JPS60237090A - セフエム化合物 - Google Patents
セフエム化合物Info
- Publication number
- JPS60237090A JPS60237090A JP9764585A JP9764585A JPS60237090A JP S60237090 A JPS60237090 A JP S60237090A JP 9764585 A JP9764585 A JP 9764585A JP 9764585 A JP9764585 A JP 9764585A JP S60237090 A JPS60237090 A JP S60237090A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- ester
- cephem
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は優れた抗菌作用を有する新規なセフェム化合物
およびその製造法ならびに医薬組成物に関するものであ
る。
およびその製造法ならびに医薬組成物に関するものであ
る。
(従来の技術)
従来より、8位に第4級アンモニウムメチル基、7位に
2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −2−’ヒ
ドロキシ(または置換ヒドロキシ)イミノアセトアミド
基をあわせ持つセフェム化合物またはその誘導体は種々
合成され、特許出願されている〔たとえば日本国公開特
許公報昭58−34795.同昭54−9’296゜同
昭54−13579’2.同昭54−1.54786、
同昭55−1492’89.同昭57−56− 6485、開閉57−192394.同昭58−159
198など〕。これらの明細書中には第4級アンモニウ
ムメチル基を構成する第4級アンモニウム基としてピリ
ジニウム基やキノリニウム基などの含窒素芳香族複素環
基もしくはそれらの環上に置換基を有するものの開示が
見られるが、それらの置換基は具体的には非常に限られ
た範囲にとど捷っており置換基として含窒素芳香族複素
環基を有するピリジニウムメチル基あるいはキノリニウ
ムメチル基を3位にもつ化合物については合成はおろか
出願明細書における開示も全くなされていない。
2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −2−’ヒ
ドロキシ(または置換ヒドロキシ)イミノアセトアミド
基をあわせ持つセフェム化合物またはその誘導体は種々
合成され、特許出願されている〔たとえば日本国公開特
許公報昭58−34795.同昭54−9’296゜同
昭54−13579’2.同昭54−1.54786、
同昭55−1492’89.同昭57−56− 6485、開閉57−192394.同昭58−159
198など〕。これらの明細書中には第4級アンモニウ
ムメチル基を構成する第4級アンモニウム基としてピリ
ジニウム基やキノリニウム基などの含窒素芳香族複素環
基もしくはそれらの環上に置換基を有するものの開示が
見られるが、それらの置換基は具体的には非常に限られ
た範囲にとど捷っており置換基として含窒素芳香族複素
環基を有するピリジニウムメチル基あるいはキノリニウ
ムメチル基を3位にもつ化合物については合成はおろか
出願明細書における開示も全くなされていない。
(発明が解決しようとする問題点)
セフェム系抗生物質は人および動物の病原性細菌により
生ずる疾病の治療に広く使用されており、たとえばペニ
シリン系抗生物質に抵抗性を示す細菌に起因する疾病の
治療およびペニシリン感受性患者の治療に特に有用であ
る。その場合ダラム陽性菌およびグラム陰性菌の両者に
対して活性を示すセフェム系抗生物質を用いることが望
捷しく、この理由から広い抗菌スペクトルを持つセフェ
ム系抗生物質の研究が盛んに行なわれてきた。長期にわ
たる研究の結果、セフェム環の7位に2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシ(捷たけ置換
ヒドロキシ)イミノアセトアミド基を導入するとダラム
陽性菌およびゲラム陰性菌の両者に活性を示すようにな
ることが発見され、いわゆる第8世代セファロスポリン
系化合物の開発へとつなかった。現在 数種の第3世代
セファロスポリン系化合物がすでに市販されている。こ
れら第3世代セファロスポリン系抗生物質のもうひとつ
の特徴は、かつてペニシリンにおいて経験されたと同様
の耐性菌、いわゆる中ファロスポリン耐性菌に対しても
活性を示しだ点である。
生ずる疾病の治療に広く使用されており、たとえばペニ
シリン系抗生物質に抵抗性を示す細菌に起因する疾病の
治療およびペニシリン感受性患者の治療に特に有用であ
る。その場合ダラム陽性菌およびグラム陰性菌の両者に
対して活性を示すセフェム系抗生物質を用いることが望
捷しく、この理由から広い抗菌スペクトルを持つセフェ
ム系抗生物質の研究が盛んに行なわれてきた。長期にわ
たる研究の結果、セフェム環の7位に2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシ(捷たけ置換
ヒドロキシ)イミノアセトアミド基を導入するとダラム
陽性菌およびゲラム陰性菌の両者に活性を示すようにな
ることが発見され、いわゆる第8世代セファロスポリン
系化合物の開発へとつなかった。現在 数種の第3世代
セファロスポリン系化合物がすでに市販されている。こ
れら第3世代セファロスポリン系抗生物質のもうひとつ
の特徴は、かつてペニシリンにおいて経験されたと同様
の耐性菌、いわゆる中ファロスポリン耐性菌に対しても
活性を示しだ点である。
すなわち既知のセファロスポリン類に耐性を示した一部
のエシェリヒア・コリ菌、一部のシト。2,2ケーワお
、。わ。4 > l’ −/L=l’JJ’l!4E。
のエシェリヒア・コリ菌、一部のシト。2,2ケーワお
、。わ。4 > l’ −/L=l’JJ’l!4E。
)プロテウス属、エンテロ属、セラチア属あるいはシ
ュクドモナス属などに分類される病原性細菌に対しても
臨床的に使用が可能な程度の抗菌力を発現した。これら
の第3世代セファロスポリン系化合物の技術思想の中か
ら、3位にピリジニウムメチル基などの第4級アンモニ
ウムメチル基、7位に前記のアミノチアゾリルオキシイ
ミノアセトアミド類をあわせ持つセファム化合物がさら
に優れた抗菌作用と独特な抗菌スペクトルを有すること
が示唆され、その系統の化合物が種々合成されてきた。
ュクドモナス属などに分類される病原性細菌に対しても
臨床的に使用が可能な程度の抗菌力を発現した。これら
の第3世代セファロスポリン系化合物の技術思想の中か
ら、3位にピリジニウムメチル基などの第4級アンモニ
ウムメチル基、7位に前記のアミノチアゾリルオキシイ
ミノアセトアミド類をあわせ持つセファム化合物がさら
に優れた抗菌作用と独特な抗菌スペクトルを有すること
が示唆され、その系統の化合物が種々合成されてきた。
(発明を解決するための手段)
本発明は一般式
〔式中、R工は保護されていてもよいアミノ基を、Qは
窒素原子またばC−R2で表わされる基を、R2は水素
原子またはハロゲン原子を、R3は水素原子または置換
されていてもよい炭化水素残基を、R4は水素原子また
はメトキシ基を、R5−〇− は置換されていてもよい含窒素芳香族複素環基を、■は
ピリジン環」−にさらに置換基を有していてもよいこと
を、nは0または1を示す〕で表わされるセフェム化合
物捷たはその生理学的に受容される塩もしくはエステル
、およびその製造法ならびに医薬組成物に関するもので
ある。
窒素原子またばC−R2で表わされる基を、R2は水素
原子またはハロゲン原子を、R3は水素原子または置換
されていてもよい炭化水素残基を、R4は水素原子また
はメトキシ基を、R5−〇− は置換されていてもよい含窒素芳香族複素環基を、■は
ピリジン環」−にさらに置換基を有していてもよいこと
を、nは0または1を示す〕で表わされるセフェム化合
物捷たはその生理学的に受容される塩もしくはエステル
、およびその製造法ならびに医薬組成物に関するもので
ある。
本明細書におけるセフェム化合物は[ザ・ジャーナル・
オプ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテイ丁第8
4巻8400頁(1962年)に記載されている「セフ
ァム」に基づいて命名された化合物群であり、セフェム
化合物はセファム化合物のうち8,4−位に二重結合を
有する化合物を意味する。
オプ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテイ丁第8
4巻8400頁(1962年)に記載されている「セフ
ァム」に基づいて命名された化合物群であり、セフェム
化合物はセファム化合物のうち8,4−位に二重結合を
有する化合物を意味する。
従来技術の項で述べたように8位にピリジニウムメチル
基などの第4級アンモニウムメチル基、7位にアミノチ
アゾリルオキシイミノアセトアミド類をあわせもつセフ
ェム化合物がさらに優れた抗菌作用と独特な抗菌スペク
トルを有することが次第に明らかになってきた。3位の
第4級アンモニウムメチル基がピリジニウムメ10− チル基やキノリニウムメチル基などの含窒素芳香族複素
環基もしくはそれらの環」二に置換基を有するものに由
来する化合物がすでに合成されて特許出願されているが
、それらの置換基は具体的には非常に限られた範囲にと
どまっており置換基として含窒素芳香族複素環基を有す
るピリジニウムメチル基あるいはキノリニウムメチル基
を3位にもつ化合物については全く合成が行なわれてい
ない。本発明者らはこのような化学構造上の特徴を持つ
一般式〔■〕で表わされる化合物を合成することに成功
するとともに、それらの化合物の抗菌活性と抗菌スペク
トルを調べた結果、化合物〔■〕が各種の細菌に対して
強い抗菌作用を有すること、特に前述のセファロスポリ
ン耐性菌に対して強い抗菌作用を持つこと、シュウトモ
ナス属の菌に対して特異な抗菌力を示すことなどを見出
して本発明を完成した。
基などの第4級アンモニウムメチル基、7位にアミノチ
アゾリルオキシイミノアセトアミド類をあわせもつセフ
ェム化合物がさらに優れた抗菌作用と独特な抗菌スペク
トルを有することが次第に明らかになってきた。3位の
第4級アンモニウムメチル基がピリジニウムメ10− チル基やキノリニウムメチル基などの含窒素芳香族複素
環基もしくはそれらの環」二に置換基を有するものに由
来する化合物がすでに合成されて特許出願されているが
、それらの置換基は具体的には非常に限られた範囲にと
どまっており置換基として含窒素芳香族複素環基を有す
るピリジニウムメチル基あるいはキノリニウムメチル基
を3位にもつ化合物については全く合成が行なわれてい
ない。本発明者らはこのような化学構造上の特徴を持つ
一般式〔■〕で表わされる化合物を合成することに成功
するとともに、それらの化合物の抗菌活性と抗菌スペク
トルを調べた結果、化合物〔■〕が各種の細菌に対して
強い抗菌作用を有すること、特に前述のセファロスポリ
ン耐性菌に対して強い抗菌作用を持つこと、シュウトモ
ナス属の菌に対して特異な抗菌力を示すことなどを見出
して本発明を完成した。
」二記ヤフエム化合物CDにおいて置換基R1は保護さ
れていてもよいアミノ基、すなわちアミン基または保護
されたアミノ基を表わす。β−ラクタムおよびペプチド
合成の分野ではアミン基の保護基は充分に研究されてい
てその保護法はすでに確立されており9本発明において
もアミノ基の保護基としてはそれら公知のものが適宜に
採用されうる。アミン基の保護基としてはたとえばC6
〜1oアリール−アシル基、C1〜5アルカノイル基、
C3〜5アルケノイル基、C6〜1oアリールスルホニ
ル基、CI2、oアルキルスルホニル基、置換オキシカ
ルボニル基、カルバモイル基。
れていてもよいアミノ基、すなわちアミン基または保護
されたアミノ基を表わす。β−ラクタムおよびペプチド
合成の分野ではアミン基の保護基は充分に研究されてい
てその保護法はすでに確立されており9本発明において
もアミノ基の保護基としてはそれら公知のものが適宜に
採用されうる。アミン基の保護基としてはたとえばC6
〜1oアリール−アシル基、C1〜5アルカノイル基、
C3〜5アルケノイル基、C6〜1oアリールスルホニ
ル基、CI2、oアルキルスルホニル基、置換オキシカ
ルボニル基、カルバモイル基。
チオカルバモイル基、06〜1oアリール−メチル基、
06〜、。アリール−メチレン基、C6〜、。アリール
チオ基、置換シリル基、2−C,〜8アルコキシーカル
ボニル−1−メチル−1−エチニル基などがあげられる
。C6〜、。アリール−アシル基としては具体的にはベ
ンゾイル、ナフトイル。
06〜、。アリール−メチレン基、C6〜、。アリール
チオ基、置換シリル基、2−C,〜8アルコキシーカル
ボニル−1−メチル−1−エチニル基などがあげられる
。C6〜、。アリール−アシル基としては具体的にはベ
ンゾイル、ナフトイル。
フタロイルなどがあげられ、これらの芳香環はC1〜4
アルキル、Cエル6アルコキシ、ハロゲン。
アルキル、Cエル6アルコキシ、ハロゲン。
ニトロ々とで置換されていてもよい。置換されたアリー
ル−アシル基としては具体的にはp −) /l/ オ
イル、p−tert−ブチルベンゾイル、p−メトキシ
ベンゾイル、p−tert−グトキシベンソイル、p−
タロロベンゾイル、p−ニトロベンゾイルなどがあげら
れる。C□〜5アルカノイル基としては具体的にはホル
ミル、アセチル。
ル−アシル基としては具体的にはp −) /l/ オ
イル、p−tert−ブチルベンゾイル、p−メトキシ
ベンゾイル、p−tert−グトキシベンソイル、p−
タロロベンゾイル、p−ニトロベンゾイルなどがあげら
れる。C□〜5アルカノイル基としては具体的にはホル
ミル、アセチル。
プロピオニル、ブチリル、バレリル、ピパロイル、サク
ニシル、グルタリルなどがあげられ。
ニシル、グルタリルなどがあげられ。
これらのアルカノイル基はさらにC□〜6アルコキシ、
ハロゲン、Cアリール、C6〜、。アリ6〜1〇 一ルオキシ、C6〜、。アリールチオなどで置換すれて
いてもよい。置換されたアルカノイル基としては具体的
にはモノクロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロ
ロアセチル、モノブロモアセチル、モノフルオロアセチ
ル、シフルオロアヤチル、トリフルオロアヤチル、モノ
ヨードアセチル、アセトアセチル、3−オキソブチリル
、4−り四ロー3−オキソブチリル、フェニルアセチル
、p−クロロフェニルアセチル、フェノキシアセチル、
p−クロロフェノキシアセチルなどがあげられる。03
〜5アルケノイル基としては具体的にはアクリロイル、
タロトノイ13− ル、マレオイルなどがあげられ、これらのアルケノイル
基はさらにC6〜、。アリールなどで置換サレテいても
よい。置換されたアルケノイル基としては具体的にはシ
ンナモイルなどがあげられる。C6〜1oアリールスル
ホニル基としては具体的にはベンゼンスルホニル、ナフ
タレンスルホニルなどがあげられ、これらの芳香環はC
1−4アルキル、C1,++6アルコキシ、ハロゲン、
ニトロなどで置換されていてもよい。置換されたアリー
ルスルホニル基としては具体的にはp−トルエンスルホ
ニル、p−tert−7”チルベンゼンスルホニル、p
−メトキシベンゼンスルホニル。
ハロゲン、Cアリール、C6〜、。アリ6〜1〇 一ルオキシ、C6〜、。アリールチオなどで置換すれて
いてもよい。置換されたアルカノイル基としては具体的
にはモノクロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロ
ロアセチル、モノブロモアセチル、モノフルオロアセチ
ル、シフルオロアヤチル、トリフルオロアヤチル、モノ
ヨードアセチル、アセトアセチル、3−オキソブチリル
、4−り四ロー3−オキソブチリル、フェニルアセチル
、p−クロロフェニルアセチル、フェノキシアセチル、
p−クロロフェノキシアセチルなどがあげられる。03
〜5アルケノイル基としては具体的にはアクリロイル、
タロトノイ13− ル、マレオイルなどがあげられ、これらのアルケノイル
基はさらにC6〜、。アリールなどで置換サレテいても
よい。置換されたアルケノイル基としては具体的にはシ
ンナモイルなどがあげられる。C6〜1oアリールスル
ホニル基としては具体的にはベンゼンスルホニル、ナフ
タレンスルホニルなどがあげられ、これらの芳香環はC
1−4アルキル、C1,++6アルコキシ、ハロゲン、
ニトロなどで置換されていてもよい。置換されたアリー
ルスルホニル基としては具体的にはp−トルエンスルホ
ニル、p−tert−7”チルベンゼンスルホニル、p
−メトキシベンゼンスルホニル。
p−クロロベンゼンスルホニル、p−二トロベンゼンス
ルホニルなどがあげられる。C1〜1oアルキルスルホ
ニル基としては具体的にはメタンスルホニル、エクンス
ルホニル、カンファースルホニル ルホニル基はC6〜1oアリール、C6〜1oアリール
オキシ、ハロゲンなどで置換されていてもよい。
ルホニルなどがあげられる。C1〜1oアルキルスルホ
ニル基としては具体的にはメタンスルホニル、エクンス
ルホニル、カンファースルホニル ルホニル基はC6〜1oアリール、C6〜1oアリール
オキシ、ハロゲンなどで置換されていてもよい。
置換オキシカルボニル基としてはたとえばメト14−
キシカルボニル
ロボキシカルポニル, tert−フ゛トキシカルボニ
ル,イソボルニルオキシカルボニル アルコキシ−カルボニル基,たとえばフェノキシカルボ
ニル、ナフチルオキシカルボニルなどの06〜,0アリ
ールオキシ−カルボニルLだ.!=えばベンジルオキシ
カルボニルなどのC7〜、2アラルキルオキシ−カルボ
ニル る。C1〜8アルコキシ−カルボニル基はさらに、C1
〜6アルコキシ、C2〜5アルカノイル、置換シ’J
ル, C 1〜4アルキルスルホニル、ハロゲン。
ル,イソボルニルオキシカルボニル アルコキシ−カルボニル基,たとえばフェノキシカルボ
ニル、ナフチルオキシカルボニルなどの06〜,0アリ
ールオキシ−カルボニルLだ.!=えばベンジルオキシ
カルボニルなどのC7〜、2アラルキルオキシ−カルボ
ニル る。C1〜8アルコキシ−カルボニル基はさらに、C1
〜6アルコキシ、C2〜5アルカノイル、置換シ’J
ル, C 1〜4アルキルスルホニル、ハロゲン。
シアノなどで置換されていてもよい。置換されたアルコ
キシ−カルボニル基としてはたトエばメトキシメチルオ
キシカルボニル、アセチルメチルオキシカルボニル、2
−トリメチルシリルエトキシカルボニル、2−メタンス
ルホニルエトキシカルボニル、2,2.2−ト+)クロ
ロエトキシカルボニル ニルなどがあげられる。06〜1oアリールオキシ−カ
ルボニル カルボニル アルコキシ、ハロゲン、ニトロなどで置換されでいても
よい。置換されたアリ−・レオキシカルボニル基として
は具体的例はp−メチルフェノキシカルボニル、p−メ
トキシフェノキシカルボニル、p−クロロフェノキシカ
ルボニルナトがあげられる。置換されたアラルキルオキ
シカルボニル基としては具体的にはp−メチルベンジル
オキシカルボニル オキシカルポニル,p−タロロペンジルオキシカルポニ
ル,p−ニトロベンジルオキシカルボニルなどがあげら
れる。また07〜1oアラルキルオキシ−カルボニル基
のアルキル基ij:C6〜1oアリール、ハロゲンなど
で置換されていてもよく。
キシ−カルボニル基としてはたトエばメトキシメチルオ
キシカルボニル、アセチルメチルオキシカルボニル、2
−トリメチルシリルエトキシカルボニル、2−メタンス
ルホニルエトキシカルボニル、2,2.2−ト+)クロ
ロエトキシカルボニル ニルなどがあげられる。06〜1oアリールオキシ−カ
ルボニル カルボニル アルコキシ、ハロゲン、ニトロなどで置換されでいても
よい。置換されたアリ−・レオキシカルボニル基として
は具体的例はp−メチルフェノキシカルボニル、p−メ
トキシフェノキシカルボニル、p−クロロフェノキシカ
ルボニルナトがあげられる。置換されたアラルキルオキ
シカルボニル基としては具体的にはp−メチルベンジル
オキシカルボニル オキシカルポニル,p−タロロペンジルオキシカルポニ
ル,p−ニトロベンジルオキシカルボニルなどがあげら
れる。また07〜1oアラルキルオキシ−カルボニル基
のアルキル基ij:C6〜1oアリール、ハロゲンなど
で置換されていてもよく。
具体的にはベンズヒドリルオキシカルボニルなどがあげ
られる。カルバモイル基は置換されていてもよい。置換
されたカルバモイル基として、□工.、−777、ヵ2
.2、、イ/l/,N−、 (チルカルバモイル、N,
N−ジブチルカルバモイル、N−フェニルカルバモイル
、N−(p−メトキシフェニル)カルバモイル れる。チオカルバモイル基も同様に置換されていてもよ
い。置換されたチオカルノくモイル基としては具体的に
はN−メチルチオカルバモイルなどがあげられる。06
〜1oアリール−メチル基としては具体的にはベンジル
、ナフチルメチルなどがあげられ、これらの芳香環は0
1〜4アルキル、C1〜6アルコキシ、ハロゲン、ニト
ロなどで置換されていてもよい。置換されたアリールメ
チル基としては具体的にはp−メチルベンジ/L/,l
)−ノドキシベンジル、p−vロロベンジル,p−ニト
ロベンジルなどがあげられる。
られる。カルバモイル基は置換されていてもよい。置換
されたカルバモイル基として、□工.、−777、ヵ2
.2、、イ/l/,N−、 (チルカルバモイル、N,
N−ジブチルカルバモイル、N−フェニルカルバモイル
、N−(p−メトキシフェニル)カルバモイル れる。チオカルバモイル基も同様に置換されていてもよ
い。置換されたチオカルノくモイル基としては具体的に
はN−メチルチオカルバモイルなどがあげられる。06
〜1oアリール−メチル基としては具体的にはベンジル
、ナフチルメチルなどがあげられ、これらの芳香環は0
1〜4アルキル、C1〜6アルコキシ、ハロゲン、ニト
ロなどで置換されていてもよい。置換されたアリールメ
チル基としては具体的にはp−メチルベンジ/L/,l
)−ノドキシベンジル、p−vロロベンジル,p−ニト
ロベンジルなどがあげられる。
まだアリールメチル基のメチル基はもう1〜2個のC6
〜1oアリール基で置換されていてもよく。
〜1oアリール基で置換されていてもよく。
具体的にはベンズヒドリル、トリチルなどがあげられる
。06〜1oアリール−メチレン基としては具体的には
ベンジリデンなどがあげられ.こレラの芳香環はC1〜
4アルキル、01〜6アルコキシ、ハロゲン、ニトロ々
どで置換されていてもよい。置換されたアリールメチレ
ン基としては17− 具体的にはp−メチルベンジリチン、p−クロロベンジ
リデンなどがあげられる。06〜1oアリールチオ基と
しては具体的には0−ニトロフェニルチオなどがあげら
れる。
。06〜1oアリール−メチレン基としては具体的には
ベンジリデンなどがあげられ.こレラの芳香環はC1〜
4アルキル、01〜6アルコキシ、ハロゲン、ニトロ々
どで置換されていてもよい。置換されたアリールメチレ
ン基としては17− 具体的にはp−メチルベンジリチン、p−クロロベンジ
リデンなどがあげられる。06〜1oアリールチオ基と
しては具体的には0−ニトロフェニルチオなどがあげら
れる。
置換シリル基は保護されるアミン基とあわさって一般式
R6R7Rs S+ NH 、 ( R 6R7R8
S I )2 NまたはR,’, R,’ はそれぞれ
たとえばメチル、エチル。
R6R7Rs S+ NH 、 ( R 6R7R8
S I )2 NまたはR,’, R,’ はそれぞれ
たとえばメチル、エチル。
tert−ブチルなどの01〜4アルキル基もしくはた
とえばフェニルなどの06〜、。アリール基を示し,そ
れぞれ同一または異なっていてもよい。
とえばフェニルなどの06〜、。アリール基を示し,そ
れぞれ同一または異なっていてもよい。
寸たZ′はたとえばメチレン、エチレンなどの01〜3
アルキレン基を示す〕で表わされるようなシリル基を意
味し,具体的にはトリメチルシリル、tert−ブチル
ジメチルシリル、S i (CH3)2CH2CH2S
i(CH3)2−などがあげられる。2−01〜8アル
コキシ−カルボニル−l−メチル−1−エチニル基のC
1〜8アルコキシ基としてはたとえばメトキシ、エトキ
シ、tert−ブトキシなどが18− あげられる。
アルキレン基を示す〕で表わされるようなシリル基を意
味し,具体的にはトリメチルシリル、tert−ブチル
ジメチルシリル、S i (CH3)2CH2CH2S
i(CH3)2−などがあげられる。2−01〜8アル
コキシ−カルボニル−l−メチル−1−エチニル基のC
1〜8アルコキシ基としてはたとえばメトキシ、エトキ
シ、tert−ブトキシなどが18− あげられる。
上記セフェム化合物CI)において記号Qは窒素原子捷
たはC−R2で表わされる基を、置換基R2は水素原子
捷たはハロゲン原子を表わす。ハロゲン原子としてはフ
ッ素、塩素、臭素などがあげられ、好ましくは塩素であ
る。
たはC−R2で表わされる基を、置換基R2は水素原子
捷たはハロゲン原子を表わす。ハロゲン原子としてはフ
ッ素、塩素、臭素などがあげられ、好ましくは塩素であ
る。
上記セフェム化合物〔I〕において置換基R3は水素原
子捷だけ置換されていてもよい炭化水素残基を表わす。
子捷だけ置換されていてもよい炭化水素残基を表わす。
炭化水素残基としてはたとえばC1〜6アルキル基、C
2〜6アルケニル基、 C3〜6シクロアルキル基など
があげられ、01〜3アルキル基(たとえばメチル、エ
チル、プロピルなど)または置換された01〜3アルキ
ル基が特に好ましい。01〜6アルキル基としては具体
的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル。
2〜6アルケニル基、 C3〜6シクロアルキル基など
があげられ、01〜3アルキル基(たとえばメチル、エ
チル、プロピルなど)または置換された01〜3アルキ
ル基が特に好ましい。01〜6アルキル基としては具体
的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル。
ブチル、イソブチル、5ec−ブチル、tert−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルなどがあげられる。
