JPH0373961A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
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- JPH0373961A JPH0373961A JP2096223A JP9622390A JPH0373961A JP H0373961 A JPH0373961 A JP H0373961A JP 2096223 A JP2096223 A JP 2096223A JP 9622390 A JP9622390 A JP 9622390A JP H0373961 A JPH0373961 A JP H0373961A
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- Japan
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- substituted
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- electrophotographic photoreceptor
- unsubstituted aryl
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用性!FF)
本発明は半導体レーザー発振領域である800nm前後
の長波長光に対して品感度を有する電子写真感光体に関
する。
の長波長光に対して品感度を有する電子写真感光体に関
する。
従来の電子写真感光体としては、アルミニウム等の導電
性基板の上に50μm程度のセレン(S e)膜を真空
蒸着法により形成したものがある。
性基板の上に50μm程度のセレン(S e)膜を真空
蒸着法により形成したものがある。
しかし、このSe感光体は、波長500nm付近までし
か感度を有していない等の問題がある。
か感度を有していない等の問題がある。
また導電性基板の上に50μm程度のSe層を形成し、
この上に史に数μ「nのセレン−テルル(Se−Te)
合金層を形成した感光体があるが、この感光体は上記5
e−Te合金のTeの含有率が高い程、分光感度が長波
長にまで伸びる半面、Teの添加量が増加するにつれて
、表面電荷の保持特性が不良となり、す(突上、感光体
として使用できなくなるという重大な問題がある。
この上に史に数μ「nのセレン−テルル(Se−Te)
合金層を形成した感光体があるが、この感光体は上記5
e−Te合金のTeの含有率が高い程、分光感度が長波
長にまで伸びる半面、Teの添加量が増加するにつれて
、表面電荷の保持特性が不良となり、す(突上、感光体
として使用できなくなるという重大な問題がある。
またアルミニウム括仮の上に1μm程度のクロロジアン
ブルー又はスクウアリリウム酸誘導体をコーティングし
て電荷発生層を形成し、この上に絶縁抵抗の高いポリビ
ニルカルバゾール又はピラゾリン誘導体とポリカーボネ
ート樹脂との混合物を10〜20μmコーティングして
電荷輸送層を形成した所謂複合二層型の感光体もあるが
、この感光体は700nm以上の波長の光に対して感度
を有していないのが実情である。
ブルー又はスクウアリリウム酸誘導体をコーティングし
て電荷発生層を形成し、この上に絶縁抵抗の高いポリビ
ニルカルバゾール又はピラゾリン誘導体とポリカーボネ
ート樹脂との混合物を10〜20μmコーティングして
電荷輸送層を形成した所謂複合二層型の感光体もあるが
、この感光体は700nm以上の波長の光に対して感度
を有していないのが実情である。
更に、この複合二層型の感光体において、上記欠点を改
善した、即ち、半導体レーザー発振領域800nm前後
に感度を有する感光体もあるが、これらのうち多くのも
のが真空蒸着法によって周191律表の■族もしくはI
V族の金属を中心金属に持つ金属フタロシアニンの膜厚
11tm程度の薄膜を形成した後、シフト化剤溶液中に
浸漬するか、もしくはその蒸気に接触させることによっ
て本来700nm前後の吸収帯を800nm前後にシフ
トさせ、長波長感度を発現させている。
善した、即ち、半導体レーザー発振領域800nm前後
に感度を有する感光体もあるが、これらのうち多くのも
のが真空蒸着法によって周191律表の■族もしくはI
V族の金属を中心金属に持つ金属フタロシアニンの膜厚
11tm程度の薄膜を形成した後、シフト化剤溶液中に
浸漬するか、もしくはその蒸気に接触させることによっ
て本来700nm前後の吸収帯を800nm前後にシフ
トさせ、長波長感度を発現させている。
この膜の上に絶縁抵抗の高いポリビニルカルバゾール又
はピラゾリン誘導体とポリカーボネート樹脂もしくはポ
リエステル樹脂との混合物を10〜20μmコーティン
グして電荷輸送層を形成して複合二層型の感光体を形成
している。しかしながら、この場合、電荷発生層として
用いられている周期律表の■族もしくは■族の金属を中
心金属に持つ、金属フタロシアニン薄膜は、本質的に半
導体レーザー発振珀域800nm前後に吸収がなく、シ
フト化剤で処理しない限り、この薄膜を用いて形成した
感光体は800 n m前後の光に対して感度をHしな
いか、又は低感度であるという重大な問題がある(特開
昭58−158649号公報参照)。
はピラゾリン誘導体とポリカーボネート樹脂もしくはポ
リエステル樹脂との混合物を10〜20μmコーティン
グして電荷輸送層を形成して複合二層型の感光体を形成
している。しかしながら、この場合、電荷発生層として
用いられている周期律表の■族もしくは■族の金属を中
心金属に持つ、金属フタロシアニン薄膜は、本質的に半
導体レーザー発振珀域800nm前後に吸収がなく、シ
