JPS62132886A - セフオジジムの製法 - Google Patents

セフオジジムの製法

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JPS62132886A
JPS62132886A JP61288656A JP28865686A JPS62132886A JP S62132886 A JPS62132886 A JP S62132886A JP 61288656 A JP61288656 A JP 61288656A JP 28865686 A JP28865686 A JP 28865686A JP S62132886 A JPS62132886 A JP S62132886A
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    • C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 次式のセフオシジム（ｃｅｆｏｄｉｚｉｍｅ　）　（Ｈ
Ｒ２２１）（セフオシジム） は、その襄法および良好な抗生物質活性が文献により知
られている抗生物質である。これはカルボキシル基にお
いて活性化された次式のＡＴＳ（ＡＴＳ） を次式のＴａＯ２ （ＴａＯ２） と反応させることＫより得られる。セファロスポリン類
を製造するための特に好適な方法は欧州特許出願公開第
２３４５３号明細書に記載されている。
しかしこの方法をセフオシジムの製造に用いると、目的
とするセフオシジムのほかに約５〜１５％の副生物が生
成する。副生物の含量は種々の有効な精製工程により低
下させることができるが、副生物を完全にセフオシジム
から除くことはできない。
さらにこれらの精製法（例えばクロマトグラフィーまた
は再結晶）は複雑であり、実質的に総収率を低下させる
ので、価格を高める。
従って副生物の生成を抑えるために反応パラメーターを
変える試みが多数なされた。例えばモル比、温度、反応
時間、溶剤、塩基（添加しても添加しなくてもよい）、
および活性化剤を変えること、あるいは他の物質を添加
することである。こ本発明者らは他の添加物を調べてい
る際に意外にもシリル化剤をＴａＯ２に添加することに
より副生物の生成がほぼ完全に防止されることを見出し
た。
従って本発明は、 （ａ）　　式ＩＩ（ＡＴＳ） （式中Ｒ１は水素原子またはアミン保護基を表わし、Ａ
は水素原子または１当量のアルカリ金属、アルカリ土金
属、アンモニウムもしくは有機窒素塩基を表わす）の化
合物をまず式■Ｒ−８０２−Ｈａｌ （式中Ｒは置換されていてもよいＩアルキル基、アリー
ル基またはアルアルキル基を表わし、Ｈａｌはハロゲン
原子な式わす）の化合物と、有機溶剤中で、場合により
塩基の存在下に反応させ、（ｂ）式（（ＴＡＣ８） （式中人は前記の意味をもつ）の化合物をシリル化剤と
、有機溶剤中で、場合により塩基の存在下に反応させ、
そして （０）　　（ａ）および（ｂ）で得られた２種の生成物
をそれらの反応液中で反応させ、目的生成物中に保Ｊ基
Ｒ１が存在する場合にはこれ１に離脱させることよりな
る、次式 ％式％） の製法に関する。
Ａは水素原子またはアンモニウムを表わす他にさらに１
当量のアルカリ金属、例えばナトリウムもしくはカリウ
ム、アルカリ土金属、例えばカルシウムもしくはマグネ
シウム、または有機窒素塩基、例えばジエチル−、トリ
メチル−、トリエチル−、メチル−、プロピル、Ｎ、Ｎ
−ジメチルエタノール−もしくはエタノール−アミンな
ａｈすごとができる。
適切な保護基Ｒ１はセファロスポリン化学またはＲプテ
ド化学においてアミノ保護基として述べられたもの、例
えば欧州特許出願公開第２３４５３号明細書３頁４３〜
６３行に挙げられたものである。
Ｒ１が水素原子を表わす化合物を本発明に用いることが
好ましい。アミノ基の保護は強制されないので、２工程
（保護および脱Ｍ１）を省くことができ、これにより更
に収率が高まる。
弐■の適切な化合物は文献にカルボン酸との反応に適し
たものとして記載されたすべてのもの、例えば塩化メタ
ンスルホニルまたは塩化トシルであり、活性化されたカ
ルボン酸基−ＣＯＯ８０２Ｒが形成されるであろう。良
好な反応性をもち、容易に得られるため、塩化ｐ−）シ
ルまたは塩化フェニルスルホニルなどの化合物が好まし
