JPH05218287A - コンピュータシステム内への機能的サブシステム形成方法 - Google Patents
コンピュータシステム内への機能的サブシステム形成方法Info
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- JPH05218287A JPH05218287A JP4258706A JP25870692A JPH05218287A JP H05218287 A JPH05218287 A JP H05218287A JP 4258706 A JP4258706 A JP 4258706A JP 25870692 A JP25870692 A JP 25870692A JP H05218287 A JPH05218287 A JP H05218287A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 コンピュータシステム全体をフレキシブルキ
ャリアの最小領域に効率的に製造及びパッケージ化する
こと。 【構成】 本発明によるサブシステム1は、フレックス
キャリア2の一つ以上の側上に、回路化された導電信号
線を有する誘電体物質からなるフレキシブルキャリア2
を得ることによって製造される。回路配線は、当然マル
チチップモジュール1の型に整合されており、このフレ
ックスキャリアに載置されるべく機能する。次いで光画
像形成化可能な誘電体層8が回路化されたキャリア2の
好適部分上に載置され、次いでバイア10、16、22
が誘電体層の内部に形成され、更に導電物質11が充填
される。誘電体層の最上側は必要に応じて回路化され
る。追加層14は必要に応じて上記と同様のプロセスに
よって組み立てられる。導電性パッド33、37がモジ
ュールに直接取り付けられたチップ入力/出力に相互接
続ポイントを提供するために最上の回路の誘電体層20
上に形成される。
ャリアの最小領域に効率的に製造及びパッケージ化する
こと。 【構成】 本発明によるサブシステム1は、フレックス
キャリア2の一つ以上の側上に、回路化された導電信号
線を有する誘電体物質からなるフレキシブルキャリア2
を得ることによって製造される。回路配線は、当然マル
チチップモジュール1の型に整合されており、このフレ
ックスキャリアに載置されるべく機能する。次いで光画
像形成化可能な誘電体層8が回路化されたキャリア2の
好適部分上に載置され、次いでバイア10、16、22
が誘電体層の内部に形成され、更に導電物質11が充填
される。誘電体層の最上側は必要に応じて回路化され
る。追加層14は必要に応じて上記と同様のプロセスに
よって組み立てられる。導電性パッド33、37がモジ
ュールに直接取り付けられたチップ入力/出力に相互接
続ポイントを提供するために最上の回路の誘電体層20
上に形成される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、一般に、縮小された領
域と全体的複雑性とを有するマルチチップモジュールの
製造に関する。特に、多数の集積回路(以降、IC又は
チップと称する)を支持することができるモジュールが
フレキシブルキャリア上に形成され、これによって、機
能的サブシステム、即ち、メモリ、プロセッサ、グラフ
ィック、SCSIアダプタ、I/Oドライバ、その他の
ようなコンピュータ機能の複雑な(コンプレックス)領
域がフレキシブルキャリア上に取り付けられることがで
きる。
域と全体的複雑性とを有するマルチチップモジュールの
製造に関する。特に、多数の集積回路(以降、IC又は
チップと称する)を支持することができるモジュールが
フレキシブルキャリア上に形成され、これによって、機
能的サブシステム、即ち、メモリ、プロセッサ、グラフ
ィック、SCSIアダプタ、I/Oドライバ、その他の
ようなコンピュータ機能の複雑な(コンプレックス)領
域がフレキシブルキャリア上に取り付けられることがで
きる。
【0002】
【従来の技術】現在、多数の異なる形状のチップをフレ
キシブルキャリアに取り付けることは公知である。例え
ば、米国特許第4,967,950号は、制御された崩
壊チップ結合型(C4)のICのフレキシブル基板への
直接的装着について示している。ピンスルーホール(P
TH)パッケージと、ワイヤボンディングと、リード端
子がソルダパッドに位置合わせされ、次いでソルダがリ
フローされる表面取り付け技術(SMT)のチップとを
含む他の形状のチップもフレキシブル基板物質に取り付
けられ得る。
キシブルキャリアに取り付けることは公知である。例え
ば、米国特許第4,967,950号は、制御された崩
壊チップ結合型(C4)のICのフレキシブル基板への
直接的装着について示している。ピンスルーホール(P
TH)パッケージと、ワイヤボンディングと、リード端
子がソルダパッドに位置合わせされ、次いでソルダがリ
フローされる表面取り付け技術(SMT)のチップとを
含む他の形状のチップもフレキシブル基板物質に取り付
けられ得る。
【0003】さらに、従来の技術は、コンプレックス領
域、又は特定の機能を提供するために用いられることが
できるアイランドを形成するように、フレキシブル基板
上に種々のパッケージ形状に多数のチップをパッケージ
化する可能性を有している。米国特許第4,567,5
43号は、複数のSMT及びPTHパッケージを受容す
ることができる両面フレキシブルモジュールを開示して
いる。米国特許第4,495,546号は、母板の結合
スリットに挿入されることができる、当該基板上に複数
のチップを有するフレキシブル基板について記述してい
る。米国特許第5,028,983号は、一端が基板と
接触するように薄膜から外側へ延出しており、かつ他端
がICの接点パッドと接合されている、ビームリード端
子を有する薄膜を開示している。米国特許第4,98
7,100号と第4,937,707号では、インター
ポーザ型の配置の使用により、フレキシブルキャリアに
取り付けられたC4型チップが開示されている。IBM
のTDBの“Concept for Forming Multilayer Structu
res for Electronic Packaging”(電子パッケージのた
めの多層構造体を形成するための概念)は、チップをフ
レキシブル薄膜上に載置し、次いでフレキシブル薄膜
が、この薄膜の両側に挟まれて配置されている熱スプレ
ッダデバイスによって薄膜自体が包囲されることを開示
している。
域、又は特定の機能を提供するために用いられることが
できるアイランドを形成するように、フレキシブル基板
上に種々のパッケージ形状に多数のチップをパッケージ
化する可能性を有している。米国特許第4,567,5
43号は、複数のSMT及びPTHパッケージを受容す
ることができる両面フレキシブルモジュールを開示して
いる。米国特許第4,495,546号は、母板の結合
スリットに挿入されることができる、当該基板上に複数
のチップを有するフレキシブル基板について記述してい
る。米国特許第5,028,983号は、一端が基板と
接触するように薄膜から外側へ延出しており、かつ他端
がICの接点パッドと接合されている、ビームリード端
子を有する薄膜を開示している。米国特許第4,98
7,100号と第4,937,707号では、インター
ポーザ型の配置の使用により、フレキシブルキャリアに
取り付けられたC4型チップが開示されている。IBM
のTDBの“Concept for Forming Multilayer Structu
res for Electronic Packaging”(電子パッケージのた