フト化剤で処理しない限り、この薄膜を用いて形成した
感光体は800 n m前後の光に対して感度をHしな
いか、又は低感度であるという重大な問題がある(特開
昭58−158649号公報参照)。
又特開昭63−55556号公報又は特開昭63−14
1070号公報記載の化合物は、それ自身浦溶性である
がため、塗布が難しく、かつ、電荷輸送層の塗布時に溶
出するため安定した生産が困難であった。特開昭63−
186251号公報記載のナフタロシアニン類はレーザ
ープリンターに必要とされる感度(cd / /Z J
)に達していなかった。
1070号公報記載の化合物は、それ自身浦溶性である
がため、塗布が難しく、かつ、電荷輸送層の塗布時に溶
出するため安定した生産が困難であった。特開昭63−
186251号公報記載のナフタロシアニン類はレーザ
ープリンターに必要とされる感度(cd / /Z J
)に達していなかった。
レーザー光を光源とし、電子写真感光体を用いたレーザ
ービームプリンタ等では、近年、半導体レーザーを光源
に用いることが種々試みられており、この場合、該光源
の波長は800nm前後であることから、800nm前
後の長波長光に対して高感度な特性を−Hする電子写真
感光体が強く要求されている。
ービームプリンタ等では、近年、半導体レーザーを光源
に用いることが種々試みられており、この場合、該光源
の波長は800nm前後であることから、800nm前
後の長波長光に対して高感度な特性を−Hする電子写真
感光体が強く要求されている。
本発明の目的は、シフト化剤で処理する等の特別な処理
をすることなく、780〜830 n n+の近赤外領
域の長波長の光に対して品い感度を有する電子写真感光
体を堤供することである。
をすることなく、780〜830 n n+の近赤外領
域の長波長の光に対して品い感度を有する電子写真感光
体を堤供することである。
本発明は、導電性支持体上に有機光導電性物質を含有す
る光導電層を有する電子写真感光体において、 前記有機光導電性物質が一般式(1) 〔式中、MはS i、Ge、Snを表わし、Xは水酸基
、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素を表わす。〕で表わされ
る化合物を含む電子写真感光体である。
る光導電層を有する電子写真感光体において、 前記有機光導電性物質が一般式(1) 〔式中、MはS i、Ge、Snを表わし、Xは水酸基
、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素を表わす。〕で表わされ
る化合物を含む電子写真感光体である。
本発明に係る電子写真感光体は、導電性支持体の上に光
導電層を設けたものである。
導電層を設けたものである。
本発明において、光導電層は有機光導電性物質を含む層
であり、&Ji!光導電性物質の皮膜、有機光導電性物
質と結合剤とを含む皮膜、電荷発生層及び電6:j輸送
層からなる複合型皮膜等がある。
であり、&Ji!光導電性物質の皮膜、有機光導電性物
質と結合剤とを含む皮膜、電荷発生層及び電6:j輸送
層からなる複合型皮膜等がある。
前記有機光導電性物質としては、前記一般式(1)で表
わされるフタロシアニンが必須成分として用いられるが
、さらに公知の光導電性物質を併用してもよい。一般式
(1)において、フタロシアニンの中心部の二つの水素
イオンが金属イオンによって置換された構造ををするが
、この金属をS i SG e SS nより選んだ少
なくともIPliを採用し、このフタロシアニンの平面
横這に対して、垂直方向に粘合しているXとして、水酸
基、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素を採用することを特徴
としている。
わされるフタロシアニンが必須成分として用いられるが
、さらに公知の光導電性物質を併用してもよい。一般式
(1)において、フタロシアニンの中心部の二つの水素
イオンが金属イオンによって置換された構造ををするが
、この金属をS i SG e SS nより選んだ少
なくともIPliを採用し、このフタロシアニンの平面
横這に対して、垂直方向に粘合しているXとして、水酸
基、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素を採用することを特徴
としている。
前記電荷輸送物質としては、高分子化合物のものでは、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、ハロゲン化ポリ−N−
ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルイ
ンドロキノキサリン、ポリビニルベンゾチオフェン、ポ
リビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリビ
ニルピラゾリン等が挙げられる。低分子化合物のもので
はフルオレノン、フルオレン、2.7−ジニトロ−9−
フルオレノン、4H−インデノ(1,2,6)チオフェ
ン−4−オン、3.7−ジニトロ−ジベンゾチオフェン
−5−オキサイド、1−ブロムピレン、2−フェニルピ
レン、カルバゾール、N−エチルカルバゾール、3−フ
ェニルカルバゾール、3−(N−メチル−N〜フェニル
ヒドラゾン)メチル−9−エチルカルバゾール、2−フ
ェニルインドール、2−フェニルナフタレン、オキサジ
アゾール、2.5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル
)−1,3,4−オキサジアゾール、1−フェニル−3
−(4−ジエチルアミノスチリル)5− (4−ジエチ
