JPH03169856A - カプトプリルの直接単離法 - Google Patents

カプトプリルの直接単離法

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JPH03169856A
JPH03169856A JP2302311A JP30231190A JPH03169856A JP H03169856 A JPH03169856 A JP H03169856A JP 2302311 A JP2302311 A JP 2302311A JP 30231190 A JP30231190 A JP 30231190A JP H03169856 A JPH03169856 A JP H03169856A
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hydroxide
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ニール・ジー・アンダーソン
David A Lust
デビッド・エー・ルスツ
Barbara J Bennett
バーバラ・ジェイ・ベネット
Alan F Feldman
アラン・エフ・フェルドマン
Robert E Polomski
ロバート・イー・ポロムスキ
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ER Squibb and Sons LLC
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Bristol Myers Squibb Co
ER Squibb and Sons LLC
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はカプトプリルの直接単離法、更に詳しくは、特
定基質を水溶性塩とし、次いで中和することにより、ア
ンギオテンシン変換酵素(ACE)抑制剤であるカブト
ブリルを直接晶出せしめることから成るカプトプリルの
製造法に関する。
従来技術と発明が解決しようとする課題カプトブリル(
登録商標:カポテン(Capoten))は、心臓血管
剤として有用な、広く取引されているACE抑制剤であ
る。カブトプリルの製法は、U.S.特許第41057
76号(19 7 8年8月8日特許)に記載されてい
る。カブトグリルは、で示されている。
U.S.特許第4668798号に、式:〔式中、Xは
塩素または臭素である〕 の基質(substrate)から、カプトプリルを製
造する方法が記載されている。この方法では、二硫化炭
素をアルカリ金属塩基の存在下、式:〔式中、Zは酸素
または硫黄である〕 の尿素化合物と反応させて、式: 〔式中、Mはアルカリ金属およびZは前記と同意義であ
る〕 の化合物を形戒する。次に化合物〔C〕を上記基質[A
]と反応させ、得られる生戒物を加水分解して、反応混
合物中にカブトプリルを形成する。
その後、反応混合物を塩化メチレンまたは酢酸エチルで
数回にわたり抽出し、亜鉛粉末で処理してスルフィド不
純物を除去し、次いで得られる粗カプトプリルを有機溶
媒から晶出せしめる。
U.S.特許第4460780号に、式:〔式中、Qは
水素、ナトリウム、カリウムまたはアンモニウムである
〕 の基質を用いて、カプトブリルを製造する方法が記載さ
れている。この方法では、上述の方法と同様な反応工程
において、基質〔D〕をアルカリトリチオカーポネート
と反応させ次いで酸で加水分解する。得られる生成物を
硫酸に溶解し、亜鉛粉末で処理してジスルフネド不純物
を除去し、次いで有機溶媒から晶出させて、スルフィド
不純物を除去する。
両基質〔A〕および(D)からのカプトプリルの製法は
、化合物[B]または〔C〕などの硫黄転移剤の使用が
必要である。かかる転移剤の多くは、硫黄成分含有化合
物によって、酸化一還元反応を受ける傾向にあり、これ
はジスルフィドや他の不純物の形成を導く。しかも、ジ
スルフィド不純物の第2の発生源は、下式で示されるカ
ブトプリルと分子酸素の反応である。
2 R ’  S H +O x   →R菫−S−S
−R’+Hz○22R’−SH十IhOz→R ’ −
 S − S  R ’ + 2 H t○4R’−S
H十HzOz − 2R’  S−S  R’+2H2
0で示されるカブトプリル残基である〕 数多くの他の方法がカブトプリルの製法として利用され
ているが、これらの方法は固有的にジスルフィドや他の
不純物を形成し、かつかかる不純物を低pHでの亜鉛粉
末による処理あるいはその他の類する方法で除去する別
工程が必要である〔シマザキらのr Chettr. 
Pharm. Bull. J(3 0 (9 ). 