い。Ｈａｌが塩素原子′ｆ５：表わす弐■の化合物も好
ましい。
式■の化合物と式■の化合物の反応は無水の有機溶剤、
例えばアセトン、酢酸エチル、テトラヒト９０フラン、
アセトニトリル、四塩化炭素、塩化メチレン、トルエン
、ジオキサン、イソプロピルエーテル、Ｎ−メチルピロ
リド３ンまたはジメチルホルムアミド９、好ましくはジ
メチルアセドアぐド中で、約−３０〜Ｏ℃、好ましくは
−１０〜−１５℃の温度で行うことができる。
式■の化合物を遊離ｒＲ（Ａ＝水素原子）の形で用いる
場合、塩基、好ましくは有機窒素塩基、例えばトリエチ
ルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、トリブチルアミ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジンもしくはピコリン
、または例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水
素ナトリウムもしくは炭酸水素カリウム、特にトリエチ
ルアミンを添加することが有利である。式■のカルボン
酸を前記の塩のうちの１つの形で用いる場合は、塩基の
添加は省くことができる。
次いで、後続の反応を下記の通り行う。すなわち式■（
ＴＡＣ８）の化合物を無水の有機溶剤、例えば塩化メチ
レン、ジメチルアセトアミド、メチル−ｔ−ブチルエー
テル、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル又は酢酸ア
ミル、特に塩化メチレンまたはメチル−ｔ−ブチルエー
テル中で、約３モル当量のシリル化剤、好ましくはトリ
メチルクロルシランと（シリル化剤に対し）、はぼ化学
量論的量の有機窒素塩基、特にトリエチルアミンの存在
下で反応させ、次いで生成物を弐■の化合物との反応に
より活性化された式■のカルボン酸と反応させる。
トリメチルクロルシランの代りに他のシリル化剤、例え
ばビスートリメチルシリルアセトアミｒ１ジクロルジメ
チルシ２ン、トリクロルメチル７ランまたはＮ、　Ｎ’
−ビス−トリメチルシリル尿素を用いることもでき、こ
れら他のシリル化剤のうちビス−トリメチルシリルアセ
トアミｒが好ましい。
３モル当量よりも僅かに過剰のシリル化剤は反応に不利
な影響を与えない。
ビス−トリメチルシリルアセトアミドまたはＮ。
Ｎ′−ビス−トリメチルシリル尿素を用いる場合、シリ
ル化に際して塩基を添加する必要はない。この場合、結
合すべき塩酸が生成しないからである。
式■の化合物のシリル化は約２０〜２５℃の温度で行わ
れる。温度を例えば約４０℃（塩化メチレンの沸点）に
まで高めることもできる。
活性化されたＡＴＳをシリル化されたＴａＯ２と有利に
は以下により一緒にする。すなわち活性化されたＡＴＳ
の溶液なシリル化されたＴａＯ８の溶液に、約−２０〜
０℃、好ましくは−１０〜−１２℃の温度で、生じる反
応熱が容易に伝達除去されるのに十分なほど緩徐に、例
えばに〜２時間にわたって添加する。
反応混合物を短期間攪拌し、次いで既知の方法で仕上げ
処理する。例えばこれを、例えば有機窒素塩基（特にト
リエチルアミン）の添加によりｐＨ値が約６．０〜７．
５に維持された水に注入することができる。相を分離し
たのち、酢酸ナトリウムを溶解した水で有機相を再抽出
する。水相を合わせて必要な場合には更に例えば活性炭
で透明にし、これから鉱＃！Ｉ（例えば硫ｅＲ）の添加
によりｐＨ値を約２．８に調整することによって、セフ
オシジムを遊離酸として沈殿させることができる。
アミノ保護基Ｒ１をもつ式■のカルボン酸を用いた場合
、文献記載の方法により行われるこの基の除去を仕上げ
処理の前に行わなければならない。
僅かに高められた温度で真空中において乾燥させたのち
、セフオシジム（酸）が極め【純粋な形で得られる。
前述のように副生物の含量が１％よりもはるかに低い値
にまで予想外に低下したほかに、以下の点も指摘すべき
である。すなわち例えば前記欧州特許出顔公開第２３４
５３号明細書の実施例８〜１２では、アシル化Ｋｌ！Ｍ
Ｌ’″Ｃ−７０〜−７２℃の反応温度が用いられている
。これに対し本発明による反応は約−２０〜Ｏ℃の温度
で行うことができ、これにより品質または収率が低下す
ることはない。この事実はセフオシジムの工業的製造に