ルアミノスチリル−5−(4−ジエチルアミノフェニル
)ピラゾリン、l−フェニル−3−(p−ジエチルアミ
ノフェニル)ピラゾリン、p−(ジメチルアミノ)スチ
ルベン、2(4−ジプロピルアミノフェニル)−4−(
4ジメチルアミノフエニル)−5−(2−クロロフェニ
ル)−1,3−オキサゾール、2−(4ジメチルアミノ
フエニル)−4−(4−ジメチルアミノフェニル)−5
−(2−フルオロフェニル)−1,3−オキサゾール、
2− (4−ジエチルアミノフェニル)−4−(4−ジ
メチルアミノフェニル)−5−(2−フルオロフェニル
)−1,3オキサゾール、2− (4−ジプロピルアミ
ノブ1ニル)−4−(4〜ジメチルアミノフエニル)5
− (2−フルオロフェニル)−1,3−オキサゾール
、イミダゾール、クリセン、テトラフェン、アクリデン
、トリフェニルアミン、これらの誘導体が例示できる。
ポリ−N−ビニルカルバゾール、ハロゲン化ポリ−N−
ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルイ
ンドロキノキサリン、ポリビニルベンゾチオフェン、ポ
リビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリビ
ニルピラゾリン等が挙げられる。低分子化合物のもので
はフルオレノン、フルオレン、2.7−ジニトロ−9−
フルオレノン、4H−インデノ(1,2,6)チオフェ
ン−4−オン、3.7−ジニトロ−ジベンゾチオフェン
−5−オキサイド、1−ブロムピレン、2−フェニルピ
レン、カルバゾール、N−エチルカルバゾール、3−フ
ェニルカルバゾール、3−(N−メチル−N〜フェニル
ヒドラゾン)メチル−9−エチルカルバゾール、2−フ
ェニルインドール、2−フェニルナフタレン、オキサジ
アゾール、2.5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル
)−1,3,4−オキサジアゾール、1−フェニル−3
−(4−ジエチルアミノスチリル)5− (4−ジエチ
ルアミノスチリル−5−(4−ジエチルアミノフェニル
)ピラゾリン、l−フェニル−3−(p−ジエチルアミ
ノフェニル)ピラゾリン、p−(ジメチルアミノ)スチ
ルベン、2(4−ジプロピルアミノフェニル)−4−(
4ジメチルアミノフエニル)−5−(2−クロロフェニ
ル)−1,3−オキサゾール、2−(4ジメチルアミノ
フエニル)−4−(4−ジメチルアミノフェニル)−5
−(2−フルオロフェニル)−1,3−オキサゾール、
2− (4−ジエチルアミノフェニル)−4−(4−ジ
メチルアミノフェニル)−5−(2−フルオロフェニル
)−1,3オキサゾール、2− (4−ジプロピルアミ
ノブ1ニル)−4−(4〜ジメチルアミノフエニル)5
− (2−フルオロフェニル)−1,3−オキサゾール
、イミダゾール、クリセン、テトラフェン、アクリデン
、トリフェニルアミン、これらの誘導体が例示できる。
しかし、特に奸ましい電荷輸送物質としては、下記一般
式(II)、(m)、(IV)及び(V)で表わされる
化n物である。
式(II)、(m)、(IV)及び(V)で表わされる
化n物である。
リール基を表わし、R1は水素原子、ハロゲン原子又は
アルキル基を表わし、R2及びR3は各々独立に置換又
は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基を
表わす。〕 〔式中、ks fl s mSnは0又は1を表わし、
R4R5、Re R7R8R9RIO及びR11は
各々独立にアルキル基、置換又は未置換のアリールμを
表わす。〕 1213R16及びR17は各々独立に〔式中、RR 水素原子、アルキル基、置換又は未置換のアリ−141
518 ル基、複素環基を表わし、RRR及び R19は各々独立にアルキル基、アラルキル基、置換又
は未置換のアリール基を表わす。〕〔式中、R及びR2
1は置換又は未置換のアリ−0 ル基を表わし、R20とR2Iは直接もしくは連結基を
介して粘合してもよ<、R22は水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基もしくは置換又は未置換のフェニル基を
表わし、R及びR24はアルキル基、3 アラルキル基もしくは置換又は未置換のアリール基を表
わし、少なくとも一方は置換又は未置換のアリール基で
ある。〕 前記、フタロシアニンと電荷輸送物質を混合して使用す
る場合は、電荷輸送物質/フタロシアニンが重量比で1
0/1〜2/1の割合で配合するのが好ましい。このと
き電荷輸送物質が高分子化合物のものであれば、後記の
結合剤を使用しなくてもよいが、この場合でも、又、電
荷輸送物質が低分子化合物の場合でも、結合剤をこれら
の化合物全量に対して、500重量%以下で使用するの
が好ましい。
アルキル基を表わし、R2及びR3は各々独立に置換又
は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基を
表わす。〕 〔式中、ks fl s mSnは0又は1を表わし、
R4R5、Re R7R8R9RIO及びR11は
各々独立にアルキル基、置換又は未置換のアリールμを
表わす。〕 1213R16及びR17は各々独立に〔式中、RR 水素原子、アルキル基、置換又は未置換のアリ−141
518 ル基、複素環基を表わし、RRR及び R19は各々独立にアルキル基、アラルキル基、置換又
は未置換のアリール基を表わす。〕〔式中、R及びR2
1は置換又は未置換のアリ−0 ル基を表わし、R20とR2Iは直接もしくは連結基を
介して粘合してもよ<、R22は水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基もしくは置換又は未置換のフェニル基を
