JPH03204868A - アミノチアゾリル酢酸の新規なオキシム誘導体 - Google Patents
アミノチアゾリル酢酸の新規なオキシム誘導体Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
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- C07D277/587—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with aliphatic hydrocarbon radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms, said aliphatic radicals being substituted in the alpha-position to the ring by a hetero atom, e.g. with m >= 0, Z being a singly or a doubly bound hetero atom
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- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/26—Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group
- C07D501/34—Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、アミノチアゾリル酢酸の新規なオキシム誘導
体及びその製造法に関し、特に、次の一般式■′ アロスポラン酸のオキシム誘導体の製造に有用な中間体
化合物並びにそれらの製造法に関するものである。
体及びその製造法に関し、特に、次の一般式■′ アロスポラン酸のオキシム誘導体の製造に有用な中間体
化合物並びにそれらの製造法に関するものである。
syn異性体形を有するものとして定義される前記−形
成■′の化合物が、anti異性体形を有するものとし
て定義される次の一般式 (ここでRは水素原子又は酸加水分解により容易に脱離
できる基を表わし、R′は水素原子、酸加水分解に工り
容易に脱離できる基又は1〜4個の炭素原子を有する飽
和アルキル基を表わし、Aは水素原子又はalkを表わ
し、そしてalkは1〜4個の炭素原子を有するアルキ
ル基を表わし、基OR’はayn位置にある。ただし、
Rが水素原子又はトリチル基を表わすときはR′は 飽
和アルキル基を表わさない) の新規な7−アミツチアゾリルアセトアミドセ7の化合
物よりも広くダラム陽性及び陰性菌、その他の細菌に対
して高い抗菌力を示すことを知り、本発明を完成した。
成■′の化合物が、anti異性体形を有するものとし
て定義される次の一般式 (ここでRは水素原子又は酸加水分解により容易に脱離
できる基を表わし、R′は水素原子、酸加水分解に工り
容易に脱離できる基又は1〜4個の炭素原子を有する飽
和アルキル基を表わし、Aは水素原子又はalkを表わ
し、そしてalkは1〜4個の炭素原子を有するアルキ
ル基を表わし、基OR’はayn位置にある。ただし、
Rが水素原子又はトリチル基を表わすときはR′は 飽
和アルキル基を表わさない) の新規な7−アミツチアゾリルアセトアミドセ7の化合
物よりも広くダラム陽性及び陰性菌、その他の細菌に対
して高い抗菌力を示すことを知り、本発明を完成した。
しかして、本発明の主題は、前記−形成I′の化合物の
製造中間体である次の一般式INHK (ここでRは水素原子又は酸加水分解により容易に脱離
できる基を表わし、R’fl 水素原子、酸加水分解
により容易に脱離できる基又は1〜4個の炭素原子を有
する飽和アルキル基を表わし、Aは水素原子又はalk
を表わし、セしてalkは1〜4個の炭素原子を有する
アルキル基を表わし、基OR’i syn位置にある。
製造中間体である次の一般式INHK (ここでRは水素原子又は酸加水分解により容易に脱離
できる基を表わし、R’fl 水素原子、酸加水分解
により容易に脱離できる基又は1〜4個の炭素原子を有
する飽和アルキル基を表わし、Aは水素原子又はalk
を表わし、セしてalkは1〜4個の炭素原子を有する
アルキル基を表わし、基OR’i syn位置にある。
ただし、Rが水素原子又はトリチル基を表わすときFi
R’は飽和アルキル基金表わさない) の化合物にあるっ さらに詳しくは、本発明の主題は、次式%式% (ここでR,は トリチル基以外の酸加水分解により脱
離できる基よりなる群から選ばれ、R/、は1〜4個の
炭素原子を有するアルキル基であり、人は水素原子又1
ialkを表わし、そしてalk は1〜4個の炭素原
子を有するアルキル基を表わし、基OR’l はsy
n位置にある) の化合物; 次式 (ここでR111)リチル基以外の酸加水分解により容
易に脱離できる基であり、R11は酸分解により容易に
脱離できる基又は1〜4個の炭素原子を有するアルキル
基であり、alkは1〜4個の炭素原子を有するアルキ
ル基であり、OR14はsyn位置にある) の化合物:並びに 次式 (ここでRI U ) IJチル基以外の酸加水分解に
より容易に脱離できる基であり、R/、は1〜4個の炭
素原子を有するアルキル基であり、基OR′1 はsy
n位置にある) の化合物 にある。
R’は飽和アルキル基金表わさない) の化合物にあるっ さらに詳しくは、本発明の主題は、次式%式% (ここでR,は トリチル基以外の酸加水分解により脱
離できる基よりなる群から選ばれ、R/、は1〜4個の
炭素原子を有するアルキル基であり、人は水素原子又1
ialkを表わし、そしてalk は1〜4個の炭素原
子を有するアルキル基を表わし、基OR’l はsy
n位置にある) の化合物; 次式 (ここでR111)リチル基以外の酸加水分解により容
易に脱離できる基であり、R11は酸分解により容易に
脱離できる基又は1〜4個の炭素原子を有するアルキル
基であり、alkは1〜4個の炭素原子を有するアルキ
ル基であり、OR14はsyn位置にある) の化合物:並びに 次式 (ここでRI U ) IJチル基以外の酸加水分解に
より容易に脱離できる基であり、R/、は1〜4個の炭
素原子を有するアルキル基であり、基OR′1 はsy
n位置にある) の化合物 にある。
前記の各式において、R又はR′が表わす酸加水分解に
エリ容易に脱離できる基としては、1−ブトキシカルボ
ニル、トリチル、ベンジル、ジベンジル、トリクロルエ
チル、カルボベンジルオキシホルミル、フタロイル及び
2−テトラヒドロピラニル基をあげることができる。
エリ容易に脱離できる基としては、1−ブトキシカルボ
ニル、トリチル、ベンジル、ジベンジル、トリクロルエ
チル、カルボベンジルオキシホルミル、フタロイル及び
2−テトラヒドロピラニル基をあげることができる。
1だ、R′又ViR’tが表わすアルキル基としては、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、8
ee−ブチル及びt−ブチル基をあげることができる。
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、8
ee−ブチル及びt−ブチル基をあげることができる。
さらに、Aが表わすアルキル基としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、5ee−ブチル
及びt−ブチル基をあげることができる。
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、5ee−ブチル
及びt−ブチル基をあげることができる。
特に、本発明の主題は、R/、がメチル基を表わす式■
の化合物にある。
の化合物にある。
特に、本発明の主題は、下記の実施例に記載の化合物、
特に、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒド
ロキシイミノ酢醗エチルの87n異性体、2−(2−)
リチルアミノー4−チアゾリル)−2−)リチルヒドロ
キシイミノ酢醸エチルのsyn異性体及び2−(2−)
ジチルアミノ−4−チアゾリル)−2−)リチルヒドロ
キシイミノ酢酸のsyn異性体にある。
特に、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒド
ロキシイミノ酢醗エチルの87n異性体、2−(2−)
リチルアミノー4−チアゾリル)−2−)リチルヒドロ
キシイミノ酢醸エチルのsyn異性体及び2−(2−)
ジチルアミノ−4−チアゾリル)−2−)リチルヒドロ
キシイミノ酢酸のsyn異性体にある。
本発明の化合物は、チオ尿素と次式■
ミ
OR’
(ここでR′は 水素原子、酸加水分解により容易に
脱離できる基又は1〜4個の炭素原子を有する飽和アル
キル基を表わし、alkij1〜4個の炭素原子を有す
るアルキル基を表わす) の化合物と反応させて、塩基で処理した後、次式(ここ
でRI Fi酸加水分解により容易に脱離できる基を表
わし、R/、は酸加水分解により容易に脱離できる基又
は1〜4個の炭素原子を有する飽和アルキル基を表わす
) の化合物を得、要すれば式Vの化合物全塩基、次いで酸
で処理することによって次式■ (ここでR′及びalk tj:先に示した意味を有す
る)の化合物を得、式■の化合物を酸加水分解により容
易に脱離できる基の官能性誘導体で処理して次式V 0R′1 の化合物を得ることを特徴とする製造法により製造でき
る。
脱離できる基又は1〜4個の炭素原子を有する飽和アル
キル基を表わし、alkij1〜4個の炭素原子を有す
るアルキル基を表わす) の化合物と反応させて、塩基で処理した後、次式(ここ
でRI Fi酸加水分解により容易に脱離できる基を表
わし、R/、は酸加水分解により容易に脱離できる基又
は1〜4個の炭素原子を有する飽和アルキル基を表わす
) の化合物を得、要すれば式Vの化合物全塩基、次いで酸
