JPH0680760A - 不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂の製造方法及び該樹脂を含有するホトソルダーレジスト樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 光硬化後の樹脂塗膜の密着性、耐熱性、耐湿
性及び現像性に優れたホトソルダーレジストに好適に使
用しうる新規な化合物の製造方法を提供すること。 【構成】 エポキシ樹脂を（メタ）アクリル酸と反応さ
せてエポキシ樹脂の（メタ）アクリレートを製造し、更
に該（メタ）アクリレートに多塩基性カルボン酸又はそ
の無水物を反応させて不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂
を製造するにおいて、エポキシ樹脂の前駆体として、ナ
フトールをアルデヒドで縮合した重量平均分子量３００
〜２０００のポリヒドロキシナフタレン化合物を用いる
ことを特徴とする不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂の製
造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規な不飽和基含有ポリ
カルボン酸樹脂の製造方法及び該樹脂を含有する樹脂塗
膜の耐熱性、耐湿性に優れ、かつ希アルカリ水にて現像
可能な液状ホトソルダーレジスト樹脂組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】エポキシ樹脂とアクリル酸あるいはメタ
クリル酸との反応によって得られるエポキシ（メタ）ア
クリレート類は従来からＵＶ硬化塗料、ＵＶ硬化イン
キ、ＵＶレジストインキ、不飽和ポリエステル樹脂の改
質用などに多用されてきた。

【０００３】従来のエポキシ（メタ）アクリレート類の
製造原料となるエポキシ樹脂としては、ビスフェノール
Ａのジグリシジルエーテルなどに代表される芳香族エポ
キシ樹脂、トリメチロールプロパントリグリシジルエー
テルなどに代表される脂肪族エポキシ樹脂、水添ビスフ
ェノールＡのジグリシジルエーテルに代表される脂環式
エポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂など
が用いられてきた。

【０００４】特にプリント配線板などに用いられるホト
ソルダーレジスト類に用いられるエポキシ（メタ）アク
リレート類のエポキシ樹脂としてはフェノールノボラッ
クタイプの樹脂がその耐熱性、絶縁性などから用いられ
てきた。

【０００５】しかしながら、従来の熱硬化型エポキシ樹
脂と比較し、樹脂塗膜の耐熱性、密着性、耐湿性に劣
り、業界ではこれら特性の優れたエポキシ（メタ）アク
リレート類が待望されていた。

【０００６】更に、最近のエレクトロニクス機器類の小
型化、高機能化によりプリント回路のパターン密度の精
度向上の要求が高くなり、従来の紫外線硬化型のソルダ
ーレジストインキを用いたスクリーン印刷法では印刷精
度の問題からエレクトロニクス業界からの要望に答えに
くくなり、最近においては写真法によるレジストが開発
されようとしている。しかも昨今の大気汚染問題、安全
性、作業性から溶剤現像でなく、アルカリ水現像のもの
が要望されている。

【０００７】このような観点から従来スクリーン印刷法
のＵＶソルダーインキに用いられてきたフェノールノボ
ラックエポキシアクリレートの水酸基を多塩基性酸もし
くはその無水物にて反応しハーフエステル化することに
より不飽和基を含有するポリカルボン酸としアルカリ現
像型のホトソルダーレジスト組成物として開発が進めら
れている。

【０００８】しかしながら前記したように従来のフェノ
ールノボラックを骨格としたものでは樹脂塗膜の耐熱
性、密着性、耐湿性共に不十分であり、業界からは強い
改良要請があった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者らは前
記従来技術に鑑み、光硬化後の樹脂塗膜の耐熱性、密着
性、耐湿性に優れ、かつ希アルカリ水にて現像可能なホ
トソルダーレジストとして好適に使用し得る化合物を見
いだすべく、鋭意研究を重ねた結果、前記性能を満足し
得る化合物の製造方法を見いだした。

【００１０】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明はエポキ
シ樹脂を（メタ）アクリル酸と反応させてエポキシ樹脂
の（メタ）アクリレートを製造し、更に該（メタ）アク
リレートに多塩基性カルボン酸又はその無水物を反応さ
せて不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂を製造するにおい
て、エポキシ樹脂の前駆体として、ナフトール類をアル
デヒドで縮合した平均分子量３００〜２０００のポリヒ
ドロキシナフタレン化合物を用いることを特徴とする不
飽和基含有ポリカルボン酸樹脂の製造方法を提供する。