表わし、R及びR24はアルキル基、3 アラルキル基もしくは置換又は未置換のアリール基を表
わし、少なくとも一方は置換又は未置換のアリール基で
ある。〕 前記、フタロシアニンと電荷輸送物質を混合して使用す
る場合は、電荷輸送物質/フタロシアニンが重量比で1
0/1〜2/1の割合で配合するのが好ましい。このと
き電荷輸送物質が高分子化合物のものであれば、後記の
結合剤を使用しなくてもよいが、この場合でも、又、電
荷輸送物質が低分子化合物の場合でも、結合剤をこれら
の化合物全量に対して、500重量%以下で使用するの
が好ましい。
又、電荷輸送物質と1.て、低分子化合物を使用する場
合は、粘合剤を3(Iff!m%以−り使用するのが好
ましい。また電荷輸送物質を用いない場合でも、同様の
量で粘合剤を使用してもよい。
合は、粘合剤を3(Iff!m%以−り使用するのが好
ましい。また電荷輸送物質を用いない場合でも、同様の
量で粘合剤を使用してもよい。
これらの結合剤を使用する場合、さらに、可塑剤、流動
性付与剤、ピンホール抑制剤等の添加剤を必要に応じて
添加することができる。
性付与剤、ピンホール抑制剤等の添加剤を必要に応じて
添加することができる。
このように混合やでもよいが、下記に述べる2層複合型
とすることが好ましい。
とすることが好ましい。
電荷発生層及び電荷輸送層からなる複合型の光導電層を
形成する場合、電6:7発生層中には、前記したフタロ
シアニン又はこれと化6’4を発生するを機顔料が含有
させられ、結合剤を該有[顔料に対して500重IX1
%以下の量で含有させてもよく、又、前記した添加剤を
該フタロシアニン又はこれと有機顔料との総量にχ=t
t、て、5重量%以下で添加してもよい。
形成する場合、電6:7発生層中には、前記したフタロ
シアニン又はこれと化6’4を発生するを機顔料が含有
させられ、結合剤を該有[顔料に対して500重IX1
%以下の量で含有させてもよく、又、前記した添加剤を
該フタロシアニン又はこれと有機顔料との総量にχ=t
t、て、5重量%以下で添加してもよい。
又電6:を輸送層には、前記した電荷輸送物質が含有さ
せられ、結合剤を謹電荷輸送物質に対して500重量%
以ドで金白゛させてもよい。電荷輸送物質が低分子化合
物の場合は、粘合剤を該化合物に対して、50重量%以
上含有させるのが好ましい。
せられ、結合剤を謹電荷輸送物質に対して500重量%
以ドで金白゛させてもよい。電荷輸送物質が低分子化合
物の場合は、粘合剤を該化合物に対して、50重量%以
上含有させるのが好ましい。
電(;:を輸送層には、前記した添加剤を電rrl輸送
物質に対して5重量%以ドで含有させてもよい。
物質に対して5重量%以ドで含有させてもよい。
前記した場合すべてに使用し得る粘合剤としては、シリ
コーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂
、スチレン−ブタジェン」(重合体、ポリメタクリル酸
メチル樹脂、ポリ塩化ビニル、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアクリ
ルアミド樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピ
ラゾリン、ポリビニルピレン等が挙げられる。
コーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂
、スチレン−ブタジェン」(重合体、ポリメタクリル酸
メチル樹脂、ポリ塩化ビニル、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアクリ
ルアミド樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピ
ラゾリン、ポリビニルピレン等が挙げられる。
又、熱及び/又は光によって架橋される熱硬化型樹脂及
び光硬化型樹脂も使用できる。
び光硬化型樹脂も使用できる。
いずれにしても、絶縁性で、通常の状態で皮膜を形成し
うる樹脂、並びに熱及び/又は光によって硬化し、皮膜
を形成する樹脂であれば特に制限はない。可塑剤として
は、ハロゲン化パラフィン、ジメチルナフタリン、ジメ
チルフタレート−等が挙げられる。
うる樹脂、並びに熱及び/又は光によって硬化し、皮膜
を形成する樹脂であれば特に制限はない。可塑剤として
は、ハロゲン化パラフィン、ジメチルナフタリン、ジメ
チルフタレート−等が挙げられる。
流動性付1j、剤としては、モダフロー(モンザントケ
ミカル社製)、アクロナール4F(バスフ社製)等が挙
げられ、ピンホール抑制剤としては、ベンゾイン、ジメ
チルフタレート等が挙げられる。
ミカル社製)、アクロナール4F(バスフ社製)等が挙
げられ、ピンホール抑制剤としては、ベンゾイン、ジメ
チルフタレート等が挙げられる。
これらは適宜選択して使用され、その量も適宜決定され
ればよい。
ればよい。
本発明において導電層とは、導電処理した紙又はプラス
チックフィルム、アルミニウムのような金属箔を積層し
たプラスチックフィルム、金属板等の導電体である。
チックフィルム、アルミニウムのような金属箔を積層し
たプラスチックフィルム、金属板等の導電体である。
本発明の電子写真感光体は、導電層の上に光導電層を形
成したものである。光導電層の厚さは5〜50μmが奸
ましい。
成したものである。光導電層の厚さは5〜50μmが奸
ましい。
先導?Ii雇として電6:j発生層及び電荷輸送層の複
合型を使用する場合、電+1:j発生層は灯ましくは0
.001〜107zm、特に好ましくは0.2〜5μm
の厚さにする。O,OO17zm未満では、電荷発生層