3139〜3146頁、1982年)参照〕。加えて、
これらの方法には、塩化メチレンなどの有機溶媒の使用
が必然的に伴い、該有機溶媒は痕跡量で最終生成物に持
込まれると思われる。かかる有機溶媒は、人間が摂取す
る生成物に対し望ましくない特性を付与するものであり
、その使用を避けるべきである。また、カブトブリルの
有機溶剤への抽出、粗カブトグリルを単離するための該
有機溶剤の分離および蒸留、並びにその後の晶出は時間
の消費であり、かつ高価な製造装置および容量が必要と
なる。
発明の構威と効果 本発明が知見した方法によれば、ジスルフィド不純物を
除去するための亜鉛および硫酸による処理あるいは他の
処理法の必要性がなく、かつ精製や晶出のためにいずれ
の有機溶媒を使用しなくても、カブトプリルを製造する
ことができる。
すなわち、本発明方法は以下に示す工程から成〔式中、
Rは低級アルキルまたは低級アルコキシである〕 の基質を、水酸化アルカリ金属の約4M以上濃度の水溶
液と反応させる。次いで、反応混合物を中和して、カプ
トプリルのアルカリ金属塩、式:R−Coo  M  
の化合物(たとえば酢酸ナトリウム)および過剰水酸化
アルカリ金属(たとえば水酸化ナトリウム)の濃度を得
る。鉱酸(たとえば塩酸)で酸性化すると、カプトブリ
ルは塩(たとえばNa(J’)め濃溶液中に生成する。
カプトプリルを望ましくないジスルフィド不純物に酸化
する酸素の濃塩溶液における溶解度は、水溶液あるいは
希塩溶液の場合に比べて極めて低い。従って、望ましく
ない酸素の副反応(前記従来技術の説明を参照)は、後
続の工程を通じて最小化され、一方、カプトプリル生成
物は析出し、採取される。その他の処理は全く必要でな
い。鉱酸の添加による中和が好ましい。別法として、水
素供給イオン交換樹脂によって中和を行うことができる
なお、本明細書で用いる語句の定義は、以下の通りであ
る。
「低級アルキル」とは、炭素数1〜4の直鎖および分枝
鎖炭化水素基を指称する。低級アルキルの具体例は、メ
チル、エチル、プロビル、イソブロビル、ブチル、t−
ブチルおよびイソブチルである。
「低級アルコキシ」とは、低級アルキルが酸素原子に結
合したものを指称する。
「水酸化アルカリ金属」とは、NaOHSLiOHおよ
びKOHを指称する。NaOHが好ましい水酸化アルカ
リ金属である。
上記式(nlの基質は、U. S,特許第410577
6号の記載に従って製造することができる。
本発明方法にあって、いずれの基質(II)も好適であ
るが、Rがメチルである基質[11)が好ましい。
基質(n)を水酸化アルカリ金属で処理して、式: および R−Co2’M’     (IIIb)〔式中、Rは
前記と同意義、およびM はアルカリ金属イオン(たと
えばNa  )である〕の化合物を得ることができる。
この処理工程において、不活性雰囲気(たとえば窒素ま
たはアルゴン)が好ましい。加水分解のための温度は約
−10〜+50℃で、45℃を越えない温度が好ましい
。基質(n)を2.5〜5モル当量、好ましくは約3.
