JPH05345738A - ハロゲノレゾルシン誘導体 - Google Patents
ハロゲノレゾルシン誘導体Info
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- JPH05345738A JPH05345738A JP4308634A JP30863492A JPH05345738A JP H05345738 A JPH05345738 A JP H05345738A JP 4308634 A JP4308634 A JP 4308634A JP 30863492 A JP30863492 A JP 30863492A JP H05345738 A JPH05345738 A JP H05345738A
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C35/00—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
- C07C35/02—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring monocyclic
- C07C35/08—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring monocyclic containing a six-membered rings
- C07C35/14—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring monocyclic containing a six-membered rings with more than one hydroxy group bound to the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/62—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by introduction of halogen; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明はハロゲノレゾルシン誘導体を提供す
るものである。 【構成】 式(VII)または(VI'): 【化1】 [式中、Xはハロゲンである]を有する化合物、または
そのアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩。
るものである。 【構成】 式(VII)または(VI'): 【化1】 [式中、Xはハロゲンである]を有する化合物、または
そのアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はハロゲノレゾルシン誘導
体に関する。
体に関する。
【0002】
【発明の構成】更に詳しくは本発明は、式(VII)また
は(VI'):
は(VI'):
【化3】 [式中、Xはハロゲンである]を有する化合物、または
そのアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、および
式(I'):
そのアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、および
式(I'):
【化4】 [式中、Xはハロゲン、R1'はホルマート基、1〜7個
の炭素原子を有する低級脂肪族アルコールまたはベンジ
ルアルコールもしくはフェニルエチルアルコールでエー
テル化されたヒドロキシル基、1〜15個の炭素原子を
有する有機酸でエステル化されたヒドロキシル基、遊離
カルボン酸基、1〜7個の低級脂肪族アルコールまたは
ベンジルアルコールもしくはフェニルエチルアルコール
でエステル化されたカルボン酸基、1〜12個の炭素原
子を有するアルキル基、3〜7個の炭素原子を有するシ
クロアルキル基、またはアミン基である]を有する化合
物に関する。
の炭素原子を有する低級脂肪族アルコールまたはベンジ
ルアルコールもしくはフェニルエチルアルコールでエー
テル化されたヒドロキシル基、1〜15個の炭素原子を
有する有機酸でエステル化されたヒドロキシル基、遊離
カルボン酸基、1〜7個の低級脂肪族アルコールまたは
ベンジルアルコールもしくはフェニルエチルアルコール
でエステル化されたカルボン酸基、1〜12個の炭素原
子を有するアルキル基、3〜7個の炭素原子を有するシ
クロアルキル基、またはアミン基である]を有する化合
物に関する。
【0003】
【従来の技術】ハロゲノレゾルシン類は、近年産業上重
要となった化合物である。たとえば米国特許第4,29
6,039号で、2−クロロレゾルシンおよび2−ブロ
モレゾルシンは、8位がハロゲン化された、医薬目的で
用いることができるクマリン類を製造するために使用し
うることが開示されている。しかし、2−ハロゲノレゾ
ルシン類製造のための公知方法は満足な結果を与えな
い。すなわち、レゾルシン類の直接的ハロゲン化は分離
困難なハロゲン誘導体混合物を生ずる。また、レゾルシ
ン類をジヒドロレゾルシンへ変換し、続いてハロゲン化
およびハロゲノレゾルシン類の形成をもたらすハロゲン
化水素酸の脱離を行なうことは、産業規模で実施するの
が困難であることが証明されている。
要となった化合物である。たとえば米国特許第4,29
6,039号で、2−クロロレゾルシンおよび2−ブロ
モレゾルシンは、8位がハロゲン化された、医薬目的で
用いることができるクマリン類を製造するために使用し
うることが開示されている。しかし、2−ハロゲノレゾ
ルシン類製造のための公知方法は満足な結果を与えな
い。すなわち、レゾルシン類の直接的ハロゲン化は分離
困難なハロゲン誘導体混合物を生ずる。また、レゾルシ
ン類をジヒドロレゾルシンへ変換し、続いてハロゲン化
およびハロゲノレゾルシン類の形成をもたらすハロゲン
化水素酸の脱離を行なうことは、産業規模で実施するの
が困難であることが証明されている。
【0004】[発明の詳細な記載]次に本発明の内容に
ついて詳述する。本発明はハロゲノレゾルシン誘導体を
提供する。特に、式(VII)または(VI'):
ついて詳述する。本発明はハロゲノレゾルシン誘導体を
提供する。特に、式(VII)または(VI'):
【化5】 [式中、Xはハロゲンである]を有する化合物、または
そのアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩および式
(I'):
そのアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩および式
(I'):
【化6】 [式中、Xはハロゲン、R1'はホルマート基、1〜7個
の炭素原子を有する低級脂肪族アルコールまたはベンジ
ルアルコールもしくはフェニルエチルアルコールでエー
テル化されたヒドロキシル基、1〜15個の炭素原子を
有する有機酸でエステル化されたヒドロキシル基、遊離
カルボン酸基、1〜7個の低級脂肪族アルコールまたは
ベンジルアルコールもしくはフェニルエチルアルコール
でエステル化されたカルボン酸基、1〜12個の炭素原
子を有するアルキル基、3〜7個の炭素原子を有するシ
クロアルキル基、またはアミン基である]を有する化合
物を提供することができる。
の炭素原子を有する低級脂肪族アルコールまたはベンジ
ルアルコールもしくはフェニルエチルアルコールでエー
テル化されたヒドロキシル基、1〜15個の炭素原子を
有する有機酸でエステル化されたヒドロキシル基、遊離
カルボン酸基、1〜7個の低級脂肪族アルコールまたは
ベンジルアルコールもしくはフェニルエチルアルコール
でエステル化されたカルボン酸基、1〜12個の炭素原
子を有するアルキル基、3〜7個の炭素原子を有するシ
クロアルキル基、またはアミン基である]を有する化合
物を提供することができる。
【0005】本願発明の2−ハロゲノレゾルシン誘導体
の製造法は(a)式:
の製造法は(a)式:
【化7】 [式中、RおよびR1は同一または異なって水素原子ま
たはハロゲン原子、またはRおよびR1は、独立してま
たは一緒になって、置換または非置換の炭化水素基、ま
たは置換または非置換のヒドロキシル、カルボキシル、
アミノ、シアノもしくはアミド基、および上記ヒドロキ
シル、カルボキシルならびにアミノ基のエステルもしく