を均一に形成するのが困難になり、10μmを越えると
m−J’−写真特性がliL下する傾向にある。
合型を使用する場合、電+1:j発生層は灯ましくは0
.001〜107zm、特に好ましくは0.2〜5μm
の厚さにする。O,OO17zm未満では、電荷発生層
を均一に形成するのが困難になり、10μmを越えると
m−J’−写真特性がliL下する傾向にある。
電荷輸送層の厚さは好ましくは5〜50μm1特に好ま
しくは8〜20μm、である。5μm未満の厚さでは、
初期電位が低くなり、50μmを越えると、感度が低下
する傾向がある。
しくは8〜20μm、である。5μm未満の厚さでは、
初期電位が低くなり、50μmを越えると、感度が低下
する傾向がある。
導電層上に、光導電層を形成するには、有機光導電性物
質を導電層に蒸着する方法、有機光導電性物質及び必要
に応じ、その他の成分をアセトン、メチルエチルケトン
等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系
溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、塩化メチ
レン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶剤、メタ
ノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶
剤に均一に溶解又は分散させて導電層上に塗布し、乾燥
する方法などがある。塗布法としては、スピンコード法
、浸漬法等を採用できる。
質を導電層に蒸着する方法、有機光導電性物質及び必要
に応じ、その他の成分をアセトン、メチルエチルケトン
等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系
溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、塩化メチ
レン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶剤、メタ
ノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶
剤に均一に溶解又は分散させて導電層上に塗布し、乾燥
する方法などがある。塗布法としては、スピンコード法
、浸漬法等を採用できる。
電荷発生層及び電荷輸送層を形成する場合も同様に行う
ことができるが、この場合、電f;I発生層と電荷輸送
層は、どちらを上層としてもよく、電荷発生層を二層の
電(’4輸送層ではさむようにしてもよい。
ことができるが、この場合、電f;I発生層と電荷輸送
層は、どちらを上層としてもよく、電荷発生層を二層の
電(’4輸送層ではさむようにしてもよい。
浸漬法によって塗布する場合には、一般式(1)で表わ
されるフタロシアニン化合物をメタノール、ジメチルホ
ルムアミド等の極性溶剤にボールミル、超音波等を用い
て分散させた塗液に導電性基板を浸漬するのが好ましい
。
されるフタロシアニン化合物をメタノール、ジメチルホ
ルムアミド等の極性溶剤にボールミル、超音波等を用い
て分散させた塗液に導電性基板を浸漬するのが好ましい
。
保護層の形成は、光導電層の形成における塗布、乾燥す
る方法と同様にすればよい。
る方法と同様にすればよい。
本発明に係る電子写真感光体は、更に導電層のすぐ上に
薄い接着層又はバリア層を有してもよく、表面に保護層
を有していてもよい。
薄い接着層又はバリア層を有してもよく、表面に保護層
を有していてもよい。
本発明に係る電子写真感光体に使用する一般式(I)で
表わされるフタロシアニン化合物は、光の照射により電
荷を発生ずる。
表わされるフタロシアニン化合物は、光の照射により電
荷を発生ずる。
このフタロシアニン化合物は、次の方法で製造すること
ができる。
ができる。
先づ、1.3−ジイミノイソインドリン又はフタロニト
リルと四塩化珪素、四塩化ゲルマニウム又は四塩化錫、
四臭化珪素、四フッ化珪素、四ヨウ化珪素などとを20
0〜250℃で3〜10時間反応させ、中心金属に2個
のハロゲン原子が結合したフタロシアニンを製造する。
リルと四塩化珪素、四塩化ゲルマニウム又は四塩化錫、
四臭化珪素、四フッ化珪素、四ヨウ化珪素などとを20
0〜250℃で3〜10時間反応させ、中心金属に2個
のハロゲン原子が結合したフタロシアニンを製造する。
次に、このフタロシアニンを酸、アルカリ処理し、2個
のハロゲン原子を水酸基に交換する。
のハロゲン原子を水酸基に交換する。
又、この電荷発生物質の特徴としては、中心金属に置換
したハロゲン原子又は水酸基が電荷発生効率を向上して
いる点にある。
したハロゲン原子又は水酸基が電荷発生効率を向上して
いる点にある。
水頭発明の電荷発生物質の具体例と、特に好ましい電荷
輸送物質の具体例を表1〜5に示す。
輸送物質の具体例を表1〜5に示す。
CGは電荷発生物質を、CTは電荷輸送物質を示す。
一般式(n)で表わされるスチルベン化合物は、例えば
特開昭58−198043号公報に開示された方法に準
じて合成できる。また一般式(III)、(IV)及び
(V)で表わされる化合物はそれぞれ以下の方法で合成
できる。代表的合成例を具体的に示す。
特開昭58−198043号公報に開示された方法に準
じて合成できる。また一般式(III)、(IV)及び
(V)で表わされる化合物はそれぞれ以下の方法で合成
できる。代表的合成例を具体的に示す。
(製造例1)例示化合物CT−(m)−7の合成2.5
−ビス(4−ヨードフェニル)−3,4−シフエニルチ
オフエン12f、N−フェニル−2−ナフチルアミン1
0g1無水炭酸力リウム10gおよび電解銅8gをスル
ホラン50m1に分散し、190℃で400時間攪拌た