ル、ペンチル、ヘキシルなどがあげられる。
C2〜6アルケニ・し基としては具体的にはビニル。
アリル、イソプロペニル、メクリル、1.1−ジメチル
アリル、2−ブテニル、3−ブテニルなどがあげられる
。C3〜6シクロアルキル基としては具体的にはシクロ
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルなどがあげられる。これらの炭化水素残基の置換基
としてはたとえば水酸基、C3〜6シクロアルキル基。
アリル、2−ブテニル、3−ブテニルなどがあげられる
。C3〜6シクロアルキル基としては具体的にはシクロ
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルなどがあげられる。これらの炭化水素残基の置換基
としてはたとえば水酸基、C3〜6シクロアルキル基。
C1〜6アルコキシ基、C3〜6シクロアルキルオキシ
L C6〜1oアリールオキシ基、C7〜1゜アラルキ
ルオキシ基、メルカプト基、C1〜6アルキルチオ基、
03〜6シクロアルキルチオ基、C6〜1゜アリールチ
オ基、C7〜1□アラルキルチオ基、アミ7基、七ノC
工〜4アルキルアミノ基、ジC7〜4アルキルアミノ基
、C3〜6シクロアルキルアミノ基、C6〜1oアリー
ルアミノ基、07〜12アラルキルアミノ基、環状アミ
ノ基、アジド基、ニトロ基、ハロゲン原子、シアン基、
カルボキシル基。
L C6〜1oアリールオキシ基、C7〜1゜アラルキ
ルオキシ基、メルカプト基、C1〜6アルキルチオ基、
03〜6シクロアルキルチオ基、C6〜1゜アリールチ
オ基、C7〜1□アラルキルチオ基、アミ7基、七ノC
工〜4アルキルアミノ基、ジC7〜4アルキルアミノ基
、C3〜6シクロアルキルアミノ基、C6〜1oアリー
ルアミノ基、07〜12アラルキルアミノ基、環状アミ
ノ基、アジド基、ニトロ基、ハロゲン原子、シアン基、
カルボキシル基。
01〜8アルコキシ−カルボニル基、C6〜1oアリー
ルオキシ−カルボニル ルオキシーカルポニル キシ−カルボニル ル基,C1〜5アルカノイル基,C3〜5アルケノイル
基,C6〜1oアリール−アシルオキシ基,02〜5ア
ルカノイルオキシ基,C3〜5アルケノイルオキシ基,
カルバモイルT;装置nカルバモイル基,チオカルバモ
イル基,置換チオカルバモイル基,カルバモイルオキシ
基,置換カルバモイルオキシ基,フタルイミド基.C2
〜5アルカノイルアミド基,06〜1oアリール−アシ
ルアミド基,カルボキシアミノL C1〜4アルコキシ
−カルボニルアミ7 −カルボニルアミノ基,C7〜1□アラルキルオキシ−
カルボニルアミ7基などがあげられる。具体的にけC3
〜6シクロアルキル基はシクロプロピル、シクロブチル
、シクロペンチル、シクロヘキシルなどを,01〜6ア
ルコキシ基はメトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプ
ロポキシ。
ルオキシ−カルボニル ルオキシーカルポニル キシ−カルボニル ル基,C1〜5アルカノイル基,C3〜5アルケノイル
基,C6〜1oアリール−アシルオキシ基,02〜5ア
ルカノイルオキシ基,C3〜5アルケノイルオキシ基,
カルバモイルT;装置nカルバモイル基,チオカルバモ
イル基,置換チオカルバモイル基,カルバモイルオキシ
基,置換カルバモイルオキシ基,フタルイミド基.C2
〜5アルカノイルアミド基,06〜1oアリール−アシ
ルアミド基,カルボキシアミノL C1〜4アルコキシ
−カルボニルアミ7 −カルボニルアミノ基,C7〜1□アラルキルオキシ−
カルボニルアミ7基などがあげられる。具体的にけC3
〜6シクロアルキル基はシクロプロピル、シクロブチル
、シクロペンチル、シクロヘキシルなどを,01〜6ア
ルコキシ基はメトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプ
ロポキシ。
ブトキシ、tert−ブトキシなどを,C,〜6シクロ
アルキルオキシ基はシクロプロピルオキシ。
アルキルオキシ基はシクロプロピルオキシ。
シクロへキシルオキシなどを,C6〜1oアリールオキ
シ基はフェノキシ、ナフチルオキシなどを。
シ基はフェノキシ、ナフチルオキシなどを。
07〜12アラルキルオキシ基はベンジルオキシ。
21−
2−フェニルエチルオキシなどを,C0〜6アルキルチ
オ基はメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチル
チオなどを,C3〜6シクロアルキルチオ基はシクロプ
ロピルチオ、シクロへキシルチオなどを,C6〜,。ア
リールチオ基はフェニルチオなどを,C7〜1。アラル
キルチオ基はベンジルチオなどを,モノC1〜4アルキ
ルアミノ基はメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルア
ミノ、ブチルアミノなどを,ジC1〜4アルキルアミノ
基はジメチルアミノ、ジエチルアミノ。
オ基はメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチル
チオなどを,C3〜6シクロアルキルチオ基はシクロプ
ロピルチオ、シクロへキシルチオなどを,C6〜,。ア
リールチオ基はフェニルチオなどを,C7〜1。アラル
キルチオ基はベンジルチオなどを,モノC1〜4アルキ
ルアミノ基はメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルア
ミノ、ブチルアミノなどを,ジC1〜4アルキルアミノ
基はジメチルアミノ、ジエチルアミノ。
メチルエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジグチルアミ
ノなどを,03〜6シクロアルキルアミノ基はシクロプ
ロピルアミノ、シクロへキシルアミノなどを,C6〜1
oアリールアミ7基はアニリノなどを,C7〜12アラ
ルキルアミノ基はベンジルアミノ、2−フェニルエチル
アミノなどを。
ノなどを,03〜6シクロアルキルアミノ基はシクロプ
ロピルアミノ、シクロへキシルアミノなどを,C6〜1
oアリールアミ7基はアニリノなどを,C7〜12アラ
ルキルアミノ基はベンジルアミノ、2−フェニルエチル
アミノなどを。
環状アミノ基はピロリジノ、ピペリジノ、ピペラジノ、
モルホリノ、■ーピロリルなどを,ハロゲン原子はフッ
素,塩素,臭素などを.C19アルコキシ−カルボニル
基はメトキシ力ルポニ22− ル、エトキシカルボニル ボニル, tert−ブトキシカルボニル、イソボルニ
ルオキシカルボニルなど1, C6〜1oアリールオキ
シ−カルボニル などを,C3〜6シクロアルキルオキシーカルボニルク
ロヘキシルオキシカルポニルナトヲ. C7〜12アラ
ルキルオキシ−カルボニル基ハペンジルオキシカルボニ
ルなど1,c6〜1oアリール−アシル基はベンゾイル
、フタロイル、フェニルアセチルなどを,C1〜5アル
カノイル アセチル、フロピオニル、ブチリル、バレリル。
モルホリノ、■ーピロリルなどを,ハロゲン原子はフッ
素,塩素,臭素などを.C19アルコキシ−カルボニル
基はメトキシ力ルポニ22− ル、エトキシカルボニル ボニル, tert−ブトキシカルボニル、イソボルニ
ルオキシカルボニルなど1, C6〜1oアリールオキ
シ−カルボニル などを,C3〜6シクロアルキルオキシーカルボニルク
ロヘキシルオキシカルポニルナトヲ. C7〜12アラ
ルキルオキシ−カルボニル基ハペンジルオキシカルボニ
ルなど1,c6〜1oアリール−アシル基はベンゾイル
、フタロイル、フェニルアセチルなどを,C1〜5アル
カノイル アセチル、フロピオニル、ブチリル、バレリル。
ピバロイルなど全C3〜5アルケノイル基はアクリロイ
ル、クロトノイル、マレオイルなトラ。
ル、クロトノイル、マレオイルなトラ。
06〜1oアリール−アシルオキシ基はベンゾイルオキ
シなどを,C2〜5アルカノイルオキシアセトキシ、プ
ロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ピバロイルオキシ
など1, c3〜5アルケノイルオキシ基はアクリロイ
ルオキシなどを。
シなどを,C2〜5アルカノイルオキシアセトキシ、プ
ロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ピバロイルオキシ
など1, c3〜5アルケノイルオキシ基はアクリロイ
ルオキシなどを。
置換カルバモイル基はN−メチルカルバモイル。
N,N−ジメチルカルバモイル
ルバモイル、N−フェニルカルバモイル、ヒロリジノカ
ルボニル,ピペリジノ力ルポニル,ピペラジノカルボニ
ル、モルホリノカルボニルなどを,置換チオカルバモイ
ル基はN−メチルチオカルバモイル ーシメチルカルバモイルオキシ,N−エチルカルバモイ
ルオキシなどを,C2〜5アルカノイルア三ド基はアセ
トアミド、プロピオンアミドなトt. C6〜1oアリ
ール−アシルアミド基はベンズアミドなどを,C1〜4
アルコキシ−カルボニルアミノ基はメトキシカルボニル
アミノ、エトキシカルボニルアミノ、tert−ブトキ
シカルボニルアミノなどを,C6〜1oアリールオキシ
−カルボニルアミノ基はフェノキシカルボニルアミノ−
/Zどを,C7〜12アラルキルオキシーカルボニ (
ルアミノ基はベンジルオキシカルボニルアミなどを表わ
す。また上記のアラルキルオキシ基。
ルボニル,ピペリジノ力ルポニル,ピペラジノカルボニ
ル、モルホリノカルボニルなどを,置換チオカルバモイ
ル基はN−メチルチオカルバモイル ーシメチルカルバモイルオキシ,N−エチルカルバモイ
ルオキシなどを,C2〜5アルカノイルア三ド基はアセ
トアミド、プロピオンアミドなトt. C6〜1oアリ
ール−アシルアミド基はベンズアミドなどを,C1〜4
アルコキシ−カルボニルアミノ基はメトキシカルボニル
アミノ、エトキシカルボニルアミノ、tert−ブトキ
シカルボニルアミノなどを,C6〜1oアリールオキシ
−カルボニルアミノ基はフェノキシカルボニルアミノ−
/Zどを,C7〜12アラルキルオキシーカルボニ (
ルアミノ基はベンジルオキシカルボニルアミなどを表わ
す。また上記のアラルキルオキシ基。
アラルキルチオ基,アラ5レキルアミノ基,アラルキル
オキシカルボニル基およびアラルキルオキシカルボニル
アミ7基のアラルキル基を構成するアルキル基はもう1
個のC6〜1oアリール基で置換されていてもよく,具
体的にはベンズヒドリルオキシ、ベンズヒドリルチオ、
ベンズヒドリルアミノ、ベンズヒドリルオキシカルボニ
ル、ベンス°ヒドリルオキシカルボニルアミノなどがあ
げられる。置換された炭化水素残基としてはハロゲン原
子,水酸基,アミノ基,C1〜6アルコキシ基,カルボ
キシル基+ c,〜6アルコキシーカルポニル基,シア
ノ基などで置換された01〜3アルキル基がより好まし
い。置換された炭化水素残基を具体的にあげると,メト
キシメチル、1−メトキシエチル、l−エトキシエチル
、2−ヒドロキシエチル、2−アミノエチル、2−フル
オロエチル、2−クロロエチル。
オキシカルボニル基およびアラルキルオキシカルボニル
アミ7基のアラルキル基を構成するアルキル基はもう1
個のC6〜1oアリール基で置換されていてもよく,具
体的にはベンズヒドリルオキシ、ベンズヒドリルチオ、
ベンズヒドリルアミノ、ベンズヒドリルオキシカルボニ
ル、ベンス°ヒドリルオキシカルボニルアミノなどがあ
げられる。置換された炭化水素残基としてはハロゲン原
子,水酸基,アミノ基,C1〜6アルコキシ基,カルボ
キシル基+ c,〜6アルコキシーカルポニル基,シア
ノ基などで置換された01〜3アルキル基がより好まし
い。置換された炭化水素残基を具体的にあげると,メト
キシメチル、1−メトキシエチル、l−エトキシエチル
、2−ヒドロキシエチル、2−アミノエチル、2−フル
オロエチル、2−クロロエチル。
2−ブロモエチル、カルボキシメチル
ルボキシ−l−メチルエチル、1−カルボキシシクロプ
ロビル、メトキシカルボニルメチル。
ロビル、メトキシカルボニルメチル。
25−
エトキシカルボニルメチル
ボニルシクロプロピル、tert−ブトキシカルボニル
メチル、■ーメトキシカルボニルー■ーメチルエチル チルエチル、1 −tert − フトキシ力ルボニル
ーlーメチルエチル、1−ベンジルオキシカルボニル−
1−メチルエチル、l−ピバロイルオキシカルボニル−
l−メチルエチルなどのほか多くのものがあげられる。
メチル、■ーメトキシカルボニルー■ーメチルエチル チルエチル、1 −tert − フトキシ力ルボニル
ーlーメチルエチル、1−ベンジルオキシカルボニル−
1−メチルエチル、l−ピバロイルオキシカルボニル−
l−メチルエチルなどのほか多くのものがあげられる。
また本明細書においてOR3基はすべてシン配位(Z配
位)である。
位)である。
上記セフェム化合物〔■〕において置換基R4は水素原
子またはメトキシ基を表わす。
子またはメトキシ基を表わす。
上記セフェム化合物〔■〕において置換基R5は置換さ
れていてもよい含窒素芳香族複素環基を表わす。ここで
含窒素芳香族複素環としては1ないし4個の窒素原子お
よび0ないし1個の酸素原子もしくは硫黄原子とを含む
芳香族5員複素環が好ましく,含窒素芳香族複素環はピ
リジン環と炭素原子どうしで結合する。このような含窒
素芳香族5員複素環基としては具体的には−26= 2−ピロリル、3−ピロリル、3−ピラゾリル。
れていてもよい含窒素芳香族複素環基を表わす。ここで
含窒素芳香族複素環としては1ないし4個の窒素原子お
よび0ないし1個の酸素原子もしくは硫黄原子とを含む
芳香族5員複素環が好ましく,含窒素芳香族複素環はピ
リジン環と炭素原子どうしで結合する。このような含窒
素芳香族5員複素環基としては具体的には−26= 2−ピロリル、3−ピロリル、3−ピラゾリル。
Φ−ピラゾリル、5−ピラゾリル、2−イミダゾリル、
4−イミダゾリル、5−イミダゾリル。
4−イミダゾリル、5−イミダゾリル。
1.2.3−トリアゾール−手−イル、1,2゜8−ト
リアゾール−5−イル、1,2.4−)リアゾール−3
−イル、1,2.4−トリアゾール−5−イル、IH−
テトラゾリル、3−イソキサゾリル、4−インキサゾリ
ル、5−インキサゾリル、2−オキサシリル、4−オキ
サシリル、5−オキサシリル、1,2.8−オキサジア
ゾール−4−イル、1.2.3−オキサジアゾール−5
−イル、l、2.4−オキサジアゾール−3−イル、1
,2.4−オキサジアゾール−5−イル、3−7ラザニ
ル、l、3.4−オキサジアゾール−2−イル、1,2
,3゜4−オキサトリアゾール−5−イル、1,2゜3
.5−オキサトリアゾール−4−イル、3−イツチアゾ
リル、4−インチアゾリル、5−インチアゾリル、2−
チアゾリル、4−チアゾリル、5−チアゾリル、1,2
.3−チアジアゾール−手−イル、1,2.3−チアジ
アゾール−5−イル、1,2.4〜チアジアゾール−3
−イル、1,2.4−チアジアゾール−5−イル、l、
2.5−チアジアゾール−3−イル。
リアゾール−5−イル、1,2.4−)リアゾール−3
−イル、1,2.4−トリアゾール−5−イル、IH−
テトラゾリル、3−イソキサゾリル、4−インキサゾリ
ル、5−インキサゾリル、2−オキサシリル、4−オキ
サシリル、5−オキサシリル、1,2.8−オキサジア
ゾール−4−イル、1.2.3−オキサジアゾール−5
−イル、l、2.4−オキサジアゾール−3−イル、1
,2.4−オキサジアゾール−5−イル、3−7ラザニ
ル、l、3.4−オキサジアゾール−2−イル、1,2
,3゜4−オキサトリアゾール−5−イル、1,2゜3
.5−オキサトリアゾール−4−イル、3−イツチアゾ
リル、4−インチアゾリル、5−インチアゾリル、2−
チアゾリル、4−チアゾリル、5−チアゾリル、1,2
.3−チアジアゾール−手−イル、1,2.3−チアジ
アゾール−5−イル、1,2.4〜チアジアゾール−3
−イル、1,2.4−チアジアゾール−5−イル、l、
2.5−チアジアゾール−3−イル。
1.3.4−チアジアゾール−2−イル、■。
2.3.4−チアトリアゾール−5−イル+ 1+2、
J 5−チアトリアゾール−4−イルなどがあげられる
。」1記の含窒素芳香族5員複素環は他の芳香族または
芳香族複素環と縮合していてもよい。他の芳香環捷たけ
芳香族複素環と縮合した含窒素芳香族5員複素環基とし
ては具体的には2−インドリル、3−インドリル、2−
イソインドリル、8−イングゾール、2−ベンゾイミダ
ゾリル、2−ベンゾオキサシリル、2−ベンゾチアゾリ
ル、8−プリニル、9−プリニル、■−イントリジニル
、2−、(ントリシニル、3−イントリジニル々どがあ
げられる。また含窒素芳香族5員複素環もしくは縮合し
た含窒素芳香族5員複素環の炭素原子または窒素原子に
結合した水素原子は、1個ないし同一または異なってい
てもよい2個以上の置換基で置換されていてもよい。こ
のような置換基としてはたとえば水酸基、01〜4 ヒ
ドロキシアルキル基。
J 5−チアトリアゾール−4−イルなどがあげられる
。」1記の含窒素芳香族5員複素環は他の芳香族または
芳香族複素環と縮合していてもよい。他の芳香環捷たけ
芳香族複素環と縮合した含窒素芳香族5員複素環基とし
ては具体的には2−インドリル、3−インドリル、2−
イソインドリル、8−イングゾール、2−ベンゾイミダ
ゾリル、2−ベンゾオキサシリル、2−ベンゾチアゾリ
ル、8−プリニル、9−プリニル、■−イントリジニル
、2−、(ントリシニル、3−イントリジニル々どがあ
げられる。また含窒素芳香族5員複素環もしくは縮合し
た含窒素芳香族5員複素環の炭素原子または窒素原子に
結合した水素原子は、1個ないし同一または異なってい
てもよい2個以上の置換基で置換されていてもよい。こ
のような置換基としてはたとえば水酸基、01〜4 ヒ
ドロキシアルキル基。
01〜6アルキル基、C2〜6アルケニル基、C24ア
ルキニル基、C4〜6アルカジエニル基、 C3〜6シ
クロアルキル基、 c3〜6シクロアルケニル基。
ルキニル基、C4〜6アルカジエニル基、 C3〜6シ
クロアルキル基、 c3〜6シクロアルケニル基。
C3〜6シクロアルキルーC1〜6アルキル基、C6〜
1o アリール基、C7〜1□アラキル基、複素環基、
C,〜6アルコキシ基、01〜6アルコキシーC1〜
4アルキルL’C3〜6シクロアルキルオキシ基、C6
〜1oアリールオキシ基、C7〜1゜アラルキルオキシ
基、メルカプト基、C1〜4メルカプトアルキル基、ス
ルホ基、 C,,4スルホアルキル基、C1〜6アルキ
ルチオ基、C1〜6アルキルチオー〇、〜4アルキル基
、03〜6シクロアルキルチオ基、C6〜1oアリール
チオ基、C7〜1□アラルキルチオ基、アミ7基、C1
〜4アミノアルキル基、モノC0〜4アルキルアミノ基
、ジC1〜4アルキルアミ7基、モノC1〜4アルキル
アミノ−C0〜4アルキル基、ジC1〜4アルキルアミ
ノ29− −C1〜4アルキル基、03〜6シクロアルキルアミノ
基、06〜1oアリールアミノ基、C7〜12アラルキ
ルアミノ基、環状アミン基、環状アミノ−01〜4アル
キル基、環状アミノ−01〜4アルキルアミノ基、アジ
ド基、ニトロ基、ハロゲン原子、 c1〜4ハロゲノア
ルキル基、シアノ基、シアノ−C1〜4アルキル基、カ
ルボキシル基、カルボキシ−01〜4アルキル基、C1
〜8アルコキシ−カ/L/ ホ= /l/基、C1〜8
アルコキシ−カルボニル−01〜4アルキル基、06〜
.0アリールオキシ−カルボニル基、C3〜6シクロア
ルキルオキシーカルボニル基、C7〜1゜アラルキルオ
キシ−カルボニル基、06〜1oアリール−アシルL
C1〜5アルカノイル アルキル基.C3〜5アルケノイル基,C6〜10アリ
ール−アシルオキシ キシ アルキル基,03〜5アルケノイルオキシ基,カルバモ
イル基,カルバモイル−01〜4アルキル基,置換カル
バモイル基,チオカルバモイル基。
1o アリール基、C7〜1□アラキル基、複素環基、
C,〜6アルコキシ基、01〜6アルコキシーC1〜
4アルキルL’C3〜6シクロアルキルオキシ基、C6
〜1oアリールオキシ基、C7〜1゜アラルキルオキシ
基、メルカプト基、C1〜4メルカプトアルキル基、ス
ルホ基、 C,,4スルホアルキル基、C1〜6アルキ
ルチオ基、C1〜6アルキルチオー〇、〜4アルキル基
、03〜6シクロアルキルチオ基、C6〜1oアリール
チオ基、C7〜1□アラルキルチオ基、アミ7基、C1
〜4アミノアルキル基、モノC0〜4アルキルアミノ基
、ジC1〜4アルキルアミ7基、モノC1〜4アルキル
アミノ−C0〜4アルキル基、ジC1〜4アルキルアミ
ノ29− −C1〜4アルキル基、03〜6シクロアルキルアミノ
基、06〜1oアリールアミノ基、C7〜12アラルキ
ルアミノ基、環状アミン基、環状アミノ−01〜4アル
キル基、環状アミノ−01〜4アルキルアミノ基、アジ
ド基、ニトロ基、ハロゲン原子、 c1〜4ハロゲノア
ルキル基、シアノ基、シアノ−C1〜4アルキル基、カ
ルボキシル基、カルボキシ−01〜4アルキル基、C1
〜8アルコキシ−カ/L/ ホ= /l/基、C1〜8
アルコキシ−カルボニル−01〜4アルキル基、06〜
.0アリールオキシ−カルボニル基、C3〜6シクロア
ルキルオキシーカルボニル基、C7〜1゜アラルキルオ
キシ−カルボニル基、06〜1oアリール−アシルL
C1〜5アルカノイル アルキル基.C3〜5アルケノイル基,C6〜10アリ
ール−アシルオキシ キシ アルキル基,03〜5アルケノイルオキシ基,カルバモ
イル基,カルバモイル−01〜4アルキル基,置換カル
バモイル基,チオカルバモイル基。
=30−
置換チオカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カル
バモイルオキシ−C□〜4アルキル基。
バモイルオキシ−C□〜4アルキル基。
fF[”カルバモイルオキシ基、フタルイミド基。
02〜5アルカノイルアミド基・ 06〜1oアリール
−アシルアミF基、スルホンアミド基、カルボキシアミ
ノ基、 c1〜4アルコキシ−カルボニルアミノ基、0
6〜1oアリールオキシ−カルボニルアミ7基、07〜
1゜アラルキルオキシ−カルボニルアミノ基などがあげ
られる。具体的には01〜4ヒドロキシアルキル基はヒ
ドロキシメチル、2−ヒドロキシエチルなどを、C1〜
6アルキル基はメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル。
−アシルアミF基、スルホンアミド基、カルボキシアミ
ノ基、 c1〜4アルコキシ−カルボニルアミノ基、0
6〜1oアリールオキシ−カルボニルアミ7基、07〜
1゜アラルキルオキシ−カルボニルアミノ基などがあげ
られる。具体的には01〜4ヒドロキシアルキル基はヒ
ドロキシメチル、2−ヒドロキシエチルなどを、C1〜
6アルキル基はメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル。
ブチル、イソブチル、5ec−ブチル、 tert−ブ
チル、ペンチル、ヘキシルなどを、C2〜6アルケニル
基ハビニル、アリル、イソプロペニル。
チル、ペンチル、ヘキシルなどを、C2〜6アルケニル
基ハビニル、アリル、イソプロペニル。
メタリル、1.1−ジメチルアリル、l−ブテニル、2
−ブテニル、3−グチニルナトに、C2〜6アルキニル
基ハエチニル、]−7’ロピニル。
−ブテニル、3−グチニルナトに、C2〜6アルキニル
基ハエチニル、]−7’ロピニル。
2−プロピニル、プロパギルなどを、C4+61ルカジ
エニル基は1.3−ブタジェニルなどを。
エニル基は1.3−ブタジェニルなどを。
C3〜6シクロアルキル基はシクロプロピル、シタロブ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどを、C3〜
6シクロアルケニル基はl−シクロペンテニル、2−シ
クロペンテニル、3−シタロペンテニル、■−シクロへ
キセニル、2−シクロへキセニル、3−シクロへキャニ
ル、1゜4−シクロへキサジェニルなどを、03〜6シ
クロアルキルーC1〜6アルキル基ハシクロペンチルメ
チル、シクロヘキシルメチルなどを、C6〜1゜アリー
ル基はフェニル、ナフチルなどをI C7,2アラルキ
ル基はベンジル、フェネチル々どを。
チル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどを、C3〜
6シクロアルケニル基はl−シクロペンテニル、2−シ
クロペンテニル、3−シタロペンテニル、■−シクロへ
キセニル、2−シクロへキセニル、3−シクロへキャニ
ル、1゜4−シクロへキサジェニルなどを、03〜6シ
クロアルキルーC1〜6アルキル基ハシクロペンチルメ
チル、シクロヘキシルメチルなどを、C6〜1゜アリー
ル基はフェニル、ナフチルなどをI C7,2アラルキ
ル基はベンジル、フェネチル々どを。
複素環基は2−ピリジル、8−ピリジル、4−ピリジル
、N−オキシド−2−ピリジル、 N −オキシド−3
−ピリジル、N−オキシド−4−ピリジル、2−ピペリ
ジニル、3−ピペリジニル、4−ピペリジニル、ピペラ
ジニル、2−ピラジニル、2−ピリミジニル、4−ピリ
ミジニ″・ 5−ピリミジ1″・ 3−ピリタ゛ジ1″
・ 4゛(−ピリダジニル、2−ピラニル、3−ピラニ
ル。
、N−オキシド−2−ピリジル、 N −オキシド−3
−ピリジル、N−オキシド−4−ピリジル、2−ピペリ
ジニル、3−ピペリジニル、4−ピペリジニル、ピペラ
ジニル、2−ピラジニル、2−ピリミジニル、4−ピリ
ミジニ″・ 5−ピリミジ1″・ 3−ピリタ゛ジ1″
・ 4゛(−ピリダジニル、2−ピラニル、3−ピラニ
ル。
4−ピラニル、2−チオピラニル、3−チオピラニル、
4−ヂオピラニル、3H−インドール=2−イル、3H
−インドール−8−イル、■。
4−ヂオピラニル、3H−インドール=2−イル、3H
−インドール−8−イル、■。
2.8−チアジアゾール−手−イル、1,2゜4−チア
ジアゾール−5−イル、1,2.4−チアジアゾール−
3−イル、1,8.4−チアジアゾリル、1,2.5−
チアジアゾリル、1゜2.3−トリアゾリル、1,2.
4−1リアゾリル、IH−テトラゾリル、ベンゾピラニ
ル。
ジアゾール−5−イル、1,2.4−チアジアゾール−
3−イル、1,8.4−チアジアゾリル、1,2.5−
チアジアゾリル、1゜2.3−トリアゾリル、1,2.
