラヒドロフラン(9
3ニア)の混液で展開する。
ついで逆相高速液体クロマトグラフィー〔担体:デベロ
シル〕に付し、水−アセトニトリル(89:11)を塩
酸でpH2〜8に調整した混液で展開すると表題化合物
を得る。
FT−NMR(D20中δ値、ppIll):8.88
 、 8.79 (2H,ABq、 J−18Hz、セ
フェム環2位のH) 4.06 (8H,s、メトキシ基) 5.86 (IH,d、 J−5Hz、セフェム環6位
のH)5.46 、 5.78 (2H,ABq、 J
−15Hz、セフェム環3位のC)(2基のH) 5.91 (LH,d、 J−5Hz、セフェム環7位
のH)7.15 (IH,s、チアゾール環5位のH)
8.77.9.15 (各々2H,各々d、J−7H2
,ピリジン環のH)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1は低級アルキル基を、R_2はオキサゾ
    ール基、オキサジアゾール基またはチアジアゾール基を
    表わす。)で表わされる化合物およびその塩
JP59126773A 1984-04-17 1984-06-20 セフアロスポリン誘導体 Pending JPS617280A (ja)

Priority Applications (19)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59126773A JPS617280A (ja) 1984-06-20 1984-06-20 セフアロスポリン誘導体
IL74822A IL74822A (en) 1984-04-17 1985-04-04 Cephalosporin derivatives and salts thereof and their preparation
CA000478729A CA1243298A (en) 1984-04-17 1985-04-10 Cephalosporin derivatives and salts thereof
AR300020A AR240826A1 (es) 1984-04-17 1985-04-10 Procedimiento para preparar derivados de 7beta-(2-(2-aminotiazol-4-il)2-alcoxiiminoacetamido)-3-(1-piridinometil)-3-cefem-4-carboxilato
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