3モル当量のアルカリ金属イオンと反応させる。
水酸化アルカリ金属溶液の濃度は、カプトプリル塩(化
合物CIllal )の収量を最大化する上で重要なフ
ァクターである。水酸化アルカリ金属の濃度が4Mまた
はそれより大であると、反応体の容量を最小化し、かつ
カブトプリルの晶出を最大化することがわかった。水酸
化アルカリ金属濃度が4Mより少ないと、カブトグリル
は晶出するよりはむしろ、酸性化後に溶液中へ多量に残
存し、晶出したカプトブリルは、溶解分子酸素による酸
化に基づき高レベルのジスルフィド不純物と混在するで
あろう。これに対し、本発明方法は、酸素の溶解度を最
小化して、ジスルフィド不純物への酸化に対して防護す
る濃塩溶液を使用するものである(S. D.クレマー
のr I nd. E ng, C het P ro
cess Des.Dev.J(19、300頁、19
80年)を比較参照〕。約4〜18M濃度の水酸化アル
カリ金属が好適であるが、最も好ましい濃度は約9.5
Mである。
次にカブトブリル塩(化合物(]1ra) >を中和す
る。この中和は、鉱酸による酸性化で行うのが好ましい
。さらに好ましくは、カブトグリル生成物が水溶液から
油状ではなく結晶状態で晶出するpHで酸性化を行う。
良好な結晶生長を確保するには、pH約3.5〜4.5
へ直ちに酸性化することが好ましい(3.9が最も好ま
しい)ことがわかった。カプトプリルの晶出を最大化す
るのに、反応混合物をさらに、好ましくはpH約3また
はそれ未満に酸性化することができる。かかる追加の酸
性化は、等間隔(好ましくは約15分間隔)当り、好ま
しくは約0.2pH単位の増加分で実施しうろことがわ
かった。塩酸による酸性化が好ましく、濃塩酸(すなわ
ち、35%以上濃度の塩酸)が最も好ましい。
また晶出は連続して実施することができ、この場合、カ
プトプリル塩の溶液をカブトブリルの溶液へ加え、その
間該スラリーを酸性条件下で維持する。低速度で加える
と、生成物が溶液から油状で析出することはない。
酸性化中、反応温度を調整して結晶生長を助成すること
ができる。約20〜45℃の温度が好ましい。加えて、
溶液にカブトプリルを播種して結晶生長を助成すること
ができる。加水分解した基質の水溶液を冷却することに
より、該水溶液からカブトプリルが晶出する。約O〜4
℃への冷却が好ましい。
酸性化の別法は、水素供給イオン交換樹脂の使用である
。かかるイオン交換樹脂に化合物(I[[a)の溶液を
通すと、M イオンは水素と交換され、カブトプリルの
溶液が生或する。好ましいイオン交換樹脂は、8〜10
%のジビニルベンゼン架橋を有する。ゲルタイプのスル
ホン化ポリスチレンカチオン交換樹脂(たとえばローム
・アンド・ノ)一ス社のアンバーライト(Amberl
ite) I R−12Q,IR−122)である。次
いで溶液を濃縮すると、カプトプリルが晶出する。なお
、母液と濾過洗液を次の化合物(Ha)溶液に加えても
よい。
かかる未晶出溶液のリサイクルは、排水流への生成物ロ
スを最小化する。
次に実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが
、これらの実施例は本発明の限定ではなくあくまで具体
例である。
実施例1 窒素雰囲気下、160fflAの9.5N水酸化ナトリ
ウム溶液をO〜2℃に冷却し、128gの1−(S−3
−(アセチルチオ)−2−メチル−1−オキソプロピル
)−L−プロリン(無水成分120g)を加え、その間
温度が45℃を越えないように保持する。30〜45℃
で約5分後、加水分解が終了し(HPLCで判定)、生
成するカプトブリル塩の溶液を51mlの濃塩酸でp}
17.3まで酸性化する。溶液を45℃にて研磨フィル
ターで濾過し(po1ish−filtered)、該
フィルターを21mlの蒸留水テリンスする。コンバイ
ンした濾液を37〜45℃にて、49mlの濃塩酸でp
H3.90まで酸性化し、次いで0.1gのカプトプリ
ルを播種する。
懸濁液を約32℃に冷却して、良好な結晶生長を開始せ
しめ、約1時間保持する。懸濁液を濃塩酸により、pH
3.0に到達するまで、15分毎に約0.2pH単位の
増加分で酸性化する。次に懸濁液をpH1.8まで酸性
化し、30〜34℃で約30分間保持する。懸濁液をO
〜4℃に急冷却し、該温度範囲にて約30分間保持する
。生成物を濾別し、約4℃にて70mJ部の冷水で2回
洗う。40℃で真空乾燥を行い、8 8. 0g(9 
0. 5M%)のカブトグリルを得る。融点103〜1
07℃。
他の分析データ:滴定純度99.9%、HPLCM99
.9%、水0.1%、ジスルフイド量0.3%。
実施例2 実施例1に従ってカプトブリル塩の溶液を調製し、これ
を蒸留水で3.5Nナトリウムイオン(カプトブリル塩
約1.0M)まで希釈する。蒸留水を用いて、供給溶液
をカラムへ通し、カラム出口からトータル5lを集める
。集めた溶液のpHは1.37であった。
溶液を315mA’に濃縮し、生成物が晶出し、これを