4−1リアゾリル、IH−テトラゾリル、ベンゾピラニ
ル。
2−フリル、8−フリル、2−チェニル、3−チェニル
、2−オキサシリル、4−オキサシリル、5−オキサシ
リル、2−チアゾリル、4−チアゾリル、5−チアゾリ
ル、3−インキサゾリル、4−インキサゾリル、5−イ
ソキサゾリル、3−イソチアゾリル、4−イソチアゾリ
ル。
、2−オキサシリル、4−オキサシリル、5−オキサシ
リル、2−チアゾリル、4−チアゾリル、5−チアゾリ
ル、3−インキサゾリル、4−インキサゾリル、5−イ
ソキサゾリル、3−イソチアゾリル、4−イソチアゾリ
ル。
5−インチアゾリル、2−ピロリル、3−ピロリル、2
−ピロリジニル、a−ピロリジニル。
−ピロリジニル、a−ピロリジニル。
2−イミダゾリル、4−イミグゾリル、5−イミダゾリ
ル、3−ピラゾリル、4−ピラゾリル。
ル、3−ピラゾリル、4−ピラゾリル。
5−ピラゾリルなどの窒素軍f″−(tギシド化されて
いてもよい)、酸素原子、硫黄原子なとの33− ペテロ原子を1−数個含む5〜8員環才たはその縮合環
で炭素原子に結合手を有するものを。
いてもよい)、酸素原子、硫黄原子なとの33− ペテロ原子を1−数個含む5〜8員環才たはその縮合環
で炭素原子に結合手を有するものを。
C1〜6アルコキシ基はメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、インプロポキシ、ブトキシ、 tert −ブトキ
シなどを、C1〜6アルコキシー01〜4アルキル基は
メトキシメチル、エトキシメチル。
シ、インプロポキシ、ブトキシ、 tert −ブトキ
シなどを、C1〜6アルコキシー01〜4アルキル基は
メトキシメチル、エトキシメチル。
2−メトキシエチルなどをC3〜6シクロアルキルオキ
シ基はシクロプロピルオキシ、シクロへキシルオキシな
どを、06〜,0アリールオキシ基はフェノキシ、ナフ
チルオキシなどを、C7〜12アラルキルオキシ基はベ
ンジルオキシ、■−フェニルエチルオキシ、2−フェニ
ルエチルオキシなどを、C1〜4メルカプトアルキル基
はメルカプトメチル、2−メルカプトエチルなどを。
シ基はシクロプロピルオキシ、シクロへキシルオキシな
どを、06〜,0アリールオキシ基はフェノキシ、ナフ
チルオキシなどを、C7〜12アラルキルオキシ基はベ
ンジルオキシ、■−フェニルエチルオキシ、2−フェニ
ルエチルオキシなどを、C1〜4メルカプトアルキル基
はメルカプトメチル、2−メルカプトエチルなどを。
C1〜4スルホアルキル基はスルホメチル、2−スルホ
エチルなどを、01〜6アルキルチオ基はメチルチオ、
エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチル
チオ々どを、61〜6アルキルチオーC1〜4アルキル
基はメチルヂオメチル、2−メチルチオエチルなどを、
03〜6シク34− ロアルキルチオ基はシクロプロピルチオ、シクロへキシ
ルチオなどを、C6〜1oアリールチオ基はフェニルチ
オなどを、07〜1□アラルキルチオ基はベンジルチオ
などを、01〜4アミノアルキル基はアミノメチル、2
−アミノエチルなどを。
エチルなどを、01〜6アルキルチオ基はメチルチオ、
エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチル
チオ々どを、61〜6アルキルチオーC1〜4アルキル
基はメチルヂオメチル、2−メチルチオエチルなどを、
03〜6シク34− ロアルキルチオ基はシクロプロピルチオ、シクロへキシ
ルチオなどを、C6〜1oアリールチオ基はフェニルチ
オなどを、07〜1□アラルキルチオ基はベンジルチオ
などを、01〜4アミノアルキル基はアミノメチル、2
−アミノエチルなどを。
モノC1〜4アルキルアミノ基はメチルアミノ。
エチルアミノ、プロピルアミン、ブチルアミノなどを、
ジC1〜4アルキルアミノ基はジメチルアミノ、ジエチ
ルアミノ、メチルエチルアミノ。
ジC1〜4アルキルアミノ基はジメチルアミノ、ジエチ
ルアミノ、メチルエチルアミノ。
ジプロピルアミノ、ジブチルアミノなどを、モノC1〜
4アルキルアミノ−C1〜4アルキル基はメチルアミノ
メチル、エチルアミノメチル、2−(N〜メチルアミン
)エチル、3−(N−メチルアミノ)プロピルなどを、
ジC1〜4アルキルアミノーC1〜4アルキル基はN、
N−ジメチルアミノメチル、N、N−ジエチルアミノメ
チル、2−(N、N−ジメチルアミノ)エチル。
4アルキルアミノ−C1〜4アルキル基はメチルアミノ
メチル、エチルアミノメチル、2−(N〜メチルアミン
)エチル、3−(N−メチルアミノ)プロピルなどを、
ジC1〜4アルキルアミノーC1〜4アルキル基はN、
N−ジメチルアミノメチル、N、N−ジエチルアミノメ
チル、2−(N、N−ジメチルアミノ)エチル。
2−(N、N−ジエチルアミノ)エチル、3−(N、N
−ジメチルアミノ)プロピルなトヲ。
−ジメチルアミノ)プロピルなトヲ。
C3〜6シクロアルキルアミノ基はシクロプロピルアミ
ノ、シクロへキシルアミノなトヲ、C6〜1゜アリール
アミノ基はアニリノ、N−メチルアミノなどを、C7〜
1□アラルキルアミノ基はベンジルアミノ、1−フェニ
ルエチル7E/、2−一フェニルエチルアミノなどを、
環状アミノ基はピロリジノ、ピペリジノ、ピペラジノ、
モルホリノ、■−ピロリルなどを、環状アミノC1〜4
アルキル基はピロリジノメチル、ピペリジノメチル、ピ
ペラジノメチル、モルホリノメチル。
ノ、シクロへキシルアミノなトヲ、C6〜1゜アリール
アミノ基はアニリノ、N−メチルアミノなどを、C7〜
1□アラルキルアミノ基はベンジルアミノ、1−フェニ
ルエチル7E/、2−一フェニルエチルアミノなどを、
環状アミノ基はピロリジノ、ピペリジノ、ピペラジノ、
モルホリノ、■−ピロリルなどを、環状アミノC1〜4
アルキル基はピロリジノメチル、ピペリジノメチル、ピ
ペラジノメチル、モルホリノメチル。
2−(モルホリノ)エチルなどを、環状アミノC1〜4
アルキルアミ7基はピロリジノメチルアミノ、ピペリジ
ノメチルアミノ、ピペラジノメチルアミノ、モルホリノ
メチルアミノなどを。
アルキルアミ7基はピロリジノメチルアミノ、ピペリジ
ノメチルアミノ、ピペラジノメチルアミノ、モルホリノ
メチルアミノなどを。
ハロゲン原子はフッ素、塩素、臭素などを、01〜4ハ
ロゲノアルキル基はモノフルオロメチル。
ロゲノアルキル基はモノフルオロメチル。
ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、■−フルオロ
エチル、2−フルオロエヂル、モノクロロメチル、ジク
ロロメチル、トリクロロメチル、1−タロロエチル、2
−夕ロロエチル、フロモメチル、ヨードメチルなどを、
シアノ−C1〜4アルキル基はシアンメチル、2−シア
ノエチルなどを、カルボキシ−C1〜4アルキルカルボ
キシメチル −カルボキシエチルなどを,01〜8アルコキシ−カル
ボニル基はメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
プロポキシカルボニル、インプロポキシカルボニル、ブ
トキシカルボニル。
エチル、2−フルオロエヂル、モノクロロメチル、ジク
ロロメチル、トリクロロメチル、1−タロロエチル、2
−夕ロロエチル、フロモメチル、ヨードメチルなどを、
シアノ−C1〜4アルキル基はシアンメチル、2−シア
ノエチルなどを、カルボキシ−C1〜4アルキルカルボ
キシメチル −カルボキシエチルなどを,01〜8アルコキシ−カル
ボニル基はメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
プロポキシカルボニル、インプロポキシカルボニル、ブ
トキシカルボニル。
tert−ブトキシカルボニル、インボルニルオキシカ
ルボニルなどを,C1〜8アルコキシーカルボニルーC
1〜4アルキル基はメトキシカルボニルメチル、エトキ
シカルボニルメチル、tert ーメトキシカルボニル
メチルなどを,C6〜1oアリールオキシ−カルボニル
基はフェノキシカルボニルなどを,C3〜6シクロアル
キルオキシーカルボニル基はシクロプロピルオキシカル
ボニル。
ルボニルなどを,C1〜8アルコキシーカルボニルーC
1〜4アルキル基はメトキシカルボニルメチル、エトキ
シカルボニルメチル、tert ーメトキシカルボニル
メチルなどを,C6〜1oアリールオキシ−カルボニル
基はフェノキシカルボニルなどを,C3〜6シクロアル
キルオキシーカルボニル基はシクロプロピルオキシカル
ボニル。
シクロへキシルオキシカルボニル−1トに.c7〜1□
アラルキルオキシ−カルボニル基はベンジルオキシカル
ボニルなどを,06〜1oアリール−アシル基ハヘンゾ
イル,フタロイル、フェニルアセチルfxどを.C,〜
5アルカノイル 37ー アセチル、プロピオニル、フヂリル,バレリル。
アラルキルオキシ−カルボニル基はベンジルオキシカル
ボニルなどを,06〜1oアリール−アシル基ハヘンゾ
イル,フタロイル、フェニルアセチルfxどを.C,〜
5アルカノイル 37ー アセチル、プロピオニル、フヂリル,バレリル。
ピバロイルなどを,C2〜5アルカノイル−C1〜4ア
ルキル基はアヤチルメチル,■ーアセチルエチル、2−
アセチルエチルなどを,C3〜5アルケノイル基はアク
リロイル、タロトノイル、マレオイルなどを,C6〜1
oアリール−アシルオキシ基はベンゾイルオキシなどを
,C2〜5アルカノイルオキシ基はアセトキシ、プロピ
オニルオキシ、ブチリルオキシ、ピパロイルオキシなど
を,C2〜5アルカノイルオキシ−01〜4アルキル基
はアセトキシメチル、■ーアセトキシエチル、2−アセ
トキシエチルなどを,C,〜5アルケノイルオキシ基は
アクリロイルオキシなどを。
ルキル基はアヤチルメチル,■ーアセチルエチル、2−
アセチルエチルなどを,C3〜5アルケノイル基はアク
リロイル、タロトノイル、マレオイルなどを,C6〜1
oアリール−アシルオキシ基はベンゾイルオキシなどを
,C2〜5アルカノイルオキシ基はアセトキシ、プロピ
オニルオキシ、ブチリルオキシ、ピパロイルオキシなど
を,C2〜5アルカノイルオキシ−01〜4アルキル基
はアセトキシメチル、■ーアセトキシエチル、2−アセ
トキシエチルなどを,C,〜5アルケノイルオキシ基は
アクリロイルオキシなどを。
カルバモイル−
ルメチルなどを,置換カルバモイル基はN−メチルカル
バモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−エチル
カルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル ピペリジノカルボニル モルホリノカルボニル 38− キシ−C1〜4アルキル基はカルバモイルオキシメチル
などを、置換チオカルバモイル基はN−メチルチオカル
バモイルなどを、置換カルバモイルオキシ基はN−メチ
ルカルバモイルオキシN,N−ジメチルカルバモイルオ
キシ、N−エチルカルバモイルオキシ ノイルアミド基はアヤトアミド,プロピオンアミドなど
を,C6〜1oアリール−アシルアミド基はベンス゛ア
ミドなどを,01〜4アルコキシ−カルボニルアミ7基
はメトキシカルボニルアミノ。
バモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−エチル
カルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル ピペリジノカルボニル モルホリノカルボニル 38− キシ−C1〜4アルキル基はカルバモイルオキシメチル
などを、置換チオカルバモイル基はN−メチルチオカル
バモイルなどを、置換カルバモイルオキシ基はN−メチ
ルカルバモイルオキシN,N−ジメチルカルバモイルオ
キシ、N−エチルカルバモイルオキシ ノイルアミド基はアヤトアミド,プロピオンアミドなど
を,C6〜1oアリール−アシルアミド基はベンス゛ア
ミドなどを,01〜4アルコキシ−カルボニルアミ7基
はメトキシカルボニルアミノ。
エトキシカルボニルアミノ、tert−ブトキシカルボ
ニルアミノなどを,C6〜1oアリールオキシ−カルボ
ニルアミノ基はフエノキシ力ルボニルア三ノなトラ,C
7〜1。アラルキルオキシーカルポニルア三ノ基はベン
ジルオキシカルボニルアミノル基.C7〜1□アラルキ
ルオキシ基,C7〜、2アラルキルチオ基,C7〜12
アラルキルアミノ基,07〜12 アラルキルオキシ−
カルボニル基およびC7〜1。アラルキルオキシ−カル
ボニルアミノ基などのアラルキル基を構成するアルキル
基はもう1個のC6〜1oアリール基で置換されていて
もよく,具体的にはベンズヒドリル、ベンズヒドリルオ
キシ、ベンズヒドリルチオ、ベンズヒドリルアミノ、ベ
ンズヒドリルオキシカルボニル。
ニルアミノなどを,C6〜1oアリールオキシ−カルボ
ニルアミノ基はフエノキシ力ルボニルア三ノなトラ,C
7〜1。アラルキルオキシーカルポニルア三ノ基はベン
ジルオキシカルボニルアミノル基.C7〜1□アラルキ
ルオキシ基,C7〜、2アラルキルチオ基,C7〜12
アラルキルアミノ基,07〜12 アラルキルオキシ−
カルボニル基およびC7〜1。アラルキルオキシ−カル
ボニルアミノ基などのアラルキル基を構成するアルキル
基はもう1個のC6〜1oアリール基で置換されていて
もよく,具体的にはベンズヒドリル、ベンズヒドリルオ
キシ、ベンズヒドリルチオ、ベンズヒドリルアミノ、ベ
ンズヒドリルオキシカルボニル。
ベンズヒドリルオキシカルボニルアミノなどがあげられ
る。
る。
上記セフェム化合物CI)において■はピリジン環上に
さらに置換基を有していてもよいことを表わす。このよ
うな置換基は1個ないし同−捷たけ異なっていてもよい
2ないし4個の置換基で,前記のR5を示す含窒素芳香
族複素環の置換基として例示し,さらに具体的にあげた
ものがここでもそのま捷あてはめられる。まだ■はピリ
ジン環が他の脂環,芳香族環,複素環と縮合したものも
含む。これらの例としてはたとえば 41− などがあけられ、ピリジン環と縮合した脂環。
さらに置換基を有していてもよいことを表わす。このよ
うな置換基は1個ないし同−捷たけ異なっていてもよい
2ないし4個の置換基で,前記のR5を示す含窒素芳香
族複素環の置換基として例示し,さらに具体的にあげた
ものがここでもそのま捷あてはめられる。まだ■はピリ
ジン環が他の脂環,芳香族環,複素環と縮合したものも
含む。これらの例としてはたとえば 41− などがあけられ、ピリジン環と縮合した脂環。
芳香族環,複素環はさらに置換されていてもよい。この
ような置換基としては前記のR5を示す含窒素芳香族複
素環の置換基として例示し.さらに具体的にあげたもの
がここでもその捷まあてはめられるが,これらの他にオ
キソ基,チオキソ基,アルキリデン基(たとえばメチレ
ン。
ような置換基としては前記のR5を示す含窒素芳香族複
素環の置換基として例示し.さらに具体的にあげたもの
がここでもその捷まあてはめられるが,これらの他にオ
キソ基,チオキソ基,アルキリデン基(たとえばメチレ
ン。
エチリデン、インプロピリデンなど)などもあげられる
。
。
上記セフェム化合物〔I〕においてnは0またけ1を示
し、まだピリジン環の窒素原子に付した■と4位のカル
ボキシル基(−COO)K付したeは化合物CI)が分
子内でピリジニクムカルボキシレートなる塩を形成して
いる事を示す。
し、まだピリジン環の窒素原子に付した■と4位のカル
ボキシル基(−COO)K付したeは化合物CI)が分
子内でピリジニクムカルボキシレートなる塩を形成して
いる事を示す。
一方,化合物〔I〕は生理学約1たは薬学的に受容され
る塩もしくはエステルであってもよい。
る塩もしくはエステルであってもよい。
生理学的または薬学的に受容される塩としては無機塩基
塩.アンモニウム塩,有機塩基塩,無機酸付加塩,有機
酸付加塩,塩基性アミノ酸塩などがあげられる。無機塩
基塩を生成させうる42− 無機塩基としてはアルカリ金、罵(たとえばナトリウム
、カリウムなど)、アルカリ土類金属(たとえばカルシ
ウムなど)などが、有機塩基塩を生成させうる有機塩基
としてはたとえばプロ力イン、2−フェニルエチルベン
ジルアミン。
塩.アンモニウム塩,有機塩基塩,無機酸付加塩,有機
酸付加塩,塩基性アミノ酸塩などがあげられる。無機塩
基塩を生成させうる42− 無機塩基としてはアルカリ金、罵(たとえばナトリウム
、カリウムなど)、アルカリ土類金属(たとえばカルシ
ウムなど)などが、有機塩基塩を生成させうる有機塩基
としてはたとえばプロ力イン、2−フェニルエチルベン
ジルアミン。
シヘンジルエチレンジアミン、エタノールアミン、ジェ
タノールアミン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン
、ポリヒドロキシアルキルアミン、N−メチルグルコサ
ミンなどが、無機酸付加塩を生成させつる無機酸として
はたとえば塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸など
が。
タノールアミン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン
、ポリヒドロキシアルキルアミン、N−メチルグルコサ
ミンなどが、無機酸付加塩を生成させつる無機酸として
はたとえば塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸など
が。
有機酸付加塩を生成させうる有機酸吉してはたトエばp
−)ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ギ酸、トリ
フルオロ酢酸、マレイン酸などが、塩基性アミノ酸塩を
生成させうる塩基性アミノ酸としてはたとえばリジン、
アルギニン。
−)ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ギ酸、トリ
フルオロ酢酸、マレイン酸などが、塩基性アミノ酸塩を
生成させうる塩基性アミノ酸としてはたとえばリジン、
アルギニン。
オルニチン、ヒスチジンなどがあげられる。これらの塩
のうち塩基塩(すなわち無機塩基塩。
のうち塩基塩(すなわち無機塩基塩。
アシモニクム塩、有機塩基塩、塩基性アミノ酸塩)は化
合物〔I〕の置換基R3もしくはR5中にカルボキシル
基、スルホ基などの酸性基が存在する場合に形成しうる
塩基塩を意味し、酸付加塩(すなわち無機酸付加塩、有
機酸付加塩)は化合物〔■〕の置換基R3もしくはR5
中にアミン基。
合物〔I〕の置換基R3もしくはR5中にカルボキシル
基、スルホ基などの酸性基が存在する場合に形成しうる
塩基塩を意味し、酸付加塩(すなわち無機酸付加塩、有
機酸付加塩)は化合物〔■〕の置換基R3もしくはR5
中にアミン基。
モノアルキルアミ7基、ジアルキルアミノ基。
シクロアルキルアミノ基、アリールアミ7基。
アラルキルアミ7基、環状アミン基、含窒素複素環基な
どの塩基性基が存在する場合に形成しうる酸付加塩を意
味する。寸だ酸付加塩としては化合物〔■〕の分子内塩
を形成している部分。
どの塩基性基が存在する場合に形成しうる酸付加塩を意
味する。寸だ酸付加塩としては化合物〔■〕の分子内塩
を形成している部分。
て4位がカルボキシル基(COOH)、8位が示す。た
とえばタロライドイオン、ブロマイドイオン、スルフェ
ートイオン、p−トルエンスルホネートイオン、メタン
スルホネートイオン。
とえばタロライドイオン、ブロマイドイオン、スルフェ
ートイオン、p−トルエンスルホネートイオン、メタン
スルホネートイオン。
トリフルオロアセテートイオンなど〕となった塩も含ま
れる。化合物〔■〕のエステル誘導体は分子中に含まれ
るカルボキシル基をエステル化することにより生成され
うるエステルを意味し。
れる。化合物〔■〕のエステル誘導体は分子中に含まれ
るカルボキシル基をエステル化することにより生成され
うるエステルを意味し。
合成中間体表して利用できるエステルおよび代謝上不安
定な無毒のエステルである。合成中間体として利用でき
るエステルとしてはC0〜4アルキルエステル、C2〜
4アルケニルエステル。
定な無毒のエステルである。合成中間体として利用でき
るエステルとしてはC0〜4アルキルエステル、C2〜
4アルケニルエステル。
C3〜6シクロアルキルエステル、03〜6シクロアル
キルー〇 アルキルエステル、06〜、。ア1〜4 リールエステル、C7〜12アラルキルエステル。
キルー〇 アルキルエステル、06〜、。ア1〜4 リールエステル、C7〜12アラルキルエステル。
置換シリルエステルなどがあげられ、これらはさらに置
換されていてもよい。C1〜4アルキルエステルを形成
するアルキルとしては具体的にはメチル、エヂル、プロ
ピル、ブチル、tert −ブチルなどを、C2〜4ア
ルケニルエステルヲ形成するアルケニルとしては具体的
にはビニル。
換されていてもよい。C1〜4アルキルエステルを形成
するアルキルとしては具体的にはメチル、エヂル、プロ
ピル、ブチル、tert −ブチルなどを、C2〜4ア
ルケニルエステルヲ形成するアルケニルとしては具体的
にはビニル。
アリル、イソプロペニルなどを、03〜6シクロアルキ
ルエステルを形成するシクロアルキルとしては具体的に
はシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシルなどを。
ルエステルを形成するシクロアルキルとしては具体的に
はシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシルなどを。
Cシクロアルキル−C0〜4アルキルエステ3〜6
45−
ルを形成するアルキルとしては具体的にはシクロプロピ
ルメチル、シクロヘキシルメチルなどを、C6〜1oア
リールエステルを形成するアリールとしては具体的には
フェニルなどを、C7〜1□アラルキルエステルを形成
するアラルキルとしては具体的にはベンジル、フェネチ
ルなどを。
ルメチル、シクロヘキシルメチルなどを、C6〜1oア
リールエステルを形成するアリールとしては具体的には
フェニルなどを、C7〜1□アラルキルエステルを形成
するアラルキルとしては具体的にはベンジル、フェネチ
ルなどを。
置換シリルエステルを形成する置換シリルとしては具体
的にはトリメチルシリル、tert−ブチルジメチルシ
リルなどをそれぞれ表わす。またアラルキルエステルを
構成するアルキルはもう1〜2個の06〜1oアリール
で置換されていてもよく、具体的にはベンズヒドリルエ
ステル、トリチルエステルなどがあげられる。上記のエ
ステルには4位におけるエステルも含捷れる。このよう
な4位にエステル基を有する化合物の3を示す〕のよう
な分子内塩を形成している。代謝上不安定な無毒のエス
テルは経口投与が可能なエステルを意味し、このような
エステルとしてはペニシリン、セファロスポリンの分腎
です46− でに確立されているものが本発明においても便宜に採用
されうる。このような代謝」−不安定な無毒のエステル
としては、たとえばC□〜5アルカノイルオキシメチル
エステル、C1〜5アルカノイルオキシエチルエステル
、C0〜6アルコキシーCアルキルエステル、C1〜6
アルキル1〜4 チオ−C1〜4アルキルエステルなどがあげられ。
的にはトリメチルシリル、tert−ブチルジメチルシ
リルなどをそれぞれ表わす。またアラルキルエステルを
構成するアルキルはもう1〜2個の06〜1oアリール
で置換されていてもよく、具体的にはベンズヒドリルエ
ステル、トリチルエステルなどがあげられる。上記のエ
ステルには4位におけるエステルも含捷れる。このよう
な4位にエステル基を有する化合物の3を示す〕のよう
な分子内塩を形成している。代謝上不安定な無毒のエス
テルは経口投与が可能なエステルを意味し、このような
エステルとしてはペニシリン、セファロスポリンの分腎
です46− でに確立されているものが本発明においても便宜に採用
されうる。このような代謝」−不安定な無毒のエステル
としては、たとえばC□〜5アルカノイルオキシメチル
エステル、C1〜5アルカノイルオキシエチルエステル
、C0〜6アルコキシーCアルキルエステル、C1〜6
アルキル1〜4 チオ−C1〜4アルキルエステルなどがあげられ。
具体的にはアセトキシメチルエステル、■−アセトキシ
エチルエステル、1−アセトキシブチルエステル、2−
アセトキシエチルエステル。
エチルエステル、1−アセトキシブチルエステル、2−
アセトキシエチルエステル。
ピバロイルオキシメチルエステル、メトキシメチルエス
テル、エトキシメチルエステル、インプロポキシメチル
エステル、■−メトキシエチルエステル、1−エトキシ
エチルエステル、メチルチオメチルエステル、エチルチ
オメチルエステルなどがあげられる。本発明は上記エス
テル誘導体のほかに、生体内において化合物CI)に変
換される生理学的または薬学的に受容しうる化合物も包
含する。
テル、エトキシメチルエステル、インプロポキシメチル
エステル、■−メトキシエチルエステル、1−エトキシ
エチルエステル、メチルチオメチルエステル、エチルチ
オメチルエステルなどがあげられる。本発明は上記エス
テル誘導体のほかに、生体内において化合物CI)に変
換される生理学的または薬学的に受容しうる化合物も包
含する。
本発明の化合物〔■〕はスペクトルの広い抗菌活性を有
し2人および動物における病原性細菌により生ずる種々
の疾病、たとえば気道感染。
し2人および動物における病原性細菌により生ずる種々
の疾病、たとえば気道感染。
尿路感染の予防ならびに治療のために使用されうる。化
合物〔■〕の抗菌スペクトルの特徴としてつぎのような
点があげられる。
合物〔■〕の抗菌スペクトルの特徴としてつぎのような
点があげられる。
(1) 多種のグラム陰性菌に対して高い活性を示す。
(2)ダラム陽性菌(たとえばスフフィロコツカス・ア
ウレウス、コリネバクテリウム・ジフテリアエ々ど)に
対して高い活性を有している。
ウレウス、コリネバクテリウム・ジフテリアエ々ど)に
対して高い活性を有している。
(3) 通常のセファロスポリン系抗生物質による治療
に感受性でないシュクドモナス・エアルギノサに対して
高い活性を示す。
に感受性でないシュクドモナス・エアルギノサに対して
高い活性を示す。
(4)多くのβ−ラククマーゼ生生産性クラム陰性菌た
とえばエシェリヒア属、エンテロバククー属、セラチア
属、プロテウス属など)にヵい4うぃM、l!IIE□
5い6゜ (特にシュクドモナス属微生物に対しては従
来からアミカシン、ゲンタマイシンなどのアミ/グリコ
シド系抗生物質が用いられてきたが、化合物CI)はこ
れらのアミノグリコシド類に匹敵する抗菌力を示すばか
りでなく9人および動物に対する毒性がアミノグリコシ
ド類よりも格段に低いので、大きな利点を持っている。
とえばエシェリヒア属、エンテロバククー属、セラチア
属、プロテウス属など)にヵい4うぃM、l!IIE□
5い6゜ (特にシュクドモナス属微生物に対しては従
来からアミカシン、ゲンタマイシンなどのアミ/グリコ
シド系抗生物質が用いられてきたが、化合物CI)はこ
れらのアミノグリコシド類に匹敵する抗菌力を示すばか
りでなく9人および動物に対する毒性がアミノグリコシ
ド類よりも格段に低いので、大きな利点を持っている。
また本発明の化合物(I)は優れた安定性を有する。血
中濃度が高い、効果の持続時間が長い。
中濃度が高い、効果の持続時間が長い。
組織移行性が顕著であるなどの特徴をも有している。
本発明のセフェム化合物〔■〕、その塩型たはエステル
の製造法を以下に詳しく述べる。化合物CI)は公知ま
だは自体公知の(1)〜(3)にあげた8通りの方法で
製造できる。すなわち (1)一般式 〔式中の記号は前記上回意義を示す〕で表わされる化合
物またはその塩もしくはエステルと一般式 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる化合
物またはその反応性誘導体とを反応させるか。
の製造法を以下に詳しく述べる。化合物CI)は公知ま
だは自体公知の(1)〜(3)にあげた8通りの方法で
製造できる。すなわち (1)一般式 〔式中の記号は前記上回意義を示す〕で表わされる化合
物またはその塩もしくはエステルと一般式 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる化合
物またはその反応性誘導体とを反応させるか。
(2)一般式
〔式中、R1□は水酸基、アシルオキシ基、カルバモイ
ルオキシ基、置換カルバモイルオキシ基まだはハロゲン
原子を、その他の記号は前記と同意義を示す〕で表わさ
れる化合物捷たはそのリジン誘導体またはその塩とを反
応させるか。
ルオキシ基、置換カルバモイルオキシ基まだはハロゲン
原子を、その他の記号は前記と同意義を示す〕で表わさ
れる化合物捷たはそのリジン誘導体またはその塩とを反
応させるか。
捷たけ
50−
(3)一般式
〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる化合
物またはその塩もしくはエステルと一般式R二〇H〔式
中、R3′は置換されていてもよい炭化水素残基を示す
〕で表わされる化合物捷たはその反応性誘導体とを反応
させるか。
物またはその塩もしくはエステルと一般式R二〇H〔式
中、R3′は置換されていてもよい炭化水素残基を示す
〕で表わされる化合物捷たはその反応性誘導体とを反応
させるか。
したのち要すれば保護基の除去を行うことにより化合物
〔■〕を製造することができる。捷た化合物〔■〕のう
ちQがC−R2基であるものは以下に示す第4の製造法
によっても製造することができる。
〔■〕を製造することができる。捷た化合物〔■〕のう
ちQがC−R2基であるものは以下に示す第4の製造法
によっても製造することができる。
(4)一般式
〔式中、Xはハロゲン原子寸たはR65020で表わさ
れる基を、R6は低級アルキル基寸たは置換されていて
もよいフェニル基を、その他の記号は前記と同意義を示
す〕で表わされる化合物またはその塩もしくはエステル
と一般式R,C(−s ) NH2(式中、R1は前記
と同意義を示す〕で表わされる化合物とを反応させるか
、したのち要すれば保護基の除去を行うこ吉により化合
物(I)を製造することができる。製造法(1)〜(4
)、保護基除去法および化合物〔■〕の精製法について
順次説明を加える。
れる基を、R6は低級アルキル基寸たは置換されていて
もよいフェニル基を、その他の記号は前記と同意義を示
す〕で表わされる化合物またはその塩もしくはエステル
と一般式R,C(−s ) NH2(式中、R1は前記
と同意義を示す〕で表わされる化合物とを反応させるか
、したのち要すれば保護基の除去を行うこ吉により化合
物(I)を製造することができる。製造法(1)〜(4
)、保護基除去法および化合物〔■〕の精製法について
順次説明を加える。
製造法(1):
末法は7−アミノ化合物〔■〕をカルボン酸(III)
またはその反応性誘導体でアシル化する方法である。こ
の方法においてカルボン酸(III) ld遊離の1ま
あるいはその塩もしくは反応性誘導体が7−アミン化合
物〔旧の7位アミノ基のアシル化剤として用いられる。