で処理することによって次式■ (ここでR′及びalk tj:先に示した意味を有す
る)の化合物を得、式■の化合物を酸加水分解により容
易に脱離できる基の官能性誘導体で処理して次式V 0R′1 の化合物を得ることを特徴とする製造法により製造でき
る。
前記の製造法において、式■の化合物を得るのに用いら
れる塩基は酢酸カリウムである。しかしながら、アルカ
リ金属の炭酸塩及び醒性炭散塩又は希か性ソーダ又はカ
リを用いることができる。
れる塩基は酢酸カリウムである。しかしながら、アルカ
リ金属の炭酸塩及び醒性炭散塩又は希か性ソーダ又はカ
リを用いることができる。
酸加水分解により容易に脱離できる基の官能性誘導体は
、好ましくは塩化トリチルである。反応Fi、塩基、好
ましくハトリエチルアミンの存在下に行なわれる。他の
トリアルキルアミン、メチルモルホリン又はピリジンの
ようなその他の第三アミノ塩基も用いることができる。
、好ましくは塩化トリチルである。反応Fi、塩基、好
ましくハトリエチルアミンの存在下に行なわれる。他の
トリアルキルアミン、メチルモルホリン又はピリジンの
ようなその他の第三アミノ塩基も用いることができる。
酸加水分解により容易に脱離できる基の他の官能性誘導
体は、中でも、その場で製造されるクロルぎ酸t−ブチ
ル、アジドぎ酸t−ブチル、クロルぎ酸トリクロルエチ
ル若しくはベンジル、その場で製造される混成ホルミル
−酢酸無水物、塩化若しくは他のハロゲン化ベンジル若
しくはジベンジル、無水フタル酸又はN−カルヘトキシ
フタルイミドに6けることができる。
体は、中でも、その場で製造されるクロルぎ酸t−ブチ
ル、アジドぎ酸t−ブチル、クロルぎ酸トリクロルエチ
ル若しくはベンジル、その場で製造される混成ホルミル
−酢酸無水物、塩化若しくは他のハロゲン化ベンジル若
しくはジベンジル、無水フタル酸又はN−カルヘトキシ
フタルイミドに6けることができる。
式Vの化合物をけん化するのに用いられる塩基は好まし
くはか性フープであるが、か性カリ又はパリタのような
その他の塩基も使用することができる。
くはか性フープであるが、か性カリ又はパリタのような
その他の塩基も使用することができる。
式■の酸を単離させるのに使用される酸は好ましくは希
塩醸であるが、酢酸又はぎ酸も用いることができる。
塩醸であるが、酢酸又はぎ酸も用いることができる。
また、次式
(ここでalkは1〜4個の炭素原子金有するアルキル
基を表わし、Ht、が1〜4個の炭素原子を有する飽和
アルキル基を表わす) の化合物は、次式■ (ここでalkは前記の意味を有する)の化合物をアル
キル化剤で処理して次式■の化合物を得、この化合物を
臭素化剤で処理して次式■ の化合物を得、この化合物をチオ尿素、次いで塩基と反
応させることによって製造される。
基を表わし、Ht、が1〜4個の炭素原子を有する飽和
アルキル基を表わす) の化合物は、次式■ (ここでalkは前記の意味を有する)の化合物をアル
キル化剤で処理して次式■の化合物を得、この化合物を
臭素化剤で処理して次式■ の化合物を得、この化合物をチオ尿素、次いで塩基と反
応させることによって製造される。
式■の化合物を式■の化合物に変換するのに用いられる
アルキル化剤は、好ましくは塩化、臭化若しくけよう化
アルキルのようなハロゲン化アルキル又は硫駿アルキル
である。
アルキル化剤は、好ましくは塩化、臭化若しくけよう化
アルキルのようなハロゲン化アルキル又は硫駿アルキル
である。
式■の化合物を式■の化合物に変換するのに用いられる
臭素化剤は、好ましくは臭素である。
臭素化剤は、好ましくは臭素である。
チオ尿素に式■の化合物を作用させた後に用いられる塩
基は、好ましくはアルカリ金属炭酸塩又は酸性炭酸塩で
ある。しかしながら、希か性ソーダ若しくはカリ又は酢
酸カリウムも用いることができる。
基は、好ましくはアルカリ金属炭酸塩又は酸性炭酸塩で
ある。しかしながら、希か性ソーダ若しくはカリ又は酢
酸カリウムも用いることができる。
甘た、次式■
N\OR・1
(ここでR,は酸加水分解により容易に脱離できる基を
表わし、R’、 #′i、は1〜4個の炭素原子を有す
る飽和アルキル基を表わし、alkは1〜4個の炭素原
子を有するアルキル基を表わす)の化合物は、次式R/
// の化合物を当量の酸加水分解により、容易に脱離できる
基の官能性誘導体により処理して次式XOH の化合物を得、これをアルキル化剤で処理することによ
って製造される。
表わし、R’、 #′i、は1〜4個の炭素原子を有す
る飽和アルキル基を表わし、alkは1〜4個の炭素原
子を有するアルキル基を表わす)の化合物は、次式R/
// の化合物を当量の酸加水分解により、容易に脱離できる
基の官能性誘導体により処理して次式XOH の化合物を得、これをアルキル化剤で処理することによ
って製造される。
酸加水分解により容易に脱離できる基の官能性誘導体は
、好1しくに塩化トリチルである。反応は塩基、好1し
くけトリエチルアミンの存在下に行なわれる。他のトリ
アルキルアミン、メチルモルホリン又はピリジンのよう
なその他の第三アミノ塩基も用いることができる。
、好1しくに塩化トリチルである。反応は塩基、好1し
くけトリエチルアミンの存在下に行なわれる。他のトリ
アルキルアミン、メチルモルホリン又はピリジンのよう
なその他の第三アミノ塩基も用いることができる。
酸加水分解により容易に脱離できる基のその他の官能性
誘導体、例えばクロルぎ酸若しくはアジドぎ酸t−ブチ
ル、クロルぎ醪トリクロルエチル若しくはジベンジル、
その場で製造される混成ホルミル−酢酸無水物、塩化若
しくは他のハロゲン化ベンジル若しくはジベンジル、無
水フタル酸又UN−カルベトキシフタルイミドも使用す
ることができる。
誘導体、例えばクロルぎ酸若しくはアジドぎ酸t−ブチ
ル、クロルぎ醪トリクロルエチル若しくはジベンジル、
その場で製造される混成ホルミル−酢酸無水物、塩化若
しくは他のハロゲン化ベンジル若しくはジベンジル、無
水フタル酸又UN−カルベトキシフタルイミドも使用す
ることができる。
式■の化合物を製造するのに用いられるアルキル化剤は
、好ましくはよう化アルキルの工うなノ・ロケン化アル
キル又は硫酸アルキルであるっここに、式Vの化合物か
ら得られる化合物■、田などの立体配置が合成中保持で
きることが立証された。
、好ましくはよう化アルキルの工うなノ・ロケン化アル
キル又は硫酸アルキルであるっここに、式Vの化合物か
ら得られる化合物■、田などの立体配置が合成中保持で
きることが立証された。
式■の化合物の立体配置に、これらの化合物の製造中に
係るいくつかのパラメータに依存する。
係るいくつかのパラメータに依存する。
したがって、チオ尿素と式■の化合物との反応が水性ア
セトン若しくは水性エタノールのような水性溶媒中か又
は周囲温度で、実質上化学量論酌量のチオ尿素′(i7
1〜3時間程度のごく短時間にわたって反応させること
Kよって行なう場合、成るいは上記の条件の全てを組合
せた場合には、syn異性体が得られることが立証され
た。
セトン若しくは水性エタノールのような水性溶媒中か又
は周囲温度で、実質上化学量論酌量のチオ尿素′(i7
1〜3時間程度のごく短時間にわたって反応させること
Kよって行なう場合、成るいは上記の条件の全てを組合
せた場合には、syn異性体が得られることが立証され
た。
上述した一般式1′の syn形の7−アミツチアゾリ
ルアセトアミドセフアロスボラン醒のオキシム誘導体は
、次式 %式% の7−アミノセファロスポラン?!!ヲ例えば前記の式
I \OR’ の酸(syn異性体)又はこの酸の官能性誘導体と反応
させて次式Ia (ここで81及びR′は上で示した意味を有する)の化
合物を得、場合によっては式1aの化合物を酸媒質中で
加水分解して次式 1b GO,HO を得、そして場合によっては式1a又はIbの化合物を
通常の方法によって塩形成することによって製造するこ
とができる。この製造では、式■の化合物のsyn立体
配置が合成中ずっと維持されることがわかった。
ルアセトアミドセフアロスボラン醒のオキシム誘導体は
、次式 %式% の7−アミノセファロスポラン?!!ヲ例えば前記の式
I \OR’ の酸(syn異性体)又はこの酸の官能性誘導体と反応
させて次式Ia (ここで81及びR′は上で示した意味を有する)の化
合物を得、場合によっては式1aの化合物を酸媒質中で
加水分解して次式 1b GO,HO を得、そして場合によっては式1a又はIbの化合物を
通常の方法によって塩形成することによって製造するこ
とができる。この製造では、式■の化合物のsyn立体
配置が合成中ずっと維持されることがわかった。
前記の製造法においては、7−アミノセファロスポラン
酸が式Iの酸の官能性誘導体、例えば無水物又1−[塩
化物によって処理される。醗無水物は、式■の酸にクロ
ルぎ酸アルキル又はジシクロへキシルカルボジイミド全
作用させることによりその場で形成させることができる
。その他のハロゲン化物成るいは他のクロルぎ酸アルキ
ル、ジアルキルカルボジイミド又は他のシンクロアルキ
ルカルボジイミドの作用によりその場で形成されるその
他の無水物も使用することができる。酸アジド、活性化
された酸アミド又は活性化された醒エステル、例えばヒ
ドロキシスクシンイミド、p−二トロフェノール若L<
は2,4−ジニトロフェノールによって形成されたエス
テルのようなその他の酸誘導体も使用することができる
。7−アミノセファロスポラン酸の反応が一般式Iの醗
のハロゲン化物によって又はクロルぎ醪イソブチルによ
り形成された無水物によって行なわれる場合には、その
反応は好ましくは塩基性試剤の存在下に行なわれる。
酸が式Iの酸の官能性誘導体、例えば無水物又1−[塩
化物によって処理される。醗無水物は、式■の酸にクロ
ルぎ酸アルキル又はジシクロへキシルカルボジイミド全
作用させることによりその場で形成させることができる
。その他のハロゲン化物成るいは他のクロルぎ酸アルキ
ル、ジアルキルカルボジイミド又は他のシンクロアルキ
ルカルボジイミドの作用によりその場で形成されるその