はエーテルである]で示されるレゾルシンまたはその誘
導体をスルホン化し、(b)得られたスルホン化生成物を
ハロゲン化し、(c)得られたハロゲン化生成物をプロト
ン脱スルホン化し、必要に応じて遊離官能基を官能的に
修飾し、および/または修飾された対応する官能基から
該官能基を遊離させ、および/または遊離官能基もしく
は修飾された官能基の間で相互に変換し、式(I):
たはハロゲン原子、またはRおよびR1は、独立してま
たは一緒になって、置換または非置換の炭化水素基、ま
たは置換または非置換のヒドロキシル、カルボキシル、
アミノ、シアノもしくはアミド基、および上記ヒドロキ
シル、カルボキシルならびにアミノ基のエステルもしく
はエーテルである]で示されるレゾルシンまたはその誘
導体をスルホン化し、(b)得られたスルホン化生成物を
ハロゲン化し、(c)得られたハロゲン化生成物をプロト
ン脱スルホン化し、必要に応じて遊離官能基を官能的に
修飾し、および/または修飾された対応する官能基から
該官能基を遊離させ、および/または遊離官能基もしく
は修飾された官能基の間で相互に変換し、式(I):
【化8】 [式中、Xは、ハロゲンであり、RおよびR1は同一ま
たは異なって水素原子またはハロゲン原子、またはRお
よびR1は、独立してまたは一緒になって、置換または
非置換の炭化水素基、または置換または非置換のヒドロ
キシル、カルボキシル、アミノ、シアノもしくはアミド
基、および上記ヒドロキシル、カルボキシルならびにア
ミノ基のエステルもしくはエーテルである]で示される
化合物を得、および/または得られた生成物を可能であ
ればその塩に変換することから成る方法である。
たは異なって水素原子またはハロゲン原子、またはRお
よびR1は、独立してまたは一緒になって、置換または
非置換の炭化水素基、または置換または非置換のヒドロ
キシル、カルボキシル、アミノ、シアノもしくはアミド
基、および上記ヒドロキシル、カルボキシルならびにア
ミノ基のエステルもしくはエーテルである]で示される
化合物を得、および/または得られた生成物を可能であ
ればその塩に変換することから成る方法である。
【0006】本発明のハロゲノレゾルシン誘導体の製造
法は、2位にハロゲンを含まないレゾルシン類をスルホ
ン化し、得られたスルホン酸をハロゲン化し、次いでこ
のハロゲン化スルホン酸を酸加水分解によってプロトン
脱スルホン化し、および存在することもある官能基を必
要に応じて修飾しうることから成る方法により達成され
る。
法は、2位にハロゲンを含まないレゾルシン類をスルホ
ン化し、得られたスルホン酸をハロゲン化し、次いでこ
のハロゲン化スルホン酸を酸加水分解によってプロトン
脱スルホン化し、および存在することもある官能基を必
要に応じて修飾しうることから成る方法により達成され
る。
【0007】式中、ハロゲン原子Xは、塩素、臭素、ヨ
ウ素またはフッ素であることができるが、好ましくは塩
素、臭素またはヨウ素である。
ウ素またはフッ素であることができるが、好ましくは塩
素、臭素またはヨウ素である。
【0008】修飾されたヒドロキシル基、カルボキシル
基もしくはアミノ基、およびハロゲンを包含する。官能
性に基づいて修飾されたヒドロキシル基のうち、特に低
級脂肪族アルコール類、たとえば炭素原子数1−7のも
の(たとえばメチル、エチル、n−プロピルおよびイソプ
ロピルアルコール、ブチルアルコールおよびアミルアミ
ル)または芳香族アルコール類(たとえばベンジルアルコ
ールまたはフェネチルアルコール)でエーテル化された
基が特に重要である。他の官能性に基づいて修飾された
ヒドロキシル基はエステル化されたヒドロキシル基、特
に次のような酸でエステル化されたヒドロキシル基であ
る:炭素数1〜15を有する有機酸、たとえば炭素数7
を越えない低級脂肪酸(ギ酸、酢酸プロピオン酸、酪酸
類)またはコハク酸およびマロン酸のような二塩基酸、
芳香族酸(たとえば安息香酸、その誘導体のような酸)あ
るいはスルホン酸、たとえば炭素数1〜4のアルキルス
ルホン酸または単環アリールスルホン酸(p−トルエンス
ルホン酸のような酸)など。
基もしくはアミノ基、およびハロゲンを包含する。官能
性に基づいて修飾されたヒドロキシル基のうち、特に低
級脂肪族アルコール類、たとえば炭素原子数1−7のも
の(たとえばメチル、エチル、n−プロピルおよびイソプ
ロピルアルコール、ブチルアルコールおよびアミルアミ
ル)または芳香族アルコール類(たとえばベンジルアルコ
ールまたはフェネチルアルコール)でエーテル化された
基が特に重要である。他の官能性に基づいて修飾された
ヒドロキシル基はエステル化されたヒドロキシル基、特
に次のような酸でエステル化されたヒドロキシル基であ
る:炭素数1〜15を有する有機酸、たとえば炭素数7
を越えない低級脂肪酸(ギ酸、酢酸プロピオン酸、酪酸
類)またはコハク酸およびマロン酸のような二塩基酸、
芳香族酸(たとえば安息香酸、その誘導体のような酸)あ
るいはスルホン酸、たとえば炭素数1〜4のアルキルス
ルホン酸または単環アリールスルホン酸(p−トルエンス
ルホン酸のような酸)など。
【0009】官能性に基づいて修飾されたカルボキシル
基は、たとえばエステル化されたカルボキシル基、好ま
しくは炭素数1〜7を有する低級脂肪族アルコールまた
はベンシルアルコールもしくはフェネチルアルコールの
ような芳香脂肪族(araliphatic)アルコールでエステル
化されたカルボキシル基である。官能性に基づいて修飾
されたカルボキシル基に関し、ニトリル基−CNまたは
アミド基(たとえばアミド基−CONH2もしくは第二ア
ミンから誘導されるアミド基)が重要である。
基は、たとえばエステル化されたカルボキシル基、好ま
しくは炭素数1〜7を有する低級脂肪族アルコールまた
はベンシルアルコールもしくはフェネチルアルコールの
ような芳香脂肪族(araliphatic)アルコールでエステル
化されたカルボキシル基である。官能性に基づいて修飾
されたカルボキシル基に関し、ニトリル基−CNまたは
アミド基(たとえばアミド基−CONH2もしくは第二ア
ミンから誘導されるアミド基)が重要である。
【0010】アミノ基は、第一アミノ基(−NH2)また
は第二アミノ基(−NH−R2)または第三アミノ基(−N
R3R4)であることができる(ここにR2、R3およびR4
はRおよびR1について可能な基として後述するような
非置換炭化水素基)であることができる。また第一アミ
ノ基または第二アミノ基は、官能性に基づいて修飾され
たアミノ基、特にたとえば官能性に基づいて修飾された
ヒドロキシル基に関して前述したアシル基でアシル化さ
れたアミノ基であることができる。
は第二アミノ基(−NH−R2)または第三アミノ基(−N
R3R4)であることができる(ここにR2、R3およびR4
はRおよびR1について可能な基として後述するような
非置換炭化水素基)であることができる。また第一アミ
ノ基または第二アミノ基は、官能性に基づいて修飾され
たアミノ基、特にたとえば官能性に基づいて修飾された
ヒドロキシル基に関して前述したアシル基でアシル化さ
れたアミノ基であることができる。
【0011】R1およびR2、R4およびR3で表される炭
化水素基は、脂肪族、芳香族または脂環式炭化水素基で
あることができ、これらの基のそれぞれは他の系の炭化
水素残基で置換されていてもよい。これらの基は、C1
〜12アルキル(好ましくはC1〜7アルキル)またはシクロ
アルキル(特にC3〜7シクロアルキル)であってよく、ま
たこれらの基は1個ないしそれ以上の基、たとえば1〜
3個のアルキル基、好ましくは炭素数4を越えない基
(特にメチル基)で置換されていてもよい。
化水素基は、脂肪族、芳香族または脂環式炭化水素基で
あることができ、これらの基のそれぞれは他の系の炭化
水素残基で置換されていてもよい。これらの基は、C1
〜12アルキル(好ましくはC1〜7アルキル)またはシクロ
アルキル(特にC3〜7シクロアルキル)であってよく、ま
たこれらの基は1個ないしそれ以上の基、たとえば1〜
3個のアルキル基、好ましくは炭素数4を越えない基
(特にメチル基)で置換されていてもよい。
【0012】RおよびR1がこれらをあわせて炭化水素
基を表す場合、これは例えば炭素数1〜7のアルキレン
基であるのが好ましい。上記炭化水素基はそれぞれ有機
官能基1個ないしそれ以上(好ましくは1〜3個)、たと
