JPH03501735A - ７置換‐ヘプト‐６‐エン酸、ヘプタン酸及び誘導体並びにそれらの中間体の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ７置換−ヘッド−６−エン酸、ヘプタン酸及び誘導体並びにそれらの中間体の製 法 本発明は７−置換されたヘプト−６−エン酸及び−ヘプタン酸並びにその誘導体 及び中間体に関する。

１、亘釣 本発明は式Ｉ 式中、Ｘは−ＣＨ２ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−テあり；Ｒ８は反応条件に不 活性なエステル基であり；そしてＲは還元条件下で不活性である基を有する有機 基である、の化合物の製造方法に関する。

また本発明は従来の中間体（式Ｖａ及び■、下記参照）の製造方法からなる。

これらの種々な製造工程に関する共通の特徴は、コレステロール生合成阻害剤で ある７−置換された一ヘプトー６−エン酸及び−へブタン酸目的生成物並びにそ の誘導体の製造における種々な工程で全ての改善をもたらすことである。この関 連を１つの特定なコレステロール生合成阻害剤、即ち、ラセミまたは光学的に純 粋な型；遊離酸、エステルもしくはδ−ラクトン、即ち、分子内エステル型にお けるユリスロー（Ｅ）−３，５−ジヒドロキシ−７−［３’−（４′−フルオロ フェニル）−１′−（１“−メチルエチル）−インドルー２−イル］ヘプトー６ −エン酸の製造に関する特定の具体例について以下に述べる。

式Ｉの化合物の製造に対する本発明の方法は式■式中、Ｒ，Ｒ，及びＸは上に定 義したとおりであり、モしてＺ、及びＺ２の１つは酸素であり、他はヒドロキシ 及び水素である、のラセミまたは光学的に純粋な化合物を立体選択的に還元し、 式１の対応する化合物を製造することからなる。

式Ｉから明らかなように、該化合物はシン、即ち、エリスロ立体配置を有する。

式の始めまたは名称中に示す記号（Ｅ）は二重結合がトランス立体配置であるこ とを示す。

また本発明はエリスロ対スレオ異性体の比が９９．１　：　０．９またはこれ以 上、好ましくは９９．５　：　ｏ、ｓまｔ；はこれ以上；特に９９．７：０゜３ またはこれ以上であるような光学的に純粋な状態における上に定義した式Ｉの化 合物からなる。

エステルである式１の化合物並びに対応する遊離酸、塩及び環式エステル（δ− ラクトン）は殊にＨＭＧ−ＣｏＡ還元酸素阻害剤、即ち、コレステロール生合成 阻害剤としての薬剤であり、従って、該化合物は過コレステリン血症、高すポタ ンパク質血症及びアテローム性動脈硬化症の処置に対する用途を示している。

２、好ましい意味 エステル基Ｒ３は好ましくは、所望の目的生成物がエステルである場合、生理学 的に許容し得る且つ加水分解され得るエステル基である。

「生理学的に許容し得る且つ加水分解され得るエステル基」なる用語は、結合し た一〇〇〇−基と一緒になって、生理学的に許容し得る且つ生理学的条件下で加 水分解されて対応する式１の化合物のカルボン酸（即ち、Ｒｏが水素で置換され る）及びそれ自体生理学的に許容し得る、即ち所望の投薬量レベルで無毒性なア ルコールを生成する基、好ましくは不斉中心を含まぬ基を意味する。

Ｒ１は好ましくはＲ３であり、ここでＲ２はＣ１−４アルキルまｊ；はベンジル 、特にＲ，／であり、ここで、Ｒ２′　はＣｌ−３アルキル、ｎ−ブチル、ｉ− ブチル、ｔ−ブチルまたはベンジル、例えばエチル、好ましくはイソプロピルま たはｔ−ブチル、特にｔ−ブチルである。

Ｘは好ましくはＸ′であり、ここで　）（７は−ＣＨ−ＣＨ−１好ましくは（Ｅ ）−ＣＨ−ＣＨ−である。

Ｒは好ましくは次の如き基Ａ、ＢＳＣ，ＤＳＥａ、ＥｂＳＥｃ、Ｆ。

Ｇ、ＨＳ　Ｊ、ＫＳＬＳＭまたはＮから選ばれる：Ａ　Ｒ，ａ、Ｒ，、ａ及びＲ ，ａ、または−ＯＲ，ａで置換されたフェニル、ここ　で、Ｒ，ａ、、Ｒ２ａ及 びＲ３ａは独立に、水素；ハロ；Ｃ１−４アルキル１ｃｌ−４ハロアルキル；フ ェニル；ハロ、０１〜４アルコキシ、Ｃ１〜、アルカノイルオキシ、Ｃ１〜、ア ルキルまたはＣ２−、ハロアルキルで置換されたフェニルであり；Ｒ，ａは水素 、Ｃ２〜、アルカノイル、ベンゾイル、フェニル、ハロフェニル、フェニル（Ｃ ，〜、アルキル）、０１〜．アルキル、シンナミル、Ｃ１〜４ハロアルキル、ア リル、シクロアルキルＣＣ＋〜、アルキル）、アダマンチル（Ｃ＋〜、アルキル ）または置換されたフェニルであり、該置換基はハロ％Ｃ１〜、アルコキシ、ｃ ｌ−４アルキル及びＣ３〜。

ハロアルキルから選ばれ；ここで、ハロゲン原子はフルオロまｔ；はクロロであ り、そしてシクロアルキルにはシクロヘキシルが含まれ； 式中、Ｒ，ｂ及びＲ，ｂは一緒になって、式ａ　）　−Ｃ＝Ｃ−Ｃ；Ｃ−まｔ； は　ｂ　）　−ＣＨｚ−ＣＨｚ−ＣＨｚ−ＣＨｚ−Ｉ Ｒｔｂ　Ｒａｂ の基を形成し； Ｒ，ｂは水素、ｃｌ〜、アルキル％Ｃ１〜、アルコキシ、トリフルオロメチル、 フルオロ、クロロ、フェノキシまにはベンジルオキシであり；Ｒｉ　ｂは水素、 ｃ　ｉ−ｘアルキル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、Ｃ１〜、アルコキシ、ｎ−ブト キシ、ｌ−ブトキシ、トリフルオロメチル、フルオロ、クロロ、フェノキシまた はベンジルオキシであり；Ｒｉｂは水素、Ｃ０〜、アルキル、Ｃ８〜、アルコキ シ、トリフルオロメチル、フルオロ、クロロ、フェノキシまたはベンジルオキシ であり：条件として、Ｒ４ｂ及びＲ，ｂの多くて１つがトリフルオロメチルであ り、Ｒ４ｂ及びＲ，ｂの多くて１つがフェノキシであり、そしてＲ４ｂ　及びＲ ｓ　ｂの多くてｌがベンジルオキシであるものとする；Ｒｉｂは水素、Ｃ＋〜２ アルキル、ｃｌ〜、アルコキシ、フルオロまたはクロロであり； Ｒ，ｂは水素、Ｃ，〜、アルキル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、Ｃ０〜、アルコキ シ、ｎ−プＩ・キシ、トリフルオロメチル、フルオロ、りコロ、フェノキシまた はベンジルオキシであり；Ｒｓｂは水素、Ｃ１〜、アルキル、Ｃ，〜３アルコキ シ、トリフルオロメチル、フルオロ、クロロ、７ユノキシまｔ；はベンジルオキ シであり；条件として、Ｒ，ｂ及びＲ，ｂの多くて１つがトリフルオロメチルで あり、Ｒｙｂ及びＲａ　ｂの多くて１つがフェノキシであり、モしてＲ，ｂ及び Ｒ，ｂの多くて１つがベンジルオキシであり；更に条件として、環Ｂａ及びＢｂ における遊離原子価は各々相互にオルトである； 式中、Ｒ，ｃ及びＲ２ｃの１つはＲｓｃ、Ｒ６ｃ及びＲ７ｃで置換されｔ；７ニ ニルであり、そして他はＣＩ〜、アルキル、ｎ−ブチルまたはｉ−ブチルであり ； Ｒ，ｃは水素、Ｃ１−３アルキル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、Ｃ１ 〜、アルコキシ、ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、トリフルオロメチル、フルオロ 、クロロ、フェノキシまたはベンジルオキシであり； Ｒａｃは水素、Ｃｌ−、アルキル、Ｃ１〜、アルコキシ、トリフルオロメチル、 フルオロ、りコロ、フェノキシまたはベンジルオキシであす；条件として、Ｒ３ ｃ及びＲ，ｃの多くて１つがトリフルオロメチルであり、Ｒｓｃ及びＲ４ｃの多 くて１つがフェノキシであり、モしてＲ，ｃ及びＲ，ｃの多くて１つがベンジル オキシであり：Ｒ，ｃは水素、ｃｌ−１アルキル、ｎ−ブチル、１−ブチル、ｔ −ブチル％Ｃ１〜、アルコキシ、ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、トリフルオロメ チル、フルオロ１、りコロ、フェノキシまたはベンジルオキシであり； Ｒａｃは水素、Ｃ１〜、アルキル％Ｃ１〜、アルコキシ、トリフルオロメチル、 フルオロ、クロロ、フェノキシまたはベンジルオキシであり；条件として、Ｒｓ ｃ及びＲｓｃの多くて１つがトリフルオロメチルであり、Ｒｓｃ及びＲａｃの多 くて１つがフェノキシであり、そしてＲｓｃ及びＲ，ｃの多くて１つがベンジル オキシであり、Ｒ７Ｃは水素、Ｃ１〜２アルキル、Ｃ１〜、アルコキシ、フルオ ロまたはりコロである； 式中、Ｒ８は水素または不斉炭素原子を含まぬ第一もしくは第二０１〜．アルキ ルであり； Ｒ２ｄは不斉炭素原子を含まぬ第一もしくは第二Ｃ０〜、アルキルであるか、ま たは Ｒ，ｄ及びＲ，ｉｆ−緒ニナッテ、−（ＣＨ２）ｍ−または（Ｚ）−ＣＨ２−Ｃ Ｈ＝ＣＨ−Ｃ１（２−であり、ここで、ｍは２．３．４．５または６であり、Ｒ ３ｂは水素、０１〜．アルキル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル％Ｃ１〜 、アルコキシ、ｎ−ブトキシ、ｌ−ブトキシ、）・リフルオロメチル、フルオロ 、クロロ、フェノキシまたはベンジルオキシであり、 Ｒ，ｄは水素、Ｃ８〜、アルキル、Ｃ１〜、アルコキシ、トリフルオロメチル、 フルオロ、クロロ、フェノキシまたはベンジルオキシであり、条件として、Ｒｌ ｄ及びＲａｄの多くて１つがトリフルオロメチルであり、Ｒ，ｄ及びＲａｄの多 くて１つがフェノキシであり、そしてＲ，ｄ及びＲｓ　ｄの多くて１つがベンジ ルオキシである；Ｒ，ｄは水素、Ｃ１−、アルキル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、 ｔ−ブチル、Ｃ１〜、アルコキシ、ｎ−ブトキシ、トリフルオロメチル、フルオ ロ、クロロ、フェノキシまＩ；はベンジルオキシであり、Ｒ６ｄは水素、ｃ＋＋ ３アルキル、ｃｌ〜、アルコキシ、トリフルオロメチル、フルオロ、クロロ、フ ェノキシまたはベンジルオキシでアリ、条件として、Ｒ，ｄ及びＲ，ｄの多くて １つがトリフルオロメチルであり、Ｒｓｄ及びＲ１の多くて１つがフェノキシで あり、そしてＲ１４及びＲａｍの多くて１つがベンジルオキシであり、ＲＴｄは 水素、ｃｌ〜２アルキル、ｃｌ〜２アルコキシ、フルオロまたはクロロである； 式中、Ｒ１ｅ１Ｒ２ｅ及びＲ，ｅの各々は独立に、フルオロ、クロロ、水素また はＣ１〜、アルキルであり、Ｒ，ｅは好ましくはメチルである；式中、Ｒａｇは 不斉炭素原子を含まぬＣ８−、アルキルであり、Ｒｌｆ及びＲｉｆの各々は独立 に、水素、Ｃ１〜、アルキル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、Ｃｌ−３ アルコキシ、ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、トリフルオロメチル、フルオロ、ク ロロ、フェノキシまたはベンジルオキシであり、 Ｒ，ｆ及びＲ，ｆの各々は独立に、水素、０１〜．アルキル、０１〜．アルコキ シ、トリフルオロメチル、フルオロ、クロロ、フェノキシまｔ；はベンジルオキ シであり、そして Ｒ，ｆ及びＥｙｆの各々は独立に、水素、Ｃ２〜、アルキル、Ｃ１〜、アルコキ シ、フルオロまｔ二はクロロであり、条件として、Ｒｌｆ及びＲａｇの多くて１ つがトリフルオロメチルであり、Ｒ，ｆ及びＲ，ｆの多くて１つがフェノキシで あり、Ｒ，ｆ及びＲｓ　ｆの多くて１つがベンジルオキシであり、Ｒ，ｆ及びＲ ，ｆの多くて１つがトリフルオロメチルであり、Ｒｌｆ及びＲ，ｆの多くて１つ がフェノキシであり、モしてＲｓｆ及びＲ，ｆの多くて１つがベンジルオキシで あり； 条件として、 （１）ピラゾール環の遊離原子価は４−または５−位置であり、そしくｎ）Ｒａ ｇ基及び遊離原子価は相互にオルトである；式中、ＲａｇはＸに対する単結合で あり、ＲｂｇはＲｚｇであり、Ｒ，。

またはＴａｇはＩ’ｈｇであり、Ｒｈ、はＸに対する単結合であり、ＲｃｇはＲ ｚｇであり、ＲｄｇはＲｓｇであり、モしてＫはＯｌＳまたは−Ｎ−であり： Ｒａｇ Ｒｌｇｓ　Ｒ２ｇＳＲｓｇ及びＲｉ　ｇは独立に、不斉炭素原子を含まぬＣ１〜 、アルキル、Ｃ３−、シクロアルキルまｔ；はＲｓｇｓ　Ｒ，ｇ及びＲｙｇで置 換されたフェニルであるか、或いはＲｓｇ及びＲａ　Ｈの場合、追加的に水素で あるか、またはＫが０またはＳである場合である場合のＲｌｆに対して、ＸはＸ ／、追加的にＧａであり、Ｇａは一〇（Ｒ＋　ｙｇ）Ｃ（Ｒ＋　ｓｇ）Ｒ＋　ｅ ｇであり、ここでＲ＋ｔｇは水素またはＣ１〜、アルキルであり、そしてＲａｇ ｇ及びＲ＋＊ｇは独立に、水素、０１〜．アルキルまたはフェニルであり、 各Ｒｉｇは独立に、水素、Ｃ１〜、アルキル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブ チル、Ｃ８〜、アルコキシ、ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、トリフルオロメチル 、フルオロ、クロロ、ブロモ、フェニル、フェノキシまプニはベンジルオキシで あり； 各Ｒｓｇは独立に、水素、Ｃ１〜、アルキル、Ｃ１〜、アルコキシ、トリフルオ ロメチル、フルオロ、りフロ、ブロモ、フェノキシまたはベンジルオキシであり ；そして 各ＲｔｌＫは独立に、水素、０１〜．アルキル％Ｃ１〜、アルコキシ、フルオロ まｔ；はクロロであり、 条件として、トリフルオロメチル、各フェニル環においてＲｓ　ｇ　ｓＲａｇ及 びＲｔｇで置換されたフェノキシ及びベンジルオキシの各１個のみが存在するも のとする； 式中、Ｒ＋ｈは不斉炭素原子を含まぬＣ１〜、アルキル、Ｃ３〜７シクロアルキ ル、アダマンチル−１またはＲ，ｈ、　Ｒｓｈ及びＲ，ｈで置換されたフェニル であり； Ｒ，ｈは不斉炭素原子を含まぬ０１〜．アルキル、Ｃ８〜、シクロアルキル、ア ダマンチル−１まｔ；はＲ，ｈ、Ｒｌｈ及びＲｌｈで置換されたフェニルであり ； Ｒｓ　ｈは水素、不斉炭素原子を含まぬ０１〜．アルキル、Ｃ８〜、シクロアル キル、アダマンチル−１、スチリルまたはＲ８゜ｈＳＲｌｒｈ及びＲ、、ｈで置 換されＩ；フェニルであり、各Ｒ，ｈ、Ｒ，ｈ及びＲ＋ｏｈは独立に、水素、Ｃ Ｉ−Ｓアルキル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ｃｌ〜Ｓアルコキシ、 ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、トリフルオロメチル、フルオロ、クロロ、ブロモ 、フェニル、フェノキシまたはベンジルオキシであり、各Ｒ１ｈ、　Ｒ，ｈ及び Ｒｒ　ｌｈは独立に、水素、ＣＩ〜、アルキル、Ｃ０〜為アルコキシ、トリフル オロメチル、フルオロ、クロロ、ブロモ、−ＣＯＯＲ＋ｔｈ１−ＮＣＲ＋５ｈ） ｚ、フェノキシまｌ；はベンジルオキシであり、ここで、 Ｒ＋ｙｈは水素、ＲｉａｈまたはＭであり、ここで、Ｒ１，ｈはＣ３〜、アルキ ル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチルまたはベンジルであり、そして Ｍは上に定義したとおりであり、 各Ｒａ５ｈは独立に、不斉炭素原子を含まぬＣ３〜６アルキルであり、各Ｒａｈ 、Ｒ，ｈ及びＲ，２ｈは独立に、水素、Ｃ，〜Ｃ，アルキル、Ｃ２〜、アルコキ シ、フルオロまたはりクロであり、条件として、各フェニル環における置換基の 多くとも１つが独立に、トリフルオロメチルであり、各フェニル環における置換 基の多くとも１つが独立にフェノキシであり、その各７ニニル環における置換基 の多くとも１つが独立にベンジルオキシである；式中、Ｒ、ｊ及びＲ３ｊの各々 は独立に、不斉炭素原子を含まぬＣ２〜、アルキル％Ｃ３〜、シクロアルキルま ｌ；はフェニル−（ＣＨ２）ｍ−でアリ、ここで、ｍは０．ｌ、２まｔ；は３で あり、そしてフェニル基は未置換またはＲ３ＪｓＲａｊ及びＲｓｊのいずれかで 置換され、ここでＲ３ｊ、Ｒ，ｊ及びＲ，ｈは下に定義したとおりであり：Ｒｚ ｊは−Ｙｊ−ベンジル、−Ｎ（Ｒａｊ）ｚまＩ；はＪａであり、ここで、 Ｙ」は−〇−または−８−であり； 各Ｒａｊは独立に、不斉炭素原子を含まぬＣ０〜Ｃ４アルキルであるか、まｔ： は５−１６−もしくは７−員環Ｊｂの部分を形成することができ、環Ｊｂは置換 されるか、または未置換であり、そしてまた随時１個またはそれ以上のへテロ原 子を含んでいてもよく：そしてＪａはＪａ’　またはＪａ”であり、ここで、Ｊ ａ’は複素環式基であり、該基は未置換であるか、または１個もしくは２個Ｃ１ −２アルキルまたはＣｌ−２アルコキシ基で置換され、そして Ｊａ”はＪａ＃ａｔ１ｔ；はＪ　ａ＃ｂであり、ここで、 Ｒｓｊは水素、Ｃ１〜、アルキル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、Ｃ１ 〜、アルコキシ、ｎ−ブトキン、ｉ−ブトキシ、トリフルオロメチル、フルオロ 、クロロ、フェノキシまたはベンジルオキシであり、 Ｒ６ｊは水素、Ｃ１〜、アルキル、Ｃ１〜、アルコキシ、トリフルオロメチル、 フルオロ、りクロ、フェノキシまにはベンジルオキシであり、そして Ｒｓｊは水素、０１〜２アルキル、０１〜３アルコキシ、フルオロまｌ；はりク ロであり； 条件として、Ｒｓｊ及びＲａｊの多くとも１つがトリフルオロメチルであり、Ｒ ｓｊ及びＲｓｊの多くとも１つはフェノキシであり、そしてＲｓｊＲびＲａｊの 多くとも１つがベンジルオキシである；２ｈ 式中、各Ｒｒ　ｋ及びＲ，には独立に、（ａ）Ｒ，に、Ｒ，ｋ及びＲｙ　ｋで置 換されたフェニル、ここでＲ，には水素、０１〜．アルキル、ｎ−ブチル、１− ブチル、を−ブチル、ｃｌ〜、アルコキシ、ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、トリ フルオロメチル、フルオロ、クロロ、フェノキシまたはベンジルオキシであり； Ｒ，には水素、ｃｌ〜３ｌｈキル、ｃｌ〜、アルコキシ、フルオロまたはクロロ であり；そして Ｒ，には水素、Ｃ１〜、アルキル、ＣＩ〜２アルコキシ、フルオロまたはクロロ であり； （ｂ）　水素、まｔ；は不斉炭素原子を含まぬ第一もしくは第二〇、〜。アルキ ル； （ｃ）　ｃｓ−ａシクロアルキル；または（（１）ｙｓニル−（ＣＨｚ）ｍ−１ ここで、ｍは１．２まＩ；は３である、である； Ｒ，Ｑ 式中、ＹＱは＝ＣＨ−ＣＨ−ＣＨ−１，ｌ−１−Ｃ１（−ＣＨ−Ｎ−ＣＨ−１− ＣＩ（−Ｎ−ＣＨ−ＣＨ−または−Ｎ＝ＣＨ−ＣＨ−ＣＨ−であり、 Ｒ，Ｑは不斉炭素原子を含まぬ第一〇、〜、アルキル；またはイソプロピルであ り； Ｒ２Ｑは次のものである： ａ　）　ＲＪ　ｓ　ＲＣ１２及びＲ，＋２で置換されたフェニル、ここで、Ｒ， Ｑはｔ−ブチル、Ｃ０〜、アルコキシ、ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、トリフル オロメチル、フルオロ、りクロ、フェノキシまたはベンジルオキシであり； Ｒ＠Ｑは水素、ｃｌ〜、アルキル、Ｃ，−、アルコキシ、トリフルオロメチル、 フルオロ、クロロ、フェノキシまたはベンジルオキシであり； 条件どして、Ｒ，Ｑ及びＲ，Ｑの多くとも１つがトリフルオロメチルであり、Ｒ ，Ｑ及びＲ，Ｑの多くとも１つがフェノキシであり、そして ＲＪ及びＲＪの多くとも１つがベンジルオキシであり、Ｒ，Ｑは水素、Ｃ１〜２ アルキル、Ｃ１〜、アルコキシ、フルオロまたはクロロであり、 ｂ）不斉炭素原子を含まぬ第一または第二Ｃ５〜。アルキル、ｃ）Ｃ３〜、シク ロアルキル、或いは ｄ）ｙｘニル−（ＣＨｔ）！０−１ここで、ｍは１．２または３である：式中、 Ｒ，ｍは不斉炭素原子を含まぬＣ，〜、アルキル、ｃ、〜、シクロアルキル、（ Ｃｓ−ｔシクロアルキル）メチル、フェニル−（ＣＨｔ）ｍ−、ピリジル−２、 ピリジル−３、ピリジル−４、チェニル−２、チェニル−３、またはＲ３ｍ、Ｒ ａｍ及びＲｔｍで置換されたフェニルであり； Ｒａｍは不斉炭素原子を含まぬＣ１〜、アルキル、ｃ、〜、シクロアルキル、（ ＣＳ−，シクロアルキル）メチル、フェニル−（ＣＨりｌ１１−％　ピリジル− ２、ピリジルー３、ピリジルー４、チェニル−２、チェニル−３またはＲ＠ｍ１ Ｒａｍ及びＲ１゜ｍで置換されたフェニルであり、条件として、Ｒ，ｍ及びＲａ ｍの多くとも１つがピリジルー２、ピリジル−３、ピリジルー４、チェニル−２ 、チェニル−３、Ｒ６ｍ。