。放冷後、水100m1に排出し、生じた沈澱を炉し分
け、水、メタノールの順に洗浄後、乾燥した。得られた
粗生成物をベンゼンで抽出し、抽出液をベンゼン:へキ
サン(1/ 1 )混合溶媒を展開溶媒としたシリカゲ
ルカラムクロマトにより稍製した。ベンゼン−アセトニ
トリル混合溶媒より再結晶し、淡費色結晶(融点145
〜146℃)の例示化合物CT−(m)−715gを得
た。
−ビス(4−ヨードフェニル)−3,4−シフエニルチ
オフエン12f、N−フェニル−2−ナフチルアミン1
0g1無水炭酸力リウム10gおよび電解銅8gをスル
ホラン50m1に分散し、190℃で400時間攪拌た
。放冷後、水100m1に排出し、生じた沈澱を炉し分
け、水、メタノールの順に洗浄後、乾燥した。得られた
粗生成物をベンゼンで抽出し、抽出液をベンゼン:へキ
サン(1/ 1 )混合溶媒を展開溶媒としたシリカゲ
ルカラムクロマトにより稍製した。ベンゼン−アセトニ
トリル混合溶媒より再結晶し、淡費色結晶(融点145
〜146℃)の例示化合物CT−(m)−715gを得
た。
(製造例2)例示化合物CT−IV−lの合成下記構造
式 で表わされる化合物3.3gと1,1−ジフェニルヒド
ラジン塩酸塩4.0gをN、N−ジメチルホルムアミド
100m1に混合、溶解し、室温で2時間攪拌した。原
料のアルデヒド化合物の消失を確認した後、水100
mlを加え、生じた沈澱を炉別、乾燥した。クロロホル
ム−エタノールよす再結晶して黄色結晶(融点218〜
220.5℃の例示化合物CT−■−1 2.8srを
得た。
式 で表わされる化合物3.3gと1,1−ジフェニルヒド
ラジン塩酸塩4.0gをN、N−ジメチルホルムアミド
100m1に混合、溶解し、室温で2時間攪拌した。原
料のアルデヒド化合物の消失を確認した後、水100
mlを加え、生じた沈澱を炉別、乾燥した。クロロホル
ム−エタノールよす再結晶して黄色結晶(融点218〜
220.5℃の例示化合物CT−■−1 2.8srを
得た。
(製造例3)例示化合物CT−V−lの合成M、N−ジ
メチルホルムアミド200m1に下式で表わされるトリ
フェニルアミン化合物28.7gを分散し、0〜5℃で
オキシ塩化リン15.6gを滴下した。同温度で1時間
攪拌した後、70〜75℃まで昇温し、3時間攪拌した
。
メチルホルムアミド200m1に下式で表わされるトリ
フェニルアミン化合物28.7gを分散し、0〜5℃で
オキシ塩化リン15.6gを滴下した。同温度で1時間
攪拌した後、70〜75℃まで昇温し、3時間攪拌した
。
室温まで冷却した後、反応液を氷水800 mlに注ぎ
、水酸化ナトリウム水溶液を加え、アルカリ性とした。
、水酸化ナトリウム水溶液を加え、アルカリ性とした。
さらに室温で1時間攪袢した後、沈殿物をi戸取、乾燥
した。
した。
含水エタノールより再結晶して黄色結晶(65℃よりシ
ンター)の下記構造式 で表わされるアルデヒド化合物20.5gを得た。
ンター)の下記構造式 で表わされるアルデヒド化合物20.5gを得た。
このアルデヒド化合物2.7gと1.1−ジフェニルヒ
ドラジン塩酸塩1.5gをN、N−ジメチルホルムアミ
ド50m1に混合溶解し、室温で3時間攪拌した。原料
のアルデヒド化合物の消失を確認した後、水50m1を
加え、生じた沈澱を炉別、乾燥した。粗生成物を少量の
酢酸エチルに溶解し、エタノールを加え生じた沈澱を炉
別、乾燥し、黄色粉体(92℃よりシンター)の例示化
合物CT−V−12.5srを得た。
ドラジン塩酸塩1.5gをN、N−ジメチルホルムアミ
ド50m1に混合溶解し、室温で3時間攪拌した。原料
のアルデヒド化合物の消失を確認した後、水50m1を
加え、生じた沈澱を炉別、乾燥した。粗生成物を少量の
酢酸エチルに溶解し、エタノールを加え生じた沈澱を炉
別、乾燥し、黄色粉体(92℃よりシンター)の例示化
合物CT−V−12.5srを得た。
(実施例1)
ポリエステル樹脂(東洋紡製、商品名「バイロン200
J )0.5g、次記構造式で表わされるフタロシアニ
ン0. ’zr (CG−1)及びテトラヒドロフラ
ン50gをボールミルで粉砕、混合し、得られた分散液
をアルミニウム板にワイヤーバーを用いて塗布、80℃
で20分乾燥して約0.5μの電荷発生層を形成した。
J )0.5g、次記構造式で表わされるフタロシアニ
ン0. ’zr (CG−1)及びテトラヒドロフラ
ン50gをボールミルで粉砕、混合し、得られた分散液
をアルミニウム板にワイヤーバーを用いて塗布、80℃
で20分乾燥して約0.5μの電荷発生層を形成した。
この電荷発生層上に化合物(族2 CT−n−1)1
g、ポリカーボネート樹脂(商品名「パンライトに一1
300J帝人化或製)Igをクロロホルム10gに溶解
した溶液をワイヤーバーを用いて塗布、80℃で30分
乾燥して厚さ約18μの電荷輸送層を形成して、積層型
感光体を作製した。
g、ポリカーボネート樹脂(商品名「パンライトに一1
300J帝人化或製)Igをクロロホルム10gに溶解
した溶液をワイヤーバーを用いて塗布、80℃で30分
乾燥して厚さ約18μの電荷輸送層を形成して、積層型
感光体を作製した。
静電複写紙試験装置(■川口電機製作所製モデル EP
A−8100)を用いて感光体を印加電圧−6KVのコ
ロナ放電により(1シ電させ、その時の表面電位V。を
測定し、2秒間暗所に放置しその時の表面電位v2を測
定し、続いて感光体の表面光強度が10μw / cd
となる状態で780nm又は830nmの光を照射して
表面電位がv2の1/2になる特間を測定し、半減露光
量の逆数1 /El/2 (cd/μJ)をス1算し
た。また光照射10秒後の表面電位v1□即ち、残留電
位を測定した。
A−8100)を用いて感光体を印加電圧−6KVのコ