えば前記有機官能基1個で置換されていてもよい。フエ
ニル基のような芳香族炭化水素基はハロゲン原子1個な
いしそれ以上、特にハロゲン1〜3個で置換されること
ができるのが特に好ましい。
基を表す場合、これは例えば炭素数1〜7のアルキレン
基であるのが好ましい。上記炭化水素基はそれぞれ有機
官能基1個ないしそれ以上(好ましくは1〜3個)、たと
えば前記有機官能基1個で置換されていてもよい。フエ
ニル基のような芳香族炭化水素基はハロゲン原子1個な
いしそれ以上、特にハロゲン1〜3個で置換されること
ができるのが特に好ましい。
【0013】またRおよび/またはR1は塩素、臭素、
ヨウ素またはフッ素のようなハロゲン原子であってよ
い。
ヨウ素またはフッ素のようなハロゲン原子であってよ
い。
【0014】本発明のエステル類およびエーテル類は、
好ましくは炭化水素または前記有機酸から誘導されるも
のである。
好ましくは炭化水素または前記有機酸から誘導されるも
のである。
【0015】本発明の化合物の製造法は次の反応工程で
示すことができる:
示すことができる:
【化9】 本発明者により完成された化合物の製造法は、その最初
の工程において、レゾルシン(II)(そのRおよび/ま
たはR1は式(I)の場合と同意義を有する)をスルホン
化することから成る。スルホン化によりレゾルシンスル
ホン酸(IV)およびレゾルシンスルホン酸(III)が導
かれる。双方の場合、元のレゾルシン化合物(II)中、
Rおよび/R1がスルホン化工程で加水分解され得る基
(たとえばアシルオキシもしくはアシルアミノ基のよう
な基)を表わす場合には、該R1を修飾することができ
る。次いで第二の製造工程においてレゾルシンスルホン
酸(III)または(IV)をハロゲン化してそれぞれハロ
ゲノレゾルシンスルホン酸(V)または(VI)を得る。
最後に第三の製造工程において、ハロゲノレゾルシンス
ルホン酸(V)または(VI)をプロトン脱スルホン化し
て2−ハロゲノレゾルシン(I)を得る。プロトン脱ス
ルホン化工程において、酸性pHで加水分解されうる基
Rおよび/またはR1を遊離官能基に変換することがで
きる。本発明の製造法における上記種々の工程および操
作は、各工程後中間生成物を分離する分離工程法で行な
うか、または操作を中断せず、すなわち中間生成物を単
離することなく行なうことができる。前記のようにスル
ホン化またはプロトン脱スルホン化工程で加水分解する
ことができる基R1は、たとえばアシルオキシもしくは
アシルアミノ基である。
の工程において、レゾルシン(II)(そのRおよび/ま
たはR1は式(I)の場合と同意義を有する)をスルホン
化することから成る。スルホン化によりレゾルシンスル
ホン酸(IV)およびレゾルシンスルホン酸(III)が導
かれる。双方の場合、元のレゾルシン化合物(II)中、
Rおよび/R1がスルホン化工程で加水分解され得る基
(たとえばアシルオキシもしくはアシルアミノ基のよう
な基)を表わす場合には、該R1を修飾することができ
る。次いで第二の製造工程においてレゾルシンスルホン
酸(III)または(IV)をハロゲン化してそれぞれハロ
ゲノレゾルシンスルホン酸(V)または(VI)を得る。
最後に第三の製造工程において、ハロゲノレゾルシンス
ルホン酸(V)または(VI)をプロトン脱スルホン化し
て2−ハロゲノレゾルシン(I)を得る。プロトン脱ス
ルホン化工程において、酸性pHで加水分解されうる基
Rおよび/またはR1を遊離官能基に変換することがで
きる。本発明の製造法における上記種々の工程および操
作は、各工程後中間生成物を分離する分離工程法で行な
うか、または操作を中断せず、すなわち中間生成物を単
離することなく行なうことができる。前記のようにスル
ホン化またはプロトン脱スルホン化工程で加水分解する
ことができる基R1は、たとえばアシルオキシもしくは
アシルアミノ基である。
【0016】第一の処理工程であるスルホン化は、自体
公知のスルホン化処理により行なうことができる。たと
えばレゾルシノール出発化合物(II)を、濃度約90〜
98%の硫酸またはタイター約10〜20%の遊離三酸
化硫黄を発煙硫酸で処理することができる。この反応は
好ましくは約+5〜+100℃の適当な温度で進行させ
るべきである。出発化合物がレゾルシンまたは水素以外
の基である置換基R11個のみを有する誘導体である場
合、レゾルシンスルホン酸(III)が得られる。他方、
置換基Rのみまたは置換基RとR1の双方が水素以外の
基である出発物質(II)を用いる場合、前記式(IV)に
対応するスルホン化生成物を得ることができるが、ここ
でR1を前記のように修飾でき、たとえば修飾されたア
シルオキシもしくはアシルアミノであるRおよび/また
はR1基はこれを加水分解してヒドロキシル基もしくは
アミノ基にすることができることに留意する必要があ
る。
公知のスルホン化処理により行なうことができる。たと
えばレゾルシノール出発化合物(II)を、濃度約90〜
98%の硫酸またはタイター約10〜20%の遊離三酸
化硫黄を発煙硫酸で処理することができる。この反応は
好ましくは約+5〜+100℃の適当な温度で進行させ
るべきである。出発化合物がレゾルシンまたは水素以外
の基である置換基R11個のみを有する誘導体である場
合、レゾルシンスルホン酸(III)が得られる。他方、
置換基Rのみまたは置換基RとR1の双方が水素以外の
基である出発物質(II)を用いる場合、前記式(IV)に
対応するスルホン化生成物を得ることができるが、ここ
でR1を前記のように修飾でき、たとえば修飾されたア
シルオキシもしくはアシルアミノであるRおよび/また
はR1基はこれを加水分解してヒドロキシル基もしくは
アミノ基にすることができることに留意する必要があ
る。
【0017】必要に応じてレゾルシンスルホン酸(II
I)および(IV)を、自体常套の方法で単離することが
できる。たとえば該レゾルシンスルホン酸をアルカリ金
属またはアルカリ土金属(たとえばナトリウム、カリウ
ムまたはカルシウム)との塩のような塩型として単離す
ることができる。
I)および(IV)を、自体常套の方法で単離することが
できる。たとえば該レゾルシンスルホン酸をアルカリ金
属またはアルカリ土金属(たとえばナトリウム、カリウ
ムまたはカルシウム)との塩のような塩型として単離す
ることができる。
【0018】この塩は、自体公知の方法たとえばスルホ
ン化混合物を水酸化物(たとえば水酸化アルカリ)の水溶
液で処理することにより製造することができる。レゾル
シンスルホン酸の塩を、自体公知方法により単離するこ
とができる(その酸の種類およびその濃度に従って方法
を変更する)。レゾルシンスルホン酸またはその誘導体
のナトリウム塩のような多くの塩類は、これをたとえば
濾過または濃縮により単離することができる。レゾルシ
ンスルホン酸(III)および(IV)すなわち置換基R
1が水素以外の化合物(III)および(IV)の大部分な
らびにその塩類(たとえばそのナトリウム塩のようなア
ルカリ塩類)は新規化合物である。
ン化混合物を水酸化物(たとえば水酸化アルカリ)の水溶
液で処理することにより製造することができる。レゾル
シンスルホン酸の塩を、自体公知方法により単離するこ
とができる(その酸の種類およびその濃度に従って方法
を変更する)。レゾルシンスルホン酸またはその誘導体
のナトリウム塩のような多くの塩類は、これをたとえば
濾過または濃縮により単離することができる。レゾルシ
ンスルホン酸(III)および(IV)すなわち置換基R
1が水素以外の化合物(III)および(IV)の大部分な
らびにその塩類(たとえばそのナトリウム塩のようなア
ルカリ塩類)は新規化合物である。
【0019】本発明の第二の処理工程であるハロゲン化
反応は、自体公知の方法により実施でき、前記第一の処
理工程で得られたスルホン化反応混合物を用い、可能な
限り水で希釈後および/またはレゾルシンスルホン酸類
をその塩(特に前記アルカリ塩)に変換後に進行させるこ
とができる。またもし下記ハロゲン化方法が許容される
のであれば、無水またはほとんど無水の条件下、遊離酸
もしくはその塩(たとえばアルカリ塩)のいずれかを用
い、使用する試剤に対して不活性でなければならない有
機液体中で操作することができる。
反応は、自体公知の方法により実施でき、前記第一の処
理工程で得られたスルホン化反応混合物を用い、可能な
限り水で希釈後および/またはレゾルシンスルホン酸類