Ｒａｍ及びＲａｍで置換されたフェニル並びにＲａｍｌＲｓｍ及びＲ１゜ｍで置 換されたフェニルからなる基の一員である；Ｒ，ｍは不斉炭素原子を含まぬ０１ 〜．アルキル、ｃ、〜７シクロアルキルまたはＲｒ　１ｍ　ｓ　Ｒ１２ｍ及びＲ １，ｍで置換されたフェニルであり；Ｒ，ｍは不斉炭素原子を含まぬＣ３〜、ア ルキル、Ｃ，〜、シクロアルキルまたはＲ＋＋ｍ％Ｒ＋ａｍ及びＲ，６ｍで置換 されたフェニルであり：ここで 各Ｒａｍ５　Ｒ＠ｍ％Ｒ１，ｍ及びＲ、、ｍは独立に、水素、ｃ、−、アルキル 、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ＣＩ〜、アルコキシ、ｎ−ブトキシ、 ｉ−ブトキシ、トリフルオロメチル、フルオロ、クロロ、ブロモ、フェニル、フ ェノキシまｔ；はベンジルオキシでアリ、各Ｒ＊ｍ％ＲｅＱ％　Ｒｕｍ及びＲ、 、ｍは独立に、水素、ＣＩ−３アルキル、Ｃ１，アルコキシ、トリフルオロメチ ル、フルオロ、クロロ、フェノキシまたはベンジルオキシであり、そして各Ｒ， ｍｓ　Ｒｏｏｍ、Ｒ＋ｓｍ及びＲ，、ｍは独立に、水素、ＣＩ−２アルキル％Ｃ １〜、アルコキシ、フルオロまたはクロロであり、条件として、各フェニル環に おける置換基の多くとも１つが独立に、トリフルオロメチルであり、各フェニル 環における置換基の多くとも１つが独立に、フェノキシであり、そして各フェニ ル環における置換基の多くとも１つが独立に、ベンジルオキシである；式中、各 ＲｒｎｓＲ２ｎ及びＲａｎは独立に、炭素原子１〜４個のアルキル；またはフェ ニルであり、該フェニルは未置換であるか、或いは炭素原子１〜３１′ｌｌ！Ｉ のアルキルまたはアルコキシ基１個または２個、クロロで、または１個のフルオ ロ、ブロモもしくはトリフルオロメチル置換基で置換されていてもよく；Ｒ，ｎ は水素または炭素原子１〜３個のアルキル、例えばメチルであり； Ｒｓｎは水素、低級アルキルまたはアルコキシ：ハロ、トリフルオロメチル；或 いはフェニル、ベンジルまｔ；はベンジルオキシであり、ここで、芳香族部分は 未置換であるか、また２個までの基、その１つはフルオロ、ブロモもしくはトリ フルオロメチル；低級アルキルまたはアルコキシであってもよい１個または２個 の基、まｔ；はクロロで置換されていてもよく； Ｒ，ｎは水素、低級アルキルもしくはアルコキシ、ハロまたはトリフルオロメチ ルであり；そして Ｒ７ｎは水素、低級アルキルもしくはアルコキシ、ハロまたはトリフルオロメチ ルであり： Ｒ４ｎ＋　Ｒ＠　ｎ　％　Ｒｓ　ｎ　十Ｒｉ　ｎ　ｓまたはＲ４ｎ＋Ｒ７ｎのい ずれがは−ＣＨ−ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−または−（Ｃ）＋２）４−は構成し、環を 形成することができ、該環は水素；ハロまたは低級アルキルもしくはアルコキシ であるＲａｎで置換され； 条件として、分子においてトリフルオロメチル基の多くとも１個、そしてブロモ 置換基の多くとも２個の置換基が存在する。

式Ｉの化合物をＲの意味に応じて１３群、即ち、群ＩＡ〜ＩＮに分けることがで きる、即ち： Ｒ−Ａの場合、ＩＡ。

Ｒ−Ｂの場合、ＩＢ。

Ｒ■Ｃの場合、ＩＣ１ Ｒ−Ｄの場合、ＩＤ。

Ｒ−ＥａＳＥｂまＩ；はＥｃの場合、ＩＥ。

Ｒ−Ｆの場合、ＩＰ。

Ｒ−Ｇの場合、ＩＧ。

Ｒ−Ｈの場合、ＩＨ。

Ｒ暉Ｊの場合、ＩＪ。

Ｒ−にの場合、ＩＫ。

Ｒ−Ｌの場合、ＩＬ。

Ｒ−Ｍの場合、ＩＭ及び Ｒ−Ｎの場合、ＩＮ。

３、立体化学 一般に、式■のヒドロキシ−ケト化合物を式１のジヒドロキシ化合物に還元する 場合、追加の不斉中心を生ずる。従って、式■のラセミ化合物を用いる場合、生 ずる式Ｉの化合物の４種の立体異性体（エナンチオマーの２対、即ち、エリスロ エナンチオマーの対及びスレオエナンチオマーの対からなる）を生成する。また 、式■の化合物の光学的に純粋な化合物を用いる場合、式Ｉの化合物の２種のジ アステレオ異性体（即ち、１つのニリスロ及び１つのスレオ異性体）、例えば３ Ｒ，５３及び３Ｓ。

５Ｓジアステレオ異性体を生成し、これらのものは５ＳＬヒドロキシ化合物の還 元により生ずる。ジアステレオ異性体を普通の方法によって、例えば分別結晶、 カラムクロマトグラフィー、分取薄層クロマトグラフィーまｔ；はＨＰＬＣによ って分離することができる。これらの方法によって得られるエリスロ対スレオ異 性体の割合は通常変わり、例えば約９８＝１までであることができる。

本発明の立体選択的方法により、式■のラセミ化合物を用いる場合、生ずる式Ｉ の化合物の２種の立体異性体のみ（エナンチオマーのエリスロ対からなる）をほ とんど排他的に生ずる。また、式■の光学的に純粋な化合物を用いる場合、式１ の化合物の１つのエナンチオマーのみをはとんど排他的に生成し、このエナンチ オマーは対応するエリスロエナンチオマーである。例えば３Ｒ，５Ｓエナンチオ マーはＸが−ＣＨ−ＣＨ−である５Ｓヒドロキシ化合物の還元によって得られる 。

本発明の方法によって得られるニリスロ対スレオ異性体の割合は約９９．１：０ ．９またはこれ以上、殊に約９９．５：０．５またはこれ以上、特に、約９９． ７：０．３またはこれ以上である。

本明細書に用いた如き「立体選択的」なる用語は、エリスロ対スレオ型の割合が ９９．１　：　０．９まｔ；はこれ以上であることを意味する。

本発明によるＸが−ＣＨ＝ＣＨ−である式１の化合物の立体異性体は３Ｒ１５Ｓ 及び３Ｓ、５Ｒ異性体並びにこれらの双方からなるラセミ体であり、その３Ｒ， ５３異性体及びラセミ体が好ましい。

本発明によるＸが一〇）１２ｃ）ｌ−である式Ｉの化合物の立体異性体は３Ｒ２ ５Ｓ及び３Ｓ、５Ｓ異性体並びにこれらの双方からなるラセミ体であり、その３ Ｒ，５Ｓ異性体及びラセミ体が好ましい。

４、技術分野 式■の化合物のケト基の還元に対する普通の方法で、不活性有機溶媒、例えば低 級アルカノール中で温和な還元剤、例えば水素化ホウ素ナトリウムまたはｔ−ブ チルアミン及びボランの錯体を用い、光学に純粋な出発化合物からジアステレオ マー互の混合物、まｔ；、ラセミ出発物質からラセミ性ジアステレオマーを生成 させる。

三二程の部分的立体選択的還元法を用い、ラセミ性出発物質から主としてエリス ロラセミ体を得る。第一工程において、式■の化合物を、アルコール及びテトラ ヒドロフラン（ＴＨＦ）からなる反応媒質中で、トリアルキルポラン化合物また は式■ Ｒ＋０−Ｂ−（Ｒａ）＊　（ｍ） 式中、Ｒ４はアリルまたは好ましくは第三でない炭素原子１〜４債を有する低級 アルキルであり、モしてＲ３は好ましくは第三でない炭素原子２〜４個を有する 第一または第二アルキルである、の化合物と接触させる。かかる方法の第二工程 において、水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨａ）を反応媒質に加え、反応がケ ト基の還元と共に進行し、そしてまた、式１の化合物の環式ポロネートまたはポ ラン錯体を生成する。第三工程において、ボロン錯体及び／または環式ポロネー トエステルを含む反応混合物をメタノールまたはエタノールと共沸させるか、或 いはまた、有機溶媒中にてパーオキシ化合物、例えば過酸化物、例えば、過酸化 水素、または過ホウ素、酸塩、例えば過ホウ素酸ナトリウムで処理し、式１の化 合物を生成させる。上記の方法は例えばスレオ異性体に関する約９８％選択性を 有するエリスロラセミ体を提供する［チン（Ｃｈｅｎ）等、テトラヘドロン・レ ターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ）２８．１５５　（１９８７ ）］。

５、詳細な説明 本発明の方法は、式１のエリスロ異性体をほとんど排他的に得るために、式■の ラセミ性及び光学的に純粋な化合物を立体選択的に還元する方法からなる。有利 には、式ｎの化合物のケト基の還元が実際に即座に起こる。式Ｉの化合物、即ち 、エリスロ異性体が追加的に化学的純度の増加した状態で得られ、更に、簡単な 再結晶化によって約９９％の化学的純度に高めることができる。

本発明の方法の第一工程［工程（ａ）］に従い、式■の化合物を、アルコール及 びテトラヒドロフランからなる反応媒質中で水素化ホウ素ナトリウムＮ　ａ　Ｂ 　Ｈ４と混合する。

第二工程［工程（ａ）］において、式■の化合物を適当な条件下で、工程（ａ） で得られた混合物で処理し、式ＩＶ（ａ）の環式ポロネート化合物及び／また１ ま式ＩＶ（ｂ）式中、Ｒ，Ｌ、Ｒ８及びＸは上に定義したとおりである、のホウ 素錯体が得られる。反応停止前は後者が主である。しかしながら、反応停止はホ ウ素錯体をポロネートエステルに転化する。

第三工程［工程（ｃ）］において、式Ｉの対応する化合物を得るために、工程（ １））で得られた生成物を開裂させる。

工程（ａ）は好ましくは本質的に無水条件下で、好ましくは不活性雰囲気下にて 約−１００℃乃至＋３０°Ｃ１好ましくは約−８０’Ｃ！乃至−６０℃、特に、 −７８°Ｃ乃至−７０°Ｃで行われる。工程（ａ）に用いる反応媒質はアルコー ル及びテトラヒドロフランの混合物からなり、ここで、アルコールは式ＡｌｋＯ Ｈであり、Ａｌｋは炭素原子１〜４個のアルキル、例えばメチルまたはエチルで あり、好ましくは第三ではない。

工程（、）の生成物の１つは、用いた弐■の化合物に由来するＲ、ＯＨである。

しかしながら、Ａｒｋの全てまｔ；は一部がＲ４と同一であることは必要でない 。一般に、水素化ホウ素ナトリウムは式■の化合物と少なくとも等モル量で存在 すべきであり、好ましくはやや過剰量、例えばケトン１モル当りＮａＢＨａ約１ ．１−１．５モルである。弐ｍの化合物対式■の化合物のモル比は少なくとも約 ０．５　：　ｌ、より好ましくは、ケトン１モル当り、ボラン化合物的０−７　 ：　１乃至１．５：ｌである。

また工程（ｂ）は好ましくは低温で行われ、内部温度を約−１００℃乃至−４０ ℃、特に約−７８℃乃至−７０℃に保持する。式■の化合物は好ましくは溶媒、 例えばアルコール／ＴＨＦまたはＴＨＦ中にある。好ましくは、工程（ａ）の反 応媒質及び工程（ｂ）で加える式■の化合物の溶媒は、アルコール対テトラヒド ロフランの比（Ｖ／Ｖ）が約１：３乃至ｌ：６、特に約１＝３乃至１：４になる ように選ぶ。ケト基の還元は発熱的であり、速かに起こり、従って、ケト化合物 の添加を約−７８℃乃至−７０℃の範囲に内部温度を保持するように行うことが 望ましい。還元は殆んど即座に起こり、次に反応混合物に例えば水性重炭酸す） 　ＩＪウム、塩化アンモニウムまたは酢酸を加えて反応を止め、そして所望の環 式ポロネート中間体の混合物が得られる。

工程（ｃ）において、工程ω）の反応生成物を本質的に無水条件下にて、例えば 約６０℃乃至８０°Ｃでメタノールまｔ；はエタノールと共に共沸蒸留する。ま たそして好ましくは、殊にＸが−ＣＨ＝ＣＨ−である場合、重炭酸ナトリウム（ Ｎ　ａ　ＨＣＯｓ）の添加によって中和した生成物を有機溶媒、例えば酢酸エチ ルに溶解し、最初に低温、例えば約＋ｌｏ’ｃで、次に適度な温度、例えば約２ ０℃乃至３０℃に加温しながら、水性（例えば３０％）過酸化水素まｌ；は水素 化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＯ，・４）（，０）で処理し、式Ｉの対応する化合 物が得られる。

また、工程Ｃ）による環式ボロネートエステルを有機溶媒、例えば酢酸エチルで 拍出し、次にパーオキシ化合物の水溶液、例えば３０％過酸化水素水溶液まｔ； は過ホウ素酸ナトリウム水溶液で直接処理し、式Ｉの対応する化合物が得られる 。