関してかなり重要である。これにより作業時間を短縮で
き、冷却容量を縮小できるからである。
実施例　１゜ 工程１゜ ジメチルアセトアミド５２Ｋｆ中のＡＴＳ１７．５Ｋｆ
（８７，１モル）′％ニトリエチルアミン８．９５に４
（８８，６モル）により、２０〜２２℃の温度で３０分
間攪拌しながらアンモニウム塩に変えた。
塩化ｐ−トルエンスルホニル１９Ｋｆ（６８，０モル）
を２０〜２５℃において３０分間でジメチルアセトアミ
ド”１３．２Ｋｇに溶解し、この溶液を一１θ〜−１４
℃において３０分間でＡＴＳのトリエチルアンモニウム
塩の懸濁液に流入させ、更に２．５時間攪拌を続けた。
工程λ ＴａＯ８２３，７〜（５９，０モル）を塩化メチレン２
１２ｔに懸濁し、トリメチルクロルシラン１９．７Ｋｅ
（１８１，０モル）を２０〜２５℃で流入させ、　トリ
エチルアミン１８．２に４Ｆ（１８０，０モル）を２０
〜４１℃の温度（塩化メチレンの：ｌｔｌ源流）におい
て３０分間で添加した。
添加が終了した時点で溶液をきわめて速やかに一１５℃
に冷却し、工程ｌの記載に従って得た活性化されたＡＴ
Ｓの溶液を−１０〜−１２℃において３０分間で添加し
た。更に５分間攪拌を続けたのち反応混合物を水１４３
１およびトリエチルアミン１９、３　Ｋ４の混合物に５
〜１０分間で流入させた。その際ｐＨは６〜７５に維持
された。相を分離したのち塩化メチレン相を２．２Ｋｉ
Ｉの酢酸ナトリウム・３Ｈ２０が溶解された水７０１で
再抽出した。水相な合わせて活性炭１．２Ｋｆおよびシ
カライ）１．２１’ｖで透明にし、次いで１８チ濃度の
硫酸なｐＨｉ直ｚ８に達するまで添加することにより、
セフオシジムが遊ｓｎの形でこれらの相から沈殿した。
生成物をｒ別し、４０℃で１００＋ａａＨｇにおいて乾
燥させたのち、セフオシジム３０．６　ＫｆがＨＰＬＣ
分析により９６〜９７面ｍ％の純度で得られた。
実施例　２ 工程１：実施例１に述べた方法に相当する。
工程２ ＴＡＣ８２３，７Ｋｆ（５９，０モル）を塩化メチレン
２１２−に懸濁し、ビス−トリメチルシリルアセトアミ
ド３６．０Ｋｇ（１７７，０モル）を添加した。２０〜
２５℃で３０分間攪拌したのち、透明な溶液を一１５℃
に冷却し、工程ｌの記載に従って得た活性化されたＡＴ
Ｓの溶液を−１０〜−１２℃において３０分間で添加し
た。５分間攪拌したのち反応混合物を５〜１０分間で水
１４３１に流入させ、同時にトリエチルアミンによりｐ
Ｈ値を６．０〜７５に維持した。相を分離したのち、２
．２に９の酢酸ナトリウム・３Ｈ２０を含む水７０ＫＩ
ｉで有機相を再抽出した。水相を合わせて活性炭１．２
Ｋｆおよびシカライ）１．２Ｋｆで透明にし、１８チ濃
度の硫酸をｐＨ値が２．８になるまで添加することによ
り生成物を沈殿させた。生成物ｔｔｆ別し、４０℃で１
００龍Ｈ９において乾燥させたのち、セフオシジム３０
．０　Ｋｇが遊離酸の形で、ＨＰＬＣ分析により９５〜
９７面積チの純度において得られた。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）（ａ）式II（ＡＴＳ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１は水素原子またはアミノ保護基を表わし、
    Ａは水素原子、または１当量のアルカリ金属、アルカリ
    土金属、アンモニウムもしくは有機窒素塩基を表わす）
    の化合物をまず 式III Ｒ−ＳＯ＿２−Ｈａｌ （式中Ｒは置換されていてもよいアルキル基、アリール
    基またはアルアルキル基を表わし、Ｈａｌはハロゲン原
    子を表わす）の化合物と、有機溶剤中で、場合により塩
    基の存在下に反応させ、（ｂ）式 I （ＴＡＣＳ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ａは上記の意味をもつ）の化合物をシリル化剤と
    、有機溶剤中で、場合により塩基の存在下に反応させ、
    そして （ｃ）（ａ）および（ｂ）で得られた２種の生成物をそ
    れらの反応液中で反応させ、目的生成物中に保護基Ｒ＿
    １が存在する場合にはこれを離脱させることよりなる、
    次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （セフオジジム） のセフオジジムの製法。