をその塩(特に前記アルカリ塩)に変換後に進行させるこ
とができる。またもし下記ハロゲン化方法が許容される
のであれば、無水またはほとんど無水の条件下、遊離酸
もしくはその塩(たとえばアルカリ塩)のいずれかを用
い、使用する試剤に対して不活性でなければならない有
機液体中で操作することができる。
【0020】ハロゲン化反応については、塩素、臭素、
ヨウ素またはフッ素によるハロゲン化反応に関する文献
に記載された、フエノール性芳香族構造に対するすべて
のハロゲン化剤を使用することができる。この方法にお
いて、化合物(III)および/または(IV)に塩素また
は臭素原子を導入するのが好ましいことが判明したなら
ば、塩素または臭素をそのまま用い、酸性、塩基性もし
くは中性条件で操作することができる。また別法とし
て、(1)容易にハロゲンを形成し、またクロロ化および
ブロモ化に関する文献に記載され推奨されている誘導体
(たとえば塩化スルフリルまたは臭化スルフリル、クロ
ロまたはブロモアミド類もしくはイミド類、過臭素エー
テル類(ether perbromines)たとえば過臭素ジオキサン
(dioxaneperbromine)のような誘導体)を使用するか、ま
たは(2)酸性の水性条件中、金属(たとえばアルカリ性
金属)臭素または塩素化物の混合物もしくは同様の金属
の臭素酸塩または塩素酸塩の混合物により起るような酸
化還元反応のいずれかを用いることにより、反応媒体系
内で(in situ)塩素または臭素自体を形成されることが
できる。ヨウ素導入のため、反応系内でヨウ素を遊離す
る化合物、たとえば水性の酸性条件中ヨウ化物とヨウ素
酸塩の混合物を用いるのが好ましい。
ヨウ素またはフッ素によるハロゲン化反応に関する文献
に記載された、フエノール性芳香族構造に対するすべて
のハロゲン化剤を使用することができる。この方法にお
いて、化合物(III)および/または(IV)に塩素また
は臭素原子を導入するのが好ましいことが判明したなら
ば、塩素または臭素をそのまま用い、酸性、塩基性もし
くは中性条件で操作することができる。また別法とし
て、(1)容易にハロゲンを形成し、またクロロ化および
ブロモ化に関する文献に記載され推奨されている誘導体
(たとえば塩化スルフリルまたは臭化スルフリル、クロ
ロまたはブロモアミド類もしくはイミド類、過臭素エー
テル類(ether perbromines)たとえば過臭素ジオキサン
(dioxaneperbromine)のような誘導体)を使用するか、ま
たは(2)酸性の水性条件中、金属(たとえばアルカリ性
金属)臭素または塩素化物の混合物もしくは同様の金属
の臭素酸塩または塩素酸塩の混合物により起るような酸
化還元反応のいずれかを用いることにより、反応媒体系
内で(in situ)塩素または臭素自体を形成されることが
できる。ヨウ素導入のため、反応系内でヨウ素を遊離す
る化合物、たとえば水性の酸性条件中ヨウ化物とヨウ素
酸塩の混合物を用いるのが好ましい。
【0021】化合物(III)または(IV)のフルオロ化
は、たとえば適当な、好ましくはペルクロリルフルオリ
ド(ClFO3)で処理することにより行なうことができ
る。クロロ化およびブロモ化反応を水性条件で操作する
場合、反応系内で塩素および臭素に対応するハロゲンを
生成させるときのみ、すなわち同一反応媒体中および特
に対応するハロゲン化水素酸適当量の存在下において、
ハロゲン化反応は予期しえない程良好な結果をもたらす
ことが確かめられた。これに反してハロゲンそのままを
反応媒体に加えて使用するとき、ハロゲン化は二次的生
産物を副生して反応が進み、これが収率の低下を招来
し、ハロゲノレゾルシンスルホン酸および最終のハロゲ
ノレゾルシン類の精製をも困難にする。それ故、レゾル
シンスルホン酸(III)および(IV)またはその塩類の
クロロ化もしくはブロモ化を最適収率で達成するために
は、反応媒体中で容易にハロゲンを遊離するか、反応媒
体中でハロゲンが発生するか、または酸化還元反応によ
りハロゲンが発生する前記のような試剤から出発して、
その反応系内で発生する塩素もしくは臭素を用い、水性
溶液中で操作する必要がある。特に希塩酸とアルカリ塩
素酸塩水溶液の混合物は塩素発生を有利にし、希臭化水
素酸とアルカリ臭素酸塩水溶液の混合物は臭素発生を有
利にする。塩素酸塩または臭素酸塩の代わりに二酸化マ
ンガンのような他の酸化剤を使用することができる。
は、たとえば適当な、好ましくはペルクロリルフルオリ
ド(ClFO3)で処理することにより行なうことができ
る。クロロ化およびブロモ化反応を水性条件で操作する
場合、反応系内で塩素および臭素に対応するハロゲンを
生成させるときのみ、すなわち同一反応媒体中および特
に対応するハロゲン化水素酸適当量の存在下において、
ハロゲン化反応は予期しえない程良好な結果をもたらす
ことが確かめられた。これに反してハロゲンそのままを
反応媒体に加えて使用するとき、ハロゲン化は二次的生
産物を副生して反応が進み、これが収率の低下を招来
し、ハロゲノレゾルシンスルホン酸および最終のハロゲ
ノレゾルシン類の精製をも困難にする。それ故、レゾル
シンスルホン酸(III)および(IV)またはその塩類の
クロロ化もしくはブロモ化を最適収率で達成するために
は、反応媒体中で容易にハロゲンを遊離するか、反応媒
体中でハロゲンが発生するか、または酸化還元反応によ
りハロゲンが発生する前記のような試剤から出発して、
その反応系内で発生する塩素もしくは臭素を用い、水性
溶液中で操作する必要がある。特に希塩酸とアルカリ塩
素酸塩水溶液の混合物は塩素発生を有利にし、希臭化水
素酸とアルカリ臭素酸塩水溶液の混合物は臭素発生を有
利にする。塩素酸塩または臭素酸塩の代わりに二酸化マ
ンガンのような他の酸化剤を使用することができる。
【0022】水溶液中でのクロロ化またはブロモ化反応
は、相当量の酸、特にそのハロゲンに対応するハロゲン
化水素酸の存在下に行なうのが好ましい。特にハロゲン
化水素酸約8〜25%を含む水溶液中で処理すべきであ
って、約−5〜+10℃の適当な温度で反応させるのが
好ましい。またレゾルシンスルホン酸またはその塩のク
ロロ化もしくはブロモ化反応、特に遊離ハロゲンを用い
る反応は、この処理条件で用いる試剤と反応しない適当
な希釈剤を使用する非水性条件で行なうことができる。
この方法において、たとえばニトロベンゼン、ジメチル
ホルムアミド、四塩化炭素、塩化メチレン、濃硫酸な
ど、またはそれらの混合物、例えば硫酸とベンゼン、な
らびに硫酸、ニトロベンゼンおよび塩化メチレンの混合
物を使用することができる。また少量の水(約8%を越
えない量)を反応媒体中に存在させることができる。良
好な収率を得るため、30℃を越えない温度で処理する
必要がある。ハロゲン化剤として塩素または臭素、およ
び硫酸−ニトロベンゼンから成る希釈混合物を用いるこ
とにより、最も良好な収率を得る温度は約+5〜+25
℃である。
は、相当量の酸、特にそのハロゲンに対応するハロゲン
化水素酸の存在下に行なうのが好ましい。特にハロゲン
化水素酸約8〜25%を含む水溶液中で処理すべきであ
って、約−5〜+10℃の適当な温度で反応させるのが
好ましい。またレゾルシンスルホン酸またはその塩のク
ロロ化もしくはブロモ化反応、特に遊離ハロゲンを用い
る反応は、この処理条件で用いる試剤と反応しない適当
な希釈剤を使用する非水性条件で行なうことができる。
この方法において、たとえばニトロベンゼン、ジメチル
ホルムアミド、四塩化炭素、塩化メチレン、濃硫酸な
ど、またはそれらの混合物、例えば硫酸とベンゼン、な
らびに硫酸、ニトロベンゼンおよび塩化メチレンの混合
物を使用することができる。また少量の水(約8%を越
えない量)を反応媒体中に存在させることができる。良
好な収率を得るため、30℃を越えない温度で処理する
必要がある。ハロゲン化剤として塩素または臭素、およ
び硫酸−ニトロベンゼンから成る希釈混合物を用いるこ
とにより、最も良好な収率を得る温度は約+5〜+25
℃である。
【0023】スルホン化反応で生成したレゾルシンスル
ホン酸を単離することなく、得られた混合物を直接クロ
ロ化またはブロモ化することができる。この操作におい
て、ニトロベンゼンのような希釈剤適当量と塩素または
臭素を加えることで充分である。ハロゲン化されたレゾ
ルシンスルホン酸(V)および(VI)はそれ自体新規化
合物であってそれらの塩類と共に本発明の特定の目的を
