JPH04269822A - 熱処理装置の封止構造 - Google Patents

熱処理装置の封止構造

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JPH04269822A JP3053099A JP5309991A JPH04269822A JP H04269822 A JPH04269822 A JP H04269822A JP 3053099 A JP3053099 A JP 3053099A JP 5309991 A JP5309991 A JP 5309991A JP H04269822 A JPH04269822 A JP H04269822A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は封止装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般の熱処理装置において、真空ポンプ
により排気される処理容器のプロセスチューブとマニホ
ールドの接触部の間にフッ素ゴム等のＯリングを配置し
、上記処理容器の気密を保持する方法が広く用いられて
いる。また、実開平１ー１２３３３６号公報によれば、
二重のＯリングを利用して、その中間を真空引きする方
法が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、Ｏリン
グをシール部材として用いた場合、このＯリングは柔軟
な部材でフッ素ゴム等からなるもので、一般に耐熱温度
が２００℃前後であり、熱処理装置においてシール部が
この温度以上になると、Ｏリングが溶けて変形し所望の
真空シール効果が得られなくなるという課題点を有する
。 また、熱処理装置を停止してＯリングを交換する場合、
このＯリングが冷えると、Ｏリング自体が固着して取り
はずしが困難になり、時には処理容器を構成する石英チ
ューブ等を取りはずす時、この石英チューブを破損して
しまうという改善点を有する。
【０００４】更に、Ｏリング内に含まれているガスや水
分の放出があり、この放出量は圧力，時間，温度によっ
て変化するため、Ｏリングをシール部材とした処理容器
を用いて被処理体の熱処理を行った場合、所定の圧力に
なった後さらに多大な時間をかけて真空引きを行いＯリ
ングからガスや含有水分を十分放出させてからでないと
処理ロット間に大きなバラツキが発生するという改善点
を有する。
【０００５】また、モノシラン（ＳｉＨ４）等の処理ガ
スを用いて被処理体の自然酸化膜を除去する還元熱処理
では、真空ポンプにより十分排気を行ってもＯリングか
らガスや含有水分の放出が無視できず、依然として所望
の還元熱処理が行えないという改善点を有する。
【０００６】この発明は上記点に鑑みなされたもので、
容器内に不用な大気中の酸素や水分が混入しないような
封止を行う封止装置を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は容器内が所定の圧力に排気される容器のフ
ランジ接触位置を封止する封止装置において、上記フラ
ンジ接触位置の内・外側に設けた装着溝にそれぞれ表面
処理の異なる金属ガスケットを装着し、この両者の金属
ガスケットの中間位置を真空に排気するようにした封止
装置である。なお、金属ガスケットは、断面が中空、平
板、波状等があるが、これらを適宜に選択するものとす
る。
【０００８】
【作用】金属ガスケットの中間位置を真空に排気すると
、金属ガスケットの中間位置が真空状態になるので、金
属ガスケットのシール効果を高め、プロセスチューブ内
に空気等が混入することなく密封機能を確実なものとす
る。
【０００９】
【実施例】以下、本発明装置を低締付け、かつ高性能な
封止が要求される縦型熱処理装置の石英製プロセスチュ
ーブのフランジ部に適用した一実施例について図面を参
照して具体的に説明する。図１において縦型のプロセス
チューブ１は耐熱性材料例えば石英ガラスからなり、こ
のプロセスチューブ１の下端には、フランジ部２を形成
し、このフランジ部２とプロセスチューブ１の下部に設
けた金属製のマニホールド３のフランジ部４とを接触固
定して封止することにより容器を構成している。
【００１０】本例における封止装置部分を図２に示す。 マニホールド３のフランジ部４に２個の装着溝５、６を
形成し、プロセスチューブ１の内部に近い装着溝５内に
は、高耐熱断面薄肉厚の金属製Ｏリング７（または、波
形金属製ガスケット）を装着し、このＯリング７の外周
面にニッケルメッキ等を施し、このＯリング７より外方
に位置する装着溝６にＰＴＦＥ等のエラストマー薄膜材
コート付きの金属製Ｏリング８（または、波形金属製ガ
スケット）を装着する。なお、この装着溝は、プロセス
