JPH0512702B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0512702B2 JPH0512702B2 JP5409687A JP5409687A JPH0512702B2 JP H0512702 B2 JPH0512702 B2 JP H0512702B2 JP 5409687 A JP5409687 A JP 5409687A JP 5409687 A JP5409687 A JP 5409687A JP H0512702 B2 JPH0512702 B2 JP H0512702B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorine
- formula
- substituted
- vinyl
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 181
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 179
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 178
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 claims description 102
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 80
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 74
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 74
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 52
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 52
- -1 vinyl halide Chemical class 0.000 claims description 52
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 42
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 35
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 28
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 20
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 20
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 19
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 18
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 15
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 11
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical class OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 10
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 9
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 8
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 8
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 7
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 7
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 7
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 7
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 claims description 7
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 5
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 claims description 4
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 claims description 4
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 claims description 3
- ARLJCLKHRZGWGL-UHFFFAOYSA-N ethenylsilicon Chemical compound [Si]C=C ARLJCLKHRZGWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 claims description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- ZGGXZRVTYVVPBU-UHFFFAOYSA-N styrene;hydrofluoride Chemical compound F.C=CC1=CC=CC=C1 ZGGXZRVTYVVPBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 claims description 2
- 235000011087 fumaric acid Nutrition 0.000 claims 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- PJNAUZOZOXDVBL-UHFFFAOYSA-N C=C.F.F.Cl.Cl Chemical compound C=C.F.F.Cl.Cl PJNAUZOZOXDVBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims 1
- AFVLVVWMAFSXCK-VMPITWQZSA-N alpha-cyano-4-hydroxycinnamic acid Chemical group OC(=O)C(\C#N)=C\C1=CC=C(O)C=C1 AFVLVVWMAFSXCK-VMPITWQZSA-N 0.000 claims 1
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002238 fumaric acids Chemical class 0.000 claims 1
- 150000002689 maleic acids Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 45
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 20
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 13
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 11
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 10
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 10
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 9
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 9
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 9
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 9
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 9
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 9
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 8
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 8
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 5
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 5
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 5
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 4
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 4
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 4
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 4
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 3
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical group CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- CUFNKYGDVFVPHO-UHFFFAOYSA-N azulene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC2=C1 CUFNKYGDVFVPHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- ZYMKZMDQUPCXRP-UHFFFAOYSA-N fluoro prop-2-enoate Chemical compound FOC(=O)C=C ZYMKZMDQUPCXRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 2
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DDQNBJUNTSWDDM-UHFFFAOYSA-N (2,3,5,6-tetrafluorophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=C(F)C(F)=CC(F)=C1F DDQNBJUNTSWDDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WFLOTYSKFUPZQB-UHFFFAOYSA-N 1,2-difluoroethene Chemical group FC=CF WFLOTYSKFUPZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008841 1,6-hexamethylene diisocyanate Drugs 0.000 description 1
- DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-ethenoxyethane Chemical compound ClCCOC=C DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQDDDLREQHQBRR-UHFFFAOYSA-N 1-cyanoethyl prop-2-enoate Chemical compound N#CC(C)OC(=O)C=C CQDDDLREQHQBRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTNGCUMMLLRBAA-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[4-(diethylamino)phenyl]ethenyl]-n,n-diethyl-1,3-benzothiazol-6-amine Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=CC1=NC2=CC=C(N(CC)CC)C=C2S1 YTNGCUMMLLRBAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFOCDGUVLGBOTL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[4-(diethylamino)phenyl]ethenyl]-n,n-diethyl-1,3-benzoxazol-6-amine Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=CC1=NC2=CC=C(N(CC)CC)C=C2O1 CFOCDGUVLGBOTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical group C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APLNAFMUEHKRLM-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(3,4,6,7-tetrahydroimidazo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical group C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)N=CN2 APLNAFMUEHKRLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLIBJPGWWSHWBF-UHFFFAOYSA-N 2-aminoethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN QLIBJPGWWSHWBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJVRPNIWWODHHA-UHFFFAOYSA-N 2-cyanoprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)C#N IJVRPNIWWODHHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEMQPMSVNYFZEF-UHFFFAOYSA-N 4-(dibenzo[1,2-a:1',2'-e][7]annulen-11-ylidenemethyl)-n,n-diphenylaniline Chemical compound C12=CC=CC=C2C=CC2=CC=CC=C2C1=CC(C=C1)=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AEMQPMSVNYFZEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGBCLRRWZQSURU-UHFFFAOYSA-N 4-[(diphenylhydrazinylidene)methyl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=NN(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YGBCLRRWZQSURU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFNOHRAIEWTBBC-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[3-[4-(diethylamino)phenyl]-2-phenyl-1,3-dihydropyrazol-5-yl]-3-phenylprop-1-enyl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=C(C=1NN(C(C=1)C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)C=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 IFNOHRAIEWTBBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGDARWFJWJKPLY-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[3-[4-(diethylamino)phenyl]-2-phenyl-1,3-dihydropyrazol-5-yl]ethenyl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=CC1=CC(C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC)N(C=2C=CC=CC=2)N1 PGDARWFJWJKPLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCKUSNNVDLVJQJ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[3-[4-(diethylamino)phenyl]-4-methyl-2-phenyl-1,3-dihydropyrazol-5-yl]ethenyl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=CC1=C(C)C(C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC)N(C=2C=CC=CC=2)N1 XCKUSNNVDLVJQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNHINNTYYYRFJF-UHFFFAOYSA-N 4-[5-(2-chlorophenyl)-2-[4-(diethylamino)phenyl]-1,3-oxazol-4-yl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC)=C(C=2C(=CC=CC=2)Cl)O1 YNHINNTYYYRFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZGVMZRBRRYLIP-UHFFFAOYSA-N 4-[5-[4-(diethylamino)phenyl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NN=C(C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC)O1 UZGVMZRBRRYLIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXWVEJFXXLLAIB-UHFFFAOYSA-N 4-[[4-(diethylamino)-2-methylphenyl]-phenylmethyl]-n,n-diethyl-3-methylaniline Chemical compound CC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C(=CC(=CC=1)N(CC)CC)C)C1=CC=CC=C1 XXWVEJFXXLLAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLAZXGNBGZYJSA-UHFFFAOYSA-N 9-ethylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(CC)C3=CC=CC=C3C2=C1 PLAZXGNBGZYJSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSZJZNNASZFXKN-UHFFFAOYSA-N 9-propan-2-ylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C(C)C)C3=CC=CC=C3C2=C1 LSZJZNNASZFXKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJOJVBGHNWRNNY-UHFFFAOYSA-N C(C)C1(C=NN)CC=C(C=C1)CC Chemical class C(C)C1(C=NN)CC=C(C=C1)CC VJOJVBGHNWRNNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTAYUZRVWQNPRU-UHFFFAOYSA-N CC(=C)C(=O)NC1=C(C(=CC(=C1F)F)F)F Chemical group CC(=C)C(=O)NC1=C(C(=CC(=C1F)F)F)F NTAYUZRVWQNPRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ZTWQZJLUUZHJGS-UHFFFAOYSA-N Vat Yellow 4 Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=C3C4=CC=CC=C4C(=O)C4=C3C2=C1C=C4 ZTWQZJLUUZHJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000000861 blow drying Methods 0.000 description 1
- XZKRXPZXQLARHH-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dienylbenzene Chemical group C=CC=CC1=CC=CC=C1 XZKRXPZXQLARHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- UFULAYFCSOUIOV-UHFFFAOYSA-N cysteamine Chemical compound NCCS UFULAYFCSOUIOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethyl mercaptane Natural products CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical group 0.000 description 1