濾別および乾燥する。この単離には、ケーキ洗液を用い
なかった。収量159.9g(約86M%)。
カラムを再生し、同様な操作を繰返す。すなわち、第1
バスからの母液を、第2バスからの集めた流出液に加え
、溶液を315+sjに濃縮する。生成物が晶出し、こ
れを濾過および乾燥して、175.8g(約95M%)
を得る。
第2バスからの母液をリサイクルして、第3バスを行う
。この場合の収量も約95M%であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ のカプトプリルの製造法であって、 (a)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは低級アルキルまたは低級アルコキシである
    〕 の基質を、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムまたは水
    酸化カリウムの約4M以上の水溶液と反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ および ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは前記と同意義、およびMはナトリウム、リ
    チウムまたはカリウムイオンである〕の反応混合物を形
    成し、次いで (b)反応混合物を中和して上記カプトプリルを形成す
    ることを特徴とするカプトプリルの製造法。 2、基質の塩を水素供給イオン交換樹脂に通して中和を
    行う請求項第1項記載の方法。 3、鉱酸で酸性化して中和を行う請求項第1項記載の方
    法。 4、Rがメチルである請求項第1項乃至第3項のいずれ
    か1つに記載の方法。 5、不活性雰囲気下で実施する請求項第1項乃至第3項
    のいずれか1つに記載の方法。 6、不活性雰囲気下で実施する請求項第4項記載の方法
    。 7、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムまたは水酸化カ
    リウムの水溶液が、約4〜18Mの濃度を有する請求項
    第1項記載の方法。 8、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムまたは水酸化カ
    リウムの水溶液が、約9.5Mの濃度を有する請求項第
    1項記載の方法。 9、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムまたは水酸化カ
    リウムの水溶液が、約2.5〜5モル当量のナトリウム
    、リチウムまたはカリウムイオンを含有する請求項第1
    項、第7項または第8項記載の方法。 10、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムまたは水酸化
    カリウムの水溶液が、約3.3モル当量のナトリウム、
    リチウムまたはカリウムイオンを含有する請求項第9項
    記載の方法。 11、水溶液が水酸化ナトリウムを含有する請求項第1
    項、第7項または第8項記載の方法。 12、水溶液が、水酸化ナトリウムを含有する請求項第
    9項記載の方法。 13、水溶液が、水酸化ナトリウムを含有する請求項第
    10項記載の方法。 14、約−10〜+50℃の温度で実施する請求項第1
    項記載の方法。 15、中和した基質をさらに約20〜45℃の反応温度
    に調整する請求項第1項、第3項または第14項記載の
    方法。 16、酸性化を直ちに行って、pH約3.5〜4.5と
    する請求項第3項記載の方法。 17、酸性化を直ちに行って、pH約3.9とする請求
    項第16項記載の方法。 18、反応混合物の酸性化を増大して、pH3またはそ
    れ未満とする請求項第16項または第17項記載の方法
    。 19、15分間隔当り0.2pH単位の増加分で酸性化
    を行う請求項第18項記載の方法。 20、塩酸を用いて酸性化を行う請求項第3項、第16
    項または第17項記載の方法。 21、塩酸を用いて酸性化を行う請求項第18項記載の
    方法。 22、塩酸を用いて酸性化を行う請求項第19項記載の
    方法。 23、塩酸濃度35%以上を有する水溶液を用いて酸性
    化を行う請求項第20項記載の方法。 24、塩酸濃度35%以上を有する水溶液を用いて酸性
    化を行う請求項第21項記載の方法。 25、塩酸濃度35%以上を有する水溶液を用いて酸性
    化を行う請求項第22項記載の方法。 26、水素供給イオン交換樹脂が、ジビニルベンゼン架
    橋を有するポリスチレンカチオン交換樹脂である請求項
    第2項記載の方法。
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