還元条件が本発明を実行する際に起こるために、Ｒとして用いｔ；基における置 換基または官能基は不活性であること、即ち、かかる条件下で反応性または変化 しやすい置換基または官能基を、例えばかかる官能基をマスキングまたは保護す るか、或いは該官能基を後の段階で導入する公知の方法によって含ませぬことは 理解できよう。

式Ｉの化合物、対応するδ−ラクトン、遊離酸及び塩、Ｒ，が１つの意味を有す る式Ｉの化合物のＲ，が異なる意味を有する対応する化合物及び／または対応す るδ−ラクトン、遊離酸まｔ；は塩への転化方法は公知である。

式Ｉの化合物を、必要に応じて、普通の方法によって対応する遊離酸または塩型 に、即ち、Ｒ１を水素まｔ；はカチオン、例えばアルカリ金属カチオンまたはア ンモニウム、好ましくはナトリウムまたはカリウム、特にナトリウムで置換する 場合、他のエステル型に、或いは対応するδ−ラクトン、即ち、分子内エステル に転化することができる。

上記の如く、本発明の方法に従って得られる式１の化合物は薬剤である。しかし ながら、更に具体例において、本発明の方法をまた例えば式式中、ｕはトリフェ ニルメチル（トリチル）であり、そしてＲｕはアリルまｔ；は反応条件下で不活 性なエステルを生成する基、好ましくはアリルまｊ二はＣｌ−３アルキルｔ−ブ チルもしくはベンジル、特にｔ−ブチルであり、そして２、及びＺ，は上に定義 しｌ：とおりである、のラセミ体または光学的に純粋な化合物を立体選択的に還 元することにより、例えば式Ｉｕ ＯＨ　ＯＨ 式中、Ｕ及びＲｕは上に定義したとおりである、のキラル中間体の製造に適用す ることができる。

かかるキラル中間体は例えばヨーロッパ特許第２４４３６４号に記載されている 。該中間体は薬剤を製造する際に用い得ることが指示されている。

６、出発物質 本発明の方法において出発物質として用いる式■の（第一または第二Ｃｌ〜，ア ルコキシまＩ；はアリルオキシ）−ジー（第一〇，〜，アルキル）ポ１９２６］ 。しかしながら、これらのものは対応するトリー（第一まＩ；は第二０２〜４ア ルキル）ボランから、第一または第二０１〜４アルカノールまたはアリルアルコ ールとの反応によってその場で製造することができ、後者中の前者の濃度は好ま しくは約０．２Ｍ乃至１．２Ｍ，特に約０．５Ｍである。

式■の化合物は公知であるが、或いは例えば米国特許！４　７　３　９　０　７ ３号（例えば２，−酸素）またはヨーロッパ特許第２１６８７５号（例えば２， −酸素）に記載された如くして、弐■の公知の化合物と同様にして製造すること ができる。

かくして、Ｚ，が酸素である式■の化合物は式ＶＲ−Ｘ−ＣＨＯ　（　ｖ　） 式中、Ｒ及びＸは上に定義したとおりである、の化合物と式■ ＣＨ　ｓ　−Ｃｏ−ＣＨ　！　−ＣＯＯＲ　＋　’　（　ＶＩ　）式中％Ｒ１は 上に定義したとおりである、の化合物のジアニオンとの反応によって標準的に製 造される。

７、更にこれまでの中間体に関する具体例また式Ｖ及び■の化合物は公知である 。しかしながら、更に具体例においては、また本発明は式■ （Ｅ）−０ＨＣ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｎ（Ｒ＋ｓ）Ｒ＋ａ　（■）式中、Ｒ１，はＣ， 〜，アルキル、フェニルまたは１〜３個の置換基で置換されたフェニルであり、 該置換基の各々は独立に、ｃｌ−３アルキル、Ｃｌ〜，アルコキシ、フルオロ、 クロロ、ブロモまたはニトロであり、２個のニトロ基が最大であり：そしてＲＬ ｓは独立にＲ１２に対して上に示した意味を有する、の化合物の亜群から出発し て、式Ｖの化合物の亜群、即ち、式Ｖａ式中、Ｒ，は水素、０１〜，アルキル、 ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、Ｃ３〜６シクロアルキル％ＣＩ−３アル コキシ、ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、トリフルオロメチル、フルオロ、クロロ 、フェノキシマたはベンジルオキシであり： Ｒ，は水素、０１〜３アルキル、Ｃｌ〜，アルコキシ、トリフルオロメチル、フ ルオロ、クロロ、フェノキシまｔ；はベンジルオキシであり；条件として、Ｒ１ 及びＲ６の多くとも１つはトリフルオロメチルであり、Ｒ６及びＲ６の多くとも １つがフェノキシであり、そしてＲ，及びＲ．の多くとも１つがベンジルオキシ であり；Ｒ，及びＲ，の１つはＲ，、Ｒ，。及びＲ１１で置換されたフェニルで あり、そして他は不斉炭素原子を含まぬ第一または第二Ｃｌ〜・アルキル％Ｃ３ 〜８シクロアルキルまｔ；はフェニル−（ＣＨ．）ｍ−であり、ここで、Ｒ，は 水素、Ｃｌ〜，アルキル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル・　ｔ−ブチル・ＣＩ−１ア ルコキシ、ｎ−ブトキシ、１−ブトキシ、トリフルオロメチル１フルオロ、クロ ロ、フェノキシまたはベンジルオキシであり；Ｒ１。は水素、Ｃ，〜，アルキル 、Ｃｌ〜，アルコキシ、トリフルオロメチル、７ルオロ、クロロ、フェノキシま Ｉ；はベンジルオキシでアリ；Ｒ．，は水素、Ｃ１，アルキル、Ｃｌ〜，アルコ キシ、フルオロ！　？＝　ｌ：ｉ　クロロであり、そして ｍは１，２または３であり； 条件として、Ｒ９及びＲＩＯの多くとも１つがトリフルオロメチルであり、Ｒ９ 及びＲ３゜の多くとも１つがフェノキシであり、そしてＲ１及ヒＲ１゜の多くと も１つがベンジルオキシである、の化合物の新規な製造方法並びに式■の化合物 自体の新規な製造方法からなる。

式■の化合物の製造方法を以下に「方法Ａ」として示し、モしで式Ｖａの化合物 の製造方法を以下に「方法Ｂ」として示す。

式Ｖａ、■及びＸ■（後記の７．２．参照）の化合物は、なかでも、米国特許第 ４７３９０７３号により公知であり、これにはＲ１！がＣ１〜、アルキルである 式■の化合物及び式Ｖａの化合物の合成に対するその用途、式Ｘ■の化合物、並 びにＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤として用途を示すメバロノラクトンのインド ール同族体及びその誘導体の合成に対する式ｖａの化合物の用途が開示されてい る。これらの化合物はコレステロール合成を阻害するために、該化合物は血中コ レステロールレベルを降下し、従って、過コレステリン血症、高すポタンパク質 血症及びアテローム性動脈硬化症の処置における用途を示唆している。

また式■の化合物及びその合成は英国特許第９４５５３６号及びチェコスロバキ ア国特許第９００４５号に開示されている。しかしながら、これに開示された方 法は、例えばシュウ酸誘導体よりもむしろ、ホスゲンまたは三塩化リン、五塩化 リンもしくはオキシ塩化リンの使用に関して、方法Ａとは異なる。

７．１．方法Ａ（式■の化合物の製造）式■の化合物の製造方法（方法Ａ）は、 （ｉ）式（■） ＯＨＣ−Ｎ（Ｒｉｓ）Ｒｉ３（■） 式中、Ｒ１２及びＲ１３は上に定義したとおりである、の化合物を随時不活性な 無水有機媒質中で式ゴＸａ−Ｃｏ−Ｃｏ−Ｘａ　（ＩＸ） 式中、Ｘａは１価の離脱性基である、 の化合物と反応させて対応する式Ｘ Ｘａ−ＣＦＩ”Ｎ”（Ｒｕ）Ｒ１３Ｘａ−（Ｘ）式中、ｘａ％Ｒ１２及びＲｉ３ は上に定義したとおりである、の化合物を生成させ、 （ｉＯ式Ｘの化合物を随時不活性な無水有機媒質中で式（ｎ）Ｒｉ１Ｏ−ＣＨ− Ｃ１４＊　（ｎ） 式中、Ｒ１４はこれが結合している酸素原子を不活性化しない１価の基である、 の化合物と反応させて対応する弐■ （Ｅ）Ｒｉ−０−ＣＨ−ＣＨ−ＣＨ−Ｎ”（ＲｉりＲ１３Ｘａ−（ＩＩＩ）式中 、Ｒ，、、Ｒ，３、Ｒ，、及びＸａは上に定義したとおりである、の化合物を生 成させ、そして （至）遊離塩基まｔ；は酸付加塩型における式■に対応する化合物を得るために 、式■の化合物を加水分解し、そして酸付加塩型の場合、酸付加塩を塩基で中和 する、 ことからなる。

方法Ａにおいて、工程（至）を省略し、式■の化合物を例えば方法Ｂにおいて直 接用いることができる。

工程（ｉ）及び（１０を同時に行うことができるか、または工程（ｉ）に統しく 工程６０を行うことができる；工程（ｉＤに続いて工程（ト）を行い、そして工 程（至）に続いて、用いる場合、工程Ｇｖ）　（後記参照）を行う。

Ｒ１２はＲ，２ａｓ但し、Ｒ，２ａはＣｌ−３アルキルであり、Ｒ１２ｂはＣ１ 〜３アルキルを除いて、Ｒ１２に対して上に示した意味を有する（即ち、フェニ ルまたは１〜３個の置換基で置換されＩ；）工二ルであり、該置換基の各々は独 立に、Ｃ．〜，アルキル、ｃｌ−３アルコキシ、フルオロ、クロロ、ブロモまた はニトロであり、２個のニトロ基が最大である）。

Ｒｌａａは好ましくはＣ１〜２アルキル、最も好ましくはメチルである。

Ｒｒｚｂは好ましくはＲ，、ｂ’　、但し、Ｒ．□ｂ′はフェニルまｔ；は各々 独立にＣｌ〜，アルキル、Ｃｌ〜２アルコキシまたはりフロである１また１よ２ 個の置換基で置換されたフェニルである、より好ましくはＲ．２ｂ”はフェニル またはｌ（Ｅもしくは２償のメチル基で置換されたフェニルである、そして最も 好ましくはフェニルである。

Ｒｉｓは好ましくはＣ，〜２アルキル、最も好ましくはメチルである。

Ｒ１４は好ましくはＣ，〜。アルキル、好ましくは第一または第二０２〜，アル キル、より好ましくはｎ−Ｃ，〜，アルキル、最も好ましくはエチルまたはｎ− ブチルである。

各Ｘａは好ましくはクロロまたはブロモ、特にクロロである。各Ｘａ”は好まし くはクロライドまたはブロマイド、特にタロライドである。工程（至）の加水分 解または中和に用いる塩基は好ましくは無機塩基、例えば炭酸ナトリウム、炭酸 カリウム、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムであり、最も好ましくは炭酸 ナトリウムまたは炭酸カリウムである。

方法Ａに対する好ましい条件は次のとおりである：工程（ｉ）［工程Ｇｉ）の前 に行う場合］　：温度ニー２０℃乃至＋ＳＯ℃ 時間２１．５〜５時間 反応媒質：液体のハロゲン化した低級アルカン、例えば１．２−ジクロロエタン 及び塩化メチレン；またはアセトニトリル；塩化メチル及びアセトニトリルが最 も好ましい反応体のモル比：■１モル当りＩＩＩ−１．５モル工程（１０［工程 （ｉ）に続いて行う場合］　：温度：１０℃乃至６０℃、１０℃乃至４０℃が最 も好ましい時間二０．５〜３時間 反応媒質：工程＜ｉ）と同様 反応体のモル比：工程（ｉ）に用いブ；■１モル当りＩ［１〜１．５モル工程（ ｉ）及び（ｉｉ）　（同時に行う場合］　：温度ニー１５’ｃｌ乃至＋３５°Ｃ 時間：２〜６時間 反応媒質：工程（ｉｉ）の前に行う場合、工程（ｉ）に同じ反応体のモル比：■ の１モル尚りＩＸＩ−１．５モル及びＩ１１〜１．５モ工程侃１ 温度：０℃乃至６５℃ 時間：０．５〜３時間 反応媒質：水または水と工程（ｉＤに用いた反応媒質との混合物反対のモル比： 工程（ｉ）に用いた１１モル当り塩基２〜４当量工程■の加水分解を塩基によっ て行うことが好ましい。

工程（ｉ）及び６０に体する反応媒質は、また及び好ましくは、ニート（ｎｅａ ｔ）な試薬、即ち、いずれの溶媒も含まぬ試薬、即ち、工程（ｉ）に対しては式 ■及び■の化合物、そして工程６０に対しては式Ｘ及び■の化合物からなる。こ のことは例えば生態学的観点から極めて有利であり、その理由は、廃水中のアセ トニトリルの如き溶媒の存在または例えば塩化メチレンの蒸気の大気中への発散 がこれによって避けられるためである。

それぞれ式■及び■またはＸ及び■の化合物を溶媒なしに反応させることができ 、その理由は、これらの化合物は一緒にした場合、固体ブロックをつくらず、驚 くべきことに、懸濁液を生ずるためである。

方法ＡをＲＨ及びＲ１３の意味に応じて、２つのサブプロセス（ｓｕｂｐｒｏｃ ａｓ）に分けることができる。

（１）　ＲＩＢ及びＲ１３は独立に、Ｃ，−、アルキルである（サブプロセスＡ ａ）及び （２）ＲＩＢ及びＲ１２の少なくとも１つがＣ□〜、アルキル以外のものである （サブプロセスＡｂ）。

サブプロセスＡａの工程（至）の生成物は、式■の得られた化合物に応じて、式 Ｘ■の化合物の認められるほどの量をしばしば含んでおり、式■の化合物対式Ｘ ｍの化合物のモル比は典星的に約２：ｌである。勿論、普通の分離法によって式 ｘ■の化合物から式■の化合物を分離することができるが、工程（至）の生成物 、即ち、式■の粗製の化合物（式■の化合物と対応する式Ｘ■の化合物との混合 物）を二＠Ｇｖ）に付すことが好ましい、即ち、 Ｇ奇　式■ａ （Ｅ）−０ＨＣ−ＣＭ−ＣＨ−Ｎ（Ｒ＋２８）Ｒ＋ｓ　（■ａ）式中、Ｒ，２ａ 及びＲ１３は上に定義したとおりである、の化合物を含む粗製の混合物を対応す る式ＸｒＶ）１−Ｎ（Ｒ１：ａ）Ｒ，、（Ｘ　ＩＶ）式中、Ｒ，、ａ及びＲ１３ は上に定義したとおりである、の化合物で処理し、これに存在する式Ｘ■の化合 物を式■ａの追加の化合物に転化する。

サブプロセスＡａにおける好ましい反応体は次のものである：（、）　但し、Ｒ ，２ａが０１−２アルキルであり、ＲＩＢがＣ３−２アルキルであり、Ｒ１４が 第一または第二〇、〜、アルキルであり、各Ｘａがクロロであり、そして各Ｘａ −がクロライドである；ω）（ａ）と同様、但し、ＲＨはｎ−Ｃ２〜４アルキル である；（Ｃ）　（ｂ）と同様、但し、Ｒ１！ａはメチルであり、Ｒ４，はメチ ルであり、モしてＲ１４はエチルである； （ｃＤ〜（ｆ）　（ａ）〜（Ｃ）と同様、但し、工程（至）に用いた塩基は炭酸 ナトリウムまたは炭酸カリウムである；そして （Ｊｉ）〜（ｉ）　（ｄ）〜（ｆ）と同様、但し、工程（至）に用いた塩基は炭 酸カリウムである。

サブプロセスＡａに対する好ましい反応条件は、殊に、反応体が亜群（ａ）、（ ｄ）及び（ｇ）である場合、更に反応体が亜群Ｃ）、（ｅ）及びω）である場合 、そして特に、反応体が亜群（ｃ）、（Ｄ及び（ｉ）である場合、次のとおりで ある：工程（ｉ）： 温度：０°Ｃ乃至２０℃、０°Ｃ乃至１５℃が好ましく、モして５°Ｃ乃至１５ ℃がより好ましい 時間：１．５〜４時間 反応媒質：液体のハロゲン化した低級アルカンまたはアセトニトリル、または混 ぜ物のない試薬；塩化メチレンまたは混ぜ物のない試薬が最も好ましい 反応体のモル比：■の１モル当りｆｆ１−１．２モル、１１モル当り■１．１− １．２モルがより好ましい； 工程００： 工程：２５℃乃至４０℃ 時間二０．７〜２．５時間 反応媒質：工程（ｉ）と同様 反応体のモル比：工程（ｉ）に用いた１１モル当りｍｌ−１，２モル、１１モル 当り１１．１〜１．２モルが最も好ましい；工程（ト）： 温度：２０℃乃至６５℃、２０℃乃至３０℃がより好ましい時間：０．７５〜２ 時間 反応媒質：水性 反応体のモル比：工程（ｉ）に用いたＩＩＩモル畠り塩基２〜４当量；工程（ｉ ｖ）： 温度：０℃乃至２０℃、１０℃乃至２０℃がより好ましい時間：０．３〜１時間 反応媒質：Ｃ２〜、アルカノール、メタノールが最も好ましい反応体のモル比： 工程（ｉ）に用いた■１モル当ＸｒＶＯ，１５〜１モル。

サブプロセスＡａにおいて、好ましい工程００を工程（ｉ）の後に行う。

好ましくは、サブプロセスＡａは次の工程からなる：（ｉ）Ｎ、Ｎ−ジメチルホ ルムアミド（Ｒ１，及びＲ１３がメチルである弐■の化合物）をニートで、まＩ ；は塩化メチレン中にて０℃乃至１５℃の温度で塩化オキザリル（Ｘａがりロワ である式■の化合物と反応させて式ａ ＣＩ−ＣＨ＃Ｎ”（ＣＨｘ）ｘ　Ｃ１−（Ｘ　ａ）の化合物を生成させ、 ６０　式Ｘａの化合物をニートでまたは塩化メチレン中にて２５°Ｃ乃至４０℃ の温度でエチルビニルエーテル（Ｒ３４がエチルである式■の化合物）と反応さ せて式Ｔｌａ （Ｅ）ＣｚＨｓＯ−ＣＨ”ＣＨ−ＣＯ−Ｎ”（ＣＨｓ）ｘ　Ｃ１−（ｎ［ａ）の 化合物を生成させ、 （ト）式Ｄａの化合物を２０℃乃至３０℃の温度で、水性媒質中にて炭酸カリウ ムで加水分解して式■ａａ （Ｅ）ＯＨＣ−ＣＨ＜Ｈ−Ｎ（ＣＨａ）ｚ　（■ａａ）及び式■ａ （Ｅ）ＯＨＣ−ＣＨ”ＣＨ−ＯＣＪｉ　（Ｘ　ＩＩＩ　ａ）の化合物の混合物を 生成させ、 ６０　式■ａａ及びＸＩ［Ｉａの化合物の混合物を１０℃乃至２０℃の温度で、 メタノール中にてジメチルアミン（Ｒ１！ａ及びＲＩＳがメチルである式Ｘ■の 化合物）で処理して弐Ｘｍａの化合物を式■ａａの追加の化合物に転化する。