他の無水物も使用することができる。酸アジド、活性化
された酸アミド又は活性化された醒エステル、例えばヒ
ドロキシスクシンイミド、p−二トロフェノール若L<
は2,4−ジニトロフェノールによって形成されたエス
テルのようなその他の酸誘導体も使用することができる
。7−アミノセファロスポラン酸の反応が一般式Iの醗
のハロゲン化物によって又はクロルぎ醪イソブチルによ
り形成された無水物によって行なわれる場合には、その
反応は好ましくは塩基性試剤の存在下に行なわれる。
塩基性試剤としては、例えば炭醗アルカリ金属又はN−
メチルモルホリン、ピリジン若しくはトリエチルアミン
のようなトリアルキルアミンを選ぶことができるっ 弐jaの化合物に作用させる酸加水分解剤としては、ぎ
酸、トリフルオル酢酸又は酢酸をあげることができる。
メチルモルホリン、ピリジン若しくはトリエチルアミン
のようなトリアルキルアミンを選ぶことができるっ 弐jaの化合物に作用させる酸加水分解剤としては、ぎ
酸、トリフルオル酢酸又は酢酸をあげることができる。
これらの酸は無水の形態で又は水溶液として使用するこ
とができる。
とができる。
t−ブトキシカルボニル又はトリチル基を脱離させるた
めには好ましくは無水のトリフルオル酢酸又は水性のぎ
酸若しくは酢酸のような酸加水分解剤が用いられる。
めには好ましくは無水のトリフルオル酢酸又は水性のぎ
酸若しくは酢酸のような酸加水分解剤が用いられる。
式Ia又hrbの化合物は通常の方法によって塩形成す
ることができる。塩形成は、例えば、これらの酸に、例
えば水酸化ナトリウム若しくはカリウム又は重炭酸ナト
リウムのような無機塩蒸成るいはジエチル酢酸、エチル
ヘキサン酸又[%に酢酸のような飽和又は不飽和の脂肪
族カルボン酸の塩を作用させることによって製造するこ
とができる。
ることができる。塩形成は、例えば、これらの酸に、例
えば水酸化ナトリウム若しくはカリウム又は重炭酸ナト
リウムのような無機塩蒸成るいはジエチル酢酸、エチル
ヘキサン酸又[%に酢酸のような飽和又は不飽和の脂肪
族カルボン酸の塩を作用させることによって製造するこ
とができる。
前述の醗の好ましい塩はナトリウム塩である。
同様に、塩形成は、トリエチルアミンのような有機塩基
を作用させることによって製造することができるっ 前述したように、−形成I′の化合物は、一方ではぶど
う球菌や連鎖球菌のようなグラム陽性細菌に対して、特
にはニジリン耐性ぶどう球菌属細菌に対して、また他方
ではダラム陰性細菌、特に大腸菌群、グレプシエラ属、
サルモネラ属及びプロチウス属細菌に対して非常に良好
な抗生物質活性を持っている。
を作用させることによって製造することができるっ 前述したように、−形成I′の化合物は、一方ではぶど
う球菌や連鎖球菌のようなグラム陽性細菌に対して、特
にはニジリン耐性ぶどう球菌属細菌に対して、また他方
ではダラム陰性細菌、特に大腸菌群、グレプシエラ属、
サルモネラ属及びプロチウス属細菌に対して非常に良好
な抗生物質活性を持っている。
これらの性質は、その製薬上許容できる該化合物を、感
応性微生物により引起される感染症の治療、特に、例え
ばぶどう球菌性敗血症、悪性顔面又は皮膚ぶどう球菌性
感染症(化膿性皮膚炎、腐敗性又は化膿性潰瘍、炭痕、
蜂案織炎、丹毒、急性インフルエンザ初期又はインフル
エンザ後ぶどう球菌性感染症、気管支肺炎及び肺化膿の
ようなぶどう球菌性感染症の治療に薬剤として使用する
のを好適ならしめる。
応性微生物により引起される感染症の治療、特に、例え
ばぶどう球菌性敗血症、悪性顔面又は皮膚ぶどう球菌性
感染症(化膿性皮膚炎、腐敗性又は化膿性潰瘍、炭痕、
蜂案織炎、丹毒、急性インフルエンザ初期又はインフル
エンザ後ぶどう球菌性感染症、気管支肺炎及び肺化膿の
ようなぶどう球菌性感染症の治療に薬剤として使用する
のを好適ならしめる。
また、これらの製薬上許容できる化合物は、大腸菌症及
び関連感染症、プロテウス属、クレブシェラ属及びサル
モネラ属細菌により起された感染症、ダラム陰性細菌に
より起されたその他の疾病の治療に薬剤として用いるこ
とができる。
び関連感染症、プロテウス属、クレブシェラ属及びサル
モネラ属細菌により起された感染症、ダラム陰性細菌に
より起されたその他の疾病の治療に薬剤として用いるこ
とができる。
以下、本発明の実施例を示すが、これらは本発明を何ら
制限するものではない。
制限するものではない。
22のγ−クロルーα−オキシミノアセチル酢酸エチル
を5CHのエタノールとα769のチオ尿素に加え、全
体を周囲温度において全部で16時間かきまぜる。塩酸
塩が晶出するが、全体15ccのエーテルで希釈し、真
空濾過し、1:1のエタノール/エーテル、次いでエー
テルで洗浄し、1、559の塩酸塩が得られる。
を5CHのエタノールとα769のチオ尿素に加え、全
体を周囲温度において全部で16時間かきまぜる。塩酸
塩が晶出するが、全体15ccのエーテルで希釈し、真
空濾過し、1:1のエタノール/エーテル、次いでエー
テルで洗浄し、1、559の塩酸塩が得られる。
1、55 Fの得られた塩酸塩を8CHの水に40〜5
0℃で溶解し、次いで酢酸ナトリウムを加えてpH5〜
6まで中和する。遊離アミンが晶出する。
0℃で溶解し、次いで酢酸ナトリウムを加えてpH5〜
6まで中和する。遊離アミンが晶出する。
全体を冷却し、真空濾過し、水洗し、乾燥し、122f
のanti異性体を得るっMP=154℃。
のanti異性体を得るっMP=154℃。
数回の実験から得られた母液と洗浄水を集め、濃縮し、
水で溶解し、エーテルで洗浄し、酸性炭酸す) IJウ
ムを加え、全体を真空濾過し、水洗し、薄層クロマトグ
ラフィーで二つの点を与える1、92の生成物を得、シ
リカでクロマトグラフィーし、エーテルで溶離すること
により精製する。syn異性体の純粋画分を集め、濃縮
し、エーテルでR−スト状とし、真空濾過し、乾燥し、
50ffivの該異性体を得る。MP=232℃。
水で溶解し、エーテルで洗浄し、酸性炭酸す) IJウ
ムを加え、全体を真空濾過し、水洗し、薄層クロマトグ
ラフィーで二つの点を与える1、92の生成物を得、シ
リカでクロマトグラフィーし、エーテルで溶離すること
により精製する。syn異性体の純粋画分を集め、濃縮
し、エーテルでR−スト状とし、真空濾過し、乾燥し、
50ffivの該異性体を得る。MP=232℃。
5.49の例1で製造された生成物を54c1−のクロ
ロホルムと7.5CCのトリエチルアミンに溶解してな
る溶液に、15fの塩化トリチルを30CCのクロロホ
ルムに溶解してなる溶液を+10℃で加える。1時間放
置した後、全体を40CCの水、次いで4CCの1N塩
酸を含有する20工の水で洗浄し、デカンテーションし
、脱水し、濃縮乾固する。
ロホルムと7.5CCのトリエチルアミンに溶解してな
る溶液に、15fの塩化トリチルを30CCのクロロホ
ルムに溶解してなる溶液を+10℃で加える。1時間放
置した後、全体を40CCの水、次いで4CCの1N塩
酸を含有する20工の水で洗浄し、デカンテーションし
、脱水し、濃縮乾固する。
その残留物(510Cr−のエーテルで溶解し、50工
のメタノールを加え、全体をかきまぜ、真空濾過し、メ
タノールで洗浄し、2回の収量として1427の所期化
合物を得る。MP = 140℃。
のメタノールを加え、全体をかきまぜ、真空濾過し、メ
タノールで洗浄し、2回の収量として1427の所期化
合物を得る。MP = 140℃。
syn異性体
1α5yの例2で得られたエステルi55C[−のジオ
キサン中で還流しながら懸濁状にする。17鎖の2Nソ
ーダをゆっくりと加える。緩かな還流を続け、全体を冷
却し、塩を真空f遇する。この塩’160cl−の塩化
メチレン、20CCの水及び2CCの酢酸で溶解する。
キサン中で還流しながら懸濁状にする。17鎖の2Nソ
ーダをゆっくりと加える。緩かな還流を続け、全体を冷
却し、塩を真空f遇する。この塩’160cl−の塩化
メチレン、20CCの水及び2CCの酢酸で溶解する。
このW!を真空濾過し、水洗し、−次収量として7fの
酸を得る。
酸を得る。
ジオキサンを母液から蒸発させ、20CCの塩化メチレ
ン、10CCの水及びlCf1.の酢酸を加える。
ン、10CCの水及びlCf1.の酢酸を加える。
二次収量として1.5fの同一生成物を分離する。
全部で1lL5Fである。
分析: C(3H3g03N3S−a 5 H20計算
二〇チアa85 H%に03 Nチ&17 Sチ4
.7実測: 75.a 4.9 5−q
−1,6t 08 fの2−(2−アミノ−4−チアゾ
リル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸エチルsyn異性体
(例1で得られる) f8Cr−のクロロホルムに溶解
する。1.5CCのトリエチルアミンを加え、次いで6
yの塩化トリチルを6CHのクロロホルムに溶解してな
る溶液を+5℃で25分にわたり加え、周囲温度で1時
間かきまぜる。18CCの水、次いで8CHの1N塩醸
で洗い、そして20CCの水で3回洗う。脱水し、濾過
し、濃縮乾固する。この生成物全イソプロパツールで溶
解し、そして結晶化させる。2.3Fの所期化合物を得
る。MP=140℃。
二〇チアa85 H%に03 Nチ&17 Sチ4
.7実測: 75.a 4.9 5−q
−1,6t 08 fの2−(2−アミノ−4−チアゾ
リル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸エチルsyn異性体
(例1で得られる) f8Cr−のクロロホルムに溶解
する。1.5CCのトリエチルアミンを加え、次いで6
yの塩化トリチルを6CHのクロロホルムに溶解してな
る溶液を+5℃で25分にわたり加え、周囲温度で1時
間かきまぜる。18CCの水、次いで8CHの1N塩醸
で洗い、そして20CCの水で3回洗う。脱水し、濾過
し、濃縮乾固する。この生成物全イソプロパツールで溶
解し、そして結晶化させる。2.3Fの所期化合物を得
る。MP=140℃。
良
l18gのチオ尿素を2.4 CHのエタノールと4.