またはその反応性誘導体でアシル化する方法である。こ
の方法においてカルボン酸(III) ld遊離の1ま
あるいはその塩もしくは反応性誘導体が7−アミン化合
物〔旧の7位アミノ基のアシル化剤として用いられる。
すなわち遊離酸[111)あるいは遊離酸〔■〕の無機
塩、有機塩、酸ハライド、酸アジド、酸無水物、混合酸
無水物。
塩、有機塩、酸ハライド、酸アジド、酸無水物、混合酸
無水物。
活性アミド、活性エステル、活性チオエステルなどの反
応性誘導体がアシル化反応に供される。
応性誘導体がアシル化反応に供される。
無機塩としてはアルカリ金属塩(たとえばナトリウム塩
、カリウム塩など)、アルカリ土類金属塩(たとえばカ
ルシウム塩など)などが、有機塩としてはたとえばトリ
メチルアミン塩、トリエチルアミン塩、tert−ブチ
ルジメチルアミン塩、ジベンジルメチルアミン塩、ベン
ジルジメチルアミン塩、N、N−ジメチルアニリン塩。
、カリウム塩など)、アルカリ土類金属塩(たとえばカ
ルシウム塩など)などが、有機塩としてはたとえばトリ
メチルアミン塩、トリエチルアミン塩、tert−ブチ
ルジメチルアミン塩、ジベンジルメチルアミン塩、ベン
ジルジメチルアミン塩、N、N−ジメチルアニリン塩。
ピリジン塩、キノリン塩などが、酸ハライドとしてはた
とえば酸クロライド、酸ブロマイドなどが、混合酸無水
物としてはモノC1〜4アルキル炭酸混合酸無水物(た
とえば遊離酸(lT[)とモノメチル炭酸、モノエチル
炭酸、モノイソプロピル炭酸、モノイソブチル炭酸、モ
ノtert−ブチル炭酸、モノベンジル炭酸、モノ(p
−二ト53− ロベンジル)炭酸、モノアリル炭酸などとの混合酸無水
物)、C0〜6脂肪族力ルボン酸混合酸無水物(たとえ
ば遊離酸〔■〕と酢酸、シアン酢酸、プロピオン酸、酪
酸、イソ酪酸、吉草酸。
とえば酸クロライド、酸ブロマイドなどが、混合酸無水
物としてはモノC1〜4アルキル炭酸混合酸無水物(た
とえば遊離酸(lT[)とモノメチル炭酸、モノエチル
炭酸、モノイソプロピル炭酸、モノイソブチル炭酸、モ
ノtert−ブチル炭酸、モノベンジル炭酸、モノ(p
−二ト53− ロベンジル)炭酸、モノアリル炭酸などとの混合酸無水
物)、C0〜6脂肪族力ルボン酸混合酸無水物(たとえ
ば遊離酸〔■〕と酢酸、シアン酢酸、プロピオン酸、酪
酸、イソ酪酸、吉草酸。
イソ吉草酸、ピバル酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ
酢酸、アセト酢酸などとの混合酸無水物)、C7〜1□
芳香族力ルボン酸混合酸無水物(たとえば遊離酸CDI
)と安息香酸、p−トルイル酸、p−クロロ安息香酸な
どとの混合酸無水物)、有機スルホン酸混合酸無水物(
たとえばメタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸などとの混合酸
無水物)などが、活性アミドとしては含窒素複素環化合
物とのアミド(たとえば遊離酸〔■〕とピラゾール、イ
ミダゾール、ベンゾトリアゾールなどとの酸アミドで、
これらの含窒素?jl環化合物は01〜4アルキル、C
1〜6アルコキシ、ハロゲン原子、オキソ、チオキソ、
C1〜67 /L/キルチオなどで置換されていてもよ
い)などがあげられる。活性エステルとしてはβ−ラ5
4− クタムおよびペプチド合成の分野でこの目的に用いられ
るものはすべて利用でき、たとえば有機リン酸エステル
(だとえはジェトキシリン酸エステル、ジフェノキシリ
ン酸エステルなど)のほかp−ニトロフェニルエステル
、2.4−ジニトロフェニルエステル、シアツメ−y−
ルx 7゜チル、ペンククロロフェニルエステル、N−
ヒドロキシフタルイミドエステル、N−ヒドロキシフタ
ルイミドエステル、1−ヒドロキシベンツトリアゾール
エステル、6−クロロ−1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ールエステル、1−ヒドロキシ−IH−2−ピリドンエ
ステルなどがあげられる。活性チオエステルとしては芳
香族複素環チオール化合物とのエステル(たとえハ2−
ヒ’J シルチオールエステル、2−ベンゾチアゾリ
ルチオールエステルなどで、これらの複素環はC3〜4
アルキル、C1〜6アルコキシ。
酢酸、アセト酢酸などとの混合酸無水物)、C7〜1□
芳香族力ルボン酸混合酸無水物(たとえば遊離酸CDI
)と安息香酸、p−トルイル酸、p−クロロ安息香酸な
どとの混合酸無水物)、有機スルホン酸混合酸無水物(
たとえばメタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸などとの混合酸
無水物)などが、活性アミドとしては含窒素複素環化合
物とのアミド(たとえば遊離酸〔■〕とピラゾール、イ
ミダゾール、ベンゾトリアゾールなどとの酸アミドで、
これらの含窒素?jl環化合物は01〜4アルキル、C
1〜6アルコキシ、ハロゲン原子、オキソ、チオキソ、
C1〜67 /L/キルチオなどで置換されていてもよ
い)などがあげられる。活性エステルとしてはβ−ラ5
4− クタムおよびペプチド合成の分野でこの目的に用いられ
るものはすべて利用でき、たとえば有機リン酸エステル
(だとえはジェトキシリン酸エステル、ジフェノキシリ
ン酸エステルなど)のほかp−ニトロフェニルエステル
、2.4−ジニトロフェニルエステル、シアツメ−y−
ルx 7゜チル、ペンククロロフェニルエステル、N−
ヒドロキシフタルイミドエステル、N−ヒドロキシフタ
ルイミドエステル、1−ヒドロキシベンツトリアゾール
エステル、6−クロロ−1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ールエステル、1−ヒドロキシ−IH−2−ピリドンエ
ステルなどがあげられる。活性チオエステルとしては芳
香族複素環チオール化合物とのエステル(たとえハ2−
ヒ’J シルチオールエステル、2−ベンゾチアゾリ
ルチオールエステルなどで、これらの複素環はC3〜4
アルキル、C1〜6アルコキシ。
ハロゲン原子、01〜6アルキルチオなどで置換されて
いてもよい)があげられる。一方、7−アミノ化合物(
II)は遊離のまま、その塩あるいはエステルとして用
いられる。化合物[ll]の塩としては無機塩基塩、ア
ンモニウム塩、有機塩基塩、無機酸付加塩、有機酸付加
塩などがあげられる。無機塩基塩としてはアルカリ金属
塩(たとえばナトリウム塩、カリウム塩など)、アルカ
リ土類金属塩(たとえばカルシウム塩など)などが、有
機塩基塩としてはたとえばトリノチルアミン塩、トリエ
チルアミン塩、tert−ブチルジメチルアミン塩、ジ
ベンジルメチルアミン塩、ベンジルジメチルアミン塩、
N、N−ジメチルアニリン塩、ピリジン塩、キノリン塩
なとか、無機酸付加塩としてはたとえば塩酸塩。
いてもよい)があげられる。一方、7−アミノ化合物(
II)は遊離のまま、その塩あるいはエステルとして用
いられる。化合物[ll]の塩としては無機塩基塩、ア
ンモニウム塩、有機塩基塩、無機酸付加塩、有機酸付加
塩などがあげられる。無機塩基塩としてはアルカリ金属
塩(たとえばナトリウム塩、カリウム塩など)、アルカ
リ土類金属塩(たとえばカルシウム塩など)などが、有
機塩基塩としてはたとえばトリノチルアミン塩、トリエ
チルアミン塩、tert−ブチルジメチルアミン塩、ジ
ベンジルメチルアミン塩、ベンジルジメチルアミン塩、
N、N−ジメチルアニリン塩、ピリジン塩、キノリン塩
なとか、無機酸付加塩としてはたとえば塩酸塩。
臭化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩などが、有機
酸付加塩としてはギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩
、メタンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩など
があげられる。化合物CII)のエステルとして化合物
〔■〕のエステル誘導体としてすでに述べたエステルが
ここでも (その捷まあけられる。すなわちC3〜4ア
ルキルエステル、02〜4アルケニルエステル、C3〜
6シクロアルキルエステル、C3,6シクロアルキルー
〇 アルキルエステル、06〜1oアリール1〜4 エステル、07〜12アラルキルエステル、01〜5ア
ルカノイルオキシメチルエステル、Cエル5アルカノイ
ルオキシエチルエステル がさらに水酸基,01〜6アルコキシ基,ハロゲン原子
,ニトロ基,シア/基,メルカプト基。
酸付加塩としてはギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩
、メタンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩など
があげられる。化合物CII)のエステルとして化合物
〔■〕のエステル誘導体としてすでに述べたエステルが
ここでも (その捷まあけられる。すなわちC3〜4ア
ルキルエステル、02〜4アルケニルエステル、C3〜
6シクロアルキルエステル、C3,6シクロアルキルー
〇 アルキルエステル、06〜1oアリール1〜4 エステル、07〜12アラルキルエステル、01〜5ア
ルカノイルオキシメチルエステル、Cエル5アルカノイ
ルオキシエチルエステル がさらに水酸基,01〜6アルコキシ基,ハロゲン原子
,ニトロ基,シア/基,メルカプト基。
C1〜6アルキルチオ基,オキソ基,チオキソ基などで
置換されたものなどがあげられる。原料物質〔旧その塩
およびエステル、原料物質(IIDおよびその反応性誘
導体はいずれも公知の方法またはそれに準する方法によ
って容易に製造できる。化合物c■〕の反応性誘導体は
反応混合物から単離された物質として,捷たは単離前の
化合物〔11)の反応性誘導体を含有する反応混合物を
そのま1化合物〔■〕と反応させることができる。カル
ボン酸(111〕を遊離酸1だは塩の状態で使用する場
合は適当な縮合剤を用いる。縮合剤としてはたとえばN
,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどのN,N
’−ジ置換カルボシイ57− ミド類,たとえばN,N’−カルボニルジイミダゾール キシカルボニル−2−エトキシ−1,2−ジヒドロキノ
リン、オキシ塩化リン、アルコキシアセチレンなどの脱
水剤,たとえば2−タロロピリジニクムメチルアイオダ
イド,2−フルオロピリジニクムメチルアイオダイドな
どの2−ハロゲノピリジニクム塩類などが用いられる。
置換されたものなどがあげられる。原料物質〔旧その塩
およびエステル、原料物質(IIDおよびその反応性誘
導体はいずれも公知の方法またはそれに準する方法によ
って容易に製造できる。化合物c■〕の反応性誘導体は
反応混合物から単離された物質として,捷たは単離前の
化合物〔11)の反応性誘導体を含有する反応混合物を
そのま1化合物〔■〕と反応させることができる。カル
ボン酸(111〕を遊離酸1だは塩の状態で使用する場
合は適当な縮合剤を用いる。縮合剤としてはたとえばN
,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどのN,N
’−ジ置換カルボシイ57− ミド類,たとえばN,N’−カルボニルジイミダゾール キシカルボニル−2−エトキシ−1,2−ジヒドロキノ
リン、オキシ塩化リン、アルコキシアセチレンなどの脱
水剤,たとえば2−タロロピリジニクムメチルアイオダ
イド,2−フルオロピリジニクムメチルアイオダイドな
どの2−ハロゲノピリジニクム塩類などが用いられる。
これらの縮合剤を用いた場合,反応はカルボン酸〔■〕
の反応性誘導体を経て進行すると考えられる。反応は一
般に溶媒中で行われ,反応を阻害しない溶媒が適宜に選
択される。このような溶媒としてはたとえばジオキサン
、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−
フチルメチルエーテル,ジイソプロピルエーテル、エチ
レングリコール−ジメチルエーテルなどのエーテル類,
たとえばギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエ
ステル類,たとえばジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素,トリクレン。
の反応性誘導体を経て進行すると考えられる。反応は一
般に溶媒中で行われ,反応を阻害しない溶媒が適宜に選
択される。このような溶媒としてはたとえばジオキサン
、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−
フチルメチルエーテル,ジイソプロピルエーテル、エチ
レングリコール−ジメチルエーテルなどのエーテル類,
たとえばギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエ
ステル類,たとえばジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素,トリクレン。
1、2−ジクロロエタン々どのハロゲン化炭化58−
水素類、たとえばn−ヘキサン、ベンゼン、トルエンな
どの炭化水素類、たとえばホルムアミド、N、N−ジブ
チルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミドなど
のアミド類、たとえばアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトンなどのケトン類、たとえばアセ
トニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類などの
ほか、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ヘキサメチ
ルホスホルアミド、水などが単独または混合溶媒として
用いられる。アシル化剤〔■〕の使用量は化合物〔旧1
モルに対して通常1〜5モル、好ましくは1〜2モルで
ある。
どの炭化水素類、たとえばホルムアミド、N、N−ジブ
チルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミドなど
のアミド類、たとえばアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトンなどのケトン類、たとえばアセ
トニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類などの
ほか、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ヘキサメチ
ルホスホルアミド、水などが単独または混合溶媒として
用いられる。アシル化剤〔■〕の使用量は化合物〔旧1
モルに対して通常1〜5モル、好ましくは1〜2モルで
ある。
反応は一80〜80’C,好ましくは一40〜50°C
9最も釘型しくけ一80〜30°Cの温度範囲で行われ
る。反応時間は化合物〔旧およびC11lの種類、溶媒
の種類(混合溶媒の場合はその混合比も)2反応温度な
どに依存し2通常1分〜72時間、好捷しくけ15分〜
3時間である。
9最も釘型しくけ一80〜30°Cの温度範囲で行われ
る。反応時間は化合物〔旧およびC11lの種類、溶媒
の種類(混合溶媒の場合はその混合比も)2反応温度な
どに依存し2通常1分〜72時間、好捷しくけ15分〜
3時間である。
アシル化剤として酸ハライドを用いた場合は放出される
ハロゲン化水素を反応系から除去する目的で脱酸剤の存
在下に反応を行うことができる。このような脱酸剤とし
てはたとえば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カル
シウム、炭酸水素す) l)クムなどの無機塩基、たと
えばトリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、シクロへキシルジメチルアミン。
ハロゲン化水素を反応系から除去する目的で脱酸剤の存
在下に反応を行うことができる。このような脱酸剤とし
てはたとえば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カル
シウム、炭酸水素す) l)クムなどの無機塩基、たと
えばトリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、シクロへキシルジメチルアミン。
ピリジン、ルチジン、γ−コリジン、N、N−ジメチル
アニリン、N−メチルピペジリン、N−メチルピロリジ
ン、N−メチルモルホリンなどの第3級アミン、たとえ
ばプロピレンオキシド、エピクロルヒドリンなどのアル
キレンオキシド類などがあげられる。
アニリン、N−メチルピペジリン、N−メチルピロリジ
ン、N−メチルモルホリンなどの第3級アミン、たとえ
ばプロピレンオキシド、エピクロルヒドリンなどのアル
キレンオキシド類などがあげられる。
製造法(2):
不法はセフェム化合物〔■〕に対してピリジンより化合
物〔■〕を合成する方法である。化合物(IV)におい
てR1□は水酸基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、置換カルバモイルオキシ基型りはハロゲン原子を
示す。ここでアシルオキシ基は置換されていてもよい0
2〜5アルカノイルオキシ基、捷たけ06〜1oアリー
ル−アシルオキシ基を表わし、置換されていてもよいC
8アルカノイルオキシ基としては具体的にはアセトキシ
、夕ロロアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオ
キシ、ピバロイルオキシ、8−オキソブチリルオキシ、
4・−クロロ−3−オキソブチリルオキシ、3−カルボ
キシプロピオニルオキシ、4−ガルボキシブチリルオキ
シ、3−エトキシ力ルパモイルプロピオニルオキシなど
が、置換されていてもよいC6〜、。アリール−アシル
オキシ基としては具体的には0−カルボキシベンゾイル
オキシ、0−(エトキシカルボニルカルバモイル エトキシカルポニ!レスルファモイル)ペンツイルオキ
シなどがあげられる。置換カルバモイルオキシ基として
は具体的にはメチル力ルパモイ61− ルオキシ,N,Nージメチルカルバモイルオキシ素,臭
素,ヨウ素などがあげられる。化合物(TV)は遊離の
!!ま,その塩あるいはエステルとして用いられる。化
合物〔■〕の塩.エステルとしては製造法(])におい
て化合物〔■〕の塩,エステルとしてあげたものがここ
でもその!.捷あてはめられる。化合物〔■〕、その塩
およびエステルはそれ自体公知の方法捷たはそれに準す
る方法によって容易に製造できる。一方、求核試薬塩と
してはたとえば塩酸塩,臭化水素酸塩,硫酸塩,硝酸塩
,リン酸塩などの無機酸付加塩。
物〔■〕を合成する方法である。化合物(IV)におい
てR1□は水酸基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、置換カルバモイルオキシ基型りはハロゲン原子を
示す。ここでアシルオキシ基は置換されていてもよい0
2〜5アルカノイルオキシ基、捷たけ06〜1oアリー
ル−アシルオキシ基を表わし、置換されていてもよいC
8アルカノイルオキシ基としては具体的にはアセトキシ
、夕ロロアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオ
キシ、ピバロイルオキシ、8−オキソブチリルオキシ、
4・−クロロ−3−オキソブチリルオキシ、3−カルボ
キシプロピオニルオキシ、4−ガルボキシブチリルオキ
シ、3−エトキシ力ルパモイルプロピオニルオキシなど
が、置換されていてもよいC6〜、。アリール−アシル
オキシ基としては具体的には0−カルボキシベンゾイル
オキシ、0−(エトキシカルボニルカルバモイル エトキシカルポニ!レスルファモイル)ペンツイルオキ
シなどがあげられる。置換カルバモイルオキシ基として
は具体的にはメチル力ルパモイ61− ルオキシ,N,Nージメチルカルバモイルオキシ素,臭
素,ヨウ素などがあげられる。化合物(TV)は遊離の
!!ま,その塩あるいはエステルとして用いられる。化
合物〔■〕の塩.エステルとしては製造法(])におい
て化合物〔■〕の塩,エステルとしてあげたものがここ
でもその!.捷あてはめられる。化合物〔■〕、その塩
およびエステルはそれ自体公知の方法捷たはそれに準す
る方法によって容易に製造できる。一方、求核試薬塩と
してはたとえば塩酸塩,臭化水素酸塩,硫酸塩,硝酸塩
,リン酸塩などの無機酸付加塩。
たとえばギ酸塩,酢酸塩,トリフルオロ酢酸塩。
メタンスルホン酸Lp−)ルエンスルホン酸塩などの有
機酸付加塩などがあげられる請求核献記載の方法または
それに準する方法によって容易に製造できる〔たとえば
V 、 J 、Bauer,H.P。
機酸付加塩などがあげられる請求核献記載の方法または
それに準する方法によって容易に製造できる〔たとえば
V 、 J 、Bauer,H.P。
Dalalian, W. J. Fanshawe
and S. R. Safir, J 、 Med。
and S. R. Safir, J 、 Med。
62−
Chem、、11.98]、 084.(1968)な
ど〕。上記のピリジン誘導体による化合物(IV)への
本末核置換反応はそれ自体よく知られた反応であって。
ど〕。上記のピリジン誘導体による化合物(IV)への
本末核置換反応はそれ自体よく知られた反応であって。
通常溶媒中で行なわれる。この反応に用いられる溶媒と
しては製造法(])で使用されるエーテル類、エステル
類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、アミド類、ケ
トシ類、ニトリル類、水などの溶媒がそのま捷あてはめ
られるが、これらのほかにたとえばメタノール、エタノ
ール。
しては製造法(])で使用されるエーテル類、エステル
類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、アミド類、ケ
トシ類、ニトリル類、水などの溶媒がそのま捷あてはめ
られるが、これらのほかにたとえばメタノール、エタノ
ール。
プロパツール、インプロパツール、エチレングリコール
、2−メトキシエタノールなどのアルコール類も用いら
れる。
、2−メトキシエタノールなどのアルコール類も用いら
れる。
(2−1):R,、がアシルオキシ基、カルバモイルオ
キシ基、置換カルバモイルオキシ基の場合より好ましい
溶媒は水もしくは水と混合しうる有機溶媒と水との混合
溶媒で、水と混合しうる有機溶媒のうち、より好ましい
ものはアセトン、メヂルエチルケトン、アセトニトリル
々どである請求核試薬の使用量は化合物〔■〕1モルに
対して通常1〜5モル、好ましくは1〜3モルである。
キシ基、置換カルバモイルオキシ基の場合より好ましい
溶媒は水もしくは水と混合しうる有機溶媒と水との混合
溶媒で、水と混合しうる有機溶媒のうち、より好ましい
ものはアセトン、メヂルエチルケトン、アセトニトリル
々どである請求核試薬の使用量は化合物〔■〕1モルに
対して通常1〜5モル、好ましくは1〜3モルである。
反応は10〜100°C1好捷しくは30〜80℃の温
度範囲で行なわれる。反応時間は化合物rlV1および
核試薬の種類、溶媒の種類(混合溶媒の場合はその混合
比)1反応温度などに依存し 通常30分〜5日間、好
ましくは1〜5時間である。反応はpH2〜8.釘型し
くけ中性付近すなわちpH5〜8で行なうのが有利であ
る。また本反応は通常2〜30当量のヨウ化物捷たはチ
オジアジ酸塩の存在下でより容易に進行する。このよう
な塩としてはヨウ化カリウム、ヨウ化カリウム、チオシ
アン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウムなどがあげら
れる。上記の塩のほか。
度範囲で行なわれる。反応時間は化合物rlV1および
核試薬の種類、溶媒の種類(混合溶媒の場合はその混合
比)1反応温度などに依存し 通常30分〜5日間、好
ましくは1〜5時間である。反応はpH2〜8.釘型し
くけ中性付近すなわちpH5〜8で行なうのが有利であ
る。また本反応は通常2〜30当量のヨウ化物捷たはチ
オジアジ酸塩の存在下でより容易に進行する。このよう
な塩としてはヨウ化カリウム、ヨウ化カリウム、チオシ
アン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウムなどがあげら
れる。上記の塩のほか。
たとえばトリメチルベンジルアンモニウムプロマイト、
トリエチルベンジルアンモニウムプロマイF、)リエチ
ルベンジルアンモニウムヒドロキサイドのような界面活
性作用を有する第4級アンモニウム塩を添加することに
よって反応を円滑に進行させうる場合もあ、。 ((2
−2):R1□が水酸基の場合 たとえば日本国公開特許公報昭58−43979などに
記載された方法にしたがって有機リン化合物の存在下に
行う。ここで用いられる有機リン化合物としてはたさえ
ば0−フェニレンホスホロクロリゾエイト、o−フェニ
レンホスホロクロリゾエイト、メチル0−フェニンンホ
スフエイト、エチル0−フェニレンホスフェイト、プロ
ピル 0−フェニレンホスフェイト、イソプロピル 0
−7エニレンホスフエイト、ブチル 0−フェニレンホ
スフェイト、イソブチル O−フェニレンホスフエイ)
、5CC−ブチル 0−フェニレンホスフェイト、シク
ロヘキシル 0−フェニレンホスフェイト、フェニル
0−フェニレンホスフェイト、p−vクロフェニル 0
−フェニレンホスフェイト。
トリエチルベンジルアンモニウムプロマイF、)リエチ
ルベンジルアンモニウムヒドロキサイドのような界面活
性作用を有する第4級アンモニウム塩を添加することに
よって反応を円滑に進行させうる場合もあ、。 ((2
−2):R1□が水酸基の場合 たとえば日本国公開特許公報昭58−43979などに
記載された方法にしたがって有機リン化合物の存在下に
行う。ここで用いられる有機リン化合物としてはたさえ
ば0−フェニレンホスホロクロリゾエイト、o−フェニ
レンホスホロクロリゾエイト、メチル0−フェニンンホ
スフエイト、エチル0−フェニレンホスフェイト、プロ
ピル 0−フェニレンホスフェイト、イソプロピル 0
−7エニレンホスフエイト、ブチル 0−フェニレンホ
スフェイト、イソブチル O−フェニレンホスフエイ)
、5CC−ブチル 0−フェニレンホスフェイト、シク
ロヘキシル 0−フェニレンホスフェイト、フェニル
0−フェニレンホスフェイト、p−vクロフェニル 0
−フェニレンホスフェイト。
1)−7セチルフエニル 0−7エニレンホスフエイ)
、2−10ロエチル 0−フェニレンホスフェイト、2
,2.2−)リクロロエチル0−フェニレンホスフェイ
ト、エトキシカルボニルメチル 0−フェニレンホスフ
ェイト、カルバモイルメチル 0−フエニレンホスフエ
イ65− ト、2−シアノエチル 0−フェニレンホスフェイト、
2−メチルスルホニルエチル 0−フェニレンホスフェ
イト、ベンジル 0−フェニレンホスフェイト、1.、
l−ジメチル−2−プロペニル 0−フェニレンホスフ
ェイト、2−プロペニル 0−フェニレンホスフェイト
、3−メチル−2−ブテニル 0−フェニレンホスフェ
イト、2−チェニルメチル 0−フェニレンホスフェイ
ト、2−フルフリルメチル 0−フェニレンホスフェイ
ト、ビスー〇−フェニレンピロホスフェイト、2−フェ
ニル−1,3゜2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オ
キシド。
、2−10ロエチル 0−フェニレンホスフェイト、2
,2.2−)リクロロエチル0−フェニレンホスフェイ
ト、エトキシカルボニルメチル 0−フェニレンホスフ
ェイト、カルバモイルメチル 0−フエニレンホスフエ
イ65− ト、2−シアノエチル 0−フェニレンホスフェイト、
2−メチルスルホニルエチル 0−フェニレンホスフェ
イト、ベンジル 0−フェニレンホスフェイト、1.、
l−ジメチル−2−プロペニル 0−フェニレンホスフ
ェイト、2−プロペニル 0−フェニレンホスフェイト
、3−メチル−2−ブテニル 0−フェニレンホスフェ
イト、2−チェニルメチル 0−フェニレンホスフェイ
ト、2−フルフリルメチル 0−フェニレンホスフェイ
ト、ビスー〇−フェニレンピロホスフェイト、2−フェ
ニル−1,3゜2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オ
キシド。
2−(p−タロロフェニル)−1,8,2−ベンゾジオ
キサホスホ−ルー2−オキシド、2−プチルー1.J
2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド、2−ア
ニリノ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−
オキシド。
キサホスホ−ルー2−オキシド、2−プチルー1.J
2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド、2−ア
ニリノ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−
オキシド。
2−フェニルチオ−1,3,2−ペンツジオキサホスホ
−ルー2−オキシド、2−メトキシ−5−メチル−1,
8,2−ペンゾジオキサホス66− ホール−2−オキシド、2−クロロ−5−エトキシカル
ボニル− ホスホ−ルー2−オキシド、2−メトキシ−5−エトキ
シカルボニル− オキサホスホ−ルー2−オキシド、5−エトキシカルボ
ニル−2−フェニル−1.、3.2−ベンゾジオキサホ
スホ−ルー2−オキシド、2。
−ルー2−オキシド、2−メトキシ−5−メチル−1,
8,2−ペンゾジオキサホス66− ホール−2−オキシド、2−クロロ−5−エトキシカル
ボニル− ホスホ−ルー2−オキシド、2−メトキシ−5−エトキ
シカルボニル− オキサホスホ−ルー2−オキシド、5−エトキシカルボ
ニル−2−フェニル−1.、3.2−ベンゾジオキサホ
スホ−ルー2−オキシド、2。
5−ジクロロ−1.、3.2−ベンゾジオキサホスホ−
ルー2−オキシド、4−クロロ−2−メトキシ−1,3
.2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド、2−
メトキシ−4−メチル−1.3.2−ペンツジオキサホ
スホ−ルー2−オキシド、2,3−ナフクレンメチルホ
スフエイト,5,6−シメチルー2−メトキシ−l。
ルー2−オキシド、4−クロロ−2−メトキシ−1,3
.2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド、2−
メトキシ−4−メチル−1.3.2−ペンツジオキサホ
スホ−ルー2−オキシド、2,3−ナフクレンメチルホ
スフエイト,5,6−シメチルー2−メトキシ−l。
3、2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド、2
,2−ジヒドロ−4.5,6.7−チトラクロロー2.