更に好ましくは、サブプロセスＡａにおいて、（１）工程（ｉ）における塩化オ キザリル対Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドのモル比はｌ：１〜１．２：１であり 、そして工程（ｉ）を温度が５℃乃至１５℃に保持されるような速度で、１．５ 〜４ＭＰ間にわたって塩化オキザリルをニートでＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド または塩化メチレン中の溶液に加えることによって行う；（２）　工程００にお いて、工程（ｉ）に用いるエチルビニルニーチル対Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ ドのモル比はｌ　：　ｌ−１，２：　１であり、そして工程６０を温度が３０° Ｃを越えないような速度で０．４〜１．５時間にわたって、エチルビニルエーテ ルを反応混合物に加え、添加終了後、反応混合物を３５℃乃至４０℃で０．３〜 １時間還流させ、そして指示があれば、４５℃を越えない温度で可能な限り塩化 メチレンを回収することによって行う。

（３）工程（至）において、工程（ｉ）に用いた炭酸カリウム対塩化オキザリル のモル比はｌ：ｌ〜２：ｌであり、そして工程（ト）を、２０”Ｃ！乃至３０℃ に撹拌された工程６０の生成物に水を加え、温度を４５℃乃至６０℃に上昇させ 、この温度を水の添加の残り時間中及び更に０．３〜１時間保持し、この反応混 合物を１５℃乃至２５℃に冷却し、この温度で０．３〜１．２５時間にわたって 炭酸カリウムの水溶液を加え、混合物を塩化メチレンで抽出し、４５℃を越えな い温度で可能な限り塩化メチレンを留去することによって行う；（４）工程（ｉ ｖ）において、工程（ｉ）で用いたジメチルアミン対Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア ミドのモル比は０．１５　：　ｌ−０゜４：ｌであり、そして工程Ｇｖ）を、１ ０’Ｃ乃至２０℃で撹拌されたメタノール中の工程（至）の生成物の溶液に、温 度が２０℃を趨えないような速度で無水ジメチルアミンに加え、そして１２０℃ を越えない温度で溶媒及び過剰量のジメチルアミンを留去することによって行わ れる。

サブプロセスＡｂに好ましい反応体は次のものである：（ａ）Ｒ＋２ｂがＲ＋２ ｂ’であり、Ｒｌｍがｃｌ−、アルキルテアリ、Ｒ，、カｆｉｇ−または第二〇 、〜、アルキルであり、各Ｘａがクロロであり、そして各Ｘａ−がクロライドで あり； （ｂ）　（ａ）と同様、但し、Ｒ，、ｂはＲ１！ｂ＃であり、モしてＲ１４はｎ −Ｃ，−、アルキルである； （ｃ）　（ｂ）と同様、但し、Ｒ１２ｂはフェニルであり、Ｒ□、はメチルであ り、モしてＲ１４はエチルまたはｎ−ブチル、特にｎ−ブチルである；（ｄ）〜 （ｆ）　（ａ）〜（Ｃ）と同様、但し、工程（至）に用いた塩基は炭酸ナトリウ ムまたは炭酸カリウムである、そして Ｇｉｎ）〜（ｉ）　（ｄ）〜（「）ど同様、但し、工程（至）に用いた塩基は炭 酸ナトリウムである。

サブプロセスＡｂに対する好ましい反応条件は、殊に、反応体が亜群（ａ）、　 （ｄ）及びω）の場合、更に反応体が亜群山）、（ｅ）及びω）の場合、そして 特に反応体が亜群（ｃ）、（ｆ）及び（ｉ）の場合、次のとおりである：工程（ ｉ）〔工程α０の前に行う場合〕　：温度ニー２０℃乃至＋４５℃ 時間：１．５〜５時間 反応媒質：液体のハロゲン化した低級アルカンまたはアセトニトリル、塩化メチ レン及びアセトニトリルがより好ましく、そしてアセトニトリルが最も好ましい か：または最も好ましくは、ニートの試薬； 反応対のモル比：■１モル当ＩＸ１〜１．２モル、４１モル当り］１１．１〜１ ．２モルがより好ましい： 工程ＧＯ［工程（ｉ）ｉ：続いて行う場合１　：温度：１０℃乃至４０℃ 時間＝０．５〜３時間 反応媒質：工程（ｉ）と同様 反応体のモル比：工程（１）に用いた４１モル当りｌｌｌ−１，３モル、４１モ ル当りｎｌ、ｌ〜１．２５モルがより好ましい；工程（ｉ）及び（１０［同時に 行う場合］　：温度ニー１５°Ｃ乃至＋３５°Ｃ 時間：２〜６時間 反応媒質：工程（ｉｏの前に行う場合、工程（ｉ）と同様反応体のモル比：４１ モル当りｆｆ１〜１．５モル及びＴ１１〜１．５モル工程０の： 温度：０℃乃至３５℃、０°Ｃ乃至３０℃がより好ましい時間二０．５〜１．５ 時間 反応媒質：水及び工程６０の反応媒質の混合物反応体のモル比：工程（ｉ）に用 いる■１モル当り塩基２〜４当量。

サブプロセスＡｂに３つの好ましい方法、即ち、Ａｂｌ、Ａｂ２及びＡｂ３があ る。方法Ａｂｌにおいて、Ｒ１４はエチルであり、工程（ｉ）及びＧＯに体する 反応媒質は塩化メチレンまたは、好ましくはニートの試薬であり、そして方法Ａ ｂ２及びＡｂ３においては、Ｒ１４はｎ−ブチルであり、そして工程（ｉ）及び ＧＯに対する反応媒質はアセトニトリルまたは、好ましくはニートの試薬である 。方法Ａｂｌ及びＡｂ２において、工程６０を工程（ｉ）の後に行い、方法Ａｂ ３においては、工程（１）及び００を同時に行う；各方法において、工程（至） は工程（ｉ）及びＧｉ）の後に統いて行う。

サブプロセスＡｂの方法Ａｂｌは好ましくは次の工程からなる＝（ｉ）　Ｎ−メ チルホルムアニリド（Ｒ１□がフェニルであり、モしてＲ４がメチルである式■ の化合物）を１５℃乃至４５℃の温度でニートまたは塩化メチレン中の塩化オキ ザリル（Ｘａがクロロである式ゴの化合物）と反応させて式ｘｂ ＣＩ−Ｃ卜Ｎ＋（ＣｅＨｓ）ＣＨｓ　Ｃ１″″　（ｘｂ）の化合物を生成させ、 ＧＯ式ｘｂの化合物を１５°Ｃ乃至４０℃の温度でニートまたは塩化メチレン中 のエチルビニルエーテル（Ｒ１，４がエチルである式■の化合物）と反応させて 弐ＸＩ［ｂｌ （Ｅ）−（、Ｈｓ’０−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｎ”（Ｃ，Ｈ，）ＣＨ，ＣＩ−（： ！１ｌｂｌ）の化合物を生成させ、 （至）式Ｕｂ１の化合物を２０℃乃至３０℃の温度で塩化メチレン及び水の混合 物中にて炭酸ナトリウムで加水分解して式■ａ（Ｅ）−０ＨＣ−ＣＨ＜Ｈ−Ｎ（ ＣＪｓ）ＣＨｓ　（■ｂ）の化合物が得られる。

より好ましくは、サブプロセスＡｂの方法Ａｂｌにおいて、（１）工程（ｉ）に おける塩化オキザリル対Ｎ−メチルホルムアニリドのモル比は１：１〜１．２： １であり、そして工程（ｉ）を、１５℃乃至２０℃の温度で１〜２時間にわたっ て、塩化オキザリルをニートまＩ；は塩化メチレン中の溶液におけるＮ−メチル ホルムアニリドに加え、添加終了後、反応混合物の温度を０．７５〜１．２５時 間にわたって４０℃乃至４５℃に徐々に上昇させ、次に混合物を０．７５〜１． ２５時間還流させることによって行い； Ｃ）工程ＧＯにおいて、工程（ｉ）で用いたエチルビニルエーテル対Ｎ−メチル ホルムアニリドのモル比はｌ：１〜１．３＝１であり、工程（句を、工程（ｉ） の生成物を１５℃乃至２０℃に冷却し、温度が３０℃を越えないような速度でエ チルビニルエーテルを０．５〜１．５時間にわたって加え、添加終了後、反応混 合物を０．３〜０．７時間還流させることによって行い；そして （３）工程（ト）において、工程（ｉ）に用いた炭酸ナトリウム対塩化オキザリ ルのモル比はｌ：ｌ−１，２：１であり、そして工程（至）を、工程６０の生成 物を１５°Ｃ乃至２０°Ｃに冷却し、０．５〜１時間にわｔ；り炭酸ナトリウム 水溶液を、反応混合物の温度が２０℃乃至３０℃であるような速度で加え、添加 終了後、混合物を２０℃乃至３０℃で０゜２〜０．５時間撹拌し、混合物を２相 に分離させ、２相を分離し、そして有機相から生成物を回収することによって行 う。サブプロセスＡｂの方法Ａｂ２は好ましくは次の工程からなる：（ｉ）ニー トまたはアセトニトリル中にて一２０℃乃至＋２０℃の温度でＮ−メチルホルム アニリドを塩化オキザリルと反応させて式ｘｂの化合物を生成させ、 ６０　式ｘｂの化合物とｎ−ブチルビニルエーテル（Ｒ１，がｎ−ブチルである 式■の化合物）とをニートまたはアセトニトリル中にてｌＯｏＣ乃至４０℃の温 度で反応させて式ＸＩ［ｂ２（Ｅ）−ｎ−Ｃ４Ｈ＊０−Ｃ）Ｉ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｎ ”（ＣｓＨｉ）ＣＨｓ　ｃｔ−（ＸＮｂ２）の化合物を生成させ、そして （至）アセトニトリル及び水の混合物中で０℃乃至２５℃の温度で式■ｂ２の化 合物を炭酸ナトリウムで加水分解して式■ｂの化合物を得る。

より好ましくはサブプロセスＡｂの方法Ａｂ２において、（１）工程（ｉ）にお ける塩化オキザリル対Ｎ−メチルホルムアニリドのモル比はｌ：１〜１．２　： 　ｌであり、そして工程（ｉ）を、−１８℃乃至＋８℃の温度で１〜２時間にわ たって、塩化オキザリルをニートまたはアセトニトリル中の溶液におけるＮ−メ チルホルムアニリドに加え、添加終了後、反応混合物の温度−を１２℃乃至２０ ℃に０．４〜０．７５時間にわＩ；って徐々に上昇させ、次にこの温度で０．２ 〜０゜４時間撹拌することによって行い； （２）工程６０において、工程（ｉ）で用いたｎ−ブチルビニルエーテル対Ｎ− メチルホルムアニリドのモル比は１：１〜１．２：ｌであり、そして工程（ｉｉ ）を、ｎ−ブチルビニルエーテルを１２℃乃至２０℃で撹拌されＩ：工程（ｉ） の生成物に温度が３０℃を越えない速度で０．５〜１゜５時間にわｔ；って加え 、添加終了後、反応混合物を２５℃乃至３５℃で０．３〜０．７時間撹拌するこ とによって行い；そして（３）工程（ト）において、工程（ｉ）で用いた炭酸ナ トリウム対塩化オキザリルのモル比はｌ：ｌ〜１．３：ｌであり、そして工程（ 至）を、工程００の生成物を０℃乃至５℃に冷却し、炭酸ナトリウム水溶液を反 応混合物の温度が５℃乃至１５℃であるような速度で０．５〜１．２時間にわた って加え、添加終了後、トルエンを加え、混合物を１５℃乃至２５℃で０．２〜 ０．５時間撹拌し、混合物を２相に分離させ、２相を分離し、有機相から生成物 を回収することによって行う。

サブプロセスＡｂの方法Ａｂ３はに）及び６０からなり、ｎ−ブチルビニルエー テルの存在下において一１Ｏ℃乃至＋３０°Ｃの温度でＮ−メチルホルムアニリ ドと塩化オキザリルとをニートまたはアセトニトリ中で反応させて式ｘｂの化合 物を生成させ、次に該化合物を反応混合物中でｎ−ブチルビニルエーテルと反応 させて式Ｘｌ１ｂ２の化合物を生成させ、そして （ト）式１］１ｂ２の化合物をアセトニトリ及び水の混合物中にて０°Ｃ乃至２ ５℃の温度で炭酸ナトリウムで加水分解して式■ｂの化合物が得られる。

より好ましくは、サブプロセスＡｂの方法Ａｂ３において、（１）　工程（ｉ） 及びＧＯにおいて、各々塩化オキザリル対Ｎ−メチルホルムアニリドのモル比は ｌ：１〜１．２　：　ｌであり、そして工程（ｉ）及び６０を、ニートのＮ−メ チルホルムアニリド及びｎ−ブチルビニルエーテルまたはアセトニトリル中の溶 液を−１０℃乃至十ｌＯ℃で撹拌されたニートの塩化オキザリルまたはアセトニ トリル中の溶液に２〜３時間にわたって加え、添加終了後、反応混合物の温度を ０．４〜１．５時間にわたって徐々に２０℃乃至３０°Ｃに上昇させ、次に反応 混合物をこの温度で０．５〜１．５時間撹拌することによって行い；そして （２）工程（至）において、工程（ｉ）で用いた炭酸ナトリウム対塩化オキザリ ルのモル比はｌ：ｌ〜１．３　：　ｌであり、そして工程（至）を、工程（１０ の生成物を０℃乃至５°Ｃに冷却し、反応混合物の温度が０℃乃至１２℃である ような速度で炭酸ナトリウム水溶液を０．５〜１．２時間にわｔ；って加え、添 加終了後、トルエンを加え、混合物を１５℃乃至２５℃で０．２〜０．５時間撹 拌し、混合物を２相に分離させ、２相を分離し、そして有機相から生成物を回収 することによって行う。

サブプロセスＡｂの工程動の生成物をサブプロセスＡａの工程Ｇｖ）と同様に工 程６ｖ）に付すことができる。

７．２．方法Ｂ（式■Ｃの化合物から式Ｖａの化合物の製造）式Ｖａの化合物の 製造方法（方法Ｂ）は、（ｉ）　式■Ｃ （Ｅ）−０ＨＣ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｎ（Ｒｒ　ｘ　−）Ｒｒ　ａ　（■Ｃ）式中、Ｒ １２ｂ及びＲ１３は上に定義したとおりである、の化合物を式ＸＶ ＰＯ（Ｘｂ）３（Ｘ　Ｖ　） 式中、ｘ、はクロロまＩ；はブロモである、の化合物或いは 塩化または臭化オキザリル；ホスゲンまＩ；は臭化カルボニル；三塩化または三 臭化リン；五塩化または五臭化リン；及び塩化または臭化アルキル−またはアリ ールスルホニル、例えば塩化もしくは臭化ｐ−トルニンスルホニルまたは塩化も しくは臭化メタンスルホニルから選んだ化合物と反応させて式ＸＶＩ（Ｅ）−Ｘ ｂ−ＣＩ（＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｎ”（Ｒ，□）Ｒ＋ｓ　（ＸＶＩ）の対応する化合物 及び対応するアニオン、例えば−ＰＯｉ（Ｘｂ）ｚ、但し、Ｘ５、Ｒ１２ｍ及び Ｒ１３は上に定義したとおりである、を生成させ、（１０式Ｘ■の化合物を式Ｘ １ 式中、Ｒ６、Ｒ＠、Ｒ１及びＲ１は上に定義したとおりである、の化合物と反応 させて式Ｘ■ の対応する化合物及び対応するアニオン、例えば−ＰＯａ（Ｘｂ）＊、但し、Ｒ ，、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ，、Ｒｎｂｓ　Ｒｉ３及びＸ、は上に定義したとおりである 、 を生成させ、そして （至）式Ｘ■の化合物を加水分解して対応する式Ｖａの化合物を得ることからな る。

方法Ａに対して述べた如く、工程（ｉ）において、方法Ａに従って得られた式■ の化合物を式■Ｃの化合物の代りに直接用いることがでかる。

Ｌｔｂ及びＲｉ３に対する好ましい意味は上に述べた、そしてＲｉ、Ｒｓ、Ｒ７ 及びＲ６に対する好ましい意味は米国特許第４７３９０７３号においてそれぞれ Ｒｏ、Ｒ−Ｒ１及びＲ１に対して述べられたものである。Ｘ、は好ましくはクロ ロである。

式■Ｃの化合物を好ましくは式Ｘｖの化合物と反応させる。

工程（ｉ）及びＧＯを好ましくは不活性な無水有機媒質中で行う。

好ましい反応体（及び目的生成物）は次のものである：（ａ）〜（ｄ）　反応体 、但し、Ｒ１１１はＲ１２に’であり、ＲＩＳはｃ＋＋ｆｉアルキルであり、各 Ｘ、はクロロであり、そしてＲ２−Ｒ８は米国特許第４７３９０７３号の群（ｉ ）、ＧＯｌ（ｘｘｉ）及び（ｘｘｉ）の対応する可変の意味を有し； （ｅ）＝（ｈ）　（ａ）〜（ｄ）の反応体、但し、Ｒ＋！ｂｉｔ　Ｒ＋ｚｂ”ｆ Ｊ’）　’）、そしてＲ７〜Ｒ，は米国特許第４７３９０７３号の群（ｖ）、（ ｖｉ）、（ｘＩｌ）及び（ｘｘｒｉ）の対応する可変の意味を有し； （ｉ）及び（ｊ）　（ｅ）及び（ｆ）の反応体、但し、Ｒ２はｃ　ｒ−ｓアルキ ルであり、Ｒ１はフェニル、メチルフェニル、フルオロフェニル、ジメチルフェ ニルまたはメチル−フルオロフェニルであり、氾は水素、ｃｌ−３アルキルまた は４−もしくは６−ベンジルオキシであり、そしてＲ，は水素またはメチルであ り： （ｋ）及び（Ｉ２）　（ｇ）及び（ｈ）の反応体、但し、Ｒ７はフェニル、メチ ルフェニル、フルオロフェニル、ジメチルフェニルまたはメチル−フルオロフェ ニルであり、Ｒ，はｃｌ〜、アルキルであり、Ｒ６は水素、ｃ、〜、アルキルま たは４−もしくは６−ベンジルオキシであり、モしてＲ１は水素またはメチルで あり； （ｍ）〜（ｐ）　（ｉ）〜（Ｑ）の反応体、但し、Ｒ１１は水素であり、モして Ｒ，は水素であり： （ｑ）〜（ｔ）　（Ｉｌｌ）〜（ｐ）の反応体、但し、ＲＩＦｂはフェニルであ り、モしてＲ１３メチルであり； （ｕ）　（ｑ）の反応体、但し、Ｒ，はｌ−メチルエチルであり、モしてＲ，は ４−フルオロフェニルであす；そして （Ｖ）　（Ｓ）の反応体、但し、Ｒ７は４−フルオロフェニルであり、モジてＲ ｏは１−メチルエチルである。