  2. （２）式IIIの化合物においてＲがｐ−トシル基または
    フェニル基を表わし、Ｈａｌが塩素原子を表わす、特許
    請求の範囲第１項に記載の方法。
  3. （３）Ｒがｐ−トシル基を表わす、特許請求の範囲第２
    項に記載の方法。
  4. （４）式II（ＡＴＳ）の化合物においてＲ＿１およびＡ
    が水素原子を表わす、特許請求の範囲第１項ないし第３
    項のいずれか１項に記載の方法。
  5. （５）工程（ａ）で用いられる溶剤がアセトン、ジメチ
    ルアセトアミド、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ア
    セトニトリル、四塩化炭素、塩化メチレン、トルエン、
    ジオキサン、イソプロピルエーテル、ｎ−メチルピロリ
    ドンまたはジメチルホルムアミドである、特許請求の範
    囲第１項ないし第５項のいずれか１項に記載の方法。
  6. （６）溶剤がジメチルアセトアミドである、特許請求の
    範囲第５項に記載の方法。
  7. （７）シリル化剤がトリメチルクロルシラン、ジクロル
    ジメチルシラン、トリクロルメチルシランビス−トリメ
    チルシリルアセトアミドまたはＮ，Ｎ′−ビストリメチ
    ルシリル尿素である、特許請求の範囲第１項ないし第６
    項のいずれか１項に記載の方法。
  8. （８）シリル化剤がトリメチルクロルシランである、特
    許請求の範囲第７項に記載の方法。
  9. （９）ＴＡＣＳに対し３モル当量のシリル化剤が用いら
    れる、特許請求の範囲第７項または第８項に記載の方法
    。
  10. （１０）工程（ｂ）で用いる溶剤が塩化メチレン、ジメ
    チルアセトアミド、メチル−ｔ−ブチルエーテル、メチ
    ルイソブチルケトン、酢酸ブチルまたは酢酸アミルであ
    る、特許請求の範囲第１項ないし第８項のいずれか１項
    に記載の方法。
  11. （１１）溶剤が塩化メチレンまたはメチル−ｔ−ブチル
    エーテルである、特許請求の範囲第９項に記載の方法。
  12. （１２）各工程で場合により添加される塩基がトリエチ
    ルアミンである、特許請求の範囲第１項ないし第１０項
    のいずれか１項に記載の方法。
  13. （１３）工程（ａ）の反応が約−３０〜０℃の温度で行
    われる、特許請求の範囲第１項ないし第１１項のいずれ
    か１項に記載の方法。
  14. （１４）工程（ｂ）の反応が約−２０〜０℃の温度で行
    われる、特許請求の範囲第１項ないし第１２項のいずれ
    か１項に記載の方法。
JP61288656A 1985-12-03 1986-12-03 セフオジジムの製法 Expired - Lifetime JPH0686460B2 (ja)

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DE3542644.6 1985-12-03

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TN (1) TNSN86154A1 (ja)
TW (1) TW467915B (ja)
YU (1) YU45807B (ja)
ZA (1) ZA869079B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63277573A (ja) * 1987-05-08 1988-11-15 Toshiba Corp 高熱伝導性窒化アルミニウム焼結体の製造方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2006988A6 (es) * 1988-06-20 1989-05-16 Gema Sa Procedimiento de preparar hidrocloruro cloruro-2-(2-aminotiazol-4-il)-2-metoxiiminoacetil-sulfito-dimetilformiminio y procedimiento de utilizacion del mismo para obtencion de amidas.