2.2−)ジメトキシ−1。
,2−ジヒドロ−4.5,6.7−チトラクロロー2.
2.2−)ジメトキシ−1。
3、2−ペンツジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ
−4.5,6,、7−チトラクロロー2。
−4.5,6,、7−チトラクロロー2。
2、2−トリフエノキシ−1.3.2−ベンゾ6フー
ジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−2。
2−エチレンジオキシ−2−メトキシ−1.3。
2−ベンゾジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ−2
−ベンジル−2,2−ジメトキシ−1。
−ベンジル−2,2−ジメトキシ−1。
8、2−ベンゾジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ
−4.5−ベンゾ−2.2.2−)ジメトキシ−1.3
.2ーベンゾジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ−
2.2.2−)リフエノキシ−1.3.2−ベンゾジオ
キサホスホール、2,2−ジヒドロ−2.2−(o−フ
ェニレンジオキシ)−2−フェノキシ−1,8。
−4.5−ベンゾ−2.2.2−)ジメトキシ−1.3
.2ーベンゾジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ−
2.2.2−)リフエノキシ−1.3.2−ベンゾジオ
キサホスホール、2,2−ジヒドロ−2.2−(o−フ
ェニレンジオキシ)−2−フェノキシ−1,8。
2−ベンゾジオキサホスホール、2−クロロ−2、2−
ジヒドロ−2.2−(0−フェニレンジオキシ)−1.
3.2−ベンゾジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ
−2−メトキシ−2。
ジヒドロ−2.2−(0−フェニレンジオキシ)−1.
3.2−ベンゾジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ
−2−メトキシ−2。
2−(o−フェニレンジオキシ)−1,a,2−ベンゾ
ジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ−2.2.2−
)リクロロー1.3.2ーベンゾジオキサホスホール、
9.10−フェナンスレンジオキシトリメトキシホスホ
ラス、0 −68− フエニレンホスホロクロリダイト,0−フェニレンホス
ホロプロミグイト、0−フエニレンホスホ口フロリダイ
ト,メチル 0−フェニレンホスファイト、ブチル 0
−フェニレンホスファイト、メトキシカルボニルメチル ニレンホスファイト、フェニル 0−フェニレンホスフ
ァイト、p−クロロ(マたはp−ニトロ)フェニル O
−フェニレンホスファイト。
ジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ−2.2.2−
)リクロロー1.3.2ーベンゾジオキサホスホール、
9.10−フェナンスレンジオキシトリメトキシホスホ
ラス、0 −68− フエニレンホスホロクロリダイト,0−フェニレンホス
ホロプロミグイト、0−フエニレンホスホ口フロリダイ
ト,メチル 0−フェニレンホスファイト、ブチル 0
−フェニレンホスファイト、メトキシカルボニルメチル ニレンホスファイト、フェニル 0−フェニレンホスフ
ァイト、p−クロロ(マたはp−ニトロ)フェニル O
−フェニレンホスファイト。
2−フェニル−1,3.2−ペンツジオキサホスホール
、ビスー〇ーフェニレンピロホスファイト、2−メトキ
シ−5−メチル−1.8.2−ベンゾジオキサホスホー
ル、5−アセチル−2−フェノキシ−1.3.2−ベン
ゾジオキサホスホール、9.10−フエナンスレンホス
ホロクロリダイト,2−クロロ−4−メチル−1。
、ビスー〇ーフェニレンピロホスファイト、2−メトキ
シ−5−メチル−1.8.2−ベンゾジオキサホスホー
ル、5−アセチル−2−フェノキシ−1.3.2−ベン
ゾジオキサホスホール、9.10−フエナンスレンホス
ホロクロリダイト,2−クロロ−4−メチル−1。
8、2−ベニ/ゾジオキサホスホール,5ーエトキシカ
ルボニル− ペンツジオキサホスホール、2−クロロ−2−チオキソ
−1.、3.2−ベンゾジオキサホスホール、2−フェ
ノキシ−2−オキソ−1,3。
ルボニル− ペンツジオキサホスホール、2−クロロ−2−チオキソ
−1.、3.2−ベンゾジオキサホスホール、2−フェ
ノキシ−2−オキソ−1,3。
=69−
2−ベンゾジアザホスホール、2−フェノキシ−1.3
.2−ベンゾオキサアザホスホール。
.2−ベンゾオキサアザホスホール。
2、8−ジヒドロ−2−オキソ−2−メトキシ−4,5
−ジメチル−1.3.2−ジオキサホスホール、2,2
−ジヒドロ−2−オキソ−2−クロロ−4,5−ジメチ
ル−1.3.2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−2−(l−イミダゾリル)−4.5−
ジメチル−1.8.2−ジオキサホスホール、2。
−ジメチル−1.3.2−ジオキサホスホール、2,2
−ジヒドロ−2−オキソ−2−クロロ−4,5−ジメチ
ル−1.3.2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−2−(l−イミダゾリル)−4.5−
ジメチル−1.8.2−ジオキサホスホール、2。
2−ジヒドロ−2.2−エチレンジオキシ−2−メトキ
シ−4.5−ジメチル−1.8.2−ジオキサホスホー
ル、2.2−ジヒドロ−2。
シ−4.5−ジメチル−1.8.2−ジオキサホスホー
ル、2.2−ジヒドロ−2。
2−ジメトキシ−2−フェノキシ−4,5−ジメチル−
1.3.2−ジオキサホスホール、2。
1.3.2−ジオキサホスホール、2。
2−ジヒドロ−2.2.2−トリメトキシ−4。
5−ジメチル−1.8’,2−ジオキサホスホール、2
.2−ジヒドロ−2,’2.2−)リフエノキシ−4,
5−ジメチル−1.8.2−ジオキサホスホール、2,
2−ジヒドロ−2.2。
.2−ジヒドロ−2,’2.2−)リフエノキシ−4,
5−ジメチル−1.8.2−ジオキサホスホール、2,
2−ジヒドロ−2.2。
2−トリエトキシ−4,5−ジフェニル−1。
70−
3.2−ジオキヅホスホール、2,2−ジヒドロ−2,
2,2−トリノトギシー4,5−ジフェニル−1,,8
,2−ジオキサホスホール、2゜2−ジヒドロ−2−オ
キソ−2−メトキシ−先5−ジフェニルー1.3.2−
ジオキサホスホール、2,2〜ジヒドロ−2,2,2−
トリメトキシ−1,3,2−ジオキサホスホール、2゜
2−ジヒドロ−2,2,,2−1,リフトキシ−4−フ
ェニル−1,3,2−ジオキサホスホール。
2,2−トリノトギシー4,5−ジフェニル−1,,8
,2−ジオキサホスホール、2゜2−ジヒドロ−2−オ
キソ−2−メトキシ−先5−ジフェニルー1.3.2−
ジオキサホスホール、2,2〜ジヒドロ−2,2,2−
トリメトキシ−1,3,2−ジオキサホスホール、2゜
2−ジヒドロ−2,2,,2−1,リフトキシ−4−フ
ェニル−1,3,2−ジオキサホスホール。
2.2−ジヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−4−メ
チル−1,,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジ
ヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−4−メチル−5−
フェニルカルバモイル−1,3,2−ジオキサホスホー
ル、2,2゜4.5,6.7−へキサヒドロ−2,2,
2−トリメトキシ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホ
ール、2.2’−オキシビス(4,5−ジメチル−2,
2−ジヒドロ−1,,3,2−ジオキサホスホール)、
2.2’−オキシビス(4,5−ジメチル−2,2−ジ
ヒドロ−1,3,2−ジオキサホスホ−ルー2−オキシ
ド)などかあけられる。反応に用いる溶媒は反応を阻害
しないものであればよく、釘型しくけ前記したエーテル
類、エステル類、ハロゲン化炭化水素類。
チル−1,,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジ
ヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−4−メチル−5−
フェニルカルバモイル−1,3,2−ジオキサホスホー
ル、2,2゜4.5,6.7−へキサヒドロ−2,2,
2−トリメトキシ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホ
ール、2.2’−オキシビス(4,5−ジメチル−2,
2−ジヒドロ−1,,3,2−ジオキサホスホール)、
2.2’−オキシビス(4,5−ジメチル−2,2−ジ
ヒドロ−1,3,2−ジオキサホスホ−ルー2−オキシ
ド)などかあけられる。反応に用いる溶媒は反応を阻害
しないものであればよく、釘型しくけ前記したエーテル
類、エステル類、ハロゲン化炭化水素類。
炭化水素類、アミド類、ケトン類、ニトリル類などが単
独捷たは混合溶媒として用いられる。
独捷たは混合溶媒として用いられる。
とりわけ、たとえばジクロロメタン、アセトニトリル、
ホルムアミド、ホルムアミドとアセトニトリルの混合溶
媒、ジクロロメタンとアセトニトリルの混合溶媒などを
使用すると好効果が得られる請求核試薬および有機リン
化合物の使用量は化合物〔■〕1モルに対してそれぞれ
1〜5モル、1〜10モル、より好ましくはそれぞれ1
〜8モル、1〜6モルである。反応は一8θ〜50°C
9好1しくは一40〜40°Cの温度範囲で行なわれる
。反応時間は通常1分〜15時間、好ましくは5分〜2
時間である。反応系に有機塩基を添加してもよい。この
ような有機 1塩基としてはたとえばトリエチルアミン
、トリブチルアミン、ジブチルアミン、ジイソブチルア
ミン、ジシクロヘキシルアミン、2,6−ルチジンなど
のアミン類があげられる。塩基の添加量は化合物〔■〕
1モルに対して1〜5モルがよい。
ホルムアミド、ホルムアミドとアセトニトリルの混合溶
媒、ジクロロメタンとアセトニトリルの混合溶媒などを
使用すると好効果が得られる請求核試薬および有機リン
化合物の使用量は化合物〔■〕1モルに対してそれぞれ
1〜5モル、1〜10モル、より好ましくはそれぞれ1
〜8モル、1〜6モルである。反応は一8θ〜50°C
9好1しくは一40〜40°Cの温度範囲で行なわれる
。反応時間は通常1分〜15時間、好ましくは5分〜2
時間である。反応系に有機塩基を添加してもよい。この
ような有機 1塩基としてはたとえばトリエチルアミン
、トリブチルアミン、ジブチルアミン、ジイソブチルア
ミン、ジシクロヘキシルアミン、2,6−ルチジンなど
のアミン類があげられる。塩基の添加量は化合物〔■〕
1モルに対して1〜5モルがよい。
(2−3)”’IIがハロゲン原子の場合好ましい溶媒
は前記のエーテル類、エステル類、ハロゲン化炭fヒ水
素類、炭化水素類、アミド類、ケトン類、ニトリル類、
アルコール類。
は前記のエーテル類、エステル類、ハロゲン化炭fヒ水
素類、炭化水素類、アミド類、ケトン類、ニトリル類、
アルコール類。
水などである請求核試薬の使用量は化合物(IV)1モ
ルに対して通常1〜5モル、好ましくは1〜3モルであ
る。反応は0〜80°C1好ましくは20〜60°Cの
温度範囲で行なわれる。反応時間は通常30分〜15時
間、釘型しくは】〜5時間である。反応を促進するため
脱ハロゲン剤の存在下に反応を行うこともできる。この
ような脱ハロゲン剤としては製造法(1)の項で述ベタ
無機塩基、第3級アミン、アルキレンオキシド類などの
脱酸剤がここでもあげられるが請求核試薬自身を脱ハロ
ゲン剤として働かせてもよい。この場合には試薬を化合
物〔■〕1モルに対73− して2モル以−1−使用する。R11で示されるハロゲ
ン原子は塩素、臭素、ヨウ素などであるが、釘型しくけ
ヨウ素である。R11がヨウ素である化合物〔■〕はた
とえば日本国公開特許公報昭58−57890に記載の
方法またはそれに準じる方法などを用いて容易に製造で
きる。
ルに対して通常1〜5モル、好ましくは1〜3モルであ
る。反応は0〜80°C1好ましくは20〜60°Cの
温度範囲で行なわれる。反応時間は通常30分〜15時
間、釘型しくは】〜5時間である。反応を促進するため
脱ハロゲン剤の存在下に反応を行うこともできる。この
ような脱ハロゲン剤としては製造法(1)の項で述ベタ
無機塩基、第3級アミン、アルキレンオキシド類などの
脱酸剤がここでもあげられるが請求核試薬自身を脱ハロ
ゲン剤として働かせてもよい。この場合には試薬を化合
物〔■〕1モルに対73− して2モル以−1−使用する。R11で示されるハロゲ
ン原子は塩素、臭素、ヨウ素などであるが、釘型しくけ
ヨウ素である。R11がヨウ素である化合物〔■〕はた
とえば日本国公開特許公報昭58−57890に記載の
方法またはそれに準じる方法などを用いて容易に製造で
きる。
製造法(3):
不法はヒドロキシイミノ化合物CDに対して一般式R;
OHで示される化合物捷たはその反応性誘導体を反応さ
せて化合物〔I′3を合成する方法であり、よく知られ
たエーテル化反応である。
OHで示される化合物捷たはその反応性誘導体を反応さ
せて化合物〔I′3を合成する方法であり、よく知られ
たエーテル化反応である。
RAは置換されていてもよい炭化水素残基を示し。
このような炭化水素残基としてはR3における置換され
ていてもよい炭化水素残基としてすでにあげたものがこ
こでもその捷まあてはめられる。
ていてもよい炭化水素残基としてすでにあげたものがこ
こでもその捷まあてはめられる。
R3’ OHはその−1−tあるいはその反応性誘導体
と74− して用いられる。R3′OHの反応性誘導体は化合物(
V)の水素原子とともに離脱する基を有するR3’ O
Hの誘導体、すなわち一般式R,: yで表わされる化
合物を意味する。ここで水素原子とともに離脱する基Y
はハロゲン原子、スルホ基、モノ置換スルホニルオキシ
基などを示ス。ハO/7’ン原子としては塩素、臭素、
ヨウ素などがあげられる。モノ置換スルホニルオキシ基
としては7’c、!:工14ノタンスルホニルオキシ、
エタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、
p−トルエンスルホニルオキシなどのC1〜4アルキル
スルホニルオキシ基、C6〜1oアリールスルホニルオ
キシ基などがあげられる。まだ特に化合物〔V〕の01
〜4アルキル工−テル体を製造する場合には」1記の反
応性誘導体のほか、たとえばジアゾメクン、ジアゾエタ
ンなどの01〜4ジアゾアルカン、たとえばジメチル硫
酸、ジエチル硫酸などのジC1〜4アルギル硫酸なども
用いられる。
と74− して用いられる。R3′OHの反応性誘導体は化合物(
V)の水素原子とともに離脱する基を有するR3’ O
Hの誘導体、すなわち一般式R,: yで表わされる化
合物を意味する。ここで水素原子とともに離脱する基Y
はハロゲン原子、スルホ基、モノ置換スルホニルオキシ
基などを示ス。ハO/7’ン原子としては塩素、臭素、
ヨウ素などがあげられる。モノ置換スルホニルオキシ基
としては7’c、!:工14ノタンスルホニルオキシ、
エタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、
p−トルエンスルホニルオキシなどのC1〜4アルキル
スルホニルオキシ基、C6〜1oアリールスルホニルオ
キシ基などがあげられる。まだ特に化合物〔V〕の01
〜4アルキル工−テル体を製造する場合には」1記の反
応性誘導体のほか、たとえばジアゾメクン、ジアゾエタ
ンなどの01〜4ジアゾアルカン、たとえばジメチル硫
酸、ジエチル硫酸などのジC1〜4アルギル硫酸なども
用いられる。
(3−1) : R]’OHを使用する場合適当な脱水
剤を用いて化合物〔■〕と反応させ化合物〔■〕を合成
する。このような目的に使用される脱水剤としてはたと
えばオキシ塩化リン。
剤を用いて化合物〔■〕と反応させ化合物〔■〕を合成
する。このような目的に使用される脱水剤としてはたと
えばオキシ塩化リン。
塩化チオニル、アゾジカルボン酸ジアルキル(通常、ホ
スフィンとの共存で使用される)、N。
スフィンとの共存で使用される)、N。
N′−ジシクロロヘキシルカルポジイミドなどがあげら
れ、好ましくはトリフェニルホスフィン共存下のアゾジ
カルボン酸ジエチルである。トリフェニルホスフィン共
存下でアゾジカルボン酸ジエチルを用いる反応は通常、
無水の溶媒中で行なわれ、前記のエーテル類、炭化水素
類などが使用される。化合物〔V〕1モルに対してR3
’ OH、アゾジカルボン酸ジエチル、トルフェニルホ
スフィンはいずれも1〜15モル用いられる。0〜50
℃の温度範囲で1〜4・日間を要する。
れ、好ましくはトリフェニルホスフィン共存下のアゾジ
カルボン酸ジエチルである。トリフェニルホスフィン共
存下でアゾジカルボン酸ジエチルを用いる反応は通常、
無水の溶媒中で行なわれ、前記のエーテル類、炭化水素
類などが使用される。化合物〔V〕1モルに対してR3
’ OH、アゾジカルボン酸ジエチル、トルフェニルホ
スフィンはいずれも1〜15モル用いられる。0〜50
℃の温度範囲で1〜4・日間を要する。
(3−2):R3’Yを使用する場合
R3′Yと化合物〔■〕との反応は通常のエーテル化反
応であって、溶媒中で行なわれる。溶媒としては製造法
(1)の項であげたエーテル類、エステル類、ハロゲン
化炭化水素類、炭化水素類。
応であって、溶媒中で行なわれる。溶媒としては製造法
(1)の項であげたエーテル類、エステル類、ハロゲン
化炭化水素類、炭化水素類。
アミF類、ケトン類、ニトリル類、アルコール類、水な
どの溶媒もしくは混合溶媒がここでもあげられ、釘型し
くは水と混合しうる溶媒と水との混合溶媒(だとえは含
水メタノール、含水エタノール、含水アセトン、含水ジ
メチルスルホキシドなど)である。本反応は適当な塩基
の存在下に円滑に進行させることもできる。このような
塩基としてはたとえば炭酸ナトリウム。
どの溶媒もしくは混合溶媒がここでもあげられ、釘型し
くは水と混合しうる溶媒と水との混合溶媒(だとえは含
水メタノール、含水エタノール、含水アセトン、含水ジ
メチルスルホキシドなど)である。本反応は適当な塩基
の存在下に円滑に進行させることもできる。このような
塩基としてはたとえば炭酸ナトリウム。
炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属
塩、たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
アルカリ金属水酸化物などの無機塩基があげられる。捷
た本反応をp H7,5〜85の緩衝溶液中で行なって
もよい。原料化合物〔791モルに対して使用する試薬
R3′Yおよび塩基のモル数はそれぞれ1〜5,1〜1
0゜釘型しくけそれぞれ1〜3,1〜5である。反応温
度は一80〜100℃、釘型しくは0〜80・Cの範囲
である。反応時間は10分〜15時間。
塩、たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
アルカリ金属水酸化物などの無機塩基があげられる。捷
た本反応をp H7,5〜85の緩衝溶液中で行なって
もよい。原料化合物〔791モルに対して使用する試薬
R3′Yおよび塩基のモル数はそれぞれ1〜5,1〜1
0゜釘型しくけそれぞれ1〜3,1〜5である。反応温
度は一80〜100℃、釘型しくは0〜80・Cの範囲
である。反応時間は10分〜15時間。
釘型しくけ30分〜5時間である。
77−
(3−s):C,〜4ジアゾアルカンを使用する場合
反応は通常溶媒中で行なわれる。溶媒としては前記のエ
ーテル類、炭化水素類などが用いられる。化合物(Vl
を溶媒に溶解したのち、ジアゾアルカン化合物の溶液を
加えると反応は進行する。試薬は化合物[:D 1モル
に対して1−10モル、好ましくは1〜5モル使用する
。反応は比較的低温で行なわれ一50〜20℃、好才し
くけ一30〜0°Cである。反応時間は1分〜5時間、
釘型しくけ10分〜1時間である。
ーテル類、炭化水素類などが用いられる。化合物(Vl
を溶媒に溶解したのち、ジアゾアルカン化合物の溶液を
加えると反応は進行する。試薬は化合物[:D 1モル
に対して1−10モル、好ましくは1〜5モル使用する
。反応は比較的低温で行なわれ一50〜20℃、好才し
くけ一30〜0°Cである。反応時間は1分〜5時間、
釘型しくけ10分〜1時間である。
(3−4)ニジC1〜4アルキル硫酸を使用する場合
反応は通常、水もしくは水と混合しうる溶媒と水との混
合溶媒中で行なわれる。混合溶媒としては(a−2)項
であげた含水溶媒がここでもあげられる。この反応はた
とえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカ
リ金属水酸化物の存在下に行なわれる。試薬は化合物〔
v〕1モルに対して05〜10モル、釘型しく78− け]〜2モル使用する。反応温度id:20〜]、 O
0℃、釘型しぐは50〜100°Cの範囲である。
合溶媒中で行なわれる。混合溶媒としては(a−2)項
であげた含水溶媒がここでもあげられる。この反応はた
とえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカ
リ金属水酸化物の存在下に行なわれる。試薬は化合物〔
v〕1モルに対して05〜10モル、釘型しく78− け]〜2モル使用する。反応温度id:20〜]、 O
0℃、釘型しぐは50〜100°Cの範囲である。
反応時間は10分〜5時間、好ましくは30分〜3時間
である。
である。
製造法(4)−
水沫はセフェム化合物01〕と一般式R,C(−8)N
F2で表わされるチオ尿素またはチオ尿素誘導体とを反
応させて目的化合物CI) (Q=C−R2)を合成す
る方法である。化合物CVI)は遊離の捷ま、塩あるい
はエステル吉して用いられる。化合物CVI)における
Xはハロゲン原子捷たはR6502゜で表わされる基を
示す。ここでハロゲン原子はたとえば塩素、臭素、ヨウ
素などを表わす。寸たR6は低級アルキル基型たは置換
されていてもよいフェニル基を表わす。低級アルキル基
としてはたとえばメチル、エチル、プロピルなどのC1
〜4アルキル基があげられる。置換されたフェニル基と
してはたとえばp−メチルフェニル。
F2で表わされるチオ尿素またはチオ尿素誘導体とを反
応させて目的化合物CI) (Q=C−R2)を合成す
る方法である。化合物CVI)は遊離の捷ま、塩あるい
はエステル吉して用いられる。化合物CVI)における
Xはハロゲン原子捷たはR6502゜で表わされる基を
示す。ここでハロゲン原子はたとえば塩素、臭素、ヨウ
素などを表わす。寸たR6は低級アルキル基型たは置換
されていてもよいフェニル基を表わす。低級アルキル基
としてはたとえばメチル、エチル、プロピルなどのC1
〜4アルキル基があげられる。置換されたフェニル基と
してはたとえばp−メチルフェニル。
p−メトキシフェニル、p−タクロフェニル。
p−ニトロフェニルなどがあげられる。CVDの塩とし
ては製造法(1)の項であげた化合物〔旧の塩(無機塩
基塩、アンモニウム塩、有機塩基塩。
ては製造法(1)の項であげた化合物〔旧の塩(無機塩
基塩、アンモニウム塩、有機塩基塩。
無機酸付加塩、有機酸付加塩など)がここでもあてはめ
られる。(Vl)のエステルとしては同じく製造法(1
)の項であげた化合物〔旧のエステル(CX−,アルキ
ルエステル、C2〜4アルケニルエステル、03〜6シ
クロアルキルエステル、C86シクロアルキルー01〜
4アルキルエステル、C6〜1oアリールエステル、C
7〜12アラルキルエステル、01〜5アルカノイルオ
キシメチルエステル、C1〜5アルカノイルオキシエチ
ルエステルおよびこれらにさらに置換されたもの)がこ
こでもあてはめられる。原料化合物CVIIは一般式意
義を示す〕で表わされる化合物捷たはその反応性誘導体
と前記の7−アミノ化合物(II) tたはその塩ある
いはエステルとを、製造法(1)で述べた方法と同様の
方法を用いて製造するこ吉が化合物またはその反応性誘
導体はそれ自体公知の方法またはそれに準する方法によ
って容易に製造できる。化合物〔■〕とRlC(−8)
NT(2との反応は通常溶媒中で行なわれる。溶媒とし
てはたとえばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテルなどのエーテル類、たとえばメタノール、エ
タノール、プロパツールなどのアルコール類、ジブチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、
などが用いられる。チオ尿素まだはその誘導体R1C(
−8)NF2の使用量は化合物(VI〕に対して通常1
〜5モル。
られる。(Vl)のエステルとしては同じく製造法(1
)の項であげた化合物〔旧のエステル(CX−,アルキ
ルエステル、C2〜4アルケニルエステル、03〜6シ
クロアルキルエステル、C86シクロアルキルー01〜
4アルキルエステル、C6〜1oアリールエステル、C
7〜12アラルキルエステル、01〜5アルカノイルオ
キシメチルエステル、C1〜5アルカノイルオキシエチ
ルエステルおよびこれらにさらに置換されたもの)がこ
こでもあてはめられる。原料化合物CVIIは一般式意
義を示す〕で表わされる化合物捷たはその反応性誘導体
と前記の7−アミノ化合物(II) tたはその塩ある