8鎖の水に溶解するっ次いで2Fの4−クロル−2−ヒ
ドロキシイミノアセチル酢醒エチル溶液ヲ5分間で加え
、周囲温度で1時間かきまぜる。エタノールの大部分を
部分真空下に追出し、固体炭酸水素ナトリウムを加えて
pH6に中和する。冷却し、濾過し、水洗し、40℃で
真空乾燥する。
8鎖の水に溶解するっ次いで2Fの4−クロル−2−ヒ
ドロキシイミノアセチル酢醒エチル溶液ヲ5分間で加え
、周囲温度で1時間かきまぜる。エタノールの大部分を
部分真空下に追出し、固体炭酸水素ナトリウムを加えて
pH6に中和する。冷却し、濾過し、水洗し、40℃で
真空乾燥する。
1、529の所期化合物を得る。MP=232℃。
分析: C5H@ 03 N3 S
計算二〇%59.06H%421N%19.52Sチ1
4.9実測: 3&9 4.4 97 14.6 NMR(DMSo 、 6 0 MHz )(6) (a) t25ppmk中心とした三重項 J=7H
z(b) 4.27 ppm を中心とした四重項
J=7Hz(c) 6.83 ppmで一重項 (d) 7.1 j ppmで一重項(e) 1
t 4 pptnで一重項21、59の例5により製造
した化合物を200印の無水エタノールと55CCの2
Nソーダに導入する。水浴中45℃でかき壕ぜる。30
分後に、冷却水浴中に入れ、次いで酢酸によりpH6ま
でもたらす。沈殿が認められる。真空濾過し、50チの
水を含むエタノール、次いでエーテルで洗浄する。乾燥
後、169夕の所期化合物を得るっRf=0.05(溶
離液は酢酸エチル−エタノール−水 70/20/10
)。
4.9実測: 3&9 4.4 97 14.6 NMR(DMSo 、 6 0 MHz )(6) (a) t25ppmk中心とした三重項 J=7H
z(b) 4.27 ppm を中心とした四重項
J=7Hz(c) 6.83 ppmで一重項 (d) 7.1 j ppmで一重項(e) 1
t 4 pptnで一重項21、59の例5により製造
した化合物を200印の無水エタノールと55CCの2
Nソーダに導入する。水浴中45℃でかき壕ぜる。30
分後に、冷却水浴中に入れ、次いで酢酸によりpH6ま
でもたらす。沈殿が認められる。真空濾過し、50チの
水を含むエタノール、次いでエーテルで洗浄する。乾燥
後、169夕の所期化合物を得るっRf=0.05(溶
離液は酢酸エチル−エタノール−水 70/20/10
)。
4五27の例5で製造した2−(2−アミノ−4−チア
ゾリル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸エチルsyn異性
体を120a1.の乾燥ジメチルホルムアミドに導入す
る。
ゾリル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸エチルsyn異性
体を120a1.の乾燥ジメチルホルムアミドに導入す
る。
一35℃に冷却し、32CCのトリエチルアミンを入れ
、次いで601の塩化トリチルを30分間で少量づつ加
えるっ温度を戻し、そして完全に溶解したならば30℃
まで温める。、1時間後に、40CCの22°Be’塩
酸を含む1.2tの冷却水中に注ぐ。
、次いで601の塩化トリチルを30分間で少量づつ加
えるっ温度を戻し、そして完全に溶解したならば30℃
まで温める。、1時間後に、40CCの22°Be’塩
酸を含む1.2tの冷却水中に注ぐ。
冷却水浴中でかきまぜ、Paし、1N塩酸で洗い、エー
テルでは−スト状にする。
テルでは−スト状にする。
69、39の塩酸塩を得る。
この化合物を120チのトリエチルアミンを加えた5容
のメタノールに溶解し、次いで5容の水中で静かに沈殿
させて遊離塩基を得る。
のメタノールに溶解し、次いで5容の水中で静かに沈殿
させて遊離塩基を得る。
分析: C26H230s Ns S・1/4H20計
算: C%67.6 Hq65.I N%q、l5
cslb9実測: 67、s s、1as
6.8NMR(CDCl3.60 MHz )1、3
1 ppm 4、57 ppm 6、3 7 ppm 7、28 ppm 全中心とした三重項 J=7Hz を中心とした四重項 J=7Hz で−1項 で−1項 56りの例7で製造した化合物を56a:の再蒸留した
ジヒドロピランに入れる。冷却した水浴に入し、次いで
2.4yのp−トルエンスルホン酸を加えるっ 周囲温度に戻しつつ30時間かきまぜる。100匡のベ
ンゼン、100CCの水及び2CCのトリエチルアミン
の混合物中に注ぐ。
算: C%67.6 Hq65.I N%q、l5
cslb9実測: 67、s s、1as
6.8NMR(CDCl3.60 MHz )1、3
1 ppm 4、57 ppm 6、3 7 ppm 7、28 ppm 全中心とした三重項 J=7Hz を中心とした四重項 J=7Hz で−1項 で−1項 56りの例7で製造した化合物を56a:の再蒸留した
ジヒドロピランに入れる。冷却した水浴に入し、次いで
2.4yのp−トルエンスルホン酸を加えるっ 周囲温度に戻しつつ30時間かきまぜる。100匡のベ
ンゼン、100CCの水及び2CCのトリエチルアミン
の混合物中に注ぐ。
デカンテーションし、水洗し、脱水し、濾過し、ベンゼ
ンで洗い、次いで溶媒を追出す。イソプロピルエーテル
で溶解し、結晶化を起させ、−夜冷蔵置に入れ、濾過し
、イソプロピルエーテルで洗う。4.42 rの化合物
を得る。MP=184℃。
ンで洗い、次いで溶媒を追出す。イソプロピルエーテル
で溶解し、結晶化を起させ、−夜冷蔵置に入れ、濾過し
、イソプロピルエーテルで洗う。4.42 rの化合物
を得る。MP=184℃。
分析:p−トルエンスルホン酸の塩としてC38H39
07N3 S2 計算:Cチロ五9 Hチ5.5 Nl2.9 8%9
0実測: 65.7 5.5 5.s E
L9NMR(CDCl、、6.0 MHz )(a)
1.36 ppmを中心とした三重項(b) 4.
39 ppmを中心とした四重環(c) &60pp
mで一重項 (d) &9jpprr、で一重項 (e) 7.28 ppmで一重項 4、56 fの例8で製造された化合物Q45CI11
.のジオキサンとa4ccの2Nンーダに入れる。30
時間還流しつづける。冷却した水浴中で冷却すると塩が
沈殿するっ濾過し、水性ジオキサンで洗い、次いで水洗
し、4.662のナトリウム塩を得るっこの化合物i5
0CCのジオキサンに溶解し、ぎ酸で酸性化しくpH5
)、90CHの水で沈殿させて酸を得る。MP−180
℃。
07N3 S2 計算:Cチロ五9 Hチ5.5 Nl2.9 8%9
0実測: 65.7 5.5 5.s E
L9NMR(CDCl、、6.0 MHz )(a)
1.36 ppmを中心とした三重項(b) 4.