【００１１】また該樹脂を含有する樹脂組成物は希アル
カリ水にて現像可能なホトソルダーレジスト樹脂組成物
として特に有用である。

【００１２】（手段を構成する要件）本発明の化合物の
製造方法は下記の４つの製造工程からなり、それは
（イ）ナフトール類をアルデヒドによってポリヒドロキ
シナフタレン化合物とする縮合工程（ロ）ポリヒドロキ
シナフタレン化合物をエピハロヒドリンで多官能性エポ
キシ樹脂とするエポキシ化工程（ハ）多官能性エポキシ
樹脂を（メタ）アクリル酸でエステル化する（メタ）ア
クリレート化工程（ニ）エポキシ（メタ）アクリレート
を多塩基性カルボン酸又はその無水物と反応させてカル
ボキシル基を導入するカルボキシル化工程である。４つ
の製造工程を順に説明する。

【００１３】（イ）縮合工程 本発明に使用するナフトール類とはα−ナフトール、β
−ナフトール及び１．５−ジヒドロキシナフタレン、
１、７−ジヒドロキシナフタレン、２、６−ジヒドロキ
シナフタレン等のジヒドロキシナフタレンであり、アル
デヒドは例えばホルムアルデヒド、アセトアルデヒドグ
リオキザールなどの脂肪族アルデヒド、ベンズアルデヒ
ド、サリチルアルデヒドなどの芳香族アルデヒドが挙げ
られる。これらナフトール、アルデヒドは１種類どうし
の組み合わせでも、２種類以上の組み合わせでも良い。

【００１４】縮合物を得るための各成分の使用量はナフ
トール類１モルに対しアルデヒド０．３〜０．９モルが
望ましい。アルデヒド成分の使用量が少ない場合は、縮
合物は重量平均分子量が小さくなるためエポキシ樹脂の
（メタ）アクリレートの硬化樹脂としての耐熱性が悪く
なり、多すぎる場合は重量平均分子量が高くなりすぎて
（メタ）アクリレート化に不都合となる。従ってこの縮
合物の重量平均分子量については３００〜２０００、好
ましくは４００〜１５００である。

【００１５】重量平均分子量はすべて分子量既知のポリ
スチレンを用いたゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー（ＧＰＣ法）により行い、測定条件は下記に示すと
おりである。 溶媒：テトラヒドロフラン、流量：０．８ｍｌ／ｍｉｎ カラム：東洋曹達工業（株）製 Ｇ４０００Ｈ、Ｇ３０
００Ｈ、Ｇ２０００Ｈ（直列）であって、排除限界分子
量が各々４０万、６万、１万である。 担体：スチレンジビニルベンゼン共重合体

【００１６】縮合に際しては必要に応じて酸触媒や溶媒
を用いても良い。使用できる酸触媒としては、硫酸、塩
酸、硝酸、臭化水素酸などの鉱酸、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸類、シュウ
酸、コハク酸、マロン酸などの有機酸類が例示される。

【００１７】一方使用できる溶媒としては反応に不活性
な種々の有機溶媒、例えば、ベンゼン、トルエンなどの
芳香族炭化水素、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンな
どのハロゲン化炭化水素、メチルケトン、メチルイソブ
チルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフランなどの
エーテル類、ジメチルスルフォキシド、ジメチルスルフ
ォアミドなどの非プロトン性極性溶媒、これらの混合溶
媒などが挙げられる。これら溶剤の使用量は任意で良い
が、通常ナフトール類の１０〜２００重量％である。反
応終了後、これらの溶剤は加熱減圧下や加熱常圧下で除
去される。

【００１８】この縮合工程によって得られたポリヒドロ
キシナフタレン化合物を用いることによって、本発明に
よって得られた不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂はホト
ソルダーレジスト用として硬化後の樹脂塗膜の耐熱性、
密着性、耐湿性及び現像性に優れた性能を発現する。