ロナ放電により(1シ電させ、その時の表面電位V。を
測定し、2秒間暗所に放置しその時の表面電位v2を測
定し、続いて感光体の表面光強度が10μw / cd
となる状態で780nm又は830nmの光を照射して
表面電位がv2の1/2になる特間を測定し、半減露光
量の逆数1 /El/2 (cd/μJ)をス1算し
た。また光照射10秒後の表面電位v1□即ち、残留電
位を測定した。
又、可視光での性能評価は同様の測定機器を用いて、ハ
ロゲンランプ(色温度 2856’K)を用いて、感光
体の表面の照度が51uxとなるようにして測定した。
ロゲンランプ(色温度 2856’K)を用いて、感光
体の表面の照度が51uxとなるようにして測定した。
半減露光ffi E l/2は(ILIX sec )
の11位でJp1定した。
の11位でJp1定した。
(実施例2)
ポリエステル樹脂(商品名「バイロン200J東洋紡製
)0.5部、と下記式フタロシアニン(CG−2)0.
5部及び C2 シクロヘキサノン50部をボールミルで粉砕混合し、得
られた分散液をアルミニウム板にワイヤーバーを用いて
塗布、80℃で20分乾燥して約1μmの電荷発生層を
形成した。この電荷発生層上に下式(CT−III−1
) で表わされる化合物1部、ポリカーボネート樹脂(商品
名「パンライトK −1300J含入化成製)1部をク
ロロホルム10部に溶解した溶液をワイヤーバーを用い
て塗布、80℃で30分乾燥して厚さ約18μmの電荷
輸送層を形成して、積WI型感光体を作製した。
)0.5部、と下記式フタロシアニン(CG−2)0.
5部及び C2 シクロヘキサノン50部をボールミルで粉砕混合し、得
られた分散液をアルミニウム板にワイヤーバーを用いて
塗布、80℃で20分乾燥して約1μmの電荷発生層を
形成した。この電荷発生層上に下式(CT−III−1
) で表わされる化合物1部、ポリカーボネート樹脂(商品
名「パンライトK −1300J含入化成製)1部をク
ロロホルム10部に溶解した溶液をワイヤーバーを用い
て塗布、80℃で30分乾燥して厚さ約18μmの電荷
輸送層を形成して、積WI型感光体を作製した。
静電複写紙試験装置(■川口電機製作所製モデル E
PA−8100)を用いて感光体を印加電圧−6KVの
コロナ放電により帯電させ、その時の表面電位V。を測
定し、その後2秒間暗所に放置しその時の表面電位v2
を1llll定し、続いて感光体の表面の光強度が10
部w/c−となる状態で780nm又は830nmの光
を照射して表面電位がv2の1/2になる時間を測定し
、1 / E l/2 (cj/μJ)を計算した。
PA−8100)を用いて感光体を印加電圧−6KVの
コロナ放電により帯電させ、その時の表面電位V。を測
定し、その後2秒間暗所に放置しその時の表面電位v2
を1llll定し、続いて感光体の表面の光強度が10
部w/c−となる状態で780nm又は830nmの光
を照射して表面電位がv2の1/2になる時間を測定し
、1 / E l/2 (cj/μJ)を計算した。
また光照射10秒後の表面電位V 即ち、残留電位を
測定12ゝ した。又、実施例1と同様にして、可視光でE 1/2
(1ux−see)を測定した。
測定12ゝ した。又、実施例1と同様にして、可視光でE 1/2
(1ux−see)を測定した。
(実施例3〜20)
電荷発生物質として表−1に例示した本発明の化合物の
内、表−6に掲げた化合物を夫々使用し、電荷輸送物質
として、表2〜5に例示した化合物の内、表−6に掲げ
た化合物をそれぞれ使用し、実施例1と同様に感光体を
作製し、1 / E 1/2(cd/μJ)及びE 1
/2 (!ux−see)を求めた。使用した電荷発
生物質、電荷輸送物質および1/E1/2 (cgf
/ u J ) 、E l/2 (lux−see)
を実施例1及び2と共に表−6に示す。
内、表−6に掲げた化合物を夫々使用し、電荷輸送物質
として、表2〜5に例示した化合物の内、表−6に掲げ
た化合物をそれぞれ使用し、実施例1と同様に感光体を
作製し、1 / E 1/2(cd/μJ)及びE 1
/2 (!ux−see)を求めた。使用した電荷発
生物質、電荷輸送物質および1/E1/2 (cgf
/ u J ) 、E l/2 (lux−see)
を実施例1及び2と共に表−6に示す。
(比較例−1)
α型無金属フタロシアニンを電荷発生物質として用いた
以外は実施例−1と同様にして、積層型感光体を作製し
た。実施例1と同様に測定した結果を表−6に示す。
以外は実施例−1と同様にして、積層型感光体を作製し
た。実施例1と同様に測定した結果を表−6に示す。
(比較例−2)
下記化合物を電荷発生物質として用いた以外は実施例−
1と同様にして、積WI型感光体を作製した。実施例1
と同様に測定した結果を表−6に示す。
1と同様にして、積WI型感光体を作製した。実施例1
と同様に測定した結果を表−6に示す。
O8i(C6H13)3
〔発明の効果〕
実施例、比較例より明らかなように、比較例の電荷発生
物質であるα−フタロシアニン、ケイ素ナフタロシアニ
ンの場合、波長780nm。
物質であるα−フタロシアニン、ケイ素ナフタロシアニ
ンの場合、波長780nm。
830nmにおける感度(C−/μJ))が著しく悪く
、かつ、光照射10秒後の表面電位vl。即ち残留電位
も高い、これは可視光においても同様に感度を表わす半
減露光量(ILIIK −5oc )が大きく即ち感度
が悪く、かつ残留電位が大きいことが判る。
、かつ、光照射10秒後の表面電位vl。即ち残留電位
も高い、これは可視光においても同様に感度を表わす半
減露光量(ILIIK −5oc )が大きく即ち感度
が悪く、かつ残留電位が大きいことが判る。