めの多層構造体を形成するための概念)は、チップをフ
レキシブル薄膜上に載置し、次いでフレキシブル薄膜
が、この薄膜の両側に挟まれて配置されている熱スプレ
ッダデバイスによって薄膜自体が包囲されることを開示
している。
【0004】異なるタイプの電子的デバイスに種々の機
能を提供するため、フレキシブル基板に複数の相互接続
されたチップが取り付けられる時に生成されるコンプレ
ックス領域を使用することも公知である。例えば、米国
特許第4,177,519号及び第4,081,898
号は、計算器製造のために、当該フレキシブルキャリア
上に電子構成要素を有するフレキシブルキャリアを使用
することを開示している。さらに、米国特許第4,59
8,337号及び第4,064,552号では、機能的
領域を使用した腕時計の製造方法が示されている。米国
特許第4,990,948号は、当該フレキシブルプリ
ント回路板上にチップを含むフレキシブルプリント回路
板を有するカメラレンズが開示されている。米国特許第
4,843,520号は、第1及び第2の基板に取り付
けられているフレキシブル薄膜に取り付けられている電
子構成素子を有する電子的回路モジュールを開示してい
る。米国特許第4,104,728号は、ハウジング内
に配置されている当該基板上に形成された配線パターン
を含むフレキシブル基板を有する電子装置を開示してい
る。
能を提供するため、フレキシブル基板に複数の相互接続
されたチップが取り付けられる時に生成されるコンプレ
ックス領域を使用することも公知である。例えば、米国
特許第4,177,519号及び第4,081,898
号は、計算器製造のために、当該フレキシブルキャリア
上に電子構成要素を有するフレキシブルキャリアを使用
することを開示している。さらに、米国特許第4,59
8,337号及び第4,064,552号では、機能的
領域を使用した腕時計の製造方法が示されている。米国
特許第4,990,948号は、当該フレキシブルプリ
ント回路板上にチップを含むフレキシブルプリント回路
板を有するカメラレンズが開示されている。米国特許第
4,843,520号は、第1及び第2の基板に取り付
けられているフレキシブル薄膜に取り付けられている電
子構成素子を有する電子的回路モジュールを開示してい
る。米国特許第4,104,728号は、ハウジング内
に配置されている当該基板上に形成された配線パターン
を含むフレキシブル基板を有する電子装置を開示してい
る。
【0005】フレキシブル回路を形成するために、上に
集積回路デバイスが取り付けられたフレキシブルキャリ
アは、従来の技術において周知である。しかしながら、
コンピュータ産業における現在の需要は、コンピュータ
システムの設計者によって、より効率的にパッケージ化
されることができる、より狭い領域により多くの機能性
を設けることを必要とする。より多くの機能性を提供す
るために、モジュールが、プレーナ板又は回路カードに
直接取り付けられているマルチチップモジュール(MC
M)が使用されてきた。この方法は、MCMが取り付け
られるキャリアの高いコスト(MCM入力及び出力(I
/O)の複雑性による)、及びモジュールの入力及び出
力(I/O)の効率的な相互接続に付随する問題などを
含むいくつかの欠点を有する。関連する技術に見られる
他の問題は、フレキシブルキャリア上に取り付けられる
チップを装着かつ相互接続させるために必要とされる領
域にある。即ち、チップと電子デバイスとの間の相互接
続、又は他のパッケージ化レベルのために、リード端子
が、チップからMCM又はフレキシブル基板の周囲へ延
出される、「ファンアウト」が必要とされる。
集積回路デバイスが取り付けられたフレキシブルキャリ
アは、従来の技術において周知である。しかしながら、
コンピュータ産業における現在の需要は、コンピュータ
システムの設計者によって、より効率的にパッケージ化
されることができる、より狭い領域により多くの機能性
を設けることを必要とする。より多くの機能性を提供す
るために、モジュールが、プレーナ板又は回路カードに
直接取り付けられているマルチチップモジュール(MC
M)が使用されてきた。この方法は、MCMが取り付け
られるキャリアの高いコスト(MCM入力及び出力(I
/O)の複雑性による)、及びモジュールの入力及び出
力(I/O)の効率的な相互接続に付随する問題などを
含むいくつかの欠点を有する。関連する技術に見られる
他の問題は、フレキシブルキャリア上に取り付けられる
チップを装着かつ相互接続させるために必要とされる領
域にある。即ち、チップと電子デバイスとの間の相互接
続、又は他のパッケージ化レベルのために、リード端子
が、チップからMCM又はフレキシブル基板の周囲へ延
出される、「ファンアウト」が必要とされる。
【0006】これによって、コンピュータにおいて使用
するための複数の高密度搭載された電子デバイスからな
る機能的サブシステムを効率的に提供する手段が、大い
に所望されることを見ることができる。
するための複数の高密度搭載された電子デバイスからな
る機能的サブシステムを効率的に提供する手段が、大い
に所望されることを見ることができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術と対照し
て、本発明は、フレキシブルキャリアに取り付けられる
MCMの領域を縮小させるコンピュータにおける機能的
サブシステムを製造する方法を提供する。同様に、この
サブシステムのコンプレックス機能的領域(MCM)が
システムケーブルに取り付けられるので、システムプレ
ーナ上で追加スペースを利用することができる。
て、本発明は、フレキシブルキャリアに取り付けられる
MCMの領域を縮小させるコンピュータにおける機能的
サブシステムを製造する方法を提供する。同様に、この
サブシステムのコンプレックス機能的領域(MCM)が
システムケーブルに取り付けられるので、システムプレ
ーナ上で追加スペースを利用することができる。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、局所的コンプ
レックス機能的領域、即ちフレキシブルキャリア上に組
り付けられた多層マルチチップモジュール(MCM)キ
ャリアを含んでいる。これによって、局所的コンプレッ
クス領域はコストの高いプレーナに取り付けられること
は必要とされないが、標準的なプリント回路板(PC
B)より高い配線密度を保持することができ、従ってあ
まり経費のかからないフレキシブルケーブル、即ちキャ
リアに固定される。フレキシブルキャリアは、MCMへ
インターフェースを提供するだけでなく、機能を利用し
ているシステムへのインターフェースをも提供する。サ
ブシステムのあまり複雑でない領域もフレキシブルキャ
リア上にあって、このフレキシブルキャリアは、低I/
O(入力/出力)チップ、受動デバイスのような、MC
Mに取り付けられる必要のない機能のノンコンプレック
ス構成素子を直接受容する。これに対して、局所的コン
プレックス機能領域、即ちMCMは、カスタムASIC
(特定アプリケーション集積回路)、プロセッサ、高周
波数アナログ部品、及び他の高I/O(入力/出力)チ
ップのような高パフォーマンスの直接チップ装着(DC
A)取り付け構成素子のみを含んでいる。従って、この
ように、コンピュータ機能全体が構成され、フレキシブ
ルキャリアアセンブリにハウジングされる。
レックス機能的領域、即ちフレキシブルキャリア上に組
り付けられた多層マルチチップモジュール(MCM)キ
ャリアを含んでいる。これによって、局所的コンプレッ
クス領域はコストの高いプレーナに取り付けられること