【００１９】（ロ）エポキシ化工程 縮合工程によって得られたポリヒドロキシナフタレン化
合物をエポキシ化するに際しては従来のビスフェノール
Ａ型エポキシ樹脂の製造と同様に、ナフトール性ＯＨ基
に対し等量以上のエピハロヒドリン例えばエピクロルヒ
ドリンあるいはエピブロムヒドリンとを塩基性触媒、代
表的にはテトラメチルアンモニウムブロマイドなどのオ
ニウム塩をナフタレン系化合物の水酸基に対し０．００
２〜３モル％の存在下に６０℃〜１５０℃にて付加反応
し、その後ナフトール性ＯＨに対し１．３〜１０モル当
量の苛性アルカリを添加し４０〜１５０℃にて閉環反応
を行ういわゆる２段反応にてエポキシ化合物を得る。も
ちろんポリヒドロキシナフタレン化合物と過剰のエピハ
ロヒドリンとを苛性アルカリの存在下で付加反応とエポ
キシ環を形成する閉環反応を同時に行わせるいわゆる一
段法でも可能である。この場合苛性アルカリの添加量は
水酸基当量に対し０．９〜１．１モル当量が適当であ
る。過剰のエピハロヒドリンは反応後に回収して使用で
きる。

【００２０】また、エポキシ化に際しては無溶媒下でも
良いが、シクロヘキサン、トルオールなどの溶媒を用い
て反応を行っても良い。反応終了後に、反応生成物は水
洗や、溶媒洗浄で精製したり、蒸発脱気を行ってナフタ
レン骨格含有の多官能性エポキシ樹脂を得る。

【００２１】（ハ）（メタ）アクリレート化工程 次にエポキシ樹脂の（メタ）アクリレートは前記ナフタ
レン骨格含有の多官能性エポキシ樹脂とアクリル酸もし
くはメタクリル酸とを反応させることによって得られ
る。

【００２２】（メタ）アクリレート化反応はエポキシ化
合物１当量に対し０．８〜１．１当量のアクリル酸もし
くはメタクリル酸を仕込み、重合禁止剤として、代表的
にはハイドロキノンモノメチルエーテル１００〜５００
０ｐｐｍ、反応触媒として代表的にはテトラブチルアン
モニウムブロマイドなどのオニウム塩基を０．０１〜５
重量％を添加して５０〜１５０℃にて１〜１０時間反応
させることによって得られる。反応の終了は酸価を測定
し減少しなくなった時点とする。

【００２３】重合禁止剤としてはハイドロキノン、銅粉
なども利用できるし、反応触媒としては、テトラメチル
アンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムブ
ロマイドなどが利用できる。また、必要に応じてシクロ
ヘキサン、トルエン、キシレンなどの不活性溶媒を用い
ることもできる。反応終了後は水洗や溶媒洗浄、蒸発脱
気、酸吸着処理などにより精製を行う。

【００２４】（ニ）カルボキシル化工程 （メタ）アクリレート化して得られたナフタレン骨格含
有エポキシ（メタ）アクリレートは次に多塩基性カルボ
ン酸またはその無水物と反応させて目的の不飽和基含有
ポリカルボン酸樹脂を製造する。反応にあたっては必要
に応じてトルエン、キシレン、シクロヘキサノン等の溶
剤を使用しても良い。この時の溶剤量は任意で良い。ま
たこれらの溶剤は反応終了後加熱減圧下で除去される。

【００２５】多塩基性カルボン酸もしくはその無水物の
例としてはマレイン酸、コハク酸、フタル酸、テトラク
ロロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、トリメリット
酸、ピロメリット酸及びこれらの酸の無水物が挙げられ
る。

【００２６】ナフタレン骨格含有エポキシ（メタ）アク
リレートと多塩基性カルボン酸またはその無水物との反
応はエポキシ（メタ）アクリレート中の水酸基［エポキ
シと、（メタ）アクリル酸との反応でエポキシ基が開環
することにより生成する］１当量に対し前記の多塩基性
カルボン酸またはその無水物０．５〜１．０当量を反応
させる。反応温度は６０〜１５０℃、好ましくは８０〜
１２０℃である。これにより不飽和基含有ポリカルボン
酸樹脂が得られる。

【００２７】前記４つの工程により得られた本発明の不
飽和基含有ポリカルボン酸樹脂は、光硬化後の樹脂塗膜
の耐熱性、密着性、耐湿性に優れているため、又希アル
カリ水で容易に現像可能なため、特にプリント配線板の
ホトソルダーレジスト用として好適に用いることができ
る。