構成する。ハロゲン化反応により得られた混合物を水で
希釈して得られた酸水溶液に、対応する水酸化物を加え
ることにより、上記化合物をその金属塩、特に対応する
カリウム塩またはナトリウム塩のようなアルカリ金属塩
もしくはカルシウムのようなアルカリ土金属塩に変換す
ることができる。さらに、必要に応じてこの塩をたとえ
ば結晶化処理により単離することができる(これは反応
混合物の濃縮により達成される)。
ホン酸を単離することなく、得られた混合物を直接クロ
ロ化またはブロモ化することができる。この操作におい
て、ニトロベンゼンのような希釈剤適当量と塩素または
臭素を加えることで充分である。ハロゲン化されたレゾ
ルシンスルホン酸(V)および(VI)はそれ自体新規化
合物であってそれらの塩類と共に本発明の特定の目的を
構成する。ハロゲン化反応により得られた混合物を水で
希釈して得られた酸水溶液に、対応する水酸化物を加え
ることにより、上記化合物をその金属塩、特に対応する
カリウム塩またはナトリウム塩のようなアルカリ金属塩
もしくはカルシウムのようなアルカリ土金属塩に変換す
ることができる。さらに、必要に応じてこの塩をたとえ
ば結晶化処理により単離することができる(これは反応
混合物の濃縮により達成される)。
【0024】本発明の化合物の製造方法の第三の処理工
程であるプロトン脱スルホン化(protodesulfonation)
は、ハロゲノレゾルシンスルホン酸(V)および(VI)
を2−ハロゲノレゾルシン(I)に変換させる反応であ
って、好ましくは室温ないし150℃の範囲で変えるこ
とができる温度でこれら酸生成物に対する酸水溶液の作
用により達成される。この目的のため、鉱酸たとえば2
0〜40%硫酸水溶液または36%塩酸水溶液、あるい
は希有機酸、たとえばトリフルオロ酢酸もしくはモノク
ロル酢酸のようなハロゲン化(低級)脂肪酸または低級脂
肪族スルホン酸あるいは単環性芳香族酸(たとえばp−ト
ルエンスルホン酸)のような有機酸を、たとえば20〜
90%濃度の水溶液中、または酢酸(90%)水溶液のよ
うな適当な溶媒中で使用する。この加水分解の処理時間
は温度および使用する酸に依存し、1〜24時間の間で
変えることができる。プロトン脱スルホン化反応は、ハ
ロゲノレゾルシンスルホン酸を単離することなく、ハロ
ゲン化反応により得られた混合物を、上記酸濃度で処理
することにより直接進行させることができる。
程であるプロトン脱スルホン化(protodesulfonation)
は、ハロゲノレゾルシンスルホン酸(V)および(VI)
を2−ハロゲノレゾルシン(I)に変換させる反応であ
って、好ましくは室温ないし150℃の範囲で変えるこ
とができる温度でこれら酸生成物に対する酸水溶液の作
用により達成される。この目的のため、鉱酸たとえば2
0〜40%硫酸水溶液または36%塩酸水溶液、あるい
は希有機酸、たとえばトリフルオロ酢酸もしくはモノク
ロル酢酸のようなハロゲン化(低級)脂肪酸または低級脂
肪族スルホン酸あるいは単環性芳香族酸(たとえばp−ト
ルエンスルホン酸)のような有機酸を、たとえば20〜
90%濃度の水溶液中、または酢酸(90%)水溶液のよ
うな適当な溶媒中で使用する。この加水分解の処理時間
は温度および使用する酸に依存し、1〜24時間の間で
変えることができる。プロトン脱スルホン化反応は、ハ
ロゲノレゾルシンスルホン酸を単離することなく、ハロ
ゲン化反応により得られた混合物を、上記酸濃度で処理
することにより直接進行させることができる。
【0025】本発明の製造法におけるプロトン脱スルホ
ン化を行なう特に有利な方法は、ハロゲン化(特にクロ
ロ化またはブロモ化)反応混合物を水で希釈し、自体公
知の方法で存在することもある有機溶媒を除き、次いで
前記のように得られた生成物を加水分解することから成
る。ハロゲノレゾルシンスルホン酸のプロトン脱スルホ
ン化により生成した2−ハロゲノレゾルシン類(I)は
通常水溶液中に見い出され、これを自体公知の方法で分
離することができる。特に分離操作は、たとえばクロロ
化脂肪族炭化水素(特に対称ジクロロエタンおよび塩化
メチレン)、エーテル類(特にエチルエーテルおよびメチ
ル−t−ブチルエーテル)、水にわずかに可溶性であるア
ルコール類(たとえばアミルアルコール類)、脂肪族有機
酸エステル類(たとえば酢酸エチルおよび酢酸ブチル)の
ような有機溶媒で抽出することにより行なうことができ
る。生成した2−ハロゲノレゾルシン類(I)は、これ
をたとえば減圧蒸留および/またはその塩たとえばアル
カリ金属塩(カリウム塩もしくはナトリウム塩)への変換
(塩を自体公知の方法で単離することができる)により精
製することができる。
ン化を行なう特に有利な方法は、ハロゲン化(特にクロ
ロ化またはブロモ化)反応混合物を水で希釈し、自体公
知の方法で存在することもある有機溶媒を除き、次いで
前記のように得られた生成物を加水分解することから成
る。ハロゲノレゾルシンスルホン酸のプロトン脱スルホ
ン化により生成した2−ハロゲノレゾルシン類(I)は
通常水溶液中に見い出され、これを自体公知の方法で分
離することができる。特に分離操作は、たとえばクロロ
化脂肪族炭化水素(特に対称ジクロロエタンおよび塩化
メチレン)、エーテル類(特にエチルエーテルおよびメチ
ル−t−ブチルエーテル)、水にわずかに可溶性であるア
ルコール類(たとえばアミルアルコール類)、脂肪族有機
酸エステル類(たとえば酢酸エチルおよび酢酸ブチル)の
ような有機溶媒で抽出することにより行なうことができ
る。生成した2−ハロゲノレゾルシン類(I)は、これ
をたとえば減圧蒸留および/またはその塩たとえばアル
カリ金属塩(カリウム塩もしくはナトリウム塩)への変換
(塩を自体公知の方法で単離することができる)により精
製することができる。
【0026】2−クロロレゾルシン生成物はレゾルシン
と同様、水に著しく可溶である(水中、25℃における
2−クロロレゾルシンの溶解性は350mg/mlであ
る)。しかし発明者らはレゾルシンと異なって2−クロ
ロレゾルシンは驚くべきことに酸水溶液中で非常に可溶
性ではないことを認めた。特に室温で濃度20〜60%
の硫酸溶液(より高い濃度で部分的スルホン化が起こる)
中、および濃硫酸塩酸溶液および中性塩類または可能な
酸のアルカリ金属もしくはアルカリ土金属塩類、水素酸
(たとえば塩素酸)、リン酸および硝酸のマグネシウムも
しくはアンモニウム塩、あるいは炭素数7を越えない脂
肪酸(たとえば酢酸またはクロロ酢酸)のような有機酸の
各種塩類の溶液中で、上記化合物は可溶性でないことを
認めた。たとえば2−クロロレゾルシン(I)の25℃
の硫酸水溶液、20℃の硫酸水溶液中の溶解度は77mg
/ml、30℃の硫酸水溶液中の溶解度は35mg/mlであ
る。この理由により2−クロロレゾルシンの水溶液を、
まず第一に前記のような酸または塩類で処理して抽出も
しくは沈澱させることにより、該生成物を好都合に分離
することがてきる。この2−クロロレゾルシン類分離は
前記各種処理から独立した技術であって、この技術もま
た本発明の目的の一つである。
と同様、水に著しく可溶である(水中、25℃における
2−クロロレゾルシンの溶解性は350mg/mlであ
る)。しかし発明者らはレゾルシンと異なって2−クロ
ロレゾルシンは驚くべきことに酸水溶液中で非常に可溶
性ではないことを認めた。特に室温で濃度20〜60%
の硫酸溶液(より高い濃度で部分的スルホン化が起こる)
中、および濃硫酸塩酸溶液および中性塩類または可能な
酸のアルカリ金属もしくはアルカリ土金属塩類、水素酸
(たとえば塩素酸)、リン酸および硝酸のマグネシウムも
しくはアンモニウム塩、あるいは炭素数7を越えない脂
肪酸(たとえば酢酸またはクロロ酢酸)のような有機酸の
各種塩類の溶液中で、上記化合物は可溶性でないことを
認めた。たとえば2−クロロレゾルシン(I)の25℃
の硫酸水溶液、20℃の硫酸水溶液中の溶解度は77mg
/ml、30℃の硫酸水溶液中の溶解度は35mg/mlであ
る。この理由により2−クロロレゾルシンの水溶液を、
まず第一に前記のような酸または塩類で処理して抽出も
しくは沈澱させることにより、該生成物を好都合に分離
することがてきる。この2−クロロレゾルシン類分離は
前記各種処理から独立した技術であって、この技術もま
た本発明の目的の一つである。
【0027】本発明の化合物の製造方法により製せられ
たハロゲノレゾルシン類が官能基を含有する場合、この
ハロゲノレゾルシンを自体公知の方法で官能基修飾する
ことによりその誘導体に変換するか、または本発明の処
理により得られる種類の誘導体中の修飾された官能基を
遊離基にすることができる。さらに、この遊離官能基ま
たは修飾された官能基を、それぞれ他方の基に変換する
ことができる。前記炭化水素基中に存在する官能基およ
び/または化合物(I)に存在するヒドロキシル基2個
をそのまま存置したままで芳香族官能基R1を修飾する
ためには、この型の選択的変換を許容する適当な方法を
選ぶ必要がある。脂肪族または芳香族カルボキシル基を
エステル化するため、この酸をその塩(たとえばアルカ
リ塩)に変換し、これをハロゲン化炭化水素と反応させ
る。対応するアミド類は上記エステル体をアンモニアま
たはアミンで処理することにより得られる。第一または
第二アミノ官能基は、これをハロゲン化アルキルまたは
他のアルキルエステル(たとえば中性硫酸エステル)また
はアルキル酸による処理、もしくは適当なアルデヒド類
(たとえばホルムアルデヒド)およびギ酸による還元的ア
ルキル化により、アルキル化することができる。また第
四級アンモニウム塩を製造することができる。
たハロゲノレゾルシン類が官能基を含有する場合、この
ハロゲノレゾルシンを自体公知の方法で官能基修飾する
ことによりその誘導体に変換するか、または本発明の処
理により得られる種類の誘導体中の修飾された官能基を
遊離基にすることができる。さらに、この遊離官能基ま
たは修飾された官能基を、それぞれ他方の基に変換する
ことができる。前記炭化水素基中に存在する官能基およ
び/または化合物(I)に存在するヒドロキシル基2個
をそのまま存置したままで芳香族官能基R1を修飾する
ためには、この型の選択的変換を許容する適当な方法を
選ぶ必要がある。脂肪族または芳香族カルボキシル基を
エステル化するため、この酸をその塩(たとえばアルカ
リ塩)に変換し、これをハロゲン化炭化水素と反応させ
る。対応するアミド類は上記エステル体をアンモニアま
たはアミンで処理することにより得られる。第一または
第二アミノ官能基は、これをハロゲン化アルキルまたは
他のアルキルエステル(たとえば中性硫酸エステル)また
はアルキル酸による処理、もしくは適当なアルデヒド類
(たとえばホルムアルデヒド)およびギ酸による還元的ア
ルキル化により、アルキル化することができる。また第
四級アンモニウム塩を製造することができる。
【0028】他方、本発明の化合物(I')の官能基と
して、常套の方法で修飾された官能基を実際に含有する
場合、公知方法でこの修飾された官能基を遊離させるこ
とができる。たとえばエーテル性官能基の酸加水分解、
あるいは可能ならばエステル化されたヒドロキシル基の
還元的開裂または酸もしくはアルカリ加水分解により、
ヒドロキシル官能基を得ることができる。エステル基を
アルカリまたは酸加水分解することにより、カルボキシ
ル官能基を得ることができる。官能基の他の官能基への
可能な変換は、自体公知の方法により行なうことができ
る。たとえばよく知られた芳香族化合物の化学反応によ
るジアゾニウム塩を経由することにより芳香族第一アミ
ノ基をヒドロキシル基またはハロゲンに変換するか、あ
るいは脂肪族第一アミノ基を亜硝酸でヒドロキシル基に
変換することができる。
して、常套の方法で修飾された官能基を実際に含有する
場合、公知方法でこの修飾された官能基を遊離させるこ
とができる。たとえばエーテル性官能基の酸加水分解、
あるいは可能ならばエステル化されたヒドロキシル基の
還元的開裂または酸もしくはアルカリ加水分解により、
ヒドロキシル官能基を得ることができる。エステル基を
アルカリまたは酸加水分解することにより、カルボキシ
ル官能基を得ることができる。官能基の他の官能基への
可能な変換は、自体公知の方法により行なうことができ
る。たとえばよく知られた芳香族化合物の化学反応によ
るジアゾニウム塩を経由することにより芳香族第一アミ
ノ基をヒドロキシル基またはハロゲンに変換するか、あ
るいは脂肪族第一アミノ基を亜硝酸でヒドロキシル基に
変換することができる。
【0029】また本発明の化合物の製造法は前記製造法
の変法を包含し、その変法に従って本発明の化合物の製
造法の任意の段階の工程を中断するか、中間体化合物か
ら出発して残余の工程を進めるか、あるいは出発物質を
反応液中に形成させることができる。次に実施例をあげ
て本発明の化合物の製造法を具体的に詳述する。実施例
の記載は本発明の技術的範囲を限定するものではない。
の変法を包含し、その変法に従って本発明の化合物の製
造法の任意の段階の工程を中断するか、中間体化合物か
ら出発して残余の工程を進めるか、あるいは出発物質を
反応液中に形成させることができる。次に実施例をあげ
て本発明の化合物の製造法を具体的に詳述する。実施例
の記載は本発明の技術的範囲を限定するものではない。
【0030】実施例1 レゾルシン−4,6−ジスルホン酸の製造(スルホン化):
96%(m/m)硫酸156mlを入れた500ml容器(フラ
スコ)にレゾルシン52.5gを加える。レゾルシンが完
全に溶解する前に更に96%硫酸156mlとレゾルシン
52.5gを加える。反応物の温度が上昇する傾向がある
が、最高90°を越えない。温度が安定するか低下する
傾向にあるとき、反応物を110°に加熱し、この温度
を2時間保持する。次いで主要部を室温に冷やす。薄層
クロマトグラフィー分析により、反応混合物中、主成分
はレゾルシン−4,6−ジスルホン酸とごく少量のレゾ
ルシンモノスルホン酸とレゾルシントリスルホン酸であ
り、レゾルシンは存在しないことを決定することができ
る。イソアミルアルコール、ピリジン、水、酢酸(2:
2:1:1)により調製された溶離剤混合物でセルロース
薄層クロマトグラフィー分析を行なう(Rf=0.25)。
反応混合物に濃塩酸を加えて該混合物からレゾルシン−
4,6−ジスルホン酸を沈澱させることによりこの生成
物を分離する。
96%(m/m)硫酸156mlを入れた500ml容器(フラ
スコ)にレゾルシン52.5gを加える。レゾルシンが完
全に溶解する前に更に96%硫酸156mlとレゾルシン
52.5gを加える。反応物の温度が上昇する傾向がある
が、最高90°を越えない。温度が安定するか低下する
傾向にあるとき、反応物を110°に加熱し、この温度
を2時間保持する。次いで主要部を室温に冷やす。薄層
クロマトグラフィー分析により、反応混合物中、主成分
はレゾルシン−4,6−ジスルホン酸とごく少量のレゾ
ルシンモノスルホン酸とレゾルシントリスルホン酸であ
り、レゾルシンは存在しないことを決定することができ
る。イソアミルアルコール、ピリジン、水、酢酸(2:
2:1:1)により調製された溶離剤混合物でセルロース
薄層クロマトグラフィー分析を行なう(Rf=0.25)。
反応混合物に濃塩酸を加えて該混合物からレゾルシン−
4,6−ジスルホン酸を沈澱させることによりこの生成
物を分離する。
【0031】実施例2 2−クロロレゾルシン−4,6−ジスルホン酸の製造(塩
素酸塩と塩酸によるクロロ化):氷472gと37%(m
/m)濃塩酸480mlを入れた2l反応容器(フラスコ)
に、実施例1で得られた反応混合物を注ぐ。混合物の温
度を−15℃に冷却し、塩素酸カリウム60gをゆっく
り添加する(この操作は非常にゆっくり12時間持続し
て進めるべきである。)。反応混合物を室温に達するの
を許容し、塩素酸カリウム添加終了時点から10時間
後、水酸化カリウム127.5gと水127gで調製され
た溶液を加える。12時間後、室温の懸濁液を濾過す
る。フィルター上に残留する固体は2−クロロレゾルシ
ン−4,6−ジスルホン酸カリウム塩229gである。イ
ソアミルアルコール、ピリジン、水、酢酸(2:2:1:
1)を溶離剤とするセルロース薄層クロマトグラフィー
に付す(Rf=0.46)。
素酸塩と塩酸によるクロロ化):氷472gと37%(m
/m)濃塩酸480mlを入れた2l反応容器(フラスコ)
に、実施例1で得られた反応混合物を注ぐ。混合物の温
度を−15℃に冷却し、塩素酸カリウム60gをゆっく
り添加する(この操作は非常にゆっくり12時間持続し
て進めるべきである。)。反応混合物を室温に達するの
を許容し、塩素酸カリウム添加終了時点から10時間
後、水酸化カリウム127.5gと水127gで調製され
た溶液を加える。12時間後、室温の懸濁液を濾過す