いはエステルとを、製造法(1)で述べた方法と同様の
方法を用いて製造するこ吉が化合物またはその反応性誘
導体はそれ自体公知の方法またはそれに準する方法によ
って容易に製造できる。化合物〔■〕とRlC(−8)
NT(2との反応は通常溶媒中で行なわれる。溶媒とし
てはたとえばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテルなどのエーテル類、たとえばメタノール、エ
タノール、プロパツールなどのアルコール類、ジブチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、
などが用いられる。チオ尿素まだはその誘導体R1C(
−8)NF2の使用量は化合物(VI〕に対して通常1
〜5モル。
釘型しくけ1〜3モルである。反応は0〜100°C1
好捷しくけ20〜60℃の温度範囲で行なわれる。反応
時間は通常30分〜15時間、好ましくは1〜5時間で
ある。
好捷しくけ20〜60℃の温度範囲で行なわれる。反応
時間は通常30分〜15時間、好ましくは1〜5時間で
ある。
81−
上記した製造法(1)〜(4)においては化合物〔■〕
がシン[:Z]−、アンチ〔E〕−異性体の混合物とし
て得られる場合がある。混合物から所望のシン異性体を
分離するには自体公知の方法捷だはそれに準する方法が
適用される。それらの方法としてはたとえば溶解性、結
晶性などの差を利用した分別法、クロマトグラフィーに
よる分離。
がシン[:Z]−、アンチ〔E〕−異性体の混合物とし
て得られる場合がある。混合物から所望のシン異性体を
分離するには自体公知の方法捷だはそれに準する方法が
適用される。それらの方法としてはたとえば溶解性、結
晶性などの差を利用した分別法、クロマトグラフィーに
よる分離。
エステル誘導体の加水分解速度の差を利用した分離法な
どがあげられる。
どがあげられる。
保護基除去法:前記した通りβ−ラククムおよびペプチ
ド合成の分野ではアミ7基の保護基は充分に研究されて
いてその保護法はすでに確立されている。また、アミノ
保護基の除去法も同様に確立されており2本発明におい
ても保護基の除去は従来の技術をその′!!、を利用で
きる。
ド合成の分野ではアミ7基の保護基は充分に研究されて
いてその保護法はすでに確立されている。また、アミノ
保護基の除去法も同様に確立されており2本発明におい
ても保護基の除去は従来の技術をその′!!、を利用で
きる。
たとえばモノハロゲノアセチル基(タロロアセチル、ブ
ロモアセチルなど)はチオ尿素により。
ロモアセチルなど)はチオ尿素により。
アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル。
エトキシカルボニル
ルなど)は酸(たとえば塩酸など)により、ア82−
ラルキルオキシカルボニル基(ベンジルオキシカルボニ
ル、p−メヂルベンジルオキシ力ルボニル、p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルど)は接触還元により,2,
2.2−トリクロロエトキシカルボニルは亜鉛と酸(た
とえば酢酸など)により除去することができる。一方。
ル、p−メヂルベンジルオキシ力ルボニル、p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルど)は接触還元により,2,
2.2−トリクロロエトキシカルボニルは亜鉛と酸(た
とえば酢酸など)により除去することができる。一方。
合成中間体として化合物rI)がエステル化されている
場合もそれ自体公知の方法またはそれに準する方法によ
ってエステル残基を除去することができる。たとえば2
−メチルスルホニルエチルエステル テル ジルエステル、p−ニトロベンジルエステルなど)は酸
(たとえばトリフルオロ酢酸など)または接触還元によ
り,2,2.2− トリクロロエチルエステルは亜鉛と
酸(たとえば酢酸など)によす、シリルエステル(トリ
ノチルシリルエステル, tert−フチルジメチルシ
リルエステルなど)は水のみにより除去することができ
る。
場合もそれ自体公知の方法またはそれに準する方法によ
ってエステル残基を除去することができる。たとえば2
−メチルスルホニルエチルエステル テル ジルエステル、p−ニトロベンジルエステルなど)は酸
(たとえばトリフルオロ酢酸など)または接触還元によ
り,2,2.2− トリクロロエチルエステルは亜鉛と
酸(たとえば酢酸など)によす、シリルエステル(トリ
ノチルシリルエステル, tert−フチルジメチルシ
リルエステルなど)は水のみにより除去することができ
る。
化合物〔■〕の精製法:(1)〜(4)に詳記した各種
製造法により,捷た要すれば上記の保護基除去法をつつ
いて行うことにより反応混合物中に生成した化合物〔■
〕は抽出法,カラムクロマトグラフィー、沈澱法,再結
晶法などの公知の処理手段によって単離精製することが
できる。一方。
製造法により,捷た要すれば上記の保護基除去法をつつ
いて行うことにより反応混合物中に生成した化合物〔■
〕は抽出法,カラムクロマトグラフィー、沈澱法,再結
晶法などの公知の処理手段によって単離精製することが
できる。一方。
単離された化合物CDを公知の方法により所望の生理学
的に受容される塩または代謝」−不安定な無毒のエステ
ルへと変換することもできる。
的に受容される塩または代謝」−不安定な無毒のエステ
ルへと変換することもできる。
セフェム化合物CDのスルホキシド( n=1 )は化
合物CI) ( n−0 )の酸化反応により得られる
。このような酸化反応はよく知られた反応である。セフ
ェム環中の硫黄原子の酸化に適した酸化剤としてはたと
えば酸素,過酸,ヒドロパーオキシド、過酸化水素など
があげられ,過酸はその場で酸と過酸化物の混和によっ
て製造することもできる。過酸としては過酢酸,過安息
香酸,p−クロル過安息香酸などが繁用される。反応は
通常,溶媒中で行なわれる。この反応に用いられる溶媒
としてはたとえばジオキサン、テトラヒドロフランなど
のエーテル類,たとえハシクロロメタン、クロロホルム
、クロロベンゼンなどの・・ロゲン化炭化水素類,たと
えばギ酸,酢酸,トリフルオロ酢酸などの有機酸類,た
とえばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドな
どのアミド類などがあげられる。
合物CI) ( n−0 )の酸化反応により得られる
。このような酸化反応はよく知られた反応である。セフ
ェム環中の硫黄原子の酸化に適した酸化剤としてはたと
えば酸素,過酸,ヒドロパーオキシド、過酸化水素など
があげられ,過酸はその場で酸と過酸化物の混和によっ
て製造することもできる。過酸としては過酢酸,過安息
香酸,p−クロル過安息香酸などが繁用される。反応は
通常,溶媒中で行なわれる。この反応に用いられる溶媒
としてはたとえばジオキサン、テトラヒドロフランなど
のエーテル類,たとえハシクロロメタン、クロロホルム
、クロロベンゼンなどの・・ロゲン化炭化水素類,たと
えばギ酸,酢酸,トリフルオロ酢酸などの有機酸類,た
とえばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドな
どのアミド類などがあげられる。
反応温度は一20〜80℃の範囲で行なわれるが,なる
べく低い温度,好1しくけ一20〜20°Cで行なわれ
る。n=oを示す式CI)の化合物の酸化に際してはS
−立体配位をもつスルホキシドが主に生成することが一
般に知られている。
べく低い温度,好1しくけ一20〜20°Cで行なわれ
る。n=oを示す式CI)の化合物の酸化に際してはS
−立体配位をもつスルホキシドが主に生成することが一
般に知られている。
R−およびS−スルホキシドはそれらの異なる溶解性お
よびクロマトグラフィー分離に際しての異なる移動速度
によって分離される。スルホキシドを得るだめの上記の
酸化反応は前記(1)〜(4)の反応の前に行なっても
よいし,また(1)〜(4)の反応の後に行なってもよ
い。
よびクロマトグラフィー分離に際しての異なる移動速度
によって分離される。スルホキシドを得るだめの上記の
酸化反応は前記(1)〜(4)の反応の前に行なっても
よいし,また(1)〜(4)の反応の後に行なってもよ
い。
本発明の化合物CI)は公知のペニシリン剤。
セファロスポリン剤表同様に注射剤,カプセル剤,錠剤
,顆粒剤として非経口または経口的に投与できる。投与
量は前記したような病原性網85− 菌に感染した人および動物の体重l K9あたり05〜
8omg/日,より好ましくは1〜20mgZ日を1日
3〜4回に分割して投与すればよい。注射剤として用い
られる場合の担体は,たとえば蒸留水,生理食塩水など
が用いられ,カプセル剤,粉剤,顆粒剤,錠剤として用
いられる場合は,公知の薬学的に許容される賦形剤(た
とえばデンプン、乳糖,白糖,炭酸カルシウム、リン酸
カルシウムなど)、結合剤(たとえばデンプン、アラビ
アゴム、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロ
ピルセルロース、結晶セルロースなど)、滑沢剤(たと
えばステアリン酸マグネシウム、タルクなど)、崩壊剤
(たとえばカルポキシメチル力ルシクム,タルクなと)
と混合して用いられる。
,顆粒剤として非経口または経口的に投与できる。投与
量は前記したような病原性網85− 菌に感染した人および動物の体重l K9あたり05〜
8omg/日,より好ましくは1〜20mgZ日を1日
3〜4回に分割して投与すればよい。注射剤として用い
られる場合の担体は,たとえば蒸留水,生理食塩水など
が用いられ,カプセル剤,粉剤,顆粒剤,錠剤として用
いられる場合は,公知の薬学的に許容される賦形剤(た
とえばデンプン、乳糖,白糖,炭酸カルシウム、リン酸
カルシウムなど)、結合剤(たとえばデンプン、アラビ
アゴム、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロ
ピルセルロース、結晶セルロースなど)、滑沢剤(たと
えばステアリン酸マグネシウム、タルクなど)、崩壊剤
(たとえばカルポキシメチル力ルシクム,タルクなと)
と混合して用いられる。
化合物〔I〕またはその塩・エステルを含む医薬組成物
は公知の方法により製造することができる。該組成物は
通常化合物CII) tたはその生理学的または薬学的
に受容される塩もしくはエステルの少く表も1種以上と
上記の担体,賦形86一 剤などとを混合することにより製造される。組成物全体
に対する化合物CI)の配合割合は通常5〜l O0重
量%、好ましくはカプセル剤9錠剤、顆粒剤などの固形
製剤においては20〜100重量%、注射剤などの液状
製剤においては。
は公知の方法により製造することができる。該組成物は
通常化合物CII) tたはその生理学的または薬学的
に受容される塩もしくはエステルの少く表も1種以上と
上記の担体,賦形86一 剤などとを混合することにより製造される。組成物全体
に対する化合物CI)の配合割合は通常5〜l O0重
量%、好ましくはカプセル剤9錠剤、顆粒剤などの固形
製剤においては20〜100重量%、注射剤などの液状
製剤においては。
5〜30重量%である。
化合物〔■〕またけその塩・エステルはたとえば注射剤
として投与することによりエシェリヒア・コリ閑に起因
する尿路感染の治療に用いられる。この場合の投与量は
人および動物の体重1に7あだり05〜8・omg1日
、より好ましくは1〜20〜/日で、1日8〜4回に分
割して投与する。該注射剤はだとえは化合物〔■〕また
けその塩、エステルを生理食塩水に溶解もしくは懸濁す
ることにより容易に製造することができる。
として投与することによりエシェリヒア・コリ閑に起因
する尿路感染の治療に用いられる。この場合の投与量は
人および動物の体重1に7あだり05〜8・omg1日
、より好ましくは1〜20〜/日で、1日8〜4回に分
割して投与する。該注射剤はだとえは化合物〔■〕また
けその塩、エステルを生理食塩水に溶解もしくは懸濁す
ることにより容易に製造することができる。
(参考例、実施例)
木発F3Aはさらに下記の参考例、実施例で詳しく説明
されるが、これらの例は単なる実例であって本発明を限
定するものではなく、また本発明の範囲を逸脱しない範
囲で変化させてもよい。
されるが、これらの例は単なる実例であって本発明を限
定するものではなく、また本発明の範囲を逸脱しない範
囲で変化させてもよい。
参考例、実施例のカラムクロマトグラフィにおける溶出
はTLC(Thin I、ayer Chromato
graphy。
はTLC(Thin I、ayer Chromato
graphy。
薄層クロマトグラフィ)による観察下に行なわれた。T
LC観察においては、TLCプレートとしてメルク(M
erck)社製のBOF251を、展開溶媒としてはカ
ラムクロマトグラフィで溶出溶媒として用いられた溶媒
を、検出法としてはU■検出器を採用した。カラム用シ
リカゲルは同しくメルク社製のキーイルゲル60(23
0〜400メツシユ)を用いた。″セファテックス″は
ファルマシア・ファイン・ケミカルス゛社(Pharm
acia Fine Chemicals) 製である
。XAD〜■樹脂はローム・アンド・ハース社(Roh
m&Haa5 Co、)製である。NMRスペクトルは
内部または外部基準としてテトラメチルシランを用いて
XL−100A(100M)(2)、EM390(90
MH2) −! ild□60 (60M’z−)’i
!2”’ 9 ) +’ ) (ターで測定し、全δ値
をppmで示した。混合溶媒において()内に示しだ数
値は各溶媒の容量混合比である。捷だ溶液における%は
溶液100me中のy数を表わす。また参考例、実施例
中の記号は次のような意味である。
LC観察においては、TLCプレートとしてメルク(M
erck)社製のBOF251を、展開溶媒としてはカ
ラムクロマトグラフィで溶出溶媒として用いられた溶媒
を、検出法としてはU■検出器を採用した。カラム用シ
リカゲルは同しくメルク社製のキーイルゲル60(23
0〜400メツシユ)を用いた。″セファテックス″は
ファルマシア・ファイン・ケミカルス゛社(Pharm
acia Fine Chemicals) 製である
。XAD〜■樹脂はローム・アンド・ハース社(Roh
m&Haa5 Co、)製である。NMRスペクトルは
内部または外部基準としてテトラメチルシランを用いて
XL−100A(100M)(2)、EM390(90
MH2) −! ild□60 (60M’z−)’i
!2”’ 9 ) +’ ) (ターで測定し、全δ値
をppmで示した。混合溶媒において()内に示しだ数
値は各溶媒の容量混合比である。捷だ溶液における%は
溶液100me中のy数を表わす。また参考例、実施例
中の記号は次のような意味である。
S シングレット(singlet )d ダブレット
(doublet ) t トリプレット(triplet )q 、クワルテ
ット(quartet )ABq:AB型クりルテット
(AB type quartet)d、d : ダブ
ル ダブレット(double doublet )m
: マチルプレット(multiplet)br、、
: ブロード(broad )J ゛カップリング定
数(coupl ing constant )H2ヘ
ルツ(Herz) my ミリグラム(milligram)2 、グラム
(gram ) me : ミリリーク=(milliliter)l
゛ リーク−(liter) % ゛パーセント(percent )DMSOジメチ
ルスルホキシド (dimethylsulfoxide )89− 参考例1 7β−(2−(2−クロロアセトアミドチアゾール−4
−イル) −2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)
−3−(3−オキソブチリルオキシメチル)−3−セフ
ェム−4−カルボン酸。
(doublet ) t トリプレット(triplet )q 、クワルテ
ット(quartet )ABq:AB型クりルテット
(AB type quartet)d、d : ダブ
ル ダブレット(double doublet )m
: マチルプレット(multiplet)br、、
: ブロード(broad )J ゛カップリング定
数(coupl ing constant )H2ヘ
ルツ(Herz) my ミリグラム(milligram)2 、グラム
(gram ) me : ミリリーク=(milliliter)l
゛ リーク−(liter) % ゛パーセント(percent )DMSOジメチ
ルスルホキシド (dimethylsulfoxide )89− 参考例1 7β−(2−(2−クロロアセトアミドチアゾール−4
−イル) −2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)
−3−(3−オキソブチリルオキシメチル)−3−セフ
ェム−4−カルボン酸。
7β−アミノ−8−(3−オキソブチリルオキシメチル
)−3−セフェム−4−カルボン酸157yをテトラヒ
ドロフラン500 meと水500meの混合液に懸濁
させ、かきまぜながら炭酸水素ナトリウム141yを少
量づつ加える。
)−3−セフェム−4−カルボン酸157yをテトラヒ
ドロフラン500 meと水500meの混合液に懸濁
させ、かきまぜながら炭酸水素ナトリウム141yを少
量づつ加える。
ついで5℃で攪拌しながら2−(2−クロロアセトアミ
ドチアゾール−4−イル)−2(Z)−メトキシイミノ
アセチルクロライド・塩酸塩150yを20分間で加え
、同温度で反応液をさらに1時間かきまぜる。反応終了
後10%塩酸でp H8,0としたのち1反応液を酢酸
エチル−テトラヒドロフラン(1:1)の混合液各]l
!で2回抽出する。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた無色粉末を酢酸
エチル209 meで洗浄したのち90− 沢取すると標記化合物2532が得られる。
ドチアゾール−4−イル)−2(Z)−メトキシイミノ
アセチルクロライド・塩酸塩150yを20分間で加え
、同温度で反応液をさらに1時間かきまぜる。反応終了
後10%塩酸でp H8,0としたのち1反応液を酢酸
エチル−テトラヒドロフラン(1:1)の混合液各]l
!で2回抽出する。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた無色粉末を酢酸
エチル209 meで洗浄したのち90− 沢取すると標記化合物2532が得られる。
元素分析饋°C2o■(2oCIN509S2として。
計算値(@: C,!1.85 ;H,351iN、
1220実測値(→: C,41,39iH,3,57
iN、 1194I Rスペクトル、KBr、、;l
; 1780.1?40,1700゜ax 1655、 154,0,14]、0゜NMRスペクト
ル(c+6−DMSO)計2.20 (8H,s )。
1220実測値(→: C,41,39iH,3,57
iN、 1194I Rスペクトル、KBr、、;l
; 1780.1?40,1700゜ax 1655、 154,0,14]、0゜NMRスペクト
ル(c+6−DMSO)計2.20 (8H,s )。
345と3.68(2H,ABQ、 J=18H2)、
3.65(2H,S)、3.92(8H,S)、4.
38(2H,S)。
3.65(2H,S)、3.92(8H,S)、4.
38(2H,S)。
479と5.09 (2H,ABq、 、T−1,3H
z )、’ 5.18(LH,d、J=5Hz)、5.
85(LH,d、d、J−5Hzと8Hz)、7.44
(LH,s)、9.66(LH。
z )、’ 5.18(LH,d、J=5Hz)、5.
85(LH,d、d、J−5Hzと8Hz)、7.44
(LH,s)、9.66(LH。
d、J=8Hz)、12.85(LH,br、s)。
参考例2
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(3−オ
キソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カル
ボン酸。
(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(3−オ
キソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カル
ボン酸。
7β−2−(2−(タロロアセトア三トチアゾール−4
−イル) −2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)
−S−(a−オキソブチリルオキシメチル)−8−セフ
ェム−4−カルボン酸150yをテトラヒドロフラン−
水(1:])の混合液500 meに溶解したのちN−
メチルジチオカルノ(ミン酸ナトリウム512を加え、
20°Cで8時間かき捷ぜる。反応液に酢酸エチル20
0meを加え、有機層を除去し水層を10%塩酸でpH
4にすると油状物が析出する。これをテトラヒドロ7ラ
ンー酢酸エチル(1:1)の混合液llで抽出し、さら
に水層をn−ブタノール200 meで抽出する。抽出
液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去
する。
−イル) −2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)
−S−(a−オキソブチリルオキシメチル)−8−セフ
ェム−4−カルボン酸150yをテトラヒドロフラン−
水(1:])の混合液500 meに溶解したのちN−
メチルジチオカルノ(ミン酸ナトリウム512を加え、
20°Cで8時間かき捷ぜる。反応液に酢酸エチル20
0meを加え、有機層を除去し水層を10%塩酸でpH
4にすると油状物が析出する。これをテトラヒドロ7ラ
ンー酢酸エチル(1:1)の混合液llで抽出し、さら
に水層をn−ブタノール200 meで抽出する。抽出
液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去
する。
残留物に酢酸エチル200 meを加えてかき捷ぜ。
析出した結晶を沢取すると標記化合物90yが得られる
。
。
元素分析値:C08H19N508S2として計算値(
@ : C,42,19iH,4,30;N、 13.
55実測値(@ : C,41,94;H,4,,11
iN、 13.59IRスペクトルシKBr品1°17
70.1?10,1620゜aX 52O NMRスペクトル(d6−DMSO)δ: 2.20
(3H,s)。
@ : C,42,19iH,4,30;N、 13.
55実測値(@ : C,41,94;H,4,,11
iN、 13.59IRスペクトルシKBr品1°17
70.1?10,1620゜aX 52O NMRスペクトル(d6−DMSO)δ: 2.20
(3H,s)。
343と3.65(2H,ABq、J=18Hz)、3
.63(2H,s)、3.86(3H,s)、4.78
と50.6 (2H。
.63(2H,s)、3.86(3H,s)、4.78
と50.6 (2H。
ABq、J−]、3Hz)、5.14(IH,d、J=
5Hz)。
5Hz)。
5.79(]、H,d、d、J=5Hzと8Hz)、6
.73(IH,s)、 7.17(2H,br、)、
9.56(LH,d、 J=8Hz)。
.73(IH,s)、 7.17(2H,br、)、
9.56(LH,d、 J=8Hz)。
参考例3
7β−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル) −2(Z)−エトキシイミノアセトア
ミド)−3−(8−オキソブチリルオキシメチル)−3
−セフェム−4−カルボン酸。
ル−3−イル) −2(Z)−エトキシイミノアセトア
ミド)−3−(8−オキソブチリルオキシメチル)−3
−セフェム−4−カルボン酸。
7β−ア三ノー3−(3−オキソブチリルオキシメチル
)−3−セフェム−4−カルボン酸11yを200 m
eのジクロロメタンに懸濁し。
)−3−セフェム−4−カルボン酸11yを200 m
eのジクロロメタンに懸濁し。
これにビストリメチルシリルアセトアミト14gを加え
、室温で溶液となるまでかきまぜる。
、室温で溶液となるまでかきまぜる。
ついで氷冷し、2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル) −2(Z)−エト93− キシイミノアセチルクロリド14yを加えてしばらくか
きまぜた後、ジメチルアヤトアミド62を加え、水冷下
に60分かきまぜる。ジクロロメタンを留去し、残留物
をメチルエチルケトンに溶かし、水洗・乾燥後溶媒を留
去し、残留物にジエチルエーテルを加えて粉末としたの
ちろ取し、12.5yの標記の化合物を得る。
アゾール−3−イル) −2(Z)−エト93− キシイミノアセチルクロリド14yを加えてしばらくか
きまぜた後、ジメチルアヤトアミド62を加え、水冷下
に60分かきまぜる。ジクロロメタンを留去し、残留物
をメチルエチルケトンに溶かし、水洗・乾燥後溶媒を留
去し、残留物にジエチルエーテルを加えて粉末としたの
ちろ取し、12.5yの標記の化合物を得る。
I RスヘクトAyv KBrts’ : 8300.
3000. 1780゜aX 1720.1620,1520,1410.1260゜
1150、 1010 4ONスペクトル(d6−DMSO)δ:1.25(3
H,t。
3000. 1780゜aX 1720.1620,1520,1410.1260゜
1150、 1010 4ONスペクトル(d6−DMSO)δ:1.25(3
H,t。
J=7Hz)、2.18(3H,s)、3.41と3.
63 (2H。
63 (2H。
ABq、J−18Hz)、8.62(2H,s)、4.