【００２８】ホトソルダーレジストは本発明の不飽和基
含有ポリカルボン酸樹脂のほかに光重合開始剤、種々の
添加剤を配合して樹脂組成物とする。樹脂成分として本
発明の不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂を単独で用いる
こともできるが、他の公知の樹脂成分と併用することも
できる。

【００２９】他の公知の樹脂成分としては、カルビトー
ル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート
ジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレートなどを挙げることができ、フェノ
ールノボラックエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフ
ェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレートなどのエポ
キシアクリレート類も挙げることができる。

【００３０】光重合開始剤としては公知のどのような光
重合開始剤も使用できるが代表的には２ークロロチオキ
サントン、２，４ージエチルチオキサントン、ベンジル
ジメチルケタール、２ーエチルアントラキノン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステルなどを用
いると良い。光重合開始剤の使用量は組成物の０．１〜
２０重量％特に１〜１０重量％であることが好ましい。
もちろん複数の開始剤の使用はさしつかえない。またエ
ポキシ基が残存している不飽和基含有ポリカルボン酸を
用いる場合、前記光重合開始剤とは別にジフェニルヨー
ドニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチミネートなどの光カ
チオン重合触媒を併用することも可能である。

【００３１】種々の添加剤としてたとえばタルク、シリ
カ、アルミナ、硫酸バリウムなどの体質顔料、エアロジ
ルなどのチクソトロピー剤、消泡剤などを添加すること
ができる。又ジブチルセルソルブアセテート、メチルエ
チルケトン、酢酸エチル、エチルセルソルブに代表され
る希釈溶媒、シアニングリーンに代表される着色剤を添
加することもできる。

【００３２】又現像に使用する希アルカリ水としては、
炭酸ソーダ水溶液、苛性ソーダ水溶液、苛性カリ水溶液
等が挙げられる。

【００３３】本発明の組成物を硬化する方法としては紫
外線もしくは紫外線／熱併用が望ましい。紫外線で硬化
する場合、前記光重合開始剤を使用する。本発明の樹脂
は樹脂組成物中２０〜９０重量％含有されているのが望
ましい。

【００３４】本発明の組成物は特にホトソルダーレジス
ト樹脂組成物として有用であるがそのほかにも絶縁材、
塗料、接着剤としても利用できる。

【００３５】

【実施例】以下に実施例を上げて、本発明のナフタレン
骨格を含有する不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂の製造
例ならびに応用例を詳細に説明するが、もとより本実施
例に限定されるものではない。

【００３６】実施例１（不飽和基含有ポリカルボン酸樹
脂の製造例１） （１）ポリヒドロキシナフタレン化合物（縮合物）の製
造 撹拌装置、還流冷却管、温度計、窒素吹き込み口を備え
た反応容器内に、α−ナフトール９６ｇ，β−ナフトー
ル４８ｇ、パラホルムアルデヒド２３ｇ，シュウ酸０．
２ｇを仕込み１１０℃に加熱して窒素気流中で８時間撹
拌して反応した。この後２００℃に加熱し５ｍｍＨｇで
未反応物と水を留去した。得られた縮合物の平均分子量
は６９０であった。

【００３７】（２）エポキシ樹脂の製造 前記縮合物の全量とエピクロルヒドリン１５００ｇとテ
トラブチルアンモニウムブロマイド２ｇを仕込み、加熱
還流下で３時間反応させ、減圧下で過剰のエピクロルヒ
ドリンを除去した。次に内容物と同量のトルエンを加え
６０℃に冷却し、水分除去装置をつけてカセイソーダ４
０ｇを加え、生成する水を減圧度１００〜１５０ｍｍＨ
ｇで連続的に除去しながら閉環反応させた。水洗して塩
類や未反応アルカリを除去した後減圧下でトルエンや水
などを除去した。得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量
は２５０であった。

【００３８】（３）アクリレートの製造 前記エポキシ樹脂１００ｇとアクリル酸２８ｇを反応容
器に仕込み、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．０
６ｇ、テトラブチルアンモニウムブロマイド０．６４ｇ
を加えて９０℃にて４時間反応を行った。酸価が５であ
った。トルエン３００ｍｌと水２００ｍｌならびに２ｇ
の炭酸ナトリウムを加え常温で１時間撹拌後水相を分相
し除去した。トルエン相に１０ｇの無水芒硝を加え、常
温にて１時間撹拌後芒硝を濾過除去し、トルエンを減圧
除去して目的物のエポキシアクリレート１２０ｇを得
た。