最も好ましくは、Ｒ５及びＲ６は水素であり、Ｒ２はｌ−メチルエチルであり、 モしてＲ６はｐ−フルオロ７ニニルである。

工程（ｉ）に用いて式■Ｃの化合物は遊離塩基型であるか、或いは、好ましくは 、酸付加塩型、例えば炭酸塩酸付加塩型であることができる。

工程（至）に対する好ましい塩基は無機水酸化物、例えば水酸化ナトリウム及び 水酸化カリウム、特に水酸化カリウムである。しかしながら、下記の如く、工程 （至）に塩基を用いぬことが最も好ましい。

方法Ｂに対する好ましい反応条件は次のとおりである：工程（ｉ） 温度ニー１０℃乃至＋２５℃、−１０℃乃至＋１０℃がより好ましい時間＋Ｏ， ｌ−１，２時間、０．５〜１時間がより好ましい反応媒質；低級アルキルニトリ ル、アセトニトリルが最も好ましい反応対のモル比：１０１モル当りＸＶＩ〜１ ．５モル、１０１モル当りＸＶｌ、１〜１．３モルがより好ましい工程ＧＯ 温度二６０°Ｃ乃至１００℃、６５℃乃至８５℃がより好ましい時間２２〜３０ 時間、３〜２４時間がより好ましい反応媒質：工程（ｉ）と同様 反応対のモル比：Ｘ１１モル当りＸＶｆｌｌ〜５モル、Ｘ１１モル当りＸ１１〜 ３モルがより好ましい（各場合に仮定した工程（ｉ）における１００％収率） 工程（至） 温度：塩基を用いる場合、１０℃乃至４０℃、そして塩基を用いぬ場合、３５℃ 乃至６０℃ 時間：＃Ｌ基を用いる場合、０．１−１時間、塩基を用いぬ場合、２〜４時間 溶媒二本及び工程（ｉｐの反応媒質 反応体のモル比：塩基を用いる場合、工程（ｉ）に用いＩ：ＸＶ１モル当り塩基 好ましくは水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム４〜８当量。

方法Ｂに対する更に好ましい反応条件は、殊に、反応体及び目的生成物が亜群（ ａ）−（ｖ）、特に亜群（ｉ）、（ｊ）、（ｍ）、（ｎ）、（ｑ）、（「）及び （ｕ）である場合、次のとおりである： 工程（ｉ）； 温度ニー１０℃乃至十ｌＯ℃ 時間：０．７５〜１時間 反応媒質ニアセトニトリル 反応体のモル比：１０１モル当りｘｖｌ、１〜１３モル工程（ｉｉ）： 温度：６５℃乃至８５℃、８０℃乃至８３℃がより好ましい時間＝３〜１６時間 、３〜ｌＯ時間がより好ましい反応媒質ニアセトニトリル 反応体のモル比：Ｘ１１モル当りＸ■２〜３モル、Ｘ１１モル当りＸＶｌ２．１ 〜２．５モルがより好ましい（各場合に仮定した工程（ｉ）における１００％収 率） 工程０： 温度＝２０℃乃至５５℃；塩基を用いる場合、２５℃乃至３５℃が好ましく、そ して塩基を用いぬ場合、３５℃乃至５５℃が好まし時間：塩基を用いる場合、０ ．３〜０．７時間、そして塩基を用いぬ場合、２〜３時間 反応媒質：水及び工程００の反応媒質 反応体のモル比；塩基を用いる場合、工程（ｉ）に用いたＸＶＩモル当り塩基、 好ましくは水酸化ナトリウム４〜６当量。

工程０において塩基を用いぬことが最も好ましい。

８、全ての方法に適用し得る一般的な条件本明細書に列挙したモル量（比）のほ とんどは単なる例示であり、当該分野に精通せる者にとっては明らかな如く、変 えることができる。

方法Ａ（サブプロセスＡａ及びＡｂ並びにその変法を含む）の工程（ｉ）及び（ １０、方法Ｂの工程（ｉ）及び６１）並びに、好ましくはサブプロセスＡａを好 ましくは無水条件及び不活性雰囲気下で、好ましくは乾燥ヘリウム、アルゴンま たは窒素或いはその混合物、通常乾燥窒素下で行う。方法Ａ（サブプロセスＡａ 及びＡｂ並びにその変法を含む）の工＠（至）をしばしば、但し、必要ではない が、不活性雰囲気下で行う。

同様に、上記の温度範囲のほとんどが単なる例である。全ての温度は、特記せぬ 限り、内部温度である。「反応媒質」なる用語には液体の混合物が含まれ、そし て反応媒質が所望の反応温度で液体であることを意味する。従って、特定の工程 に示した液体の全てが全体の列挙した反応温度に利用し得ぬことを理解すべきで ある。また反応媒質は用いた反応条件下で、使用した反応体、生成した中間体及 び目的生成物に対して少なくとも実質的に不活性でなければならないことを理解 すべきである。反応温度は、還流冷却器または密閉系（反応ボンベ）を用いる場 合、反応体まｔ；は反応媒質の沸点を越え得ることを理解すべきである。

まｔ；上記の反応時間は単なる例であって、そして変えることができる。

まｔ；普通の処理方法を用い得ることも理解できよう。本明細書に用いた如き「 溶媒」なる用語には溶媒の混合物が含まれ、そして反応溶媒が所望の反応温度で 液体であることを意味する。特記せぬ限り、全ての溶媒混合物は容量による。「 不活性雰囲気」なる用語は、反応体、中間体まＩ；は目的生成物のいずれとも反 応せぬか、或いは反応を妨害せぬ雰囲気を意味する。

必要に応じて、各方法の生成物を普通の方法、例えば再結晶化、クロマトグラフ ィーまたは分留によって精製することができる。

全ての温度は°Ｃであり、室温は、特記せぬ限り、２０℃乃至３０°ｃ１通常２ ０℃乃至２５°Ｃである；蒸発を最少限の加熱を用いて真空下で行い、を機相の 乾燥を無水硫酸マグネシウム上で行い、そして特記せぬ限り、全てのカラムクロ マトグラフィーに対してシリカゲルを用いた。

本発明によって開示した種々な方法は公知の同様な方法よりも改善されることが 明白である；例えば普通の方法で得られるよりもより容易に、または例えば化学 的もしくは光学的純度のよい高い状態で所望の目的生成物、即ち、７−置換され に一ヘプトー６−ヘブトー６−エン酸及び−へブタン酸並びにその誘導体を得る ために本方法を用いることができる。

上記の種々な方法を普通の方法と一緒に個々に、或いは必要に応じてまたは指示 した場合には、組み合わせて使用し、所望の目的生成物を得ることができる。

９、特定の具体例 上記の種々な方法の基本となる一般的な発明の概念の特定の実例は、上記の種々 な方法の全て、即ち、方法ＡＳＢ及び式■の化合物の立体選択的還元を用いる多 工程法において、ラセミまｔ；は光学的に純粋な蚕；遊離酸、塩、エステルまた はδ−ラクトン、即ち、分子内エステル型における式１ａ のエリスロー（Ｅ）−３，５−ジヒドロキシ−７−［３’−（４’−フルオロフ ェニル）−１’−（１“−メチルエチル）インドルー２′−イル１−ヘプト−６ −エン酸に関し、そして次の工程からなるニ一方法Ａに従い： ａ）式■ａ ＯＨＣ−Ｎ（Ｒ＋２ｂ）Ｒ＋ｓ　（■ａ）式中、Ｒｌｏ及びＲ１３は上に定義し たとおりである、の化合物を随時不活性な無水有機媒質中で式■の化合物と反応 させて対応する式Ｘｃ Ｘ、−ＣＨ＝Ｎ”（Ｒ＋ｚｂ）Ｒ＋ｓ　Ｘ−−（Ｘ−）式中、Ｘｌ、Ｒ１２，及 びＲ１３は上に定義したとおりである、の化合物を生成させ： ｂ）弐Ｘｃの化合物を、随時不活性な無水有機媒質中で式■の化合物と反応させ て対応する弐Ｘ１ｌｃ （Ｅ）−Ｒ＋＋０−Ｃ）ｌ”ｃ）ｌ−ＣＨ；Ｎ”（Ｒ＋ｚ−）Ｒ＋ｓ　Ｘ、−（ ＸＩ［ｃ）式中、Ｒｒ２ｂ、Ｒ１３、Ｒ１４及びＸｌは上に定義したとおりであ る、の化合物を生成させ： Ｃ）式■ｃの化合物を加水分解し、遊離塩基または酸付加塩型における対応する 式■Ｃの化合物を生成させ、そして酸付加塩型における場合、酸付加塩を塩基に よって中性にし；一方法已に従い： ｄ）式■Ｃの化合物を式Ｘｖの化合物或いは塩化または臭化オキザリル；ホウゲ ンまたは臭化カルボニル；三塩化または三臭化リン；五塩化または五臭化リン； 及び塩化または臭化アルキル−もしくはアリールスルホニル、例えば塩化または 臭化１１）　−トル：Ｌ　７　スルホニル或いは塩化または臭化メタンスルホニ ルから選ばれる化合物と反応させて対応する式Ｘ■の化合物及び対応するアニオ ン、例えば−ＰＯｚ（Ｘ−）ｚを生成させ；ｅ）式ＸＶ＋の化合物を３−　（４ ’−フルオロフェニル）−１−（１’−メチルエチル）−１Ｈ−インドール（Ｒ ６及びＲ６が水素であり％Ｒ？が１−メチルエチルであり、モしてＲおがｐ−フ ルオロフェニルである式Ｘ■の化合物と反応させて対応する式Ｘ■ａの化合物及 び対応するアニオン、例えば−ｐｏｘ（ｘ−）ｓ、但し、Ｒ，２いＲ１３及びＸ 、は上に定義したとおりである、を生成させ：ｆ）式Ｘ　Ｖｌ　ａの化合物を加 水分解して（Ｒ）−３−［３’−（４″−フルオロフェニル）−１’−（１＃− ルメチメチルエチル）−１Ｈ−インドルー２′−イネル］−プロプー２−エナー ル（Ｒ，及びＲ，が水素であり、Ｒ７が１−メチルエチルであり、モしてＲ，が ｐ−フルオロフェニルである式Ｖａの化合物）を生成させ；ｇ）式Ｖａの化合物 を式ＣＨｓＣＯＣＨｘＣＯＯＲ＋、但し、Ｒ８は上に定義したとおりである、の アセト酢酸エステルのジアニオンと反応させてラセミまたは光学的に純粋な型に おける対応する式Ｉ［ａ式中、Ｒ１は上に定義したとおりである、の化合物を生 成させ； 一立体選択的還元法に従い： ｈ）第一工程［−上記５．の工程（ａ）］において、式■の化合物をアルコール 及びテトラヒドロフランからなる反応媒質中で水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢ Ｈ，）と混合し； 第二工程［−上記５．の工程の）１において、ラセミまたは光学的に純粋な型に おける弐Ｉ［ａの化合物を適当な条件下にて上記の混合物で処理して式■ａの環 式ボロネート化合物及び／または式ＩＶｂのボロン錯体、但し、 Ｒは［３−（４’−フルオロフェニル）−１−（１’−メチルエチル）−１）（ −イントル］−２−イルであり、Ｘは−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 Ｒ８及びＲ２は上に定義したとおりである、を含む混合物を生成させ； 第二工程［＝−１上記５．の工程（Ｃ）１において、第二工程で得られる生成物 を開裂させてラセミまたは光学的に純粋な型における式１ａの化合物を得るため に、 式Ｉ［ａのラセミまたは光学的に純粋な化合物を立体選択的に還元し；そして ｉ）必要に応じて、エステル型における式Ｉａの化合物を普通の方法によって遊 離１ｔ［、塩型、更に、エステル型またはδ−ラクトン、即ち、分子内エステル 型に転化する。

式１ａの化合物は遊離酸、塩、エステルまたはδ−ラクトン、即ち、分子内塩型 であることができる。好ましくは、該化合物は遊離酸または塩、好ましくはアル カリ塩、特にナトリウム塩互である。好ましくは該化合物はラセミ塁である。式 ｒａから明らかな如く、その型はエリスロ型である ９、で説明した特定の具体例は本発明による開示された方法に従って、またはあ る工程に対しては、該当該において公知の方法に従って行われることが理解され よう。

かくして、 一工程ａ）、ｂ）及びＣ）はサブプロセスＡｂ、特にその工程（ｉ）、（ｉ）及 び（ｉｉｉ）に対して７．１．に述べた如くして、例えばサブプロセスＡｂの方 法Ａｂｌ、Ａａ２及び／またはＡｂ３に従って行われる；かくして、工程ａ）及 びｂ）を方法Ａに対して上に述べｔ；方法と同様にして行うことができる； 一工程ｄ）、ｅ）及びｆ）は方法Ｂ１特にその工程１）、ｉｉ）及び１ｉｉ）に 好ましくて上記７．２．に述べた如くして行われる；一工程ｇ）は例えば米国特 許第４７３９０７０号、特にコラム８における反応式及びそのコラム４７におけ る実施例５、工程５に従って行れる； 一二程ｈ）は上記５．に述べた如くて行うわれる。

一工程ｉ）は普通の方法において普通の方法において、例えば米国特許第４７３ ９０７３号に、特にコラム９における反応式Ｉ（反応Ｃ，Ｄ及びＥ）；コラム１ １における反応式■（反応Ｌ）；コラム１６における反応式（■）（反応ＥＥ） に記載された如して行われ；そしてそのコラセム４９．５０．５２及び５３にお ける実施例６（ａ）、６山）、６（ｃ）、８及び９において、Ｔｌ（Ｆをエタノ ールに有利に取り替えることができる。

上記の立体選択的還元工程ｈ）の第二部分において、好ましくは、Ｒ，がイソプ ロピルまたは、特に、ｔ−ブチルである式１１ａの化合物を用い、これによって 、基Ｒ８が例えばメチルであるものよりも、式Ｉのより比較的純粋な化合物の単 離が促進される。更に、驚くべきことに、これによって得られる式１の化合物は 完全に無色であり、一方、従来の合成法で得られるものは常に淡黄色である。

すでに述べｔ；如く、上記の工程ｈ）による立体選択的還元を弐ｎａのラセミま たは光学的に純粋な化合物を用いて行うことができる。式Ｉ［ａの光学的に純粋 な化合物は、例えば工程ｇ）で得られる式１１ａのラセミ化合物のクロマトグラ フ的分割まｔ；は、好ましくは、不斉合成によって得られる。まｔ；、分割を次 の工程で、まｔ；はラセミ性の目的生成物において行うことができる。

また本発明の特定の具体例に対する出発物質は公知であるか、或いは公知の方法 に従って製造することができる。３−（４’−フルオロフェニル）−１−（１’ −メチルエチル）−１Ｈ−インドール［式Ｘ■の化合物、上記の工程ｅ）参照］ は、フルオロベンゼンから出発して、コラム４４及び４５において実施例５、工 程１〜３として米国特許第４７３９０７３号に開示されている。

勿論、また本発明は、特に上に述べてない普通の方法との組み合わせにおいて式 Ｉａの化合物の製造に適用する場合の上記方法ＡＳＢ及び立体選択的還元法に個 々に関する。

ｌＯ１！Ｎ男 以下の実施例は本発明を説明するものである。全ての温度は℃である。

光学的純度を％どして示し、かくして、「純度９９．９％ニリススロ性体」は得 られる化合物中に多くとも０．９％スレオ型が存在することを意味する。

イル　−３．５−ジヒドロキシヘプト−６−ニン酸ｔａｒｔ、−ブ［式Ｔ　：　 Ｒ−３−（４’−フルオロフェニル）−１−（１’−メチルエチル）インドル− ２−イル；　Ｘ嵩（Ｅ）−ＣＨＩＩＣＨ−；Ｒ，−ｔ−ブチル；ラセミ型］（ａ ）　水素化ホウ素ナトリウム４７．６７１　（１，２６モル）を窒素下にて約− ７７℃で、乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１．３：ｌＩ及びメタノール３ ５６蛯からなる溶媒に加えた。得られた溶液にＴＨＦ中の５０％（４，０９Ｍ） ジエチルメトキシポラン１０２ｍｆｆを１５分間にわたって加え、生じた混合物 を更に１０分間撹拌しｔ；。

φ）ＴＨＦ１０４−及びメタノール２６−中の純度７１．８８％の（±）−（Ｅ ）−７−［３’−（４”−フルオロフェニル）−１’−（１”−メチルエチル） インドルー２′−イメ〕−５−ヒドロキシー３−オキソヘプト−６−ニンｌ２ｔ ｅｒｔ、−ブチルエステル３００．５Ｐ　（０，４６４モル）を約−７４℃乃至 −７７℃の温度で１．５時間にわたり、（ａ）が得られた混合物に滴下し、生じ た混合物を更に３０分間撹拌した。飽和重炭酸ナトリウム溶液７２〇−及びヘプ タン１．７５１２を加えて反応を止めｔ；。

次に酢酸エチル５００＋ｎ１２を加え、生じた混合物を１５分間撹拌しながら水 ３．５Ｑで希釈し、混合物の温度は約ｌＯ℃であった。上部の有機層を分離し、 合計２．４ａのｐＨ値７．５の飽和塩化ナトリウム溶液で数回洗浄し、有機層を 最大外部温度約４５℃にて２０〜３ＱｍｍＨＪで濃縮した。