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- NYGZLYXAPMMJTE-UHFFFAOYSA-M metanil yellow Chemical group [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC(N=NC=2C=CC(NC=3C=CC=CC=3)=CC=2)=C1 NYGZLYXAPMMJTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- SUJMFQYAKKPLSH-UHFFFAOYSA-N n-[[4-(diethylamino)phenyl]methylideneamino]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=NN(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=CC=C1 SUJMFQYAKKPLSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- LLBIOIRWAYBCKK-UHFFFAOYSA-N pyranthrene-8,16-dione Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=C3C=C4C5=CC=CC=C5C(=O)C5=C4C4=C3C2=C1C=C4C=C5 LLBIOIRWAYBCKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14791—Macromolecular compounds characterised by their structure, e.g. block polymers, reticulated polymers, or by their chemical properties, e.g. by molecular weight or acidity
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14786—Macromolecular compounds characterised by specific side-chain substituents or end groups
Description
[産業上の利用分野]
本発明は、電子写真感光体に関し、詳しくは耐
湿性、機械的強度の優れた高耐久性の電子写真感
光体に関する。 [従来の技術] 電子写真感光体には、適用される電子写真プロ
セスに応じた所定の感度、電気特性、光学特性を
備えていることが要求されるが、さらに繰り返し
使用される感光体にあつては、その感光体の表面
層、即ち基体より最も離隔する層には、コロナ帯
電、トナー現像、紙への転写、クリーニング処理
などの電気的、機械的外力が直接に加えられるた
め、それらに対する耐久性が要求される。 具体的には、摺擦による表面の摩耗や傷の発
生、また高湿下においてコロナ帯電時に発生する
オゾンによる表面の劣化などに対する耐久性が要
求されている。 一方、トナーの現像、クリーニングの繰り返し
による表面層へのトナー付着という問題もあり、
これに対しては表面層のクリーニング性を向上す
ることが要求されている。 上記のような表面層に要求される特性を満たす
ために種々の方法が検討されているが、その中で
もフツ素系樹脂粉体を表面層中に分散させるとい
う手段は効果的である。フツ素系樹脂粉体分散に
より表面層の摩擦係数が低下し、クリーニング性
の向上、摩耗や傷に対する耐久性の向上などに作
用する。 また表面層の溌水性、離型性も向上するため高
湿下での表面劣化の防止に対しても有効である。 しかしながらフツ素系樹脂粉体分散において
は、その分散性、凝集性に問題があり、均一で平
滑な膜を形成することが困難であるため、得られ
た表面層は画像むらやピンホールなどの画像欠陥
を有することが避けられなかつた。 また、バインダー樹脂あるいは分散助剤の一部
にはフツ素系樹脂粉体を均一に分散し、平滑な膜
を形成するものもあるが、殆どの場合、水酸基、
カルボキシル基、エーテル結合などを有するた
め、特に高温高湿下でキヤリアトラツプになつて
電子写真特性の劣化を引き起こし、実用に供せら
れるものが見い出せないのが現状である。 [発明が解決しようとする問題点] 本発明は前述の要求に応えるべき電子写真感光
体を提供することにある。 即ち本発明の目的は第一は、摺擦による表面の
摩耗や傷の発生などに対して耐久性を有する電子
写真感光体を提供することにある。 目的の第二は、高湿下においても安定で高品位
な画像を得られる電子写真感光体を提供すること
にある。 目的の第三は、クリーニング性が良好で表面層
へのトナーの付着のない電子写真感光体を提供す
ることにある。 目的の第四は、表面の塗膜むらやピンホールが
なく、かつ繰り返し電子写真プロセスにおいて残
留電位の蓄積がなく常に高品位の画像が得られる
電子写真感光体を提供することにある。 [問題点を解決するための手段、作用] 本発明者らは、上記目的に従つて検討した結
果、フツ素系グラフトポリマーの存在下、フツ素
系樹脂粉体が分散された表面層を有する電子写真
感光体が前述の要求に応えるものであることを見
い出し、本発明を完成した。 即ち、本発明は、導電性支持体上に感光層を有
する電子写真感光体において、該感光体の表面層
がフツ素系樹脂粉体とフツ素系グラフトポリマー
を含有し、該フツ素系樹脂粉体の含有量が表面層
固形分重量に基づいて1〜50重量%であり、該フ
ツ素系グラフトポリマーが片末端に重合性官能基
を有し、かつ一定の繰り返し単位を有する非フツ
素系オリゴマーとフツ素系重合性単量体との共重
合体であることを特徴とする電子写真感光体から
構成される。 本発明に適用するフツ素系樹脂粉体は、四フツ
化エチレン樹脂、三フツ化塩化エチレン樹脂、四
フツ化エチレン六フツ化プロピレン樹脂、フツ化
ビニル樹脂、フツ化ビニリデン樹脂、二フツ化二
塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体の中か
ら1種あるいはそれ以上が適宜選択されるが、特
に四フツ化エチレン樹脂、フツ化ビニリデン樹脂
が好ましい。樹脂の分子量や粉体粒径は市販グレ
ードから適宜選択して用いることができるが、特
に低分子量グレードで、かつ一次粒子が1μ以下
のものが好ましい。 表面層に分散されるフツ素系樹脂粉体の含有量
は表面層固形分重量に基づいて1〜50重量%が適
当であり、特に2〜30重量%が好ましい。 含有率が1重量%未満ではフツ素系樹脂粉体に
よる表面層改質効果が十分でなく、一方、50重量
%を超えると光透過性が低下し、かつキヤリアの
移動性も低下する。 本発明に適用するフツ素系グラフトポリマー
は、片末端に重合性官能基を有し、かつ一定の繰
り返し単位を有する分子量が1000〜10000程度の
オリゴマー(以下マクロマーと称す)と重合性単
量体との共重合により得ることができる。 即ち、非フツ素系重合性単量体から合成した非
フツ素系マクロマーとフツ素系重合性単量体の共
重合体で、幹がフツ素系セグメントで枝が非フツ
素系セグメントである。 フツ素系グラフトポリマーは、上記のようにフ
ツ素系セグメントと非フツ素系セグメントがそれ
ぞれ局在化しており、フツ素系セグメントがフツ
素系樹脂粉体に、非フツ素系セグメントが添加さ
れた樹脂層に、それぞれ配向した機能分離形態を
とつている。特にフツ素系セグメントが連続して
配列しているため、フツ素系セグメントがフツ素
系樹脂粉体に高密度で、かつ効率良く吸着し、さ
らに非フツ素系セグメントが樹脂層に配向するた
め、従来の分散剤には見られなかつたフツ素系樹
脂粉体の分散安定性向上効果が発現されているも
のである。 また、一般にフツ素系樹脂粉体は、数μオーダ
ーの凝集体で存在しているものであるが、本発明
のフツ素系グラフトポリマーを分散剤として用い
ることになり、1μ以下の一次粒子まで均一に分
散されるものである。 このような機能分離効果を最大限に利用するた
めには、マクロマーの分子量を上記のように1000
〜10000程度に調節する必要がある。 即ち、分子量が1000未満であるとセグメントの
長さが短かすぎるため、非フツ素系セグメントの
表面層樹脂層への配向が弱まり、フツ素系樹脂粉
体の分散安定性が阻害される。 一方、分子量が10000を超えると添加される表
面層樹脂層との相溶性が減少する。特にフツ素系
セグメントにおいてこの現象は顕著であり、セグ
メントが樹脂層中で縮まつたコイル状形態をとる
ため、フツ素系樹脂粉体に対する吸着活性点数が
減少し、分散安定性が阻害される。 また、フツ素系グラフトポリマー自身の分子量
も大きく影響を与え、10000〜100000が好ましい
範囲である。分子量が10000未満であると分散安
定機能の発現が不十分であり、100000を超えると
添加される表面層樹脂層との相溶性が減少するた
め、同様に分散安定機能が発現されなくなる。 フツ素系グラフトポリマー中におけるフツ素系
セグメントの比率は5〜90重量%が好ましく、10
〜70重量%がさらに好ましい。 フツ素系セグメントの比率が5重量%未満では
フツ素系樹脂粉体の分散安定機能が十分に発揮で
きず、90重量%を超えると添加される表面層樹脂
層との相溶性が悪くなる。 フツ素系グラフトポリマーの添加量はフツ素系
樹脂粉体に対して0.1〜30重量%が適当であり、
特に1〜20重量%が好ましい。 添加量が0.1重量%未満ではフツ素系樹脂粉体
の分散安定性効果が十分でなく、一方、30重量%
を超えるとフツ素系グラフトポリマーがフツ素系
樹脂粉体に吸着して存在する以外にフリーの状態
で表面層樹脂層内部に存在することになり、繰り
返し電子写真プロセスを行なつたときに残留電位
の蓄積が生じてくる。 以下に本発明に用いるフツ素系グラフトポリマ
ーの好ましい具体例を示す。 A−1 フツ素系グラフトポリマーが、片末端に重合性
官能基を有し、かつ一定の繰り返し単位を有する
一般式()で示される非フツ素系オリゴマーと
化合物()から選ばれるフツ素系重合性単量体
との共重合体 一般式() 式中、R1は水素原子、アルキル基、ハロゲン
原子、ハロゲン置換アルキル基、アリール基を示
し、A1はアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレ
ン鎖を示し、A2は、
湿性、機械的強度の優れた高耐久性の電子写真感
光体に関する。 [従来の技術] 電子写真感光体には、適用される電子写真プロ
セスに応じた所定の感度、電気特性、光学特性を
備えていることが要求されるが、さらに繰り返し
使用される感光体にあつては、その感光体の表面
層、即ち基体より最も離隔する層には、コロナ帯
電、トナー現像、紙への転写、クリーニング処理
などの電気的、機械的外力が直接に加えられるた
め、それらに対する耐久性が要求される。 具体的には、摺擦による表面の摩耗や傷の発
生、また高湿下においてコロナ帯電時に発生する
オゾンによる表面の劣化などに対する耐久性が要
求されている。 一方、トナーの現像、クリーニングの繰り返し
による表面層へのトナー付着という問題もあり、
これに対しては表面層のクリーニング性を向上す
ることが要求されている。 上記のような表面層に要求される特性を満たす
ために種々の方法が検討されているが、その中で
もフツ素系樹脂粉体を表面層中に分散させるとい
う手段は効果的である。フツ素系樹脂粉体分散に
より表面層の摩擦係数が低下し、クリーニング性
の向上、摩耗や傷に対する耐久性の向上などに作
用する。 また表面層の溌水性、離型性も向上するため高
湿下での表面劣化の防止に対しても有効である。 しかしながらフツ素系樹脂粉体分散において
は、その分散性、凝集性に問題があり、均一で平
滑な膜を形成することが困難であるため、得られ
た表面層は画像むらやピンホールなどの画像欠陥
を有することが避けられなかつた。 また、バインダー樹脂あるいは分散助剤の一部
にはフツ素系樹脂粉体を均一に分散し、平滑な膜
を形成するものもあるが、殆どの場合、水酸基、
カルボキシル基、エーテル結合などを有するた
め、特に高温高湿下でキヤリアトラツプになつて
電子写真特性の劣化を引き起こし、実用に供せら
れるものが見い出せないのが現状である。 [発明が解決しようとする問題点] 本発明は前述の要求に応えるべき電子写真感光
体を提供することにある。 即ち本発明の目的は第一は、摺擦による表面の
摩耗や傷の発生などに対して耐久性を有する電子
写真感光体を提供することにある。 目的の第二は、高湿下においても安定で高品位
な画像を得られる電子写真感光体を提供すること
にある。 目的の第三は、クリーニング性が良好で表面層
へのトナーの付着のない電子写真感光体を提供す
ることにある。 目的の第四は、表面の塗膜むらやピンホールが
なく、かつ繰り返し電子写真プロセスにおいて残
留電位の蓄積がなく常に高品位の画像が得られる
電子写真感光体を提供することにある。 [問題点を解決するための手段、作用] 本発明者らは、上記目的に従つて検討した結
果、フツ素系グラフトポリマーの存在下、フツ素
系樹脂粉体が分散された表面層を有する電子写真
感光体が前述の要求に応えるものであることを見
い出し、本発明を完成した。 即ち、本発明は、導電性支持体上に感光層を有
する電子写真感光体において、該感光体の表面層
がフツ素系樹脂粉体とフツ素系グラフトポリマー
を含有し、該フツ素系樹脂粉体の含有量が表面層
固形分重量に基づいて1〜50重量%であり、該フ
ツ素系グラフトポリマーが片末端に重合性官能基
を有し、かつ一定の繰り返し単位を有する非フツ
素系オリゴマーとフツ素系重合性単量体との共重
合体であることを特徴とする電子写真感光体から
構成される。 本発明に適用するフツ素系樹脂粉体は、四フツ
化エチレン樹脂、三フツ化塩化エチレン樹脂、四
フツ化エチレン六フツ化プロピレン樹脂、フツ化
ビニル樹脂、フツ化ビニリデン樹脂、二フツ化二
塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体の中か
ら1種あるいはそれ以上が適宜選択されるが、特
に四フツ化エチレン樹脂、フツ化ビニリデン樹脂
が好ましい。樹脂の分子量や粉体粒径は市販グレ
ードから適宜選択して用いることができるが、特
に低分子量グレードで、かつ一次粒子が1μ以下
のものが好ましい。 表面層に分散されるフツ素系樹脂粉体の含有量
は表面層固形分重量に基づいて1〜50重量%が適
当であり、特に2〜30重量%が好ましい。 含有率が1重量%未満ではフツ素系樹脂粉体に
よる表面層改質効果が十分でなく、一方、50重量
%を超えると光透過性が低下し、かつキヤリアの
移動性も低下する。 本発明に適用するフツ素系グラフトポリマー
は、片末端に重合性官能基を有し、かつ一定の繰
り返し単位を有する分子量が1000〜10000程度の
オリゴマー(以下マクロマーと称す)と重合性単
量体との共重合により得ることができる。 即ち、非フツ素系重合性単量体から合成した非
フツ素系マクロマーとフツ素系重合性単量体の共
重合体で、幹がフツ素系セグメントで枝が非フツ
素系セグメントである。 フツ素系グラフトポリマーは、上記のようにフ
ツ素系セグメントと非フツ素系セグメントがそれ
ぞれ局在化しており、フツ素系セグメントがフツ
素系樹脂粉体に、非フツ素系セグメントが添加さ
れた樹脂層に、それぞれ配向した機能分離形態を
とつている。特にフツ素系セグメントが連続して
配列しているため、フツ素系セグメントがフツ素
系樹脂粉体に高密度で、かつ効率良く吸着し、さ
らに非フツ素系セグメントが樹脂層に配向するた
め、従来の分散剤には見られなかつたフツ素系樹
脂粉体の分散安定性向上効果が発現されているも
のである。 また、一般にフツ素系樹脂粉体は、数μオーダ
ーの凝集体で存在しているものであるが、本発明
のフツ素系グラフトポリマーを分散剤として用い
ることになり、1μ以下の一次粒子まで均一に分
散されるものである。 このような機能分離効果を最大限に利用するた
めには、マクロマーの分子量を上記のように1000
〜10000程度に調節する必要がある。 即ち、分子量が1000未満であるとセグメントの
長さが短かすぎるため、非フツ素系セグメントの
表面層樹脂層への配向が弱まり、フツ素系樹脂粉
体の分散安定性が阻害される。 一方、分子量が10000を超えると添加される表
面層樹脂層との相溶性が減少する。特にフツ素系
セグメントにおいてこの現象は顕著であり、セグ
メントが樹脂層中で縮まつたコイル状形態をとる
ため、フツ素系樹脂粉体に対する吸着活性点数が
減少し、分散安定性が阻害される。 また、フツ素系グラフトポリマー自身の分子量
も大きく影響を与え、10000〜100000が好ましい
範囲である。分子量が10000未満であると分散安
定機能の発現が不十分であり、100000を超えると
添加される表面層樹脂層との相溶性が減少するた
め、同様に分散安定機能が発現されなくなる。 フツ素系グラフトポリマー中におけるフツ素系
セグメントの比率は5〜90重量%が好ましく、10
〜70重量%がさらに好ましい。 フツ素系セグメントの比率が5重量%未満では
フツ素系樹脂粉体の分散安定機能が十分に発揮で
きず、90重量%を超えると添加される表面層樹脂
層との相溶性が悪くなる。 フツ素系グラフトポリマーの添加量はフツ素系
樹脂粉体に対して0.1〜30重量%が適当であり、
特に1〜20重量%が好ましい。 添加量が0.1重量%未満ではフツ素系樹脂粉体
の分散安定性効果が十分でなく、一方、30重量%
を超えるとフツ素系グラフトポリマーがフツ素系
樹脂粉体に吸着して存在する以外にフリーの状態
で表面層樹脂層内部に存在することになり、繰り
返し電子写真プロセスを行なつたときに残留電位
の蓄積が生じてくる。 以下に本発明に用いるフツ素系グラフトポリマ
ーの好ましい具体例を示す。 A−1 フツ素系グラフトポリマーが、片末端に重合性
官能基を有し、かつ一定の繰り返し単位を有する
一般式()で示される非フツ素系オリゴマーと
化合物()から選ばれるフツ素系重合性単量体
との共重合体 一般式() 式中、R1は水素原子、アルキル基、ハロゲン
原子、ハロゲン置換アルキル基、アリール基を示
し、A1はアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレ
ン鎖を示し、A2は、
【式】
【式】
(式中、R2〜R11は水素原子、アルキル基、ハ
ロゲン置換アルキル基を示す)を示し、A3はア
ルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖を示し、
A4は低分子量直鎖状不飽和炭化水素、ハロゲン
化ビニル、有機酸のビニルエステル、ビニル芳香
族化合物、アクリル酸およびメタクリル酸エステ
ル類、N−ビニル化合物、ビニルケイ素化合物、
無水マレイン酸、マレイン酸およびフマル酸のエ
ステル類からなる群より選ばれる重合性単量体の
1種および2種以上が重合した繰り返し単位ユニ
ツトを示し、aは正の整数を示す。 化合物()は、フツ素置換低分子量直鎖状不
飽和炭化水素、フツ素置換ハロゲン化ビニル、フ
ツ素置換有機酸のビニルエステル、フツ素置換ア
リキルビニルエーテル、アクリル酸およびメタク
リル酸のフツ素置換アルキルエステルおよびアミ
ド、アクリル酸およびメタクリル酸のフツ素置換
芳香族含有エステルおよびアミド、フツ化無水マ
レイン酸、マレイン酸およびフマル酸のフツ素置
換アルキルエステル、α−フツ化スチレンおよび
α,β,β−フツ化スチレンを示す。 A−1におけるマクロマーの合成は、英国特許
第1096912号明細書に開示されているように、ラ
ジカル重合により連鎖移動剤を用いて末端カルボ
ン酸、アルコールなどのプレポリマーを合成し、
エポキシ基との反応で二重結合を導入する方法に
よつて達成される。 メチルメタクリレートのマクロマーの合成例を
下記合成式(1)に示す。 このようにして合成したメチルメタクリレート
マクロマーとフツ素系重合性単量体を共重合すれ
ば、特にフツ素系セグメント、枝に非フツ素系セ
グメント(メチルメタクリレートオリゴマー)を
有するフツ素系グラフトポリマーを得ることがで
きる。 フツ素系重合性単量体は、分子中にフツ素原子
を有し、かつ重合性官能基を有する化合物であれ
ば良く、その官能基に応じた反応形態により重合
される。 フツ素系重合性単量体の好ましい具体例を以下
に示すが、使用できる化合物の範囲はここに挙げ
た範囲に何ら限定されるものではない。
ロゲン置換アルキル基を示す)を示し、A3はア
ルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖を示し、
A4は低分子量直鎖状不飽和炭化水素、ハロゲン
化ビニル、有機酸のビニルエステル、ビニル芳香
族化合物、アクリル酸およびメタクリル酸エステ
ル類、N−ビニル化合物、ビニルケイ素化合物、
無水マレイン酸、マレイン酸およびフマル酸のエ
ステル類からなる群より選ばれる重合性単量体の
1種および2種以上が重合した繰り返し単位ユニ
ツトを示し、aは正の整数を示す。 化合物()は、フツ素置換低分子量直鎖状不
飽和炭化水素、フツ素置換ハロゲン化ビニル、フ
ツ素置換有機酸のビニルエステル、フツ素置換ア
リキルビニルエーテル、アクリル酸およびメタク
リル酸のフツ素置換アルキルエステルおよびアミ
ド、アクリル酸およびメタクリル酸のフツ素置換
芳香族含有エステルおよびアミド、フツ化無水マ
レイン酸、マレイン酸およびフマル酸のフツ素置
換アルキルエステル、α−フツ化スチレンおよび
α,β,β−フツ化スチレンを示す。 A−1におけるマクロマーの合成は、英国特許
第1096912号明細書に開示されているように、ラ
ジカル重合により連鎖移動剤を用いて末端カルボ
ン酸、アルコールなどのプレポリマーを合成し、
エポキシ基との反応で二重結合を導入する方法に
よつて達成される。 メチルメタクリレートのマクロマーの合成例を
下記合成式(1)に示す。 このようにして合成したメチルメタクリレート
マクロマーとフツ素系重合性単量体を共重合すれ
ば、特にフツ素系セグメント、枝に非フツ素系セ
グメント(メチルメタクリレートオリゴマー)を
有するフツ素系グラフトポリマーを得ることがで
きる。 フツ素系重合性単量体は、分子中にフツ素原子
を有し、かつ重合性官能基を有する化合物であれ
ば良く、その官能基に応じた反応形態により重合
される。 フツ素系重合性単量体の好ましい具体例を以下
に示すが、使用できる化合物の範囲はここに挙げ
た範囲に何ら限定されるものではない。
【表】
【表】
【表】
(上記化合物中、R1は水素原子、ハロゲン原
子またはメチル基を示し、R2は水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはニト
リル基を示し、その数種類の組合せでもよく、k
は1〜4の整数、mは1〜5の整数であり、k+
m=5であり、Rfは少なくとも1個以上フツ素
原子で置換されたアルキル基を示す。) B−1 フツ素系グラフトポリマーが、片末端に重合性
官能基を有し、かつ一定の繰り返し単位を有する
一般式()で示される非フツ素系オリゴマーと
化合物()から選ばれるフツ素系重合性単量体
との共重合体 一般式() 式中、R12は水素原子、アルキル基、ハロゲン
原子、ハロゲン置換アルキル基を示し、A6はア
ルキレン鎖を示し、Xは−O−、
子またはメチル基を示し、R2は水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはニト
リル基を示し、その数種類の組合せでもよく、k
は1〜4の整数、mは1〜5の整数であり、k+
m=5であり、Rfは少なくとも1個以上フツ素
原子で置換されたアルキル基を示す。) B−1 フツ素系グラフトポリマーが、片末端に重合性
官能基を有し、かつ一定の繰り返し単位を有する
一般式()で示される非フツ素系オリゴマーと
化合物()から選ばれるフツ素系重合性単量体
との共重合体 一般式() 式中、R12は水素原子、アルキル基、ハロゲン
原子、ハロゲン置換アルキル基を示し、A6はア
ルキレン鎖を示し、Xは−O−、
【式】
(R13は水素原子またはアルキル基を示す)を示
し、 A7は
し、 A7は
【式】
【式】
【式】
[R14は水素原子またはアルキル基、A8,A9.