【００３９】（４）不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂の
合成 前記エポキシアクリレートの全量１２０ｇをトルエン２
００ｍｌに溶解し無水マレイン酸３５ｇ（エポキシアク
リレートの水酸基当量１に対し０．９当量）を加え、９
０℃にて５時間反応させ、減圧下でトルエンを留去し、
不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂１５５ｇを得た。

【００４０】実施例２（不飽和基含有ポリカルボン酸樹
脂の製造例２） （１）ポリヒドロキシナフタレン化合物（縮合物）の製
造 α−ナフトール７２ｇ，β−ナフトール７２ｇ、トルエ
ン１４４ｇ、パラホルムアルデヒドを２１ｇとし、縮合
反応後１００〜１２０℃減圧下でトルエンを除去した以
外は実施例１と同様に縮合物を製造した。縮合物の平均
分子量は５００であった。

【００４１】（２）エポキシ樹脂の製造 上記縮合物を用いた以外は実施例１とまったく同様にエ
ポキシ樹脂を製造した。エポキシ当量は２００であっ
た。

【００４２】（３）アクリレートの製造 前記エポキシ樹脂を１００ｇとアクリル酸３６ｇを用い
るほかは実施例１と全く同様にエポキシアクリレートを
得た。酸価は０．５であった。

【００４３】（４）不飽和ポリカルボン酸樹脂の製造 前記エポキシアクリレート１３０ｇをキシレン２００ｍ
ｌに溶解し、無水フタル酸４８ｇ（エポキシアクリレー
トの水酸基当量１に対し０．７当量）を添加し１１０℃
にて６時間反応させた。減圧下でキシレンを留去し不飽
和基含有ポリカルボン酸樹脂１７８ｇを得た。

【００４４】実施例３（不飽和基含有ポリカルボン酸樹
脂の製造例３） （１）ポリヒドロキシナフタレン化合物（縮合物）の製
造 β−ナフトールを用いず、α−ナフトール１４４ｇ，パ
ラホルムアルデヒド２２ｇとする以外は実施例１と同様
に縮合物を製造した。縮合物の平均分子量は４５０であ
った。

【００４５】（２）エポキシ樹脂の製造 上記縮合物を用いる以外は実施例１と同様にエポキシ樹
脂を製造した。エポキシ当量は１７０であった。

【００４６】（３）メタクリレートの製造 前記エポキシ化合物８５ｇとメタクリル酸４０ｇを用い
る以外は実施例１と同様にエポキシメタクリレ−トを得
た。酸価は１．２であった。

【００４７】（４）不飽和ポリカルボン酸樹脂の製造 前記エポキシメタクリレ−ト１２０ｇをトルエン２００
ｍｌに溶解しコハク酸５８ｇ（エポキシメタクリレ−ト
の水酸基当量１に対し１当量）を添加し、さらにｐ−ト
ルエンスルホン酸１ｇを添加し１１０℃にて反応水とト
ルエンを共沸留去した。所定の反応水が留去できれば、
残りのトルエンを減圧除去し不飽和基含有ポリカルボン
酸樹脂１７８ｇを得た。

【００４８】実施例４（不飽和基含有ポリカルボン酸樹
脂の製造例４） （１）ポリヒドロキシナフタレン化合物（縮合物）の製
造 パラホルムアルデヒドの代わりにベンズアルデヒド、シ
ュウ酸の代わりにＰ−トルエンスルホン酸とする以外は
実施例２の縮合と同様に反応を行った。縮合物の平均分
子量は１１００であった。

【００４９】（２）エポキシ樹脂の製造 上記縮合物を用いる以外は実施例１と同様にエポキシ化
を行った。エポキシ当量は４００であった。

【００５０】（３）アクリレートの製造 前記エポキシ樹脂１００ｇとアクリル酸１８ｇ、テトラ
ブチルアンモニウムブロマイドの代わりにテトラエチル
アンモニウムブロマイドを用いるほかは実施例１と同様
に反応を行った。酸価は２．３であった。