39 ppmを中心とした四重環(c) &60pp
mで一重項 (d) &9jpprr、で一重項 (e) 7.28 ppmで一重項 4、56 fの例8で製造された化合物Q45CI11
.のジオキサンとa4ccの2Nンーダに入れる。30
時間還流しつづける。冷却した水浴中で冷却すると塩が
沈殿するっ濾過し、水性ジオキサンで洗い、次いで水洗
し、4.662のナトリウム塩を得るっこの化合物i5
0CCのジオキサンに溶解し、ぎ酸で酸性化しくpH5
)、90CHの水で沈殿させて酸を得る。MP−180
℃。
NMR(CDCI、 、60MHz)
6.69ppm(チアゾール環のプロトン)751pp
m(芳香族) 異性体 1gのγ−クロルーα−メトキシイミノアセチル酢酸エ
チル、3ccの無水エタノール及び[142,9の粉砕
チオ尿素を混合する。全体を周囲温度で約2時間かきま
ぜる。これを60ccの水で希釈すると塩酸塩が晶出す
るが、全体をかきまぜ、真空濾過し、洗浄し、乾燥し、
685ダの塩酸塩を得る。
m(芳香族) 異性体 1gのγ−クロルーα−メトキシイミノアセチル酢酸エ
チル、3ccの無水エタノール及び[142,9の粉砕
チオ尿素を混合する。全体を周囲温度で約2時間かきま
ぜる。これを60ccの水で希釈すると塩酸塩が晶出す
るが、全体をかきまぜ、真空濾過し、洗浄し、乾燥し、
685ダの塩酸塩を得る。
これを4 ccの50℃の水に溶解し、pH6となるま
で酢酸カリウムを加えると遊離したアミンが晶出する。
で酢酸カリウムを加えると遊離したアミンが晶出する。
全体を冷却し、真空濾過し、残留物を水洗し、乾燥し、
270rR9の所期化合物を得る。
270rR9の所期化合物を得る。
MP=161℃。得られた化合物はmyt1立体配置を
有する。
有する。
NMR(CDC13,60MI(z )p pm :4
(N−OCR,)、 6.7(チアゾール環のプロトン) 開始時に用いたγ−クロルーα−メトキシイミノアセチ
ル酢酸エチルは下記のように製造した。
(N−OCR,)、 6.7(チアゾール環のプロトン) 開始時に用いたγ−クロルーα−メトキシイミノアセチ
ル酢酸エチルは下記のように製造した。
22.5.9のγ−クロルーα〜オキシミ/アセチル酢
酸エチルを100CCの塩化メチレンに入れる。
酸エチルを100CCの塩化メチレンに入れる。
全体を水浴に入れ、かきまぜながら、新しいジアゾメタ
ン溶液(21,69/lを含有)275ccをゆっくり
と加える。全体を5分間接触させておき、過剰のジアゾ
メタンを少量のアルミナにより分解される。残留物を濃
縮し、次いで塩化メチレンを用いてシリカ上で溶離する
ことにより精製する。1193gの所期化合物を得る。
ン溶液(21,69/lを含有)275ccをゆっくり
と加える。全体を5分間接触させておき、過剰のジアゾ
メタンを少量のアルミナにより分解される。残留物を濃
縮し、次いで塩化メチレンを用いてシリカ上で溶離する
ことにより精製する。1193gの所期化合物を得る。
また、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノ酢酸エチルを下記のよう圧しても製造した。
キシイミノ酢酸エチルを下記のよう圧しても製造した。
エチル
180gの粗製2−アセチル−2−ヒドロキシイミノ酢
酸エチルを900 ccの純ア七トンに入れる。234
Iの炭酸カリウムを窒素化に10’Cで加え、次いで、
105ccの硫酸ジメチルを導入する。全体を周囲温度
で3時間かきまぜ、氷を加え、全体を4tの水に注入し
、塩化メチレンで抽出し、水洗し、脱水し、溶媒を追出
す。185gの所期化合物を得る。
酸エチルを900 ccの純ア七トンに入れる。234
Iの炭酸カリウムを窒素化に10’Cで加え、次いで、
105ccの硫酸ジメチルを導入する。全体を周囲温度
で3時間かきまぜ、氷を加え、全体を4tの水に注入し
、塩化メチレンで抽出し、水洗し、脱水し、溶媒を追出
す。185gの所期化合物を得る。
80Jのチオ尿素を270 ccのエタノールと540
CCの水に導入する。268gの工程βで得られた化合
物を2706Cのエタノールに窒素下に半時間にわたり
導入する。全体を約20℃で1時間かきまぜる。約15
℃に冷却し、酸性炭酸カリウムをpH5まで少量づつ加
える。全体を真空濾過し、水洗し、脱水し、1318g
の所期化合物を得る。得られた化合物はgyn立体配置
を有した。
CCの水に導入する。268gの工程βで得られた化合
物を2706Cのエタノールに窒素下に半時間にわたり
導入する。全体を約20℃で1時間かきまぜる。約15
℃に冷却し、酸性炭酸カリウムをpH5まで少量づつ加
える。全体を真空濾過し、水洗し、脱水し、1318g
の所期化合物を得る。得られた化合物はgyn立体配置
を有した。
197yの工程αで得られた化合物を1ノの塩化メチレ
ンに入れ、200Qのp−)ルエンスルホン酸を加える
。19111の純臭素を200ccの塩化メチレンに溶
解してなる溶液の1/2oを20℃で導入する。反応が
開始したときに臭素溶液の残部を約20 ℃で1時MK
わたり導入する。次いで全体を25°Cに放置して反応
を完了させる。これを氷水で洗浄し、塩化メチレンで抽
出し、脱水し、溶媒を追出す。268Iの所期化合物を
得る。
ンに入れ、200Qのp−)ルエンスルホン酸を加える
。19111の純臭素を200ccの塩化メチレンに溶
解してなる溶液の1/2oを20℃で導入する。反応が
開始したときに臭素溶液の残部を約20 ℃で1時MK
わたり導入する。次いで全体を25°Cに放置して反応
を完了させる。これを氷水で洗浄し、塩化メチレンで抽
出し、脱水し、溶媒を追出す。268Iの所期化合物を
得る。
異性体
工程A:2−アセチルー2−メトキシイミノ酢酸エチル
4、69 kpの2−アセチル−2−ヒドロキシイミノ
アセチル酢酸エチル(4,21kgの純化合物に相当す
る)を21jの純無水アセトンに導入する。
アセチル酢酸エチル(4,21kgの純化合物に相当す
る)を21jの純無水アセトンに導入する。
で172 k)の硫酸ジメチルを加える。全体を20〜
25℃で6時間かきまぜる。次いで1261の脱塩水に
注入し、51で4回、次いで21の塩化メチレンを用い
て抽出する。全体を1atの脱塩水で洗浄する。脱水し
、真空濾過し、21(D塩化メチレンで洗浄する。次い
で真空蒸留し、488k)の所期化合物を得る。
25℃で6時間かきまぜる。次いで1261の脱塩水に
注入し、51で4回、次いで21の塩化メチレンを用い
て抽出する。全体を1atの脱塩水で洗浄する。脱水し
、真空濾過し、21(D塩化メチレンで洗浄する。次い
で真空蒸留し、488k)の所期化合物を得る。
Rf−117(シリカゲルによる薄層クロマトグラフィ
ー、溶離液9:1塩化メチレン/酢酸エチル ) 。
ー、溶離液9:1塩化メチレン/酢酸エチル ) 。
この化合物は例1Qの工程αで得られたものと同じであ
る。
る。
155 kyの工程Aで得られた化合物をIB、61の
塩出メチレン及びi5!Jのp−)ルエンスルホン酸と
混合する。2.96 klの臭素をL5ノの塩化メチレ
ンに溶解してなる溶液を上記溶液に温度を22°C土1
℃に保ちながら30分間で加える。この導入の15分後
に臭化水素ガスの放出が認められる。全体を22℃で4
5分かきまぜ、次いで別のフラスコに入れ、14tの冷
脱塩水で2回洗浄する。洗浄水を151の塩化メチレン
で2回抽出する。次いで脱水し、濾過し、塩化メチレン
で洗浄し、真空蒸留し、4.75.j7の所期化合物を
得る。
塩出メチレン及びi5!Jのp−)ルエンスルホン酸と
混合する。2.96 klの臭素をL5ノの塩化メチレ
ンに溶解してなる溶液を上記溶液に温度を22°C土1
℃に保ちながら30分間で加える。この導入の15分後
に臭化水素ガスの放出が認められる。全体を22℃で4
5分かきまぜ、次いで別のフラスコに入れ、14tの冷
脱塩水で2回洗浄する。洗浄水を151の塩化メチレン
で2回抽出する。次いで脱水し、濾過し、塩化メチレン
で洗浄し、真空蒸留し、4.75.j7の所期化合物を
得る。
この化合物は例10の工程βで得られたものと同一であ
る。
る。
異性体
145 kyのチオ尿素を五51のエタノールと7、1
tの脱塩水に加える。全体を20℃で10燗かきまぜ
、次いで20〜25℃で、4.750 kgの工程Bで
製造された化合物を3.551のエタノールに溶解した
ものを加える。全体を20〜25℃で6時間かきまぜる
。次いで15〜20℃に冷却し、約16jの22 Be
アンモニアによりpH7まで中和する。
tの脱塩水に加える。全体を20℃で10燗かきまぜ
、次いで20〜25℃で、4.750 kgの工程Bで
製造された化合物を3.551のエタノールに溶解した
ものを加える。全体を20〜25℃で6時間かきまぜる
。次いで15〜20℃に冷却し、約16jの22 Be
アンモニアによりpH7まで中和する。
全体を20〜25℃でさらに15分かきまぜる。
真空1過し、t8tの脱塩水で5回洗浄し、2.947
に70所期化合物を得る。MP−162℃。
に70所期化合物を得る。MP−162℃。
この化合物は例1Q及び工程γで得られたものと同−で
ある。
ある。
例13
a)194.9のr−クロル−α−オキシミノアセト酢
酸エチルを60CCのアセトンと14.5 ccの硫酸
ジエチル中に入れる。全体を水浴中で10分間冷却し、
−55CCの2Nソーダを30分間で加え、次いで全体
を40分間かきまぜる。
酸エチルを60CCのアセトンと14.5 ccの硫酸
ジエチル中に入れる。全体を水浴中で10分間冷却し、
−55CCの2Nソーダを30分間で加え、次いで全体
を40分間かきまぜる。
b)この反応媒質K161のチオ尿素を加え、これを5
5℃で20分加熱し、アセトンを追出し、その残留物を
酢酸エチルで溶解させ、6.9gの炭酸カリウムを加え
、全体をかきまぜ、デカンテーションし、酢酸エチルで
抽出し、脱水し、濃縮乾固する。17.47の残留物を
分け、シリカでエーテルで溶離しつつクロマトグラフィ
ーする。所期の化合物を回収し、イソプロピルエーテル
で溶解し、真空濾過し、洗浄し、乾燥し、2.8gの所
期化合物を得る。MP=129℃。得られた化合物はs
yn立体配置を有する。
5℃で20分加熱し、アセトンを追出し、その残留物を
酢酸エチルで溶解させ、6.9gの炭酸カリウムを加え
、全体をかきまぜ、デカンテーションし、酢酸エチルで
抽出し、脱水し、濃縮乾固する。17.47の残留物を
分け、シリカでエーテルで溶離しつつクロマトグラフィ
ーする。所期の化合物を回収し、イソプロピルエーテル
で溶解し、真空濾過し、洗浄し、乾燥し、2.8gの所
期化合物を得る。MP=129℃。得られた化合物はs
yn立体配置を有する。
45.8.9の例10に従って製造したsyn異性体で
ある2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メトキ
シイミノ酢酸エチルを200ccの塩化メチレンに加え
る。その20ccを蒸留して混合物を乾燥し、次いで1
0℃に冷却し、50ccのピリジンを加える。41gの
モノクロル酢酸無水物を加え、全体をわずかに加熱して
溶解させる。窒素雰囲気下に20℃で6時間放置し、5
CCの水を加え、全体をかきまぜ、300 CCの水冷
2N塩酸中に注入する。全体をデカンテーションし、塩
化メチレンで抽出し、水洗し、酸性炭酸ナトリウム水で
洗浄し、脱水し、活性炭に通し、濃縮し、300ccの
イソプロピルエーテルを加える。化合物か晶出する。濃
いペーストか得られるまで濃縮し、冷却し、X空を過し
、イソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥し、45.4.