A10はアルキレン鎖、シクロアルキレン鎖、置換
または未置換のアリーレン鎖、
A10はアルキレン鎖、シクロアルキレン鎖、置換
または未置換のアリーレン鎖、
【式】
【式】
(R15,R16,R17およびR18は水素原子、アル
キル基、あるいはアルキレン鎖によつてR15と
R16またはR17とR18で形成された環を示す)を示
す]を示す。 A3,A4,aおよび化合物()は前記と同じ
意味である。 B−1におけるマクロマーの合成は、米国特許
第3689593号明細書に開示されているように、ラ
ジカル重合により連鎖移動剤を用いて末端カルボ
ン酸、アルコールなどのプレポリマーを合成し、
イソシアナート基と反応させて二重結合を導入す
る方法によつて達成される。 メチルメタクリレートのマクロマーの合成例を
合成式(2)に示す。 このようにして合成したメチルメタクリレート
マクロマーとフツ素系重合性単量体を共重合して
も前記と同様に、幹にフツ素系セグメント、枝に
非フツ素系セグメント(メチルメタクリレートオ
リゴマー)を有するフツ素系グラフトポリマーを
得ることができる。 前述のメチルメタクリレートマクロマーの合成
において、メチルメタクリレートの代わりにフツ
素系重合性単量体を用いればフツ素系マクロマー
を得ることができ、このマクロマーと非フツ素系
重合性単量体との共重合から枝がフツ素系セグメ
ント、幹が非フツ素系セグメントのフツ素系グラ
フトポリマーを得ることができる。 C−1 フツ素系グラフトポリマーが、片末端に重合性
官能基を有し、かつ一定の繰り返し単位を有する
一般式()で示されるリビングポリマー中間体
と一般式()で示される化合物との反応により
形成された非フツ素系オリゴマーと化合物()
から選ばれるフツ素系重合性単量体との共重合体 一般式() (R19−[A11]o−−−[−R20−O]n)+M 式中、R19は水素原子、アルキル基、アリール
基を示し、A11はスチレン、α−アルキルスチレ
ン、α−オレフイン、アクリル酸およびメタクリ
ル酸エステル類、α−シアノアクリル酸およびα
−シアノメタクリル酸エステルの少なくとも1種
が重合した繰り返し単位ユニツトを示し、R20は
アルキレン鎖、mは0または正の整数、nは正の
整数を示し、Mはアルカリ金属を示す。 一般式() 式中、R21は水素原子、アルキル基、アリール
基を示し、A12は −O−、
キル基、あるいはアルキレン鎖によつてR15と
R16またはR17とR18で形成された環を示す)を示
す]を示す。 A3,A4,aおよび化合物()は前記と同じ
意味である。 B−1におけるマクロマーの合成は、米国特許
第3689593号明細書に開示されているように、ラ
ジカル重合により連鎖移動剤を用いて末端カルボ
ン酸、アルコールなどのプレポリマーを合成し、
イソシアナート基と反応させて二重結合を導入す
る方法によつて達成される。 メチルメタクリレートのマクロマーの合成例を
合成式(2)に示す。 このようにして合成したメチルメタクリレート
マクロマーとフツ素系重合性単量体を共重合して
も前記と同様に、幹にフツ素系セグメント、枝に
非フツ素系セグメント(メチルメタクリレートオ
リゴマー)を有するフツ素系グラフトポリマーを
得ることができる。 前述のメチルメタクリレートマクロマーの合成
において、メチルメタクリレートの代わりにフツ
素系重合性単量体を用いればフツ素系マクロマー
を得ることができ、このマクロマーと非フツ素系
重合性単量体との共重合から枝がフツ素系セグメ
ント、幹が非フツ素系セグメントのフツ素系グラ
フトポリマーを得ることができる。 C−1 フツ素系グラフトポリマーが、片末端に重合性
官能基を有し、かつ一定の繰り返し単位を有する
一般式()で示されるリビングポリマー中間体
と一般式()で示される化合物との反応により
形成された非フツ素系オリゴマーと化合物()
から選ばれるフツ素系重合性単量体との共重合体 一般式() (R19−[A11]o−−−[−R20−O]n)+M 式中、R19は水素原子、アルキル基、アリール
基を示し、A11はスチレン、α−アルキルスチレ
ン、α−オレフイン、アクリル酸およびメタクリ
ル酸エステル類、α−シアノアクリル酸およびα
−シアノメタクリル酸エステルの少なくとも1種
が重合した繰り返し単位ユニツトを示し、R20は
アルキレン鎖、mは0または正の整数、nは正の
整数を示し、Mはアルカリ金属を示す。 一般式() 式中、R21は水素原子、アルキル基、アリール
基を示し、A12は −O−、
【式】
【式】
を示し、A13は置換または未置換のアルキレン鎖
を示し、cおよびdは0または1であり、Yはハ
ロゲン原子を示す。 C−1におけるマクロマーの合成は、米国特許
第3786116号明細書や米国特許第3928255号明細書
に開示されているように、不飽和二重結合を有す
る化合物を停止剤として用いるアニオン重合方法
を用いることにより達成される。 スチレンのマクロマーの合成例を合成式(3)に示
す。 このようにして合成したスチレンマクロマーと
フツ素系重合性単量体を共重合すれば、幹にフツ
素系セグメント、枝に非フツ素系セグメント(ス
チレンオリゴマー)を有するフツ素系グラフトポ
リマーを得ることができる。 この場合、マクロマーの重合成分は形成された
フツ素系グラフトポリマーが添加される表面層の
樹脂層と相溶するもの、あるいは完全に相溶しな
いまでも類似構造を有し、両者間に少しでも親和
性があるものを選択することが必要である。 例えば、表面層樹脂層がポリ(メタ)アクリル
酸エステル類であればマクロマー重合成分として
も(メタ)アクリル酸エステル類が好ましく、ま
たポリスチレンやポリカーボネートの場合にはス
チレン系化合物が選択されるのが好ましい。 表面層を形成するためのバインダー樹脂は成膜
性のある高分子であればよいが、単独でもある程
度の硬さを有すること、キヤリア輸送を妨害しな
いことなどの点からポリメタクリル酸エステル、
ポリスチレン、メタクリル酸エステル−スチレン
コポリマー、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリエステル、ポリスルホンなどが好まし
い。 本発明の電子写真感光体を作成する場合、導電
性支持体は、アルミニウム、ステンレスなどの金
属や紙、プラスチツクなどの支持体上に導電性粒
子を適当なバインダー樹脂に分散した導電層を設
けた円筒状シリンダーまたはフイルムが用いられ
る。ただし、支持体自身が導電性の場合には、導
電性支持体は導電層を設けなくてもよい。 これら導電性支持体の上にはバリアー機能と下
引機能をもつ下引層(接着層)を設けることがで
きる。 下引層は、感光層の接着性改良、塗工性改良、
導電性支持体の保護、導電性支持体上の欠陥の被
覆、導電性支持体からの電荷注入性改良、感光層
の電気的破壊に対する保護などのために形成され
る。下引層の材料としては、ポリビニルアルコー
ル、ポリ−N−ビニルイミダゾール、ポリエチレ
ンオキシド、エチルセルロース、メチルセルロー
ス、エチレン−アクリル酸コポリマー、カゼイ
ン、ポリアミド、共重合ナイロン、にかわ、ゼラ
チンなどが知られている。 これらはそれぞれに適した溶剤に溶解されて導
電性支持体上に塗布される。その膜厚は0.2〜2μ
程度である。 電荷発生物質としては、シアニン系染料、アズ
レン系染料、スクヴアリリウム系染料、ビリリウ
ム系染料、チアピリリウム系染料、フタロシアニ
ン系顔料、アントアントロン系顔料、ジベンズピ
レンキノン系顔料、ピラントロン系顔料、モノア
ゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料などのア
ゾ系顔料、インジゴ系顔料、キナクリドン系顔
料、非対称キノシアジン、キノシアニンなどを用
いることができる。 電荷輸送物質としては、ピレン、N−エチルカ
ルバゾール、N−イソプロピルカルバゾール、N
−メチル−N−フエニルヒドラジノ−3−メチル
デン−9−エチルカルバゾール、N,N−ジフエ
ニルヒドラジノ−3−メチリデン−9−エチルカ
ルバゾール、N,N−ジフエニルヒドラジノ−3
−メチリデン−10−エチルフエノチアジン、N,
N−ジフエニルヒドラジノ−3−メチリデン−10
−エチルフエノキサジン、p−ジエチルアミノベ
ンズアルデヒド−N,N−ジフエニルヒドラゾ
ン、p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−N−
α−ナフチル−N−フエニルヒドラゾン、P−ピ
ロリジノベンズアルデヒド−N,N−ジフエニル
ヒドラゾン、1,3,3−トリメチルインドレニ
ン−ω−アルデヒド−N,N−ジフエニルヒドラ
ゾン、p−ジエチルベンズアルデヒド−3−メチ
ルベンズチアゾリノン−2−ヒドラゾンなどのヒ
ドラゾン類、2,5−ビス(p−ジエチルアミノ
フエニル)−1,3,4−オキサジアゾール、1
−フエニル−3−(p−ジエチルアミノスチリル)
−5−(p−ジエチルアミノフエニル)ピラゾリ
ン、1−[キノリル(2)]−3−(p−ジエチルアミ
ノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフエニ
ル)ピラゾリン、1−[ピリジル(2)]−3−(p−
ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルア
ミノフエニル)ピラゾリン、1−[6−メトキシ
ピリジル(2)]−3−(p−ジエチルアミノスチリ
ル)−5−(p−ジエチルアミノフエニル)ピラゾ
リン、1−[ピリジル(3)]−3−(p−ジエチルア
ミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフエニ
ル)ピラゾリン、1−[レピジル(2)]−3−(p
−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチル
アミノフエニル)ピラゾリン、1−[ピリジル(2)]
−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−4−メチ
ル−5−(p−ジエチルアミノフエニル)ピラゾ
リン、1−[ピリジル(2)]−3−(α−メチル−p
−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチル
アミノフエニル)ピラゾリン、1−フエニル−3
−(p−ジエチルアミノスチリル)−4−メチル−
5−(p−ジエチルアミノフエニル)ピラゾリン、
1−フエニル−3−(α−ベンジル−p−ジエチ
ルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフ
エニル)ピラゾリン、スピロピラゾリンなどのピ
ラゾリン類、2−(p−ジエチルアミノスチリル)
−6−ジエチルアミノベンズオキサゾール、2−
(p−ジエチルアミノフエニル)−4−(p−ジエ
チルアミノフエニル)−5−(2−クロロフエニ
ル)オキサゾールなどのオキサゾール系化合物、
2−(p−ジエチルアミノスチリル)−6−ジエチ
ルアミノベンズチアゾールなどのチアゾール系化
合物、ビス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフ
エニル)フエニルメタンなどのトリアリールメタ
ン系化合物、1,1−ビス(4−N,N−ジエチ
ルアミノ−2−メチルフエニル)ヘプタン、1,
1,2,2−テトラキス(4−N,N−ジメチル
アミノ−2−メチルフエニル)エタンなどのポリ
アリールアルカン類、5−(4−ジフエニルアミ
ノベンジリデン)−5Hジベンゾ[a,d]シクロ
ヘプテン、1,2−ベンゾ−3−(d−フエニル
スチリル)−9−n−ブチルカルバゾールなどの
スチルベン化合物などを用いることができる。 本発明の電子写真感光体の作成方法を電荷発生
層上に電荷輸送層を積層する機能分離型感光体の
場合を例として説明する。 前記の電荷発生物質を0.3〜10倍量のバインダ
ー樹脂および溶剤と共にホモジナイザー、超音
波、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、
アトライター、ロールミルなどの方法でよく分散
する。この分散液を前記下引層を塗布した導電性
支持体上に塗布、乾燥し、0.1〜1μ程度の塗膜を
形成させる。 この例においては、表面層が電荷輸送層となる
のでここにフツ素系樹脂粉体を分散する。 即ち、バインダー樹脂、フツ素系樹脂粉体およ
びフツ素系グラフトポリマーを溶剤と共にホモジ
ナイザー、超音波、ボールミル、振動ボールミ
ル、サンドミル、アトライター、ロールミルなど
でよく分散し、これに電荷輸送物質とバインダー
樹脂の溶液を添加し、所望の電荷輸送層分散液を
調製する。 フツ素系グラフトポリマーはフツ素系樹脂粉体
分散時に添加するほうがフツ素系樹脂粉体の安定
性寄与の点で最も効果がある。 しかしながら、フツ素系樹脂粉体をあらかじめ
分散しておいて、その後、フツ素系グラフトポリ
マーを添加してもよい。 電荷輸送物質とバインダー樹脂との混合割合は
2:1〜1:4程度である。 溶剤としてはトルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素類、ジクロルメタン、クロルベンゼン、
クロロホルム、四塩化炭素などの塩素系炭化水素
類などが用いられる。 この溶液を塗布する際には、例えば浸漬コーテ
イング法、スプレーコーテイング法、スピンナー
コーテイング法、ビードコーテイング法、ブレー
ドコーテイング法、カーテンコーテイング法など
のコーテイング法を用いることができ、乾燥は10
〜200℃、好ましくは20〜150℃の範囲の温度で5
分〜5時間、好ましくは10分〜2時間の範囲で送
風乾燥または静止乾燥下で行なうことができる。
形成する電荷輸送層の膜厚は10〜30μ程度であ
る。 また電荷発生層を電荷輸送層上に塗設する感光
体の場合には電荷発生層が表面層になるので、こ
こにフツ素系グラフトポリマーで分散安定化され
たフツ素系樹脂粉体が含有される。 この電荷発生層分散液は、電荷発生層に用いる
バインダー樹脂中にフツ素系グラフトポリマーを
分散剤としてフツ素系樹脂粉体を分散させた分散
液を前述のように調製した電荷発生物質の分散液
に添加、混合する方法によつて調製することがで
き、この分散液を電荷輸送層上に塗布して本発明
の電子写真感光体を作成することができる。 感光層が保護層を有する場合には、保護層が感
光層の表面層となり、この保護層中にフツ素系グ
ラフトポリマーで安定化されたフツ素系樹脂粉体
が含有される。 この保護層は前述のように保護層を形成する樹
脂中にフツ素系グラフトポリマーで安定化された
フツ素系樹脂粉体の分散液を感光層上に塗布する
ことによつて形成することができる。 以下本発明を実施例によつて詳細に説明する。 [実施例] ◎ フツ素系グラフトポリマー(A−1)の合成 フツ素系グラフトポリマーの合成は、特開昭58
−164656号公報に開示されているチオグリコール
酸を連鎖移動剤とし、グリシジルメタクリレート
にて末端二重結合を導入するマクロマー合成法を
ベースにして実施した。 このマクロマーは非フツ素系セグメントである
ので、フツ素系重合性単量体と共重合を行い、フ
ツ素系グラフトポリマーを合成した。 (i) フツ素系グラフトポリマー No.1 (a) 末端メタクリレート型メチルメタクリレート
マクロマーの合成 攪拌機、還流冷却器、滴下ロート、温度計およ
びガス吹込口を取り付けたガラスフラスコにメチ
ルメタクリレート(以下、MMAと略記する)を
10部とアセトン(17.5%)−トルエン混合溶剤90
部を仕込み、N2導入後、還流下に重合開始剤と
してアゾビスイソブチロニトリル(以下、AIBN
と略記する)0.5部と連鎖移動剤としてチオグリ
コール酸0.35部を加えて重合を開始させた。その
後、5時間の間にMMA90部を連続的に滴下し、
またチオグリコール酸2.9部をトルエン10部に溶
解して、30分毎、9回に分けて追加、同様に
AIBN1.5部を1時間毎、4回に分けて追加し、
重合を行つた。 さらにその後、2時間還流して重合を終了し、
下記構造式(19)のポリマー溶液を得た。 反応温度は77〜87℃であつた。反応液の一部を
n−ヘキサンにて再沈、乾燥して酸価を測定した
ところ、0.350mg等量/gであつた。 次に上記反応液からのアセトンの一部を留去し
た後、触媒としてトリエチルアミン0.5%、重合
開始剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル
250ppmを添加し、酸価に対して1.2倍モルのグリ
シジルメタクリレートを加え、還流下(約110℃)
に12時間反応させた。酸価の減少から求めた反応