【００５１】（４）不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂の
製造 前記エポキシアクリレートの１００ｇをシクロヘキサノ
ン２００ｍｌに溶解し無水マレイン酸１６ｇ（エポキシ
アクリレートの水酸基当量１に対し０．８当量）を加
え、８０℃にて８時間反応させその後シクロヘキサノン
を減圧留去し不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂１１６ｇ
を得た。

【００５２】実施例５（不飽和基含有ポリカルボン酸樹
脂の製造例５） （１）ポリヒドロキシナフタレン化合物（縮合物）の製
造 １，５−ジヒドロキシナフタレン１６０ｇとパラホルム
アルデヒド２１ｇとした以外は実施例１と同様に縮合物
を製造した。得られた縮合物の重量平均分子量は８００
であった。

【００５３】（２）エポキシ樹脂の製造 上記縮合物を用いる以外は実施例１と同様にエポキシ化
を行った。エポキシ当量は３５０であった。

【００５４】（３）アクリレートの製造 前記エポキシ樹脂１００ｇとアクリル酸２０ｇ、テトラ
エチルアンモニウムブロマイド０．６４ｇを用いて実施
例１と同様に反応を行いエポキシアクリレート１２０ｇ
を得た。この化合物の酸価は１．２であった。

【００５５】（４）不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂の
製造 前記エポキシアクリレート１００ｇをシクロヘキサノン
２００ｍｌに溶解し、無水マレイン酸１５ｇ（エポキシ
アクリレートの水酸基当量１に対し０．７当量）を加
え、９０℃にて５時間反応させた後、シクロヘキサノン
を減圧留去し、不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂１１５
ｇを得た。

【００５６】実施例６〜１１及び比較例１ 表１に示すような配合割合でホトソルダーレジスト樹脂
組成物を調整し、銅張り積層板上にスクリーン印刷法に
て５０〜１００ミクロンの膜厚で塗布した後、塗膜を７
０℃で６０分乾燥し、５ｋｗ超高圧水銀灯を使用して紫
外線を照射した。表中の数字はすべて重量部である。得
られた樹脂塗膜について各種の性能試験を行い、その結
果を表１に示した。

【００５７】性能試験項目 ・耐ハンダ性 ・耐湿試験後の絶縁抵抗 ・密着性 ・現像性

【００５８】性能試験項目の測定法 （耐ハンダ性）２６０℃の溶融ハンダに３分間浸漬した
後の塗膜の状態を判定 ○ ・・・外観異常なし × ・・・ふくれ、溶融、はがれなどが見られる （耐湿試験後の絶縁抵抗）８０℃、９５％ＲＨの雰囲気
下に５００時間放置し塗膜の絶縁抵抗を測定した。 （密着性）塗膜に１ｍｍ×１ｍｍの大きさのゴバン目を
１００個刻み、セロハンテープで剥離したときのはがれ
なかった個数で評価した。 （現像性）５ｋｗ超高圧水銀灯を使用し、紫外線を照射
しついで３０℃の１．５％炭酸ソーダ水溶液で未照射部
分を溶解除去し溶解性について判定した ○ ・・・３０秒以内に完全に溶解する × ・・・溶解しないあるいは溶解に３０秒以上かかる

【００５９】

【表１】

【００６０】

【発明の効果】本発明の化合物を製造できたことによ
り、硬化後の樹脂塗膜の耐湿性、密着性及び耐熱性に優
れ、かつ希アルカリ水にて現像可能な液状ホトソルダー
レジストが得られる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 エポキシ樹脂を（メタ）アクリル酸と反
   応させてエポキシ樹脂の（メタ）アクリレートを製造
   し、更に該（メタ）アクリレートに多塩基性カルボン酸
   又はその無水物を反応させて不飽和基含有ポリカルボン
   酸樹脂を製造するにおいて、エポキシ樹脂の前駆体とし
   て、ナフトール類をアルデヒドで縮合した平均分子量３
   ００〜２０００のポリヒドロキシナフタレン化合物を用
   いることを特徴とする不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂
   の製造方法。
2. 【請求項２】 第１項記載の不飽和基含有ポリカルボン
   酸樹脂を含有するホトソルダーレジスト樹脂組成物。