有機残渣にトルエン３７５ｄを加え、溶媒を最大外部温度約４５°Ｃにて２０〜 ３０＋＋＋ｍＨＩで蒸留した。

（Ｃ）　得られＩ；濃い油（主として環式ポロネート）に酢酸エチル３．７３４ を加えＩ；。次に２５〜３０℃の内部温度を保持しながら、酢酸エチル溶液に３ ０％過酸化水素溶液５００ｍｎＣ４，４１モル）を加え（添加は最初に発熱的で あった）、薄層クロマトグラフィーによってボロネートの存在が示されなくなる まで、反応混合物を２０乃至２５℃で約２時間撹拌した。上部有機層を合計２． ．２２ＱのｐＨ値７．５の飽和塩化ナトリウム溶液で２回洗浄した。次に有機層 を分離し、内部温度２５℃を保持しながら、合計２．６１ｆｆのｌＯ％亜Ｗ、酸 ナトリウムで３回（有機層が過酸化物を含まなくなるまで）洗浄した。次に上部 有機層を合計１．７２ＱのｐＨ値７．５の飽和塩化ナトリウム溶液で２回洗浄し 、溶媒を最大外部温度約４５℃にて２０〜３ＱｍｍＨ９で蒸留した。残渣を還流 している酢酸エチル１．１７１２に溶解し、混合物を熱時濾過し、濾液を２０℃ 乃至２５℃で１８時間撹拌した。固体を濾過によって捕集し、減圧下（約２０〜 ３ＱｍｍＨｊｉにて２５℃で乾燥し、酢酸エチル／ヘプタン（１：４）５５０ｍ １２で洗浄し、酢酸エチル８８０ｍ１２に再溶解し、周囲温度で１８時間撹拌し た。固体を濾過によって捕集し、酢酸エチル／ヘプタン（ｌ：２）４８０ｍｆ２ で洗浄した。固体を減圧下で乾燥し、生成物１１４．５：ｊを得た（融点１３５ 〜１３７℃）。

母液から第二の収穫物が得られ、合計収量は１４９．５１となった。

この生成物は化学的純度９９．４４％を有し、純度９９．６％のエリスロ異性体 であった。このものを２種の光学的活性エナンチオマー、３Ｒ１５Ｓ及び３Ｓ、 ５Ｒに分割することができ、この中で前者が好ましい。

またそして好ましくは工程ａ）において、水素化ホウ素ナトリウムの示した量の 半分を用いることができる。

また、工程（Ｃ）において、３０％過酸化水素溶液の代りに、過ホウ素酸ナトリ ウム水溶液を用いることができる。

イル］　−３，５−ジヒドロキシヘプト−６−エン酸メチルエ［式１：Ｒ，Ｘ− 実施例１と同様；Ｒ１−メチル；ラセミ型］（ａ）　水素化ホウ素ナトリウムを 実施例１１工程（１１）に述べた方法と同様にして、但し、ＴＨＦ中の１５％ジ メチルメトキシボランを用いて処理しｔ二。

（ｂ）　（±）−（Ｅ）　−［７−（３’−（４“−フルオロフェニル）−１’ −（１“−メチルエチル）インドルー２′−イル］−５−ヒドロキシー３−オキ ソヘプト−６−エン酸メチルエステルｌ　１８．５Ｊ　（０，２８モル）を実施 例１１工程（ｂ）と同様にして処理するが、但し、希釈を３．５ｇの水単独の代 りに、水１．４２ｆｆ及びヘプタン１．１８５Ｑで行った。

（ｅ）　有機残渣（主に環式ボロネート）に酢酸エチル２．３７５Ωを加え、混 合物を３０％過酸化水素２６４ｍｕ　（２，３２８モル）で処理し、実施例１． 工程（Ｃ）に述べた如くして処理した。残渣をインプロパツール１３０ｍ０に溶 解した。混合物を還流温度に加熱しｔ；。熱時、ホウ酸１４２を加え、撹拌を１ ５分間統けｔ；。次に混合物を濾過し、濾液を２０℃乃至２５℃で１８時間撹拌 した。固体を濾過によって捕集し、インプロパツール１００ｍ１２で洗浄し、減 圧下で乾燥し、生成物１１０．？（収率８０％）を得た。生成物をメタノールに 再溶解し、そして再結晶させた（融点１２４〜１２６℃）。生成物は純度９９． ０７％のエリスロラセミ体であり、このものを２種の光学的エナンチオマー、３ Ｒ，５Ｓ及び３Ｓ。

５Ｒに分割することができ、この中で前者が好ましい。

実施例３：（＋）−エリスロー（Ｅ）−３，５−ジヒドロキシ−７−［１’−（ ４”−フルオロフェニル）−４−（１”−メチルエチル−２′−フエニル−ＩＨ −イミダゾルー５′−イル］−ヘプト［式Ｉ＋Ｒ冨１−（４’−フルオロフェニ ル）−４−（１’−メチルエチル）−２−７二二ルーＩＨ−イミダゾルー５−イ ル；Ｘ　−（Ｅ）−ＣＨ−ＣＨ−；　Ｒ，−ｔｅｒｔ−ブチル；　（３Ｒ，５Ｓ ）−エナンチオマー型］ （ａ）　水素化ホウ素ナトリウム１０．２７２　（０，２７モル）を窒素下にて 約−７６℃で乾燥ＴＨＦ　１．６７１２及びメタノール５１３ｍＧからなる溶媒 に加えた。生じｔ；溶液に、内部温度を−７７，５℃以下に保持しながら、Ｔ） （Ｆ中の１５％ジエチルメトキシボラン３８７−を３０分間にわたって加え、生 じた混合物を更に５分間撹拌した。

（ｂ）ＴＨＦ３０４ｍＱ及びメタノール３６蛯Ｑ中の（５Ｓ）−（Ｅ）−７−［ １’−（４＃−フルオロフェニル）−４’−（１＃−メチルエチル）−２′−７ 二二ルーＩＨ−イミダゾルー５′−イル］−５−ヒドロキシー３−オキソヘプト −６−ニン酸ｔｅｒｔ、−ブチルエステル１ｌＯｊ？　（０，２２３モル）を約 −７４℃乃至−７７°Ｃの温度で２時間にわたり、（ａ）で得られた混合物に滴 下した。生じた黄色溶液を−７６，５℃で６時間撹拌した。次に飽和塩化ンモニ ウム４２５＋ｎＱを加えて反応を止め、温度を約−６５℃に保持した。酢酸エチ ル９５０ｍｃ、ヘキサン９５０ｍ１２及び水１゜１３１２を加え、混合物の温度 は約５℃であり、混合物を１５分間撹拌し、混合物の生じた温度は約５℃であっ た。上部の有機層を分離し、合計１゜４Ｑの飽和塩化ナトリウム溶液（ｐＨ値７ ．５）で続けて洗浄し、溶媒を最大外部温度約４５°Ｃにて２０〜３ＱｍｍＨ， ９で蒸留した。

（Ｃ）　得られた油（主に環式ポロネート）に酢酸エチル３．２５Ｑを加えた。

次に内部温度が２０℃乃至２５℃に保持されるようにして、３０％過酸化水素３ ４０ｄ（３モル）を徐々に加え、反応混合物を２０℃乃至２５°Ｃで、薄層クロ マトグラフィーによってポロネートの存在が示されなくなるまで、約３時間撹拌 した。上部の有機層を合計１．６１２のｐＨ値７．５の飽和塩化ナトリウム溶液 で２回洗浄した。次に上部の有機層を分離し、内部温度を２５℃に保持しながら 、合計１．５ａの１０％亜硫酸ナトリウム溶液で３回（各１０分間）（有機層が 過酸化物を含まなくなるまで）洗浄した。上部の有機層を飽和塩化ナトリウム溶 液（ｐＨ値７．５）６００＋ｎ＋２で洗浄した。溶液を最大外部温度４５℃にて ２０〜３０ｍｍＨｊｌで蒸留しｔ；。粗製の物質１０６７が得られｔ；。粗製の ジヒドロキシエステル０．６８．？の粗製を、溶離剤として酢酸エチル／ヘキサ ン（１：２）を用いてカラムクロマトグラフィーによって行い、４９０ｍｊ’が 得られ、このものはＮＭＲ分析により、純度９８．７％でエリスロ異性体を含む ことが示された（スレオ異性体は存在しなかった）；ｒａｌＶ−＋６−４９”　 （ｃ−０−７７、ＣＨ２ＣＩ　ｇ）。

［式１ｕニトリチル；　Ｒ，ｕ　−ｔ−ブチル；（−）−エナンチオマー型］（ ａ）水素化ホウ素ナトリウム５．６１７？　（１４８，４ミリモル）を窒素下に て約−７６℃で乾燥ＴＨＦ　９９０−及びメタノール２８０ｍＣからなる溶媒に 加えた。温度が約−７４℃に上昇した。生じた溶液にＴＨＦ中の１５％ジエチル メトキシポラン１２９．７ｍＩ２を２０分間にわたって滴下し、生じた混合物を 一７７°Ｃ乃至−７６°Ｃで更に１０分間撹拌しｔ；。

山）ＴＨＦ１６５−及びメタノール４１−中の（Ｓ）−５−ヒドロキシ−６−ド リチルオキシー３−オキシーヘキサン酸ｔ−ブチルエステル５６７　（０，１２ ２ミリモル）を約−７７℃乃至−７５℃の温度で４０分間にわたり、（ａ）で生 じた混合物に滴下し、生じた混合物を一７７℃乃至−７５℃で更に２時間撹拌し た。飽和塩化アンモニウム溶液１５６ｍΩを加えて反応を止めた。次に酢酸二チ ル５００　ｏＱ、ヘプタン５００ｍ１２及び水５００ｍ＋２を加えた。上部の有 機層を分離し、合計６００ｒｒ、Ｑの飽和塩化ナトリウム溶液ＣｐＨ値７．５） で洗浄し、有機層を最大外部温度約４５℃にて２０〜３０闘Ｈ２で濃縮した。

（Ｃ）　得られた有機残渣（主に環式ポロネートを含む）に酢酸エチル７９３ｄ を加えｔ；。次に３０％過酸化水素７９ｍ（２（０，７モル）を徐々に加え、反 応混合物を、薄層クロマトグラフィーがポロネートの存在を示さなくなるまで、 約３時間撹拌し！；。上部の有機層を合計４００−のｐＨ値７．５の飽和塩化ナ トリウム溶液で洗浄した。次に上部の有機層を分離し、内部温度を２５℃に保持 しながら、合計５７６−の１０％亜硫酸ナトリウム溶液で３回（各１０分間）洗 浄した（有機層が過酸化物を含まなくなるまで）。次に上部の有機層を合計２０ ０−のｐＨ値７．５の飽和塩化ナトリウム溶液で順次洗浄し、溶媒を最大外部温 度約４５℃にて２０〜３０＋＋ｕｎＨＪｌで蒸留した。粗製のジヒドロキシ化合 物（融点８４〜８６℃）５４．３．？が得られ、このものは９９．１９％エリス ロスロ体を含んでいた；　［ａ］ｆ−−５，５９”　（ｃ−１，６、ＣＨ，Ｃ１ ｌ＋）。

［−（Ｅ）−３−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）プロプ−２−エナール］ ［式■：　Ｒ，、、Ｒ１３−メチル１ ［サブプロセスＡａｌ 工程（ｉ）：撹拌機、塩水−充填した冷却器、温度計、苛性スクラツバー、添加 ローＩ・及び冷却浴を備えた容量１２１２の４つ朽ち丸底フラスコに、窒素雰囲 気下で塩化メチレン４．０及びＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド４３８２　（５， ９９モル）を入れｔ；。この溶液を７°Ｃに冷却し、塩化オキザリル８６０．？ 　（６，８モル）を２．５時間にわたり、反応混合物の温度を５℃乃至１０℃に 保持しながら、少量または全く溶媒及び／または試薬が冷却器に吹き払われない ような速度で加えた。白色固体を生じた。

工程ａＤ：エチルビニルエーテル４８３７　（６，７モル）を、最大温度２５℃ 乃至２８°Ｃを保持しながら３０〜６０分間にわたって加え、添加は極めて発熱 的であった。反応混合物を３７℃乃至３８℃に３０分間加熱し、還流が起こった 。塩化メチ１／ンを４５℃にて３０〜４０＋ｎｍＨ７で蒸留によってできるだけ 回収し、蒸留が終了した後、反応混合物を４５℃にて３０ｍｍＨＪ？で３０分間 保持し、暗褐色の撹拌可能な油を得た。

工程（至）：反応混合物を２０℃に冷却し、水４５０ｍＱを約３０分間にわたっ て加えた；発熱反応が温度を６０℃に上昇させ、この温度を残りの添加中保持し た。混合物を５０℃乃至６０℃で３０分間撹拌し、そして冷却しｔ；。水３．６ Ｑ中の無水炭酸カリウム１．７１ｋＮの溶液を、温度を２０℃乃至２２℃に保持 しながら、３０〜４５分間にわたって加えた。

水層を塩化メチレン４１２で抽出し、底の塩化メチ１／ン層を分離し、上部の水 層を塩化メチレン各ｌ＋２で４回拙出した。５回の塩化メチレン相を合液し、無 水硫酸すトリウム５００２上で乾燥し、濾過し、固体分を塩化メチレン各２５０ ｍ１２で２回洗浄した。洗液及び濾液を合液し、塩化メチレンを４５℃にて２０ 〜４Ｑｍｍ）１７で蒸留によってできるだけ回収し、濃い撹拌可能な油を得た。

工程０ｖ）：この油を２０℃に冷却し、メタノール５００ｍＱを加え、この混合 物を１０℃に冷却し、最高温度２０°Ｃを保持しながら無水ジメチルアミン６０ ９　（１，３３モル）を加えた。溶媒を２０〜ｂ０°Ｃで蒸留によってできるだ け回収し、圧力を３〜４　ｍｍＨ，９に降下させ、温度が１２０℃になるまで徐 々に上昇させながら蒸留を続け、蒸気温度が１１５℃になり、油として純度８９ ．７％の生成物を得た［４１２．？；収収率６亢 実施例６：３−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）アクロレイン［−　（Ｅ） −３−　（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）プロプ−２−エナール１ ［式■：Ｒ１２−７ユニル；Ｒ＋ａ”−メチル１［サブプロセスＡｂ，方法Ａｂ ｌｌ 工程（ｉ）：撹拌機、塩水−充填した冷却器、温度計、苛性スクラツバー、添加 ロート及び冷却浴を備えた容量１２Ｉ２の４つ日丸底フラスコに、窒素雰囲気下 で塩化メチレン３，ＯＱ及びＮ−メチルホルムアニリド１．０２ｋＦ（７．４モ ル）を入れた。溶液を１５℃に冷却し、塩化オキザリル１、１　０に＃（８．６ ７モル）を１．５時間にわたり、温和な還流下にて温度を１５℃乃至１７℃に保 持しながら、少量または全く溶媒及び／または試薬が冷却器に吹き払われないよ うな速度で加えｔ；。反応混合物を１時間にわたって徐々に４３℃に加温し、４ ３℃乃至４５℃で１１１間還流させ、透明な黄色溶液が得られ、これを１５℃に 冷却しｌ；。

工程６０：最大温度２８℃乃至２９℃に保持しながら、エチルビニルエ−テルロ ４８ｊ　（８，９９モル）を４０〜６０分間にわたって加え、反応は極めて発熱 的であつｔ；。生じた褐−赤色溶液を３８℃乃至３９℃に３０分間加熱し、還流 が起こり、これを１５°Ｃに冷却した。

工程（至）：水４．！Ｍ中の無水炭酸ナトリウム９８０Ｆ　（９，，０５モル） の溶液を、２２℃乃至３０℃の温度を保持しながら、４０〜６０分間にわたって 加え、添加は極めて発熱的であつｔ；。混合物を２２＠乃至２５℃で１５分間撹 拌し、１５分間放置して２相に分離させた。有機相を分離し、水相を塩化メチレ ン１．２５Ｑで抽出した。塩化メチレン抽出液を前の有機相を合液し、合液した 溶液を水１ｇで抽出した。水性抽出液を塩化メチレンで２５０ｍ（＋で逆抽出し 、この塩化メチレン抽出液を前の有機相と合液した。塩化メチレンを２０〜４０ ｍｍＨｊ？及び６０℃で蒸留によってできるだけ回収し、残った油を２０〜３０ ＋ｎｍＨＪ及び６０℃乃至６５℃で４時間加熱し、油として純度８３．５％の生 成物が得られ［１，２９５ｊ；収率９０．７％；純粋な生成物の沸点２４４℃（ 分解）；イソプロパツール／ホキサン１：１から再結晶した純粋な生成物の融点 ４６〜４７℃］。

寅施例７　：　３−　（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）アクロレイン［−（ Ｅ）−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）プロプ−２−エナール１ ［式■’　Ｒ１２＋　Ｒ１４一実施例６と同様］［サブプロスＡｂ、方法Ａｂ２ ］ 工程（ｉ）：撹拌機、塩水−充填しＩ；冷却器、温度計、苛性スクラツバー、添 加ロート及び冷却浴を備えた容量５Ｑの４つ口丸底フラスコに、窒素雰囲気下で アセトニトリル３５０ｍＱ及びＮ−メチルホルムアニリド４２５Ｆ　（３，８モ ル）を入れた。この溶液を−１５℃に冷却し、塩化オキザリル４４０１　（３， ４６モル）を１．５時間にわたり、温和な還流下にて温度を一１５℃乃至−１Ｑ ℃に保持しながら、少量または全ての溶媒及び／または試薬が冷却器に吹き払わ れないような速度で加えた。反応混合物を３０分間にわたって徐々に１５°Ｃに 加温し、１５°Ｃ乃至１８°Ｃで１５分間撹拌した。

工程（ｉｉ）：ｎ−ブチルビニルエーテル３３９．５Ｆ　（３，３９モル）を最 大温度２８℃乃至３０℃を保持しながら、４５分間にわたって加え、反応は極め て発熱的であった。反応混合物を３０℃乃至３５℃で３０分間撹拌し、赤−褐色 の溶液が得られ、この溶液を０℃に冷却した。

工程（至）：水１．７５Ｑ中の無水炭酸ナトリウム３９５ｊＦ　（３，７３モル ）の溶液を、温度８°Ｃ乃至１０℃に保持しながら、４０〜６０分間にわたって 加え、添加は極めて発熱的であった。トルエン１．７５０を加え、混合物を２０ °Ｃ乃至２２°Ｃで１５分間撹拌し、１５分間放置して２相に分離させた。有機 相を分離し、水容１５０ｍ（２で２回洗浄した。トルエンを２０〜ＢＯｒｎ＋＋ ＪＩ９及び６０℃乃至９０℃で蒸留によってできるだけ回収し、残った油を２０ 〜３ＱｍｍＨＩで８９℃乃至９０℃に３０分間加熱し、油として純度８６．６％ の生成物が得られた［４９２２；収率８５．７％：純粋な生成物の沸点２４４° Ｃ（分解）；イソプロパツール／ヘキサンｌ：１から再結晶させた純粋な生成物 の融点４６〜４７℃］。

反応混合物を３０℃乃至３５℃の代りに、２８℃乃至３０℃で撹拌した場合、純 度９２．３％の生成物が収率９０．７％で得られた。

寅施例７　ａ　：　３　（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）アクロレイン［− （Ｅ）−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）プロプ−２−エナール］ ［式■：Ｒ１２，Ｒ目−実施例６と同様］［サブプロセスＡｂ、方法Ａｂ２、ニ ート試薬］工程（ｉ）二冥施例７、工程（ｉ）の如く備えた容量２．５Ｑの４つ 口丸底フラスコに、窒素雰囲気下でＮ−メチルホルムアニリド２２３．２ｍｆｆ （１゜８１モル）を入れた。溶液を１５℃に冷却し、塩化オキザリル１７７゜６ ｍ１２（２，０７モル）を、同一温度を保持しながら、２０分間にわたって加え た。自然のガス発生が起こり、橙色の均等溶液が生じた。