ii’の化合物を得る。
ある2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メトキ
シイミノ酢酸エチルを200ccの塩化メチレンに加え
る。その20ccを蒸留して混合物を乾燥し、次いで1
0℃に冷却し、50ccのピリジンを加える。41gの
モノクロル酢酸無水物を加え、全体をわずかに加熱して
溶解させる。窒素雰囲気下に20℃で6時間放置し、5
CCの水を加え、全体をかきまぜ、300 CCの水冷
2N塩酸中に注入する。全体をデカンテーションし、塩
化メチレンで抽出し、水洗し、酸性炭酸ナトリウム水で
洗浄し、脱水し、活性炭に通し、濃縮し、300ccの
イソプロピルエーテルを加える。化合物か晶出する。濃
いペーストか得られるまで濃縮し、冷却し、X空を過し
、イソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥し、45.4.
ii’の化合物を得る。
MP=1 1 3 ℃。
塩化メチレンとイソプロピルエーテルとの混合物から再
結晶して純試料を得る。
結晶して純試料を得る。
MP−118℃。
NMR(CDCl2.60MH2):
138ppmを中心に三重環、J−7H2゜4.05p
prnで一重項、 4.44ppmを中心に四重項、J−7H7゜4.35
ppmで一重項、 7.27ppmで一重項、 9.95ppmで一重項、 46.9の上記の工程Aで得られた化合物を250CC
の無水エタノールに加える。次いで50ccの純水酸化
す) IJウム濃水溶液を窒素雰囲気下に20℃で加え
る。化合物が溶解し、ナトリウム塩が晶出し始め、次い
で媒質が凝固する。16時間後に真空濾過し、エタノー
ルで洗浄する。得られた塩を水に溶解し1.冷却し、1
00CCの2N塩酸を加え、全体を塩化ナトリウムで飽
和させ、10%のエタノールを含む酢酸エチルで抽出す
る。全体を脱水し、活性炭に通し、真空蒸留し、水をベ
ンゼンに連行させ、残留物tl−塩化メチレンで溶解し
、蒸留乾固し、塩化メチレンで溶解し、冷却し、真空濾
過し、塩化メチレンで洗浄し、乾燥し、!14.5Iの
所期化合物を得る。MP−約200℃。この化合物をア
セトン−イソプロピルエーテル混合物から再結晶して精
製する。
prnで一重項、 4.44ppmを中心に四重項、J−7H7゜4.35
ppmで一重項、 7.27ppmで一重項、 9.95ppmで一重項、 46.9の上記の工程Aで得られた化合物を250CC
の無水エタノールに加える。次いで50ccの純水酸化
す) IJウム濃水溶液を窒素雰囲気下に20℃で加え
る。化合物が溶解し、ナトリウム塩が晶出し始め、次い
で媒質が凝固する。16時間後に真空濾過し、エタノー
ルで洗浄する。得られた塩を水に溶解し1.冷却し、1
00CCの2N塩酸を加え、全体を塩化ナトリウムで飽
和させ、10%のエタノールを含む酢酸エチルで抽出す
る。全体を脱水し、活性炭に通し、真空蒸留し、水をベ
ンゼンに連行させ、残留物tl−塩化メチレンで溶解し
、蒸留乾固し、塩化メチレンで溶解し、冷却し、真空濾
過し、塩化メチレンで洗浄し、乾燥し、!14.5Iの
所期化合物を得る。MP−約200℃。この化合物をア
セトン−イソプロピルエーテル混合物から再結晶して精
製する。
分析: C,H,04N3CIS−277,68計算:
6%34.608%2.9ON%15.13CI%L1
776%11.55実i1: 34.81 2,8
14,8 12,6 11.5syn異性体 NMR(DMSO160MH2) 参考例1:5−アセトキシメチル−7−(2−異性体 五92 ppmで一重項、 4.38ppmで一重項、 約5 pprnで一重項、 7.58ppnnで一重項、 12.6ppmで一重項、 a5gの例5で製造された2〜(2−) IJチルアミ
/−4−チアゾリル)−2−)リチルヒドロキシイミノ
酢酸を50cCのメタノールに懸濁させたものをかきま
ぜ、5ccのN−メナルモルホリンを加える。全体を3
0℃で10分間かきまぜ、30CCの塩化メチレンを加
え、全体を濃縮し、100 ccのエーテルを加え、全
体を砕解し、真空濾過し、エーテルで洗浄し、乾燥し、
−次収量として7.22の塩を得る。濃縮乾固し、エー
テルで洗浄し、二次収量の同−化合物金得る。
6%34.608%2.9ON%15.13CI%L1
776%11.55実i1: 34.81 2,8
14,8 12,6 11.5syn異性体 NMR(DMSO160MH2) 参考例1:5−アセトキシメチル−7−(2−異性体 五92 ppmで一重項、 4.38ppmで一重項、 約5 pprnで一重項、 7.58ppnnで一重項、 12.6ppmで一重項、 a5gの例5で製造された2〜(2−) IJチルアミ
/−4−チアゾリル)−2−)リチルヒドロキシイミノ
酢酸を50cCのメタノールに懸濁させたものをかきま
ぜ、5ccのN−メナルモルホリンを加える。全体を3
0℃で10分間かきまぜ、30CCの塩化メチレンを加
え、全体を濃縮し、100 ccのエーテルを加え、全
体を砕解し、真空濾過し、エーテルで洗浄し、乾燥し、
−次収量として7.22の塩を得る。濃縮乾固し、エー
テルで洗浄し、二次収量の同−化合物金得る。
4、249の上記のモルホリン塩を不活性ガス下にかき
まぜながら60ccの塩化メチレン中で懸濁させる。
まぜながら60ccの塩化メチレン中で懸濁させる。
全体を5分間かき壕ぜ、次いで一5℃に冷却し1モルの
クロルぎ醸イソブチルの塩化メチレン溶液6CCを加え
る。全体を一5℃で15分間かきまぜ続け、次いで一2
0℃に冷却し、1.362の7−アミノセファロスポラ
ン酸125CCの塩化メチレンと1.4a−のトリエチ
ルアミンとに溶解してなる溶液を加える。全体を周囲温
度で1時間放置し、10CHの1N塩醗を含有する50
mの水で洗浄し、真空濾過し、デカンテーションし、水
洗し、濃縮乾固する。これをエーテル中ですり砕き、真
空濾過し、エーテルで洗浄し、4.59の粗生成物を得
る。
クロルぎ醸イソブチルの塩化メチレン溶液6CCを加え
る。全体を一5℃で15分間かきまぜ続け、次いで一2
0℃に冷却し、1.362の7−アミノセファロスポラ
ン酸125CCの塩化メチレンと1.4a−のトリエチ
ルアミンとに溶解してなる溶液を加える。全体を周囲温
度で1時間放置し、10CHの1N塩醗を含有する50
mの水で洗浄し、真空濾過し、デカンテーションし、水
洗し、濃縮乾固する。これをエーテル中ですり砕き、真
空濾過し、エーテルで洗浄し、4.59の粗生成物を得
る。
この粗生成物を10CCの塩化メチレン中+10℃で1
時間かきまぜる。不溶物を真空濾過し、塩化メチレンで
洗浄する。P液に5occのエーテルを加え、これをか
き1ぜ、沈殿を真空濾過し、エーテルで洗浄し、2.2
9 ?の所期化合物ヲ得るっさらに、0.8569の二
次収量、したがって全部で1146Fの所期化合物を得
る。
時間かきまぜる。不溶物を真空濾過し、塩化メチレンで
洗浄する。P液に5occのエーテルを加え、これをか
き1ぜ、沈殿を真空濾過し、エーテルで洗浄し、2.2
9 ?の所期化合物ヲ得るっさらに、0.8569の二
次収量、したがって全部で1146Fの所期化合物を得
る。
2、29 fの工程人で得られた化合物を1&4Cnの
50チぎ酸水溶液中で懸濁状にする。全体を15分間充
分にかき1ぜながら55℃とする。
50チぎ酸水溶液中で懸濁状にする。全体を15分間充
分にかき1ぜながら55℃とする。
冷却し、10ccの水を加え、全体を真空濾過し、水洗
し、真空下に濃縮し、アセトンを加え、全体を真空濾過
し、30CCのエーテルを加え、全体をかきまぜ、真空
濾過し、エーテルで洗浄し、α6652の生成物を得る
。さらに、二次収量の晶出する生成物0123f’i得
る。全体で(1,7881でちる。
し、真空下に濃縮し、アセトンを加え、全体を真空濾過
し、30CCのエーテルを加え、全体をかきまぜ、真空
濾過し、エーテルで洗浄し、α6652の生成物を得る
。さらに、二次収量の晶出する生成物0123f’i得
る。全体で(1,7881でちる。
この生成物α735y’z7.5CCのエタノールと7
.5CCのアセトンに溶解する。7o11qのカーボン
ブラックを加え、全体を真空1過し、溶媒を追出し、そ
の残留物をエタノール中で砕解し、エタノールで洗浄し
1.0.45 Ofの一次収量、次いで0、1059の
二次数tf得る。
.5CCのアセトンに溶解する。7o11qのカーボン
ブラックを加え、全体を真空1過し、溶媒を追出し、そ
の残留物をエタノール中で砕解し、エタノールで洗浄し
1.0.45 Ofの一次収量、次いで0、1059の
二次数tf得る。
赤外績スペクトル
\
、cmo 1774c+n−”(β=ラクタム)1
740 cm−’ 16760−1 C:CNH21630cm−” NH1520cm−’ ルポン酸tブチル、syn異性体 0、3629の例?で製造した2〜(2−トリチルアミ
ノ−4−チアゾリル)−2−テトラヒドロピラニルオキ
シイミノ酢酸、 syn異性体柱体44Vの3−アセ
トキシメチル−7−アミノセフ−3−エム−4−カルボ
ン酸t−ブチル及び(12802のジシクロへキシルカ
ルボジイミドを40Hの乾燥クロロホルムに導入する。
740 cm−’ 16760−1 C:CNH21630cm−” NH1520cm−’ ルポン酸tブチル、syn異性体 0、3629の例?で製造した2〜(2−トリチルアミ
ノ−4−チアゾリル)−2−テトラヒドロピラニルオキ
シイミノ酢酸、 syn異性体柱体44Vの3−アセ
トキシメチル−7−アミノセフ−3−エム−4−カルボ
ン酸t−ブチル及び(12802のジシクロへキシルカ
ルボジイミドを40Hの乾燥クロロホルムに導入する。
周囲温度で2時間かきまぜる。生成したジシクロヘキシ
ル尿素を1過し、クロロホルムで洗う。
ル尿素を1過し、クロロホルムで洗う。
f液の溶媒を減圧下に追出し、1頷のエーテルに溶解し
、次いでエーテルで溶離してシリカカラムでクロマトグ
ラフィーする。
、次いでエーテルで溶離してシリカカラムでクロマトグ
ラフィーする。
Rf l1lL38の画分を一緒にし、溶媒を減圧下に
追出し、インプロピルエーテルで溶解し、砕き、濾過し
、イソプロピルエーテルで洗つ。α1842の所期化合
物で得る。
追出し、インプロピルエーテルで溶解し、砕き、濾過し
、イソプロピルエーテルで洗つ。α1842の所期化合
物で得る。
分析: C43H450@ N5 S2計算: Cl6
2.7 H%a5 N5a5 8%7.8実測:
62.8 !!t9 ELl 7.5
NMR(CDCl3.60 MHz )(al 1.5 2.0 5.4 & 7 2 99m 99m 99m 99m 99m 638■の工程Aにより得られた化合物を1.8工のト
リフルオル酢酸中で周囲温度で15分かき壕ぜる。18
cr−のインプロピルエーテルを加え・404■の沈殿
した生成物を2F′禍する。この404ダを溶解し、2
ccの50%水性ぎ酸ととも[50℃で15分かきま
ぜる。30℃で減圧下に濃縮乾固し、1CCのエタノー
ルで溶解し、1滴のピリジンを加え、所期化合物を濾過
する。
2.7 H%a5 N5a5 8%7.8実測:
62.8 !!t9 ELl 7.5
NMR(CDCl3.60 MHz )(al 1.5 2.0 5.4 & 7 2 99m 99m 99m 99m 99m 638■の工程Aにより得られた化合物を1.8工のト
リフルオル酢酸中で周囲温度で15分かき壕ぜる。18
cr−のインプロピルエーテルを加え・404■の沈殿
した生成物を2F′禍する。この404ダを溶解し、2
ccの50%水性ぎ酸ととも[50℃で15分かきま
ぜる。30℃で減圧下に濃縮乾固し、1CCのエタノー
ルで溶解し、1滴のピリジンを加え、所期化合物を濾過
する。
この化合物は参考例1で得られたものと同一である。
異性体
15、3 Nの例15の工程Bで得られた化合物を80
CCの塩化メチレンに加える。5℃で8ccのトリエチ
ルアミンを加える。窒素雰囲気下0℃で18 Ccの塩
化チオニルと26ccの塩化メチレンを導入する。全体
を0℃で15分放置し、次いで7αのトリエチルアミン
を加える。15,6Fの7−アミツセ770スボラン酸
を1001:Cの塩化メチレンと14ccのトリエチル
アミンに溶解し九ものを窒素雰囲気下に0℃で導入する
。全体を20℃に戻し、次いで1時間かきまぜる。この
溶液を真空下に約60〜35℃で蒸留乾固する。その残
留物を250 ccの水に溶解し、活性炭に通し、50
ccの2N塩酸を加える。沈殿を真空r過し、水洗する
。得られた粗生成物を80ccのエタノール中に懸濁さ
せる。+5℃で7 ccのトリエチルアミンを加える。
CCの塩化メチレンに加える。5℃で8ccのトリエチ
ルアミンを加える。窒素雰囲気下0℃で18 Ccの塩
化チオニルと26ccの塩化メチレンを導入する。全体
を0℃で15分放置し、次いで7αのトリエチルアミン
を加える。15,6Fの7−アミツセ770スボラン酸
を1001:Cの塩化メチレンと14ccのトリエチル
アミンに溶解し九ものを窒素雰囲気下に0℃で導入する
。全体を20℃に戻し、次いで1時間かきまぜる。この
溶液を真空下に約60〜35℃で蒸留乾固する。その残
留物を250 ccの水に溶解し、活性炭に通し、50
ccの2N塩酸を加える。沈殿を真空r過し、水洗する
。得られた粗生成物を80ccのエタノール中に懸濁さ
せる。+5℃で7 ccのトリエチルアミンを加える。
次いで+5℃でかきまぜながら、15Gの4N硫酸を一
度に加え、15分後に化合物が晶出する。真空f過し、
ペースト状にしてエタノールにより洗浄し、次いでエー
テルで洗浄し、真空乾燥し、1B、6.9の所期化合物
を得る。
度に加え、15分後に化合物が晶出する。真空f過し、
ペースト状にしてエタノールにより洗浄し、次いでエー
テルで洗浄し、真空乾燥し、1B、6.9の所期化合物
を得る。
〔α) 2g =+ +26°土1°(1% ジメチル
ホルムアミド)。
ホルムアミド)。
NMR(DMSo、60MH2)
(a)2.03
(b)3.90
(c)4.58
(d)7.45
ppmで一重項、
ppmで一重項、
ppmで一重項、
ppmで一重項0
5.32#の工程Aで得られた酸を1α6ceの水と9
12■のチオ尿素中で懸濁状にさせる。20℃で1gの
酸性炭酸カリウムを加える。溶解後に全体を窒素雰囲気
下に約20℃で6時間かきまぜる。約1時間半後にガム
質沈殿が生成し始める。
12■のチオ尿素中で懸濁状にさせる。20℃で1gの
酸性炭酸カリウムを加える。溶解後に全体を窒素雰囲気
下に約20℃で6時間かきまぜる。約1時間半後にガム
質沈殿が生成し始める。
次いで30CCの水と3 ccのぎ酸を加える。全体を
5℃に冷却し、真空f過し、10%のぎ酸を含む水で洗
浄する。残留物を30CCのトリエチルアミン含有水に
約5℃で溶解する。5℃で6CCのぎ酸を加え、沈殿を
真空f過し、次いでき酸含有水でペースト状にして洗浄
する。暗褐色ガム質を除去し、水性相を集め、活性炭で
処理する。透明黄色溶液を得、これを硫酸アンモニウム
で飽和させる。
5℃に冷却し、真空f過し、10%のぎ酸を含む水で洗
浄する。残留物を30CCのトリエチルアミン含有水に
約5℃で溶解する。5℃で6CCのぎ酸を加え、沈殿を
真空f過し、次いでき酸含有水でペースト状にして洗浄
する。暗褐色ガム質を除去し、水性相を集め、活性炭で
処理する。透明黄色溶液を得、これを硫酸アンモニウム
で飽和させる。
沈殿を真空f過し、水でペースト状とし、真空r過し、
水洗し、沈殿Aを得る。
水洗し、沈殿Aを得る。
溶液に硫酸アンモニウムを飽和させると沈殿を生じるが
、これを真空r過し、最少量の水で5回洗浄し、沈殿B
を得る。沈殿AとBを一緒にし、エタノールで溶解し、
20℃で1時間、0℃で16時間かきまぜる。真空r過
し、エタノールで次いでエーテルで洗浄し、真空乾燥し
、五47gのsyn異性体である所期化合物を得る。
、これを真空r過し、最少量の水で5回洗浄し、沈殿B
を得る。沈殿AとBを一緒にし、エタノールで溶解し、
20℃で1時間、0℃で16時間かきまぜる。真空r過
し、エタノールで次いでエーテルで洗浄し、真空乾燥し
、五47gのsyn異性体である所期化合物を得る。
参考例1の化合物のインヒドロでの活性試験同一量の無
菌栄養媒質を配分しである一組の試験管を用意する。各
試験管に量を増加させて被検化合物を分配し、次いで各
試験管に菌株を接種する。インキュベーターで37℃に
おいて24時間(24H)又は48時間(48H)イン
キュベーションした後、増殖の抑止を光線透過により評
価する。これは最小抑止濃度M、 1. C,Cttl
/CHIjで表わされる)を決定せしめる。
菌栄養媒質を配分しである一組の試験管を用意する。各
試験管に量を増加させて被検化合物を分配し、次いで各
試験管に菌株を接種する。インキュベーターで37℃に
おいて24時間(24H)又は48時間(48H)イン
キュベーションした後、増殖の抑止を光線透過により評
価する。これは最小抑止濃度M、 1. C,Cttl
/CHIjで表わされる)を決定せしめる。
参考例1の化合物及び対応するanti化合物について
下記の結果が得られた。
下記の結果が得られた。
N M R(DMSo、60MH2)
(a) 2.05 pproで一重項、(b) ”
−55ppmで一重項、 (c) 5.19 ppmで二重項、J−5Hz %
(d)&8ppmで一重項。
−55ppmで一重項、 (c) 5.19 ppmで二重項、J−5Hz %
(d)&8ppmで一重項。
Claims (10)
- (1)次の一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ここでRは水素原子又は酸加水分解により容易に脱離
できる基を表わし、R′は水素原子、酸加水分解により
容易に脱離できる基又は1〜4個の炭素原子を有する飽
和アルキル基を表わし、Aは水素原子又はalkを表わ
し、そしてalkは1〜4個の炭素原子を有するアルキ
ル基を表わし、基OR′はsyn位置にある。ただし、
Rが水素原子又はトリチル若しくはホルミル基を表わす
ときはR′は飽和アルキル基を表わさない) の化合物。 - (2)酸加水分解により容易に脱離できる基R又はR′
がt−ブトキシカルボニル、トリチル、ジベンジル、ト
リクロルエチル、カルボベンジルオキシ、ホルミル及び
2−テトラヒドロピラニル基よりなる群から選ばれる特
許請求の範囲第1項記載の化合物。 - (3)酸加水分解により容易に脱離できる基Rがホルミ
ル基であることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載
の化合物。 - (4)基R′がメチル基を表わすことを特徴とする特許
請求の範囲第1〜3項のいずれかに記載の化合物。 - (5)次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここでR_1はトリチル及びホルミル基以外の酸加水
分解により脱離できる基であり、R′_1は1〜4個の
炭素原子を有するアルキル基であり、Aは水素原子又は
alkを表わし、そしてalkは1〜4個の炭素原子を
有するアルキル基を表わし、基OR′_1はsyn位置
にある) の化合物である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 - (6)次式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (ここでR_1はトリチル及びホルミル基以外の酸加水
分解により容易に脱離できる基であり、R′_1は酸加
水分解により容易に脱離できる基又は1〜4個の炭素原
子を有するアルキル基であり、alkは1〜4個の炭素
原子を有するアルキル基であり、基OR′_1はsyn
位置にある) の化合物である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 - (7)次式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (ここでR_1はトリチル及びホルミル基以外の酸加水
分解により容易に脱離できる基であり、R′_1は1〜
4個の炭素原子を有するアルキル基であり、基OR′_
1はsyn位置にある) の化合物である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 - (8)R′_1がメチル基である特許請求の範囲第6又
は7項記載の化合物。 - (9)R′が水素原子であり、Rが水素原子である特許
請求の範囲第1項記載の化合物。 - (10)2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒ
ドロキシイミノ酢酸エチルのsyn異性体である特許請
求の範囲第1項記載の化合物。
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7601834A FR2346014A1 (fr) | 1976-01-23 | 1976-01-23 | Nouvelles oximes derivees de l'acide 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
FR76-17743 | 1976-06-11 | ||