チューブ１のフランジ部２側に形成してこの装着溝内に
金属製Ｏリングを装着するようにしても良い。更に、断
面Ｌ字形の押え具９で耐熱性スペーサ１０、１１を介し
てボルト１２等の手段で両者のフランジ部２、４を締付
固定している。
【００１１】更に、この金属製Ｏリング７、８の中間に
排気溝１３を形成し、この排気溝１３と連通する連通孔
１４を介して図示しない真空ポンプで排気している。そ
して、押え具９によりフランジ部２、４が耐えられる限
度の範囲内で締め付け、この締め付け限度を保持させる
リテーナ１５、１６を設けている。
【００１２】また、封止装置部分の他例を図３に示す。 マニホールド３のフランジ部４に装着段部１７と装着溝
１８を形成し、プロセスチューブ１の内部に近い装着段
部１７には、断面薄肉厚の金属製Ｏリング７を装着し、
このＯリング７より外方に位置する装着溝１８にエラス
トマー材コート付きの金属製Ｏリング８を装着する。
【００１３】更に、フランジ部４には、金属製Ｏリング
７、８の間に排気孔１９を形成し、この排気孔１９より
図示しない真空ポンプで真空排気している。そして、フ
ランジ部４の接触面には、フランジ部２と接触して保持
させるリテーナ２０を設けている。
【００１４】更に、封止装置部分の他例を図４に示す。 この例は、図３における金属製Ｏリングを波形金属製ガ
スケットに替えた例であり、その他の構成部分は上記の
例と同様である。
【００１５】プロセスチューブ１の周囲には少なくとも
３ゾーン構成からなる円筒状の抵抗加熱ヒータ２１を設
け、上記プロセスチューブ１内を所望の温度例えば５０
０〜１２００℃の範囲に適宜設定可能としている。
【００１６】上記プロセスチューブ１内には被処理体と
して多数枚の半導体ウエハ２２を例えば石英製のウエハ
ボート２３上に水平に収容し、このボート２３を載置台
２４上に設置し、この設置台２４を蓋体２５に設置して
収納している。この蓋体２５は昇降機構２６により上下
移動することができ、プロセスチューブ内の予め定めら
れた位置にウエハ２２を搬入搬出可能な如く構成してい
る。更に、プロセスチューブ１には、ガス導入管２７と
排気管２８を設けている。
【００１７】次に上記実施例の作用について説明する。 ヒータ２１によりプロセスチューブ１内の均熱領域の温
度を例えば１０００℃の温度に設定し、昇降機構２６を
上方へ移動し、図１に示すように、マニホールド３と蓋
体２５が当接された状態に設定する。
【００１８】この状態において、排気溝１３の部位を真
空ポンプを介して排気すると、金属製Ｏリング７、８の
中間位置が真空状態になるので、金属製Ｏリング７、８
のシール効果を高め、プロセスチューブ１内に大気の空
気等が混入することなく密封機能を確実なものとする。
【００１９】前記実施例では減圧ＣＶＤ装置について説
明を行ったが、拡散炉や常圧熱処理装置等の熱処理装置
に応用しても良く、縦型装置に限らず横型装置に応用で
きるのは当然のことである。さらに熱処理装置に限らず
、封止機構であればエッチング装置やイオン注入装置等
何れにも適用できる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によればフ
ッ素ゴム等のエラストマー材であるＯリング等が使用で
きない高温に耐えるシール部を形成することができると
共に、低締付力でもって、かつガス放出のない高品質シ
ールに利用することができ、また、容器内に不用な大気
中の成分が混入せず、もって所望の処理を被処理体に施
こすことが可能になるという顕著な効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る縦型熱処理装置の一実施例を示し
た説明図である。
【図２】図１の封止装置部分を示した部分拡大断面図で
ある。
【図３】他の実施例を示した封止装置部分の拡大断面図
である。
【図４】他の実施例を示した封止装置部分の拡大断面図
である。
【符号の説明】
１　　プロセスチューブ ２　　フランジ部 ３　　マニホールド ４　　フランジ部 ５，６，１８　　装着溝 ７，８　　金属製Ｏリング ７ａ，８ａ　　波形金属ガスケット １３　　排気溝

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　容器内が所定の圧力に排気される容器
    のフランジ接触位置を封止する封止装置において、上記
    フランジ接触位置の内・外側に設けた装着溝にそれぞれ
    表面処理の異なる金属ガスケットを装着し、この両者の
    金属ガスケットの中間位置を真空に排気するようにした
    ことを特徴とする封止装置。
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