は必要とされないが、標準的なプリント回路板(PC
B)より高い配線密度を保持することができ、従ってあ
まり経費のかからないフレキシブルケーブル、即ちキャ
リアに固定される。フレキシブルキャリアは、MCMへ
インターフェースを提供するだけでなく、機能を利用し
ているシステムへのインターフェースをも提供する。サ
ブシステムのあまり複雑でない領域もフレキシブルキャ
リア上にあって、このフレキシブルキャリアは、低I/
O(入力/出力)チップ、受動デバイスのような、MC
Mに取り付けられる必要のない機能のノンコンプレック
ス構成素子を直接受容する。これに対して、局所的コン
プレックス機能領域、即ちMCMは、カスタムASIC
(特定アプリケーション集積回路)、プロセッサ、高周
波数アナログ部品、及び他の高I/O(入力/出力)チ
ップのような高パフォーマンスの直接チップ装着(DC
A)取り付け構成素子のみを含んでいる。従って、この
ように、コンピュータ機能全体が構成され、フレキシブ
ルキャリアアセンブリにハウジングされる。
【0009】コンプレックス及びノンコンプレックス領
域を含む本発明のサブシステムは、当該フレキシブルキ
ャリアの少なくとも一つの側上に、回路化された導電信
号線を有する誘電体物質のような好適なフレキシブルキ
ャリア層を得ることによって製造される。回路化配線
は、当然、MCMの型に整合し、かつフレキシブルキャ
リアに載置されるように機能する。次いで、光画像形成
化可能な誘電体層は、回路化されたキャリアの好適部分
にわたって配置され、層の内部にバイアが形成され、か
つ導電物質が充填される。誘電体層の最上側は、必要に
応じてフレキシブルキャリア回路配線に相互接続される
電気信号伝送線を形成するために回路化される。次い
で、追加層は、上記と同一のプロセスにより、必要に応
じて組み立てられる。導電性パッドは、モジュールに直
接取り付けられるチップI/O用に相互接続ポイントを
提供するため、最上回路の誘電体層上に形成される。
域を含む本発明のサブシステムは、当該フレキシブルキ
ャリアの少なくとも一つの側上に、回路化された導電信
号線を有する誘電体物質のような好適なフレキシブルキ
ャリア層を得ることによって製造される。回路化配線
は、当然、MCMの型に整合し、かつフレキシブルキャ
リアに載置されるように機能する。次いで、光画像形成
化可能な誘電体層は、回路化されたキャリアの好適部分
にわたって配置され、層の内部にバイアが形成され、か
つ導電物質が充填される。誘電体層の最上側は、必要に
応じてフレキシブルキャリア回路配線に相互接続される
電気信号伝送線を形成するために回路化される。次い
で、追加層は、上記と同一のプロセスにより、必要に応
じて組み立てられる。導電性パッドは、モジュールに直
接取り付けられるチップI/O用に相互接続ポイントを
提供するため、最上回路の誘電体層上に形成される。
【0010】
【実施例】図1は、参照番号1によって示された本発明
のマルチチップモジュールとフレキシブルキャリア(サ
ブシステム)1である。上に載置されるべき機能の複雑
性に依存して電気的に構成されたフレキシブル基板2が
設けられている。例えば、上に一つ以上の回路層を有す
るフレキシブルケーブルだけでなく、細密な回路配線、
全体的又は部分的接地面、及び高パフォーマンスネット
ワークのための制御されたインピーダンス回路又はスト
リップ線を提供するフレキシブルキャリアも使用される
ことができる。本発明の好ましい実施例において、フレ
キシブルキャリア2は、ポリイミドなどのような誘電体
物質からなる単一のフレキシブル層から製造される。さ
らに、フレキシブルキャリア2は誘電体層の各側上に配
置されている導電物質の層を含んでいる。フレキシブル
キャリア2に配置されている導電体層の回路化も提供さ
れ、かつこの回路化は構成されるべきコンプレックス
(複雑)機能領域のタイプに依存する。フレキシブルキ
ャリア2上のこれらの回路層は、当該回路層上に伝導信
号線及び他の回路を残すために、導電シード層上に導電
線をメッキすることによって、又は、キャリア2の誘電
体層の表面全体を金属被覆し、エッチング又は他のプロ
セスによって不必要な物質を除去することによって、誘
電体物質上に加えられた銅又はアルミニウムのような導
電体物質から構成される。このように、専用(パッケー
ジ化されるべき複雑な機能に特有な)回路層4及び6
は、キャリア2上に形成され、バイア3及び38と共に
図1に示されている。これらのバイア3及び38は、フ
レキシブルキャリア2(例:低I/O(入力/出力)I
C)に直接取り付けられているノンコンプレックス(複
雑でない)構成素子と、サブシステム1のコンプレック
ス領域に取り付けられるべきチップのような他のデバイ
スとの間に相互接続を提供するだけでなく、回路層4と
6の間にも相互接続を可能にする。従って、フレキシブ
ルキャリア2がサブシステム1の局所的コンプレックス
領域(MCM)によって必要とされることもある配線層
(4、6)の内の二つを提供することができ、これによ
って、図4〜図13に記述されているように、局所的コ
ンプレックス領域を形成する間は、引き続いて追加され
るべき配線層の数を減少させるのが見られる。補強材4
0が示されており、本発明の構造に剛体ベースを設ける
ために用いられ、さらにこの補強材は、アセンブリと動
作の両方の間にモジュール1に熱的強化及び熱膨張整合
制御を提供するために用いられることができる。補強材
40は、一般的に、セラミック又はシリコンの物質から
構成されている。補強材40は、キャリア2と、マルチ
チップモジュール1、即ちコンプレックス領域上のチッ
プとの間の不整合熱膨張係数に起因するストレス(応
力)を減少させる。しかしながら、モジュール1とキャ
リア2との間の熱膨張係数における差はあまり大きくな
いので、補強材40が本発明の製造時にだけ用いられ、
本発明の終了時には除去されるという使用法が多い。
のマルチチップモジュールとフレキシブルキャリア(サ
ブシステム)1である。上に載置されるべき機能の複雑
性に依存して電気的に構成されたフレキシブル基板2が
設けられている。例えば、上に一つ以上の回路層を有す
るフレキシブルケーブルだけでなく、細密な回路配線、
全体的又は部分的接地面、及び高パフォーマンスネット
ワークのための制御されたインピーダンス回路又はスト
リップ線を提供するフレキシブルキャリアも使用される
ことができる。本発明の好ましい実施例において、フレ
キシブルキャリア2は、ポリイミドなどのような誘電体
物質からなる単一のフレキシブル層から製造される。さ
らに、フレキシブルキャリア2は誘電体層の各側上に配
置されている導電物質の層を含んでいる。フレキシブル
キャリア2に配置されている導電体層の回路化も提供さ
れ、かつこの回路化は構成されるべきコンプレックス
(複雑)機能領域のタイプに依存する。フレキシブルキ
ャリア2上のこれらの回路層は、当該回路層上に伝導信
号線及び他の回路を残すために、導電シード層上に導電
線をメッキすることによって、又は、キャリア2の誘電
体層の表面全体を金属被覆し、エッチング又は他のプロ
セスによって不必要な物質を除去することによって、誘
電体物質上に加えられた銅又はアルミニウムのような導
電体物質から構成される。このように、専用(パッケー
ジ化されるべき複雑な機能に特有な)回路層4及び6
は、キャリア2上に形成され、バイア3及び38と共に
図1に示されている。これらのバイア3及び38は、フ
レキシブルキャリア2(例:低I/O(入力/出力)I
C)に直接取り付けられているノンコンプレックス(複
雑でない)構成素子と、サブシステム1のコンプレック
ス領域に取り付けられるべきチップのような他のデバイ
スとの間に相互接続を提供するだけでなく、回路層4と
6の間にも相互接続を可能にする。従って、フレキシブ
ルキャリア2がサブシステム1の局所的コンプレックス
領域(MCM)によって必要とされることもある配線層
(4、6)の内の二つを提供することができ、これによ
って、図4〜図13に記述されているように、局所的コ
ンプレックス領域を形成する間は、引き続いて追加され
るべき配線層の数を減少させるのが見られる。補強材4
0が示されており、本発明の構造に剛体ベースを設ける
ために用いられ、さらにこの補強材は、アセンブリと動
作の両方の間にモジュール1に熱的強化及び熱膨張整合
制御を提供するために用いられることができる。補強材
40は、一般的に、セラミック又はシリコンの物質から
構成されている。補強材40は、キャリア2と、マルチ
チップモジュール1、即ちコンプレックス領域上のチッ
プとの間の不整合熱膨張係数に起因するストレス(応
力)を減少させる。しかしながら、モジュール1とキャ
リア2との間の熱膨張係数における差はあまり大きくな
いので、補強材40が本発明の製造時にだけ用いられ、
本発明の終了時には除去されるという使用法が多い。
【0011】第1誘電体層8が、キャリア2の補強材4
0とは反対側に取り付けられているのが示されている。
誘電体層8は、連続する回路層とチップI/Oとを介し
てキャリア2の回路層6へのアクセスを提供するバイア
10を含んでいる。回路層6は、引き続いてマルチチッ
プモジュール(MCM)の頂部に載置されている集積回
路デバイスによってアクセスされるべき入力/出力相互
接続ポイントを含んでいる。導電物質は、誘電体層8の
キャリア2の反対側に配置されている回路層12から電
気的接続が行われるようにバイア10(図6)内に置か
れる。他の誘電体層14が示されており、かつ回路層1
2に隣接して配置されており、さらにこの誘電体層14
は、連続する回路層又はチップI/Oと、誘電体層8の
回路層12との間の接続を可能とする、当該バイア内部
に配置されている導電物質を有するバイア16を含んで
いる。他の層18が回路化され、誘電体層14のキャリ
ア2の反対側上に設けられている。誘電体層20と、連
続して形成されるバイア22とが回路層18に隣接して
おり、かつ誘電体層14の頂部に垂直に積み重ねられて
いるのが示されている。ここでも、導電物質は、層20
のキャリア2とは反対側に置かれている他の専用回路層
24からの相互接続を提供するためにバイア22内に置
かれる。誘電体層と回路層の数は、サブシステムの複雑
性、即ち、いくつの配線がチップを相互に接続させるた
めに必要とされるか、及び他のいくつの回路がサブシス
テムのために必要とされるかによって決定される。電気
的接続手段26は誘電体層20上に設けられていると共
に、集積回路デバイス28のC4のソルダボールのよう
なソルダボール相互接続ポイント30との電気的接続を
提供するように、回路層24と連絡している。このよう
に、チップ28は、誘電体層8、14、20及び回路層
(配線層)12、18、24の各々を介して、キャリア
2及び、相互接続を必要とする任意の他の電気的構成素
子とも電気的に相互接続される。さらに、チップI/O
30は、ファンアウトの必要性を除くことによってサブ
システム1の局所的コンプレックス領域(MCM)の領
域を縮小するために、フレキシブルキャリア層4、6の
対応するI/O相互接続ポイントに垂直に位置合わせさ
れることができる。従って、他の構成素子及びサブシス
テムに配線(ワイヤリング)を設けるために従来のMC
Mにおいて用いられたファンアウトは、チップをフレキ
シブル取り付けモジュールに取り付けるための直接チッ
プ取り付け(DCA)技術を用いることによって除去さ
れる。
0とは反対側に取り付けられているのが示されている。
誘電体層8は、連続する回路層とチップI/Oとを介し
てキャリア2の回路層6へのアクセスを提供するバイア
10を含んでいる。回路層6は、引き続いてマルチチッ
プモジュール(MCM)の頂部に載置されている集積回
路デバイスによってアクセスされるべき入力/出力相互
接続ポイントを含んでいる。導電物質は、誘電体層8の
キャリア2の反対側に配置されている回路層12から電
気的接続が行われるようにバイア10(図6)内に置か
れる。他の誘電体層14が示されており、かつ回路層1
2に隣接して配置されており、さらにこの誘電体層14
は、連続する回路層又はチップI/Oと、誘電体層8の
回路層12との間の接続を可能とする、当該バイア内部
に配置されている導電物質を有するバイア16を含んで
いる。他の層18が回路化され、誘電体層14のキャリ
ア2の反対側上に設けられている。誘電体層20と、連
続して形成されるバイア22とが回路層18に隣接して
おり、かつ誘電体層14の頂部に垂直に積み重ねられて
いるのが示されている。ここでも、導電物質は、層20
のキャリア2とは反対側に置かれている他の専用回路層
24からの相互接続を提供するためにバイア22内に置
かれる。誘電体層と回路層の数は、サブシステムの複雑
性、即ち、いくつの配線がチップを相互に接続させるた
めに必要とされるか、及び他のいくつの回路がサブシス
テムのために必要とされるかによって決定される。電気
的接続手段26は誘電体層20上に設けられていると共
に、集積回路デバイス28のC4のソルダボールのよう
なソルダボール相互接続ポイント30との電気的接続を
提供するように、回路層24と連絡している。このよう
に、チップ28は、誘電体層8、14、20及び回路層
(配線層)12、18、24の各々を介して、キャリア
2及び、相互接続を必要とする任意の他の電気的構成素
子とも電気的に相互接続される。さらに、チップI/O
30は、ファンアウトの必要性を除くことによってサブ
システム1の局所的コンプレックス領域(MCM)の領
域を縮小するために、フレキシブルキャリア層4、6の
対応するI/O相互接続ポイントに垂直に位置合わせさ
れることができる。従って、他の構成素子及びサブシス
テムに配線(ワイヤリング)を設けるために従来のMC
Mにおいて用いられたファンアウトは、チップをフレキ
シブル取り付けモジュールに取り付けるための直接チッ
プ取り付け(DCA)技術を用いることによって除去さ
れる。
【0012】本発明の好ましい実施例において、DCA
は、C4装着の場合のように、チップをフェイスダウン
ボンディングによって取り付けるために用いられる。さ
らに、高I/Oチップに関しては、本発明によって、領
域アレイのフットプリント(足跡状)も考慮に入れられ
る。本明細書に文献引用されている1991年10月4
日に申請された米国出願番号07/771695では、
単一基板上に異なるように構成されたチップを相互接続
させる種々の方法について記述している。特に、元来、
C4技術又はワイヤボンディングのような他の種類の取
り付け方法を用いるように構成されている異なるように
構成されたチップがどのようにフェイスダウンボンディ
ングによって取り付けられ得るかが示されている。チッ
プの可能とされる最小の「フットプリント」が提示さ
れ、これにより、コンプレックス領域に必要とされる領
域が最小限におさえられるので、フェイスダウンボンデ
ィングによって取り付けられるチップが好ましいとされ
る。これらのチップをワイヤボンディング(接合)する
ことは可能であるが、装着が必要とされる領域が増大さ
れる。
は、C4装着の場合のように、チップをフェイスダウン
ボンディングによって取り付けるために用いられる。さ
らに、高I/Oチップに関しては、本発明によって、領
域アレイのフットプリント(足跡状)も考慮に入れられ
る。本明細書に文献引用されている1991年10月4
日に申請された米国出願番号07/771695では、
単一基板上に異なるように構成されたチップを相互接続
させる種々の方法について記述している。特に、元来、
C4技術又はワイヤボンディングのような他の種類の取
り付け方法を用いるように構成されている異なるように
構成されたチップがどのようにフェイスダウンボンディ
ングによって取り付けられ得るかが示されている。チッ
プの可能とされる最小の「フットプリント」が提示さ
れ、これにより、コンプレックス領域に必要とされる領
域が最小限におさえられるので、フェイスダウンボンデ
ィングによって取り付けられるチップが好ましいとされ
る。これらのチップをワイヤボンディング(接合)する
ことは可能であるが、装着が必要とされる領域が増大さ
れる。
【0013】図1は、ノンコンプレックス素子32、3
4、及び36も示しており、これらの素子はフレキシブ
ルキャリア2のノンコンプレックス領域に直接載置さ
れ、これによってフレキシブル基板2上に形成されるべ
き局所的コンプレックス領域(MCM)の必要寸法と複
雑性とを縮小させることができる。例えば、デバイス3
2は、コンデンサなどであってもよく、表面取り付け技
術(SMT)方法によってフレキシブルキャリア2に相
互接続されているのが示されている。パッド33は、キ
ャリア2上に形成され、デバイス32上の対応する電気
的接続パッドが共に位置合わせされ、次いで例えば半田
付け等の結合治金術がリフローされる。デバイス34
は、ワイヤボンディング技術によってフレキシブルキャ
リア2に取り付けられているのが示されており、この
際、導電体35が、チップ34上のI/Oからキャリア
2上の電気的接続パッド37へと載置される。さらに、
ピンスルーホール(PTH)デバイス36が、導電物質
の内部表面周囲がメッキされ、かつフレキシブルキャリ
ア2内で形成されたバイア38によって、フレキシブル
キャリアに接続されているのが示されている。デバイス
36のキャリア2上への載置に引き続いて、デバイス3
6のI/O(ピン)をフレキシブル回路層4と結合させ
るために互換性の治金がリフローされる。
4、及び36も示しており、これらの素子はフレキシブ
ルキャリア2のノンコンプレックス領域に直接載置さ
れ、これによってフレキシブル基板2上に形成されるべ
き局所的コンプレックス領域(MCM)の必要寸法と複
雑性とを縮小させることができる。例えば、デバイス3
2は、コンデンサなどであってもよく、表面取り付け技
術(SMT)方法によってフレキシブルキャリア2に相
互接続されているのが示されている。パッド33は、キ
ャリア2上に形成され、デバイス32上の対応する電気
的接続パッドが共に位置合わせされ、次いで例えば半田
付け等の結合治金術がリフローされる。デバイス34
は、ワイヤボンディング技術によってフレキシブルキャ
リア2に取り付けられているのが示されており、この
際、導電体35が、チップ34上のI/Oからキャリア
2上の電気的接続パッド37へと載置される。さらに、
ピンスルーホール(PTH)デバイス36が、導電物質
の内部表面周囲がメッキされ、かつフレキシブルキャリ
ア2内で形成されたバイア38によって、フレキシブル
キャリアに接続されているのが示されている。デバイス
36のキャリア2上への載置に引き続いて、デバイス3
6のI/O(ピン)をフレキシブル回路層4と結合させ
るために互換性の治金がリフローされる。
【0014】図2では、上に位置する多重コンプレック
ス機能領域1を有するフレキシブル基板2の平面図が示
されている。これによって、在来的にプリント回路板に
載置されたコンピュータ機能の全部ではないが、多数が
フレキシブルキャリア2などに固定され得る。
ス機能領域1を有するフレキシブル基板2の平面図が示
されている。これによって、在来的にプリント回路板に
載置されたコンピュータ機能の全部ではないが、多数が
フレキシブルキャリア2などに固定され得る。
【0015】図3は、単一コンプレックス機能領域の平
面図を示している。ここでも、フレキシブルキャリア2
が示されており、低I/O集積回路デバイス、並びにコ
ンデンサ及びレジスタの様な受動デバイス(素子)のご
ときノンコンプレックス電子構成素子32、34、3
6、及び44が当該キャリアに取り付けられているのが
示されている。相互接続手段42は、キャリア2が、コ
ンピュータシステム内に取り付けられるI/Oコネクタ
等に相互接続されるのを可能にするフレキシブルキャリ
ア2に配置されているのが示されている。パッドを含む
相互接続ポイント42は、フレキシブルキャリアをプリ
ント回路板などに電気的に接続させるように用いられ
る。ここでも、使用されるチップ及び物質の熱的特性に
依存して本発明に含まれてもよい補強材40が示されて
いる。相互接続ポイント26がコンプレックス領域の最
上層の表面上に示されている。相互接続ポイント26
は、局所的コンプレックス機能領域1上に置かれるべき
チップのI/O相互接続ポイントの型を結合させるため
に互換性の導電パッドを含んでいる。図1に示されるよ
うに、かつパッケージ化されるべきコンピュータ機能に
必要とされるままに、当然、I/O26は、上記の配線
層(回路層)を介してノンコンプレックスデバイス3
2、34、36、44と、キャリア相互接続ポイント4
2と、又は相互に、電気的に接続される。
面図を示している。ここでも、フレキシブルキャリア2
が示されており、低I/O集積回路デバイス、並びにコ
ンデンサ及びレジスタの様な受動デバイス(素子)のご
ときノンコンプレックス電子構成素子32、34、3
6、及び44が当該キャリアに取り付けられているのが
示されている。相互接続手段42は、キャリア2が、コ
ンピュータシステム内に取り付けられるI/Oコネクタ
等に相互接続されるのを可能にするフレキシブルキャリ
ア2に配置されているのが示されている。パッドを含む
相互接続ポイント42は、フレキシブルキャリアをプリ
ント回路板などに電気的に接続させるように用いられ
る。ここでも、使用されるチップ及び物質の熱的特性に
依存して本発明に含まれてもよい補強材40が示されて
いる。相互接続ポイント26がコンプレックス領域の最
上層の表面上に示されている。相互接続ポイント26
は、局所的コンプレックス機能領域1上に置かれるべき
チップのI/O相互接続ポイントの型を結合させるため
に互換性の導電パッドを含んでいる。図1に示されるよ
うに、かつパッケージ化されるべきコンピュータ機能に
必要とされるままに、当然、I/O26は、上記の配線
層(回路層)を介してノンコンプレックスデバイス3
2、34、36、44と、キャリア相互接続ポイント4
2と、又は相互に、電気的に接続される。
【0016】図4〜図13は、図1に示されるように、
本発明の製造方法を説明するために用いられる。図4で
は、当該フレキシブルキャリアの両側に回路層4及び6
が配置されているフレキシブルキャリア2が示されてい
る。回路層6に隣接しておりかつ補強材40の反対側に
あって、キャリア2上に載置された後の誘電体層8が示
されている。誘電体層8は光画像形成化可能ポリイミド
などから組成されていると共に、ホットロールラミネー
ションなどのような在来の手段によってキャリア2上に
載置される。受動素子32、34、36は、前のプロセ
スによってキャリア2に載置されてもよいし、又は本発
明の局所的コンプレックス機能領域の完了に引き続いて
フレキシブルキャリア2に取り付けられてもよい。受動
素子32、34、36は図4〜図13の各図に示されて
いるが、これらの素子が、サブシステム1の局所的コン
プレックス領域の製造プロセスの前、又は後に、固定さ
れてもよいことが理解されるべきである。
本発明の製造方法を説明するために用いられる。図4で
は、当該フレキシブルキャリアの両側に回路層4及び6
が配置されているフレキシブルキャリア2が示されてい
る。回路層6に隣接しておりかつ補強材40の反対側に
あって、キャリア2上に載置された後の誘電体層8が示
されている。誘電体層8は光画像形成化可能ポリイミド
などから組成されていると共に、ホットロールラミネー
ションなどのような在来の手段によってキャリア2上に
載置される。受動素子32、34、36は、前のプロセ
スによってキャリア2に載置されてもよいし、又は本発
明の局所的コンプレックス機能領域の完了に引き続いて
フレキシブルキャリア2に取り付けられてもよい。受動
素子32、34、36は図4〜図13の各図に示されて
いるが、これらの素子が、サブシステム1の局所的コン
プレックス領域の製造プロセスの前、又は後に、固定さ
れてもよいことが理解されるべきである。
【0017】図5では、バイア10は、エッチング、レ
ーザ削摩又は同様の技術を含む多数の在来の方法のどの
方法によっても誘電体層8内に形成される。好ましい実
施例において、マスクが、誘電体層8の最上部に載置さ
れ、光化学放射露光され、これにより誘電体層8の露光
部分を除去してバイア10を形成する。図6は、バイア
10内に配置された導電物質11を示している。好まし
い実施例において、導電物質11は、バイア10の中へ
電着されるか又はメッキされる。スキージング(squeezi
ng) などのような他の方法も、バイア10内に導電物質
を載置するために用いられることができる。
ーザ削摩又は同様の技術を含む多数の在来の方法のどの
方法によっても誘電体層8内に形成される。好ましい実
施例において、マスクが、誘電体層8の最上部に載置さ
れ、光化学放射露光され、これにより誘電体層8の露光
部分を除去してバイア10を形成する。図6は、バイア
10内に配置された導電物質11を示している。好まし
い実施例において、導電物質11は、バイア10の中へ
電着されるか又はメッキされる。スキージング(squeezi
ng) などのような他の方法も、バイア10内に導電物質
を載置するために用いられることができる。
【0018】図7は、誘電体層8の最上部に形成され
る、例えば、銅又はアルミニウムなどの導電物質の専用
回路層12を示している。この回路層12は、複数の電
気信号伝送線からなり、連続して取り付けられているI
Cが相互に、かつ他のサブシステムなどのコンピュータ
における他の素子と連絡することを可能にする。導電物
質のシード層は、アルミニウム又は銅等の導電線を層8
上にメッキするためのベースを提供するように誘電体層
8の最上部へスパッタリングされるか、さもなければ載
置される。誘電体層8へ回路層12を載置するさらなる
方法は、導電メタルによって層の表面全体を被覆し、次
いでエッチングによって所望される導電線を除く全ての
メタルを除去することとを含んでいる。図5〜図7に示
されている一連のステップが相互交換できることに留意
されたい。例えば、専用回路層12は、上記の方法によ
って層8に最初に用いられてもよい。引き続いて、バイ
ア10は、例えば、エッチングによって、回路層12と
誘電体層8とを貫通して形成され、次いで導電物質11
がバイア10に追加されてもよい。これによって、本発
明を製造するために用いられる方法が図面に示されてい
るステップのシーケンスに限定されないことが見られ
る。さらに、当業者は、回路層12の線が、バイア10
が導電物質が充填されるのと同時に形成されることがで
きることを理解するであろう。例えば、導電物質のシー
ド層をスパッタリングするステップは、バイアを充填
し、次いで層12の回路配線の連続メッキのためのベー
スを提供するために用いられることができる。さらに、
層12の伝送線に必要とされる導電物質を除く全ての導
電物質を除去する前に、バイア10は、導電物質で層8
の表面全体を被覆するステップの間に導電物質を充填さ
れることができる。
る、例えば、銅又はアルミニウムなどの導電物質の専用
回路層12を示している。この回路層12は、複数の電
気信号伝送線からなり、連続して取り付けられているI
Cが相互に、かつ他のサブシステムなどのコンピュータ
における他の素子と連絡することを可能にする。導電物
質のシード層は、アルミニウム又は銅等の導電線を層8
上にメッキするためのベースを提供するように誘電体層
8の最上部へスパッタリングされるか、さもなければ載
置される。誘電体層8へ回路層12を載置するさらなる
方法は、導電メタルによって層の表面全体を被覆し、次
いでエッチングによって所望される導電線を除く全ての
メタルを除去することとを含んでいる。図5〜図7に示
されている一連のステップが相互交換できることに留意
されたい。例えば、専用回路層12は、上記の方法によ
って層8に最初に用いられてもよい。引き続いて、バイ
ア10は、例えば、エッチングによって、回路層12と
誘電体層8とを貫通して形成され、次いで導電物質11
がバイア10に追加されてもよい。これによって、本発
明を製造するために用いられる方法が図面に示されてい
るステップのシーケンスに限定されないことが見られ
る。さらに、当業者は、回路層12の線が、バイア10
が導電物質が充填されるのと同時に形成されることがで
きることを理解するであろう。例えば、導電物質のシー
ド層をスパッタリングするステップは、バイアを充填
し、次いで層12の回路配線の連続メッキのためのベー
スを提供するために用いられることができる。さらに、
層12の伝送線に必要とされる導電物質を除く全ての導
電物質を除去する前に、バイア10は、導電物質で層8
の表面全体を被覆するステップの間に導電物質を充填さ
れることができる。
【0019】さらに、最初層の誘電体層8とその対応す
る回路層12とが一度キャリア2上に載置されると、導
電物質11がフレキシブルキャリア2のマルチチップモ
ジュール1への電気的接続を効果的に終了する。従っ
て、フレキシブルキャリア2に対する相互接続ポイント
が、マルチチップモジュールの最初の誘電体層8の最上
部表面に設けられる。さらに、フレキシブルキャリア2
の回路層4、6が、いかにして局所的コンプレックス領
域の最初の二つの回路層を形成するか、例えば、層12
がサブシステム1の第3の配線層(回路層)と見なされ
得ることが示されている。
る回路層12とが一度キャリア2上に載置されると、導
電物質11がフレキシブルキャリア2のマルチチップモ
ジュール1への電気的接続を効果的に終了する。従っ
て、フレキシブルキャリア2に対する相互接続ポイント
が、マルチチップモジュールの最初の誘電体層8の最上
部表面に設けられる。さらに、フレキシブルキャリア2
の回路層4、6が、いかにして局所的コンプレックス領
域の最初の二つの回路層を形成するか、例えば、層12
がサブシステム1の第3の配線層(回路層)と見なされ
得ることが示されている。
【0020】図8については、第2の誘電体層14がラ
ミネーティング等の手段によって、層8の最上部の表面
及び対応する回路層12に積層される。次いで、図9に
示されるように、回路層12に導電パスを提供するため
に、誘電体層14内にバイア15が形成される。図10
では、導電物質16がバイア15内に配置されており、
送電線の他の専用回路層18が、誘電体層14の層8と
は反対の表面に配置されているのが示されている。ここ
でも、バイア15を形成し、誘電体層14の上に回路層
18を配置し、かつバイア15内に導電物質を供給する
一連のステップは、上記のように相互交換可能、かつ組
み合わせ可能である。図11は、回路層18の相互接続
ポイントに対応して当該誘電体層20内に形成されるバ
イア21を有する、誘電体層14の最上部に配置される
第3の誘電体層20を示している。上記のように、層2
0は、第2誘電体層14及び回路層18の表面にラミネ
ートされ、次いでバイア21が、エッチング、レーザ削
摩、光画像形成化などの手段によって、層20内に形成
されてもよい。この様に組み立てられた層の数は、チッ
プを、チップ相互間で、かつフレキシブルキャリア2に
相互接続させるために必要とされる配線密度によって決
定される。
ミネーティング等の手段によって、層8の最上部の表面
及び対応する回路層12に積層される。次いで、図9に
示されるように、回路層12に導電パスを提供するため
に、誘電体層14内にバイア15が形成される。図10
では、導電物質16がバイア15内に配置されており、
送電線の他の専用回路層18が、誘電体層14の層8と
は反対の表面に配置されているのが示されている。ここ
でも、バイア15を形成し、誘電体層14の上に回路層
18を配置し、かつバイア15内に導電物質を供給する
一連のステップは、上記のように相互交換可能、かつ組
み合わせ可能である。図11は、回路層18の相互接続
ポイントに対応して当該誘電体層20内に形成されるバ
イア21を有する、誘電体層14の最上部に配置される
第3の誘電体層20を示している。上記のように、層2
0は、第2誘電体層14及び回路層18の表面にラミネ
ートされ、次いでバイア21が、エッチング、レーザ削
摩、光画像形成化などの手段によって、層20内に形成
されてもよい。この様に組み立てられた層の数は、チッ
プを、チップ相互間で、かつフレキシブルキャリア2に
相互接続させるために必要とされる配線密度によって決
定される。
【0021】図12は、上記の手段によって誘電体層2
0に載置されている回路層24と、バイア21内に配置
されている導電物質22とを示している。従って、誘電
体層20の最上表面に配置されている専用回路層24
が、バイア10、16、22を貫通して、フレキシブル
キャリア2の回路層6と電気的接続されているのが見ら
れる。
0に載置されている回路層24と、バイア21内に配置
されている導電物質22とを示している。従って、誘電
体層20の最上表面に配置されている専用回路層24
が、バイア10、16、22を貫通して、フレキシブル
キャリア2の回路層6と電気的接続されているのが見ら
れる。
【0022】集積回路デバイス28が、コンプレックス
機能領域に取り付けられるためには、互換性結合物質
が、回路層24とチップのI/O相互接続ポイント30
の中間に配置されなくてはならない。相互接続ポイント
26は、例えばソルダボールの様なチップI/O30を
回路層24とインターフェースさせるための導電結合物
質を含んでいる。結合物質26は、導電性エポキシ、ペ
ーストなどだけでなく、ソルダパッド又は突起物を含ん
でいることもある。コンプレックス領域に配置されてい
るI/O相互接続ポイント26のタイプは、本明細書に
文献引用された特許出願に関する記述同様、コンプレッ
クス領域によって供給される機能を提供するために必要
とされる一つ以上のチップのタイプに依存する。
機能領域に取り付けられるためには、互換性結合物質
が、回路層24とチップのI/O相互接続ポイント30
の中間に配置されなくてはならない。相互接続ポイント
26は、例えばソルダボールの様なチップI/O30を
回路層24とインターフェースさせるための導電結合物
質を含んでいる。結合物質26は、導電性エポキシ、ペ
ーストなどだけでなく、ソルダパッド又は突起物を含ん
でいることもある。コンプレックス領域に配置されてい
るI/O相互接続ポイント26のタイプは、本明細書に
文献引用された特許出願に関する記述同様、コンプレッ
クス領域によって供給される機能を提供するために必要
とされる一つ以上のチップのタイプに依存する。
【0023】図13は、結合手段26によって回路層2
4に取り付けられた集積回路デバイス(IC)28を有
する完成されたマルチチップモジュール1を示してい
る。IC28は、垂直に位置合わせされ、かつフレキシ
ブルキャリア2の回路層6の対応するI/O相互接続ポ
イントと電気的に接続している。従って、本発明がいか
にして、フレキシブルキャリアに固定されるべきマルチ
チップに必要とされる領域の大きさを縮小するかが見ら
れる。補強材40は、製造工程が完成したので除去され
る。補強材40は、構成素子の熱膨張特性によって必要
とされるときもあり、必要とされないときもある。
4に取り付けられた集積回路デバイス(IC)28を有
する完成されたマルチチップモジュール1を示してい
る。IC28は、垂直に位置合わせされ、かつフレキシ
ブルキャリア2の回路層6の対応するI/O相互接続ポ
イントと電気的に接続している。従って、本発明がいか
にして、フレキシブルキャリアに固定されるべきマルチ
チップに必要とされる領域の大きさを縮小するかが見ら
れる。補強材40は、製造工程が完成したので除去され
る。補強材40は、構成素子の熱膨張特性によって必要
とされるときもあり、必要とされないときもある。
【0024】チップ28と連結パッドの保護は、カプセ
ル(密封)エポキシのような好適な物質によって、チッ
プ28を閉じ込めることによって実行される。このカプ
セル31は、チップ28と層20(図13)のような対
応する誘電体層の間の熱膨張における差によって生じる
チップI/O結合上のストレスも解放し、これによって
補強材40の除去を可能とする。
ル(密封)エポキシのような好適な物質によって、チッ
プ28を閉じ込めることによって実行される。このカプ
セル31は、チップ28と層20(図13)のような対
応する誘電体層の間の熱膨張における差によって生じる
チップI/O結合上のストレスも解放し、これによって
補強材40の除去を可能とする。
【0025】
【発明の効果】再び図2に戻って、コスト削減すると共
に、製造プロセスの効率を最大限に活用するために、単
一のフレキシブル基板のキャリア2に平行に多重コンプ
レックス領域の構成をプロセスする事が可能であること
に注目されたい。
に、製造プロセスの効率を最大限に活用するために、単
一のフレキシブル基板のキャリア2に平行に多重コンプ
レックス領域の構成をプロセスする事が可能であること
に注目されたい。
【0026】従って、図示されかつ説明されている本発
明は、単一ユニットとしてのコンピュータ機能全体をパ
ッケージ化する手段、又はコンプレックス及びノンコン
プレックス領域を含むサブシステムでもある。これらの
機能は、映像可能出力、マイクロプロセッサ、並びにキ
ーボード、ディスプレイ、マウスコントローラ等の出力
/入力デバイスを含んでいる。コンピュータシステムの
効率は、集積回路デバイスの間の最小の相互接続距離に
よって増大する。このように、コンピュータシステムの
開発者が新たなシステムをより効率的に設計することが
できるように、コンピュータサブシステム全体が、フレ
キシブル基板上の最小の領域に効率的に製造かつパッケ
ージ化されることができる。
明は、単一ユニットとしてのコンピュータ機能全体をパ
ッケージ化する手段、又はコンプレックス及びノンコン
プレックス領域を含むサブシステムでもある。これらの
機能は、映像可能出力、マイクロプロセッサ、並びにキ
ーボード、ディスプレイ、マウスコントローラ等の出力