る。フィルター上に残留する固体は2−クロロレゾルシ
ン−4,6−ジスルホン酸カリウム塩229gである。イ
ソアミルアルコール、ピリジン、水、酢酸(2:2:1:
1)を溶離剤とするセルロース薄層クロマトグラフィー
に付す(Rf=0.46)。
【0032】実施例3 2−クロロレゾルシンの製造(希塩酸によるプロトン脱
スルホン化):前記実施例2で得られた2−クロロレゾル
シン−4,6−ジスルホン酸カリウム塩229gを水19
75mlと96%(m/m)硫酸427gで処理する。この懸
濁液を24時間還流する。薄層クロマトグラフィーによ
り、反応混合物中に主として2−クロロレゾルシン86
gが存在するが少量のレゾルシンの存在を確認すること
ができる。シリカ層上、塩化メチレン/酢酸(90:1
0)により調製された溶離剤混合物によるクロマトグラ
フィー分析に付す(RF=0.77)。
スルホン化):前記実施例2で得られた2−クロロレゾル
シン−4,6−ジスルホン酸カリウム塩229gを水19
75mlと96%(m/m)硫酸427gで処理する。この懸
濁液を24時間還流する。薄層クロマトグラフィーによ
り、反応混合物中に主として2−クロロレゾルシン86
gが存在するが少量のレゾルシンの存在を確認すること
ができる。シリカ層上、塩化メチレン/酢酸(90:1
0)により調製された溶離剤混合物によるクロマトグラ
フィー分析に付す(RF=0.77)。
【0033】実施例4 2−クロロレゾルシンの抽出と精製:前記実施例3で得
られた反応混合物を96%硫酸350gで処理し、この
方法で約30%(m/m)濃度を有する硫酸溶液を得る。こ
の溶液を室温にし、次いで酢酸ブチルで抽出する。酢酸
ブチル溶液を蒸発させ、残渣として2−クロロレゾルシ
ン85.5gを得る。ジクロロエタンからの結晶の融点9
7℃。
られた反応混合物を96%硫酸350gで処理し、この
方法で約30%(m/m)濃度を有する硫酸溶液を得る。こ
の溶液を室温にし、次いで酢酸ブチルで抽出する。酢酸
ブチル溶液を蒸発させ、残渣として2−クロロレゾルシ
ン85.5gを得る。ジクロロエタンからの結晶の融点9
7℃。
【0034】実施例5 中間体を分離しない2−クロロレゾルシンの製造(スル
ホン化、塩素によるクロロ化、プロトン脱スルホン化):
前記実施例1で得られた反応混合物を15℃にし、15
℃に保持しながら塩素120gを加える。この混合物を
氷450gと水400ml含有2l容器(フラスコ)に注ぎ、
得られた水層に水150mlと水酸化ナトリウム76gか
ら調製された溶液を加え、次いでこれを24時間還流す
る。この溶液を室温にし、エチルエーテルで抽出後、エ
ーテルを蒸発させ、残留物をジクロロエタンから結晶化
して2−クロロレゾルシン88g(融点97℃)を得る。
ホン化、塩素によるクロロ化、プロトン脱スルホン化):
前記実施例1で得られた反応混合物を15℃にし、15
℃に保持しながら塩素120gを加える。この混合物を
氷450gと水400ml含有2l容器(フラスコ)に注ぎ、
得られた水層に水150mlと水酸化ナトリウム76gか
ら調製された溶液を加え、次いでこれを24時間還流す
る。この溶液を室温にし、エチルエーテルで抽出後、エ
ーテルを蒸発させ、残留物をジクロロエタンから結晶化
して2−クロロレゾルシン88g(融点97℃)を得る。
【0035】実施例6 中間体を分離しない2−クロロレゾルシンの製造(スル
ホン化、ニトロベンゼンの存在下塩素によるクロロ化、
プロトン脱スルホン化):前記実施例1で得られた反応混
合物にニトロベンゼン200mlを加え、定常的に撹拌し
ながら温度を60℃にする。15分後、15℃に冷却
し、15℃に保持しながら塩素120gを加える。次い
で反応混合物を、氷450gと水400ml含有分液漏斗
に注ぎ、有機層を分離し、水層を2l容器(フラスコ)に
移す。この水層に、水150mlと水酸化ナトリウム76
gから調製した溶液を加え、次いでこの混合物を24時
間還流する。溶液を室温にしてエチルエーテルで抽出
後、エーテルを蒸発させ、残留物をジクロロエタンから
結晶化して2−クロロレゾルシン93g(融点97℃)を
得る。
ホン化、ニトロベンゼンの存在下塩素によるクロロ化、
プロトン脱スルホン化):前記実施例1で得られた反応混
合物にニトロベンゼン200mlを加え、定常的に撹拌し
ながら温度を60℃にする。15分後、15℃に冷却
し、15℃に保持しながら塩素120gを加える。次い
で反応混合物を、氷450gと水400ml含有分液漏斗
に注ぎ、有機層を分離し、水層を2l容器(フラスコ)に
移す。この水層に、水150mlと水酸化ナトリウム76
gから調製した溶液を加え、次いでこの混合物を24時
間還流する。溶液を室温にしてエチルエーテルで抽出
後、エーテルを蒸発させ、残留物をジクロロエタンから
結晶化して2−クロロレゾルシン93g(融点97℃)を
得る。
【0036】実施例7 中間体を分離しない2−クロロレゾルシンの製造(スル
ホン化、ニトロベンゼンと塩化メチレンの存在下塩素に
よるクロロ化、プロトン脱スルホン化):前記実施例1で
得られた反応混合物にニトロベンゼン200mlを加え、
定常的に撹拌しながら温度を60℃にする。15分後、
15℃に冷却して塩化メチレン50mlを加え、次いで1
5℃に保持しながら塩素100gを加える。反応混合物
を氷450gと水400ml含有分液漏斗に注ぎ、有機層
を分離して水層を2l容器(フラスコ)に移す。水層に水
150mlと水酸化ナトリウム76gから調製された溶液
を加え、次いでこの混合物を24時間還流する。この溶
液を室温にし、エチルエーテルで抽出後、エーテルを蒸
発させ、残留物をジクロロエタンから結晶化して2−ク
ロロレゾルシン103g(融点97℃)を得る。本発明の
化合物の製造法を以上のように詳述したが、これらの製
造法を多くの方法に変えることができることは明らかで
ある。かかる変法は本発明の意図と範囲から逸脱するも
のと見なされるべきではなく、この分野の技術者にとっ
て自明であるようにすべてこの変法は本願発明の化合物
の製造法内に包含されるものとする。
ホン化、ニトロベンゼンと塩化メチレンの存在下塩素に
よるクロロ化、プロトン脱スルホン化):前記実施例1で
得られた反応混合物にニトロベンゼン200mlを加え、
定常的に撹拌しながら温度を60℃にする。15分後、
15℃に冷却して塩化メチレン50mlを加え、次いで1
5℃に保持しながら塩素100gを加える。反応混合物
を氷450gと水400ml含有分液漏斗に注ぎ、有機層
を分離して水層を2l容器(フラスコ)に移す。水層に水
150mlと水酸化ナトリウム76gから調製された溶液
を加え、次いでこの混合物を24時間還流する。この溶
液を室温にし、エチルエーテルで抽出後、エーテルを蒸
発させ、残留物をジクロロエタンから結晶化して2−ク
ロロレゾルシン103g(融点97℃)を得る。本発明の
化合物の製造法を以上のように詳述したが、これらの製
造法を多くの方法に変えることができることは明らかで
ある。かかる変法は本発明の意図と範囲から逸脱するも
のと見なされるべきではなく、この分野の技術者にとっ
て自明であるようにすべてこの変法は本願発明の化合物
の製造法内に包含されるものとする。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 69/84 9279−4H 215/78 7457−4H 309/42 7419−4H
Claims (3)
- 【請求項1】 式(VII)または(VI'): 【化1】 [式中、Xはハロゲンである]を有する化合物、または
そのアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩。 - 【請求項2】 式(I'): 【化2】 [式中、Xはハロゲン、R1'はホルマート基、1〜7個
の炭素原子を有する低級脂肪族アルコールまたはベンジ
ルアルコールもしくはフェニルエチルアルコールでエー
テル化されたヒドロキシル基、1〜15個の炭素原子を
有する有機酸でエステル化されたヒドロキシル基、遊離
カルボン酸基、1〜7個の低級脂肪族アルコールまたは
ベンジルアルコールもしくはフェニルエチルアルコール
でエステル化されたカルボン酸基、1〜12個の炭素原
子を有するアルキル基、3〜7個の炭素原子を有するシ
クロアルキル基、またはアミン基である]を有する化合
物。 - 【請求項3】 R1'がメチル基である、請求項2記載の
化合物。
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IT49556A/83 | 1983-12-21 | ||
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JPH0788349B2 JPH0788349B2 (ja) | 1995-09-27 |
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---|---|---|---|
JP59270575A Expired - Lifetime JPH0635408B2 (ja) | 1983-12-21 | 1984-12-20 | ハロゲノレゾルシン類の製造法 |
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JP59270575A Expired - Lifetime JPH0635408B2 (ja) | 1983-12-21 | 1984-12-20 | ハロゲノレゾルシン類の製造法 |
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AU (2) | AU3711784A (ja) |
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CH (1) | CH666257A5 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5410083A (en) * | 1993-10-15 | 1995-04-25 | The Dow Chemical Company | Synthesis of diaminoresorcinal from resorcinol |
US20050054586A1 (en) * | 2003-06-30 | 2005-03-10 | Bartels Stephen P. | Treatment of ophthalmic disorders |
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JPS5077378A (ja) * | 1973-11-08 | 1975-06-24 | ||
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EP0039807A2 (de) * | 1980-05-02 | 1981-11-18 | Henkel Kommanditgesellschaft auf Aktien | Haarfärbemittel |
US4421839A (en) * | 1979-08-03 | 1983-12-20 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Heat-sensitive and photofixing recording sheet with diazosulfonate and acidic coupling agent therefore |
JPS6064968A (ja) * | 1973-11-08 | 1985-04-13 | エフ・ホフマン―ラ ロシユ アーゲー | ベンジルピリミジンの製造方法 |
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---|---|---|---|---|
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FR499094A (fr) * | 1919-04-17 | 1920-01-30 | Joseph Cucumel | Machine pour le finissage des velours et tissus à poils |
DE663552C (de) * | 1935-09-29 | 1938-08-09 | I G Farbenindustrie Akt Ges | Verfahren zur Herstellung von metallhaltigen Komplexverbindungen |
GB663552A (en) * | 1947-11-28 | 1951-12-27 | Gen Aniline & Film Corp | Process of preparing 2,4-dihydroxybenzene-sulfonic acid |
NL179175B (nl) * | 1952-06-17 | Rca Corp | In frequentie bestuurbare oscillator. | |
FR1545111A (fr) * | 1966-11-22 | 1968-11-08 | Gen Aniline & Film Corp | Procédé perfectionné de préparation d'acide 3-benzoly-4-hydroxy-6-méthoxybenzènesulfonique et produit obtenu par ce procédé |
DE1643400C3 (de) * | 1966-11-22 | 1980-09-25 | Basf Wyandotte Corp., Wyandotte, Mich. (V.St.A.) | Verwendung von 3-Benzoyl-4-hydroxy-6-methoxybenzolsulfonsäure als ultraviolett-Hchtabsorbierendes Mittel |
US3713256A (en) * | 1971-10-28 | 1973-01-30 | Besenbruch Hofmann | Adjustable grinding tool for brake cylinders and the like |
JPS5644413B2 (ja) * | 1973-05-12 | 1981-10-19 | ||
DE2616479C2 (de) * | 1976-04-14 | 1986-12-04 | Brickl, Rolf, Dr., 7951 Warthausen | Substituierte Fluoracylresorcine, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese enthaltende Arzneimittel und Kosmetika |
IT1088554B (it) * | 1977-11-17 | 1985-06-10 | F I D I A Spa | Procedimento sellettivo per la preparazione di derivati della 7-indrossi cumarina |
DD147424A1 (de) * | 1979-11-28 | 1981-04-01 | Detlef Rehorek | Ein-oder zweikomponentendiazotypiematerial |
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DE3044128A1 (de) * | 1980-11-24 | 1982-07-15 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Cumarine, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
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-
1984
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1989
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1992
- 1992-11-18 JP JP4308634A patent/JPH0788349B2/ja not_active Ceased
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20060822 |