FR7617743A FR2361893A2 (fr) | 1976-01-23 | 1976-06-11 | Nouvelles oximes derivees de l'acide 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
FR76-25051 | 1976-08-18 | ||
FR76-01834 | 1976-08-18 | ||
FR7625051A FR2361894A2 (fr) | 1976-01-23 | 1976-08-18 | Nouvelles oximes derivees de l'acide 7-aminothiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
Related Parent Applications (1)
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---|---|---|---|
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---|---|
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---|---|---|---|
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JP2101872A Pending JPH03204868A (ja) | 1976-01-23 | 1990-04-19 | アミノチアゾリル酢酸の新規なオキシム誘導体 |
JP5023427A Pending JPH05247013A (ja) | 1976-01-23 | 1993-01-20 | アミノチアゾリル酢酸の新規なオキシム誘導体及びその製造法 |
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---|---|---|---|
JP504977A Granted JPS52102293A (en) | 1976-01-23 | 1977-01-21 | Novel oxim derivative of 77 aminothiazolylacetoamide cephalospolanate process for preparing same and pharmaceutical composition |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5023427A Pending JPH05247013A (ja) | 1976-01-23 | 1993-01-20 | アミノチアゾリル酢酸の新規なオキシム誘導体及びその製造法 |
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CY (1) | CY1123A (ja) |
DD (2) | DD132869A5 (ja) |
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FR2408613A2 (fr) * | 1977-07-19 | 1979-06-08 | Roussel Uclaf | Nouvelles oximes derivees de l'acide 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
GB1576625A (en) * | 1976-04-12 | 1980-10-08 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Syn isomer 3,7 disubstituted 3 cephem 4 carboxylic acid compounds and processes for the preparation thereof |
DK162391C (da) * | 1976-04-12 | 1992-03-09 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Analogifremgangsmaade til fremstilling af syn-isomerer af 3,7-disubstituerede 3-cephem-4-carboxylsyreforbindelser |
DE2760484C2 (ja) * | 1976-04-14 | 1992-12-03 | Takeda Chemical Industries, Ltd., Osaka, Jp | |
ZA781502B (en) * | 1977-03-14 | 1979-09-26 | Fujisawa Pharmaceutical Co | New cephem and cepham compounds and processes for preparation thereof |
PH17188A (en) | 1977-03-14 | 1984-06-14 | Fujisawa Pharmaceutical Co | New cephem and cepham compounds and their pharmaceutical compositions and method of use |
DE2714880A1 (de) * | 1977-04-02 | 1978-10-26 | Hoechst Ag | Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
FR2400519A1 (fr) * | 1977-08-17 | 1979-03-16 | Roussel Uclaf | Forme cristalline du sel de sodium d'un derive oximine de l'acide 7-amino-thiazolyl acetamido cephalosporanique, son procede de preparation et son application comme medicament |
JPS5444695A (en) * | 1977-09-13 | 1979-04-09 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 3,7-disubstituted-3-cephem-4-carboxylic acid and its salt and their preparation |
FR2410655A1 (fr) * | 1977-12-05 | 1979-06-29 | Roussel Uclaf | Nouvelles oximes derivees de l'acide 3-substitue 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
JPS5498795A (en) * | 1978-01-13 | 1979-08-03 | Takeda Chem Ind Ltd | Cephalosporin derivative and its preparation |
FR2387235A1 (fr) * | 1978-01-23 | 1978-11-10 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Procede de preparation de composes d'acide 3,7-disubstitue-3-cephem-4-carboxylique et nouveaux produits ainsi obtenus, ayant une forte activite antibacterienne |
FR2432521A1 (fr) * | 1978-03-31 | 1980-02-29 | Roussel Uclaf | Nouvelles oximes o-substituees derivees de l'acide 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
SE445350B (sv) * | 1978-04-14 | 1986-06-16 | Roussel Uclaf | Oximderivat av 3-azidometyl-7-amino-tiazolyl-acetamido-cefalosporansyra och dess anvendning som antibiotika |
US4284631A (en) * | 1978-07-31 | 1981-08-18 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | 7-Substituted cephem compounds and pharmaceutical antibacterial compositions containing them |
FR2448543A1 (fr) * | 1979-02-09 | 1980-09-05 | Roussel Uclaf | Nouvelles oximes o-substituees par un radical comportant un ammonium quaternaire et derivees de l'acide 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
FR2461713A1 (fr) * | 1979-07-19 | 1981-02-06 | Roussel Uclaf | Nouvelles alcoyloximes substituees derivees de l'acide 7-(2-amino 4-thiazolyl) acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
FR2461712A1 (fr) * | 1979-07-23 | 1981-02-06 | Hoechst Ag | Procede de preparation de derives de cepheme |
JPS57154175A (en) * | 1981-03-16 | 1982-09-22 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 2-thiazoleamine derivative, its preparation, and drug composition comprising it |
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