EP0377987A3 (en) * 1988-12-27 1991-08-28 Eli Lilly And Company Acylation process for obtaining cephalosporin derivatives
DE4026630A1 (de) * 1990-08-23 1992-02-27 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von kristalliner tacs
MX9700872A (es) * 1994-08-02 1997-05-31 Procter & Gamble Procedimiento para producir antimicrobianos de quinolonil-lactama y compuestos intermediarios novedosos.
NZ290721A (en) * 1994-08-02 1999-03-29 Procter & Gamble Process for making quinolone-containing antimicrobial compounds
EP0791597B1 (en) * 1996-02-21 2000-07-12 Lupin Laboratories Limited Method for manufacture of cephalosporins and intermediates thereof
EP0791596A1 (en) * 1996-02-21 1997-08-27 Lupin Laboratories Limited Method for manufacture of cephalosporins and intermediates thereof
CN108997378A (zh) * 2018-07-25 2018-12-14 上海上药新亚药业有限公司 一种头孢地嗪酸的制备方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2714880A1 (de) * 1977-04-02 1978-10-26 Hoechst Ag Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung
FR2462439A1 (fr) * 1979-07-26 1981-02-13 Roussel Uclaf Nouveau procede de preparation de produits derives de l'acide 7-/(2-aryl) 2-hydroxyimino acetamido/cephalosporanique
DE3145727A1 (de) * 1981-11-19 1983-05-26 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Zwischenprodukte, verfahren zu deren herstellung und verfahren zur herstellung von cephalosporinen
DE3316797A1 (de) * 1983-05-07 1984-11-08 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung von cephemverbindungen
DE3316798A1 (de) * 1983-05-07 1984-11-08 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung von cephemverbindungen
IT1180207B (it) * 1984-07-30 1987-09-23 Istituto Biochimico Italiano Procedimento per la preparazione, con resa e purezza elevate, di antibiotici beta-lattamici

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63277573A (ja) * 1987-05-08 1988-11-15 Toshiba Corp 高熱伝導性窒化アルミニウム焼結体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
NO166325C (no) 1991-07-03
PT83858B (pt) 1989-07-31
EG17611A (en) 1990-06-30
HUT43858A (en) 1987-12-28
CA1287347C (en) 1991-08-06
MA20818A1 (fr) 1987-07-01
IL80816A (en) 1992-06-21
AU6602086A (en) 1987-06-04
YU45807B (sh) 1992-07-20
YU206186A (en) 1987-10-31
FI84829C (fi) 1992-01-27
US4868295A (en) 1989-09-19
DK164671B (da) 1992-07-27
ATE90682T1 (de) 1993-07-15
DE3688587D1 (de) 1993-07-22
FI84829B (fi) 1991-10-15
HK86995A (en) 1995-06-09
AU585414B2 (en) 1989-06-15
DK579486D0 (da) 1986-12-02
NZ218452A (en) 1989-01-06
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IL80816A0 (en) 1987-03-31
EP0226093A2 (de) 1987-06-24
DD252606A5 (de) 1987-12-23
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JPH0686460B2 (ja) 1994-11-02
PT83858A (de) 1987-01-01
TW467915B (en) 2001-12-11
IE60571B1 (en) 1994-07-17
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CS259544B2 (en) 1988-10-14
NO864836D0 (no) 1986-12-02
DK579486A (da) 1987-06-04
FI864886A (fi) 1987-06-04

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