工程（ｉｏ：ｎ−ブチルビニルエーテル２７８．４−（２，１６モル）を、内部 温度を２５℃乃至３０℃に保持しながら、４５分間にわたって加え、反応は発熱 的であった。有機懸濁液を４０°Ｃ乃至４５°Ｃで３０分間撹拌し、そして０℃ に冷却した。

工程ω：工程（１０の生成物に温度が５℃を越えないようにして、４ＮＮａＯＨ 溶液を約９０分間にわｔ；って徐々に加えた。混合物を室温まで加温し、更に６ ０分間撹拌した。有機層を容量３Ｉ２のロートに移し、水相をｎ−ブタノール１ ｏｏｒｎ＜１で抽出した。合液した有機層を塩水２００＋ｎＱで２回洗浄し、溶 媒を８０℃／　ｌ　５　Ｔｏｏｒで２時間にわたって留去し、濃い褐−黒色の油 を得た［２９５＆；収率９２％；化学的純度〉９８％；純粋な生成物の沸点２４ ４°Ｃ（分解）；イソプロパツール／ヘキサン１：１から再結晶した純粋な生成 物の融点４６〜４７℃］。

実ｍ例８　：　３−　（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）アクロレイン［−（ Ｅ）−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）プロプ−２−エナール］ ［式■’　Ｒ１２＊　ＲＩｓ−実施例６と同様〕［サブプセスＡｂ、方法Ａｂ３ ］ 工程（ｉ）及びＧＯ＝撹拌機、塩水−充填した冷却器、温度計、苛性フクラツバ ー、添加ロート及び冷却浴を備えた容量１２１２の４つ口丸底フラスコに、窒素 雰囲気下にて塩化オキザリル１．０５６ｋＦ　（８，１５モル）及びアセトニト リル４８０ｍ（２を入れた。この溶液を一１０°Ｃに冷却し、Ｎ−メチルホルム アニリド１．０２ｋＦ　（７，３９５モル）、ｎ−ブチルビニルエーテル８１６ ９　（７，９８モル）及びアセトニトリル３６０−の混合物を２．５時間にわた り、温和な還流下にて温度を−１０℃乃至−５℃に保持しながら、少量または全 ての溶媒及び／または試薬が塩水−充填しｔ；冷却器（−２５℃乃至−２０°Ｃ に保持した）の底に吹き払われないような速度で加えた。生じた均等の橙色反応 混合物を３０分間にわＩ；って２０℃の温度に徐々に加温した；やや発熱的で、 ３０分間にわたって温度が２８℃に上昇した。反応混合物を２８°Ｃ乃至３０° Ｃで１時間撹拌し、褐色の均等混合物が得られ、このものを０℃に冷却した。

工程０：水４．２０Ｑ中の無水炭酸ナトリウム９４８Ｊ　（８，９４モル）の溶 液を、８℃乃至１０℃の温度を保持しながら、４５〜６０分間にわｔ；って加え 、添加は最初に極めて発熱的であった。トルエン３．６０ｆｆを加え、混合物を ２０’０乃至２２°Ｃで１５分間撹拌し、１５分間放置して２相に分離させた。

有機相を分離し、水容３６０＋＋＋１２で２回洗浄しＩ；。

トルエンを２０〜３ＱｍｍＨ７及び６０℃乃至９０℃で蒸留によってできるだけ 回収し、残った油を２０〜３０ｗＨ２で８９℃乃至９０℃に３０分間加熱し、油 として純度８９．１％の生成物が得られた［１．１６ｋＬ収率８６．６％；純粋 な生成物の沸点２４４℃（分解）；イソプロパツール／ヘキサンから再結晶しＩ ；純粋な生成物の融点４６〜４７℃］。

１０．３．方法Ｂによる式Ｖａの中間体の製造に対する実施例（１”−メチルエ チル）−１Ｈ−インドルー２′−イル］プロプー２−エナール ［式Ｖａ　：　Ｒｅ、Ｒｅ−Ｈ；　Ｒｔ−１−メチルエチル；Ｒｅ−４−フルオ ロフェニル］ ＜ｉ）　撹拌機、冷却器、温度計、添加ロート及び冷却浴を備えた容量５Ωの４ つ口大底フラスコに、乾燥窒素雰囲気下にて、乾燥アセトニトリル１００ＩＩｌ １２及びオキシ塩化リン１７４．４Ｆ　（１，１４モル）を入れ、混合物を一５ ℃に冷却し、乾燥アセトニトリル１５６ｍ（２中の純度８３．５％の３−（Ｎ− メチル−Ｎ−７二二ルアミノ）アクロリイン（実施例６〜８の生成物）１８４． ？　（０，９６モル）を、温度を一５℃乃至＋５℃に保持しながら、４５分間に わたった加えた。反応混合物を０℃乃至５℃で１０分間撹拌しｔ；。

ＧＤＩ−（４’−フルオロフェニル’）−１−（１’−メチルエチル）−ＩＨ− インドール（式Ｘ■の化合物）１１５．２９　（０，４５モル）を、温度を焼く ５℃に保持しながら、２０分間にわたって加えた。又応混合物を８３℃で９時間 還流させ、そして１０℃に冷却した。

（ト）水２．Ｏａ中の水酸化ナトリウム２２８１　（５，７モル）の溶液を、温 度を２５℃乃至３０℃に保持しながら、３０分間にわたって徐々に加え、添加は 極めて発熱的であった。トルエン１．６１２を加え、混合物を２５℃で３０分間 撹拌し、フィルターパッドを通して濾過した。フィルターケーキをトルエン１０ ０ｍｆ２で洗浄し、洗液を前の濾液と合液した。

有機層を分離し、濃塩基９３．４１及び水２Ｑの混合物、次に飽和塩化ナトリウ ム溶液４００ｍＱを加えた。混合物を２５℃で３０分間撹拌し、生じたスラリを フィルターパッドを通して濾過した。このタールをトルエン１００−で洗浄し、 洗液を濾液を合液した。有機層を分離し、脱イオン水２Ｃで２回洗浄し、フィル ターパッドを通して濾過した。トルエンを３０〜５Ｑａ＋ｍＨＪＪ及び内部温度 ６０″乃至６５℃で蒸留によってできるだけ回収し、濃い撹拌可能な油が得られ た。９５％エタノール１００ｍ１２を加え、エタノールを３０〜８０ｍｍ）１７ 及び６０’Ｃ乃至６５℃で蒸留によってできるだけ回収し、この操作を２回くり 返し行った。９５％エタノール１８０−を加え、混合物を７８℃で１５分間還流 させ、２時間にわたって２０℃に徐々に冷却し、約５５℃で結晶化が開始しｔ； 。このスラリを３０分間にわたって０℃乃至５℃に徐々に冷却し、０℃乃至２℃ に１時間保持し、そして濾過した。フィルターケーキを冷（０’Ｃ乃至５℃）９ ５％エタノール各５０−で３回洗浄し、６０℃乃至６５℃で１６時間真空乾燥し て一定重量にし、純度９８．７％の生成物を得た（１゜ｌｌ；収率７１．３％； 融点１２７℃〜１２８℃）。

別法として、９５％エタノールの代りにイソプロパツールを用いた。

実施例１０　：　（Ｅ）−３−［３’−（４“−フルオロフェニル）−１’−（ ｌ”−メチルエチル）−１Ｈ−インドルー２′−イル］プロブー２−エナール ［式Ｖａ　：　Ｒ，、Ｒ＠、Ｒ７，Ｒａ−実施例９と同様］［方法８％変法］ ｉ）撹拌機冷却器、温度計、添加ロート及び冷却浴を備えた容量５ｇの４つ口大 底フラスコに、乾燥窒素雰囲気下にて、乾燥アセトニトリル２６３−及びオキシ 塩化リン４５４１　（２，９６モル）を入れ、混合物を一５°Ｃに冷却し、乾燥 アセトニトリル４０６ｍＱ中の純度８５．５％の３−（Ｎ−メチル−Ｎ−７二二 ルアミノ）アクロレイン４７１．６１（２，４９モル）の溶液を、温度５℃乃至 ７℃を保持しながら、４５分間Ｌ；わたって加えた。反応混合物を５℃乃至７℃ で１０分間撹拌した。

ｉｉ）　３−（４’−フルオロフェニル）−１−（１’−メチルエチル）−ＩＨ −インドール（式Ｘ■の化合物）３００２　（１，１８モル）を、約７℃の温度 に保持しながら、１０分間にわたって加えた。反応混合物を８３℃で３時間還流 させ、そして２２℃に冷却した。

１ｉｉ）　水２゜７１２を、２２℃乃至３５℃の温度を保持しながら、１５分間 にわたって加え、添加は発熱的であった。反応混合物を３５℃乃至５０℃で３０ 分間撹拌し、５０℃乃至５５℃に１．５時間加熱しく完全な加水分解のために長 期間の加熱を必要とする）、２２℃に冷却し、２２℃に１５分間保持し、そして 濾過しＩ；。フィルターケーキを水苔６００ｍＱで３回洗浄し、アスピレータ− による減圧下で６〜１６時間吸引乾燥した（Ｎ−メチルアニリンを合液しｔ；水 層及び洗液から回収することができた）。湿ったフィルターケーキを最初の５１ ２フラスコに移し、トルエン２．５ｇ及び２０μ粉末セルロース１８０２を加え 、混合物を５０℃乃至５５℃に１．５時間加熱し、２２℃に冷却し、２２°Ｃに １５分間保持し、随時口重で覆われた７０〜２３０メツシュＡ、Ｓ、Ｔ、Ｍ、シ リカゲル９１１のパッドを通して濾過した。セルロース及びシリカゲルのパッド をトルエン濾液００ｄで洗浄した。トルエン濾液及び洗液を合液し、トルエンを ３０〜５０關Ｈ２及び５０℃乃至６５℃（外部温度）で蒸留によってできるだけ 回収した。残った濃い油に９５％エタノール２８〇−を加え、エタノールを２０ 〜３　Ｑ　ｍｍＨｌ及び６０℃乃至６５℃で蒸留し、９５％エタノール２８０ｍ Ｑを加え、エタノールを３０〜８０＋ｎｍＨ７及び６０℃乃至６５°Ｃで可能な 限り蒸留した。９５％エタノール７００　ｍｍＨＰｔ−加え、混合物を７８℃で １５分間還流させ、１時間にわたって徐々に２０℃に冷却し、約５５℃で結晶化 を開始した。生じたスラリを３０分間にわＩ；って０℃乃至５℃に冷却し、０℃ 乃至２℃に３０分間保持し、固体を濾過によって捕集し、冷（０°Ｃ乃至５℃） ９５％エタノール各１２０−で３回洗浄し、一定重量になるまで、６０℃乃至６ ５°Ｃで１６時間真空乾燥し、純度９９．４％の生成物を得た（２７６．６．？ 　；収率７５゜５％；融点１２９℃〜１３０℃）。

変法として、９５％エタノールの代りに、イソプロパツールを用いた。

シリカゲルのパッドを省略すること、即ち、粉末セルロースを含む液体を簡単な 濾過に付し、これによる残渣をトルエン各２００ｍＱで３回洗浄することが好ま しい。

［式Ｖａ　：Ｒ＠、Ｒ，、Ｒ，。Ｒｓ−実施例９と同様］［方法Ｂ、変法］ （ｉ）　実施例１０．工程（ｉ）に述べた如く装備した容量１．！Ｍのフラスコ に、乾燥窒素雰囲気下にて室温で乾燥アセトニトリル１７０ｍｆｆ及び３−（Ｎ −メチル−Ｎ−フェニルアミノ）アクロレイン塩ｍ塩ｘｏｓ。３２を入れた。こ の混合物に５分間にわｔ；つてオキシ塩化リン９６．６．？を加えた。暗色の溶 液が得られｔ；。

Ｇｉ）３−（４’−フルオロフェニル）−１−（１’−メチルエチル）−ＩＨ− インドール（式Ｘ■の化合物）９０２を３０℃で加えた。混合物を４．５時間７ ５℃乃至８３℃に過熱して還流させ、次に２２℃に冷却しｔ二。

０　水２５０ｍ１２を５℃で加え、次に室温で１５分間にわたって水５００ｍΩ を加えた。混合物を３５°Ｃ乃至５０°Ｃで３０分間撹拌し、次に５０℃乃至５ ０℃に１．５時間加熱した。暗色のスラリか得られた。この混合物を３０℃に冷 却し、３０℃に１５分間保持し、褐色のスラリを濾過した。フィルターケーキを 合計５４０ｎ１２の水で３回洗浄した。フィルターケーキを真空下で約４時間吸 引乾燥しＩ；。固体を最初の１．５１２フラスコに移し、トルエン７５０ｒｎ１ ２及び２０μ粉末セルロース５４２を加え、統いての九理を実施例１Ｏ１工程（ 至）に述べた如くして行い、生成物を得た（８９１収率８１％；融点１２３〜１ ２９℃）。

−（４＃−フルオロフェニル）−１’−（１”−メチルエチル）インドルー２′ −イル］ヘプトー６−エン酸ナリトヱ土皇 ［式！ａミニラセミ：ナトリウム塩型］工１１片ゴｕ盈〃滴つ：方法Ａ１サブプ ロセスＡｂに従って、Ｎ−メチルホルムアニリドを塩化オキザリル及びエチルま たはｎ−ブチルビニルエーテルと反応させ、実施例６．７．７ａまたは８　［工 程（ｉ）、（ｉｉ］及び（ト）コに述へた如くシて３−（Ｎ−メチル−Ｎ−７二 二ルアミノ）アクロレインを製造した。

工里□□□：上記の生成物、３−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）アクロレ インを、実施例９、ｌＯまたはｌｏａ、工程＜ｉ）に述べた如く、オキシ塩化リ ンと反応させ、ｘａがりフロであり、Ｒ１□がフェニルであり、モしてＲＩ３が メチルである式ＸＶＩの化合物を製造しｔ；。

工呈（転）：上記式Ｘ■の化合物を、実施例９．１０またはｌｏａ、工程（１０ に述べ！；如く、３−（４’−フルオロフェニル）−１−（１’−メチルエチル ）−１Ｈ−インドールと反応させ、Ｘａがクロロであり、Ｒ，□、がフェニルで あり、そしてＲ１３がメチメである式Ｘ■ａの化合物を製造しｌ二。

工里銀：上記式Ｘ■ａの化合物を、実施例９、ｌｏまたは１０ａ、工程（ホ）に 述べた如くして加水分解し、（Ｅ）−３−［３’−（４”−フルオロフェニル） −１−（１’−メチルエチル）−１Ｈ−インドルー２−プロプ−２−エナールを 製造した。

二貝鬼ト窒素雰囲気下にて、反応器にテトラヒドロフラン０．５１２を入れ、溶 液を一１Ｏ℃に冷却し、水素化ナトリウム（鉱油中の６０％分散体）６０２を注 意して加えた。次に温度を２℃以下に保持しながら、ＴＨＦ２５（１−中のアセ ト酢ｆｉｔ−ブチル２３７．３１を４５分間にわたって注意して加えた。生じた 溶液を一１θ℃乃至２０℃で１時間撹拌しｔ；。混合物を一１０℃に冷却し、ヘ キサン中のｎ−ブチルリチウムの１゜６Ｍ溶液９３８−を、温度がＱ’Ｃを越え ないような速度で加えた（約６０分間にわたつＩ；）。混合物をこの温度で１０ 分間撹拌し、次に一１０℃に冷却し、ＴＨＦ６５０ｍＯ中の上記の工程（ｆ）の 生成物２３０９の溶液を、温度が０℃を越えないような速度で加えた（約７０分 間にわたった）。

反応混合物を０℃で１５分間撹拌し、製塩ｒＩｉ２４８ｍＱ及び氷２　、５　ｋ ７の混合物中にはげしく撹拌しながら５〜ｌＯ分間にわたって注いだ。混合物を 更に１５分間はげしく撹拌し、有機相を分離し、飽和ＮａＣｌ溶液各５００ｍＱ で２回洗浄し、減圧下（約２５　ｍｍＨ！ｊ）で濃縮した。残液にトルエン２０ ０ｍ＋２を加え、この溶液を再濃縮した。得らたれ粗製の（±）−（Ｅ）−７− ［３’−（４′−フルオロフェニル’）−１’−（１＃−メチルエチル）インド ルー２′−イル］−５−ヒドロキシー３−オキソヘプト−６一エンｗｉｔ−ブチ ルエステル（Ｒ１がｔ−ブチルである式Ｉ［ａの化合物、ラセミ型）（５０３， ８７、純度７０．０４％）を更に精製せずに次の工程に用いた。

工璽ω：上記の粗製の生成物を実施例１１工程（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）に述べ た如して立体選択的に還元し、（±）−エリスロー（Ｅ）−７−［３’−（４″ −フルオロフェニル）　−１’−（１”−メチルエチル）インドルー２′−イル ］　−３，５−ジヒドロキシ−６−ニン酸ｔ−ブチルエステルを製造した。

盃！ノ：ＴＨＦ　２７５ｍ１２中の上記ω）で得られたエステル４２．５．？に 、温度を１０℃以下に保持しながら、ＩＮ水酸化ナトリウム９０ｍ（＋を５分間 にわたって加えｔ；。この溶液を室温で１時間撹拌し、メタノール２７５−を加 え、混合物を２５關Ｈ２及び４５°Ｃで濃縮し、次に脱イオン水３００ｍｆｆを 加え、蒸留を残りの容量１４釦−になるまで続け、次に脱イオン水３８０−を再 び加え、溶液を合計６４０ｍｆｆのｎ−ブチルメチルエーテルで３回に分けて洗 浄しｔ；。水層を２５ｍｍＨ７及び４５℃で約３００ｍＱの容量に濃縮し、脱イ オン水２２０＋ｎ１２を加え、透明な水溶液を３日間凍結乾燥した。表題の化合 物が得られ？＝（３５，９ｊ；収率９１％；化学的純度９８．９％；純粋なユリ スロ異性体９９．９％ニホウ素濃度は検出限界以下）。