率は96%であつた。 反応液を10倍量のn−ヘキサン中に投入、再沈
させた後、80℃で減圧乾燥して、下記構造式(20)の
マクロモノマー85部を得た。ゲルパーミエーシヨ
ンクロマトグラフ(以下、GPCと略称する)に
よるポリスチレン換算分子量は、2780(数平均)
および6350(重量平均)であつた。 (b) フルオロアルキルアクリレート(幹)/メチ
ルメタクリレート(枝)−グラフトポリマーの
合成 (a)と同様の装置に上記構造式(20)のマクロマー70
部と下記構造式(21)のフルオロアルキルアクリレ
ート30部、トリフルオロトルエン(C6H5CF3)
300部、AIBNを0.35部を仕込み、N2導入、還流
下(100℃)に、5時間反応させた。 ただし、n=4〜12の混合物 (nの平均値は約7) この反応液を10倍量のメタノール中に投入、再
沈させ、80℃で減圧乾燥してグラフトポリマー65
部を得た。 このものはGPCにより単一のピークを示し、
ポリスチレン換算分子量は18500(数平均)および
29400(重量平均)であつた。 また内部標準物質としてトリフルオロトルエン
を加えて、CDC2溶媒にて’H−NMRスペク
トルを測定し、トリフルオロトルエンのHと、ポ
リマー中のMMA単位中の−O−CH3のHとのピ
ーク面積比から、グラフトポリマー中のMMA単
位の含有量を求めたところ60%であつた。残り40
%をフルオロアルキルアクリレートとした。 かくしてフツ素系セグメントの含有量が40%の
フツ素系グラフトポリマーを得た。 (ii) フツ素系グラフトポリマー No.2 No.3 フルオロアルキルアクリレートの仕込量を変え
て、上記(i)と同じ操作によりフツ素系セグメント
含有量21%(No.2)、61%(No.3)、分子量各々
24000、18000(数平均)のフツ素系グラフトポリ
マーを合成した。 (iii) フツ素系グラフトポリマー No.4 上記(i) においてメチルメタクリレートをスチ
レンに、フルオロアルキルアクリレートを下記構
造式(22)の2,3,5,6−テトラフルオロフエ
ニルメタクリルアミド に代えて(仕込量は二重結合濃度が同じになるよ
うに調製)、その他は(i)と同じ装置および操作に
より、フツ素系セグメント含有量25%、数平均分
子量36000のフツ素系グラフトポリマーを合成し
た。 このときのスチレンマクロマーの分子量は7000
であつた。 (iv) フツ素系グラフトポリマー No.5 上記(i)−(a)におけるチオグリコール酸に代えて
2−メルカプトエタノール2.4部を用い、他は(i)
−(a)と同様にして下記構造式(23)のポリマー溶液
を得た。 さらに、(i)−(a)と同様にしてグリシジルメタク
リレートと反応させマクロマーを合成した。
GPCによるポリスチレン換算分子量は3250(数平
均)および7800(重量平均)であつた。 次に(i)−(b)と同様にして幹がフルオロアルキル
アクリレート、枝がメチルメタクリレートのグラ
フトポリマーを合成した。 フツ素系セグメント含有量は30%、数平均分子
量32000であつた。 (v) フツ素系グラフトポリマー No.6 上記(i)−(a)におけるチオグリコール酸に代えて
2−アミノエチルメルカプタン2.4部を用い、メ
チルメタクリレートの代わりにスチレンを同量用
い、他は(i)−(a)と同様にして下記構造式(24)のポ
リマー溶液を得た。 次に(i)−(a)と同様にしてグリシジルメタクリレ
ートと反応させマクロマーを合成した。 GPCによるポリスチレン換算分子量は3450(数
平均)および7700(重量平均)であつた。 次に(i)−(b)と同様にして幹がフルオロアルキル
アクリレート、枝がメチルメタクリレートのグラ
フトポリマーを合成した。 フツ素系セグメント含有量は32%、数平均分子
量46000であつた。 ◎ フツ素系グラフトポリマー(B−1)の合成 フツ素系グラフトポリマーの合成は、特開昭58
−164656号公報に開示されているマクロマー合成
法や米国特許第3689593号明細書に開示されてい
る2−メルカプトエタノールを連鎖移動剤とし、
トリレンジイソシアナートおよび2−ヒドロキシ
エチルメタクリレートを用いて末端二重結合を導
入するマクロマー合成法をベースにして行つた。 このマクロマーは非フツ素系セグメントである
ので、フツ素系重合性単量体と共重合を行ない、
フツ素系グラフトポリマーを得た。 (vi) フツ素系グラフトポリマー No.7 (a) 末端メタクリレート型メチルメタクリレート
マクロマーの合成 攪拌機、還流冷却器、滴下ロート、温度計およ
びガス吹込口を取り付けたガラスフラスコに
MMA10部とアセトン(17.5%)−トルエン混合
溶剤85部を仕込み、N2導入後、還流下に重合開
始剤としてAIBNを0.5部と連鎖移動剤として2
−メルカプトエタノール0.27部を加えて重合を開
始させた。その後、5時間の間にMMA90部を連
続的に滴下し、また2−メルカプトエタノール
2.4部をトルエン8部に溶解して、30分毎、9回
に分けて追加、同様にAIBN1.5部を1.5時間毎、
3回に分けて追加し、重合を行つた。 さらにその後、2時間還流して重合を終了し、
前記構造式(23)のポリマー溶液を得た。 反応温度は77〜88℃であつた。 次に上記ポリマー溶液に2,4−トリレンジイ
ソシアナート6.0部、ジブチル錫ジラウレート
0.35部を添加し、78〜82℃で30分間反応を行い、
下記構造式(25)の末端イソシアナートポリマー溶
液を得た。 さらに2−ヒドロキシエチルメタクリレートを
4.45部添加し、78〜82℃で1時間反応を行なつ
た。 その後、反応液を10倍量のn−ヘキサン中に投
入、沈殿させた後、80℃で減圧乾燥して下記構造
式(26)のマクロマー94部を得た。 GPCによるポリスチレン換算分子量は3040(数
平均)および6850(重量平均)であつた。 (b) フルオロアルキルアクリレート(幹)/メチ
ルメタクリレート(枝)−グラフトポリマーの
合成 (a)と同様の装置に上記構造式(26)のマクロマー
を70部と前記構造式(21)のフルオロアルキルアク
リレート30部、トリフルオロトルエン(C6H5
CF3)300部、AIBN0.35部を仕込み、N2導入、
還流下(約100℃)に5時間反応させた。 この反応液を10倍量のメタノール中に投入、再
沈させ、80℃で減圧乾燥してグラフトポリマー62
部を得た。 このものはGPCにより単一のピークを示し、
ポリスチレン換算分子量は20500(数平均)および
32000(重量平均)であつた。 また内部標準物質としてトリフルオロトルエン
を加えてCDC2溶媒にて’H−NMRスペクト
ルを測定し、トリフルオロトルエンのHとポリマ
ー中のMMA単位中の−O−CH3とのピーク面積
比から、グラフトポリマー中のMMA単位の含有
量を求めたところ72%であつた。残り28%をフル
オロアルキルアクリレートとした。 かくしてフツ素系セグメントの含有量が28%の
フツ素系グラフトポリマーNo.7を得た。 (vii) その他のフツ素系グラフトポリマー 下記原料を用い、上記合成法に準じて各種フツ
素系グラフトポリマー(No.8〜10)を合成した。 フツ素系グラフトポリマー No.8 マクロマー構成成分 ビニルモノマ:スチレン 連鎖移動剤:2−メルカプトアミノエタン イソシアナート化合物:1,6−ヘキサメチレン
ジイソシアナート 末端ビニル導入モノマー:2−ヒドロキシエチル
メタクリレート 数平均分子量:2130 幹セグメント 構成ビニルモノマー:フルオロアルキルアクリレ
ート(No.1と同一品) フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:44200 フツ素系セグメント含有量:22wt% フツ素系グラフトポリマー No.9 マクロマー構成成分 ビニルモノマー:メチリメタクリレート/スチレ
ン(重量比20/80) 連鎖移動剤:3−メルカプトプロピオン酸 イソシアナート化合物:2.4−TDI 末端ビニル導入モノマー:メタクリル酸 数平均分子量:3170 幹セグメント 構成ビニルモノマー:2,3,4,5−テトラフ
ルオロフエニルメタクリレート フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:60800 フツ素系セグメント含有量:10wt% フツ素系グラフトポリマー No.10 マクロマー構成成分 ビニルモノマー:スチレン 連鎖移動剤:3−メルカプトエタノール イソシアナート化合物:4,4′−ジフエニルメタ
ンジイソシアナート 末端ビニル導入モノマー:2−アミノエチルメタ
クリレート 数平均分子量:6620 幹セグメント 構成ビニルモノマー:フルオロアルキルアクリル
アミド (n:4〜12の混合物、nの平均数約7) フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:84600 フツ素系セグメント含有量:28wt% ◎ フツ素系グラフトポリマー(C−1)の合成 フツ素系グラフトポリマーの合成は、米国特許
第3786116号明細書や米国特許第3928255号明細書
に開示されている不飽和二重結合を有する化合物
を停止剤として用いるアニオン重合方法によるマ
クロマー合成法をベースにして行なつた。これら
マクロマーとフツ素系重合性単量体との共重合か
ら、フツ素系グラフトポリマーが得られる。 (viii) フツ素系グラフトポリマーNo.11 (a) 末端ビニルスチレンマクロマーの合成 ステンレス製反応器に脱水処理したベンゼン80
部を入れる。40℃に昇温しジフエニルエチレンを
1滴添加する。t−ブチルリチウムの12%ペンタ
ン溶液を30ml、さらにスチレン321部を加え40
℃、30分間反応を行なう。 次いで、ビニル−2−クロロエチルエーテル
8mlを添加し、反応を停止させる。この反応液を
メタノール中に滴下し、ポリマーを再沈させる。 濾別後、80℃にて減圧乾燥し、下記の構造式(2
7)のスチレンマクロマーを得た。 GPCによるポリスチレン換算分子量は数平均
で8400であつた。 (b) フルオロアクリレート(幹)/スチレン
(枝)−グラフトポリマーの合成 攪拌機、還流冷却器、滴下ロート、温度計およ
びガス吹込口を取り付けたガラスフラスコに上記
構造式(27)のスチレンマクロマー70部と前記構造
式(21)のフルオロアクリレート30部、トリフルオ
ロトルエン(C6H5CF3)280部、AIBNを0.35部
を仕込み、N2導入後、還流下(約100℃)に5時
間反応させた。 この反応液を10倍量のメタノール中に投入、再
沈させ、80℃で減圧乾燥してグラフトポリマーを
得た。GPCによる分子量は数平均で48300であつ
た。 また内部標準としてトリフルオロトルエンをく
わえて、CDC2溶剤にて’H−NMRスペクト
ルを測定し、トリフルオロトルエンのHとポリマ
ー中のスチレン単位中の芳香環のHとのピーク面
積比からグラフトポリマー中のスチレン単位の含
有量を求めたところ、72%であつた。 残り28%をフルオロアルキルアクリレートとし
た。 かくしてフツ素系セグメントの含有量が28%の
フツ素系グラフトポリマーNo.11を得た。 (ix) その他のフツ素系グラフトポリマー 下記原料を用い、上記合成法に準じて各種フツ
素系グラフトポリマー(No.12〜16)を合成した。 フツ素系グラフトポリマー No.12 マクロマー構成成分 ビニルモノマー:α−メチルスチレン 停止剤:CH2=CHOCH2CH2C 数平均分子量:4370 幹セグメント 構成フツ素系ビニルモノマー:フルオロアルキル
アクリレート フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:56300 フツ素系セグメント含有量:24wt% フツ素系グラフトポリマー No.13 マクロマー構成成分 ビニルモノマー:α−シアノエチルアクリレート 停止剤:
を示し、cおよびdは0または1であり、Yはハ
ロゲン原子を示す。 C−1におけるマクロマーの合成は、米国特許
第3786116号明細書や米国特許第3928255号明細書
に開示されているように、不飽和二重結合を有す
る化合物を停止剤として用いるアニオン重合方法
を用いることにより達成される。 スチレンのマクロマーの合成例を合成式(3)に示
す。 このようにして合成したスチレンマクロマーと
フツ素系重合性単量体を共重合すれば、幹にフツ
素系セグメント、枝に非フツ素系セグメント(ス
チレンオリゴマー)を有するフツ素系グラフトポ
リマーを得ることができる。 この場合、マクロマーの重合成分は形成された
フツ素系グラフトポリマーが添加される表面層の
樹脂層と相溶するもの、あるいは完全に相溶しな
いまでも類似構造を有し、両者間に少しでも親和
性があるものを選択することが必要である。 例えば、表面層樹脂層がポリ(メタ)アクリル
酸エステル類であればマクロマー重合成分として
も(メタ)アクリル酸エステル類が好ましく、ま
たポリスチレンやポリカーボネートの場合にはス
チレン系化合物が選択されるのが好ましい。 表面層を形成するためのバインダー樹脂は成膜
性のある高分子であればよいが、単独でもある程
度の硬さを有すること、キヤリア輸送を妨害しな
いことなどの点からポリメタクリル酸エステル、
ポリスチレン、メタクリル酸エステル−スチレン
コポリマー、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリエステル、ポリスルホンなどが好まし
い。 本発明の電子写真感光体を作成する場合、導電
性支持体は、アルミニウム、ステンレスなどの金
属や紙、プラスチツクなどの支持体上に導電性粒
子を適当なバインダー樹脂に分散した導電層を設
けた円筒状シリンダーまたはフイルムが用いられ
る。ただし、支持体自身が導電性の場合には、導
電性支持体は導電層を設けなくてもよい。 これら導電性支持体の上にはバリアー機能と下
引機能をもつ下引層(接着層)を設けることがで
きる。 下引層は、感光層の接着性改良、塗工性改良、
導電性支持体の保護、導電性支持体上の欠陥の被
覆、導電性支持体からの電荷注入性改良、感光層
の電気的破壊に対する保護などのために形成され
る。下引層の材料としては、ポリビニルアルコー
ル、ポリ−N−ビニルイミダゾール、ポリエチレ
ンオキシド、エチルセルロース、メチルセルロー
ス、エチレン−アクリル酸コポリマー、カゼイ
ン、ポリアミド、共重合ナイロン、にかわ、ゼラ
チンなどが知られている。 これらはそれぞれに適した溶剤に溶解されて導
電性支持体上に塗布される。その膜厚は0.2〜2μ
程度である。 電荷発生物質としては、シアニン系染料、アズ
レン系染料、スクヴアリリウム系染料、ビリリウ
ム系染料、チアピリリウム系染料、フタロシアニ
ン系顔料、アントアントロン系顔料、ジベンズピ
レンキノン系顔料、ピラントロン系顔料、モノア
ゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料などのア
ゾ系顔料、インジゴ系顔料、キナクリドン系顔
料、非対称キノシアジン、キノシアニンなどを用
いることができる。 電荷輸送物質としては、ピレン、N−エチルカ
ルバゾール、N−イソプロピルカルバゾール、N
−メチル−N−フエニルヒドラジノ−3−メチル
デン−9−エチルカルバゾール、N,N−ジフエ
ニルヒドラジノ−3−メチリデン−9−エチルカ
ルバゾール、N,N−ジフエニルヒドラジノ−3
−メチリデン−10−エチルフエノチアジン、N,
N−ジフエニルヒドラジノ−3−メチリデン−10
−エチルフエノキサジン、p−ジエチルアミノベ
ンズアルデヒド−N,N−ジフエニルヒドラゾ
ン、p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−N−
α−ナフチル−N−フエニルヒドラゾン、P−ピ
ロリジノベンズアルデヒド−N,N−ジフエニル
ヒドラゾン、1,3,3−トリメチルインドレニ
ン−ω−アルデヒド−N,N−ジフエニルヒドラ
ゾン、p−ジエチルベンズアルデヒド−3−メチ
ルベンズチアゾリノン−2−ヒドラゾンなどのヒ
ドラゾン類、2,5−ビス(p−ジエチルアミノ
フエニル)−1,3,4−オキサジアゾール、1
−フエニル−3−(p−ジエチルアミノスチリル)
−5−(p−ジエチルアミノフエニル)ピラゾリ
ン、1−[キノリル(2)]−3−(p−ジエチルアミ
ノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフエニ
ル)ピラゾリン、1−[ピリジル(2)]−3−(p−
ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルア
ミノフエニル)ピラゾリン、1−[6−メトキシ