/入力デバイスを含んでいる。コンピュータシステムの
効率は、集積回路デバイスの間の最小の相互接続距離に
よって増大する。このように、コンピュータシステムの
開発者が新たなシステムをより効率的に設計することが
できるように、コンピュータサブシステム全体が、フレ
キシブル基板上の最小の領域に効率的に製造かつパッケ
ージ化されることができる。
【図1】典型的な局所的コンプレックス機能領域とノン
コンプレックス領域とを示す本発明のサブシステムの断
面図である。
コンプレックス領域とを示す本発明のサブシステムの断
面図である。
【図2】複数のコンプレックス機能領域を有するフレキ
シブルキャリアの平面図である。
シブルキャリアの平面図である。
【図3】典型的な個々の構成素子が示されているコンプ
レックス領域とノンコンプレックス領域の平面図の概略
図である。
レックス領域とノンコンプレックス領域の平面図の概略
図である。
【図4】本発明による、フレキシブルキャリアに誘電体
層を載置する初期ステップを示す断面図である。
層を載置する初期ステップを示す断面図である。
【図5】図4におけるフレキシブルキャリアに載置され
た誘電体層内におけるバイア形成を示す図である。
た誘電体層内におけるバイア形成を示す図である。
【図6】バイア内の導電物質の載置を示す他の断面図で
ある。
ある。
【図7】誘電体層の最上表面に形成された回路層を示す
図である。
図である。
【図8】本発明による第1の層の回路層上に載置された
第2の誘電体を示す図である。
第2の誘電体を示す図である。
【図9】第2の誘電体層内に形成されたバイアを示す図
である。
である。
【図10】回路化され、かつ導電物質がバイア内に載置
されている第2の回路層を示す他の断面図である。
されている第2の回路層を示す他の断面図である。
【図11】第2の層上に載置されたバイアが内部に形成
されている第3の誘電体層を示す図である。
されている第3の誘電体層を示す図である。
【図12】第3の誘電体層の回路化と、バイアの中への
導電物質の載置とを示す図である。
導電物質の載置とを示す図である。
【図13】コンプレックス領域である第3の誘電体層に
取り付けられたチップを有する完成されたサブシステム
を示す図である。
取り付けられたチップを有する完成されたサブシステム
を示す図である。
1 マルチチップモジュール 2 フレキシブルキャリア 4、6 回路層(配線層) 8 第1誘電体層 10、16、22 バイア 12 回路層 14 第2誘電体層 20 第3誘電体層 26 電気的接続手段 28 IC 30 相互接続ポイント 32、34、36 ノンコンプレックス素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 グスタフ シュロットケ アメリカ合衆国78750、テキサス州オース ティン、スパイスウッド パークウェイ 11101
Claims (9)
- 【請求項1】 フレキシブル誘電体キャリアの少なくと
も一つの側に形成され、かつ上部に複数の入力/出力の
相互接続ポイントを有する回路配線に隣接して誘電体物
質の層を載置するステップと、 前記フレキシブルキャリアの前記入力/出力の相互接続
ポイントを電気的露出するために前記誘電体層内にバイ
アを形成するステップと、 少なくとも一つのIC(集積回路)デバイスを前記誘電
体層に載置し、これによって、前記ICの入力/出力の
相互接続ポイントが、前記フレキシブルキャリアの入力
/出力の相互接続ポイントの対応するポイントと垂直に
位置合わせされ、かつ電気的に相互接続されるステップ
とを備えている、コンピュータシステム内への機能的サ
ブシステム形成方法。 - 【請求項2】 バイアを形成する前記ステップが、 前記誘電体層内に複数の孔を形成するステップと、 前記孔内に導電物質を載置するステップとを備えてい
る、請求項1に記載のコンピュータシステム内への機能
的サブシステム形成方法。 - 【請求項3】 前記サブシステムのノンコンプレックス
素子を前記フレキシブルキャリアに直接載置することを
さらに備えている、請求項1に記載のコンピュータシス
テム内への機能的サブシステム形成方法。 - 【請求項4】 少なくとも一つの側上に形成された複数
の入力/出力相互接続ポイントを含む回路配線を有する
フレキシブル誘電体キャリアと、 前記回路配線に隣接しており、前記フレキシブルキャリ
アの前記入力/出力相互接続ポイントを電気的に露出す
るために、層内に形成された少なくとも一つのバイアを
有する、誘電体物質の少なくとも一つの層と、 入力/出力相互接続ポイントが、前記フレキシブルキャ
リアの入力/出力相互接続ポイントの対応する入力/出
力相互接続ポイントと垂直に位置合わせされ、かつ電気
的に相互接続されるように、前記の少なくとも一つの誘
電体層の最上層に配置されている少なくとも一つのIC
デバイスとを備えているコンピュータシステムに機能を
提供するためにフレキシブルキャリア上でパッケージ化
されたサブシステム。 - 【請求項5】 前記少なくとも一つのバイアが、前記誘
電体層内に設けられ、内部に導電性物質を有するほぼ円
筒形の孔を備えている請求項4に記載のサブシステム。 - 【請求項6】 前記フレキシブルキャリアに直接固定さ
れた前記サブシステムのノンコンプレックス素子をさら
に備えている請求項4に記載のサブシステム。 - 【請求項7】 複数の前記サブシステムが単一の前記フ
レキシブル誘電体キャリア上に設けられている請求項4
に記載のサブシステム。 - 【請求項8】 前記サブシステムの製造の間に安定性を
提供し、かつ前記ICデバイスと前記フレキシブルキャ
リアの間に生じる熱膨張の影響を最小限にするために、
前記少なくとも一つの誘電体層の反対側に前記フレキシ
ブルキャリアに隣接して配置されている補強材をさらに
備えている請求項4に記載のサブシステム。 - 【請求項9】 回路配線が前記フレキシブルキャリアの
両側に配置されており、これによって前記サブシステム
の第1と第2の配線層を形成する請求項4に記載のサブ
システム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US783644 | 1991-10-28 | ||
US07/783,644 US5239448A (en) | 1991-10-28 | 1991-10-28 | Formulation of multichip modules |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05218287A true JPH05218287A (ja) | 1993-08-27 |
JPH0658941B2 JPH0658941B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=25129959
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4258706A Expired - Lifetime JPH0658941B2 (ja) | 1991-10-28 | 1992-09-28 | コンピュータシステム内への機能的サブシステム形成方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5239448A (ja) |
EP (1) | EP0540247A3 (ja) |
JP (1) | JPH0658941B2 (ja) |
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