18(2H,q、J=7H’Z)、4.76と5.06
(2H,ABQ、J=13Hz)、5.14(LH,d
、J=4.8Hz)、5.82(LH,d、d、J=8
Hzと4.8Hz )、 s、o O(2H。
18(2H,q、J=7H’Z)、4.76と5.06
(2H,ABQ、J=13Hz)、5.14(LH,d
、J=4.8Hz)、5.82(LH,d、d、J=8
Hzと4.8Hz )、 s、o O(2H。
br、)、9.48(LH,d、J=8Hz)。
実施例1
7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド94− )−3−〔(4−(]、、2. 4・−オキサジアゾー
ル−8−イル)ピリジニウム−1−イル〕メチル〕−3
−セフェム−4−カルボキシレート。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド94− )−3−〔(4−(]、、2. 4・−オキサジアゾー
ル−8−イル)ピリジニウム−1−イル〕メチル〕−3
−セフェム−4−カルボキシレート。
7β−C2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−ノドキシイミノアセトアミド、l−3−(8
−オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−41
−カルボン酸2.0y、4−(1,2,4−オキサジア
ゾール−8−イル)ピリジン2.0yおよびヨウ化カリ
ウム2.0yをアセトニトリルと水(1:l)の混合液
20meに溶かし、70°Cで2時間かきまぜる。減圧
下で溶媒を留去し残留物をアセトニ) IJルで洗浄後
、不溶物を水20meに懸濁させさらに炭酸水素ナトリ
ウムを加えてp H8,0としたのち、XAD−2樹月
旨によるカラムクロマトグラフィーに付し10%エタノ
ール水溶液で溶出する。目的物を含む分画を合わせ減圧
下に濃縮したのち凍結乾燥して得られた固型物を水5
meに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付す。アセトニトリルと水(4:l)の混合液で溶出
して、目的物を含む分画を合わせ減圧下濃縮後、凍結乾
燥すると標記化合物0232が得られる。
2(Z)−ノドキシイミノアセトアミド、l−3−(8
−オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−41
−カルボン酸2.0y、4−(1,2,4−オキサジア
ゾール−8−イル)ピリジン2.0yおよびヨウ化カリ
ウム2.0yをアセトニトリルと水(1:l)の混合液
20meに溶かし、70°Cで2時間かきまぜる。減圧
下で溶媒を留去し残留物をアセトニ) IJルで洗浄後
、不溶物を水20meに懸濁させさらに炭酸水素ナトリ
ウムを加えてp H8,0としたのち、XAD−2樹月
旨によるカラムクロマトグラフィーに付し10%エタノ
ール水溶液で溶出する。目的物を含む分画を合わせ減圧
下に濃縮したのち凍結乾燥して得られた固型物を水5
meに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付す。アセトニトリルと水(4:l)の混合液で溶出
して、目的物を含む分画を合わせ減圧下濃縮後、凍結乾
燥すると標記化合物0232が得られる。
元素分析値:C21H18N806s2・2H20トシ
テ。
テ。
計算値(閣: C,4248;H,8,73iN、 1
8.85.。
8.85.。
実測値(→: C,42,29iH,3,58;N、
18.98゜I RスペクトルシKBr、、;1 :1
7?0,1660,1620゜ax 1580.1040゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ:81Oと35
0(2H,ABq、J−18Hz)、8.80(3H,
s)。
18.98゜I RスペクトルシKBr、、;1 :1
7?0,1660,1620゜ax 1580.1040゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ:81Oと35
0(2H,ABq、J−18Hz)、8.80(3H,
s)。
5.06(IH,d、J=4.5Hz)、5.80−5
.90(3H。
.90(3H。
m)、6.66(LH,s)、7.20(2H,br、
s)。
s)。
7.70(LH,s)、8.85(2H,d、J=6H
z)。
z)。
旧40(2I(、d、J=6Hz)、9.60(LH,
d、J−9Hz)。
d、J−9Hz)。
実施例2
7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド ()−3−([
3−(1,2,4−オキサジアゾール−3−イル)ピリ
ジニウム−1−イル〕メチル〕−3−セフェムー4〜カ
ルボキシレート。
(Z)−メトキシイミノアセトアミド ()−3−([
3−(1,2,4−オキサジアゾール−3−イル)ピリ
ジニウム−1−イル〕メチル〕−3−セフェムー4〜カ
ルボキシレート。
7β−[2−(2−アミノチアゾール−李−イル)−2
(Z)−ノドキシイミノアセトアミド)−3−(3−オ
キツブチリルオキシメチル)−B−セフェム−4−カル
ボン酸、3−(1゜2.4−オキ丈ジアゾールー8−イ
ル)ピリジンおよびヨウ化カリウムを用い以下実施例1
と同様にすると標記化合物が得られる。
(Z)−ノドキシイミノアセトアミド)−3−(3−オ
キツブチリルオキシメチル)−B−セフェム−4−カル
ボン酸、3−(1゜2.4−オキ丈ジアゾールー8−イ
ル)ピリジンおよびヨウ化カリウムを用い以下実施例1
と同様にすると標記化合物が得られる。
元素分析値;C2、H18N806S2・3H20とし
て。
て。
計算値(@ : C,42,28;H,4,06;N、
18.78゜実測値I@ : C,42,09;H,
4,03;N、 18.75゜I Rスペクト#vKB
rat;:’ :1780,1670,1620゜ax 1530.1?490.1040゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ°320と86
0(2H,ABq、J=18H2)、3.85(8H,
S)。
18.78゜実測値I@ : C,42,09;H,
4,03;N、 18.75゜I Rスペクト#vKB
rat;:’ :1780,1670,1620゜ax 1530.1?490.1040゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ°320と86
0(2H,ABq、J=18H2)、3.85(8H,
S)。
5.15 (LH,d、 ’J=4.5Hz )、 5
.80(LH,ABq。
.80(LH,ABq。
J=12Hz)、5.60=5.90(3H,m)、6
.80(IH。
.80(IH。
s)、7.30(2H,br、s)、8.0−8.33
(2H,m)。
(2H,m)。
8.10−8.43 (LH,m)、 8.70−9.
10 (]、H,m)。
10 (]、H,m)。
9.30−9.85 (3H,m )。
−〇7−
実施例3
7β−[2−(2−ア三ノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−CC8
−(イミダゾール−2−イル)ピリジニウム−1−イル
〕メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−CC8
−(イミダゾール−2−イル)ピリジニウム−1−イル
〕メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート。
7β−C27(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(3−
オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カ
ルボン酸、a−(イミダゾール−2−イル)ピリジンお
よびヨウ化カリウムを用い、実施例1と同様に操作する
と標記化合物が得られる。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(3−
オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カ
ルボン酸、a−(イミダゾール−2−イル)ピリジンお
よびヨウ化カリウムを用い、実施例1と同様に操作する
と標記化合物が得られる。
元素分析値:C2□H2oN805S2・7/2H20
として。
として。
計算値(@ : C,43,78iH,4,51;N、
18.56゜実測値(粉: C,44,08iH,4
,17;N、 18.44゜I RスペクトルシKBr
c+ii’ :1780.1670,1620゜aX 1585゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ:320と35
8(2H,ABq、 J=18Hz)、 3.79(3
H,s)。
18.56゜実測値(粉: C,44,08iH,4
,17;N、 18.44゜I RスペクトルシKBr
c+ii’ :1780.1670,1620゜aX 1585゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ:320と35
8(2H,ABq、 J=18Hz)、 3.79(3
H,s)。
98−
5.07(IH,d、J=4.5Hz)、5.;う 1
と 5.80 (2H。
と 5.80 (2H。
A、Bq、J=13Hz)、5.55−5.80’(L
H,m)。
H,m)。
6.68(IH,s)、7.14(2H,br、s)、
’ 7.29(2H,s )、8.0−8.35 (I
H,m)、 8.9−9.15(IH,m)、 9.4
4−9.6 (2H,m)、 9.94(IH,br。
’ 7.29(2H,s )、8.0−8.35 (I
H,m)、 8.9−9.15(IH,m)、 9.4
4−9.6 (2H,m)、 9.94(IH,br。
S)。
実施例4
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(Ci
(イミダゾール−2−イル)ビリジニウム−1−イル〕
メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(Ci
(イミダゾール−2−イル)ビリジニウム−1−イル〕
メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート。
7β−(2−(2−ア三ノチアゾール−4−イル)−i
<z)−メトキシイミノアセトアミド)−8−(8−
オキシブチリルオキシメチル)=8−セフェム−4−カ
ルボン酸、4−(イミダゾール−2−イル)ピリジンお
よびヨウ化カリウムを用い、実施例]と同様に操作する
と標記化合物が得られる。
<z)−メトキシイミノアセトアミド)−8−(8−
オキシブチリルオキシメチル)=8−セフェム−4−カ
ルボン酸、4−(イミダゾール−2−イル)ピリジンお
よびヨウ化カリウムを用い、実施例]と同様に操作する
と標記化合物が得られる。
元素分析値、C22H2oN805S2・4H20々し
て。
て。
計算値X : C,43,18iH,4,6] ;N、
] 8.29゜実測値((至): C,42,9?
;H,4,12;N、 17.83゜I Rスペクト#
vKBr扁’ :1775,1670,1650゜aX 1610、 1535゜ NMRスペクト/l/ (d6D M S O)δ:3
15と3.60(2H,ABq、J=18Hz)、3.
77(8H,s)。
] 8.29゜実測値((至): C,42,9?
;H,4,12;N、 17.83゜I Rスペクト#
vKBr扁’ :1775,1670,1650゜aX 1610、 1535゜ NMRスペクト/l/ (d6D M S O)δ:3
15と3.60(2H,ABq、J=18Hz)、3.
77(8H,s)。
5.10(LH,d、J=4.5Hz)、5.4−5.
8(8H,m)。
8(8H,m)。
6.68(1)T、S)、7.13(2H,br、s)
、7.47(2H,s)、8.58(2I(、d、J=
6Hz)、9.37(2H。
、7.47(2H,s)、8.58(2I(、d、J=
6Hz)、9.37(2H。
d、J=61−12)、9.51(IH,d、J=8H
2)。
2)。
実施例5
7β−C2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド) −8−(C
a =(5−メチル−1,2,4−オキサジアゾール−
3−イル)ビリジニウム−1−イル〕メチル〕−3−セ
フェム−手−カルボキシレート。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド) −8−(C
a =(5−メチル−1,2,4−オキサジアゾール−
3−イル)ビリジニウム−1−イル〕メチル〕−3−セ
フェム−手−カルボキシレート。
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミドml−3−(3
−オキシブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−
カルボン酸、a−(5−メチル−1,2,4−オキサゾ
ール−3−イル)ピリジンおよびヨウ化カリウムを用い
て、実施例1と同様にして標記化合物が得られる。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミドml−3−(3
−オキシブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−
カルボン酸、a−(5−メチル−1,2,4−オキサゾ
ール−3−イル)ピリジンおよびヨウ化カリウムを用い
て、実施例1と同様にして標記化合物が得られる。
元素分析値:C22H2oN806S2・3H20とし
て。
て。
計算値(@ : C,43,28iH,4,29iN、
18.85゜実施値(匍: C,43,]8iH,3
,96;N、 18.40゜IRスペクトルシKBrd
1°1780,1665,1620゜ax 1530.1390.1050゜ NMRスペクト/l/ (d a D M S O)δ
: 2.70 (8H’、 s )。
18.85゜実施値(匍: C,43,]8iH,3
,96;N、 18.40゜IRスペクトルシKBrd
1°1780,1665,1620゜ax 1530.1390.1050゜ NMRスペクト/l/ (d a D M S O)δ
: 2.70 (8H’、 s )。
320と3.60(2H,ABQ、J=18Hz)、a
、s’。
、s’。
(8H,S)、5.10(LH,d、J−4,5H2)
、5.20−5.80(3H,m)、6.70(IH,
s)、72o(mH。
、5.20−5.80(3H,m)、6.70(IH,
s)、72o(mH。
br、 s )、 8.20−8.50’(iH,m)
、 8.85−9.2’0(LH,’m)、9.40−
9.80(2H,m)、10.1(’LH。
、 8.85−9.2’0(LH,’m)、9.40−
9.80(2H,m)、10.1(’LH。
S)。
実施例6
7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−1−CC手
−(5−メチル−1’、2.4−101− オキサジアゾール−3−イル)ピリジニウム−1−イル
〕メチル〕−3−セフェム−4・−カルボキシレート。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−1−CC手
−(5−メチル−1’、2.4−101− オキサジアゾール−3−イル)ピリジニウム−1−イル
〕メチル〕−3−セフェム−4・−カルボキシレート。
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド:]−3−(8
−オキソブチリルオキシメチル)−8−セフェム−4−
カルボン酸、4−(5−メチル−1,2,4−オキサジ
アゾール−3−イル)ピリジンおよびヨウ化カリウムを
用いて実施例1と同様に操作すると標記化合物が得られ
る。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド:]−3−(8
−オキソブチリルオキシメチル)−8−セフェム−4−
カルボン酸、4−(5−メチル−1,2,4−オキサジ
アゾール−3−イル)ピリジンおよびヨウ化カリウムを
用いて実施例1と同様に操作すると標記化合物が得られ
る。
元素分析値:C22H2oN806S2・9/2H20
として。
として。
計算値(@ : C,41,45;H,458;N、
17.57実測値(→: C,41,54;H,4,6
2;N、 17.95′IR7,ペクト#vKBrty
;’ :’1775.’ 1670.1’620゜ax 1530.1390,1040゜ NMRスペクトル(d 6D M S OD20 )δ
:2.no(aH。
17.57実測値(→: C,41,54;H,4,6
2;N、 17.95′IR7,ペクト#vKBrty
;’ :’1775.’ 1670.1’620゜ax 1530.1390,1040゜ NMRスペクトル(d 6D M S OD20 )δ
:2.no(aH。
s)、a、aoと8.80(4H,ABq、J=i8H
z)。
z)。
5.80(IH,d、J’=4.5Hz)、5.40=
6.00(3H。
6.00(3H。
m)、6.90(IH,s)、8.80(2H,d、J
=6Hz)。
=6Hz)。
102−
9.63(2H,d、J=6H2)。
実施例7
7β−(2−(2−アミノチアゾール−手−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−F3−1:
(4−(5−インプロピル−1,2゜4−オキサジア
ゾール−3−イル)ピリジニウム−1−イル〕メチル〕
−3−ヤフエム−4−カルボキシレート。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−F3−1:
(4−(5−インプロピル−1,2゜4−オキサジア
ゾール−3−イル)ピリジニウム−1−イル〕メチル〕
−3−ヤフエム−4−カルボキシレート。
7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド:)−8−(3
−オキツブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−
カルボン酸、4−(5−イツプロビル−1,2,4−オ
キサジアゾール−3−イル)ピリジンおよびヨウ化カリ
ウムを用いて実施例1と同様に操作すると標記化合物が
得られる。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド:)−8−(3
−オキツブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−
カルボン酸、4−(5−イツプロビル−1,2,4−オ
キサジアゾール−3−イル)ピリジンおよびヨウ化カリ
ウムを用いて実施例1と同様に操作すると標記化合物が
得られる。
元素分析値°C24H24N806S2・4H20とし
て。
て。
計算値p) : C,43,90;H,4,91;N、
17.07実測値(@ : C,43,57;H,5
,25iN、 16.84゜I Rスペクト#vKBr
c;’ :1780.1680.1610゜aX 1530、 1380. 1040゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ 1.45(6
H,d。
17.07実測値(@ : C,43,57;H,5
,25iN、 16.84゜I Rスペクト#vKBr
c;’ :1780.1680.1610゜aX 1530、 1380. 1040゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ 1.45(6
H,d。
J=8Hz)、3.15(IH,ABq、J=18Hz
)。
)。
8.25−3.70(3H,m)、a、5o(aH,、
s)、 5.1a(1)(、d、 J=5T(z)、
5.33と5.86 (2H,ABq。
s)、 5.1a(1)(、d、 J=5T(z)、
5.33と5.86 (2H,ABq。
J=12Hz)、5.78(LH,d、d、J=8Hz
と45Hz)、6.70(IH,S)、7.25(2H
,br、s)。
と45Hz)、6.70(IH,S)、7.25(2H
,br、s)。
8.70(2H,d、J=6H2)、9.53−9.8
0(3H。
0(3H。
m)。
実施例8
7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔〔4−
(5−ヒドロキシ−1,2゜4−才キサジアゾール−8
−イル)ピリジニクムー■−イル〕メチル〕−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート。
(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔〔4−
(5−ヒドロキシ−1,2゜4−才キサジアゾール−8
−イル)ピリジニクムー■−イル〕メチル〕−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート。
7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド ()−a−(
a−オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4
−カルボン酸、4−(5−ヒドロキシ−1,,2,4−
オキサジアゾール−3−イル)ピリジンおよびヨウ化カ
リウムを用いて、実施例1と同様に操作すると標記化合
物が得られる。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド ()−a−(
a−オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4
−カルボン酸、4−(5−ヒドロキシ−1,,2,4−
オキサジアゾール−3−イル)ピリジンおよびヨウ化カ
リウムを用いて、実施例1と同様に操作すると標記化合
物が得られる。
元素分析値:C21H18N807S2・3H20とし
て。
て。
計算値(匍: C,4]、20 iH,3,95iN、
18.30゜実測値(@: C,4096iH,42
’7;N、1811゜I RスペクトルシKBr、”
: ]760,1680,1520゜aX 1250.1030゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ:815と35
6(2H,ABq、J=1.8H2)、a、5O(aH
,s)。
18.30゜実測値(@: C,4096iH,42
’7;N、1811゜I RスペクトルシKBr、”
: ]760,1680,1520゜aX 1250.1030゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ:815と35
6(2H,ABq、J=1.8H2)、a、5O(aH
,s)。
5.10(1,H,d、J=4.5Hz)、5.20−
5.90(3H。
5.90(3H。
m)、6.70(1,H,S)、7.20(2H,br
、s)。
、s)。
7.53(IH,S)、8.50(2H,d、J=6H
z)。
z)。
9.60(2)!、d、J=6H2)、9.40−9.
65(LH。
65(LH。
m)。
実施例9
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−((4−
(1,a、4−オキサジアゾ105− −ルー2−イル)ピリジニウム−]−]イル〕メチル〕
−3−セフェムー4カルボキシレート。
(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−((4−
(1,a、4−オキサジアゾ105− −ルー2−イル)ピリジニウム−]−]イル〕メチル〕
−3−セフェムー4カルボキシレート。
7β−(2−、(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(3
−オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−
カルボン酸、4−(1゜3.4−オキサジアゾール−2
−イル)ピリジンおよびヨウ化カリウムを用いて、実施
例1と同様に操作すると標記化合物が得られる。
−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(3
−オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−
カルボン酸、4−(1゜3.4−オキサジアゾール−2
−イル)ピリジンおよびヨウ化カリウムを用いて、実施
例1と同様に操作すると標記化合物が得られる。
元素分析値:C2□H08N806S2・3H20とし
て。
て。
計算値(@ : C,42,28iH,4,06;N、
l 8..78実測値((ロ): C,42,51i
H,4,40;N、 18.56■Rスペクトルシ¥’
;、”、’、tyn” :1780.1670.162
0゜1580、 1040゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ: 3.20
(IH,ABq、J=18Hz)、8.60−8.90
(4H,m)、5.10(LH,d、J=5Hz)、5
.85(LH,ABq、J=12Hz)、5.60−5
.90(8H,m)、6.70(IH,s)。
l 8..78実測値((ロ): C,42,51i
H,4,40;N、 18.56■Rスペクトルシ¥’
;、”、’、tyn” :1780.1670.162
0゜1580、 1040゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ: 3.20
(IH,ABq、J=18Hz)、8.60−8.90
(4H,m)、5.10(LH,d、J=5Hz)、5
.85(LH,ABq、J=12Hz)、5.60−5
.90(8H,m)、6.70(IH,s)。
7.20(2H,br、s)、8.65(2H,d、J
=6Hz)。
=6Hz)。
9.50(LH,s)、9.60−9.80(8H,m
)。
)。
106−
実施例10
7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−ノドキシイミノアセトアミド)−8−(〔3
−(1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)ピリジ
ニウム−1−イル〕メチル〕−3−セフェム−4,−カ
ルボキシレート。
2(Z)−ノドキシイミノアセトアミド)−8−(〔3
−(1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)ピリジ
ニウム−1−イル〕メチル〕−3−セフェム−4,−カ
ルボキシレート。
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド:]−3−(3−
オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カ
ルボン酸、a−(1゜8.4−オキサジアゾール−2−
イル)ピリジンおよびヨウ化カリウムを用いて、実施例
1と同様に操作すると標記化合物が得られる。
(Z)−メトキシイミノアセトアミド:]−3−(3−
オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カ
ルボン酸、a−(1゜8.4−オキサジアゾール−2−
イル)ピリジンおよびヨウ化カリウムを用いて、実施例
1と同様に操作すると標記化合物が得られる。
元素分析値°C21H18N806S2・3H,,0と
して。
して。
計算値(@ : C,42,28;H,4,06iN、
18.78実測値(@: C,4,1,95;H,4
,,36;N、 18.49I RスペクトルvKBr
tyn’ : l 780.1620,1580゜aX 1040゜ NMRスペクトル(d6−DMMo2計820と850
(2H,ABq、J−18Hz)、a、go(aH,s
)。
18.78実測値(@: C,4,1,95;H,4
,,36;N、 18.49I RスペクトルvKBr
tyn’ : l 780.1620,1580゜aX 1040゜ NMRスペクトル(d6−DMMo2計820と850
(2H,ABq、J−18Hz)、a、go(aH,s
)。
5.15(LH,d、J=4.5Hz)、5.30と5
.80(2H。
.80(2H。
ABq、J=12Hz)、5.55−5.70(LH,
m)。
m)。
6.70(IH,S)、7.20(2H,br、s)、
8.30−8.50(2H,m)、8.90−9.20
(IH,m)、9.50(IH,s)、9.75(LH
,d、J=8Hz)、IO,2゜(IH,s)。
8.30−8.50(2H,m)、8.90−9.20
(IH,m)、9.50(IH,s)、9.75(LH
,d、J=8Hz)、IO,2゜(IH,s)。
実施例11
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−a−(C4
−(5−メチル−1,,3,4−オキサジアゾール−2
−イル)ピリジニウム−1−イル〕メチル〕−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−a−(C4
−(5−メチル−1,,3,4−オキサジアゾール−2
−イル)ピリジニウム−1−イル〕メチル〕−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート。
7β−(2−(2−アミノチアゾール−手−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−8−(8−
オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カ
ルボン酸、4−(5−メチル−1,3,4−オキサジア
ゾール−2−イル)ピリジンおよびヨウ化カリウムを用
いて。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−8−(8−
オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カ
ルボン酸、4−(5−メチル−1,3,4−オキサジア
ゾール−2−イル)ピリジンおよびヨウ化カリウムを用
いて。
実施例1と同様に操作すると標記化合物が得られる。
元素分析値゛C2□I]2oN806S2・3H20と
して。
して。
計算値(@: C,4328;H,4,,29iN、
] 8.35実測値((6): C,43,05;H,
4,50;N、 18.27IRスペクトルシKBri
1°1780.1,660,1620゜aX 1540.1040゜ NMRスペク)−ル(d6−DMSO)δ:2.60(
8H,s)。
] 8.35実測値((6): C,43,05;H,
4,50;N、 18.27IRスペクトルシKBri
1°1780.1,660,1620゜aX 1540.1040゜ NMRスペク)−ル(d6−DMSO)δ:2.60(
8H,s)。
3.20(IH,ABq、J=18Hz)、3.80(
3H,s)。
3H,s)。
5.10 (]、H,d、 J=4.5Hz )’、
、5’、30と5.80 (2H。
、5’、30と5.80 (2H。
ABq、J=14Hz)、5.73(IH,d、d、J
=8Hzと5Hz)、6.65(IH,s)、7.20
(2H,br、s)。
=8Hzと5Hz)、6.65(IH,s)、7.20
(2H,br、s)。
8.60(’2H,d、J=6Hz)、9.40−9.
73(8H。
73(8H。
m)。
実施例12
7β−(:2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(C
4−(イソキサゾール−5−イル)ピリジニウム−1−
イル〕メチル〕−3−セフェム−4・−カルボキシレー
ト。
−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(C
4−(イソキサゾール−5−イル)ピリジニウム−1−
イル〕メチル〕−3−セフェム−4・−カルボキシレー
ト。
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−109−
イル) −2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−
3−(3−オキソブチリルオキシメチル)−8−セフェ
ム−4−カルボン酸、4−(イソキサゾール−5−イル
)ピリジンおよびヨウ化カリウムを用いて、実施例1と
同様の操作により標記化合物が得られる。
3−(3−オキソブチリルオキシメチル)−8−セフェ
ム−4−カルボン酸、4−(イソキサゾール−5−イル
)ピリジンおよびヨウ化カリウムを用いて、実施例1と
同様の操作により標記化合物が得られる。
元素分析値:C22H19N706S2・3H20とし
て。
て。
計算値(@ : C,44,37;H,4,28iN、
16.47実測値(@: C,4415iH,4,4
7;N、1619IRスペクトiLzνKBr品’ :
17?0.1670,1610゜ax 1580.1040゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ: 8,20−
3.60(2H,m)、 8.80(3H,s)、 5
.13(LH,d、 J−4,5Hz )、 5.80
−5.90 (3H,m)、 6.70 (3H。
16.47実測値(@: C,4415iH,4,4
7;N、1619IRスペクトiLzνKBr品’ :
17?0.1670,1610゜ax 1580.1040゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ: 8,20−
3.60(2H,m)、 8.80(3H,s)、 5
.13(LH,d、 J−4,5Hz )、 5.80
−5.90 (3H,m)、 6.70 (3H。
S)、7.25(2H,br、s)、7.60(LH,
S)。
S)。
8.30−8.43 (3H,m)、 9.30−9.