ピリジル(2)]−3−(p−ジエチルアミノスチリ
ル)−5−(p−ジエチルアミノフエニル)ピラゾ
リン、1−[ピリジル(3)]−3−(p−ジエチルア
ミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフエニ
ル)ピラゾリン、1−[レピジル(2)]−3−(p
−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチル
アミノフエニル)ピラゾリン、1−[ピリジル(2)]
−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−4−メチ
ル−5−(p−ジエチルアミノフエニル)ピラゾ
リン、1−[ピリジル(2)]−3−(α−メチル−p
−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチル
アミノフエニル)ピラゾリン、1−フエニル−3
−(p−ジエチルアミノスチリル)−4−メチル−
5−(p−ジエチルアミノフエニル)ピラゾリン、
1−フエニル−3−(α−ベンジル−p−ジエチ
ルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフ
エニル)ピラゾリン、スピロピラゾリンなどのピ
ラゾリン類、2−(p−ジエチルアミノスチリル)
−6−ジエチルアミノベンズオキサゾール、2−
(p−ジエチルアミノフエニル)−4−(p−ジエ
チルアミノフエニル)−5−(2−クロロフエニ
ル)オキサゾールなどのオキサゾール系化合物、
2−(p−ジエチルアミノスチリル)−6−ジエチ
ルアミノベンズチアゾールなどのチアゾール系化
合物、ビス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフ
エニル)フエニルメタンなどのトリアリールメタ
ン系化合物、1,1−ビス(4−N,N−ジエチ
ルアミノ−2−メチルフエニル)ヘプタン、1,
1,2,2−テトラキス(4−N,N−ジメチル
アミノ−2−メチルフエニル)エタンなどのポリ
アリールアルカン類、5−(4−ジフエニルアミ
ノベンジリデン)−5Hジベンゾ[a,d]シクロ
ヘプテン、1,2−ベンゾ−3−(d−フエニル
スチリル)−9−n−ブチルカルバゾールなどの
スチルベン化合物などを用いることができる。 本発明の電子写真感光体の作成方法を電荷発生
層上に電荷輸送層を積層する機能分離型感光体の
場合を例として説明する。 前記の電荷発生物質を0.3〜10倍量のバインダ
ー樹脂および溶剤と共にホモジナイザー、超音
波、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、
アトライター、ロールミルなどの方法でよく分散
する。この分散液を前記下引層を塗布した導電性
支持体上に塗布、乾燥し、0.1〜1μ程度の塗膜を
形成させる。 この例においては、表面層が電荷輸送層となる
のでここにフツ素系樹脂粉体を分散する。 即ち、バインダー樹脂、フツ素系樹脂粉体およ
びフツ素系グラフトポリマーを溶剤と共にホモジ
ナイザー、超音波、ボールミル、振動ボールミ
ル、サンドミル、アトライター、ロールミルなど
でよく分散し、これに電荷輸送物質とバインダー
樹脂の溶液を添加し、所望の電荷輸送層分散液を
調製する。 フツ素系グラフトポリマーはフツ素系樹脂粉体
分散時に添加するほうがフツ素系樹脂粉体の安定
性寄与の点で最も効果がある。 しかしながら、フツ素系樹脂粉体をあらかじめ
分散しておいて、その後、フツ素系グラフトポリ
マーを添加してもよい。 電荷輸送物質とバインダー樹脂との混合割合は
2:1〜1:4程度である。 溶剤としてはトルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素類、ジクロルメタン、クロルベンゼン、
クロロホルム、四塩化炭素などの塩素系炭化水素
類などが用いられる。 この溶液を塗布する際には、例えば浸漬コーテ
イング法、スプレーコーテイング法、スピンナー
コーテイング法、ビードコーテイング法、ブレー
ドコーテイング法、カーテンコーテイング法など
のコーテイング法を用いることができ、乾燥は10
〜200℃、好ましくは20〜150℃の範囲の温度で5
分〜5時間、好ましくは10分〜2時間の範囲で送
風乾燥または静止乾燥下で行なうことができる。
形成する電荷輸送層の膜厚は10〜30μ程度であ
る。 また電荷発生層を電荷輸送層上に塗設する感光
体の場合には電荷発生層が表面層になるので、こ
こにフツ素系グラフトポリマーで分散安定化され
たフツ素系樹脂粉体が含有される。 この電荷発生層分散液は、電荷発生層に用いる
バインダー樹脂中にフツ素系グラフトポリマーを
分散剤としてフツ素系樹脂粉体を分散させた分散
液を前述のように調製した電荷発生物質の分散液
に添加、混合する方法によつて調製することがで
き、この分散液を電荷輸送層上に塗布して本発明
の電子写真感光体を作成することができる。 感光層が保護層を有する場合には、保護層が感
光層の表面層となり、この保護層中にフツ素系グ
ラフトポリマーで安定化されたフツ素系樹脂粉体
が含有される。 この保護層は前述のように保護層を形成する樹
脂中にフツ素系グラフトポリマーで安定化された
フツ素系樹脂粉体の分散液を感光層上に塗布する
ことによつて形成することができる。 以下本発明を実施例によつて詳細に説明する。 [実施例] ◎ フツ素系グラフトポリマー(A−1)の合成 フツ素系グラフトポリマーの合成は、特開昭58
−164656号公報に開示されているチオグリコール
酸を連鎖移動剤とし、グリシジルメタクリレート
にて末端二重結合を導入するマクロマー合成法を
ベースにして実施した。 このマクロマーは非フツ素系セグメントである
ので、フツ素系重合性単量体と共重合を行い、フ
ツ素系グラフトポリマーを合成した。 (i) フツ素系グラフトポリマー No.1 (a) 末端メタクリレート型メチルメタクリレート
マクロマーの合成 攪拌機、還流冷却器、滴下ロート、温度計およ
びガス吹込口を取り付けたガラスフラスコにメチ
ルメタクリレート(以下、MMAと略記する)を
10部とアセトン(17.5%)−トルエン混合溶剤90
部を仕込み、N2導入後、還流下に重合開始剤と
してアゾビスイソブチロニトリル(以下、AIBN
と略記する)0.5部と連鎖移動剤としてチオグリ
コール酸0.35部を加えて重合を開始させた。その
後、5時間の間にMMA90部を連続的に滴下し、
またチオグリコール酸2.9部をトルエン10部に溶
解して、30分毎、9回に分けて追加、同様に
AIBN1.5部を1時間毎、4回に分けて追加し、
重合を行つた。 さらにその後、2時間還流して重合を終了し、
下記構造式(19)のポリマー溶液を得た。 反応温度は77〜87℃であつた。反応液の一部を
n−ヘキサンにて再沈、乾燥して酸価を測定した
ところ、0.350mg等量/gであつた。 次に上記反応液からのアセトンの一部を留去し
た後、触媒としてトリエチルアミン0.5%、重合
開始剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル
250ppmを添加し、酸価に対して1.2倍モルのグリ
シジルメタクリレートを加え、還流下(約110℃)
に12時間反応させた。酸価の減少から求めた反応
率は96%であつた。 反応液を10倍量のn−ヘキサン中に投入、再沈
させた後、80℃で減圧乾燥して、下記構造式(20)の
マクロモノマー85部を得た。ゲルパーミエーシヨ
ンクロマトグラフ(以下、GPCと略称する)に
よるポリスチレン換算分子量は、2780(数平均)
および6350(重量平均)であつた。 (b) フルオロアルキルアクリレート(幹)/メチ
ルメタクリレート(枝)−グラフトポリマーの
合成 (a)と同様の装置に上記構造式(20)のマクロマー70
部と下記構造式(21)のフルオロアルキルアクリレ
ート30部、トリフルオロトルエン(C6H5CF3)
300部、AIBNを0.35部を仕込み、N2導入、還流
下(100℃)に、5時間反応させた。 ただし、n=4〜12の混合物 (nの平均値は約7) この反応液を10倍量のメタノール中に投入、再
沈させ、80℃で減圧乾燥してグラフトポリマー65
部を得た。 このものはGPCにより単一のピークを示し、
ポリスチレン換算分子量は18500(数平均)および
29400(重量平均)であつた。 また内部標準物質としてトリフルオロトルエン
を加えて、CDC2溶媒にて’H−NMRスペク
トルを測定し、トリフルオロトルエンのHと、ポ
リマー中のMMA単位中の−O−CH3のHとのピ
ーク面積比から、グラフトポリマー中のMMA単
位の含有量を求めたところ60%であつた。残り40
%をフルオロアルキルアクリレートとした。 かくしてフツ素系セグメントの含有量が40%の
フツ素系グラフトポリマーを得た。 (ii) フツ素系グラフトポリマー No.2 No.3 フルオロアルキルアクリレートの仕込量を変え
て、上記(i)と同じ操作によりフツ素系セグメント
含有量21%(No.2)、61%(No.3)、分子量各々
24000、18000(数平均)のフツ素系グラフトポリ
マーを合成した。 (iii) フツ素系グラフトポリマー No.4 上記(i) においてメチルメタクリレートをスチ
レンに、フルオロアルキルアクリレートを下記構
造式(22)の2,3,5,6−テトラフルオロフエ
ニルメタクリルアミド に代えて(仕込量は二重結合濃度が同じになるよ
うに調製)、その他は(i)と同じ装置および操作に
より、フツ素系セグメント含有量25%、数平均分
子量36000のフツ素系グラフトポリマーを合成し
た。 このときのスチレンマクロマーの分子量は7000
であつた。 (iv) フツ素系グラフトポリマー No.5 上記(i)−(a)におけるチオグリコール酸に代えて
2−メルカプトエタノール2.4部を用い、他は(i)
−(a)と同様にして下記構造式(23)のポリマー溶液
を得た。 さらに、(i)−(a)と同様にしてグリシジルメタク
リレートと反応させマクロマーを合成した。
GPCによるポリスチレン換算分子量は3250(数平
均)および7800(重量平均)であつた。 次に(i)−(b)と同様にして幹がフルオロアルキル
アクリレート、枝がメチルメタクリレートのグラ
フトポリマーを合成した。 フツ素系セグメント含有量は30%、数平均分子
量32000であつた。 (v) フツ素系グラフトポリマー No.6 上記(i)−(a)におけるチオグリコール酸に代えて
2−アミノエチルメルカプタン2.4部を用い、メ
チルメタクリレートの代わりにスチレンを同量用
い、他は(i)−(a)と同様にして下記構造式(24)のポ
リマー溶液を得た。 次に(i)−(a)と同様にしてグリシジルメタクリレ
ートと反応させマクロマーを合成した。 GPCによるポリスチレン換算分子量は3450(数
平均)および7700(重量平均)であつた。 次に(i)−(b)と同様にして幹がフルオロアルキル
アクリレート、枝がメチルメタクリレートのグラ
フトポリマーを合成した。 フツ素系セグメント含有量は32%、数平均分子
量46000であつた。 ◎ フツ素系グラフトポリマー(B−1)の合成 フツ素系グラフトポリマーの合成は、特開昭58
−164656号公報に開示されているマクロマー合成
法や米国特許第3689593号明細書に開示されてい
る2−メルカプトエタノールを連鎖移動剤とし、
トリレンジイソシアナートおよび2−ヒドロキシ
エチルメタクリレートを用いて末端二重結合を導
入するマクロマー合成法をベースにして行つた。 このマクロマーは非フツ素系セグメントである
ので、フツ素系重合性単量体と共重合を行ない、
フツ素系グラフトポリマーを得た。 (vi) フツ素系グラフトポリマー No.7 (a) 末端メタクリレート型メチルメタクリレート
マクロマーの合成 攪拌機、還流冷却器、滴下ロート、温度計およ
びガス吹込口を取り付けたガラスフラスコに
MMA10部とアセトン(17.5%)−トルエン混合
溶剤85部を仕込み、N2導入後、還流下に重合開
始剤としてAIBNを0.5部と連鎖移動剤として2
−メルカプトエタノール0.27部を加えて重合を開
始させた。その後、5時間の間にMMA90部を連
続的に滴下し、また2−メルカプトエタノール
2.4部をトルエン8部に溶解して、30分毎、9回
に分けて追加、同様にAIBN1.5部を1.5時間毎、
3回に分けて追加し、重合を行つた。 さらにその後、2時間還流して重合を終了し、
前記構造式(23)のポリマー溶液を得た。 反応温度は77〜88℃であつた。 次に上記ポリマー溶液に2,4−トリレンジイ
ソシアナート6.0部、ジブチル錫ジラウレート
0.35部を添加し、78〜82℃で30分間反応を行い、
下記構造式(25)の末端イソシアナートポリマー溶
液を得た。 さらに2−ヒドロキシエチルメタクリレートを
4.45部添加し、78〜82℃で1時間反応を行なつ
た。 その後、反応液を10倍量のn−ヘキサン中に投
入、沈殿させた後、80℃で減圧乾燥して下記構造
式(26)のマクロマー94部を得た。 GPCによるポリスチレン換算分子量は3040(数
平均)および6850(重量平均)であつた。 (b) フルオロアルキルアクリレート(幹)/メチ
ルメタクリレート(枝)−グラフトポリマーの
合成 (a)と同様の装置に上記構造式(26)のマクロマー
を70部と前記構造式(21)のフルオロアルキルアク
リレート30部、トリフルオロトルエン(C6H5
CF3)300部、AIBN0.35部を仕込み、N2導入、
還流下(約100℃)に5時間反応させた。 この反応液を10倍量のメタノール中に投入、再
沈させ、80℃で減圧乾燥してグラフトポリマー62
部を得た。 このものはGPCにより単一のピークを示し、
ポリスチレン換算分子量は20500(数平均)および
32000(重量平均)であつた。 また内部標準物質としてトリフルオロトルエン
を加えてCDC2溶媒にて’H−NMRスペクト
ルを測定し、トリフルオロトルエンのHとポリマ
ー中のMMA単位中の−O−CH3とのピーク面積
比から、グラフトポリマー中のMMA単位の含有
量を求めたところ72%であつた。残り28%をフル
オロアルキルアクリレートとした。 かくしてフツ素系セグメントの含有量が28%の
フツ素系グラフトポリマーNo.7を得た。 (vii) その他のフツ素系グラフトポリマー 下記原料を用い、上記合成法に準じて各種フツ
素系グラフトポリマー(No.8〜10)を合成した。 フツ素系グラフトポリマー No.8 マクロマー構成成分 ビニルモノマ:スチレン 連鎖移動剤:2−メルカプトアミノエタン イソシアナート化合物:1,6−ヘキサメチレン
ジイソシアナート 末端ビニル導入モノマー:2−ヒドロキシエチル
メタクリレート 数平均分子量:2130 幹セグメント 構成ビニルモノマー:フルオロアルキルアクリレ
ート(No.1と同一品) フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:44200 フツ素系セグメント含有量:22wt% フツ素系グラフトポリマー No.9 マクロマー構成成分 ビニルモノマー:メチリメタクリレート/スチレ
ン(重量比20/80) 連鎖移動剤:3−メルカプトプロピオン酸 イソシアナート化合物:2.4−TDI 末端ビニル導入モノマー:メタクリル酸 数平均分子量:3170 幹セグメント 構成ビニルモノマー:2,3,4,5−テトラフ
ルオロフエニルメタクリレート フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:60800 フツ素系セグメント含有量:10wt% フツ素系グラフトポリマー No.10 マクロマー構成成分 ビニルモノマー:スチレン 連鎖移動剤:3−メルカプトエタノール イソシアナート化合物:4,4′−ジフエニルメタ
ンジイソシアナート 末端ビニル導入モノマー:2−アミノエチルメタ
クリレート 数平均分子量:6620 幹セグメント 構成ビニルモノマー:フルオロアルキルアクリル
アミド (n:4〜12の混合物、nの平均数約7) フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:84600 フツ素系セグメント含有量:28wt% ◎ フツ素系グラフトポリマー(C−1)の合成 フツ素系グラフトポリマーの合成は、米国特許
第3786116号明細書や米国特許第3928255号明細書
に開示されている不飽和二重結合を有する化合物
を停止剤として用いるアニオン重合方法によるマ
クロマー合成法をベースにして行なつた。これら
マクロマーとフツ素系重合性単量体との共重合か