これに対し、本発明の電荷発生物質及び電荷輸送物質を
使用すると感度、残留電位共に良好な値となっている。
使用すると感度、残留電位共に良好な値となっている。
即ち本発明の電子写真感光体は、半導体レーザー発振領
域である波長800.nm前後の光に対して高感度な特
性を有しており、シフト化剤で特別な処理をする必要が
ないという優れた特性を有する。
域である波長800.nm前後の光に対して高感度な特
性を有しており、シフト化剤で特別な処理をする必要が
ないという優れた特性を有する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、導電性支持体上に有機光導電性物質を含有する光導
電層を有する電子写真感光体において、前記有機光導電
性物質が一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、MはSi、Ge、Snを表わし、Xは水酸基、
塩素、臭素、ヨウ素、フッ素を表わす。〕で表わされる
化合物を含む電子写真感光体。 2、光導電層が電荷発生層と電荷輸送層より構成されて
おり、かつ電荷発生層中に一般式( I )の有機光導電
性物質を含有している請求項1記載の電子写真感光体。 3、電荷輸送層中に下記一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、Ar_1、及びAr_2は置換又は未置換のア
リール基を表わし、R^1は水素原子、ハロゲン原子又
はアルキル基を表わし、R^2及びR^3は各々独立に
置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリー
ル基を表わす。〕 で示される電荷輸送物質を含む請求項2記載の電子写真
感光体。 4、電荷輸送層中に下記一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔式中、k、l、m、nは0又は1を表わし、R^4、
R^5、R^6、R^7、R^8、R^9、R^1^0
及びR^1^1は各々独立にアルキル基、置換又は未置
換のアリール基を表わす。〕 で示される電荷輸送物質を含む請求項2記載の電子写真
感光体。 5、電荷輸送層中に下記一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 〔式中、R^1^2、R^1^3、R^1^6及びR^
1^7は各々独立に水素原子、アルキル基、置換又は未
置換のアリール基、複素環基を表わし、R^1^4、R
^1^5、R^1^8及びR^1^9は各々独立にアル
キル基、アラルキル基、置換又は未置換のアリール基を
表わす。〕 で示される電荷輸送物質を含む請求項2記載の電子写真
感光体。 6、電荷輸送層中に下記一般式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 〔式中、R_2_0及びR_2_1は置換又は未置換の
アリール基を表わし、R_2_0とR_2_1は直接も
しくは連結基を介して結合してもよく、R_2_2は水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基もしくは置換又は未
置換のフェニル基を表わし、R_2_3及びR_2_4
はアルキル基、アラルキル基もしくは置換又は未置換の
アリール基を表わし、少なくとも一方は置換又は未置換
のアリール基である。〕 で示される電荷輸送物質を含む請求項2記載の電子写真
感光体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1-107594 | 1989-04-28 | ||
JP10759489 | 1989-04-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0373961A true JPH0373961A (ja) | 1991-03-28 |
Family
ID=14463117
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2096223A Pending JPH0373961A (ja) | 1989-04-28 | 1990-04-13 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0373961A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006321794A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-30 | Mitsubishi Chemicals Corp | 芳香族アルデヒド化合物の精製方法、精製された芳香族アルデヒド化合物、それを用いた電子材料、電子写真感光体及び電子デバイス |
JP2007259841A (ja) * | 2006-03-28 | 2007-10-11 | Seiji Kuraki | タバコ消火台 |
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-
1990
- 1990-04-13 JP JP2096223A patent/JPH0373961A/ja active Pending
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JP2007259841A (ja) * | 2006-03-28 | 2007-10-11 | Seiji Kuraki | タバコ消火台 |
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