JP2004252485A - 永久マスクレジスト及び感光性樹脂組成物の使用 - Google Patents
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Abstract
Description
(2)基板上の感光性樹脂組成物の層に、活性光線を照射し、ついで金属イオンを混合又は溶解させてなる現像液で現像し、水洗することを特徴とする永久マスクレジストの製造法。
(4)基板上の感光性樹脂組成物の層に、活性光線を照射し、ついで金属イオンを混合又は溶解させてなる現像液で現像することを特徴とする永久マスクレジストの製造法。
攪拌機、温度計、冷却管及び空気導入管付き反応容器に空気を導入させた後、ポリカーボネートジオール(ダイセル化学工業(株)製、プラクセルCD205PL、平均分子量500)196.8部、ジメチロールブタン酸(三菱化学(株)製)58.3部、ジエチレングリコール(日曹丸善ケミカル(株)製)37.6部、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート(三菱化学(株)製)148.1部、p−メトキシフェノール(和光純薬工業(株)製)0.55部、ジブチル錫ラウレート(東京ファインケミカル(株)製、L101)0.55部及びメチルエチルケトン(東燃化学(株)製)110.2部を仕込み、空気気流下で65℃まで攪拌しながら昇温した。
表1に示す感光性樹脂組成物の溶液を19μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、95℃の熱風対流式乾燥機で10分間乾燥し、溶剤分除去後、さらに膜厚25μmのポリエチレンフィルムを保護フィルムとして貼り合わせ、感光性エレメントを得た。感光性樹脂組成物の層の乾燥後の膜厚は、38μmであった。
露光後から室温で10分間放置した後、ポリエチレンテレフタレートを除去し、塩化カルシウムをCaイオンとして10ppmとなる量を1重量%炭酸ソーダ水溶液に混合、溶解してなる30℃の現像液を用いて、未露光部の感光性樹脂組成物の層を45秒間スプレー現像した。スプレー現像後、塩化カルシウムをCaイオンとして90ppmとなる量を純水に混合、溶解してなる30℃の水洗水を用いて、露光部のレジスト部を150秒間スプレー水洗して永久マスクレジストパターンを得た。次いで(株)オーク製作所製紫外線照射装置を使用して1J/cm2の紫外線照射を行い、さらに160℃/60分間加熱処理を行い、永久マスクレジストパターンを形成したFPC試料を得た。
実施例1において現像液及び水洗水として、後記表2に示した現像液及び水洗水を使用する以外は、実施例1と同様にして、永久マスクレジストパターンを形成したFPC試料を得た。
実施例1において現像液として30℃の1%炭酸ソーダ水溶液、水洗水として30℃の純水を使用する以外は実施例1と同様にして、永久マスクレジストパターンを形成したFPC試料を得た。
実施例1において現像液として30℃の1%炭酸ソーダ水溶液とし、30℃の純水に塩化ナトリウムをNaイオンとして100ppmとなる量を混合、溶解してなるものを水洗水として使用する以外は実施例1と同様にして、永久マスクレジストパターンを形成したFPC試料を得た。実施例1〜7、比較例1〜2の現像工程の詳細は表2に示す。
FPC試料の電極端子部にロジン系フラックスMH−820V(タムラ化研(株)製)を塗布した後、はんだゴテを用いてテフロンシールド線を陽極、陰極ともに糸巻きはんだにて接続する。その後60℃、90%RHの恒湿恒温槽中にFPC試料を放置し、接続したテフロンシールド線を電圧発生装置に接続し、6V印可を1000時間行った。このような操作の後、FPC上の永久マスクレジストパターンの浮き及び剥がれの発生状況を目視で次の基準で評価した。
良好:浮き及び剥がれが発生しないもの、不良:浮き及び剥がれが発生したもの
FPC上の永久マスクレジスト層に、ロジン系フラックスMH−820V(タムラ化研(株)製)を塗布した後、260℃のはんだ浴中に30秒間浸漬してはんだ処理を行った。このような操作の後、永久マスクレジスト層のクラック発生状況、FPCからの永久マスクレジストの浮きや剥がれの状況を目視で次の基準で評価した。
良好:クラック、浮き及び剥がれが発生しないもの、不良:クラック、浮き及び剥がれが発生したもの
260℃/10秒間はんだ処理を行ったFPC試料を、ハゼ折りで180°折り曲げ、折り曲げた際の永久マスクレジスト層のクラックの発生状況を目視で下記の基準で評価した。
良好:クラックが発生しないもの、不良:クラックが発生したもの
FPC試料を常温の2N−塩酸水溶液に15分間浸漬後、FPCからの永久マスクレジストパターン開口部の染込み、浮きの発生状況を目視で次の基準で評価した。
良好:染込み、浮きが発生しないもの、不良:染込み、浮きが発生したもの
Claims (14)
- Xがアルカリ土金属のイオンである請求項1記載の永久マスクレジスト。
- アルカリ土金属がカルシウム又はマグネシウムである請求項2記載の永久マスクレジスト。
- 永久マスクレジスト中のカルボン酸及びカルボン酸塩総量の30〜100モル%がXによって置換されている請求項1〜3のいずれか一項に記載の永久マスクレジスト。
- 永久マスクレジスト中のカルボン酸及びカルボン酸塩総量の50〜100モル%がXによって置換されている請求項1〜3のいずれか一項に記載の永久マスクレジスト。
- 永久マスクレジスト中のカルボン酸及びカルボン酸塩総量の70〜100モル%がXによって置換されている請求項1〜3のいずれか一項に記載の永久マスクレジスト。
- (A)バインダーポリマー、(B)分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有してなる組成物、又は(A’)感光性樹脂、(B)分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有してなる組成物を、活性光線照射、現像、水洗及び必要に応じて紫外線照射又は加熱して得られる請求項1〜6のいずれか一項に記載の永久マスクレジスト。
- 活性光線をパターン状に照射することを特徴とする請求項8〜9のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物の使用。
- 金属イオンの金属がアルカリ土金属である請求項8〜10のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物の使用。
- アルカリ土金属がカルシウム又はマグネシウムである請求項11記載の感光性樹脂組成物の使用。
- 感光性樹脂組成物は、(A)バインダーポリマー、(B)分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有してなる組成物、又は(A’)感光性樹脂、(B)分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有してなる組成物である請求項8〜12のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物の使用。
- 請求項8〜13のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物の使用により製造された永久マスクレジスト。
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