ら、フツ素系グラフトポリマーが得られる。 (viii) フツ素系グラフトポリマーNo.11 (a) 末端ビニルスチレンマクロマーの合成 ステンレス製反応器に脱水処理したベンゼン80
部を入れる。40℃に昇温しジフエニルエチレンを
1滴添加する。t−ブチルリチウムの12%ペンタ
ン溶液を30ml、さらにスチレン321部を加え40
℃、30分間反応を行なう。 次いで、ビニル−2−クロロエチルエーテル
8mlを添加し、反応を停止させる。この反応液を
メタノール中に滴下し、ポリマーを再沈させる。 濾別後、80℃にて減圧乾燥し、下記の構造式(2
7)のスチレンマクロマーを得た。 GPCによるポリスチレン換算分子量は数平均
で8400であつた。 (b) フルオロアクリレート(幹)/スチレン
(枝)−グラフトポリマーの合成 攪拌機、還流冷却器、滴下ロート、温度計およ
びガス吹込口を取り付けたガラスフラスコに上記
構造式(27)のスチレンマクロマー70部と前記構造
式(21)のフルオロアクリレート30部、トリフルオ
ロトルエン(C6H5CF3)280部、AIBNを0.35部
を仕込み、N2導入後、還流下(約100℃)に5時
間反応させた。 この反応液を10倍量のメタノール中に投入、再
沈させ、80℃で減圧乾燥してグラフトポリマーを
得た。GPCによる分子量は数平均で48300であつ
た。 また内部標準としてトリフルオロトルエンをく
わえて、CDC2溶剤にて’H−NMRスペクト
ルを測定し、トリフルオロトルエンのHとポリマ
ー中のスチレン単位中の芳香環のHとのピーク面
積比からグラフトポリマー中のスチレン単位の含
有量を求めたところ、72%であつた。 残り28%をフルオロアルキルアクリレートとし
た。 かくしてフツ素系セグメントの含有量が28%の
フツ素系グラフトポリマーNo.11を得た。 (ix) その他のフツ素系グラフトポリマー 下記原料を用い、上記合成法に準じて各種フツ
素系グラフトポリマー(No.12〜16)を合成した。 フツ素系グラフトポリマー No.12 マクロマー構成成分 ビニルモノマー:α−メチルスチレン 停止剤:CH2=CHOCH2CH2C 数平均分子量:4370 幹セグメント 構成フツ素系ビニルモノマー:フルオロアルキル
アクリレート フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:56300 フツ素系セグメント含有量:24wt% フツ素系グラフトポリマー No.13 マクロマー構成成分 ビニルモノマー:α−シアノエチルアクリレート 停止剤:
【式】
数平均分子量:6480
幹セグメント
構成フツ素系ビニルモノマー:フルオロアルキル
アクリレート (No.1と同一品) フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:72500 フツ素系セグメント含有量:41wt% フツ素系グラフトポリマー No.14 マクロマー構成成分 ビニルモノマー:スチレン 停止剤:
アクリレート (No.1と同一品) フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:72500 フツ素系セグメント含有量:41wt% フツ素系グラフトポリマー No.14 マクロマー構成成分 ビニルモノマー:スチレン 停止剤:
【式】
数平均分子量:2410
幹セグメント
構成フツ素系ビニルモノマー:2,3,5,6−
テトラフルオロフエニルメタクリレート(前出) フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:28600 フツ素系セグメント含有量:18wt% フツ素系グラフトポリマー No.15 マクロマー構成成分 ビニルモノマー:α−メチルスチレン 停止剤:
テトラフルオロフエニルメタクリレート(前出) フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:28600 フツ素系セグメント含有量:18wt% フツ素系グラフトポリマー No.15 マクロマー構成成分 ビニルモノマー:α−メチルスチレン 停止剤:
【式】
数平均分子量:3850
幹セグメント
構成フツ素系ビニルモノマー:フルオロアルキル
アクリルアミド(前出) フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:49400 フツ素系セグメント含有量:12wt% フツ素系グラフトポリマー No.16 マクロマー構成成分 ビニルモノマー:メチルメタクリレート 停止剤:
アクリルアミド(前出) フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:49400 フツ素系セグメント含有量:12wt% フツ素系グラフトポリマー No.16 マクロマー構成成分 ビニルモノマー:メチルメタクリレート 停止剤:
【式】
数平均分子量:2870
幹セグメント
構成フツ素系ビニルモノマー:フルオロアルキル
ビニルエーテル (n:4〜12の混合物、nの平均値約7) フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:38600 フツ素系セグメント含有量:37wt% 実施例 1 80mmφ×300mmのアルミニウムシリンダーを導
電性支持体とし、これにポリアミド(商品名アミ
ランCM−4000、東レ(株)製)の5%メタノール溶
液を浸漬塗布し、1μ厚の下引層を設けた。 次に下記構造式のジスアゾ顔料を10部(重量
部、以下同様)、 ポリビニルブチラール(商品名エスレツクBM
−2、積水化学(株)製)5部およびシクロヘキサノ
ン50部を1mmφガラスビーズを用いたサンドミル
で20時間分散した。この分散液にメチルエチルケ
トン70〜120(適宜)部を加えて、前記下引層上に
塗布し、膜厚0.20μの電荷発生層を形成した。 次にポリメチルメタクリレート(商品名ダイヤ
ナールBR−85,三菱レーヨン(株)製)10部、ポリ
四フツ化エチレン(商品名ルブロンL−2、ダイ
キン工業(株)製)10部および前記フツ素系グラフト
ポリマーNo.1の0.5部をモノクロルベンゼン40部、
テトラヒドロフラン30部中に溶解し、ステンレス
製ボールミルにて48時間分散した。得られた分散
液10部に対して、下記構造式のヒドラゾン化合物
10部と 上記ポリメチルメタクリレート10部をモノクロ
ベンゼン60部に溶解した樹脂溶液70部を混合し、
電荷輸送層溶液を調製した。 また前記フツ素系グラフトポリマーNo.7、同No.
11を用いて前記と同様に電荷輸送層溶液をそれぞ
れ調製した。 この電荷輸送層溶液中のポリ四フツ化エチレン
粉体の平均粒径は粒度分布測定機(CAPA−500、
(株)堀場製作所製)による測定の結果、それぞれ、
0.45μ、0.46μ、0.48μであつた。 この溶液を上記電荷発生層上に塗布し、110℃、
90分間熱風乾燥して、18μの電荷輸送層を形成し
た。 こうして作成した電子写真感光体をそれぞれ、
試料1、試料2、試料3とする。 上記各試料の電荷輸送層表面は均一で平滑であ
つた。この表面層の平均面粗さは、0.2μ以下であ
り、フツ素系樹脂粉体が含有されていない電荷輸
送材料とバインダー樹脂から形成される電荷輸送
層表面の平均面粗さと同等であつた。 比較のため、フツ素系グラフトポリマーを添加
しない材料を用い、他は上記と同様にして電子写
真感光体を作成した。これを試料(比較)4とす
る。 試料4は、表面層のポリ四フツ化エチレン粉体
の凝集が甚だしく、画像評価に値しない状態であ
つた。 一方、ポリ四フツ化エチレンとフツ素系グラフ
トポリマーを添加せず、他は上記と同様にして電
子写真感光体を作成した。これを試料(比較)5
とする。 上記各試料に対して、−5.5KVコロナ帯電、画
像露光、乾式トナー現像、普通紙への転写、シリ
コーンゴムクリーニングローラー、ウレタンゴム
ブレード、前露光からなる電子写真プロセスにて
30000枚の耐久性評価を行なつた。結果を示す。
ビニルエーテル (n:4〜12の混合物、nの平均値約7) フツ素系グラフトポリマーの物性 数平均分子量:38600 フツ素系セグメント含有量:37wt% 実施例 1 80mmφ×300mmのアルミニウムシリンダーを導
電性支持体とし、これにポリアミド(商品名アミ
ランCM−4000、東レ(株)製)の5%メタノール溶
液を浸漬塗布し、1μ厚の下引層を設けた。 次に下記構造式のジスアゾ顔料を10部(重量
部、以下同様)、 ポリビニルブチラール(商品名エスレツクBM
−2、積水化学(株)製)5部およびシクロヘキサノ
ン50部を1mmφガラスビーズを用いたサンドミル
で20時間分散した。この分散液にメチルエチルケ
トン70〜120(適宜)部を加えて、前記下引層上に
塗布し、膜厚0.20μの電荷発生層を形成した。 次にポリメチルメタクリレート(商品名ダイヤ
ナールBR−85,三菱レーヨン(株)製)10部、ポリ
四フツ化エチレン(商品名ルブロンL−2、ダイ
キン工業(株)製)10部および前記フツ素系グラフト
ポリマーNo.1の0.5部をモノクロルベンゼン40部、
テトラヒドロフラン30部中に溶解し、ステンレス
製ボールミルにて48時間分散した。得られた分散
液10部に対して、下記構造式のヒドラゾン化合物
10部と 上記ポリメチルメタクリレート10部をモノクロ
ベンゼン60部に溶解した樹脂溶液70部を混合し、
電荷輸送層溶液を調製した。 また前記フツ素系グラフトポリマーNo.7、同No.
11を用いて前記と同様に電荷輸送層溶液をそれぞ
れ調製した。 この電荷輸送層溶液中のポリ四フツ化エチレン
粉体の平均粒径は粒度分布測定機(CAPA−500、
(株)堀場製作所製)による測定の結果、それぞれ、
0.45μ、0.46μ、0.48μであつた。 この溶液を上記電荷発生層上に塗布し、110℃、
90分間熱風乾燥して、18μの電荷輸送層を形成し
た。 こうして作成した電子写真感光体をそれぞれ、
試料1、試料2、試料3とする。 上記各試料の電荷輸送層表面は均一で平滑であ
つた。この表面層の平均面粗さは、0.2μ以下であ
り、フツ素系樹脂粉体が含有されていない電荷輸
送材料とバインダー樹脂から形成される電荷輸送
層表面の平均面粗さと同等であつた。 比較のため、フツ素系グラフトポリマーを添加
しない材料を用い、他は上記と同様にして電子写
真感光体を作成した。これを試料(比較)4とす
る。 試料4は、表面層のポリ四フツ化エチレン粉体
の凝集が甚だしく、画像評価に値しない状態であ
つた。 一方、ポリ四フツ化エチレンとフツ素系グラフ
トポリマーを添加せず、他は上記と同様にして電
子写真感光体を作成した。これを試料(比較)5
とする。 上記各試料に対して、−5.5KVコロナ帯電、画
像露光、乾式トナー現像、普通紙への転写、シリ
コーンゴムクリーニングローラー、ウレタンゴム
ブレード、前露光からなる電子写真プロセスにて
30000枚の耐久性評価を行なつた。結果を示す。
【表】
で
表面にトナー融着 流れ発生
実施例 2 80mmφ×300mmのアルミニウムシリンダーを導
電性支持体とし、これにポリアミド(商品名アミ
ランCM−8000、東レ(株)製)の5%メタノール溶
液を浸漬塗布し、1μ厚の下引層を設けた。 次に実施例1と同じ材料および方法にて電荷発
生層を形成した。 次に、ビスフエノールZ型ポリカーボネート
(三菱ガス化学(株)製)10部、ポリフツ化ビニリデ
ン(商品名カイナK−301F、ベンワルド社製)
20部および前記フツ素系グラフトポリマーNo.4の
3部をシクロヘキサノン50部、テトラヒドロフラ
ン20部中に溶解し、1mmφガラスビーズを用いた
サンドミルにて20時間分散した。 得られた分散液10部に対して、下記構造式のヒ
ドラゾン化合物12部と 上記ビスフエノールZ型ポリカーボネート10部
をシクロヘキサノン40部、テトラヒドロフラン20
部中に溶解した樹脂溶液70部を混合し、電荷輸送
層溶液を調製した。 また前記フツ素系グラフトポリマーNo.8、同No.
12を用いて前記と同様に電荷輸送層溶液をそれぞ
れ調製した。 この電荷輸送層溶液中のポリフツ化ビニリデン
粉体の平均粒径は、それぞれ、0.42μ、0.45μ、
0.48μであつた。 この溶液を上記電荷発生層上に塗布し、110℃、
90分間熱風乾燥して、20μの電荷輸送層を形成し
た。 こうして作成した電子写真感光体をそれぞれ、
試料6、試料7、試料8とする。 表面粗さは、0.2μ以下であつた。 比較のため、フツ素系グラフトポリマーを添加
しない材料を用い、他は上記と同様にして電子写
真感光体を作成した。これを試料(比較)9とす
る。 試料9は、表面層のポリフツ化ビニリデン粉体
の凝集が甚だしく、画像評価に値しない状態であ
つた。 一方、ポリフツ化ビニリデンとフツ素系グラフ
トポリマーを添加せず、他は上記と同様にして電
子写真感光体を作成した。これを試料(比較)10
とする。 上記各試料に対して、−5.5KVコロナ帯電、画
像露光、乾式トナー現像、普通紙への転写、ウレ
タンゴムブレードによるクリーニングおよびシリ
コーンゴムクリーニングローラー、前露光からな
る電子写真プロセスにて30000枚の耐久性評価を
行なつた。結果を示す。
表面にトナー融着 流れ発生
実施例 2 80mmφ×300mmのアルミニウムシリンダーを導
電性支持体とし、これにポリアミド(商品名アミ
ランCM−8000、東レ(株)製)の5%メタノール溶
液を浸漬塗布し、1μ厚の下引層を設けた。 次に実施例1と同じ材料および方法にて電荷発
生層を形成した。 次に、ビスフエノールZ型ポリカーボネート
(三菱ガス化学(株)製)10部、ポリフツ化ビニリデ
ン(商品名カイナK−301F、ベンワルド社製)
20部および前記フツ素系グラフトポリマーNo.4の
3部をシクロヘキサノン50部、テトラヒドロフラ
ン20部中に溶解し、1mmφガラスビーズを用いた
サンドミルにて20時間分散した。 得られた分散液10部に対して、下記構造式のヒ
ドラゾン化合物12部と 上記ビスフエノールZ型ポリカーボネート10部
をシクロヘキサノン40部、テトラヒドロフラン20
部中に溶解した樹脂溶液70部を混合し、電荷輸送
層溶液を調製した。 また前記フツ素系グラフトポリマーNo.8、同No.
12を用いて前記と同様に電荷輸送層溶液をそれぞ
れ調製した。 この電荷輸送層溶液中のポリフツ化ビニリデン
粉体の平均粒径は、それぞれ、0.42μ、0.45μ、
0.48μであつた。 この溶液を上記電荷発生層上に塗布し、110℃、
90分間熱風乾燥して、20μの電荷輸送層を形成し
た。 こうして作成した電子写真感光体をそれぞれ、
試料6、試料7、試料8とする。 表面粗さは、0.2μ以下であつた。 比較のため、フツ素系グラフトポリマーを添加
しない材料を用い、他は上記と同様にして電子写
真感光体を作成した。これを試料(比較)9とす
る。 試料9は、表面層のポリフツ化ビニリデン粉体
の凝集が甚だしく、画像評価に値しない状態であ
つた。 一方、ポリフツ化ビニリデンとフツ素系グラフ
トポリマーを添加せず、他は上記と同様にして電
子写真感光体を作成した。これを試料(比較)10
とする。 上記各試料に対して、−5.5KVコロナ帯電、画
像露光、乾式トナー現像、普通紙への転写、ウレ
タンゴムブレードによるクリーニングおよびシリ
コーンゴムクリーニングローラー、前露光からな
る電子写真プロセスにて30000枚の耐久性評価を
行なつた。結果を示す。
【表】
ー
融着 流れ発生
実施例 3 実施例1で用いたヒドラゾン化合物10部とスチ
レン/メチルメタクリレート共重合体(商品名エ
スチレンMS−200、新日本製鉄(株)製)10部をモ
ノクロルベンゼン60部に溶解した。 この溶液を実施例1と同様にして下引層を塗工
した80mmφ×300mmのアルミニウムシリンダー上
に浸漬塗布し、100℃で1時間の乾燥をして、
12μ厚の電荷輸送層を形成した。 次に下記構造式のジスアゾ顔料を10部、 ポリ三フツ化塩化エチレン(ダイキン工業(株)
製)5部およびこの分散液にメチルエチルケトン
70〜120(適宜)部を加えて、前記電荷輸送層上に
塗布し、膜厚0.20μの電荷発生層を形成した。次
にポリメチルメタクリレート(商品名ダイヤナー
ルBR−85、三菱レーヨン(株)製)10部、ポリ四フ
ツ化エチレン(商品名ルブロンL−2、ダイキン
工業(株)製)10部および前記フツ素系グラフトポリ
マーNo.2の1部を上記スチレン/メチルメタクリ
レート共重合体の10wt%シクロヘキサノン溶液
100部の中へ添加し、ステンレス製ボールミルに
て50時間分散した。この溶液を上記電荷発生層上
に突き上げ塗布して、100℃、20分間乾燥して、
2μ厚の保護層を形成した。 また前記フツ素系グラフトポリマーNo.9、同No.