60 (3H,m)。
60 (3H,m)。
実施例18
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−ノドキシイミノアセトアミド:) −3−C
C8−(イソキサゾール−5−イル−1]、o= )ヒリシニクムメチル〕−3−セフェム−4−カルボキ
シレート。
2(Z)−ノドキシイミノアセトアミド:) −3−C
C8−(イソキサゾール−5−イル−1]、o= )ヒリシニクムメチル〕−3−セフェム−4−カルボキ
シレート。
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(3−
オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4〜カ
ルボン酸、3−<イソキサゾール−5−イル)ピリジン
およびヨウ化カリウムを用いて、実施例1と同様に操作
すると標記化合物が得られる。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(3−
オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4〜カ
ルボン酸、3−<イソキサゾール−5−イル)ピリジン
およびヨウ化カリウムを用いて、実施例1と同様に操作
すると標記化合物が得られる。
元素分析値 C22H19N706S2・7/2H,、
Oとして。
Oとして。
計算値(@: C,43,71iH,4,34;N、1
6.22実測値(@: C,4359iH,4,60i
N、15.!119I RスペクトルvKBra;n’
:1780.1670.1620゜ax 1520.1040゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ: 3.20−
3.60 (2H,m)、 3.75(3H,s)、
5.08(IH,d、 J=4.5Hz)、5.20−
5.90(3H,m)、6.70(IH,S)。
6.22実測値(@: C,4359iH,4,60i
N、15.!119I RスペクトルvKBra;n’
:1780.1670.1620゜ax 1520.1040゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ: 3.20−
3.60 (2H,m)、 3.75(3H,s)、
5.08(IH,d、 J=4.5Hz)、5.20−
5.90(3H,m)、6.70(IH,S)。
6.90(IH,S)、 7.20(2H,br、 S
)、 7.80(]H,s)7.90−8.20(IH
,m)、 8.70−8.90(LH。
)、 7.80(]H,s)7.90−8.20(IH
,m)、 8.70−8.90(LH。
m)、9.30−9.65(2H,m)、9.98(I
H,S)。
H,S)。
実施例14
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4・−イル)
−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(C
4−(ピラゾール−3−イル)ピリジニウム−1−イル
〕メチル〕−3−七フエムー4−カルボキシレート。
−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(C
4−(ピラゾール−3−イル)ピリジニウム−1−イル
〕メチル〕−3−七フエムー4−カルボキシレート。
7β−1’:2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド1)−3−(
3−オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4
−カルボン酸、4−(ピラゾール−8−イル)ピリジン
およびヨウ化カリウムを用いて、実施例1と同様に操作
すると標記化合物が得られる。
−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド1)−3−(
3−オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4
−カルボン酸、4−(ピラゾール−8−イル)ピリジン
およびヨウ化カリウムを用いて、実施例1と同様に操作
すると標記化合物が得られる。
元素分析値”22H2ON805S2”H2Oとして。
計算値(@: C,43,13iH,4,61iN、
1829゜実測値(@ : C,42,88;H,4,
81iN、 18.03゜I RスペクトルvKBra
m’ :1770,1640,1620゜ax 1530.1350.1040o I NMRスペクトル(d6−DMSO)δ:315と36
0(2H,ABQ、 J=18Hz)、 5.]、O(
IH,d、 J−4、,5Hz)、5.30−5.85
(4H,m)、6.66(LH。
1829゜実測値(@ : C,42,88;H,4,
81iN、 18.03゜I RスペクトルvKBra
m’ :1770,1640,1620゜ax 1530.1350.1040o I NMRスペクトル(d6−DMSO)δ:315と36
0(2H,ABQ、 J=18Hz)、 5.]、O(
IH,d、 J−4、,5Hz)、5.30−5.85
(4H,m)、6.66(LH。
s)、7.23(3H,br、s)、8.80(1,H
,s)。
,s)。
8.50(2H,d、J=6Hz)、9.3fl(2H
,d、J =6Hz)、9.66(IH,d、J=9H
z)。
,d、J =6Hz)、9.66(IH,d、J=9H
z)。
実施例15
7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−1−CC3
−(ピラゾール−3−イル)ピリジニウム−1−イル〕
メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−1−CC3
−(ピラゾール−3−イル)ピリジニウム−1−イル〕
メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート。
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−8−(8−
オキソブチリルオキシメチル)−8−セフェム−4−カ
ルボン酸、3−(ピラゾール−3−イル)ピリジンおよ
びヨウ化カリウムを用いて、実施例1さ同様に操作する
と標記化合物が得られる。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−8−(8−
オキソブチリルオキシメチル)−8−セフェム−4−カ
ルボン酸、3−(ピラゾール−3−イル)ピリジンおよ
びヨウ化カリウムを用いて、実施例1さ同様に操作する
と標記化合物が得られる。
元素分析値−C2□H2oN805S2・4H20とし
て。
て。
計算値(@: C,43]3iH,461iN、182
9実測値($) : C,4,2,90;H,4,85
iN、 18.00113− I RスペクトルvKBrtym’ : ]780,1
660.1620゜aX 1530、 1340.1040゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ゛320と35
0(2H,ABQ、J=18H2)、3.80(3H,
S)。
9実測値($) : C,4,2,90;H,4,85
iN、 18.00113− I RスペクトルvKBrtym’ : ]780,1
660.1620゜aX 1530、 1340.1040゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ゛320と35
0(2H,ABQ、J=18H2)、3.80(3H,
S)。
5.13(IH,d、J−==4.5Hz)、5.30
−5.90(3H。
−5.90(3H。
m)、6.70(LH,s)、7.16(2H,br、
s)。
s)。
7.60(IH,s )、 s、oo−8,30(IH
,m)、 8.46−8.90 (2H,m)、 9.
30−9.80 (8H,m)。
,m)、 8.46−8.90 (2H,m)、 9.
30−9.80 (8H,m)。
実施例16
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル’)
−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−a−(C
4−(4−メチルチアゾール−2−イル)ピリジニウム
−1−イル〕メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシ
レート。
−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−a−(C
4−(4−メチルチアゾール−2−イル)ピリジニウム
−1−イル〕メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシ
レート。
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(3−
オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4・−
カルボン酸、4−(4−メチルチアゾール−2−イル)
ピリジンおよびヨウ化カリウムを用いて、実施例1と同
様に操−11,4− 作すると標記化合物が得られる。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(3−
オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4・−
カルボン酸、4−(4−メチルチアゾール−2−イル)
ピリジンおよびヨウ化カリウムを用いて、実施例1と同
様に操−11,4− 作すると標記化合物が得られる。
元素分析値”23H21N705S3・2H20として
。
。
計算値(粉: C,45,46iH,4,15;N、
16.13実測値(→: C,45,40;H,3,9
8iN、 16.15KBrcxi’ :1770.1
675.1630゜IRスペクトルシmax 1520.1465,1380゜ NMRスペクトル(d6−DMSO−D20)δ:2.
58に’IH,S)、3.25と3.69(2H,AB
q、J=18Hz)。
16.13実測値(→: C,45,40;H,3,9
8iN、 16.15KBrcxi’ :1770.1
675.1630゜IRスペクトルシmax 1520.1465,1380゜ NMRスペクトル(d6−DMSO−D20)δ:2.
58に’IH,S)、3.25と3.69(2H,AB
q、J=18Hz)。
3.96(3H,s)、 5.24(LH,d、 J=
5Hz)。
5Hz)。
5.4’5 (LH,ABq、 J=1.3Hz )、
5.82 (LH,d。
5.82 (LH,d。
J=5Hz)、 6.92(]、H,s)、 7.73
(LH,s)。
(LH,s)。
8.49(2H,d、、T=flHz)、9.06(2
H,d、J−6Hz)。
H,d、J−6Hz)。
実施例17
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−ノドキシイミノアセトアミド)−3−C(3
−(ピラゾール−3−イル)ピリジニウム−1−イル〕
メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート。
2(Z)−ノドキシイミノアセトアミド)−3−C(3
−(ピラゾール−3−イル)ピリジニウム−1−イル〕
メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート。
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−アセト
キシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸2.oy、
a−(ピラゾール−8−イル)ピリジン20yおよびヨ
ウ化カリクム202をアセトンと水(1:i)の混合液
49 meに溶解させて70・Cで2時間かきませる。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−アセト
キシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸2.oy、
a−(ピラゾール−8−イル)ピリジン20yおよびヨ
ウ化カリクム202をアセトンと水(1:i)の混合液
49 meに溶解させて70・Cで2時間かきませる。
反応液を減圧下に濃縮し、残留物を酢酸エチル20me
で洗浄したのち水5Q+++eに懸濁させ、炭酸水素ナ
トリウムを加えて溶解させる。均一溶液をXAD−2カ
ラムクロマトグラフイーに付し。
で洗浄したのち水5Q+++eに懸濁させ、炭酸水素ナ
トリウムを加えて溶解させる。均一溶液をXAD−2カ
ラムクロマトグラフイーに付し。
10%エタノール水で溶出し、目的物を含む分画を集め
、減圧下に濃縮して凍結乾燥すると淡黄色粉末032が
得られる。氷晶は実施例15で得られた化合物とIRお
よびNMRスペクトルの一致から同一物であることが確
認された。
、減圧下に濃縮して凍結乾燥すると淡黄色粉末032が
得られる。氷晶は実施例15で得られた化合物とIRお
よびNMRスペクトルの一致から同一物であることが確
認された。
実施例18
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(C4
−(4−メチルチアゾール−2−イル)ピリジニウム−
1−イル〕メチル〕−3〜セフェム−41−カルボキシ
レート。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(C4
−(4−メチルチアゾール−2−イル)ピリジニウム−
1−イル〕メチル〕−3〜セフェム−41−カルボキシ
レート。
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−ヒドロ
キシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸2.0yを
アセトニトリルlOmeとホルムアミド]Omeの混合
液に懸濁させ、−30°Cに冷却しながら、4−(4−
メチルチアゾール−2−イル)ピリジン3.59を加え
、ついでメチル 0−フェニレンホスフェイトのジクロ
ロメタン溶液(2mmo1/me ) 10 meを加
えて2時間かきまぜる。減圧下で溶媒を留去、残留物に
アセトニトリル20meを加え、固型物を涙取する。こ
れを水20meに懸濁させて炭酸水素ナトリウムを加え
てp H8,0としたのち、 XAD〜2カラムクロマ
トグラフィーに付す。10%含水エタノールで溶出し、
目的物を含む分画を集めて減圧下に濃縮したのち凍結乾
燥すると標記化合物1.0yが得られる。氷晶は実施例
16で得た化合物とIR,NMRスペクトルの一致より
同一物と確認された。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−ヒドロ
キシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸2.0yを
アセトニトリルlOmeとホルムアミド]Omeの混合
液に懸濁させ、−30°Cに冷却しながら、4−(4−
メチルチアゾール−2−イル)ピリジン3.59を加え
、ついでメチル 0−フェニレンホスフェイトのジクロ
ロメタン溶液(2mmo1/me ) 10 meを加
えて2時間かきまぜる。減圧下で溶媒を留去、残留物に
アセトニトリル20meを加え、固型物を涙取する。こ
れを水20meに懸濁させて炭酸水素ナトリウムを加え
てp H8,0としたのち、 XAD〜2カラムクロマ
トグラフィーに付す。10%含水エタノールで溶出し、
目的物を含む分画を集めて減圧下に濃縮したのち凍結乾
燥すると標記化合物1.0yが得られる。氷晶は実施例
16で得た化合物とIR,NMRスペクトルの一致より
同一物と確認された。
一11?、一
実施例19
7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−a−C(4−
(4−メチルチアゾール−2−イル)ピリジニウム−1
−イル〕メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト。
(Z)−メトキシイミノアセトアミド)−a−C(4−
(4−メチルチアゾール−2−イル)ピリジニウム−1
−イル〕メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト。
7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−アセト
キシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸30yをク
ロロホルム20meに懸濁させ、N−メチル−N−)リ
メチルシリルトリフルオロアセトアミド4 meを加え
、20℃で均一溶液になるまで攪拌する。ついでこの溶
液にヨウ化トリメチルシリル38g!を加えて20℃で
10分間かきまぜたのち反応液を減圧下に濃縮し、残留
物にアセトニトリル9 meを加え。
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−アセト
キシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸30yをク
ロロホルム20meに懸濁させ、N−メチル−N−)リ
メチルシリルトリフルオロアセトアミド4 meを加え
、20℃で均一溶液になるまで攪拌する。ついでこの溶
液にヨウ化トリメチルシリル38g!を加えて20℃で
10分間かきまぜたのち反応液を減圧下に濃縮し、残留
物にアセトニトリル9 meを加え。
さらにテトラヒドロフラン0.8 meを加えて30分
間かきまぜる。つぎにこの溶液に4−(4−メチルチア
ゾール−2−イル)ピリジン302を加えて室温で3時
間かき捷ぜたのち9反応液118− を0°Cに冷却して水1 meを加え、析出した固型物
をP収する。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、アセトニトリルと水(4°1)の混合液で溶
出する。目的物を含む分画を集め減圧下に濃縮したのち
凍結乾燥すると標記化合物0.2yが得られる。
間かきまぜる。つぎにこの溶液に4−(4−メチルチア
ゾール−2−イル)ピリジン302を加えて室温で3時
間かき捷ぜたのち9反応液118− を0°Cに冷却して水1 meを加え、析出した固型物
をP収する。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、アセトニトリルと水(4°1)の混合液で溶
出する。目的物を含む分画を集め減圧下に濃縮したのち
凍結乾燥すると標記化合物0.2yが得られる。
実施例20
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4・−イル)
−2(Z)−ノドキシイミノアセトアミド)−8−((
4−(4−メチルチアゾール−2−イル)ピリジニウム
−1−イル〕メチル〕=3−セフェム−4−カルボキシ
レート。
−2(Z)−ノドキシイミノアセトアミド)−8−((
4−(4−メチルチアゾール−2−イル)ピリジニウム
−1−イル〕メチル〕=3−セフェム−4−カルボキシ
レート。
a) 7β−アミノ−3−(3−オキソブチリルオキシ
メチル ン酸5.oy,4−(4−メチルチアゾール−2ーイル
)ピリジン5.0yおよびヨウ化カリウム5。
メチル ン酸5.oy,4−(4−メチルチアゾール−2ーイル
)ピリジン5.0yおよびヨウ化カリウム5。
Oyをアセトニトリルと水(1:1)の混合液59ml
!に溶解させ,70°Cで2時間かきまぜる。
!に溶解させ,70°Cで2時間かきまぜる。
減圧下で溶媒を留去し,残留物にアセトニトリル3Qm
11’を加えて固型物を沢取する。これを水30meに
溶解後.XAD−2カラムクロマトグラフイーに付し,
水で溶出する。目的物を含有する分画を集めて減圧下に
濃縮したのち凍結乾燥すると7β−アミノ−3−[:C
4−(4−メチルチアゾール−2−イル)ピリジニウム
−1−イル〕メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシ
レートが1.0y得られる。
11’を加えて固型物を沢取する。これを水30meに
溶解後.XAD−2カラムクロマトグラフイーに付し,
水で溶出する。目的物を含有する分画を集めて減圧下に
濃縮したのち凍結乾燥すると7β−アミノ−3−[:C
4−(4−メチルチアゾール−2−イル)ピリジニウム
−1−イル〕メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシ
レートが1.0y得られる。
b)2−(2−アミノチアゾール−4−イル) − 2
(Z)−メトキシイミノ酢酸Q, 6 4 9と1−
ヒドロキシベンゾ!・リアゾール05yをジメチルホル
ムアミド20meに溶かし,ついでジシタロヘキシル力
ルポジイミド0.7yを加えて20℃で2時間かきまぜ
る。析出した不溶物を沢取し,P液をa)で得られた7
β−アミノ−3−((4−(4−メチルチアゾール−2
−イル)ピリジニウム−1−イル〕メチル〕−3−セフ
ェム−4−カルボキシレートlOyのジメチルホルムア
ミド2 0 me温溶液加えて20°C テa 時1間
かきまぜる。反応液にジエチルエーテル200meを加
えたのち,エーテル層を除去し,残留物を水20meに
溶解させ,XAD−2のカラムクロマトグラフィーに付
す。10%エタノール水で溶出後,目的物を含有する分
画を集めて減圧下に濃縮する。残留物を凍結乾燥すると
標記化合物0.2yが得られる。
(Z)−メトキシイミノ酢酸Q, 6 4 9と1−
ヒドロキシベンゾ!・リアゾール05yをジメチルホル
ムアミド20meに溶かし,ついでジシタロヘキシル力
ルポジイミド0.7yを加えて20℃で2時間かきまぜ
る。析出した不溶物を沢取し,P液をa)で得られた7
β−アミノ−3−((4−(4−メチルチアゾール−2
−イル)ピリジニウム−1−イル〕メチル〕−3−セフ
ェム−4−カルボキシレートlOyのジメチルホルムア
ミド2 0 me温溶液加えて20°C テa 時1間
かきまぜる。反応液にジエチルエーテル200meを加
えたのち,エーテル層を除去し,残留物を水20meに
溶解させ,XAD−2のカラムクロマトグラフィーに付
す。10%エタノール水で溶出後,目的物を含有する分
画を集めて減圧下に濃縮する。残留物を凍結乾燥すると
標記化合物0.2yが得られる。
実施例21
7β−(2−(5−アミノ−1,2.4−チアジアゾー
ル−3−イル) −2 (Z)−エトキシイミノアセト
アミド)−3−C C 4−( 1, 2。
ル−3−イル) −2 (Z)−エトキシイミノアセト
アミド)−3−C C 4−( 1, 2。
4−オキサジアゾール−3−イル)ピリジニウム−1−
イル〕メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート
。
イル〕メチル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート
。
7ρ−(2−(5−アミノチアジアゾール−3ーイル)
− 2 (7.’)−エトキシイミノアセトアミド)
−3−(3−オキソブチリルオキシメチル)−3−セフ
ェム−4−カルボン酸20y。
− 2 (7.’)−エトキシイミノアセトアミド)
−3−(3−オキソブチリルオキシメチル)−3−セフ
ェム−4−カルボン酸20y。
4−(1,2,、G−オキサジアゾール−3−イル)ピ
リジン2.0yおよびヨウ化ナトリウム20yをアセト
ニトリルと水(i:])の混合液2Qmeに溶かし,7
0℃で2時間かきまぜる。
リジン2.0yおよびヨウ化ナトリウム20yをアセト
ニトリルと水(i:])の混合液2Qmeに溶かし,7
0℃で2時間かきまぜる。
121−
反応液に酢酸エチルを加えて振り捷ぜて有機層を除いた
のち,水層をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
す。カラムをアセトンで洗浄後,反応生成物をアナトシ
゛水−7二3で溶出する。溶出液を濃縮したのちXAD
−2カラムクロマトグラフイーに付し,10%エタノー
ル水溶液で溶出する。目的物を含む分画を合わせて減圧
濃縮し,残留液を凍結乾燥すると標記化合物が得られる
。
のち,水層をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
す。カラムをアセトンで洗浄後,反応生成物をアナトシ
゛水−7二3で溶出する。溶出液を濃縮したのちXAD
−2カラムクロマトグラフイーに付し,10%エタノー
ル水溶液で溶出する。目的物を含む分画を合わせて減圧
濃縮し,残留液を凍結乾燥すると標記化合物が得られる
。
元素分析値:C2□H19N906S2・3H20とし
て。
て。
計算値(@: C, 41.24iH, 4.12 i
N, 20.61実測値(@ : C, 41.09
;H, 3.? 8 iN, 20.7 3。
N, 20.61実測値(@ : C, 41.09
;H, 3.? 8 iN, 20.7 3。
I RスペクトルvKBrc;’ :8800,176
0,1,620。
0,1,620。
aX
1520、1880.1040。
NMRスペクトル(d6−DMSO)δ:1.25(8
H, t。
H, t。
J=7Hz)、4.18(2H, q,J=7Hz)、
4.98(IH,d,J=5Hz)、5.17と5.7
0 ( 2H, ABq. J−18Hz)、5.6
8(IH,d.d,J=5Hzと8 Hz )。
4.98(IH,d,J=5Hz)、5.17と5.7
0 ( 2H, ABq. J−18Hz)、5.6
8(IH,d.d,J=5Hzと8 Hz )。
7、58(2H,d,J=6Hz)、8.16(2H,
br.s)。
br.s)。
8、74(2H, d, J=6HIZ)、 8.76
(LH, S)、9.50122− (LH,d、J=8Hz)。
(LH, S)、9.50122− (LH,d、J=8Hz)。
実施例22
7β−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−8−イル) −2(Z)−エトキシイミノアセトア
ミド)−3−1: (4〜(ピラゾール−3−イル)ピ
リジニクムーl−イル〕メチル〕−3−セフェム−4−
カルボキシレート。
ル−8−イル) −2(Z)−エトキシイミノアセトア
ミド)−3−1: (4〜(ピラゾール−3−イル)ピ
リジニクムーl−イル〕メチル〕−3−セフェム−4−
カルボキシレート。
7β−(2−(5−ア三ノー1,2.4−チアジアゾー
ル−3−イル) −2(Z)−エトキシイミノアセトア
ミド〕−3−(a−オキソブチリルオキシメチル)−3
−セフェム−4−カルボン酸、4−(ピラゾール−3−
イル)ピリジンおよびヨウ化ナトリウムを実施例21[
準じて反応させ標記化合物を得る。
ル−3−イル) −2(Z)−エトキシイミノアセトア
ミド〕−3−(a−オキソブチリルオキシメチル)−3
−セフェム−4−カルボン酸、4−(ピラゾール−3−
イル)ピリジンおよびヨウ化ナトリウムを実施例21[
準じて反応させ標記化合物を得る。
元素分析値、C2□H21N905S2・7/2H20
として。
として。
計算値(@ : C,42,71;H,4,56iN、
20.38実測値(@: C,4・257 iH,4
13iN、 2015T RスペクトルvKBram’
:8300,1760゜aX 1630.1520.1355.1035゜NMRスペ
クトル(d 6D M S O)δ:1.20(3H,
t。
20.38実測値(@: C,4・257 iH,4
13iN、 2015T RスペクトルvKBram’
:8300,1760゜aX 1630.1520.1355.1035゜NMRスペ
クトル(d 6D M S O)δ:1.20(3H,
t。
J=7Hz)、4.15(2H,q、J=7Hz)、5
.10(IH,d、J=4.5Hz)、5.18と5.
72 (2H,ABq。
.10(IH,d、J=4.5Hz)、5.18と5.
72 (2H,ABq。
J−1,4Hz)、5.70(LH,d、d、J=4.
.5Hzと8Hz)、7.20−8.30(5H,m)
、8.43(2H,d。
.5Hzと8Hz)、7.20−8.30(5H,m)
、8.43(2H,d。
J=6Hz)、9.36(2H,d、J=6Hz)、9
.45(IH,d、J=8Hz)。
.45(IH,d、J=8Hz)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (])一般式 〔式中、R1u保護されていてもよいアミン基を、Qは
窒素原子またはC−R2で表わされる基を、R2は水素
原子またはハロゲン原子を。 R3は水素原子または置換されていてもよい炭化水素残
基を、R4は水素原子またはメトキシ基を、R5は置換
されていてもよい含窒素芳香族複素環基を、■はピリジ
ン環上にさらに置換基を有していてもよいことを、nは
0まだはlを示す〕で表わされるセフェム化合物捷たは
その生理学的または薬学的に受容される塩もしくはエス
テル。 (2)■ 一般式 〔式中、R4は水素原子捷たけメトキシ基を。 R5は置換されていてもよい含窒素芳香族複素環基を、
■はピリジン環上にさらに置換基を有していてもよいこ
とを、nは0または1を示す〕で表わされる化合物また
はその塩もしくはエステルと一般式 〔式中、Roは保護されていてもよいアミノ基を、Qは
窒素原子捷たはC−R2で表わされる基を、R2は水素
原子捷だはハロゲン原子を。 R3は水素原子または置換されていてもよい炭化水素残
基を示す〕で表わされる化合物またばその反応性誘導体
とを反応させるか。 ■ 一般式 〔式中、R1、は水酸基、アシルオキシ基、カルバモイ
ルオキシ基、置換カルバモイルオキシ基型たはハロゲン
原子を、その他の記号は前記と同意義を示す〕で表わさ
れる化合物ま〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表
わされる化合物とを反応させるか。 ■ 一般式 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる化合
物またはその塩もしくはエステルと一般式R4OHC式
中 RSは置換されていてもよい炭化水素残基を示す〕
で表わされる化合物井たはその反応性誘導体とを反応さ
せるか、捷だは ■ 一般式 〔式中、Xはハロゲン原子またはR65020で表わさ
れる基を、R6は低級アルキル基型たは置換されていて
もよいフェニル基を、その他の記号は前記と同意義を示
す〕で表わされる化合物またはその塩もしくはエステル
と一般式R1C(−8)NH2〔式中、R1は前記表同
意義を示す〕で表わされる化合物とを反応させるか。 したのち要すれば保護基の除去を行うことを特徴とする
一般式 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされるセフ
ェム化合物捷たはその生理学的または薬学的に受容され
る塩もしくはエステルの製造法。 (3)一般式 〔式中、R1は保護されていてもよいアミン基を、Qは
窒素原子捷たばC−R2で表わされる基を、R2は水素
原子捷たはハロゲン原子を。 R3は水素原子または置換されていてもよい炭化水素残
基を、R4は水素原子またはメトキシ基を、R5は置換
されていてもよい含窒素芳香族複素環基を、■はピリジ
ン環上にさらに置5− 換基を有していてもよいことを、nは0捷たはlを示す
〕で表わされるセフェム化合物捷たはその生理学的また
は薬学的に受容される塩もしくはエステルの少くとも1
種以上を含有する医薬組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/US1984/000234 WO1984003370A1 (en) | 1983-02-25 | 1984-02-21 | Controllable rotary actuator |
MC84/00234 | 1984-05-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60237090A true JPS60237090A (ja) | 1985-11-25 |
Family
ID=22182051
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9764585A Pending JPS60237090A (ja) | 1984-02-21 | 1985-05-07 | セフエム化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60237090A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS617280A (ja) * | 1984-06-20 | 1986-01-13 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | セフアロスポリン誘導体 |
JPS6236385A (ja) * | 1985-08-05 | 1987-02-17 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 3,7−ジ置換−3−セフエム化合物およびその製造法 |
JPS62145090A (ja) * | 1985-12-18 | 1987-06-29 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | セフエム化合物 |
EP0771803A1 (en) | 1995-10-17 | 1997-05-07 | KATAYAMA SEIYAKUSYO CO. Ltd. | Pyrazolo(1,5-a)pyrimidinium substituted cephem derivatives, their preparation and their use as antimicrobial agents |
WO1997037996A1 (fr) * | 1996-04-04 | 1997-10-16 | Shionogi & Co. Ltd. | Composes de cephem et medicaments contenant ces composes |
-
1985
- 1985-05-07 JP JP9764585A patent/JPS60237090A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS617280A (ja) * | 1984-06-20 | 1986-01-13 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | セフアロスポリン誘導体 |
JPS6236385A (ja) * | 1985-08-05 | 1987-02-17 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 3,7−ジ置換−3−セフエム化合物およびその製造法 |
JPS62145090A (ja) * | 1985-12-18 | 1987-06-29 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | セフエム化合物 |
EP0771803A1 (en) | 1995-10-17 | 1997-05-07 | KATAYAMA SEIYAKUSYO CO. Ltd. | Pyrazolo(1,5-a)pyrimidinium substituted cephem derivatives, their preparation and their use as antimicrobial agents |
WO1997037996A1 (fr) * | 1996-04-04 | 1997-10-16 | Shionogi & Co. Ltd. | Composes de cephem et medicaments contenant ces composes |
US6214818B1 (en) * | 1996-04-04 | 2001-04-10 | Shionogi & Co., Ltd. | Cephem compounds and pharmaceutical compositions containing the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4264595A (en) | 7-[2-(2-Imino-4-thiazolin-4-yl)-2-(syn)-hydroxy-iminoacetamido]-cephalosporins | |
FI66618C (fi) | Foerfarande foer framstaellning av terapeutiskt verkande 7-(2-(2-aminotiazol-4-yl)-2-(syn)-metoxi-iminoacetamido-cefalosporinderivat | |
JP2618119B2 (ja) | チオアルキルチオセファロスポリン誘導体 | |
JPH0257074B2 (ja) | ||
KR910000035B1 (ko) | 세팔로스포린 화합물, 이의 제법 및 이를 함유하는 약학적 조성물 | |
KR920008953B1 (ko) | 항균 화합물의 제조방법 | |
KR920004823B1 (ko) | 항균 화합물의 제조방법 | |
EP0216385A2 (en) | Antibacterial compounds | |
US4758557A (en) | Cephalosporin derivatives and bactericides containing the same | |
JPS60237090A (ja) | セフエム化合物 | |
US4382931A (en) | 3'-Substituted quinolinium cephalosporins | |
IE60163B1 (en) | Antibacterial compounds, their production and use | |
US4388316A (en) | Amino-substituted oxazole, oxadiazole and isoxazole-substituted cephalosporins | |
KR920004837B1 (ko) | 세펨화합물의 제조방법 | |
JP2519054B2 (ja) | 新規セフェム化合物 | |
US4239758A (en) | Cephalosporins | |
JPH0859669A (ja) | セフェム化合物、その製造法及び剤 | |
JPH0699450B2 (ja) | 抗菌性化合物 | |
JPH07101958A (ja) | セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 | |
EP0160969A2 (en) | Cephem compounds | |
GB2051066A (en) | Cephalosporin derivatives suitable for oral administration | |
JPH07101960A (ja) | セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 | |
US4963542A (en) | Cephalosporin derivatives | |
EP0228061A2 (en) | Cephem compounds | |
JPH0830070B2 (ja) | 抗菌性化合物 |