工！豆ルフ灯ＩＢＩＩｍ：エタノール１７５＋ｎＱ中の上記工程出）で得られた 工２に、温度を１２℃以下に保持しながら、ＩＮ水酸化ナトリウム溶液７４ｍＱ を５分間にわたり撹拌しながら加えた。この溶液を１時間撹拌し、混合物を２５ ｍｍＨ７及び４５℃で濃縮し、次に脱イオン水２５０ＩｎＩ２を加え、蒸留を残 りの容量が１１５ｍ（＋になるまで続け、次に脱イオン水３１５ｍｆｆを加え、 この溶液を合計５２５ｍβのｔ−ブチルメチルエーテルで３回に分けて洗浄した 。水層を２５　ｍｍＨｊｊ及び４５°Ｃで約２４５ｎ＋１２の容量に濃縮し、脱 イオン水１８５ｍ１２を加え、透明な水溶液を３日間凍結乾燥した。

表題の化合物が得られた（２９．７！Ｍ　；純白色；収率９１％；融点２０４〜 ２０７°Ｃ（分解）；化学的純度１００％；純粋なエリスロ異性体９９゜６１％ ；ホウ素濃度３．９６ｐｐｍ）。

［３’−（４＃−フルオロフェニル）−１’−（１“−メチルエチル）インドル ー２′−イル］ヘプトー６−エン酸ナトリウム塩 ［式１ａミニラセミ；ナトリウム塩型］表題の化合物が、次のことを除いて、実 施例１１と同様の方法で得られた二 一工程乙）において、アセト酢酸ｔ−ブチルの代りにアセト酢酸メチルのジアニ オンとの反応により、メチルエステルを製造し；一工程６）を実施例２、工程（ ａ）、（ｂ）及び（ｃ）に述べた如くして行い；一工程（ｉ）を、米国特許第４ ７３９０７３号、コラム５ｏにおける実施例６（ｂ）に記載された如く、工程ω ）で得られたメチルエステルを加水分解することによって行った。

国　際　ｔＩ　香　謡　失 １＋＋＋＋＋Ｎ　、、、、−、−、＋　ＰＣＴ／ＥＰ　８９１０１２０１国際調 査報告 ＥＰ　８９０１２０１ ＳＡ　３１６３０

Claims (20)

【特許請求の範囲】
1. １．式Ｉ ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｉ）式中、Ｘは−ＣＨ２ＣＨ２−または− ＣＨ＝ＣＨ−であり；Ｒ１は反応条件に不活性なエステル基であり；そしてＲは 還元条件下で不活性である基を有する有機基である、の化合物を製造するにあた り、 第−工程［工程（ａ）］に従つて、式ＩＩＩＲ４Ｏ−Ｂ−（Ｒ３）２（ＩＩＩ） 式中、Ｒ４はアリルまたは炭素原子１〜４個を有する低級アルキルであり、そし て Ｒ３は炭素原子２〜４個を有する第一または第二アルキルである、の化合物をア ルコール及びテトラヒドロフランを含有してなる反応媒質中で水素化ホウ素ナト リウムＮａＢＨ４と混合し、第二工程［工程（ｂ）］において、式ＩＩ▲数式、 化学式、表等があります▼（ＩＩ）式中、Ｒ、Ｒ１及びＸは上に定義したとおり であり、そしてＺ１及び２の１つは酸素であり他はヒドロキシ及び水素である、 のラセミまたは光学的に純粋な化合物を適当な条件下にて、工程（ａ）で得られ る混合物で処理し、式ＩＶ（ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼［ＩＶ（ａ）］の環式ボロネート化合物及び ／または式ＩＶ（ｂ）▲数式、化学式、表等があります▼［ＩＶ（ｂ）］式中、 Ｒ、Ｒ１、Ｒ３及びＸは上に定義したとおりである、のホウ素錯体を含む混合物 を生成させ、そして第三工程［工程（ｃ）］において、工程（ｂ）で得られる生 成物を開裂させて対応する式Ｉの化合物を得る ことを特徴とする該式ＩＩのラセミまたは光学的に純粋な化合物の立体選択的還 元による上記式Ｉの化合物の製造方法。
2. ２．式ＩＩｕ ▲数式、化学式、表等があります▼（ＩＩｕ）式中、ｕはトリフェニルメチル（ トリチル）であり、そしてＲｕはアリルまたは反応条件下で不活性なエステルを 生成する基、好ましくはアリルまたはＣ１−３アルキル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチ ル、ｔ−ブチルもしくはベンジル、特にベンジルであり、そしてＺ１及びＺ２は 請求の範囲１に定義したとおりである、のラセミ体または光学的に純粋な化合物 を立体選択的に還元することによる式Ｉｕ ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｉｕ）式中、ｕ及びＲｕは上に定義したと おりである、の化合物を製造する請求の範囲１に記載の方法。
3. ３．ラセミまたは光学的に純粋な型；遊離酸、塩、エステルまたはδ−ラクトン 、即ち、分子内エステル型における式Ｉａ▲数式、化学式、表等があります▼（ Ｉａ）の化合物を製造する請求の範囲１に記載の方法。
4. ４．エリスロ対スレオ異性体の比が９９．１：０．９またはそれ以上であるよう な光学的に純粋な状態である請求の範囲１に定義した如き式Ｉの化合物。
5. ５．式ＶＩＩ （Ｅ）−ＯＨＣ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｎ（Ｒ１２）Ｒ１３　（ＸＩＩ）式中、Ｒ１２は Ｃ１〜３アルキル、フェニルまたは１〜３個の置換基で置換されたフェニルであ り、該置換基の各々は独立に、Ｃ１〜３アルキル、Ｃ１〜３アルコキシ、フルオ ロ、クロロ、ブロモまたはニトロであり、ここで該ニトロは２個のニトロ基が最 大であり；そしてＲ１３は独立にＲ１２に対して上に示した意味を有する、の中 間体を製造するにあたり、 （ｉ）式（ＶＩＩＩ） ＯＨＣ−Ｎ（Ｒ１２）Ｒ１３　（ＶＩＩＩ）式中、Ｒ１２及びＲ１３は上に定義 したとおりである、の化合物を、随時不活性な無水有機媒質中で式ＩＸＸａ−Ｃ Ｏ−ＣＯ−Ｘａ　　　（ＩＸ）式中、Ｘａは１価の離脱性基である、 の化合物と反応させて対応する式Ｘ Ｘａ−ＣＨ＝Ｎ＋（Ｒ１２）Ｒ１３　Ｘａ−　（Ｘ）式中、Ｘａ、Ｒ１２及びＲ １３は上に定義したとおりである、の化合物を生成させ、 （ｉｉ）式Ｘの化合物を随時不活性な無水有機媒質中で式（ＸＩ）Ｒ１４Ｏ−Ｃ Ｈ＝ＣＨ２　（ＸＩ） 式中、Ｒ１４はこれが結合している酸素原子を不活性化しない１価の基である、 の化合物と反応させて対応する式ＸＩＩ（Ｅ）−Ｒ１４Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ Ｎ＋（Ｒ１２）Ｒ１３　Ｘａ−　（ＸＩＩ）式中、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及び Ｘａは上に定義したとおりである、の化合物を生成させ、 （ｉｉｉ）遊離塩基または酸付加塩型における式ＶＩＩに対応する化合物を得る ために、式ＸＩＩの化合物を加水分解し、そして酸付加塩型の場合、酸付加塩を 塩基で中和する ことを特徴とする上記式ＶＩＩの中間体の製造方法。
6. ６．工程（ｉｉｉ）を省略し、そして更なる処理をするために、式ＸＩＩの化合 物を式ＶＩＩの化合物の代りに直接用いる請求の範囲５に記載の方法。
7. ７．工程（ｉ）及び（ｉｉ）を同時に行う請求の範囲５に記載の方法。
8. ８．Ｒ１２及びＲ１３が独立にＣ１〜３アルキルである請求の範囲５に記載の方 法。
9. ９．Ｒ１２及びＲ１３の少なくとも１つがＣ１〜３アルキル以外のものである請 求の範囲５に記載の方法。
10. １０．工程（ｉ）及び／または（ｉｉ）において、試剤をニートで用いる請求の 範囲５に記載の方法。
11. １１．式ＸＩＩの化合物が酸付加塩型である請求の範囲５に記載の方法。
12. １２．式ＶＩＩの粗製の化合物を工程（ｉｖ）、即ち、（ｉｖ）式ＶＩＩａ （Ｅ）−ＯＨＣ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｎ（Ｒ１２ａ）Ｒ１３　（ＶＩＩａ）式中、Ｒ１ ２ａ及びＲ１〜３アルキルであり、そしてＲ１３は訴求の範囲５に定義したとお りである、 の化合物を含む粗製の混合物を対応する式ＸＩＶＨ−Ｎ（Ｒ１２ａ）Ｒ１３　　 　（ＸＩＶ）式中、Ｒ１２ａは上に定義したとおりである、そしてＲ１３は請求 の範囲５に定義したとおりである、の化合物で処理し、その中に存在する式ＸＩ ＩＩの化合物を式ＶＩＩａの追加の化合物に変える 工程に付す請求の範囲８に記載の方法。
13. １３．式Ｖａ ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖａ）式中、Ｒ５は水素、Ｃ１〜３アルキ ル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、Ｃ３〜６シクロアルキル、Ｃ１〜３ アルコキシ、ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、トリフルオロメチル、フルオロメチ ル、フルオロ、クロロ、フエノキシまたはベンジルオキシであり；Ｒ６は水素、 Ｃ１〜３アルキル、Ｃ１〜３アルコキシ、トリフルオロメチル、フルオロ、クロ ロ、フエノキシまたはベンジルであり；条件として、Ｒ５及びＲ６の１つ以下は トリフルオロメチルであり、Ｒ５及びＲ６の１つ以下がフエノキシであり、そし てＲ５及びＲ６の１つ以下がベンジルオキシであり； Ｒ７及びＲ８の１つけＲ９、Ｒ１０及びＲ１１で置換されたフェニルであり、そ して他は不斉炭素原子を含まぬ第一または第二Ｃ１〜６アルキル、Ｃ３〜６シク ロアルキルまたはフエニル−（ＣＨ２）ｍ−であり、ここで、Ｒ９は水素、Ｃ１ 〜３アルキル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、Ｃ１〜３アルコキシ、ｎ −ブトキシ、ｉ−ブトキシ、トリフルオロメチル、フルオロ、クロロ、フエノキ シまたはベンジルオキシであり；Ｒ１０は水素、Ｃ１〜３アルキル、Ｃ１〜３ア ルコキシ、トリフルオロメチル、フルオロ、クロロ、フエノキシまたはベンジル オキシであり；Ｒ１１は水素、Ｃ１〜２アルキル、Ｃ１〜２アルコキシ、フルオ ロまたはクロロであり、そして ｍは１、２または３であり； 条件として、Ｒ９及びＲ１０の１つ以下がトリフルオロメチルであり、Ｒ９及び Ｒ１０の１つ以下がフエノキシであり、そしてＲ９及びＲ１０の１つ以下がベン ジルオキシである、 の中間体を製造するにあたり、 （ｉ）式ＶＩＩｃ （Ｅ）−ＯＨＣ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｎ（Ｒ１２ｂ）Ｒ１３（ＶＩＩｃ）式中、Ｒ１２ ｂは、Ｃ１〜３アルキルを除いて、Ｒ１２に対して請求の範囲５に示した意味を 有し、そして Ｒ１２は請求の範囲５に定義したとおりである、の化合物を式ＸＶ ＰＯ（Ｘｂ）３（ＸＶ） 式中、Ｘｂはクロロまたはブロモである、の化合物或いは 塩化または臭化オキザリル；ホスゲンまたは臭化カルボニル；三塩化または三臭 化リン；五塩化または五臭化リン；及び塩化または臭化アルキル−またはアリー ルスルホニル、例えば塩化もしくは臭化ｐ−トルエンスルホニルまたは塩化もし くは臭化メタンスルホニルから選んだ化合物と反応させて式ＸＶＩ（Ｅ）−Ｘｂ −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｎ＋（Ｒ１２ｂ）Ｒ１３（ＸＶＩ）の対応する化合物及び 対応するアニオン、例えば−ＰＯ２（Ｘｂ）２、但し、Ｘｂ及びＲ１２ｂは上に 定義したとおりであり、そしてＲ１３は請求の範囲５に定義したとおりである、 を生放させ、（ｉｉ）式ＸＶＩの化合物を式ＸＶＩＩ▲数式、化学式、表等があ ります▼（ＸＶＩＩ）式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は上に定義したとおりで ある、の化合物と反応させて式ＸＶＩＩＩ ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＶＩＩＩ）の対応する化合物及び対応す るアニオン、例えば−ＰＯ２（Ｘｂ）２、但し、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１ ２ｂ及びＸｂは上に定義したとおりであり、そして Ｒ１３は請求の範囲５に定義したとおりである、を生成させ、そして（ｉｉｉ） 式ＸＶＩＩＩの化合物を加水分解して対応する式Ｖａの化合物を得ることを特徴 とする上記式Ｖａの中間体の製造方法。
14. １４．式ＸＶＩＩの化合物が３−（４′−フルオロフエニル）−１−（１′−メ チルエチル）−１Ｈ−インドールである請求の範囲１３に記載の方法。
15. １５．方法Ａに従い、 ａ）式ＶＩＩＩａ ＯＨＣ−Ｎ（Ｒ１２ｂ）Ｒ１３　（ＶＩＩＩａ）式中、Ｒ１２ｂは請求の範囲１ ３に定義したとおりであり、そして Ｒｌ３は請求の範囲５に定義したとおりである、の化合物を随時不活性な無水有 機媒質中で式ＩＸの化合物と反応させて対応する式Ｘｃ Ｘａ−ＣＨ＝Ｎ＋（Ｒ１２ｂ）Ｒ１３　Ｘａ−　（Ｘｃ）式中、Ｘａ及びＲ１３ は請求の範囲５に定義したとおりであり、そして Ｒ１２ｂは請求の範囲１３に定義したとおりである、の化合物を生成させ； ｂ）式Ｘｃの化合物を、随時不活性な有機媒質中で式ＸＩの化合物と反応させて 対応する式ＸＩＩｃ （Ｅ）−Ｒ１４Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｎ＋（Ｒ１２ｂ）Ｒ１３　Ｘａ−　（Ｘ ＩＩｃ）式中、Ｒ１２ｂは請求の範囲１３に定義したとおりであり、そして Ｒ１３、Ｒ１４及びＸｎは請求の範囲５に定義したとおりである、の化合物を生 成させ； ｃ）式ＸＩＩｃの化合物を加水分解し、遊離塩基または酸付加塩型における対応 する式ＶＩＩｃの化合物を生成させ、そして酸付加塩型における場合、酸付加塩 を塩基によつて中性にし；−方法Ｂに従い： ｄ）式ＶＩＩｃの化合物を式ＸＶの化合物或いは塩化または臭化オキザリル；ホ スゲンまたは臭化カルボニル；三塩化または三臭化リン；五塩化または五臭化リ ン；及び塩化または臭化アルキル−もしくはアリールスルホニル、例えば塩化ま たは臭化ｐ−トルエンスルホニル或いは塩化または臭化メタンスルホニルから選 ばれる化合物と反応させて対応する式ＸＶＩの化合物及び対応するアニオン、例 えば−ＰＯ２（Ｘｂ）２を生成させ；ｅ）式ＸＶＩの化合物を３−（４′−フル オロフエニル）−１−（１′−メチルエチル）−１Ｈ−インドール（Ｒ５及びＲ ５が水素であり、Ｒ７が１−メチルエチルであり、そしてＲ５がｐ−フルオロフ エニルである式ＸひＩＩの化合物と反応させて対応する式ＸＶＩＩＩａ▲数式、 化学式、表等があります▼（ＸＶＩＩＩａ）の化合物及び対応するアニオン、例 えば−ＰＯ２（Ｘｂ）２、但し、Ｒ１２ｂは請求の範囲１３に定義したとおりで あり、そしてＲ１３及びＸａは請求の範囲５に定義したとおりである、を生成さ せ；ｆ）式ＸＶＩＩＩａの化合物を加水分解して（Ｒ）−３−〔３′−（４′′ −フルオロフエニル）−１′−（工′′−メチルエチル）−１Ｈ−インドル−２ ′−イネル］−プロブ−２−エナール（Ｒ５及びＲ６が水素であり、Ｒ７が１− メチルエチルであり、そしてＲ■がｐ−フルオロフエニルである式Ｖａの化合物 ）を生成させ；ｇ）式Ｖａの化合物を式ＣＨ３ＣＯＣＨ２ＣＯＯＲ１、但し、Ｒ １は請求の範囲１に定義したとおりである、のアセト酢酸エステルのジアニオン と反応させてラセミまたは光学的に純粋な型における対応する式ＩＩａ▲数式、 化学式、表等があります▼（ＩＩａ）式中、Ｒ１は請求の範囲１に定義したとお りである、の化合物を生成させ； −立体選択的還元法に従い： ｈ）第一工程において、請求の範囲１に定義した如き式ＩＩＩの化合物をアルコ ール及びテトラヒドロフランを含有してなる反応媒質中で水素化ホウ素ナトリウ ム（ＮａＢＨ４）と混合し；第二工程において、ラセミまたは光学的に純粋な型 における式ＩＩａの化合物を適当な条件下にて上記の混合物で処理して式ＩＶ（ ａ）の環式ボロネート化合物及び／または式ＩＶ（ｂ）のホ素錯体、但し、Ｒは ［３−（４′−フルオロフエニル）−１−（１′−メチルエチル）−１Ｈ−イン ドル］−２−イルであり、Ｘは−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 Ｒ１及びＲ３は請求の範囲１に定義したとおりである、を含む混合物を生成させ ； 第三工程において、第二工程で得られる生成物を開製させてラセミまたは光学的 に純粋な型における式Ｉａの化合物を得るために、式ＩＩのラセミまたは光学的 に純粋な化合物を立体選択的に還元し；そして ｉ）必要に応じて、エステル型における式Ｉａの化合物を普通の方法によつて遊 離酸型、塩型、更に、エステル型またはδ−ラクトン、即ち、分子内エステル型 に転化する、 ことからなることを特徴とするラセミまたは光学的に純粋な型；遊離酸、塩、エ ステルまたはδ−ラクトン、即ち、分子内エステル型における式Ｉａ ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｉａ）のエリスロ−（Ｅ）−３，５−ジヒ ドロキシ−７−［３′−（４′′−フルオロフエニル）−１′−（１′′−メチ ルエチル）インドル−２′−イル］ヘプト−６−エン酸を製造するための請求の 範囲１、５及び１３に記載の方法。
16. １６．式Ｉａの化合物をラセミ型で得る請求の範囲１５に記載の方法。
17. １７．式Ｉａの化合物を（３Ｒ，５Ｓ）エナンチオマ−型で得る請求の範囲１５ に記載の方法。
18. １８．式ＸＩａの化合物をナトリウム塩型で得る請求の範囲１５に記載の方法。
19. １９．Ｒ１２ｂがフエニルであり、そしてＲ１３がメチルである請求の範囲１５ に記載の方法。
20. ２０．Ｒ１がｔ−ブチルである請求の範囲１５に記載の方法。