13を用いて前記と同様に保護層を形成した。 この保護層溶液中のポリ三フツ化エチレン粉体
の平均粒径は、それぞれ、0.52μ、0.50μ、0.54μで
あつた。 こうして作成した電子写真感光体をそれぞれ、
試料11、試料12、試料13とする。 表面粗さは、0.2μ以下であつた。 比較のため、フツ素系グラフトポリマーを添加
しない材料を用い、他は上記と同様にして電子写
真感光体を作成した。これを試料(比較)14とす
る。 試料14は、表面層のポリ三フツ化エチレン粉体
の凝集が甚だしく、画像評価に値しない状態であ
つた。 一方、ポリ三フツ化エチレンとフツ素系グラフ
トポリマーを添加せず、他は上記と同様にして電
子写真感光体を作成した。 これを試料(比較)15とする。 各試料を、+5.5KVコロナ帯電、画像露光、乾
式トナー現像、普通紙への転写、ウレタンゴムブ
レードによるクリーニング工程、前露光を有する
電子写真複写機に取り付けて10000枚の耐久性評
価を行なつた。結果を示す。
融着 流れ発生
実施例 3 実施例1で用いたヒドラゾン化合物10部とスチ
レン/メチルメタクリレート共重合体(商品名エ
スチレンMS−200、新日本製鉄(株)製)10部をモ
ノクロルベンゼン60部に溶解した。 この溶液を実施例1と同様にして下引層を塗工
した80mmφ×300mmのアルミニウムシリンダー上
に浸漬塗布し、100℃で1時間の乾燥をして、
12μ厚の電荷輸送層を形成した。 次に下記構造式のジスアゾ顔料を10部、 ポリ三フツ化塩化エチレン(ダイキン工業(株)
製)5部およびこの分散液にメチルエチルケトン
70〜120(適宜)部を加えて、前記電荷輸送層上に
塗布し、膜厚0.20μの電荷発生層を形成した。次
にポリメチルメタクリレート(商品名ダイヤナー
ルBR−85、三菱レーヨン(株)製)10部、ポリ四フ
ツ化エチレン(商品名ルブロンL−2、ダイキン
工業(株)製)10部および前記フツ素系グラフトポリ
マーNo.2の1部を上記スチレン/メチルメタクリ
レート共重合体の10wt%シクロヘキサノン溶液
100部の中へ添加し、ステンレス製ボールミルに
て50時間分散した。この溶液を上記電荷発生層上
に突き上げ塗布して、100℃、20分間乾燥して、
2μ厚の保護層を形成した。 また前記フツ素系グラフトポリマーNo.9、同No.
13を用いて前記と同様に保護層を形成した。 この保護層溶液中のポリ三フツ化エチレン粉体
の平均粒径は、それぞれ、0.52μ、0.50μ、0.54μで
あつた。 こうして作成した電子写真感光体をそれぞれ、
試料11、試料12、試料13とする。 表面粗さは、0.2μ以下であつた。 比較のため、フツ素系グラフトポリマーを添加
しない材料を用い、他は上記と同様にして電子写
真感光体を作成した。これを試料(比較)14とす
る。 試料14は、表面層のポリ三フツ化エチレン粉体
の凝集が甚だしく、画像評価に値しない状態であ
つた。 一方、ポリ三フツ化エチレンとフツ素系グラフ
トポリマーを添加せず、他は上記と同様にして電
子写真感光体を作成した。 これを試料(比較)15とする。 各試料を、+5.5KVコロナ帯電、画像露光、乾
式トナー現像、普通紙への転写、ウレタンゴムブ
レードによるクリーニング工程、前露光を有する
電子写真複写機に取り付けて10000枚の耐久性評
価を行なつた。結果を示す。
【表】
流れ発生
実施例 4 アルミニウムクロライドフタロシアニン1部、
ポリサルホン(商品名コーデルポリサルホンP−
3500、日産化学(株)製)10部、ポリ四フツ化エチレ
ン/六フツ化プロピレン共重合体(ダイキン工業
(株)製)7部および前記フツ素系グラフトポリマー
No.3の2部をモノクロルベンゼン40部、テトラヒ
ドロフラン10部と共に1mmφガラスビーズを用い
たサンドミルにて20時間分散し、これに実施例2
で用いたピラゾリン化合物6部を添加した溶液を
調製した。 また前記フツ素系グラフトポリマーNo.10、同No.
14を用いて前記と同様に溶液を調製した。 この溶液のポリ四フツ化エチレン/六フツ化プ
ロピレン共重合体粉体の平均粒径は、それぞれ
0.38μ、0.46μ、0.48μであつた。 この溶液を、実施例2と同様にして下引層を塗
布した80mmφ×300mmのアルミニウムシリンダー
上に浸漬塗布、乾燥して、14μの感光層を設け
た。表面粗さは0.2μ以下であつた。 作成した電子写真感光体をそれぞれ、試料16、
試料17、試料18とする。 比較のため、フツ素系グラフトポリマーを添加
しない材料を用い、他は上記と同様にして電子写
真感光体を作成した。これを試料(比較)19とす
る。 試料19は、表面層のポリ四フツ化エチレン/六
フツ化プロピレン共重合体粉体の凝集が甚だし
く、画像評価に値しない状態であつた。 一方、ポリ四フツ化エチレン/六フツ化プロピ
レン共重合体粉体とフツ素系グラフトポリマーを
添加せず、他は上記と同様にして電子写真感光体
を作成した。 これを試料(比較)20とする。 上記各試料に対して、−5.5KVコロナ帯電、画
像露光、乾式トナー現像、普通紙への転写、ウレ
タンゴムブレードによるクリーニング工程、前露
光からなる電子写真プロセスにて、10000枚の耐
久性評価を行なつた。結果を示す。
流れ発生
実施例 4 アルミニウムクロライドフタロシアニン1部、
ポリサルホン(商品名コーデルポリサルホンP−
3500、日産化学(株)製)10部、ポリ四フツ化エチレ
ン/六フツ化プロピレン共重合体(ダイキン工業
(株)製)7部および前記フツ素系グラフトポリマー
No.3の2部をモノクロルベンゼン40部、テトラヒ
ドロフラン10部と共に1mmφガラスビーズを用い
たサンドミルにて20時間分散し、これに実施例2
で用いたピラゾリン化合物6部を添加した溶液を
調製した。 また前記フツ素系グラフトポリマーNo.10、同No.
14を用いて前記と同様に溶液を調製した。 この溶液のポリ四フツ化エチレン/六フツ化プ
ロピレン共重合体粉体の平均粒径は、それぞれ
0.38μ、0.46μ、0.48μであつた。 この溶液を、実施例2と同様にして下引層を塗
布した80mmφ×300mmのアルミニウムシリンダー
上に浸漬塗布、乾燥して、14μの感光層を設け
た。表面粗さは0.2μ以下であつた。 作成した電子写真感光体をそれぞれ、試料16、
試料17、試料18とする。 比較のため、フツ素系グラフトポリマーを添加
しない材料を用い、他は上記と同様にして電子写
真感光体を作成した。これを試料(比較)19とす
る。 試料19は、表面層のポリ四フツ化エチレン/六
フツ化プロピレン共重合体粉体の凝集が甚だし
く、画像評価に値しない状態であつた。 一方、ポリ四フツ化エチレン/六フツ化プロピ
レン共重合体粉体とフツ素系グラフトポリマーを
添加せず、他は上記と同様にして電子写真感光体
を作成した。 これを試料(比較)20とする。 上記各試料に対して、−5.5KVコロナ帯電、画
像露光、乾式トナー現像、普通紙への転写、ウレ
タンゴムブレードによるクリーニング工程、前露
光からなる電子写真プロセスにて、10000枚の耐
久性評価を行なつた。結果を示す。
【表】
融着 像流れ発生
実施例 5 ビスフエノールZ型ポリカーボネート(前出)
10部およびポリフツ化ビニル(ダイキン工業(株)
製)20部および前記フツ素系グラフトポリマーNo.
15の3部を用いて実施例2と同様にして分散液を
調製した。 得られた分散液90部に対し、上記ポリカーボネ
ート20部をシクロヘキサノン40部、テトラヒドロ
フラン20部中に溶解した樹脂溶液70部を混合し、
保護層溶液を調製した。 この溶液中のポリフツ化ビニル粉体の平均粒径
は、0.48μであつた。 この保護層溶液を実施例2で作成した試料(比
較)10の表面層上に突き上げ塗布し、100℃、30
分間熱風乾燥して、3μの保護層を形成した。表
面粗さは0.2μ以下であつた。 上記作成された電子写真感光体を、試料21とす
る。 試料21を実施例2と同様にして30000枚の耐久
試験を行なつたが、23℃、55%R.H、32.5℃、90
%R.Hとも30000枚まで高品位で安定な画像が得
られた。 実施例 6 ポリメチルメタクリレート(商品名ダイヤナー
ルBR−85、三菱レーヨン(株)製)6部、ポリ二フ
ツ化二塩化エチレン(ダイキン工業(株)製)10部お
よび前記フツ素系グラフトポリマーNo.5の0.5部
をモノクロルベンゼン40部、テトラヒドロフラン
30部中に溶解し、ステンレス製ボールミルにて48
時間分散した。 得られた分散液に対し、実施例1で用いたヒド
ラゾン化合物6部を溶解し、電荷輸送層溶液を調
製した。 この電荷輸送層溶液を実施例1と同様にして形
成した電荷発生層上に塗布し、電子写真感光体を
作成した。電荷輸送層溶液中のポリ二フツ化二塩
化エチレン粉体の平均粒径は0.48μであり、形成
された電荷輸送層表面は均一かつ平滑で、平均面
粗さは0.2μ以下であつた。 これを試料22とする。 この試料22を実施例1と同様にして30000枚の
耐久試験を行なつたが、23℃、55%R.H、32.5
℃、90%R.Hとも30000枚まで高品位で安定な画
像が得られた。 実施例 7 フツ素系グラフトポリマーNo.4に代えて、前記
フツ素系グラフトポリマーNo.6を、ポリフツ化ビ
ニリデンに代えて、フツ化ビニリデン/六フツ化
プロピレン共重合体を用いた他は、実施例2と全
く同様の方法で電子写真感光体を作成した。 電荷輸送層溶液中のフツ化ビニリデン/六フツ
化プロピレン共重合体粉体の平均粒径は0.49μで
あり、形成された電荷輸送層表面は均一かつ平滑
で、平均面粗さは0.2μm以下であつた。 これを試料23とする。 この試料23を実施例2と同様にして30000枚の
耐久試験を行なつたが、23℃、55%R.H、32.5
℃、90%R.Hとも30000枚まで高品位で安定な画
像が得られた。 次に同一の材料を用い、フツ化ビニリデン/六
フツ化プロピレン共重合体の含有量が0.5wt%お
よび60wt%の電荷輸送層溶液を調製し、上記同
様に電子写真感光体を作成し、耐久性評価を行な
つた。 その結果は、フツ化ビニリデン/六フツ化プロ
ピレン共重合体の含有量が0.5wt%の電子写真感
光体は、23℃、55%R.H耐久では6500枚でトナー
融着が発生し、32.5℃、90%R.H耐久では5000枚
から画像流れが発生した。 一方、上記共重合体含有量が60wt%の電子写
真感光体は、上記両環境条件とも30000枚までト
ナー融着や画像流れは発生しなかつたが、キヤリ
アの移動性低下による明部電位の増加に伴なう黒
カブリが、10000枚程度から発生した。 [発明の効果] 本発明の電子写真感光体は、フツ素系樹脂粉体
とフツ素系グラフトポリマーを表面層に含有せし
めたことにより、フツ素系樹脂粉体が均一に分散
され、その分散安定性が向上しているため、常に
均一な表面層が得られ、その結果、初期画像は勿
論のこと、繰り返し耐久後も傷や画像流れが発生
せず、常に高品位の画像を得ることができる。
融着 像流れ発生
実施例 5 ビスフエノールZ型ポリカーボネート(前出)
10部およびポリフツ化ビニル(ダイキン工業(株)
製)20部および前記フツ素系グラフトポリマーNo.
15の3部を用いて実施例2と同様にして分散液を
調製した。 得られた分散液90部に対し、上記ポリカーボネ
ート20部をシクロヘキサノン40部、テトラヒドロ
フラン20部中に溶解した樹脂溶液70部を混合し、
保護層溶液を調製した。 この溶液中のポリフツ化ビニル粉体の平均粒径
は、0.48μであつた。 この保護層溶液を実施例2で作成した試料(比
較)10の表面層上に突き上げ塗布し、100℃、30
分間熱風乾燥して、3μの保護層を形成した。表
面粗さは0.2μ以下であつた。 上記作成された電子写真感光体を、試料21とす
る。 試料21を実施例2と同様にして30000枚の耐久
試験を行なつたが、23℃、55%R.H、32.5℃、90
%R.Hとも30000枚まで高品位で安定な画像が得
られた。 実施例 6 ポリメチルメタクリレート(商品名ダイヤナー
ルBR−85、三菱レーヨン(株)製)6部、ポリ二フ
ツ化二塩化エチレン(ダイキン工業(株)製)10部お
よび前記フツ素系グラフトポリマーNo.5の0.5部
をモノクロルベンゼン40部、テトラヒドロフラン
30部中に溶解し、ステンレス製ボールミルにて48
時間分散した。 得られた分散液に対し、実施例1で用いたヒド
ラゾン化合物6部を溶解し、電荷輸送層溶液を調
製した。 この電荷輸送層溶液を実施例1と同様にして形
成した電荷発生層上に塗布し、電子写真感光体を
作成した。電荷輸送層溶液中のポリ二フツ化二塩
化エチレン粉体の平均粒径は0.48μであり、形成
された電荷輸送層表面は均一かつ平滑で、平均面
粗さは0.2μ以下であつた。 これを試料22とする。 この試料22を実施例1と同様にして30000枚の
耐久試験を行なつたが、23℃、55%R.H、32.5
℃、90%R.Hとも30000枚まで高品位で安定な画
像が得られた。 実施例 7 フツ素系グラフトポリマーNo.4に代えて、前記
フツ素系グラフトポリマーNo.6を、ポリフツ化ビ
ニリデンに代えて、フツ化ビニリデン/六フツ化
プロピレン共重合体を用いた他は、実施例2と全
く同様の方法で電子写真感光体を作成した。 電荷輸送層溶液中のフツ化ビニリデン/六フツ
化プロピレン共重合体粉体の平均粒径は0.49μで
あり、形成された電荷輸送層表面は均一かつ平滑
で、平均面粗さは0.2μm以下であつた。 これを試料23とする。 この試料23を実施例2と同様にして30000枚の
耐久試験を行なつたが、23℃、55%R.H、32.5
℃、90%R.Hとも30000枚まで高品位で安定な画
像が得られた。 次に同一の材料を用い、フツ化ビニリデン/六
フツ化プロピレン共重合体の含有量が0.5wt%お
よび60wt%の電荷輸送層溶液を調製し、上記同
様に電子写真感光体を作成し、耐久性評価を行な
つた。 その結果は、フツ化ビニリデン/六フツ化プロ
ピレン共重合体の含有量が0.5wt%の電子写真感
光体は、23℃、55%R.H耐久では6500枚でトナー
融着が発生し、32.5℃、90%R.H耐久では5000枚
から画像流れが発生した。 一方、上記共重合体含有量が60wt%の電子写
真感光体は、上記両環境条件とも30000枚までト
ナー融着や画像流れは発生しなかつたが、キヤリ
アの移動性低下による明部電位の増加に伴なう黒
カブリが、10000枚程度から発生した。 [発明の効果] 本発明の電子写真感光体は、フツ素系樹脂粉体
とフツ素系グラフトポリマーを表面層に含有せし
めたことにより、フツ素系樹脂粉体が均一に分散
され、その分散安定性が向上しているため、常に
均一な表面層が得られ、その結果、初期画像は勿
論のこと、繰り返し耐久後も傷や画像流れが発生
せず、常に高品位の画像を得ることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 導電性支持体上に感光層を有する電子写真感
光体において、該感光体の表面層がフツ素系樹脂
粉体とフツ素系グラフトポリマーを含有し、該フ
ツ素系樹脂粉体の含有量が表面層固形分重量に基
づいて1〜50重量%であり、該フツ素系グラフト
ポリマーが片末端に重合性官能基を有し、かつ一
定の繰り返し単位を有する非フツ素系オリゴマー
とフツ素系重合性単量体との共重合体であること
を特徴とする電子写真感光体。 2 前記フツ素系樹脂粉体が四フツ化エチレン樹
脂、三フツ化塩化エチレン樹脂、四フツ化エチレ
ン六フツ化プロピレン樹脂、フツ化ビニル樹脂、
フツ化ビニリデン樹脂、二フツ化二塩化エチレン
樹脂およびそれらの共重合体から選ばれたもので
ある特許請求の範囲第1項記載の電子写真感光
体。 3 前記フツ素系樹脂粉体が四フツ化エチレン樹
脂およびフツ化ビニリデン樹脂から選ばれたもの
である特許請求の範囲第2項記載の電子写真感光
体。 4 前記フツ素系樹脂粉体が四フツ化エチレン樹
脂である特許請求の範囲第3項記載の電子写真感
光体。 5 前記フツ素系グラフトポリマーの添加量がフ
ツ素系樹脂粉体に対して0.1〜30重量%である特
許請求の範囲第1項記載の電子写真感光体。 6 前記表面層のバインダー樹脂がポリメチルメ
タクリレートおよびポリカーボネートから選ばれ
たものである特許請求の範囲第1項記載の電子写
真感光体。 7 前記感光層が電荷発生層と電荷輸送層の積層
構造を有しており、かつ電荷発生層の上に電荷輸
送層が積層されている特許請求の範囲第1項記載
の電子写真感光体。 8 前記感光層が電荷発生層と電荷輸送層の積層
構造を有しており、かつ電荷輸送層の上に電荷発
生層が積層されている特許請求の範囲第1項記載
の電子写真感光体。 9 前記感光層が表面層として保護層を有する特
許請求の範囲第1項記載の電子写真感光体。 10 前記非フツ素系オリゴマーの分子量が1000
〜10000であり、前記フツ素系グラフトポリマー
の分子量が10000〜100000である特許請求の範囲
第1項記載の電子写真感光体。 11 前記非フツ素系オリゴマーが一般式() 一般式() {式中、R1は水素原子、アルキル基、ハロゲ
ン原子、ハロゲン置換アルキル基、アリール基を
示し、A1はアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキ
レン鎖を示し、A2は【式】 【式】【式】 (式中、R2〜R11は水素原子、アルキル基、ハ
ロゲン置換アルキル基を示す)を示し、A3はア
ルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖を示し、
A4は低分子量直鎖状不飽和炭化水素、ハロゲン
化ビニル、有機酸のビニルエステル、ビニル芳香
族化合物、アクリル酸およびメタクリル酸エステ
ル類、N−ビニル化合物、ビニルケイ素化合物、
無水マレイン酸、マレイン酸およびフマル酸のエ
ステル類からなる群より選ばれる重合性単量体の
1種および2種以上が重合した繰り返し単位ユニ
ツトを示し、aは正の整数を示す。} で示され、前記フツ素系重合性単量体が、フツ素
置換低分子量直鎖状不飽和炭化水素、フツ素置換
ハロゲン化ビニル、フツ素置換有機酸のビニルエ
ステル、フツ素置換アルキルビニルエーテル、ア
クリル酸およびメタクリル酸のフツ素置換アルキ
ルエステルおよびアミド、アクリル酸およびメタ
クリル酸のフツ素置換芳香族含有エステルおよび
アミド、フツ化無水マレイン酸、マレイン酸およ
びフマル酸のフツ素置換アルキルエステル、α−
フツ化スチレンおよびα,β,β−フツ化スチレ
ンからなる群より選ばれる特許請求の範囲第1項
記載の電子写真感光体。 12 前記非フツ素系オリゴマーが一般式() 一般式() [式中、R12は水素原子、アルキル基、ハロゲ
ン原子、ハロゲン置換アルキル基を示し、A3は
アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖を示
し、、A4は低分子量直鎖状不飽和炭化水素、ハロ
ゲン化ビニル、有機酸のビニルエステル、ビニル
芳香族化合物、アクリル酸およびメタクリル酸エ
ステル類、N−ビニル化合物、ビニルケイ素化合
物、無水マレイン酸、マレイン酸およびフマル酸
のエステル類からなる群より選ばれる重合性単量
体の1種および2種以上が重合した繰り返し単位
ユニツトを示し、A6はアルキレン鎖を示し、X
は−O−、【式】(R13は水素原子またはア ルキル基を示す)を示し、A7は
【式】 【式】 【式】 {R14は水素原子またはアルキル基、A8,A9,
A10はアルキレン鎖、シクロアルキレン鎖、置換
または未置換のアリーレン鎖、
【式】 【式】 (R15,R16,R17およびR18は水素原子、アル
キル基、あるいはアルキレン鎖によつてR15と
R16またはR17とR18で形成された環を示す)を示
す}を示し、aは正の整数、bは0または正の整
数を示す。] で示され、前記フツ素系重合性単量体が、フツ素
置換低分子量直鎖状不飽和炭化水素、フツ素置換
ハロゲン化ビニル、フツ素置換有機酸のビニルエ
ステル、フツ素置換アルキルビニルエーテル、ア
クリル酸およびメタクリル酸のフツ素置換アルキ
ルエステルおよびアミド、アクリル酸およびメタ
クリル酸のフツ素置換芳香族含有エステルおよび
アミド、フツ化無水マレイン酸、マレイン酸およ
びフマル酸のフツ素置換アルキルエステル、α−
フツ化スチレンおよびα,β,β−フツ化スチレ
ンからなる群より選ばれる特許請求の範囲第1項
記載の電子写真感光体。 13 前記非フツ素系オリゴマーが、片末端に重
合性官能基を有し、かつ一定の繰り返し単位を有
する一般式() 一般式() (R19−[A11]o−−−[−R20−O]n)+M (式中、R19は水素原子、アルキル基、アリー
ル基を示し、A11はスチレン、α−アルキルスチ
レン、α−オレフイン、アクリル酸およびメタク
リル酸エステル類、α−シアノアクリル酸および
α−シアノメタクリル酸エステルの少なくとも1
種が重合した繰り返し単位ユニツトを示し、R20
はアルキレン鎖、mは0または正の整数、nは正
の整数を示し、Mはアルカリ金属を示す。) で示されるリビングポリマー中間体と一般式( 一般式() (式中、R21は水素原子、アルキル基、アリー
ル基を示し、A12は −O−,【式】【式】 【式】【式】を示し、A13は置 換または未置換のアルキレン鎖を示し、cおよび
dは0または1であり、Yはハロゲン原子を示
す。) で示される化合物との反応により形成されたもの
であり、前記フツ素系重合性単量体が、フツ素置
換低分子量直鎖状不飽和炭化水素、フツ素置換ハ
ロゲン化ビニル、フツ素置換有機酸のビニルエス
テル、フツ素置換アルキルビニルエーテル、アク
リル酸およびメタクリル酸のフツ素置換アルキル
エステルおよびアミド、アクリル酸およびメタク
リル酸のフツ素置換芳香族含有エステルおよびア
ミド、フツ化無水マレイン酸、マレイン酸および
フマル酸のフツ素置換アルキルエステル、α−フ
ツ化スチレンおよびα,β,β−フツ化スチレン
からなる群より選ばれる特許請求の範囲第1項記
載の電子写真感光体。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8706158A GB2190509B (en) | 1986-03-18 | 1987-03-16 | Electrophotographic photosensitive member |
US07/026,176 US4792507A (en) | 1986-03-18 | 1987-03-16 | Electrophotographic member with surface layer having fluorine resin powder and fluorine graft polymer |
DE19873708512 DE3708512A1 (de) | 1986-03-18 | 1987-03-16 | Elektrophotographisches, lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61-58153 | 1986-03-18 | ||
JP5815386 | 1986-03-18 | ||
JP62-51774 | 1987-03-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63221355A JPS63221355A (ja) | 1988-09-14 |
JPH0512702B2 true JPH0512702B2 (ja) | 1993-02-18 |
Family
ID=13076046
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5409687A Granted JPS63221355A (ja) | 1986-03-18 | 1987-03-11 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63221355A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9671705B2 (en) | 2013-07-16 | 2017-06-06 | Fuji Electric Co., Ltd. | Electrophotographic photoconductor, production method thereof, and electrophotographic apparatus |
US9904186B2 (en) | 2011-08-05 | 2018-02-27 | Fuji Electric Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, method for manufacturing same, and electrophotographic apparatus using same |
US10429752B2 (en) | 2017-02-24 | 2019-10-01 | Fuji Electric Co., Ltd. | Electrophotographic photoconductor, manufacturing method thereof, and electrophotographic apparatus using the same |
US10962893B2 (en) | 2016-07-22 | 2021-03-30 | Fuji Electric Co., Ltd. | Photosensitive body for electrophotography, method for producing same and electrophotographic apparatus |
US11036151B2 (en) | 2018-01-19 | 2021-06-15 | Fuji Electric Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, method for manufacturing same, and electrophotographic device |
US11143976B2 (en) | 2018-01-19 | 2021-10-12 | Fuji Electric Co., Ltd. | Photoconductor having interlayer for hole injection promotion |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2595635B2 (ja) * | 1988-03-24 | 1997-04-02 | 富士電機株式会社 | 電子写真用感光体 |
SG47124A1 (en) * | 1993-01-06 | 1998-03-20 | Canon Kk | Electrophotographic photosensitive member electrophotographic apparatus using same and device unit using same |
JPH06332217A (ja) * | 1993-05-26 | 1994-12-02 | Canon Inc | 電子写真感光体及びそれを有する電子写真装置 |
JP4251662B2 (ja) | 2006-10-31 | 2009-04-08 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
CN101535901B (zh) | 2006-10-31 | 2012-11-21 | 佳能株式会社 | 电子照相感光构件、制造电子照相感光构件的方法、处理盒和电子照相设备 |
US8361686B2 (en) | 2008-03-05 | 2013-01-29 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and image forming apparatus |
JP5434105B2 (ja) | 2009-02-04 | 2014-03-05 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
JP5470896B2 (ja) * | 2009-02-19 | 2014-04-16 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置 |
JP4735727B2 (ja) * | 2009-02-27 | 2011-07-27 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
JP5029639B2 (ja) * | 2009-03-25 | 2012-09-19 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体及びその製造方法、プロセスカートリッジ、並びに、画像形成装置 |
JP4877348B2 (ja) | 2009-03-27 | 2012-02-15 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
JP5504723B2 (ja) * | 2009-07-16 | 2014-05-28 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
JP5544850B2 (ja) * | 2009-12-01 | 2014-07-09 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び分散液 |
JP5573170B2 (ja) * | 2010-01-08 | 2014-08-20 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ、および画像形成装置 |
JP5509987B2 (ja) | 2010-03-26 | 2014-06-04 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
JP5724519B2 (ja) | 2011-03-28 | 2015-05-27 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ |
JP5807507B2 (ja) | 2011-10-20 | 2015-11-10 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
JP5866991B2 (ja) | 2011-11-14 | 2016-02-24 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置 |
JP5652383B2 (ja) * | 2011-12-05 | 2015-01-14 | ダイキン工業株式会社 | グラフト共重合体および溶液型撥水撥油剤組成物 |
JP2013200415A (ja) | 2012-03-23 | 2013-10-03 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
JP5861525B2 (ja) | 2012-03-26 | 2016-02-16 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ |
JP6024334B2 (ja) * | 2012-09-21 | 2016-11-16 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置、およびプロセスカートリッジ |
JP5719014B1 (ja) * | 2013-12-06 | 2015-05-13 | 共栄社化学株式会社 | フッ素ポリマー用分散剤 |
JP2016009066A (ja) * | 2014-06-24 | 2016-01-18 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置およびプロセスカートリッジ |
JP7091155B2 (ja) * | 2017-06-29 | 2022-06-27 | キヤノン株式会社 | 電子写真用ベルト及び電子写真画像形成装置 |
JP7314519B2 (ja) | 2019-02-08 | 2023-07-26 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および画像形成装置 |
JP7347055B2 (ja) | 2019-09-17 | 2023-09-20 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
JP2021051147A (ja) * | 2019-09-24 | 2021-04-01 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
-
1987
- 1987-03-11 JP JP5409687A patent/JPS63221355A/ja active Granted
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9904186B2 (en) | 2011-08-05 | 2018-02-27 | Fuji Electric Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, method for manufacturing same, and electrophotographic apparatus using same |
US9671705B2 (en) | 2013-07-16 | 2017-06-06 | Fuji Electric Co., Ltd. | Electrophotographic photoconductor, production method thereof, and electrophotographic apparatus |
US10962893B2 (en) | 2016-07-22 | 2021-03-30 | Fuji Electric Co., Ltd. | Photosensitive body for electrophotography, method for producing same and electrophotographic apparatus |
US10429752B2 (en) | 2017-02-24 | 2019-10-01 | Fuji Electric Co., Ltd. | Electrophotographic photoconductor, manufacturing method thereof, and electrophotographic apparatus using the same |
US11036151B2 (en) | 2018-01-19 | 2021-06-15 | Fuji Electric Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, method for manufacturing same, and electrophotographic device |
US11143976B2 (en) | 2018-01-19 | 2021-10-12 | Fuji Electric Co., Ltd. | Photoconductor having interlayer for hole injection promotion |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63221355A (ja) | 1988-09-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0512702B2 (ja) | ||
US4792507A (en) | Electrophotographic member with surface layer having fluorine resin powder and fluorine graft polymer | |
US4863823A (en) | Electrophotographic member with the surface layer having a fluorine type resin powder and a fluorine type block polymer | |
JPS6365449A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH054667B2 (ja) | ||
JPH0512700B2 (ja) | ||
JPH0323902B2 (ja) | ||
JPH0547104B2 (ja) | ||
JPH07134435A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPS6097360A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH0325771B2 (ja) | ||
JPS6365450A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP5205908B2 (ja) | 電子写真感光体とそれを用いた画像形成方法及び画像形成装置 | |
JPH0547106B2 (ja) | ||
JPH0549102B2 (ja) | ||
JPS6113252A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPS61219049A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH01112251A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP2637584B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JPS6255663A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPS63311356A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH0547105B2 (ja) | ||
JPS6365451A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH04295855A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPS6287966A (ja) | 電子写真感光体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |